TW584773B - Process and device applied in optical compensation film exposure - Google Patents

Description

584773 五、發明說明（1) 本發 ’係用於 廣大視角 光敏感性 光之製程 源，達到 由於 有體積小 可用於筆 使用，且 液晶所發 第一圖， 10, 11 ， 光束，對 明是一 製作一 ，其製 高分子 及其裝 更佳之 液晶顯 及省電 記型電 一般在 出的光 顯示出 償膜，以供 包含提供一 藉由本發明 可以更有效 配向選擇性 i qu i d Crys ，所以其應 螢幕，亦可 上方均設有 看見的視角 方向及垂直 於光學補償膜曝光之製程及其裝置 種應用 光學補 程步驟 等等。 置，即 雙光轴

示器（L 的特性 腦之小 液晶的 線之可 一平行 在先前技術中是先以一平 一平行方向放置的膜片10 一液晶顯示器之呈現一 第一捲狀膠膜，塗佈一 所提供的光學補償膜曝 率地利用紫外（UV )光 〇 tal Display， LCD)具 用範圍日益擴大，不僅 供桌上型電腦之大螢幕 一光學補償膜，以補償 (V i ew Ang 1 e)。請參閱 方向放置的膜片（Film) 行電場之紫外線的平行 曝光後，以獲得一具平 行配向11之膠膜。 接著由於平行方向放置的膜片10並非屬於一種連續的 捲狀產品，此時乃可將平行方向放置的膜片10轉動成垂直 方向放置的膜片12，以便在相同的曝光條件下’使垂直方 向放置的膜片11得成為兼具有一平行配向11及盡直配向13 _ 的膠膜。如此雖能獲得不同方向的光學補償膜，卻有平行 方向放置的膜片10與另一塊平行方向放置的膜片均y已被切 割而分開，故均成為各自獨立的膜片，因而無法進二膜片 與膜片相連接之連續式的生產方式，其花費在放置平订方 向的膜片到一固定位置的速度難以提昇，且曝光中斷的時

第5頁 584773 五、發明說明（2) 間亦無法縮短’更無法使平行方向與垂直方向放置的膜片 10, 11來同時作曝光，故其經濟效益顯有不足之虞。 至於另一種補償膜的製作方式，可以用一種，，拉出，，的 方式，使該補償膜具有平行方向，同時也拉出該補償膜的 另一個垂直方向。但此種同時拉二個方向的結果，容易造 成應力破壞’其熱穩定性較差，也會發生因熱縮而變形的 現象。

職是之故，為求改善上述問題，使得平行方向放置的 膜片得以相連接而作進行連續式的生產，進而加快放置平 行方向的膜片到一固定位置的速度，經發明人致力於實驗 、測試及研究後’終於獲得一種應用於光學補償膜曝光之 製程’除了有效克服平行膜片各自獨立而不連接的問題點 之外’亦能使得膜片與膜片相連接之曝光型式成為可行。 本發明之主要目的為利用自偏極光產生器所反射的反 射紫外偏極光，來照射第二光敏感層以獲得一 γ轴方向光 聚合之垂直電場配向層。 本發明之再一目的為使用該反射紫外偏極光及穿透紫 外偏極光以同時進行第一及第二光敏感性高分子層的曝光 ’以獲得最佳之雙光軸配向的選擇性。 本發明之又一目的為運用膜片與膜片相連接之第一捲 狀膠膜，以進行連續式膜片之紫外線曝光的程序。 本發明為一種應用於光學補償膜曝光之製程及其裝置 ，係用於製作一光學補償膜，以供一液晶顯示器（LCD)之 呈現一廣大視角（Wide View Angle，WV)，其步驟包含提

第6頁 584773 五、發明說明（3) 供一第一捲狀膠膜，係用以形成該光學補償膜之一基板（ Substrate)，塗佈（Coating) — 光敏感性高分子（Linear Photo reactive Polymer, LPP)於該基板上，以獲致一第 一光敏感性高分子層，提供一紫外線光源（UV Light)，其 係發出一紫外線，提供一聚光透鏡，係用以聚集該紫外線 成為一平行光束，而該平行光束為一 Z軸方向前進之電磁 · 波，且該沿Z轴方向前進之電磁波具有一 X轴方向之平行 v 電場分量及Y轴方向之垂直電場分量，該X軸方向之平行 電場分量及Y轴方向之垂直電場分量均振動於一XY平面 上，提供一偏極光產生器，其具有複數層石英片，被設置 · 於該聚光透鏡與該第一捲狀膠膜之間，係用以接收該平行 光束，且同時反射及穿透出該垂直及平行電場分量，資以 獲得一反射紫外偏極光及穿透紫外偏極光，利用該穿透紫 外偏極光以照射該第一捲狀膠膜而極化（Polarized)該第 一光敏感性高分子層，即獲致一 X轴方向光聚合之平行電 場配向層’塗佈一液晶高分子（LCP)於該第一光敏感層上 ’經一加熱程序及紫外光聚合後，即獲致一具X方向光轴 之光學異方性之膠膜，塗佈該光敏感性高分子（LPP)於該 具X方向光轴之光學異方性之膠膜上，以獲致一第二光敏 感層，利用該偏極光產生器所反射之該反射紫外偏極光， 以照射而極化該第^一光敏感層，即獲致一 Y轴方向光聚合 之垂直電場配向層，以及塗佈該液晶高分子（LCP)於該第· 二光敏感層上，經該加熱程序及紫外光聚合後，即獲致一 具Y方向光轴之光學異方性之膠膜，俾與該具X方向光轴 ·

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五、發明說明（4) ::學異方性之膠膜合成一具有雙光轴特性之捲狀光學補 較佳者，該製程中的X轴方向係平行或垂直於該第一 捲狀膠膜之-前進方向，且該方向是垂直於該¥轴方 向 較佳者，該製程更包括提供一第一及/或第二平面反 射鏡，係反射該垂直電場分量，且用以極化該第二光敏感 層’即得提高該紫外線光源的一利用率。

當然，該製程的複數層石英片係可以具有一傾斜角度 ’以反射出該垂直電場分量，且該傾斜角度是介於三十與 六十度之間。 當然，該製程的傾斜角度係為一五十七度之布魯斯特 角，以穿透出該平行電場分量。 較佳者，該製程的捲狀雙光轴補償膜具有一平面相位 差值（In plan Retardation Value) 及出平面相位差值（ Out of Plan Retardation Value)，且其數值是分別介於 0SRoS 400nm 及 0$Rth$ 30 0nm 〇

較佳者，該製程的光學補償膜係貼附在一薄膜電晶艏 (TFT)及/或彩色濾光片（CF)上，以使該液晶顯示器得以墓 現該廣大視角。 又按照一主要技術的觀點來看，本發明乃一種應用於 光學補償膜曝光之製程，係用於製作一光學補償膜，以供 一液晶顯示器（LCD)之呈現一廣大視角（Wide View)，其梦

第8頁 584773 五、發明說明（5) 驟包含提供一基板，塗佈一光敏感性高分子於該基板上， 以獲致一第一光敏感性高分子層，提供一紫外線光源，其 係發出一紫外線，提供一聚光透鏡，係用以聚集該紫外線 成為一平行光束，而該平行光束為一 Z轴方向前進之電磁 波，且該沿Z轴方向前進之電磁波具有一 X轴方向之平行 電場分量及Y轴方向之垂直電場分量，該X轴方向之平行 ·、 電場分量及Y轴方向之垂直電場分量均振動於一XY平面 、 上，提供一偏極光產生器，係用以接收該平行光束，且同 時反射及穿透出該垂直及平行電場分量，資以獲得一反射 紫外偏極光及穿透紫外偏極光，利用該穿透紫外偏極光以 極化（Polarized)該第一光敏感性高分子層，即獲致一 X 轴方向光聚合之平行電場配向層，塗佈一液晶高分子（LCP )於該第一光敏感層上，經一加熱程序及紫外光聚合後， 即獲致一具X方向光轴之光學異方性之膠膜，塗佈該光敏 感性高分子（LPP)於該具X方向光轴之光學異方性之膠膜 上’以獲致一第一光敏感層’利用該偏極光產生器所反射 之該反射紫外偏極光，以照射而極化該第二光敏感層，即 獲致一 Y轴方向光聚合之垂直電場配向層，以及塗佈該液 晶高分子（LCP )於該第二光敏感層上，經該加熱程序及紫 外光聚合後，即獲致一具Y方向光轴之光學異方性之膠膜擊· ，俾與該具X方向光轴之光學異方性之膠膜合成一具有雙 · 光轴特性之捲狀光學補償膜。 · 當然，該製程的基板係藉由一第一捲狀膠膜所形成。 又按照另一種可實施的技術特徵來看，本發明乃一種 ‘

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應用於光學補償膜之曝光裝置，係用於製作一光學補償膜 •以供一液晶顯示器（LCD)之呈現一廣大視角，其包括一 :動裝置，係用以帶動一第一捲狀膠膜，而形成該光學補 償膜之一基板（Sut)strate)，一第一塗佈機，其用以塗佈 光敏感性南分子（Linear Photo reactive Polymer, LPP)於該基板上，以獲致一第一光敏感性高分子層，一紫 外線光源（UV Light)，係發出一紫外線，一聚光透鏡，其 用以聚集該紫外線成為一平行光束，而該平行光束為一 Z 轴方向前進之電磁波，且該沿Z軸方向前進之電磁波具有 一X轴方向之平行電場分量及γ軸方向之垂直電場分量， 該X轴方向之平行電場分量及γ轴方向之垂直電場分量均 振動於一 XY平面上，一偏極光產生器，其具有複數層石 英片’被設置於該聚光透鏡與該第一捲狀勝膜之間，係用 以接收該平行光束，且同時反射及穿透出該垂直及平行電 場分量，資以獲得一反射紫外偏極光及穿透紫外偏極光， 並利用該穿透紫外偏極光以照射該第一捲狀膠膜而極化（ Polarized)該第一光敏感性高分子層，即獲致一 X轴方向 光聚合之平行電場配向層，一第二塗佈機，係用以塗佈一 液晶高分子（LCP)於該第一光敏感層上，並經一加熱程序 及紫外光聚合後，即獲致一具X方向光轴之光學異方性之 膠膜，一第二光敏感層，其藉由該第一塗佈機以塗佈該光 敏感性高分子（LPP)於該具X方向光轴之光學異方性之膠 膜上而得，並利用該偏極光產生器所反射之該反射紫外偏 極光，以照射而極化該第二光敏感層，即獲致一 Y轴方向

584773 五、發明說明（7) 光聚合之垂直 方性之膠膜， LCP)於該第二 後而得，俾與 具有雙光轴特 當然，該 捲狀膠膜之一 向。 又從另一 電場配向層，以及一具Y方向光轴之光學異 係藉由該第二塗佈機以塗佈該液晶高分子（ 光敏感層上，且經該加熱程序及紫外光聚合 該具X方向光轴之光學異方性之膠膜合成一 性之捲狀光學補償膜。 裝置的X轴方向係可以平行或垂直於該第一 前進方向，且該X轴方向是垂直於該Y轴方 於光學 補償膜 含提供 係分別具有一 方性之 種相當 補償膜曝光之 向光轴 一第一 Light) 集該紫 前進之 方向之 方向之 一XY平 片，被 接收該 ，以供一液晶 一第一及第二 第一 Y 膠膜，塗佈一 及第二X方向 及第二光敏感 ，其係發出一 外線成為一平 電磁波，且該 平行電場分量 平行電場分量 面上’提供一 設置於該聚光 平行光束，且 的技術層面 製程，係用 顯示器之呈 捲狀膠膜， 方向光轴及 光敏感性高 光轴之光學 性高分子層 紫外線，提 行光束，而 沿Z軸方向 及Y轴方向 及Y轴方向 偏極光產生 透鏡與該第 同時反射及 而論，本發明乃一種應用 於製作一第一 現' 廣大視角 各該第一及第 第二X方向光 分子（LPP)於 異方性之膠膜 ，提供一紫外 供一聚光透鏡 該平行光束為 前進之電磁波 之垂直電場分 之垂直電場分 器，其具有複 及第二光學 ，其步驟包 二捲狀膠膜 轴之光學異 該第一 Y方 上，以獲致 線光源（UV ，係用以聚 一 Z軸方向 具有一 X轴 量’該X轴 量均振動於 數層石英 一捲狀膠膜之間，係用以 穿透出該垂直及平行電場 a·!·

第11頁 584773 五、發明說明（8) 分篁’資以獲得一反射紫外偏極光友穿透紫外偏極光，利 用該穿透紫外偏極光及該反射紫外偏極光以同時照射該第 一及第二捲狀膠膜而極化該第一及第二光敏感性高分子層 ’即獲致一第一 X軸方向光聚合之平行電場及第二Y軸方 向光聚合之垂直電場之配向層，以及塗佈一液晶高分子（ LCP)於該第一及第二光敏感層上，經一加熱程序及紫外光 · 聚合後’即獲致一第一 X方向光軸及第二γ方向光軸之光 、 學異方性之膠膜，俾形成該第一及第二光學補償膜。 較佳者，該製程的X軸方向係平行或垂直於該第一及 第二捲狀膠膜之一第一及第二前進方向，且該χ轴方向是 垂直於該Y轴方向。 再就另一種實質的技術内容而言，本發明乃一種製造 光學補償膜之方法，包含以下步驟a)提供一基板（Substrate) ’ 其具一第 一光敏感層， b) 提供 一平行光束 ，其 係一Z轴方向前進之電磁波，並具有一多重振動方向之電 場’c)因應該平行光束之接收，產生一反射偏極光及穿透 偏極光’d)利用該穿透偏極光照射極化（p〇iarizefj)該第 一光敏感層，以獲致一第一方向之平行電場配向層，6)形 成一液晶咼分子（LCP)層於該第一光敏感層上，以獲致一 具X方向光轴之光學異方性之膠膜，f)於該具χ方向光軸 之光學異方性之膠膜上，形成一第二光敏感層，g)利用該 反射偏極光照射而極化該第二光敏感層，而獲致一第二方 向之垂直電場配向層，以及h)形成一液晶高分子（Lcp)膜 於該第二光敏感層上，以獲致一具γ方向光轴之光學異方

584773 五、發明說明（9) 性之膠獏。 較佳者，該方法係用以使一液晶顯示器（LCD)呈現一 廣大視角（Wide View)。 s然，該方法的基板係可以為一捲狀膠膜。 當然’該方法中的光敏感層係可以藉塗佈一光敏感性 高分子（Linear Photo reactive polymer，Lpp)於該基板 而獲得。 較佳者，該方法的平行光束係一紫外線，其波長範圍 為 1 9 0 n m 〜4 0 0 n m 〇 較佳者，該方法的光束之平行係藉一聚光透鏡而獲得 當然，該方法的多重振動方向之電場係可以振動於一 XY平面。 當然，該方法之沿Z轴方向前進之電磁波可以具有一 X軸方向之平行電場分量及Y轴方向之垂直電場分量。 較佳者，該方法中的步驟c)係藉一偏極光產生器而產 生。 較佳者，該方法的反射偏極光產生器具有複數層石英 當然，該方法的反射偏極光及穿透偏極光係可以分別 經反射及穿透而得。 當然，該方法的反射偏極光及穿透偏極光係可以分別 經反射及穿透該多重振動方向電場之一垂直及一平行電場 分量而得。

第13頁 584773 五、發明說明（ίο) 較佳者，該方法的第一方向配向層係一 x轴方向光聚 合之平行電場配向廣。 當然’該方法的液日日南分子（LCP )層係可以經一加熱 程序及一光聚合步驟，而獲致該具X方向光軸之光學異方 性之膠膜，且該X轴方向係平行或垂直於該第一捲狀膠膜 之一前進方向。 當然，該方法的第一光敏感層係可以藉塗佈一光敏感 性南分子（LPP)膜於該具X方向光轴之光學異方性之膠膜上 而獲致。 較佳者’該方法的第二方向配向層係一 γ轴方向光聚 合之垂直電場配向層。 較佳者，該方法之具Y方向光轴之光學異方性之膠膜 係藉塗佈該液晶高分子（LCP)膜於該第二光敏感層上而獲 得。 當然’該方法之具Y方向光轴之光學異方性之膠膜係 了以使於該第二光敏感層上之該液晶高分子（Lep)膜經一 加熱程序及一光聚合步驟而獲得。 當然’該方法之具X方向光軸之光學異方性之膠膜及 具Y方向光軸之光學異方性之膠膜合成一具有雙光轴特性 之膜。 較佳者’該方法之具有雙光軸特性之膜係一捲狀光學 補償膜。 再就另一種可行的技術方式而言，本發明乃一種製造 光學補償獏之裝置，其包括一基板（Substrate)，其具一

584773 五、發明說明（ll) 第一光敏感層’一平行光束光源，其係發出一 Z轴方向前 進之電磁波’且具有一多重振動方向之電場，一平行光束 之接收器，用以產生一反射及穿透偏極光，一第一方向之 平行電場配向層’係利用該穿透偏極光照射極化（p〇丨a一 Γ1 zed)該第一光敏感層而獲致，一液晶高分子（LCP)層， 其形成於該第一光敏感層上，以獲致一具X方向光轴之光 學異方性之膠膜，一第二光敏感層，係於該具X方向光轴 之光學異方性之膠膜上形成，一第二方向之垂直電場配向 層，其利用該反射偏極光照射而極化該第二光敏感層而獲 致，以及一液晶高分子（LCP)膜，係形成於該第二光敏感 層上，以獲致一具Y方向光轴之光學異方性之膠膜。 較佳者，該裝置的反射偏極光係藉一偏極光產生器而 產生。 再就另一種相通的技術領域而言，本發明乃一種製造 光學補償膜之方法，包含以下步驟a)提供一第一及第二基 板（Substrate)，分別具一第一及第二光敏感層，b)提供 一平行光束，其係一 Z轴方向前進之電磁波，且具有一多 重振動方向之電場，c)因應該平行光束之接收，產生一反 射及穿透偏極光，d)利用該穿透偏極光及反射偏極光同時 照射極化（Polarized)該第一及第二光敏感層，以分別獲 致一第一方向之平行及及第二方向之垂直電場配向層，以 及e)分別形成一液晶高分子（LCP)層於該第一及第二光敏 感層上’以獲致一第一 X方向光轴及第二γ方向光軸之光 學異方性之膠膜。

第15頁 584773 五、發明說明（12) 當然，該方法的第一及第二基板係可以由一第一及第 二捲狀膠膜所形成。

如按另一種類似的技術方式而言，本發明乃一種製造 光學補償膜之方法，包含以下步驟a)提供一第一及第二基 板（Substrate)，分別具一第一及第二光敏感層，b)提供 一平行光束，其係沿一特定方向前進之電磁波，且具有一 多重振動方向之電場，c)因應該平行光束之接收，產生一 反射偏極光及穿透偏極光，d)利用該穿透偏極光及反射偏 極光同時照射極化（p〇lariZed)該第一及第二光敏感層’ 以分別獲致一第一方向之平行及及第二方向之垂直電場配 向層，以及e)分別形成一液晶高分子（LCP)層於該第一及 第二光敏感層上，以獲致一第一 X方向光轴及第二Y方向 光轴之光學異方性之膠膜。 當然，該方法的特定方向係可以定義為一前進之2轴 方向電磁波。

本發明經由上述構想的解說，即可看出所運用之應用 於光學補償膜曝光之製程及其裝置，確實能利用自偏極光 產生器所反射的反射紫外偏極光，而照射到第二光敏感層 以獲得一 Y軸方向光聚合之垂直電場配向層，並兼具有反 射紫外偏極光及穿透紫外偏極光可以同時進行第一及第二 光敏感性高分子層的曝光之特色。為了進一步作說明’本 發明得藉由下述之較佳實施例及圖示而獲得一更加暸觯。 第一圖：是先前技術之一平行方向放置的膜片轉向成 為及垂直方向放置的膜片再行二次曝光之平面示意圖

第16頁 584773 五、發明說明（13) 第二圖：是本發明之應用於光學補償膜曝光的製程之 較佳實施例的立體示意圖； 第三圖：是第二圖之光學補償膜的基板之立體示意圖 ， 第四圖：是第三圖之基板塗佈光敏感性高分子（LPP) 的立體示意圖； 第五圖：是第四圖之光敏感性高分子接受穿透紫外偏 極光照射後之立體示意圖； 第六圖：是第五圖之X轴方向光聚合之平行電場配向 層被塗佈液晶高分子之立體示意圖； 第七圖：是第六圖之液晶高分子接受一般的紫外線曝 光後之立體示意圖； 第八圖：是第七圖之具X方向光轴之光學異方性之膠 膜被塗佈第二光敏感層的立體示意圖； 第九圖：是第八圖之第二光敏感層接受反射紫外偏極 光照射後的立體示意圖； 第十圖：是第九圖之Y軸方向光聚合之垂直電場配向 層被塗佈液晶高分子之立體示意圖； 第十一圖：是第十圖之液晶高分子接受一般的紫外線 曝光後之立體不意圖， 第十二圖··是具有一廣大視角的光學補償膜之應用於 一筆記型電腦的立體示意圖； 第十三圖：是本發明之又一實施例的光學補償膜曝光 之製程的較佳實施例之立體示意圖；以及

第17頁 584773 五、發明說明（14) 第 十 四 圖 • 是 參 昭 » 第十三圖 之 製 程所獲得的第一 二光 學 補 償 膜 之 立 體 示 意圖。 主 要 部 分 之 代 表 符 號 • 10 ： 平 行 方 向 放 置 的 膜 片 11 ： 平 行 配向 12 ： 垂 直 方 向 放 置 的 膜 片 13 ： 垂 直 配向 20 ： 第 捲 狀 膠 膜 21 ： 紫 外 線光源 22 ： 紫 外 線 23 ： 聚 光 透鏡 24 ： 平 行 光 束 / Z 轴 方 向之電堵 :波 25 ： X 軸 方 向 之 平 行 電 場分量 26 ： Y 轴 方 向 之 垂 直 電 場分量 27 ： 偏 極 光 產 生 器 28 ： 石 英 片 281 :反射紫外偏極光 282 :穿透紫外偏極光 283 :第- -照射位置 284 :第二照射位置 MD ·· 前 進 方 向 Θ ·· 傾 斜 角度 291 :第- -平面反射鏡 292 :第二平面反射鏡 30 ： 基 板 40 ： 光 敏 感性高分子 41 ·· 第 光 敏 感 性 南 分 子層42 : 第 一 塗佈機 50 ： X 轴 方 向 光 聚 合 之 平行電塌 「配 向 層 6 0 ·· 液 晶 南 分 子 61 ： 第 二 塗佈機 62 ： 液 晶 南 分 子 層 70 ： 一 般 的紫外光 71 : 具 X 方 向 光 轴 之 光 學: 異方性 :之 膠 膜 80 ： 第 二 光 敏 感 層 90 ： Y 轴 方 向 光 聚 合 之 垂， i電塌 「配 向 層 100 :具Y方向光轴之光學異方性之膠膜 _ 國 第18頁 584773 五、發明說明（15) ί :::(具有？光軸特性之捲狀）光學補償膜 ”？ ： ί晶Ϊ不器 131 :第一捲狀膠膜 ••第二捲狀膠膜 133··紫外線光源 3 ··紫^、線 135 ··聚光透鏡 136 ·平行光束/ z軸方向之電磁波 137 : X轴方向之平行電場分量 138 : Y轴方向之垂直電場分量 139:偏極光產生器 1390:石英片 1391 ·反射紫外偏極光1 392 :穿透紫外偏極光 1 393 : X轴方向光聚合之平行電場配向層 1 394 : Y轴方向光聚合之平行電場配向層 FD:第-前進方向 SD:第二前進方 141:第一光學補償膜 “2··第二光學補償膜 143 ·•第- Y方向光軸之光學異方性之膠：補償腰 144 :第二X方向光軸之光學異方性之勝 145 ··第一光敏感性高分子層 1 46 :第二光敏感性高分子層 147 :具X方向光轴之光學異方性之 148 :具Y方向光轴之先學異方性联 請參閱第二至第十二圖，顯示 >膜 膜曝光之製程，係用於製作一光風、、一種應用於光學補償 )，以供如第十二圖所示之一液t ^償膜110 (詳第十一 一廣大視角（wv)，其步驟包含提二二了器（LCD)120之呈現 第二圖），係用以形成光學補償第一捲狀膠膜20 (詳 膜U〇之一基板30，塗佈 584773 五、發明說明（16) 於該基板上， 紫外線光源（ 一聚光透鏡23 而平行光束24 向前進之電磁 轴方向之垂直 Y轴方向之垂 一偏極光產生 光透鏡23與第 ，且同時反射 獲得一反射紫 透紫外偏極光 所示之第一光 合之平行電場 之一液晶南分 液晶高分子層 故需經一加熱 X方向光轴之 敏感性高分子 膜71上，以獲 偏極光產生器 如第四圖所示之一光敏感性高分子（LPP) 40 以獲致一第一光敏感性高分子層41，提供一 詳第二圖）21，其係發出一紫外線22，提供 ’係用以聚集紫外線22成為一平行光束24， 為一 Z轴方向前進之電磁波24，且沿z轴方 波2 4具有一 X轴方向之平行電場分量25及丫 電場分量26，X軸方向之平行電場分量25及 直電場分量26均振動於一 χγ平面上，提供 器27 ’其具有複數層石英片28，被設置於聚 一捲狀膠膜20之間，係用以接收平行光束24 及穿透出垂直及平行電場分量26, 2 5 ，資以 外偏極光281及穿透紫外偏極光282，利用穿 282以照射第一捲狀膠膜20而極化如第四圖 敏感性高分子層41，即獲致一 X轴方向光聚 配向層50 (詳第五圖），塗佈如第六圖所示 子（LCP)60於第一光敏感層41上，即獲得一 62，由於尚未光聚合之LCP60不具成膜性， 程序及一般的紫外光70聚合後，即獲致一具 光學異方性之膠膜71 (詳第七圖），塗佈光 (LPP)40於具X方向光轴之光學異方性之膠 致如第八圖所示之一第二光敏感層80，利用 2 7所反射之反射紫外偏極光2 8 1 ，以照射而極化第二光敏 感層80 (此係與穿透紫外偏極光28 2之照射第—捲狀膠膜 20同步進行，而基板30已由第一照射位置283移至第二照

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584773 五、發明說明（17) 射位置284 )，即獲致一 Y軸方向光聚合之垂直電場配向 層90 (詳第九圖），以及如第十圖所示之塗佈液晶高分子 (LCP )60於第二光敏感層80上，經該加熱程序及一般的紫 外光70聚合後，即獲致一具γ方向光軸之光學異方性之膠 膜100 ’俾與具X方向光軸之光學異方性之膠膜71合成一 具有雙光轴特性之捲狀光學補償膜11 〇。

在第二圖所示的製程之X轴方向係平行於第一捲狀膠 膜20之一前進方向MD (亦可以改為垂直於第一捲狀膠膜2〇 之前進方向MD)，且該X轴方向是垂直於該γ轴方向。該 製程更包括提供一第一及第二平面反射鏡2 91，2 92 (或不 用第一平面反射鏡292亦屬可行），係反射垂直電場分量 26，且用以極化第二光敏感層8〇，即得提高紫外線光源21 的一利用率。複數層石英片28係可以具有一傾斜角度0 ， 以反射出垂直電場分量26，且傾斜角度0是介於三十與六 十度之間。而當傾斜角度0係為一五十七度之布魯斯特角 時’即可以讓穿透出該平行電場分量的數值，達到一最佳 化的程度。 該製程的捲狀雙光軸補償膜110具有一平面相位差值 及出平面相位差值，且其數值是分別介於0 SR〇 $4〇〇n瓜及 0 $Rth $ 30 0nm。光學補償膜110係貼附在一薄膜電晶體（ TFT)或色彩濾光片（CF)上（圖中未示出），以使液晶顯示 器1 20得以呈現該廣大視角（WV)。 該製程更包括提供一第二捲狀膠膜29 (詳第二圖）， 且純平行及垂直電場之紫外光束281，282即同時分別照射

第21頁 584773 五、發明說明（18) 第二及第一捲狀膠膜29, 21 ，以獲致一第二平行電場膠膜 51及廣大視角之捲狀補償膜30。 又按照一主要技術的觀點來看，本發明乃一種應用於 光學補償膜曝光之製程，係用於製作一光學補償膜11〇 ，

以供一液晶顯示器120之呈現一廣大視角，其步驟包含提 供一基板30，塗佈一光敏感性高分子於基板30上，以獲致 一第一光敏感性高分子層41，提供一紫外線光源21，其係 發出一紫外線22，提供一聚光透鏡23，係用以聚集紫外線 22成為一平行光束2 4，而平行光束24為一 Z轴方向前進之 電磁波24，且沿Z轴方向前進之電磁波24具有一 X軸方向 之平行電場分量25及Y轴方向之垂直電場分量26，X轴方 向之平行電場分量25及Y軸方向之垂直電場分量26均振動 於一 XY平面上，提供一偏極光產生器27，其具有複數層 石英片28，被設置於聚光透鏡2 3與第一捲狀膠膜2〇之間， 係用以接收平行光束24，且同時反射及穿透出垂直及平行 電場分量26, 25，資以獲得一反射紫外偏極光281及穿透紫 外偏極光282，利用穿透紫外偏極光282以照射第一捲狀^ 膜20而極化如第四圖所示之第一光敏感性高分子層41，即 獲致一 X轴方向光聚合之平行電場配向層50，塗佈如第丄 圈所示之一液晶高分子（LCP)60於第一光敏感層41上，由 於尚未光聚合之LCP60不具成膜性，故需經一加熱程序及 一般的紫外光70聚合後，即獲致一具X方向光軸之光學異 方性之膠膜71，塗佈光敏感性高分子（LPP)40於具χ方向 光軸之光學異方性之膠膜71上，以獲致如第八圖所示之二

584773 五、發明說明（19) 1 --*— 第二光敏感層80，W用偏極光產±器27所反射之反射紫外 偏極光281，卩照射而極化第二光敏感層8()，即獲致一 γ 軸方向光聚合之垂直電場配向層9〇，以及如第十圏所示之 塗佈液晶高分子（LCP)60於第二光敏感層8〇上，經該加熱 程序及一般的紫外光70聚合後，即獲致一具γ方向光轴之 光學異方性之膠膜111 ，俾與具X方向光轴之光學異方性 之膠膜71合成一具有雙光轴特性之捲狀光學補償膜11()。 當然，此時的基板30係可以藉由一第一捲狀膠膜2〇所形成 又按照另一種可實施的技術特徵來看，本發明乃一種 應用於光學補償膜之曝光裝置，係用於製作一光學補償膜 110 ’以供一液晶顯示器（LCD)之呈現一廣大視角wv，其包 括一帶動裝置（圖中未示出），係用以帶動一第一捲狀膠 膜20,而形成光學補償膜110之一基板30,如第四圖所示 之一第一塗佈機42，其用以塗佈一光敏感性高分子“即） 40於基板30上，以獲致一第一光敏感性高分子層41，一紫 外線光源21，係發出一紫外線22，一聚光透鏡23，其用以 聚集紫外線22成為一平行光束24，而平行光束24為一 Z轴 方向刖進之電磁波24，且沿Z轴方向前進之電磁波24具有 一 X軸方向之平行電場分量25及Y轴方向之垂直電場分量 26 ’ X轴方向之平行電場分量25及γ轴方向之垂直電場分 量26均振動於一 χγ平面上，一偏極光產生器27，其具有 複數層石英片28，被設置於聚光透鏡2 3與第一捲狀膠膜2〇 之間，係用以接收平行光束24，且同時反射及穿透出垂直

584773 五、發明說明（20) 及平行電場分量26, 25，資以獲得一反射紫外偏極光281及 穿透紫外偏極光282，並利用穿透紫外偏極光282以照射第 一捲狀膠膜20而極化第一光敏感性高分子層41，即獲致一 X轴方向光聚合之平行電場配向層50，一第二塗佈機61， 係用以塗佈一液晶高分子（LCP)60於第一光敏感層41上， 並經一加熱程序及一般的紫外光70聚合後，即獲致一具X 方向光轴之光學異方性之膠膜71，一第二光敏感層80，其 藉由第一塗佈機42以塗佈光敏感性高分子（Lpp)^Q於具X 方向光轴之光學異方性之膠膜71上而得，並利用偏極光產 生器27所反射之反射紫外偏極光281 ，以照射而極化第二 光敏感層80，即獲致一 γ轴方向光聚合之垂直電場配向層 90,以及一具Y方向光轴之光學異方性之膠膜1Π ，係藉 由第二塗佈機61以塗佈液晶高分子（LCp)6〇於第二光敏 層80上，且經該加熱程序及一般的紫外光7〇聚合後而得’， 俾與具X方向光軸之光學異方性之膠膜71合成一且 軸特性之捲狀光學補償膜11 0 。當然，該裝置的^抽方6 係可以平行或垂直於第一摄 ^ ° 哮X舳方yΐ &狀膠膜 前進方_，且 該X轴方向疋垂直於該Υ軸方向。 又從另一種相當的技術層論， 於光學補檜眩成企 十讨乃乃一種應用 於尤学補償膜曝先之製程， 一第一及篦-也组α 木丁四圖所不之 丄補；；141，142,以供1晶顯示器12。 膜131，132 (詳第角十Λ步驟包含提供一第-及第二捲狀膠 132係分別具有—笛r 梅狀膠膜131， 有第-γ方向光柏及第方向光軸之光 584773 五、發明說明（21) 學異方性之膠膜143，144，塗佈一光敏感性高分子（lpp)4〇 於第一Y方向光軸及第二X方向光轴之光學異方性之谬膜 143，144上，以獲致一第一及第二光敏感性高分子層145， 146，提供一紫外線光源133 ，其係發出一紫外線134，其 波長範圍為190nm〜400nm，提供一聚光透鏡135，係用以聚 集紫外線135成為一平行光束136，而平行光束為一 z轴方 向前進之電磁波136，且沿Z轴方向前進之電磁波136具有 一 X轴方向之平行電場分量137及Y轴方向之垂直電場分 量138，又X轴方向之平行電場分量137及Y軸方向之垂直 電場分量138均振動於一 χγ平面上，提供一偏極光產生 器139 ’其具有複數層石英片139〇，被設置於聚光透鏡ι35 與第一捲狀膠膜131之間，係用以接收平行光束136，且同 時反射及穿透出垂直及平行電場分量138 ，資以獲得一反 射紫外偏極光1391及穿透紫外偏極光1392，利用穿透紫外 偏極光1392及反射紫外偏極光1391以同時照射第一及第二 捲狀膠膜131，132而極化第一及第二光敏感性高分子層145 ，146 ’即獲致一第一 X轴方向光聚合之平行電場及第二γ 轴方向光聚合之垂直電場之配向層1393，1394，以及塗佈 一液晶高分子（LCP)60於第一及第二光敏感層145, 146上， 經一加熱程序及紫外光聚合後，即獲致一第一 X方向光軸 及第二Y方向光轴之光學異方性之膠膜147，148 ，俾形成 第一及第二光學補償膜141，142。 此時製程的X轴方向係平行於第一及第二捲狀膠膜 131，132之一第一及第二前進方向fd，sD (同樣地，亦可以

第25頁 584773 五、發明說明（22) " -- 改為垂直於第一及第二捲狀膠膜131，132之第一及第二前 進方向FD，SD)，且該X轴方向是垂直於該了軸方向。 再就另一種實質的技術内容而言，本發明乃一種製造 光學補償膜11〇之方法，包含以下步驟㈧提供一基板（Sub 一 strate) 30，其具一第一光敏感層41 ,b)提供一平行光束 24，其係一 z軸方向前進之電磁波24 ,並具有一多重振動 · 方向之電場，c)因應平行光束24之接收，產生一反射偏極 光281及穿透偏極光282，d)利用穿透偏極光282照射極化 第一光敏感層41 ’以獲致一第一方向之平行電場配向層（ 轴方向光聚合之平行電場配向層5〇) ，e)形成一液晶| 高分子（LCP)60層於第一光敏感層41上，以獲致一具X方 向光轴之光學異方性之膠膜71，f)於具X方向光轴之光學 異方性之膠膜71上，形成一第二光敏感層80，g)利用反射 偏極光照射而極化第二光敏感層8 〇，而獲致一第二方向之 垂直電場配向層（如γ轴方向光聚合之垂直電場配向層9〇 )’以及h)形成一液晶高分子（LCp)6〇膜於第二光敏感層 80上’以獲致一具γ方向光轴之光學異方性之膠膜丨丨1。 而由於基板30係有利用到反射偏極光281 ，故亦可以 不必藉由第一捲狀膠膜2〇所形成。至於此種可採用基板30 _ 的實施例之其他細節，亦可如第二圖的實施例所述，是於 此不再贅述。 再就另一種可行的技術方式而言，本發明乃一種製造 · 光學補償膜11〇之裝置，其包括一基板3〇，其具一第一光· 敏感層41，一平行光束24光源，其係發出一 Z轴方向前進

第26頁 584773 五、發明說明（23) 向之電場，一平行光束 用以產生一反射及穿透 行電場配向層（如X轴 ’係利用穿透偏極光 ^，一液晶高分子（LCP) ’以獲致一具X方向光 光敏感層80，係於具X 形成，一第二方向之垂 之垂直電場配向層90) 化第二光敏感層80而獲 ’係形成於第二光敏感 光學異方性之穋膜111 係藉一偏極光產生器27 之電磁波24，且具有一多重振動方 之接收器（如偏極光產生器27)， 偏極光28 1,282 ，一第一方向之平 方向光聚合之平行電場配向層50 ) 282照射極化第一光敏感層41而獲至 60層，其形成於第一光敏感層41上 轴之光學異方性之膠膜71，一第二 方向光轴之光學異方性之膠膜71上 直電場配向層（如Y轴方向光聚合 ，其利用反射偏極光281照射而極 致，以及一液晶高分子（LCP)60膜 層80上，以獲致一具Y方向光轴之 。當然，此裝置的反射偏極光2 81 而產生。

再就另一種相通的技術領域而言，本發明乃一種製造 光學補償膜之方法，包含以下步驟a)提供一第一及第二基 板（如第一Y方向光轴及第二X方向光軸之光學異方性之 膠膜143, 144 )，分別具一第一及第二光敏感層1 45, 1 46， b)提供一平行光束136 ’其係一 Z轴方向前進之電磁波136 ，且具有一多重振動方向之電場，c)因應平行光束136之 接收，產生一反射及穿透偏極光1391,1392 ，d)利用穿透 偏極光1392及反射偏極光1391同時照射極化第一及第二光 敏感層145, 146 ，以分別獲致一第一方向之平行及及第二· 方向之垂直電場配向層（如第一 X軸方向光聚合之平行電

584773 五、發明說明（24) 場及第二Y軸方向光聚合之垂直電場之配向層1393,1394 )，以及e)分別形成一液晶高分子（LCP) 60層於第一及第 二光敏感層145, 146上，以獲致一第一 X方向光轴及第二 Y方向光轴之光學異方性之膠膜147, 148 。當然，此方法 的第一及第二基板係可以由一第一及第二捲狀膝膜131， 132所形成。 ^ 如按另一種類似的技術方式而言，本發明乃一種製造 · 光學補償膜之方法，包含以下步驟a)提供一第一及第二基 板（如第一 Y方向光轴及第二X方向光轴之光學異方性之 膠膜1 43, 144 )，分別具一第一及第二光敏感層145, 146， | b)提供一平行光束136 ，其係沿一特定方向前進之電磁波 (如Z轴方向前進之電磁波136 )，且具有一多重振動方 向之電場’c)因應該平行光束136之接收，產生一反射及 穿透偏極光1391，1392 ，d)利用穿透偏極光1392及反射偏 極光1391同時照射極化第一及第二光敏感層145，146 ，以 分別獲致一第一方向之平行及及第二方向之垂直電場配向 層（如第一 X轴方向光聚合之平行電場及第二γ轴方向光 聚合之垂直電場之配向層1 393,1 394 )，以及e)分別形成 一液晶高分子（LCP)60層於第一及第二光敏感層145，146上 ，以獲致一第一X方向光轴及第二γ方向光轴之光學異方 性之膠膜147, 1 48 。當然，此方法的特定方向係可以定義 為一前進之Z轴方向電磁波。 ， 至於與本發明相關的計算方程式則為：

584773

其中Rth :出平面相位差值（Out of plan retardation value)，Ro :平面相位差值（In pUn retardati〇n va_ lue)，nx : X方向之折射率，ηγ : γ方向之折射率，nz : _z方向之折射率，d:LCP之厚度，Δη:折射率差（即ηχ nY 且ηχ ηΥ > <ηζ 即為一C-板（C-plate)，ηζ >ηχ >

η?即屬於共轴型(BiaXial)，ηζ>ηχ=ηγ即為一 Α_. plate),此均與本案之廣大視角膠膜（wide Fiim)不 同0 综上所述，本發明確能以一嶄新的設計，藉由一種應 用於光學補償膜曝光之製程及其裝置，而獲得一種利用自 偏極光產生器所反射的反射紫外偏極光，用來照射第二光 敏感層以獲得一了軸方向光聚合之垂直電場配向層的目的 。並且所運用之反射紫外偏極光及穿透紫外偏極光得以同 時進行第一及第二光敏感性高分子層的曝光，甚能獲得最 佳之雙光軸配向的選擇性之功效，足以大幅提昇紫外線照 射光敏感性高分子（Lpp)以形成電場配向層之效率'，而極' 適合工業上之生產。故凡熟習本技藝之人士，得任施匠思 而為諸般修飾，然皆不脫如附申請專利範圍所欲保護者:

Claims (1)

1. 584773 六、申請專利範圍 1· 一種應用於光學補償膜曝光之製程，係用於製作一光學 補償膜’以供一液晶顯不Is(LCD)之呈現一廣大視角（Wide View)，其步驟包含： 提供一第一捲狀膠膜’係用以形成該光學補償膜之一 基板（Substrate); 塗佈（Coating) —光敏感性高分子（Linear Photo re-active Polymer，LPP)於該基板上，以獲致一第一光敏感 性高分子層； 提供一紫外線光源（UV Light )，其係發出一紫外線； 提供一聚光透鏡，係用以聚集該紫外線成為一平行光 束，而該平行光束為一 Z轴方向前進之電磁波，且該沿冗 轴方向前進之電磁波具有一X轴方向之平行電場分量 轴方向之垂直電場分量，該X轴方向之平行電場分量及Y 轴方向之垂直電場分量均振動於一XY平面上； 提供一偏極光產生器，其具有複數層石英片，被設置 於該聚光透鏡與該第一捲狀膠膜之間，係用以接故該平行 光束，且同時反射及穿透出該垂直及平行電場分量，資以 獲得一反射紫外偏極光及穿透紫外偏極光； 利用該穿透紫外偏極光以照射該第一捲狀膠膜而極化 (Polarized)該第一光敏感性高分子層，即獲致一 X轴方 向光聚合之平行電場配向層； 塗佈一液晶高分子（LCP)於該第一光敏感層上，經_ 加熱程序及養外光聚合後，即獲致一具X方向光轴之光學 異方性之膠膜；

   第30頁 584773 六、申請專利範圍 塗佈該光敏感性高分子（LPP)於該具X方向光軸之光 學異方性之膠膜上，以獲致一第二光敏感層； 利用該偏極光產生器所反射之該反射紫外偏極光，以 照射而極化該第二光敏感層，即獲致一 Y轴方向光聚合之 垂直電場配向層；以及 塗佈該液晶南分子（LCP)於該第二光敏感層上，經該 加熱程序及紫外光聚合後，即獲致一具Y方向光轴之光學 異方性之膠膜，俾與該具X方向光轴之光學異方性之膠膜 合成一具有雙光轴特性之捲狀光學補償膜。 2·如申請專利範圍第1項所述之製程，其中該X轴方向係 平行或垂直於該第一捲狀膠膜之一前進方向，且該X轴方 向是垂直於該Y軸方向。 3·如申請專利範圍第2項所述之製程，更包括提供一第一 及/或第二平面反射鏡，係反射該垂直電場分量，且用以 極化該第二光敏感層，即得提高該紫外線先源的一利用率 〇 4.如申請專利範圍第2項所述之製程，其中該複數層石英 片係具有一傾斜角度，以反射出該垂直電場分量，且該傾 斜角度是介於三十與六十度之間。 5 ·如申請專利範圍第4項所述之製程，其中該傾斜角度係 為一五十七度之布魯斯特角，以穿透出該平行電場分量。 6·如申請專利範圍第1項所述之製程，其中該捲狀雙光轴 補償膜具有一平面相位差值（In plan Retardation Value)及出平面相位差值（〇ut of Plan Retardation

   第31頁 584773 六、申請專利範圍 Value) ’且其數值是分別介於0$R〇$4〇〇nm&〇sRth$ 300nm 。 7·如申請專利範圍第1項所述之製程，其中該光學補償膜 係貼附在一薄膜電晶體（TFT)及/或彩色濾光片（CF)上， 以使該液晶顯示器得以呈現該廣大視角。 8· 一種應用於光學補償膜曝光之製程，係用於製作一光學 補償膜，以供一液晶顯示器（LCD)之呈現一廣大視角（Wide View)，其步驟包含： 提供一基板；

   塗佈一光敏感性高分子於該基板上，以獲致一第一光 敏感性局分子層； 提供一紫外線光源，其係發出一紫外線； 提供一聚光透鏡，係用以聚集該紫外線成為一平行光 束，而該平行光束為一 Z軸方向前進之電磁波，且該沿z 轴方向前進之電磁波具有一X轴方向之平行電場分量及γ 抽方向之垂直電％分Ϊ ’該X轴方向之平行電場分量及γ 轴方向之垂直電場分量均振動於一XY平面上；

   提供一偏極光產生器，係用以接收該平行光束，且同 時反射及穿透出該垂直及平行電場分量，資以獲得一反射 紫外偏極光及穿透紫外偏極光； 利用該穿透紫外偏極光以極化（P〇larized)該第一光 敏感性高分子層，即獲致一 X軸方向光聚合之平行電場配 向層； 塗佈一液晶高分子（LCP)於該第一光敏感層上，經一 584773 六'申請專利範圍 加熱程序及紫外光聚合後，即獲致一具X方向光轴之光學 異方性之膠膜； 塗佈該光敏感性高分子（LPP)於該具X方向光轴之光 學異方性之膠膜上，以獲致一第二光敏感層； 利用該偏極光產生器所反射之該反射紫外偏極光，以 照射而極化該第二光敏感層，即獲致一Y轴方向光聚合之 垂直電場配向層；以及

   塗佈該液晶高分子（LCP)於該第二光敏感層上，經該 加熱程序及紫外光聚合後，即獲致一具Y方向光轴之光學 異方性之膠膜，俾與該具X方向光轴之光學異方性之膠膜 合成一具有雙光轴特性之捲狀光學補償膜。 9·如申請專利範圍第8項所述之製程，其中該基板係藉由 一第一捲狀膠膜所形成。 10. 一種應用於光學補償膜之曝光裝置，係用於製作一光 學補償膜，以供一液晶顯示器（LCD)之呈現一廣大視角， 其包括： 一帶動裝置，係用以帶動一第一捲狀膠膜，而形成該 光學補償膜之一基板（Substrate);

   一第一塗佈機，其用以塗佈一光敏感性高分子（Li -near Photo reactive Polymer，LPP)於該基板上，以獲 致一第一光敏感性高分子層； 一紫外線光源（UV Light)，係發出一紫外線； 一聚光透鏡，其用以聚集該紫外線成為一平行光束， 而該平行光束為一 Z轴方向前進之電磁波，且該沿z轴方

   第33頁 584773 六、申請專利範圍 向前進之電磁波具有一X軸方向之平行電場分量及Y轴方 向之垂直電場分量，該X軸方向之平行電場分量及γ轴方 向之垂直電場分量均振動於一XY平面上； 一偏極光產生器’其具有複數層石央片’被設置於該 聚光透鏡與該第一捲狀膠膜之間，係用以接收該平行光束 ，且同時反射及穿透出該垂直及平行電場分量，資以獲得 一反射紫外偏極光及穿透紫外偏極光，並利用該穿透紫外 偏極光以照射該第一捲狀膠膜而極化（Polarized)該第一 光敏感性高分子層，即獲致一 X轴方向光聚合之平行電場 配向層； 一第二塗佈機，係用以塗佈一液晶高分子（LCP)於該 第一光敏感層上，並經一加熱程序及紫外光聚合後，即獲 致一具X方向光轴之光學異方性之膠膜； 一第二光敏感層，其藉由該第一塗佈機以塗佈該光敏 感性高分子（LPP)於該具X方向光轴之光學異方性之膠膜 上而付，並利用該偏極光產生器所反射之該反射紫外偏極 光’以照射而極化該第二光敏感層，即獲致一 γ轴方向光 聚合之垂直電場配向層；以及 一具Y方向光轴之光學異方性之膠膜，係藉由該第二 塗佈機以塗佈該液晶高分子（LCP)於該第二光敏感層上， 且經該加熱程序及紫外光聚合後而得，俾與該具X方向光 轴之光學異方性之膠膜合成一具有雙光軸特性之捲狀光學 補償膜。 11·如申請專利範圍第10項所述之裝置，其中該X軸方向

   584773 六 '申請專利範圍

   係平行或垂直於該第一捲狀膠膜之一前進方向，且該X 方向是垂直於該Y軸方向。 乂、 一種應用於光學補償膜曝光之製程，係用於製作一第 及第二光學補償膜，以供一液晶顯示器之呈現一廣大視 角，其步驟包含： 提供一第一及第二捲狀膠膜，各該第一及第二捲狀膠 膜係分別具有一第一 Y方向光軸及第二X方向光轴之光學 異方性之膠膜；

   塗佈一光敏感性高分子（LPP)於該第一 γ方向光轴及 第二X方向光轴之光學異方性之膠膜上，以獲致一第一及 第二光敏感性高分子層； 提供一紫外線光源（UV Light )，其係發出一紫外線； 提供一聚光透鏡，係用以聚集該紫外線成為一平行光 束’而該平行光束為一 Z轴方向前進之電磁波，且該沿z 轴方向前進之電磁波具有一X轴方向之平行電場分量及γ 軸方向之垂直電場分量，該X轴方向之平行電場分量及γ 轴方向之垂直電場分量均振動於一XY平面上；

   提供一偏極光產生|§ ’其具有複數層石英片，被設置 於該聚光透鏡與該第一捲狀膠膜之間，係用以接收該平行 光束，且同時反射及穿透出該垂直及平行電場分量，資以 獲得一反射紫外偏極光及穿透紫外偏極光； 利用該穿透紫外偏極光及該反射紫外偏極光以同時照 射該第一及第二捲狀膠膜而極化該第一及第二光敏感性高 分子層，即獲致一第一 X軸方向光聚合之平行電場及第二

   第35頁 584773 六、申請專利範圍 Y轴方向光聚合之垂直電場之配向層；以及 塗佈一液晶高分子（LCP) ’經一加熱程序及紫外光聚合 轴及第二γ方向光軸之光學異 及第二光學補償膜。 於該第一及第二光敏感層上 後，即獲致一第一X方向光 方性之膠膜，俾形成該第一 13·如申請專利範圍第12項所述之製程，其中該又轴方向 係平行或垂直於該第一及第二捲狀膠膜之一第一及第二前 進方向’且該X轴方向是垂直於該γ轴方向。 14· 一種製造光學補償膜之方法，包含以下步驟：

   a) 提供一基板（Substrate)，其具一第一光敏感層； b) 提供一平行光束，其係一 z轴方向前進之電磁波， 並具有一多重振動方向之電場； c)因應該平行光束之接收，產生一反射偏極光及穿透 偏極光， d) 利用該穿透偏極光照射極化（Polarized)該第一光 敏感層，以獲致一第一方向之平行電場配向層； e) 形成一液晶高分子（LCP)層於該第一光敏感層上， 以獲致一具X方向光軸之光學異方性之膠膜； f) 於該具X方向光轴之光學異方性之膠膜上，形成一 第二光敏感層； g) 利用該反射偏極光照射而極化該第二光敏感層，而 獲致一第二方向之垂直電場配向層；以及 h) 形成一液晶高分子（LCP)膜於該第二光敏感層上， 以獲致一具Y方向光軸之光學異方性之膠膜。

   584773 六、申請專利範圍‘ 15·如申請專利範圍第1 4項所述之方法，係用以使一液晶 顯示器（LCD)呈現一廣大視角（Wide View)。 16·如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中該基板係一 捲狀膠膜。 1 7·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該光敏感層 係藉塗佈一光敏感性高分子（Linear Photo reactive Polymer， LPP) 於該基板而獲得。 1 如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該平行光束 係一紫外線，其波長範圍為l9〇nm〜40 0nm。

   1 9·如申請專利範圍第18項所述之方法，其中該光束之平 行係藉一聚光透鏡而獲得。 20·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該多重振動 方向之電場係振動於一 XY平面。 21·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該沿Z轴方 向前進之電磁波具有一X轴方向之平行電場分量及Y轴方 向之垂直電場分量。 22·如申請專利範圍第丨4項所述之方法，其中該步驟c)係 藉一偏極光產生器而產生。

   23·如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該偏極光產 生器具有複數層石英片。 24·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該反射偏極 光及穿透偏極光係分別經反射及穿透而得。 25·如申請專利範圍第24項所述之方法，其中該反射偏極 光及穿透偏極光係分別經反射及穿透該多重振動方向電場

   584773 六、申請專利範圍 之一垂直及一平行電場分量而得。 26·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該第一方向 配向層係一X轴方向光聚合之爭行電場配向層。 2 7·如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中該液晶高分 子（LCP)層係經一加熱程序及一光聚合步驟，而獲致該具 X方向光軸之光學異方性之膠膜，且該X轴方向係平行或 垂直於該第一捲狀膠膜之一前進方向。 28·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該第二光敏 感層係藉塗佈一光敏感性高分子（LPP)膜於該具X方向光 轴之光學異方性之膠膜上而獲致。 29·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該第二方向 配向層係一γ軸方向光聚合之垂直電場配向層。 30·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該具Y方向 光轴之光學異方性之膠膜係藉塗佈該液晶高分子（LCP)膜 於該第二光敏感層上而獲得。 31·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中具γ方向光 轴之光學異方性之膠膜係使於該第二光敏感層上之該液晶 南分子（LCP)膜經一加熱程序及一光聚合步驟而獲得。 32·如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該具X方向 光軸之光學異方性之膠膜及具γ方向光轴之光學異方性之 膠膜合成一具有雙光轴特性之膜。 33·如申請專利範圍第32項所述之方法，其中該具有雙光 轴特性之膜係一捲狀光學補償膜。 3 4· —種製造光學補償膜之裝置，其包括：

   第38頁 584773 六、申請專利範圍 -- 一基板（Substrate)，其具一第一光敏感層； 一平行光束光源，其係發出一 Z轴方向前進之電磁波 ’且具有一多重振動方向之電場； 一平行光束之接收器，用以產生一反射及穿透偏極光 一第一方向之平行電場配向層，係利用該穿透偏極光 照射極化（Polarized)該第一光敏感層而獲致； 一液晶高分子（LCP)層，其形成於該第一光敏感層上 ’以獲致一具X方向光轴之光學異方性之膠膜； 一第一光敏感層，係於該具X方向光轴之光學異方性 之膠膜上形成； 一第二方向之垂直電場配向層，其利用該反射偏極光 照射而極化該第二光敏感層而獲致；以及 一液晶高分子（LCP) 膜，係形成於該第二光敏感層上 ，以獲致一具Y方向光轴之光學異方性之膠膜。 35.如申請專利範圍第34項所述之裝置，其中該反射偏極 光係藉一偏極光產生器而產生。 36· —種製造光學補償膜之方法，包含以下步驟： a) 提供一第一及第二基板（Substrate)，分別具一第 一及第二光敏感層； b) 提供一平行光束，其係一 Z轴方向前進之電磁波， 且具有一多重振動方向之電場； c) 因應該平行光束之接收，產生一反射及穿透偏極光

   第39頁 584773 六、申請專利範圍 d) 利用該穿透偏極光及反射偏極光同時照射極化（p〇_ lari zed)該第一及第二光敏感層，以分別獲致一第一方向 之平行及及第二方向之垂直電場配向層；以及 e) 分別形成一液晶高分子（LCP)層於該第一及第二光 敏感層上’以獲致一第一 X方向光轴及第二γ方向光轴之 光學異方性之膠膜。 · 37，如申請專利範圍第36項所述之方法，其中該第一及第 · 二基板係由一第一及第二捲狀膠膜所形成。 38· —種製造光學補償膜之方法，包含以下步驟： a) 提供一第一及第二基板（Substrate)，分別具一第 鲁 一及第二光敏感層； b) 提供一平行光束，其係沿一特定方向前進之電磁波 ，且具有一多重振動方向之電場； c) 因應該平行光束之接收，產生一反射偏極光及穿透 偏極光； d) 利用該穿透偏極光及反射偏極光同時照射極化（Po-larized)該第一及第二光敏感層，以分別獲致一第一方向 之平行及及第二方向之垂直電場配向層；以及 e) 分別形成一液晶高分子（LCP)層於該第一及第二光 _ 敏感層上，以獲致一第一 X方向光轴及第二Y方向光轴之 光學異方性之膠膜。 39·如申請專利範圍第38項所述之方法，其中該特定方向 · 係定義為一前進之Z轴方向電磁波°

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