TW548443B - Method and apparatus for washing or hydration of ophthalmic devices - Google Patents

Description

548443 A7 五、發明說明（/ ) 發明蓺疇‘ ， 本發明關於一種眼用裝置之洗滌或水合設備與方 法。 ' 5 ο 11 5 Ι 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ο 2 5 2 發明背景 親水性隱形眼鏡之鑄型製造方法為習知。在以下所 k各專利中均挺及此等方法：授與L a r s e n之美國專利第 4, 495, 31 3號；授與Larsen等人之美國專利第4, 64〇, 489 號；授與Larsen等人之美國專利第4, 68〇, 336號；授與 Larsen等人之美國專利第4, 889,664號；及授與Larsen 等人之美國專利第5, 039, 459號；以上各專利均已讓渡 給本發明之受讓人。 此等習知技蟄揭示一種隱形眼鏡製造方法，其中每 一隱形眼鏡係由在一隱形眼鏡鑄模内—通常是在一前曲 面（下部鑄模區）與背曲面（上部舞模區）間—模鑄一 反應性混合物之方式形成。注入鑄模内之單體聚合化而 形成一隱形眼鏡。此等隱形眼鏡通常經過水合浸浴，然 後經過多次溶濾步驟以自隱形眼鏡去除處理用化學藥劑 (可溶濾稀釋液及單體）。水合浸浴將隱形眼鏡移出前曲 面鑄模。隱形眼鏡一旦脫模即進入多步驟洗滌階段，然 後伢為潮濕之隱形眼鏡脫離洗滌階段並加以包裝以供消 費者使用。 在早期之隱形眼鏡製造方法中，水合及稀釋液去除 步驟係在大儲液槽内進行。數以百計的隱形眼鏡放入每 一儲液槽内並沿儲液槽移動然後移出。就由流入和流出

五、發明說明（7) 之液流，儲液槽會保持在一特定稀釋液平衡水平。有數 個稀釋液水平降低之儲液槽在達到稀釋液平衡水平之 前，其内依序浸泡著隱形眼鏡。隱形眼鏡直到儲液槽内 之稀釋液水平低於或達到一可接受水平之時方自一儲液 5槽移至另一儲液槽。偶而儲液槽會清空以作清洗，清潔 後會再重新裝入淨水。 ' 美國專利第5,080,839號和5,094,609號分別揭示 種水合及洗務隱开）眼鏡之方法以及一種清洗以前述專 利所揭示之單體或單體混合物所形成之隱形眼鏡的隔^ 1〇室。此等專利所揭示之方法有顯著的進展；但，隱形眼 鏡自水合階段傳送至洗滌步驟以及隱形眼鏡之相關搬運 作業導致遺失一些隱形眼鏡。此外，洗滌需要大量的水 且要多次浸泡步驟。支承隱形眼鏡之隔室充滿了水，然 後在隱形眼鏡和10達到平衡之後即清空該隔室然後重 15 複這些步驟。 很明顯地會想要使水合步驟更有效率，亦即盡可能 以最少量的水，用最有效率的方式讓最多隱形眼鏡進行 水合作用。 20 發明概沭 依據本發明’在此揭示一種水合及/或洗滌（例如去 除稀釋液）之設備及方法，其中具備複數個裝置支撐構 件’此等構件較佳分別具有一或多個空腔以容納一眼用 裝置如隱形眼鏡及/或隱形眼鏡鑄模及/或可再次使用隱 25形眼鏡鑄模。眼用裝置排列成使水合或洗滌流體自接觸 548443 A7 --------57______ 五、發明說明（，） 較乾淨眼用裝置流動或受引導至接觸較掰眼用裝置。該 等裝置支撐構件得棑列成任意型態讓水合或洗滌流體先 接觸較乾淨眼用裝置然後再接觸較髒眼用裝置。該等裝 置支撐構件彳于為垂直排列如柱般成行或排成類似階梯 5狀，亦得為水平排列、螺旋排列或以上之組合。舉例來 说，流體旎水平地自眼用裝置流至一或多個水平排列裝 置支撐構件之第一階上眼用裝置，然後垂直向下流過位 在第一階下方之一或多個裝置支撐構件之第二階，然後 再流到第三階等。另一種選擇，眼用裝置能在水落如雨二 1〇 下之一柱體内移動，或者是在流體流抽汲通過之一水平 管内移動。較佳其排列為至少部分垂直以讓水合或洗滌 流體受重力而移動且無須抽汲。該水合或洗滌流體能受 引導為自設備内最乾淨眼用裝置流到最髒眼用裝置之單 一流體流。另一種選擇，該流體能受引導為多道流體流 15 自設備内一或多個最乾淨眼用裝置瘅到一或多個最髒眼 用裝置。該流體流能流過眼用裝置及裝置支撐構件，或 者其能通過，或流過並通過裝置支撐構件。較佳來說， 多道水合或洗滌流體流能受引導為自設備内之乾淨眼用 裝置流至髒眼用裝置，但僅流到且流過在特定處所之眼 20 用裝置上。較佳來說，流體流過裝置支撐構件。必要時， 得在'設備内之一或多處注入額外流體。設備内的最乾淨 眼用裝置自乾淨的水合或洗滌流體注入口或其附近移 出，而髒的眼用裝置最好在最髒水合或洗條流體排出設 備外之排出口附近或前面放入設備内。 25 較佳水合及/或洗滌設備及方法包含托盤作為裝置 本紙張尺度綱巾關家鮮（CNS)A4規格(210 X 297公釐） •--.W· I--—— — — — — — · I I 寫本頁) 上-σ •線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 548443 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __B7 五、發明說明（^ ) 構件。無論如何，裝置支撐構件得具有任意型態， 月ίι提在於其為眼用裝置提供防護並維持之，但許可流體 流到、流經或流過在裝置支撐構件内或之上的眼用裝 置，然後許可流體流出裝置支撐構件之外。裝置支撐構 件之其他實例包括塑膠籠、碗、或是習知技藝中所用及 揭示之隱形眼鏡用水合或洗蘇隔室。更佳為該裝置支撐 構件能輕易地以反向於該流體流向而移動過本發明設 備。在較佳實施财m支撐構件為一隱形眼鏡支 撐構件，而較佳隱形眼鏡支撐構件為一粍盤。此等較佳-牦盤具有複數個空腔，每一空腔各容納一眼用裝置，最 好疋谷納裝有一隱形眼鏡之前曲面鑄模。以下說明將專 注於涉及隱形眼鏡洗滌與水合之較佳實施例；但其他裝 置一特別是其他眼用裝置可用以取代本說明書中提及之 隱形眼鏡。 在較佳實施例十，該等托盤為肩直堆疊，讓空腔（以 及隱形眼鏡）排成柱（塔）。該水合或洗滌流體（例如去離 子水）注入或以其他方式導入最前或上部托盤之每一空 月上内/主入母一二腔内之流體通過柱形空腔堆向下流動 以洗滌位在注入點下方之托盤内前曲面鑄模中隱形眼 20鏡。必要時亦能在該堆之一或多個下部托盤處注入額外 流艟。在使用本發明設備時，將一托盤插到托盤堆底部， 抬南托盤堆，然後將該堆内最上部托盤移開。對托盤堆 添加及移開托盤係以逐步方式進行。 隨著隱形眼鏡（在托盤内）在托盤堆内向上移動， 其會遇到愈來愈乾淨（較無污染）的水合或洗滌流體。 10 15 25 Θ氏張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公爱 ---Ψ!------- 裝—— (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) Ϊ線· 548443

㈣接觸在魏位置‘㈣料鏡，但仍能移除 在此有一逆流效應，亦即流體在本發明設備内向下 矛夕動而裝載隱形眼鏡之托盤逐步向上移動。垂直型構造 為較佳，因為流體為向下流；但包括抽汲流體之水平式 在内的其他型態亦可運用。隨著流體自較乾淨隱形眼鏡 流到較髒隱形眼鏡，其自隱形眼鏡帶走不純物。隱形眼 鏡因朝乾淨流體的入口移動使不純物更少。較佳來說， 流體内之不純物濃度永遠小於其所接觸之隱形眼鏡内不_ 10 純物濃度。 依據本發明之一觀點，在此提出一種水合或洗滌眼 用裝置之方法，該方法包括以下步驟：對不純物濃度較 大之一眼用裝置施加流體，而該流體先前已施加於不純 物濃度較低之眼用裝置，而在此之前該流體已施加於不 15 純物農度更低之隱形眼鏡。較佳至 有一部分相同流體 施加於已大致相繼不斷增加不純物量之至少1 〇個（更佳 為至少2 5個）眼用裝置如隱形眼鏡。舉例來說，不純物 濃度較高之隱形眼鏡得為具有濃度大於l〇,〇00ppffl、甚 至大於1 00, 00Oppm之稀釋液或其他不純物之隱形眼 20 鏡，而不純物濃度低之隱形眼鏡得為具有濃度小於 1 Ορ^ιη、更佳為小於lppm之稀釋液或其他不純物之隱形 眼鏡。較佳施加於不純度濃度低之隱形眼鏡的相同流體 或至少部分相同流體在稍後施加於不純物濃度高之隱形 眼鏡。較佳隱形眼鏡與該流體為反向移動，且/或（較佳 25 為且）該流體逆向於隱形眼鏡移動。較佳來說，流體流 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） LIL»----------裝 i — (請先閱讀背面之注意事項^^寫本頁) 訂· 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 548443 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（& ) 受引導自不純物濃度較低之隱形眼鏡流到不純物濃度較 高之隱形眼鏡，使得流體内之不純物量隨流體流到具有 更多不純物之隱形眼鏡而增加。較佳該流體内之不純物 濃度使得流體與隱形眼鏡間之不純物水平大致維持濃度 5 梯度，使得在托盤堆内不同水平不純物大致為連續性或 接續性（階段性）先自較乾淨隱形眼鏡，然後自具有不斷 增加且較高不純物水準之隱形眼鏡移入流體内。較佳不 純物為大致連續性自隱形眼鏡移入流體内。隱形眼鏡在 不純物濃度大之，狀態下進入本發明設備且最好隨隱形眼· 10 鏡逐漸變得更乾淨而承受到愈來愈乾淨流體洗滌。在此 方法中’任何不純物濃度最低之隱形眼鏡受乾淨一最好 是最乾淨流體流過。在較佳實施例中，隱形眼鏡分階段 移動且流體連續性或半連續性（例如以流體脈衝形式） 相對於隱形眼鏡移動以逆向流動；但，隱形眼鏡亦能相 15 對於流體之移動而連續性或半連續舞逆向移動或二者兼 具。在此方法中，隱形眼鏡較佳容納在一隱形眼鏡支撐 構件内。在較佳實施例中，隱形眼鏡係在托盤内，這些 托盤疊成一垂直堆。較佳在每一托盤内有複數個隱形眼 鏡，但此等托盤得作成僅支承單獨隱形眼鏡。垂直排列 20托盤内隱形眼鏡中之不純物濃度隨著隱形眼鏡朝托盤堆 頂部^推進而降低。流體在托盤堆頂部為乾淨的，而在托 盤堆底部連同南濃度不純物排出。 依據本發明之另一觀點，在此提出一種水合或洗滌 方法，其包括以下步驟：垂直排列（例如堆疊）複數個 25裝置支撐構件，每一構件有一空腔以容納一眼用裝置； (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 裝 上-口 · •線- 8 548443 A7 五、發明說明（ 及在一上部的裝置支撐構件之，空腔内注入流體，該流體 通過該等空腔向下流動。在較佳形式中，向下之流體流 受引導流至整疊托盤内之一下部的托盤空腔所容納的隱 形眼鏡。又，該等托盤能上下對正以在其間定義一流道。 依據本發明之另一觀點，在此提出一種水合或洗滌 隱形眼鏡之設備，其包括一個用以對具有低濃度不純物 之隱形眼鏡施加流體之設備，以及一個用以將所施加流 體引導至具有較高濃度不純物之其他隱形眼鏡的設備。 依據本發明之另一觀點，在此提出一種隱形眼鏡之-水合或洗滌設備’其包括複數個托盤，每一托盤容納一 隱形眼鏡，其中該等托盤為垂直堆疊，托盤之空腔排列 成一垂直柱。每一空腔有一開口許可流體流到該堆托盤 之下一個下部托盤空腔内以藉此清洗下部隱形眼鏡。本 發明之設備更具有一注入通道，流體經由該通道注入空 腔内以藉此流入該開口内及流到垂彦柱中下部托盤的空 腔内。 本發明之其他特質及觀點能由以下詳細說明及圖式 中查知。 5 10 15 ---^---------^裝--- (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 25 發明目的 ’本發明之一目的為提出一種用以讓眼用裝置水合且 /或移除不純物之新方法及設備。 另一目的為提出一種隱形眼鏡水合及/或洗滌方法 及設備’其中隱形眼鏡裝在向上移動之托盤内垂直堆 疊，有一流體在該托盤堆内向下流動以依序洗滌在該堆 548443 10 15 A7 五、發明說明（β ) 之下部托盤内的隱形眼鏡。該流體可自該堆頂部導入， 或者新流體或一不同流體組份可在過程令於不同點導 入0 另一目的為提出一種在一設備内有效洗滌眼用裝置 5 之方法及設備，其中流體自眼用裝置上方瀑流而下。 另 目的為利用相同流體水合並洗條垂直堆疊成柱 之眼用裝置。 另一目的為在水合及/或洗務階段内減少用水量。 另一目的為在水合及/或洗務階段内增加擴散率。' 另一目的為在隱形眼鏡進入及離開水合階段期間減 少隱形眼鏡搬動次數。 圖式簡單說明 藉由參照以下說明及圖式即能了解本發明之其他目 的及優點，圖式中： ---Λ------------- »>· (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 圖1為一依據本發明之水合設備之局部端視立面 圖，其中端壁有局部剖開以露出其内之複數個隱形眼鏡 支撐托盤的剖面圖； --線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 面圖； 25 圖2為經由圖1所示設備輸送之托盤的局部頂視平 r圖3為沿圖1中線3 —3之可用於本發明之頂部 插入件的頂視平面圖； σ °至 圖4為沿圖3中線4-4取得之剖面圖；及 圖5為違頂部隔室插入件之側面圖。 10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(2^797公£7 548443 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

C請先閱讀背面之注意事項^^寫本頁) 五、發明說明（^) .数佳實施例詳細^ 參照圖1，水合設備1 〇有一框 卢兮加h本士 才[木丨2，複數個托盤 #，料㈣為適當㈣如塑膠靠 5成。圖中綠出三個此等托盤2{M2"，2〇m: 應用中，框架内有—如所需之許多個托架，較佳為 至五十個托架相互堆疊。 圖2顯示一托盤20之局部頂視剖面圖 隔成-作W腔29陣列，較佳為m，亦即寬二長二。 此等空腔較佳為鑽彡一實心塑膠托盤材料。每一空腔_ 較佳為穿透該托盤之大致漏斗狀，以—較寬開 形眼鏡24。 在一較佳實施例中，以塑膠或其他適當材料製成之 隱形眼鏡支撐件25被支撐於托盤2〇之每一空腔2g内 (亦即置入托盤内、附加於托盤、或為托盤之一體部分）。 較佳隱开> 眼鏡支撐件2 5為一獨立槊膠片，其套在空腔 29之頂部内。隱形眼鏡支撐件25為一圓孔或凹口^其 支撐可置入一隱形眼鏡24之一前曲面鑄模22。另一種 選擇，隱形眼鏡得支撐於隱形眼鏡支撐件2 5内而無前曲 面鑄模22。在此實施例中，隱形眼鏡支撐件25可有另 一種形狀如碗狀或籠狀。 r具有一寬開口之流埠31作為較窄注入通道32之進 出口，該注入通道連接空腔29之中央部分28且其較佳 在隱开> 眼鏡支撐件2 5下方。流體注入通道3 2較佳為圓 枉形。一濾網36配置於空腔29内位在隱形眼鏡支撐件 25下方對正。濾網36攔裁任何可能自隱形眼鏡或前曲 10

15 20 25 11

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 •線· 548443 A7 ‘經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（ί〇 ) 面鑄模22洗落-之碎屑.以避免頂部隔室 口阻塞。一空腔29之底端與頂部隔室插入：；：嘴 頂部隔室插入件38較佳為一單獨加=通。 附加於每一空腔29的底部。在把盤垂直堆、膠片’其 例中，除最下端托盤以外之每一技 足較佳實施 38位在該托盤所承載之每-隱形眼鏡支V:隔25室:：件 正位於頂部隔室插入件38下方。 方且 如圖3至5所示’頂部隔室插入件38包 产 50，自該圓環延伸出複數個間隔指狀件42，指狀件=〜 界定開π 48。在水合過程中，頂部隔室插入^ 38正位 於前曲面鑄模22和隱形眼鏡上方。頂部隔室插入件38 具有凸形中央區44·頂部隔室插入件38更包含一錐形 管道47及-中央噴口 46,該噴口弓！導流體到下方托盤 20内的隱形眼鏡24。流體自隱形眼鏡24上方之中央喷 口 46流出，通過間隔指狀件42間之開口 48進入在隱形 眼鏡24附近及了方之通道21。隔室插入件38避免隱形 眼鏡2 4被洗出前曲面鑄模2 2和隱形眼鏡支撐件2 5之外 且同時引導流體流Λ，藉此保護隱形眼鏡24和前曲面鑄模 22。 该等托盤較佳為上下堆疊以形成一或多個隱形眼鏡 空腔垂直柱。較佳來說’托盤20之每一空腔29斑同一 托盤20之其他空腔29為實質隔絕。較佳流體在每一空 腔垂直柱内自頂部托盤流到底部托盤。舉例來說，經由 頂部托盤2 0 -1之流埠31和注入通道3 2注入空腔2 9内 的流體在空腔柱内依循托盤20-1,20-2和20_η之每一空 5 10 15 20 25 12 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） f請先閱讀背面之注意事 項»寫本頁： 裝 線· 548443 A7

請 先 閱 讀 背 面 >

頁 訂 線

548443 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（丨1) 部之切口 27係杳入每一托盤底部之互補結構或形狀如 邊26 〇 在隱形眼鏡24 (最好是在前曲面鑄模22内）被置 入一托盤20頂部之每一隱形眼鏡支撐件之後，然後 5將該托盤20導入托盤堆底部。在將托盤導入托盤堆底部 之前，該堆托盤係由位在最下部托盤2〇-n下方且附加於 框架12之數個閂件33支撐。在閂件33所支撐最下部托 盤20-n下方為供一托盤2〇_s插入之空間，此在圖中以 幻線顯不。在空間20-s下方為一以箭頭E代表之升降無 型機構。一旦托盤20-s正確定位在托盤2〇-n下方，升 降機構E將該托盤移入該堆内，使該堆托盤向上前進一 個位置。托盤20-n會移到圖中所示托盤2〇—n高度且頂 部托盤20-1轉位向上經由在托盤堆頂部上方且附加於 框架12之閂件23脫離該堆托盤。裝載著已完成水合及〆 或洗滌程序之隱形眼鏡的脫離粍盤燧後能移離設備1〇 並放入後續處理區如包裝區内。 該等閃件較佳為附加於該框架且較佳為彈菁加載閃 件，其支撐底部托盤以及移離該堆之托盤。該等閂件由 該升降機構引動，該升降機構將該堆㈣抬起到彈菁加 載閃件上方’然後該堆降下到閃件上。另一種選擇’，該 等阿件得位在托盤上且框帛12 β具備開口或雄 ^ 撐該堆托盤。在較佳模式中，該等問件為機械型，例如 =彈簧加載型。另-種選擇’得利用任意適當機構作支 樓亚使托盤20在設備1〇内向上移動。 在較佳實施例中，利用新鮮去離子水作為水 10 15 20 25 (請先閱讀背面之注意事項ml寫本頁) 裝 訂· --線· 14 548443 A7

I -ί* 1 I I β. 葡 · ϋ 1 ϋ < (請先閱讀背面之注意事項Λι^^.頁) . 線· 548443 A7 五、發明說明（〗y：) 處理時間減至最>、。排離托盤堆底部的水受引導通過一 熱交換器（圖中未示）以藉由加熱流入的水並對排出的 水於刖進到一排水槽或或回收槽之前作冷卻來回收能 量。 雖然以上說明本發明為將流體注入最上部托盤2 〇 内，在此同時亦能對較低之一或多個托盤注入流體。舉 例來說，相同流體或一些其他流體（例如溶劑）能注入 一下部托盤，如最下部托盤的上一個托盤，以洗滌最下 部托盤中之隱形眼鏡，該隱形眼鏡上有最多稀釋液或不- 純物。加到下部托盤的流體能取代來自上部托盤的流體 或作為額外添加。 本質上’放在一托盤20之前曲面鋒模22内的隱形 眼鏡24進入該堆底部且以定時逐步方式（timed an(1 stepped manner )移到該堆頂部。在此向上移動中，自 上部瀑流而下之流體去除隱形眼鏡上的殘餘稀釋 液、單體及/或不純物，且/或使隱形眼鏡24脫離鑄模 22。如此提供一種逆流溶濾系統。 高溫去離子水（流體）較佳受引導至在每一前曲面 鑄模22或隱形眼鏡支撐件25内的隱形眼鏡上。隱形眼 鏡脫離前曲面鑄模22大致與可溶濾物質之開始淬取為 同¥發生。隱形眼鏡持續暴露於前曲面鑄模22内的去離 子水會去除可溶濾物質，完成淬取。去離子水的流率受 到控制以確保在每一空腔内的去離子水容積有良妤的替 換作用。此流率對於維持下循該堆之低溫梯度亦相當重 要。注入的去離子水由注射管（hypodermic tubes)饋 5

I 10 15 線 20 25 本紙張尺度顧巾關家鮮（CNS)A4祕⑵0 χ 16 548443 A7 B7 五、發明說明（ff) 送且可為連續式或脈衝式（半連績式）饋送。脈衝流產 生仍能提供可接受結果之最少的水銷耗量。 將隱形眼鏡材料搬運減至最少使得隱形眼鏡產量和 良率有顯著提升。在本發明之較佳水合與洗滌設備及方 法中’ 一旦隱形眼鏡置入隱形眼鏡支撐件2 5内，隱形眼 鏡（或前曲面铸模）在過程中即不再搬運。 一般而言，每分鐘約有125至19〇毫升的蒸餾水以 脈衝或連續流形式供應以通過垂直水合堆水合及洗滌在 一空腔柱内之大約九十個隱形眼鏡。此方法及設備在+ ~ 分鐘之内提供可用隱形眼鏡，平均每個隱形眼鏡的蒸餾 水用水量少於40毫升。 本文所用、'注入（in jected )’’ 一詞意指一流體導入 該設備内，且包括受壓力之流體導入，以噴流、小滴、 連續及間歇流形式導入，以及以蒸氣形式導入之流體。 15 又，、'不純物（impurities)〃一詞爲指處理用化學藥劑 如可丨谷滤稀釋液及單體，其通常在打包前自製好之隱形 眼鏡被洗掉。 所有本發明書中提及之專利、專利申請案、公告案 及方法均併入作為參考。 本發明特質在一或多個圖式中顯示僅求便利而已， 每一特質可依據本發明與其他特質結合。習於此技藝者 會理解到其他實施例，這些實施例均在本發明申請專利 範圍之内。 事 10 訂 線 20 17 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

1. 548443

   經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 1 ·種水合或洗滌眼用裝置，之方法，其包含以下步 驟·將先前已導流至不純物濃度較低之眼用裝置的 流體引導至不純物濃度較高之眼用裝置。 2.如申請專利範圍第1項之方法，其t該流體逆向於 該眼用裝置之運動方向流動。 3·如申請專利範圍第β之方法，其中在該方法之内 大致維持5亥眼用裝置與該流體内的不純物水準間之 濃度梯度，以讓不純物大致連續流入該流體内。 4·如申請專利範圍第！項之方法，其中在該方法之内 大致維持該眼用裝置與該流體内的不純物水準間之 一濃度梯度以讓不純物大致半連續性流入該流體 内0 5. 如申請專利範圍第1項之方法，其更包含以下步驟在該方法中對不純物漢度最低之眼用裝置供應潔淨 流體。 6. 如申請專利範圍第！項之方法’其甲―或多個眼用 裝置裝在複數個設備支撐構件内。 7. 如申請專利範圍第w之方法，其中該等眼用裝置 為隱形眼鏡。 8.,如申請專利範圍第！項之方法，其中該等眼用裝置 為可多次使用鑄模。 9. -種水合或洗滌眼用裝置之方法，其包含以下步驟： (a) 排列複數個裝置支撐構件，每—構件有一空 腔裝著一眼用裝置；及 工 (b) 對該等裝置支撐構件中至少其一之空腔注入

   (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -H ' 一1 n ϋ n n n ϋ n I n n I ϋ n — ϋ ϋ n ϋ n ϋ ϋ n I n ϋ I n ϋ ϋ 1 I 六、申請專利範圍 流體，讓該流 空腔 體，通過該等裝置支撐構件之 10·如申請專利範圍第9項 項之方法，其包括逆向於該流 體移動該等裝置支撐構件之額外步驟。 11·如申請專利範圍第9項 ’其中該等裝置支撐 構件為垂直排列且每一 衣置叉搽構件的空腔相互疊 加對準以在其間定義一流道。 其中該等裝置支撐 其中該等裝置支撐 12·如申請專利範圍第9項之方法 構件為隱形眼鏡支撐構件。 13·如申請專利範圍第9項之方法 構件為托盤。 如申請專利範圍第13項之方法，其包括以下額外步 驟：在把盤堆之最下部托盤下方插入—托盤，將該 托盤堆包含新插入托盤在内向上移動並自該托盤堆 移開最上部托盤。 / Κ如申請專利範圍帛14$之方法，其中該流體為注入 該托盤堆之最上部托盤之空腔内。 16.如申請專利範圍第15項之方法，其中該流體為注入 該最上部托盤下方之至少另一空腔内。 17.,如申請專利範圍第15項之方法，其令該眼用裝置為 一隱形眼鏡。 18.如申請專利範圍第17項之方法，其包括以下額外步 驟：在每一托盤上提供一頂部隔室插入件並利用該 頂部隔室插入件將流體流朝裝在一下部托盤内之隱 形眼鏡引導。 ___ 19 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 548443 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 19·如申請專利範圍第I?項之方法，其中每一托盤具有 複數個空腔，每一空腔容納一隱形眼鏡，該等托盤 之複數個空腔相互間為疊加對準以定義相似之複數 個空腔柱。 2 0·如申請專利範圍第1 〇項之方法，其中該眼用裝置為 一可多次使用鑄模。 21· —種眼用裝置之水合或洗滌設備，其包含： (a) 用以對一具有低濃度不純物之眼用裝置施加 一流體的裝置；及 ' (b) 用以將所施加流體引導至具有較高濃度不純 物之其他眼用裝置的裝置。 22·如申請專利範圍第21項之設備，其中該流體於該設 備内逆向於該等眼用裝置移動。 23·如申明專利範圍第22項之設備，其中在該設備内大 致維持該目艮用裝置與該流體内不純物水準間之一 濃度梯度，以讓不純物大致連續流入該流體内。 4 ·如申吻專利範圍第2 2項之設備，其中在該設備内大 致維持該眼用裝置與該流體内的不純物水準間之一 濃度梯度，以讓不純物大致半連續性流入該流體内。 25·,如申請專利範圍第21項之設備，其更包含複數個裝 置支樓構件以支承一或多個眼用裝置。 26.如申請專利範圍第25項之設備，其中該等裝置支撐 構件為隱形眼鏡支撐構件且該等眼用裝置為隱形眼# 鏡。 27·如申請專利範圍第21項之設備，其更包含： (請先閱讀背面之注意事項再本頁) ¾ 士 -線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 j適 度 |張 ί紙 ί本 10 2 /IV 格 規 A4 fNS) (C j準 標 家 0 I國 20 公 97 548443 六 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 複數個裝置支樓構件，每一支撐構件有一空腔裝 載一眼用裝置，該等支撐構件為垂直排列；、 其中該導流裝置為在該空腔内之一開口，i許可 流體流到一下部裝置支撐構件之一空腔内;;^洗蘇 空腔内眼用裝置，且 其中該流體施加裝置包含一注入通道，流體經由 該注入通道注入該等裝置支撐構件至少其一之一 空腔内。 28·如申清專利範圍第27項之設備，其中該等裝置支搶 構件為托盤，其垂直堆疊讓該等空腔排列成一垂直 柱。 2 9 ·如申明專利範圍第2 8項之設備，其中每一空腔與來 自該托盤之其他空腔之流體流隔絕。 30·如申請專利範圍第28項之設備，其更包含一升降機 構以使該堆托盤向上移動。户 31·如申請專利範圍第30項之設備，其中該導流裝置更 包含：附加於每一空腔之一頂部隔室插入件，該頂 部隔室插入件引導流體流到托盤堆内之一下部托盤 的眼用裝置上和周圍。 32.如申請專利範圍第31項之設備，其中該眼用裝置為 / 一隱形眼鏡。 33·如申請專利範圍第31項之設備，其中該眼用裝置為 一可多次使用鑄模。 21 本紙張尺度適用申國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公爱） ·.----------------^ J (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)