TW546332B - Plasma surface treatment of silicone hydrogel contact lenses with a flexible carbon coating - Google Patents
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Description
546332
發明領域 本务明關於石夕氧燒(silic〇ne)水凝膠隱形眼鏡的電聚表 =處理#別是本發明關於一種藉以含碳層塗覆在隱形眼 ^ 接著藉弘漿或化學處理該碳層以賦予其親水性改良 邊L开y眼叙表面以增加其親水性的方法,其中該含碳層係 由具有4至8個碳原子之二晞烴化合物所製成的。本發明也 關於具有藉此方法所製得之表面的隱形眼鏡。 背景 由矽舉烷材料所製得的隱形眼鏡已被研究許多年了。此 ㈣被細分成兩個主要類型’即為水凝膠和非水凝 \非水/级膠不會吸收少量的水,反之水凝膠可吸收且可 、隹持水A平衡狀態。水凝膠一般具有大於約5重量%之 水含量,、較普遍的是介於10至約80重量%之間。水凝膠 P:形眼鏡傾向具有相當疏水性、不可溼潤的表面。因此, k些熱磺技者充分了解對賦予矽氧烷隱形眼鏡表面親水性 以改善其生物.可互.容性或被眼中的眼淚流體弄澄性的需 求。、因此,改善隱形眼鏡的配戴舒適度是必要的。在連續 配戴型的叙片例子中’冑片早晚佩戴,鏡片的舒適度和因 此其表面是特別重要的。而且,連續配戴型的鏡片表面不 /、必須針對舒it度作設計,而且也免因連續佩戴不適 合材料所製得的鏡片而引起的眼角膜浮腫、發炎和並他 利的影響。 η 已讓矽氧烷鏡片接受電漿表面處理以改善其表面性質, 如可賦予表面更高親水性、抗沈積性、抗癢性和類似性 -4 - 546332 A7 ----- 一 ___ B7 五、發明説明(2 ) 貝 般電漿表面處理的實例包括讓隱形眼鏡表面送入下 列物質所形成的電漿+ :惰性氣體或氧(參見,例如美國 f 利編號4,G55,378 ; 4,122,942 ;和 4,214,G14);各種烴類 單體(參見,例如美國專利編號4,143,949);和氧化劑和烴 類的組合物,如水和乙醇(參見,例如w〇 95/〇46〇9和美^ 專利編號4,632,844)。連續的電漿表面處理也是已知的, 如這些包括先以惰性氣體或氧處理,接著以烴電漿處理之 表面處理方法(參見,例如美國專利編號4,3i2,5M和 5,326,5辱4)。 ’ 、發給Peyman等人之美國專利編號4,3 12,575揭示一種在該 鏡片上提供一隔離層的方法,其係藉矽氧烷或聚胺基甲酸 酯鏡片在烴環境存在下進行一種發光放電(電漿)程序,接 著在流體放電過程中讓該鏡片置於氧中,因此增加該鏡片 表面的親水性。Peyman等人教導此方法應在無氧的存在下 進行,而且以如甲烷或丁烷等烷類為佳。相反地,發給 Yanagihara之美國4,632,844教導在氧存在下以各種烴類^ 行隱形眼鏡之電漿處理。Yanagihara包括丁二烯(實例工* 和申請專利範圍第3項)的使用,但實例中並無說明其可應 用於矽氧烷材料中。W〇 94/29756提及一種氧/甲烷/氧^ 重步驟方法以表面處理一 RGP(硬式透氣)矽氧烷鏡°片,= 無提供任何參數。 雖然此表面處理已被揭示以供改善矽氧烷隱形眼鏡的表 面性質用,但結果不一致而且有問題,在一些例子中阻礙 高Dk碎氧院水凝膠鏡片材料的商業化。雖然碎氧院水凝 -5-
546332 A7 —~~^一_ —…―
五、發明説明(3 ) 膠鏡片可在未水合狀態下以電漿處理之,但 膠相對物,該水凝膠接著在水合時會膨脹=畜余^非水凝 二::覆變得複雜。事實上,水合作用通常會造成鏡= 私脹大約1 〇至約2 0 %,視鏡片的水分冬曰 巧 的膨脹和接下來進行的熱壓處理,一 、兄片 式,可能有不利的影響,甚至會除去所需;用層== 上的損失,即一種相當於脫層的現象。 貝 所以’希望提供-種表面上具有可承受接下來所進行的 水合和熱壓處理之光學澄清、親水性塗層的錢燒水凝膠 形眼鏡。在連續佩戴時可高度透氧的矽氧烷水凝膠鏡片 例子中’極希望形成-種水可澄潤和牢固的塗層,因此佩 戴孩鏡片時是安全又舒適,而且可連續(晚上和白天)佩戴 此鏡片一週或更久而不會對眼角膜有不利影響。 發明概述 本發明是關於矽氧烷水凝膠隱形眼鏡之表面處理。特別 是本發明關於一種藉由具有4至8個碳原子之二烯烴化合物 所製成的含碳層塗覆在隱形眼鏡上,然後藉由另一次的電 桌處理氧化該含碳層以提供其表面含氮或含氧基,或者使 其具有第二層親水性聚合物塗層而改良該隱形眼鏡表面以 增加其親水性的方法。本發明也關於一種具有此種方法所 製得之表面塗層的隱形眼鏡。 在本發明的一個具體實例中,該方法包括(丨)以一原子 化氧或氮之氧化源進行初電漿氧化,(2 )無氧或氮之氧化 源的存在下以二烯烴進行電漿處理,和(3 )接下來以一氧 -6 - I紙張尺度適用中S S家鮮(CNS) A4規格(咖X 297公董) 546332 A7 B7
裝 町
^46332 五 發明説明(5 2物,該電聚易蚀刻此鏡片表面,形成自由基和氧化” =當此種氧化只被用於表面處理時,其^ =更高的親纽;但是,此表面處理的涵蓋== 、儿王而且矽虱烷材料的整體性質在該鏡片 :月顯可見(如連接鏡片表面的彻分子鏈可旋轉= 朝表面外側露出疏水芙) 、 、 層於孩鏡片表面上,因此在下層石夕氧燒材料和鏡片表= 屏障。將竣層沈積在鏡片上形成 /入严水氧化將賦予該表面更高的親水性。 本 本發明的目的是提供水凝膠鏡片—種較 發明方法包括下列步驟: 根據 成=二:表面進行電漿氧化反應以在鏡片表面上形 成3乳或II的耳能基進而促進接下來碳塗層的黏著; (b)以具有4至8個碳原子之二婦煙化合物所製 ^體使氧化,的鏡片表面在無氧的存在下進^電㈣合沈 知,因此在鏡片表面上形成一碳層;和 聚 潤 (〇令其進行第二次電漿氧化或塗覆第二層親水性 :物塗層以賦予該碳塗層表面親水性和眼淚流體可澄 電 U) 因此,先讓水凝膠鏡片表面進行電漿氧化,接著進行 漿聚合以沈積-碳層,職進行最終電漿氧化。在步 中,、初電漿氧化製傷欲結合碳層的鏡片表面,其中該 是接下來在步驟(b)中藉電漿聚合沈積在鏡片上的:二 層或塗層相當完全地覆蓋在下層矽氧烷材料上。步驟心 -8 - 本紙痕尺度適用中國國家標準A4規格(21〇><297公g 546332 五 發明説明(6 A7 B7 =驟⑻之碳塗層親水性。因此,當該鏡片最後水2 而〆、中磺鏡片-般會脹大1〇至約2 , : 的;初電漿氧化可在-氧化媒介所組, :兄中几成。在此使用“氧化,,或‘‘氧化作用,,一詞 去只的思我’其不限於指與氧結合,而是意指與陰電性元 2合,纟中陰電性元素一般包括氧、氮和硫。此種鏡片 ^化FT在氧化媒介如含氧或氮的化合物所組成的環境中 元成’其中含氧或氮的化合物:氨、空氣、水、過氧化 物、、〇2(氧氣)、甲醇、丙酮、燒基胺等或其適合的組合物 (精惰性氣體進行電漿處理,接著暴露於—氧化環境中也 可更間接地氧化該表面)。利用13_56百萬赫之放電頻率 時,電漿處理是適合在介於10和1〇〇〇瓦之 至_瓦,約u—rr,較佳為以幻·〜力 下,母側進行約丄〇秒至60分鐘,若連續處理這些側面 時三較佳係約1-10分鐘。最好相當“強,,的氧化電漿被用在 初氧化中,如使用吹過5 %過氧化氳溶液的周遭空氣。 初表面處理之後,令氧化過的鏡片表面在一烴環境中進 行電漿聚合反應以在該鏡片上形成一聚合物(含碳的)表 面。該烴在聚合過程中必須呈氣態,而且其沸點在一大氣 壓下低於約200°C。具有4至8個碳原子,較佳為4至6個碳 原子的二烯烴被發現具有出乎意料之外的優點。也可使用 各種含有少量其他烴類之組合物,其包括飽和和不飽和烴 、發明説明(
五 類。如技術上p Ar, ΛΛ » 仅W工匕知的,此類 只要他們可形成電衆,而且“:=取代或經取代, 發現主要利用具有至 碳:燒和乙炔。但是,已 塗声被笋㈣ΓΖ 的塗層。較具可撓性的 合時明顯脹大的“高水,,鏡片是極理想或特 3·56百禺赫的無線電步 彻瓦下約30秒至1Gr^/ 瓦,較佳為2〇_ 不將J 1〇刀鉸或更久,較佳為3 0秒至3分鐘從 沈積下來。如有經驗的技術者所了解的,其他電漿 條件也適合,例如利用脈衝電漿。 若所提供的烴塗層太厚’其可能造成朦朧狀態,形成一 種混濁的鏡片。而且,由於鏡片和塗層之間的膨服差異, 厚的塗層可此干擾鏡片水合使鏡片裂開。因此,由XPS 刀析所測彳于的烴層厚度應小於約5 〇 〇埃,較佳為介於2 5和 500埃之間,最佳為5〇至2〇〇埃。 待烴層沈積在鏡片上之後,必需賦予該鏡片可溼潤性。 在本發明的一個具體實例中,藉黏接官能基於該鏡片上, 最好使該碳層進行另一次電漿氧化反應,因此在該鏡片上 形成一親水性表面而賦予該鏡片親水性。此氧化係利用一 種如空氣、過氧化氫、〇2 (氧氣)、氨、烷基胺和類似物或 其組合物之氧化媒介的氣體組成物,雖然以相當弱的氧化 媒介為佳,如〇2或水。烴層的氧化一般是在i3.56百萬赫的 放笔頻率在1〇〇至500瓦和o.i-i.〇 t〇rr進行一段適合的時 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332
間,最好是約1-10分鐘。在本發明的 # t /隹伞贫A的另一個具體實例中, :與沿著鏈有反應性基之已形成聚合物進行接枝聚丄 :反應’以形成卜層覜水性聚合物塗層的方式可賦予該 石反層親水性,例如,如盘并因_ X批L, 〃此冋時入檔和共同審理中所揭示 的’其-般被定為美國專”請案編號__(備審案件 標號嶋75和m764),在此將其整個併人以作為參考。 本發明對應用在連續佩戴型的矽氧烷水凝膠上特別有 利。水凝膠是為人所熟知含有水合、交聯聚合物系統的材 料種類丨,纟中該系統所包含的水係處於平衡狀態。此種材 料通常是由至少一種含矽氧烷的單體和至少一種親水性單 體之混合物聚合而製得。含矽氧烷單體或親水性單體可作 為父聯劑(交聯劑被定義為具有多個可聚合官能基的單 體),或者使用另一種交聯劑《可用於形成矽氧烷水凝膠 <可應用的含矽氧烷單體單位在技術上是為人所熟知的, 而且在美國專利編號4,136,250;4,153,641;4,740,533; 5,034,461 ; 5,070,215 ; 5,260,000 ; 5,310,779 ;和 5,358,995 中提供許多實例。 可應用的含矽氧烷單體單位實例包括巨大的聚矽氧烷基 燒基(甲基)丙烯酸單體。以下列式I表示一個巨大的聚石夕 氧烷基烷基(甲基)丙婦酸單體實例··
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(9 其中: & X 指-0-或-NR-; 各R18獨立地指氫或甲基; 各R W獨立地指低碳^數燒基、苯基或下式表示之基團 .一卜R丨9.
Rl9· 其中夺Rl9,獨立地指低碳數fe基、苯基;和 h是1至1 〇。 一些較佳的巨大單體是甲基丙稀氧基丙基參(三甲基石夕 燒氧基)矽烷或叁(三甲基矽烷氧基)矽烷基丙基甲基丙婦 酸酯,有時相當於TRIS和叁(三曱基矽烷氧基)矽烷基丙基 乙烯基胺基甲酸酯,有時相當於TRIS_VC。 此巨大單體可與矽氧烷巨單體共聚合,其中矽氧垸巨單 體是一種以不飽和基將該分子兩個或多個末端保持的聚 (有機矽氧燒)°發給Deichert等人之美國專利編號 4,153,641揭示,例如各種不飽和基,其包括丙烯氧基或甲 基丙晞氧基。 另一類代表性的含矽氧烷單體包括含矽氧烷之乙晞基碳 酸酯或乙婦基胺基甲酸酯單體如:丨,3 _雙[4 -乙缔基氧基 裂基氧基-丁 - 1 -基]四甲基_二矽氧烷;3 _ (三甲基矽烷基) 丙基乙烯基碳酸酯;3 -(乙烯基氧基羰基硫基)丙基_ [叁 (三曱基矽烷氧基)矽烷];3 叁(三曱基矽烷氧基)矽烷基] -12- Ϊ紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董^-------- 546332 A7 ^__B7 五、發明説明(1〇 ) ~"" 丙基乙婦基胺基甲酸啤3 -[叁(三甲基矽烷氧基)矽烷基] 丙基埽丙基胺基甲酸酯;3-[叁(三甲基矽烷氧基)矽烷基] 丙基乙婦基碳酸酯;第三丁基二甲基矽烷氧基乙基乙婦基 石炭酸酿;三甲基矽烷基乙基乙婦基碳酸酯;和三甲基碎燒 基甲基乙婦基碳酸酯。 另一類含矽氧烷單體包括聚胺基甲酸酯-聚矽氧烷巨單 體(有時也相當於預聚物),其可能如傳統胺基甲酸酯彈性 物般具有硬-軟-硬嵌段物。矽氧烷胺基甲酸酯的實例被揭 示於許多刊物中,其包括Lai, Yu-Chin,“巨大的聚矽氧烷 基燒基甲基丙烯酸酯在聚胺基甲酸酯-聚矽氧烷水凝膠中 的角色’’’應用聚合物科學期刊,卷6 〇,1193-1 199頁 (1996)。PCT所公開的申請案標號w〇 96/31792揭示此類 單體的實例,在此將其揭示整個併入以作為參考。矽氧燒 胺基甲酸酯單體的其他實例可以式11和III作代表: (II) E(*D*A*D*G)a*D*A*D*E’ ;或 (III) E(*D*G*D*A)a*D*G*D*E,; 其中: D指燒基二基團、烷基環烷基二基團、環烷基二基團、 方基二基團或烷基芳基二基團,其中該二基團具有6至30 個碳原子; G指烷基二基團、環烷基二基團、烷基環烷基二基團、 芳基二基團或烷基芳基二基團,其中該二基團具有1至4〇 個奴原子而且在其主鏈上包含醚、硫或胺連接基; *指一個胺基甲酸酯或脲連接基; -13-
546332 A7 B7 五、發明説明(11 a是至少1 ; A指式I V之二價聚合物基: (IV) .宇 i—— k 3 其中: 各Rs獨立地指具有1至1 0個碳原子之烷基或經氟取代的 烷基,其中該烷基可在碳原子之間包含醚連接基; m ’是至少1 ;和 p是一個可提供400至10,000之一部份重的數目; 各E和E ’獨立地指一個以式VI代表的可聚合不飽和有機 基團: (VI)
(CH2)w~(X}x— (7)ι—(Ar)y-~R25- 其中: r23是氫或甲基; R24是氫、具有1至6個碳原子的烷基或-CO-Y-R26基,其 中 Y是-0-、-S-或-NH-; R25是具有1至1 0個碳原子的二價伸烷基; R26是具有1至1 2個碳原子的烷基; X 指-CO-或-0C0-; -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) ^46332 A7 B7 發明説明( 2 指-〇·或-NH-; A r指一個具有6至3 0個碳原子的芳族基團; 〜是〇至6 ; X是0或1 ; y是0或1 ;和z是osi。 ~個較佳的含石夕氧燒胺基甲酸酯單體是以式(V11)來代 表: (VII) 9 ο 〇 ^〇CN 'R27—Nt〇CH2CH2OCH2CH20(!:i CH3 ch3 Η - R27-NC0(CH2)fn--^i—0--^ i一(CHjpfp ύΗ3 l6n3 p
H
H
H Ε”一〇γΝ—R27—N(p〇CH2CH2〇CH2CH2〇cA—R27〜Ac〇 其中m是至少1,最好是3或4,a是至少1,最好是1,p 是—個可提供400至10,000之一部份重的數目,最好是至 少3 〇,除去異氰酸基之後,r27是二異氰酸基的二基團, 如異佛爾酮二異氰酸酯的二基團,和各E,,是一個以下式 表示之基團: ch3 入^〇^ch2— 0 另一類代表性的含矽氧烷單體包括氟化單體。如美國專 利編號4,954,587、5,079,319和5,010,141中所描述的,此類 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A*規格(21〇 χ 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(13 單體已被用於氟梦氧燒水凝膠的形成以降低在由其所製成 之隱形眼鏡上沈積物的累積。如美國專利編號5,387,662和 5,321,108中所描述的,具有特定氟化側基,即之 含梦氧垸單骨畫的使用被發現彳改善親水性和含梦氧二單體 單位之間的互容性。 ^ 示 在一個本發明較佳具體實财,—㈣氧^凝膠材料 包含(大邵份,即在被共聚合的單體混合物中)5至5〇重量 % ’較佳為1〇至25重量%之一種或多㈣氧垸巨單體,里5 土 75重丨置%,較佳為30至6〇重量%之一種或多種聚矽氧 烷基烷基(甲基)丙婦酸單體和1〇至5〇重量%,較佳為2〇 土 4 0重f %义規水性單體。親水性單體的實例包括,但不 限於含乙晞系不飽和内醯胺之單體如N_乙埽基吡咯严 酉同、甲基丙晞酸和丙埽酸;經㈣酸取代的醇類,如^ 基乙基甲基丙婦㈣和2_祕乙基丙晞酸酿和丙晞齡胺^ 如甲基丙埽驢胺和N,N_二甲基丙埽酿胺、乙埽基碳酸㉛ 或乙埽基胺基甲酸S旨單體如美國專利編號5,G7m丨5中所^ 示的,和噁唑烷酮單體如美國專利編號4,91〇,277中所揭 的。其他親水性單體將為熟諳此技者所了解的。 上述矽氧烷材料僅為舉例,其他可用於作為根據本發明 因塗覆而受益的基質材料已被揭示於各種刊物中,而且持 、’ί發展其在隱开> 眼鏡和其他材料元件上的用途。 利用各種慣用技術可製造應用本發明之隱形眼鏡以產生 —種具有理想後和前鏡片表面的成形物件。旋轉澆鑄方法 被描述於美國專利編號3,4〇8,429和3,66〇,545 ;較好的靜 -16- M6332 五、發明説明(14 工操作。操:::Γ的熟化之後,經常接著進行機械加 如一余如、,、疋’、種具有理想最終構型的隱形眼鏡。 量單二二::範園4,555,732揭示-種方法,其中過 ΐ:::: 模型中藉旋轉輪化形成-種具有前 的成形物件。接著利用車床裁剪已熟: 的障心浐/面以提供具有理想厚度和後鏡片表面 械加工操作,例如整理邊緣刀=表面 <後,可進行其他機 製造呈理想最終形狀之鏡片後,希望在整理 、 餘溶劑自鏡片中除去。這是因 單= =2機:釋:以減少單體混合物聚合所產二 =刀離、’而且降低反應聚合混合物的玻璃轉化溫度, 序更有效而且最後產生-較均句的聚合產物。 別產物足夠的均勾性與碎氧垸水凝膠特 触八二i 含珍歧單體的内含物易與親水性共單 月豆刀離。週合的有機稀釋劑包括,例如單羥基 cl0直鏈脂族單羥醇類如正己醇和正壬 A ^ 6- ^ 吁為符隹;二醇類如 乙二醇單乙基趟;嗣類 如甲基乙基酮;酯類如庚酸甲基酯;和烴類如 1 有機稀釋劑具有足夠揮發性以幫助其在或近周遭;^ =1=的物件中被除去。-般而言,該稀;劑係; 佳。 i0/o 土 5〇重量%為特 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210:297公釐)—" -- - 546332 五 、發明説明(15 :後將已熟化鏡片中,溶劑除去,並 力或在真空下蒸發而完成。可广:在或近週遭屢 該稀釋劑的所需時於 輪度以縮短蒸發 力條件將视如稀釋,和=去除步驟所需時間、溫度和壓 同而變化,其單體成份的揮發性等因素之不 體實例,去除H w此技者決定。根據—較佳具 6。至㈣。在:用的溫糾 -系列加教循 t:箱中於惰性氣體或真空下,使用 後之已孰化物化溶劑去除效率。稀釋劑去除步驟 不超過重量含不超過20重量%之稀釋劑,較佳為 除去有機稀釋劑之後,接下 愔浞i隹仁她U, 丨Θ快2甲釋出並視 二該機械加工步驟包括,例如磨光 作;:: 或表面。一般而言’此種機械加工操 =可在自模型零件中釋出物件之前或之後進行。最好利用 片、空每:將鏡片自模型中取出藉以自該模型中乾釋出此鏡 m利用機械鑷子裝置將此鏡片移至第二組真空鎮子 並將其放在旋轉表面上以磨滑其表面或邊緣。然後將此 知片翻面以操作該鏡片的另一面。 脫模/機械加工操作之後,接著如上所述,此鏡片根據 —1明進仃表面處理,其包括電漿聚合以形成一碳層,接 著黏接親水性反應聚合物鏈。 電漿處理包括令放電在-低壓下’最好以無線電頻率 (一般為13.50百萬赫)通過一氣體。如上所述,此放電被 氣態原子或分子所吸收,因此形成一可與隱形眼鏡表面作 18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(16 ) 用的電漿。 由低能量放電開始乏後,電漿中所存在之活躍自由電子 間的碰撞產生離子、激態分子和自由基。此類物種一旦形 成可在氣相中與其本身以及與其他基態分子反應。此電漿 處理可被視為一種視能量而定的程序,其包含活躍的氣體 分子。為了使化學反應發生在鏡片表面上,需要所需物種 (元素或分子)的電荷態和粒子能量等項。無線電頻率電漿 一般產生活躍物種之分佈。一般而言,“粒子能量”相當於 活躍物釋之所謂的波茲曼型能量分佈平均。在一種低密度 電漿中,電子能力分佈可能與維持電漿的電場強度相對於 放電壓力(E / p )之比例有關。,如熟諳此技者可了解的, 電漿能量密度P是隨瓦數、壓力、氣體流速等而變。電漿 技術的背景資料包括下列文獻:A.T. Bell,Proc. Inti. Conf. Phenom. Ioniz. Gases,“不平衡電漿中的化學反 應”,19-33(1977) ; J. M. Tibbitt,R. Jensen,A. T\ Bel卜 Μ· Shen,巨分子,“ 一種電漿聚合的動力學模型’’,^_,648-653(1977) ; J· M. Tibbitt,M. Shen,A· T. Bell,巨分子科 學_化學,“電漿聚合烴類之結構特徵”,A10 ^ 1623-1648(1976) ; C. P. Ho,H. Yasuda,J. Biomed,Mater· Res.,“塗覆在矽氧烷隱形眼鏡表面之甲烷電漿聚合物的 超薄塗層”,12_,919-937(1988);H.Kobayashi,A.T. Bell,Μ· Shen,巨分子,“飽和和不飽和烴類之電漿聚 合 ”,2_,277-283(1974) ; R. Y. Chen,美國專利編號 4,143,949,3月1 3日,1979年,“將親水性塗層放在疏水 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(17 ) 性隱形眼鏡上的方法”;和H. Yasuda,H. C. Marsh,M. 0. Bumgarner ,N. Morosoff,應用聚合物科學期刊,“在一無電發光放 電中聚合有機化合物VI.乙炔與非慣用的共單體’’,, 2845-2858(1975),在此將這些文獻併入以為參考。 以電漿技術領域中此先前研究為基礎,可了解改變壓力 和放電能量對電漿改善速度的影響。此速度一般隨壓力的 增加而降低。因此,當壓力增加時,維持電漿的電場強度 相對於氣體壓力之比例,E/p值降低,因此造成平均電子 能量的降低。電子能量上的降低因而造成所有電子-分子 碰撞程序之速率係數的降低。增加壓力的另一個結果是電 子密度降低。此提供當壓力固定不變時,電子密度和能量 應呈線性關係。 事實上,將呈未水合態之隱形眼鏡放在一個電發光放電 反應槽(如一個真空槽)中可處理該隱形眼鏡表面。此反應 槽是商業上可取得的。該鏡片被固定在該槽中鋁盤上(其 當作一電極)或其他用來調整鏡片位置的支撐裝置。可表 面處理鏡片兩侧之特定支撐裝置的使用在技術上是已知且 可用於本發明中。下列實例提供申請者用於矽氧烷鏡片上 或其他醫學元件上形成塗層之最佳模式。 表面處理之後,可萃取鏡片以自該鏡片上除去殘留物。 一般在隱形眼鏡的製造中,部份單體混合物並未完全被聚 合。此來自聚合程序之不完全聚合材料會影響光學澄清度 或可能對眼睛有害。殘留物質可能包括未被先前溶劑去除 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332
發明説明 操作完全除去的溶劑、來自單體混合物之未反應單體、來 自聚合程序以副產物形式存在的寡聚物,或甚 / 用模型遷移至鏡片上的添加劑。 〜所 從已聚合隱形眼鏡材料中萃取此殘留物質的慣用方法包 括以一種醇溶液萃取數小時(以萃取疏水性殘留物質= 著以水萃取之(以萃取親水性殘留物質)。因此,部份醇萃 取溶液保留在已聚合隱形眼鏡材料之聚合網狀結構中,而 且應在此鏡片被安全地和舒適地佩戴在眼睛上之前,從浐 片材料’將其萃取出來。自鏡片中萃取出醇類可藉利二; 水清洗數小時可達到。萃取應儘可能完全,因為自鏡片^ 取出殘留物質進行得不完全可能對鏡片的使用壽命有不利 影響。此類殘留物也可能干擾光學澄清度或鏡片表面所需 的均勻親水性而影響鏡片的效果和舒適度。重要的是所二 擇的萃取溶液對鏡片的光學澄清度不能有任何不利的影 響。主觀上了解光學澄清度為目視檢查鏡片時所見到= 清度。 ^ 萃取之後,該鏡片進行水合作用,其中以水、經緩衝的 食鹽水或類似物完全水合該鏡片。當此鏡片最後水合時 (其中鏡片一般膨脹10至約20%或更高),該塗層仍維二不 動而且黏在鏡片上,而提供一種已發現可抵抗脫層的牢 固、親水性塗層。 水合作用之後,該鏡片經過化妝品檢查,其中受過訓練 的檢查員檢查隱形眼鏡的澄清度和無任何缺點如孔洞、粒 子、氣泡、刮痕、眼淚存在。檢查最好在放大ι〇χ下進 -21 - 546332 A7 B7 五、發明説明(19 )
行。該鏡片通過化妝品檢查步驟之後’可將此鏡片裝在’ 不論小玻璃瓶、塑膠氣泡袋或其他容器中以維持該鏡片於 一無菌狀態供消費者使用。最後,包裝過的鏡片進行殺 菌,如熟諳此技者可了解的,其中殺菌可在一個慣用熱壓 器中,最好在一空氣加壓殺菌循環,有時相當於一種空 氣-水蒸汽混合循環中完成。最好此高溫高壓殺菌是在1 〇〇 °C至200 °C下進行10至120分鐘。殺菌之後,可在儲存前 再檢查一次已殺菌鏡片的鏡片尺寸。 以下利實例進一步說明本發明的目的和優點,但這些實 例中所引用之特定物質和其量以及其他條件和細節不應受 本發明過度的限制。 實例1 此實例揭示一種用於下列實例之代表性矽氧烷水凝膠鏡 片材料。將此材料的調配物提供於下面表1中。 表1 成备 份重 TRIS-VC 55 NVP 30 V2D25 15 VINAL 1 正-壬醇 15 Darocur 0.2 著色劑 0.05 町
線 上面係指下列材料: -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(20 ) TRIS-VC 叁(三甲基矽烷氧基)矽烷基丙基乙缔基胺基 甲酸酯 NVP N -乙晞基吡咯烷酮 V2D25 如先前美國專利編號5,534,604中所描述之含 矽氧烷的乙晞基碳酸酯 VINAL N -乙烯氧基羰基丙氨酸
Darocur Darocur-1173,U V 引發劑 著色劑 1,4 -雙[仁(2 -甲基丙婦氧基乙基)苯基胺基] ; 蒽醌 實例2 下面表2代表一種用於下列實例之聚胺基甲酸酯矽氧烷 水凝膠調配物。
裝 表2 成份 份重 胺基曱酸酯交聯樹脂 55 TRIS 20 DMA 25 UV吸收劑 0.5 正·己醇 12 Irgacure-819 0.5 IMVT 150 ppm
線 上面係指下列材料: TRIS 叁(三甲基矽烷氧基)矽烷基丙基甲基丙 婦酸酯 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(21 )
DMA 胺基甲酸酯 Irgacure-819 IMVT N,N -二甲基丙錦τ醯胺 如先前美國專利編號5,034,461中所描述 之含矽氧烷的交聯樹脂 一種U V引發劑 一種著色劑,即1,4 -雙[4 - ( 2 -甲基丙晞 氧基乙基)苯基胺基]蒽醌 實例3 下面表3代表一種用於製造下列實例之鏡片的聚胺基甲 酸酯矽氧烷水凝膠調配物。 表3 成份 份重 P2〇20 20 TRIS 40 DMA 40 正-己醇 5 DAROCUR-1173 0.5 IMVT 150 ppm 上面係指下列材料: TRIS 叁(三曱基矽烷氧基)矽烷基丙基甲基丙晞酸 酯 DMA N,N -二甲基丙晞醯胺 F2D20 如先前美國專利編號5,374,662和5,496,871中 所描述之含矽氧烷的交聯樹脂 Darocur 一種UV引發劑 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332
IMVT —種著色.劑,即1,4-雙[4-(2·甲基丙烯氧 基乙基)苯基胺基]Ε醌 實例4 此實例說明-種根據本發明表面改良矽氧烷水凝膠鏡片 的方法。該鏡片是由上面實令"之材料(相當於Baiamc〇n A)所製成的。在根據本發明進行鏡片表面改良之前,一 種典型利用此材料製備隱形眼鏡的方法如下。由她⑴識 A調配物所製得之矽氧烷水凝膠鏡片是從聚丙婦模型中澆 鑄模製两成的。在惰性氮氣環境下,將45微升調配物注入 一乾淨聚丙晞内凹模型半邊並以互補的聚丙烯外凸模型半 邊覆於其上。在70 psi的壓力下擠壓該模型半邊,並在uv 光(6-11毫瓦/平方公分,由Spectr〇nic 所測得)的存 在下熟化混合物約1 5分鐘。另外將此模型曝露在υν光下 約5分鐘。移開頂端模型半邊,然後將鏡片置於強制空氣 烘箱中維持在60 °C下3小時以除去正-壬醇。接著,在 23 00 rpm下以6 0克的力將鏡片邊緣磨1 〇秒使成球狀。溶 劑去除和萃取之後,在處理前乾燥該鏡片。將鏡片置於 Branson RF電漿單元中(13.56百萬赫)一盤上,其中該盤可 將鏡片升南至兩電極之間並讓氣流圍繞鏡片。將電聚單元 中的空氣排掉直到壓力達到1·〇 torr。在1·0 t〇rr^,將氨 導入該槽中約1 ·〇分鐘,在1〇〇瓦下2〇·〇秒以點燃電聚。停 止氨流,然後在0.3 torr下,導入丁二缔約丨· 〇分鐘。在 1 0 0瓦下6 0秒以點燃丁二婦電漿。最後,停止丁二婦流, 然後在1.0 torr下’再導入氣約1.0分鐘。在1 〇〇瓦下2 〇秒 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(23 ) 以點燃另一次氨電漿。(使用從Rochester Welding供應商 所取得的氨和丁二晞i體,其純度為99.9 + %。)然後讓該 鏡片在HPLC級的水中平衡,加熱至80°C、冷卻、置於硼 酸鹽緩衝液中並高溫高壓殺菌之(在12 1 °C下,一循環約3 0 分鐘)。 為了說明第二組電漿條件,在規模較大的第二次運轉 中,Balafilcon鏡片被置於一 Branson RF電漿單元中(13.56 百萬赫)並排掉電漿單元中的空氣直到壓力達到0.2 torr。 將氨送;入該槽中。在450瓦下約60.0秒以1 55 seem的流速 點燃電漿。停止氨流,然後導入丁二烯約1.0分鐘。在325 瓦下6 0秒以200 seem的流速點燃丁二晞電漿。最後,停止 丁二烯流,然後再導入氨。在450瓦下60秒以155 seem的 流速點燃另一次氨電漿。然後讓該鏡片在HPLC級的水中 平衡,加熱至80°C、冷卻、置於硼酸鹽缓衝液中並高溫高 壓殺菌之(在121°C下,一循環約30分鐘)。 實例5 由實例3之矽氧烷反式丁晞二酸酯材料所製得的鏡片是 從聚丙烯模型中澆鑄模製而成的,而且直接從電漿槽或在 所下所示整個加工操作完成後分析該鏡片。在電漿處理之 前該鏡片預先經過萃取,而且電漿處理後,所有經完整加 工過的鏡片在小玻璃瓶中以高溫高壓殺菌之。該電漿槽係 入上所描述的。在進行任何電漿處理之前,先將所有鏡片 抽至至少0.5 torr之真空度。為了比較,甲烷和丁二晞電漿 聚合皆被用於鏡片上。 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)
裝 訂
線 546332
表面改艮包括-在空氣/水/過氧化物環境(空氣吹過一過 氧化物溶液m.Ot⑽和200瓦下5分鐘所構成之初氧化電 ,、。接著,烴塗層在150瓦和〇·5 t〇rfT以每側5分鐘而沈 ,於其上。碳塗覆之後,以手lab system電 暈系統進行電表面處理以賦予該表面親水性。樣品在空氣 中大氣壓下接梵電暈處理。此程序係利用2 5 0瓦之最高 瓦數或20,〇〇〇伏特之高峰電極電壓(A c高峰在2 5千赫)。 此私暈產生強烈的臭氧味道。電暈條件是每側以級數6處 理3秒,。將1/2英吋(1·27公分)球電極固定在離表面ι/4 英吋( 0.635公分)之已塗覆鏡片的中心處。電暈處理之 後,以水(HPLC級的水,72.4達因/公分)將聚合物表面完 全弄溼。 超過1 0 0埃(透明)厚的碳膜被沈積在鏡片基質上。此沈 %係利用甲燒或丁二婦氣體被加速並強迫進入鏡片表面引 發碳沈積而達成。此沈積背後的想法是完全覆蓋此基質而 不使任何下面基質的化學性質顯露在丨00埃(xps儀器的採 樣深度)最外面。XPS的數據是在物理電子[PHI],5600型 的X -射線光電分光計(XPS )中取得。該儀器具有阿波羅工 作站’其包含PHI 8503A,4.0A版軟體。XPS顯示電漿反 應所沈積的碳塗覆於矽氧烷水凝膠基質上。該塗層是以脂 族碳為主的組成物,其只含微量或不含任何氧(O.i-2.5% 原子組成物)。利用甲烷和丁二烯之電漿的XPS數據係表 示於下面表4中。 表4 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 瑪332 A7 B7
、發明説明(25 ) 猎原子力顯微鏡(AFM)測量該基質的形態。經甲烷電漿 碳塗覆:表面影像(對了與丁二晞比較)顯示其完全被塗 覆。沈積後,如原子力顯微鏡所測得的,該碳塗層是均句 且呈現低粗糙值(在5G x5(m米大小上的均方根粗糙度是5 奈米)。以碳塗覆的程序中出現複製許多原基質的特色。 該薄膜厚度變化至任何所需值。製得高達〇1微米的碳塗 層。經由氧電漿的使用可能增加基值得黏著力。 發現來自甲烷的碳塗層被放置在水凝膠材料表面上時不 會膨脹。當此表面在水、食鹽水、硼酸鹽緩衝鹽水或磷酸 鹽緩衝鹽水中膨脹時,其原子力顯微鏡(AFM)測量顯露 出一破裂表面。但是,若電漿槽中的甲烷氣體被丨,3-丁二 雄取代,當水凝膠基材在水中膨脹時,該塗層固定不變。 忒1,3 - 丁二缔必須膨脹超過4 〇 %才會完全裂開並弄破塗 層。此高可撓性使該塗層可被置於無水隱形眼鏡上,然後 讓該塗層隨基材而膨脹,因此獲得一較”牢固”的表面。塗 -28 本紙银尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 ---- —___B7 五、發明説^ 寒 — -- =的硬:可經由厚度和添加氫、氦至基質電漿氣體中而變 、d供最佳判力。進㈣外_時,此塗層被判定 、、、、、々而且不會在美各上或功能上降低鏡片的性能。 實例6 此試驗被設計成研究丁三埽塗層厚度對表面地形、基本 化學和鏡片澄清-混濁比例的影響。胺基甲酸醋鏡片是由 實例2之材料所製得的,而且在四種不同的丁二婦電漿條 件下經加工和電漿處理過:3〇秒、6〇秒、9〇秒和18〇 秒。 s >去除溶劑和萃取之後可獲得胺基甲酸酯,並在處理前風 乾 <。將此鏡片放在一 Brans〇n RF電漿單元(13 56百萬赫) 的盤子上,其中該盤可將鏡片升高至兩電極之間並讓氣流 圍繞在鏡片周圍。排掉電漿單元中的空氣直到壓力達到 0·15 torr。在0.26 torr下以155 Sccm的速度將氨送入該槽中 約1 _0分鐘,然後在450瓦下點燃電漿約1 ·〇分鐘。停止氨 流,然後在0.25 torr下以200 sccm的速度將丁二烯送入約 1·〇分鐘。在325瓦下點燃丁二烯電漿約30秒、6〇秒、90 秒或180秒。最後,停止丁二婦流,然後在〇·26 t〇rr下以 1 55 seem的速度再將氨約1 · 〇分鐘。在45〇瓦下再次點燃氣 電槳約1.0分鐘。將經電漿塗覆的鏡片放入一 1 · 〇 % (重量/ 體積)無水乙腈並讓其泡脹至平衡。然後使此鏡片在去離 子水中平衡並在高溫高壓殺菌之(在121 °C下,一循環約30 分鐘)。 各樣品係利用低解析光譜圖(〇_ i丨00 eV )分析之以鐘定樣 品表面上所存在的元素(1 〇-丨00埃)。這些由低解析測量掃 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公羡) 546332 A7
t:::出::素中可獲得高解析光譜圖。從高解析光譜圖 物。以儀器傳送函數和有興趣之軌域的 原子截面感受這些光電料下的面積之後,從其可算 :組成。測試此鏡片的前和後側。XPS結果係表示於下面 表5中。
標準偏差 **表5中最後一欄是以碳1 s電子為基礎的塗層厚度估計 值。 X P S結果顯示鏡片的塗層厚度隨電漿曝露時間而增加, -30- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332 A7
,前側的沈積速度比後側快。在各塗覆條件之後評估镜片 :澄清度/混濁度’所有鏡片皆通過評估,除了 =、 =過之鏡片。在相和彳㈣之間所見収«度上的声 *被認為可能是圍繞鏡片幾何結構(即内凹對外凸)之氣; =造成的壓力差之故,其中該壓力差與電裝㈣有:: ^ ·〇刀1里和i·5分鐘丁二埽電漿處理過 的叙片具有可接印,3)或較佳透明_混濁比例’而經三分 ,處理過的鏡片以U評比失敗。當塗層達到一:界 厚度時库生透明/混濁議題,在乙腈中膨脹時,塗層變得 極為起伏和/或該表面變成較㈣。因此,料相同的調 配物,當塗層厚度變得較厚時’在此例中胺基甲酸醋的澄 清度降低。此臨界厚度可能因各調配物而異,雖然有一趨 勢水έ量車乂间的材料,臨界塗層厚度越低。此現象發生 係因為水含量較高的鏡片在乙腈中膨脹得越大,造成此表 面比具有相同塗層厚度之水含量較低的鏡片粗糙。 - Α例7 由上面實例3之調配物所製得的反式丁晞二酸酯鏡片可 在除去溶劑和萃取、乾燥後獲得。將此鏡片放在一 Branson RF電漿單元(13.56百萬赫)的盤子上,其中該盤可 將鏡片升高至兩電極之間並讓氣流圍繞在鏡片周圍。排掉 電漿單元中的空氣直到壓力達到1〇 t〇rr。在1〇 t〇rr下將 氨送入該槽中約1·0分鐘,然後在1〇〇瓦下點燃電漿約2〇 〇 秒叙。停止氣流,然後在〇.3 torr下將丁二婦送入約1 .〇分 鐘。在100瓦下點燃丁二婦電漿約3 〇秒。最後,停止丁二 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332 A7 ____ B7 五、發明説明( 烯流,然後在1·〇 t〇n>下再將氨送入約1〇分鐘。在1〇〇瓦下 再次點燃氨電漿約2 0 i少。然後讓該鏡片在HPLC級的水中 平衡’加熱至80°C、冷卻、置於硼酸鹽緩衝液中並高溫高 叙囷之(在121C下,一循環約30分鐘)。以光電分光計 (XPS )分析鏡片。控制組鏡片可在溼加工之後乾燥而獲 得。此鏡片不再進行任何其他加工程序。控制組鏡片的低 解析光譜測定碳、氧、矽和氮。在表面上有65.8%仏〇.3 碳、17.7%+Λ〇·2 氧、5·7%+/-〇·6 氮和 10·8%+/-0·3矽。結果 表示於下面表6中。 表6 」ci Γ〇] [N1 [Sil [Nal 控制組 平均 65.8 17.7 5.7 0.0 10.8 0.0 --—-- Sd 0.3 0.2 0.6 0.0 0.3 0.0 然後該鏡片在100瓦和1.0 torr下以氨電漿處理20.〇 秒。低解析XPS光譜測定碳、氧、矽和氮。在表面上有 以.00/。〜·1·1 碳、18.8%+/-〇.7 氧、9·0%+/-〇.8 氮和 1〇·2%+/·〇·8 石夕與技制組比較,氮和氧含量增加,碳含量降低和硬含 量維持不變。結果表示於下面表7中。 -32- 本紙張尺度適种_家鮮(CNS) Α4規格(21GX297公釐) 546332
表7
I2LJNL
[FI 0.0 0.0 [Si] 10.2 0.8 [Na] 0.0 0.0 以XPS刀析經氨/丁二婦/氨電衆處理過的反式n交 酉H :匕鈿片不再進行任何其他加工程序。低解析光譜 測足碳、氧、石夕和氮。在表面上有78·2%+/·2·3碳、7.8%仏 1·6乳、11·5%+Μ.4氮和2·7%+Μ·5碎。χρ8數據顯示石夕 含量㈣及氮㈣含量增加’其指出含氮/碳的塗層已被 塗覆在矽反式丁烯二酸酯的基質表面上。2.7%矽的測定 值=碳層厚度置於5和6奈米之間,只要碎是由下面表面 U得的、、二氨/ 丁二烯/氨電漿處理過的反式丁烯二酸酯鏡 片的XPS結果表示於下面表&中。 表8 [Cl [0] [N] [FI rSil ΓΚΤοΊ 碳/NH3 平均 78.2 7.8 11.5 0.0 L叫 2 7 LJNa| π π 電漿 Sd 2.3 1.6 1.4 0.0 1.5 0.0 .......a m·1❿少於導疋衣不於圖1中。此控制 組鏡片可在溼加工之後乾燥獲得的並接受分析。原子力顯 微術(AFM)影像為5〇平方微米並將前側(鏡片前側)表= 於左邊和後側表示於右邊。兩表面的鏡片表面地形顯示從 所使用的工具所複製的線(從工具所獲得的線製造形成鏡 片的模型)。前側也有凹洞,其可從工具或氣泡被置於= -33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(31
裝 體混合物中。前側鏡片表面的均方根(RMS )粗糙度是41 奈米+/-ο·ι,後側的粗糙度是4·7奈米+/_0·3。一般 澆鑄模型鏡片具有從2-25奈米之RMS粗糙度。已塗覆親 水性聚合物且加工完全之反式丁烯二酸酯(一經氨、丁二 烯和氨電漿處理的反式丁埽二酸酯鏡片浸在一親水性聚合 物)的AFM影像表示於圖2中。該親水性聚合物是由二甲 基丙婦驢胺(DMA )和乙烯基_ 4,4 -二甲基_ 2 ·噚唑啉· 5 -酮 (:ΥϋΜ〇)(;80%/20)。aFM影像再次為5〇平方微米並將前 側表示P左邊和後側表示於右邊。該影像是朝鏡片中心拍 攝。該地形圖看起來像是具有一些塗層相關特色和光迂迴 <應力/擴張特色(波長為〇·25_〇5〇微米之波狀表面)的控 制組鏡片。當該塗層變得較厚時,沿著邊緣出現較嚴重的 迂迴地形。此迂迴地形是碳塗層在乙衛溶劑中膨脹而造成 的。前側鏡片表面的均方根(11]^8)粗糙度是8·〇奈米+/_ 3.4,後側的RMS粗糙度是5 3奈米+/_2 2,以低於25奈 米為佳。 .. ^ 貫例8 此實例說明根據本發明之隱形眼鏡的表面改良,其使用 單體混合物進行接枝聚合以提供第二層親水性聚合物塗層 的實例。直接從電漿槽和完成如下所示之所有加工操作之 訂
後分析實例3(矽氧烷反式丁稀二酸酐,水合時含36%的水) ^鏡片。所有經完整加工過之鏡片在小玻璃瓶中進行高溫 $壓殺菌。含有N,N-二甲基丙婦醯胺(DMA)的溶液a可 藉溶解3克蒸餾過的DMA於3⑽毫升純水中而製得。溶液b • 34 - 546332 A7 B7 五、發明説明(32 ) 是由溶解2克DMA和0.01克乙二醇二甲基丙烯酸酯 (EGDMA)於200毫升减水中而製得。溶液c是藉溶解1克 DMA和〇 · 3克SPE (磺酸基貝泰(suif〇betain) N,N-二甲基甲 基氧基乙基-N-(3-磺酸基丙基)_銨貝泰)於1 00亳升純水中 而製得。製備0·2% Vazo 64 (重量/體積,下文中的w/v)之 乙醇落液,並將2 0 0微升加入各鏡片玻璃瓶中。氧化還原 對是1 0 % (重量/體積)過硫酸銨溶液和5 % (重量/體積)四 亞甲基二胺溶液。將50微升之各溶液加入各鏡片樣品中。 隔夜進P所有處理。打開樣品玻璃瓶以經硼酸鹽緩衝的鹽 水取代處理溶液,接著進行一循環高溫高壓殺菌。 下面表9提供樣品編號、相對處理和χ p s數據。在各 例中處理1 〇各鏡片。錢行任何處理之前,萃取這些鏡 片並乾燥之。 -35- 546332 A7 B7 五、發明説明(33 表9 樣品 編號 電漿處理 後處理 觸媒 溫度 側(A 或P) Ols Nls Cls Si2p Nals 1 NH2/丁二晞 DMA 無 80°C A 18 6.8 70.7 4.5 0 2 nh2/丁二晞 DMA 無 80°C A 15.6 5.1 72.8 6.5 0.1 3 nh2/丁二晞 DMA 無 80°C P 18.2 6.6 67.9 7 0 4 NH2/丁二烯/〇2 DMA 無 80°C A 16.7 3.9 73.9 5.5 0 5 NH2/丁二烯/〇2 DMA 無 80°C A 19.6 4.5 66 9.8 0.1 6 NH2/丁二烯/〇2 DMA 無 80°C P 32.9 6.9 50.6 4.6 2.6 7 NH2/丁二烯/〇2 DMA/ EGDMA 無 80°C A 15.7 4.7 73.3 6.1 0.1 8 NH2/丁二烯/〇2 DMA/ EGDMA 無 80°C A 16.3 4.6 75 4 0 9 NH2/丁二晞/〇2 DMA/ EGDMA 無 80°C P 15.5 4.1 75.9 4.6 0.2 10 NH2/丁二烯 DMA Vazo 64 80°C A 17.4 5.8 71.9 4.8 0.2 11 NH2/丁二晞 DMA Vazo 64 80°C A 20.7 6.1 64.9 8.2 0.1 12 NH2/丁二烯 DMA Vazo 64 80°C P 21.5 6.5 62.2 9.6 0.2 13 NH2/丁二婦 DMA 氧化還原 室溫 A 14.5 7.1 77.3 0.9 0.2 14 NH2/丁二稀 DMA 氧化還原 室溫 A 15.8 7.7 74.6 1.4 0.5 15 nh2/丁二烯 DMA 氧化還原 室溫 P 16.7 5.5 70.5 7.3 0.1 16 nh2/丁二晞 DMA/ EGDMA 氧化還原 室溫 A 15.3 7.8 74 2.7 0.1 17 nh2/丁二烯 DMA/ EGDMA 氧化還原 室溫 A 18.5 7.6 71 2.1 0.9 18 nh2/丁二稀 DMA/ EGDMA 氧化還原 室溫 P 16.3 5.8 71.5 6.4 0 19 nh2/丁二烯 DMA/ SPE 氧化還原 室溫 A 18.9 7.2 69.8 3.5 0.1 20 nh2/丁二晞 DMA/ SPE 氧化還原 室溫 A 17.2 7.2 70.1 5.4 0.2 21 nh2/丁二烯 DMA/ SPE 氧化還原 室溫 P 18 5.4 68.1 8.2 0.2 -36- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明(34 ) 樣品 編號 電漿處理 後處理 觸媒 溫度 側(A 或P) Ols Nls Cls Si2p Nals AA nh2/丁二烯 無 無 室溫 A (平均) 4.86 1 93.1 1 na AB nh2/丁二晞 無 無 室溫 P (平均) 8.42 2.2 84.7 4.7 na BA NH2/丁二晞/〇2 無 無 室溫 A (平均) 19 3.4 74 3.3 na BB NH2/丁二烯/〇2 無 無 室溫 P (平均) 23.1 4.9 66.1 4.8 na 在本文教示之下,可能對本發明做許多改良與改變。因 此,應f里解本發明可在申請專利範圍之範圍内實施,而不 是在本文特定敘述中實施。 -37- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)
Claims (1)
- 546332申請專利範野 A8 B8 C8 D8 — i.:種處料㈣切膠隱形眼鏡表面 法包含下列連續步碱: 女八宁a万 ⑷令鏡片表面進行電漿氧化反應; 有效氧的存在下,讓氧化過的鏡片表面在本 有4至8個碳原子之— 叫杜口 庫以%成50 = ^ 的烴環境中進行電漿聚合反 【以心成、5〇 土 500埃厚的碳層;和 ⑷令該表面進行電漿氧化或 9合物塗層可賦予步驟⑻之碳層親水性。見水性氷 •根據申凊專利範圍第pg 甘士止 面盥k或氮的/、 其中步驟(b)之鏡片表 /、虱次虱的虱化源進行電漿氧化,藉 製造親水性官能基藉以形成—親水性表面。“ ’根據申請專利範圍第1項之 甘丄也 面可藉由自由基聚合靜黏:法’人其:步驟⑻之鏡片表 合物將親水性聚合物應基之預形成聚 至鏡片表面上的互補反=基上上。’其h反應性基鍵結 4. 專利範園第〗項之方法,其中步驟 至1…壓力下以1^^ 5. 根據申請專利範圍第1Jf之方法,其 ”反應是獨立地在-含氧或氮的環境中進行,4): :Γ'選”少-種下列環境:周遭空氣、氧氣::; 化虱、虱、水和其組合。 、乳 6·根據中請專利範圍第!項之 ::應是在含有異— 本紙張尺度適用準(CNS) A4_H(^X297公董了 裝 訂
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