TW589417B - Ferromagnetic p-type single crystalline zinc oxide and its manufacturing method - Google Patents
Ferromagnetic p-type single crystalline zinc oxide and its manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- TW589417B TW589417B TW089115311A TW89115311A TW589417B TW 589417 B TW589417 B TW 589417B TW 089115311 A TW089115311 A TW 089115311A TW 89115311 A TW89115311 A TW 89115311A TW 589417 B TW589417 B TW 589417B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- type
- ferromagnetic
- single crystal
- type dopant
- substrate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B23/00—Single-crystal growth by condensing evaporated or sublimed materials
- C30B23/02—Epitaxial-layer growth
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06N—COMPUTING ARRANGEMENTS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS
- G06N10/00—Quantum computing, i.e. information processing based on quantum-mechanical phenomena
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Analysis (AREA)
- Mathematical Optimization (AREA)
- Pure & Applied Mathematics (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Data Mining & Analysis (AREA)
- Software Systems (AREA)
- Computational Mathematics (AREA)
- Artificial Intelligence (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
589417
發明所屬的技術 本發明係有關已摻雜Mn之鐵磁 (ZnO)及其製造方法。 性P型單結晶 氧化鋅 習知技術 氧化鋅係具有半導性、光導電性、壓電性以 法或CVD法製造具有供適用於壓電体材料或光電子材料而又 採的透明性及結晶軸定向性之氧之鋅的方法係為人所知的 (曰本特開平5-25499-1號公報)。又,於原料氧化鋅内摻雜 摻雜物質並製造導電性或絕緣性透明氧化鋅之方法亦為人 所知的(日本特開平5 —7〇286號公報)。再者,至於製造由 以氧化辞為主成分之單結晶而成的壓電性半導体之方法, 已知有水熱法(日本特開平6_279 1 9 2號、特開平6_279 1 93 號)。然而,i目前為止仍未見與氧化鋅之鐵磁性狀態有 關的報導出現。 發明欲解決的謖g 已摻雜鐵磁性移轉溫度較高的Μη之單結晶Zn0薄膜若 可=合成時,則傳遞大量資訊所需的光單向器(is〇lat〇r) 或高密度磁氣記錄係有可能的,將來可製作出傳遞大量資 訊所需的電子材料。又Zn〇之帶隙(band gap)大至3 3ev、 時,則通過光線之鐵磁性体的製作即成為可能,已利用相 干(coherent)的自旋狀態之光量子電腦等的光裝置製作技 術乃被期待有較大的發展。
91045-JSTC-YG11-23TW. ptd 第4頁 589417 五、發明說明(2) 於ZnO内摻雜Μη,為實現具有較高的鐵磁性移轉溫度 之鐵磁性狀態,有將於寬隙(wide gap)半導体之以〇二= 摻雜的Μη之旋轉,高濃度的摻雜成供鐵磁性對齊而 互作用之空洞(ρ型載体)之必要。 解決課題而採的年@ 、本發明人係為解決上述課題,開發出ρ型摻雜劑單獨 或Ρ型摻雜劑及η型摻雜劑同時摻雜而得的新價電子栌制 法,藉由將ZnO内已摻雜的Μη之旋轉予以高濃度摻雜工的空 洞之由周遊性性的運動能量引起的能量增$, 的予以鐵磁性對齊。 m / 1二即芬本荆發:月係含有成為鐵磁性之承接手的過渡金屬 70素之Mn及?聖摻雜劑(空洞)之鐵磁性P型單結晶氧化鋅 (ZnO)。 τ 若於已錢η之以。内予以摻雜ρ型摻 遊性的空洞引起的運動沪I夕ρ夂你 u Τ 幻宙周 ,,.,, , IS連動此里之卩牛低,利用使鐵磁性狀態亦 較反鐵磁性或順磁性壯能史# π λ ^ 一 Γ 的原理,可得安定且鐵磁 f生^界/皿度較鬲的ρ型單結晶氧化辞。 再者本叙月係於含有成為鐵磁性之承接 元素之Μη及ρ型摻雜亦,丨rΉ、并丨灿 、匕/又金屬 Λ / )13型鐵磁性單結晶Zn〇,為使 Μη間之磁軋性相互作用成為鐵磁 大量的周遊性空洞捭大,妗#或η 士人貝現Ρ型化而使 曰 故成為同日τ含有η却株雜添I丨;® ρ开j 摻雜劑之鐵磁性Ρ型單結晶2:1〇。 iJ及Ρ歪 P型摻雜劑係由C、N哎此耸
A此寺的虱化物(例如C〇2、c〇、N 91045-JSTC-YGll-23TW.ptd 第5頁 589417
2〇、N0、N〇3)之群体選擇的一種或二種以上,11型摻雜叫係 可作成由B、A1、In、Ga、Zn或Η,及此等的氧化物(例如 β2〇3、Α12〇3、Ιη2〇3、Ga2 03、ΖηΟ)之群体選出的一種二 以上。 八一悝 Μη因係全部固熔於Zn0内,故本發明之鐵磁性p型單結 晶ΖηΟ所含有的Μη濃度係可設成卜9 9莫耳%。 、° 本發明之鐵磁性ρ型單結晶211〇,係空洞濃度在1χΐ〇ΐ8 cnr3以上的低電阻(1 Ω · cm以下)單結晶Ζη〇。由於空洞濃 度成為咼濃度,已摻.雜的空洞會周遊於“離子間,由於空 洞之運動能量的降低,可使鐵磁性狀態呈較安定化,於^ 離子間引起鐵磁性的相互作用。 本發明之鐵磁性ρ型單結晶211〇,係鐵磁性移轉臨界溫 度在150Κ以上。將Μη摻雜於ΖηΟ之際,保持著纖辞礦 (wurtzi te)結構,同時Μη係取代離子半徑大小接近的以位 置,ZrP為Μη2+所取代,Μη係成為具有電子自旋弘5/2之高 自旋狀態,藉由調整Μη濃度,可控制鐵磁性的自旋間I 作用。 鐵磁性移轉溫度因係隨著Μη濃度及空洞濃度之增加而 增大,故藉由調整單結晶Ζη0中之Μη濃度及空洞濃度,利 用Μη濃度及已摻雜的空洞濃度由低溫至高溫為止配&合目的 可自由的改變鐵磁性移轉溫度。 ° 又,本發明係於採用M0CVD法或ΜΒΕ法等之薄膜形成 法,將來自Ζη固体源或211氧化物固体源之原子狀氣体,已 活性化的氧供給至半導体基板上,使單結晶氧化鋅薄膜成
589417 五'發明說明(4) 長於基板上之際,藉由同時供給原子狀P型摻雜劑及原子 狀Μη至基板上,使在低溫澱積,以製造上述的鐵磁性p型 單結晶氧化鋅之方法。 至於Ζ η固体源或Ζ η氧化物固体源,可使用純辞粉末、 ΖηΟ燒結体等。 基板溫度宜為3 0 0 °C〜8 0 0 °C。若較3 0 0 °c低時,則薄膜 成長速度變成極緩慢,並不適於實用化。若較8 〇 〇 t高 時,則脫氧變成劇烈、缺陷變多,故隨著結晶性變差,同 時摻雜效果亦變弱。.至於基板,彳使用矽單晶基板、已形 jSlC之矽單晶基板、藍寶石單晶基板等。至於基板,以 〃Zn〇相同的結晶構造,與Zn〇之晶格常數 宜。在此等基板之間,在優劣上並無大差異 薄膜之間介在以具有各自的曰姝f士 、 於基板及 氧化鈐式ί 吊數之中間的晶格常數之 、°次一虱化鈦專層,鬆弛結晶晶格之不匹配 (matching)性亦可。 配 再者,本發明係於上述的赞 性,例如冑由饋入量之調整^二:以為使生成鐵磁 摻雜η型摻雜劑至使p型摻;力之調整予以 亦大為特徵之鐵磁性p型單?曰之^ 於上述的製造方法,早藉 度及P型摻雜劑濃度(*、、 正早、,、口日日氧化鋅中的Μη濃 移轉溫度。鐵磁性』;二;度/可調整氧化辞之鐵磁性 加,又隨著已換雜的空U”增大而增 由Μη濃度及空洞濃度間之二=9亦同日守增加。因此藉 一個可調整的參數,配合目的可 91045-JSTC-YG11-23TW. ptd 589417
在反鐵磁性狀態,已摻雜的空洞 故須使自旋逆轉,自旋之逆轉所需的能量於阳之中, 換作用引起的大能量會增加,故 $ 土於相互父 杉濉周遊性的空洞,
589417
可提供出Μ η之鐵磁性狀態一側亦較反鐵磁性或 使呈安定化而用的電子理論機構。 順磁性狀態 以下舉實施例,再詳細說明利用ΜβΕ法於基 鐵磁性p型單結晶ZnO薄膜之方法。 7 貫施例 如第1圖所示,於真空度經予維持在10_8丁〇1^之真空 1内設置ΑΙΑ基板2,’將Zn之原子狀氣体及0之原子狀氣体 供給至此基板2上,於基板2上製作Zn〇薄膜。至於以 Μη ’係採用利用加熱器加熱純度99· 99 99g%之固体源而成 原子狀者。又〇及Ν係採用利用RF自由基室(radica/'ceu) 將〇2,乂0(或化)已予活性化的純度99· 99 9 99%之原子狀氣 体。成為p型接受体之N係利用RF( 1 3 5 6MHz)激發型自^基 射束源所發生的氮自由基,Ga、Mn則採用於分子氣体内照 射,波領域之電磁波、又在高溫使單体室成為原子狀者。 於第1圖内顯示出為製造成原子狀而用的RF(高頻率)線圈 3、加熱器4、單体室(Ga#)5、單体室(Mn源)7。 於成膜中、,以η型摻雜劑Ga在分壓i〇-7Torr,再者以 P型換雜劑之原子狀N在分壓5 X 10_7Torr,又以原子狀Mn在 10_1〇rr ’同時朝向此基板2流動,並在3 5 0 °C、40 0 °C、 450 C、60 0 °C、750 °C使Μη摻雜鐵磁性P型單結晶ZnO薄膜6 結晶成長。 對在各結晶成長溫度而得的鐵磁性P型單結晶ZnO薄
589417 五、發明說明(7) 膜,進行空洞濃度測定、利用SI MS之Μη濃度測定、又以 S Q U ID及帶磁率測定鐵磁性移轉溫度而得的結果示於表1。
表1 基板溫度 ΓΟ 接受体濃度 (an3) 同時摻雜Ga、N Μη濃度 (莫耳%) 鐵磁性移轉溫度 (Κ) 350 4χ1〇18 5.2 150 400 5χ1018 8.0 289 450 6χ1019 12.4 389 600 8χ1020 25.3 520 750 8χ1021 34.5 780 第10頁 91045-JSTC-YG11-23TW. ptd 589417 五、發明說明(8) 由表1所示的鐵磁性移轉溫度對Μη濃度、接受体濃 度、基板溫度之相關性可知,Μη濃度及ρ型載体(空洞)濃 度之較高者在鐵磁性移轉溫度(Κ)係較高,Μη間之鐵磁性 相互作用係依空洞濃度而增大,Μη自旋間之鐵磁性相互作 用亦隨著Μη濃度之增加而增大。 於第2圖顯示出已高濃度摻雜Μη之鐵磁性ρ型單結晶 ΖηΟ之電子狀態密度。多數派自旋及少數派自旋之交換分 裂係約3 e V ’結晶%分裂成為約〇 · 8 e V,實現出高自旋狀維 (3 = 5/2),於以11位置之局部磁矩係每個^11原子4.8波耳磁子 (Bohr magneton) ( // B) ° 發明之功效 如上述,本發明之含有Μη及P型摻雜劑(空洞)之 鐵磁性Ρ型單結晶Ζη0(氧化鋅),係藉由組合已實現的= 及Ρ型之透明電極ΖηΟ或光纖,作為量子電腦或大容 氣記錄’又由可見光至紫外線領域之光電子㈣: 至高性能的資訊通信,量子電腦方面。 …用 圖式之簡單說明 η之鐵磁性Ρ型 早 第1圖係表示利用ΜΒΕ法製造已摻雜Μ 結晶Ζ η 0的裝置之概略構成的側面圖。
Ga 第2圖係表示同時摻雜過渡金屬 接受体元素N之鐵磁性ρ型ΖηΟ的 元素Μη、施体元素 電子狀態密度之圖
589417 五、發明說明(9) 圖號之說明 真空室 基板 RF(高頻率)線圈 加熱器 6 單体室(G a源) 已摻雜Μη之p型ZnO 單体室(Μ η源)
91045-JSTC-YG11-23TW. ptd 第12頁
Claims (1)
- 589417種鐵磁性P型單結晶氧化 H9莫耳%及由c、N 屬元素Μη 種以上Ρ型摻雜劑,&f, 群体選擇的一種或二 镠雜劑,空洞濃度在lxl〇18cm_ Ώ .cm以下的單結晶Zn〇薄膜而成。乂上t電阻在i 磁二型t結晶氧化鋅’係含有過渡金屬元素訃 9莫耳/〇及由B、A1、In、Ga、Ζη或Η,及,笪的氧仆礼 一種或二種以上η型摻雜劑與由C…戈此等的ί ==擇? 一種或二種以上㈣摻雜劑,空洞濃度: 成。 低電阻在1 Ω · cm以下的單結晶ΖηΟ薄膜而 3· —種製造申請專利範圍第丨項之鐵磁性ρ型單結晶氧化鋅之 方,,其特徵在於將來自Ζη固体源或以氡化物固体源之原子 狀氣体,已活性化的氧供給至半導体基板上,使單結晶氧化 辞薄膜成長於基板上之際,藉由同時供給原子狀89 及原子狀Μη至基板上而成。 ” 4. 一種製造申請專利範圍第2項之鐵磁性ρ型單結晶氧化辞之 方法,係摻雜η型摻雜劑至使ρ型摻雜劑較η型摻Μ 之 亦大而成。 〃蜊又/晨度
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24795999A JP3953238B2 (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | 強磁性p型単結晶酸化亜鉛およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW589417B true TW589417B (en) | 2004-06-01 |
Family
ID=17171108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW089115311A TW589417B (en) | 1999-09-01 | 2000-07-31 | Ferromagnetic p-type single crystalline zinc oxide and its manufacturing method |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7022182B1 (zh) |
EP (1) | EP1219731B1 (zh) |
JP (1) | JP3953238B2 (zh) |
KR (1) | KR100446144B1 (zh) |
DE (1) | DE60010299T2 (zh) |
TW (1) | TW589417B (zh) |
WO (1) | WO2001016411A1 (zh) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100421800B1 (ko) * | 2001-04-02 | 2004-03-10 | 한국과학기술연구원 | 아연산화물 반도체 제조 방법 |
KR100476321B1 (ko) * | 2002-01-24 | 2005-03-10 | 조성래 | 전이금속이 치환된 강자성반도체 단결정 |
SE0300352D0 (sv) | 2003-02-06 | 2003-02-06 | Winto Konsult Ab | Ferromagnetism in semiconductors |
US7141489B2 (en) | 2003-05-20 | 2006-11-28 | Burgener Ii Robert H | Fabrication of p-type group II-VI semiconductors |
US7172813B2 (en) * | 2003-05-20 | 2007-02-06 | Burgener Ii Robert H | Zinc oxide crystal growth substrate |
US7161173B2 (en) | 2003-05-20 | 2007-01-09 | Burgener Ii Robert H | P-type group II-VI semiconductor compounds |
US7227196B2 (en) | 2003-05-20 | 2007-06-05 | Burgener Ii Robert H | Group II-VI semiconductor devices |
JP2005121715A (ja) * | 2003-10-14 | 2005-05-12 | Ricoh Co Ltd | 光スイッチ |
US7691353B2 (en) | 2004-06-17 | 2010-04-06 | Burgener Ii Robert H | Low dielectric constant group II-VI insulator |
US7575979B2 (en) * | 2004-06-22 | 2009-08-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method to form a film |
JP5396579B2 (ja) * | 2005-08-18 | 2014-01-22 | 国立大学法人山梨大学 | 酸化亜鉛薄膜の製造方法及び製造装置 |
KR100769986B1 (ko) * | 2006-02-08 | 2007-10-25 | 전남대학교산학협력단 | 유도결합 플라즈마법 및 유기금속 화학기상증착법을 이용한박막 제조방법 |
KR100714974B1 (ko) * | 2006-05-19 | 2007-05-04 | 한국과학기술연구원 | 상온에서의 강자성 산화아연 반도체 박막 제작 방법 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4174421A (en) * | 1977-09-13 | 1979-11-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Piezoelectric crystalline film of zinc oxide and method for making same |
US5393444A (en) * | 1992-09-08 | 1995-02-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric semiconductor |
KR960012995B1 (ko) * | 1993-03-31 | 1996-09-25 | 엘지전자 주식회사 | 단결정 페라이트 |
JPH07288259A (ja) * | 1994-04-15 | 1995-10-31 | Nippon Steel Corp | 分子線エピタキシー装置 |
US5679965A (en) * | 1995-03-29 | 1997-10-21 | North Carolina State University | Integrated heterostructures of Group III-V nitride semiconductor materials including epitaxial ohmic contact, non-nitride buffer layer and methods of fabricating same |
US6300640B1 (en) * | 1997-11-28 | 2001-10-09 | Nanocrystal Imaging Corporation | Composite nanophosphor screen for detecting radiation having optically reflective coatings |
US6291085B1 (en) | 1998-08-03 | 2001-09-18 | The Curators Of The University Of Missouri | Zinc oxide films containing P-type dopant and process for preparing same |
US6342313B1 (en) | 1998-08-03 | 2002-01-29 | The Curators Of The University Of Missouri | Oxide films and process for preparing same |
US6498362B1 (en) * | 1999-08-26 | 2002-12-24 | Micron Technology, Inc. | Weak ferroelectric transistor |
JP4365495B2 (ja) * | 1999-10-29 | 2009-11-18 | ローム株式会社 | 遷移金属を含有する強磁性ZnO系化合物およびその強磁性特性の調整方法 |
-
1999
- 1999-09-01 JP JP24795999A patent/JP3953238B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-07-03 US US10/049,615 patent/US7022182B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-03 KR KR10-2002-7000066A patent/KR100446144B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-07-03 DE DE2000610299 patent/DE60010299T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-03 EP EP20000942464 patent/EP1219731B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-03 WO PCT/JP2000/004433 patent/WO2001016411A1/ja active IP Right Grant
- 2000-07-31 TW TW089115311A patent/TW589417B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1219731A4 (en) | 2003-05-21 |
US7022182B1 (en) | 2006-04-04 |
DE60010299T2 (de) | 2005-01-13 |
JP2001072496A (ja) | 2001-03-21 |
KR100446144B1 (ko) | 2004-08-30 |
EP1219731A1 (en) | 2002-07-03 |
KR20020026518A (ko) | 2002-04-10 |
WO2001016411A1 (fr) | 2001-03-08 |
EP1219731B1 (en) | 2004-04-28 |
JP3953238B2 (ja) | 2007-08-08 |
DE60010299D1 (de) | 2004-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW589417B (en) | Ferromagnetic p-type single crystalline zinc oxide and its manufacturing method | |
Yoo et al. | S doping in ZnO film by supplying ZnS species with pulsed-laser-deposition method | |
Ramaiah et al. | Optical, structural and electrical properties of tin doped indium oxide thin films prepared by spray-pyrolysis technique | |
JP2001048698A (ja) | 低抵抗p型単結晶酸化亜鉛およびその製造方法 | |
US8728357B2 (en) | Compound semiconductors and their application | |
Schnabel et al. | Self‐assembled silicon nanocrystal arrays for photovoltaics | |
Zhang et al. | Rare‐earth‐incorporated low‐dimensional chalcogenides: Dry‐method syntheses and applications | |
Hosono | Two classes of superconductors discovered in our material research: iron-based high temperature superconductor and electride superconductor | |
EP2135978A1 (en) | Mg-CONTAINING ZnO MIXED SINGLE CRYSTAL, LAMINATE THEREOF AND THEIR PRODUCTION METHODS | |
WO2018095376A1 (zh) | 含氢过渡金属氧化物、制备方法及原电池 | |
US20060018816A1 (en) | Diluted magnetic semiconducting ZnO single crystal | |
JP4365495B2 (ja) | 遷移金属を含有する強磁性ZnO系化合物およびその強磁性特性の調整方法 | |
TWI469932B (zh) | 新穎化合物半導體及其應用 | |
US8658063B2 (en) | Compound semiconductors and their application | |
Gupta et al. | Pulsed laser deposition of zinc oxide (ZnO) | |
KR100715481B1 (ko) | 천이금속 또는 희토류금속을 고용하는 투명강자성알카리ㆍ칼코게나이드 화합물 및 그 강자성 특성의조정방법 | |
US8658064B2 (en) | Compound semiconductors and their application | |
JP4708334B2 (ja) | 透明強磁性単結晶化合物の製造方法 | |
JP3998425B2 (ja) | 強磁性ii−vi族系化合物及びその強磁性特性の調整方法 | |
JP3989182B2 (ja) | 強磁性iii−v族系化合物及びその強磁性特性の調整方法 | |
JP3938284B2 (ja) | 強磁性GaN系混晶化合物及びその強磁性特性の調整方法 | |
Asfia et al. | First-Principles Study of Half Metallic Ferromagnetic and Optical Properties of Nb Doped Cubic ZnS using TB-mBJ Approximation | |
RU2425184C1 (ru) | Ферромагнитная полупроводниковая гетероструктура | |
Matikainen | Mixed-anion compounds: An unexplored ALD playground for applications | |
Kumar et al. | Structural, Morphological, Optical and Magnetic Properties of Pure and Transition Metal Doped Cadmium Sulphide Nanofilms at Room Temperature |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |