TW546332B

TW546332B - Plasma surface treatment of silicone hydrogel contact lenses with a flexible carbon coating

Info

Publication number: TW546332B
Application number: TW089108923A
Authority: TW
Inventors: Paul L Valint Jr; George L Grobe Iii; Daniel M Ammon Jr; Joseph A Mcgee
Original assignee: Bausch & Lomb
Priority date: 1999-05-20
Filing date: 2000-05-10
Publication date: 2003-08-11
Also published as: KR20020005752A; ZA200109526B; AU4841300A; BR0011612A; AU761212B2; HK1046420B; ES2212772T3; DE60006667D1; KR100594414B1; CN1351631A; WO2000071611A1; HK1046420A1; CA2373552C; EP1187871A1; DE60006667T2; EP1187871B1; MXPA01011851A; CA2373552A1; US6213604B1; CN1117799C

Description

546332

發明領域本务明關於石夕氧燒（silic〇ne)水凝膠隱形眼鏡的電聚表 =處理#別是本發明關於一種藉以含碳層塗覆在隱形眼 ^ 接著藉弘漿或化學處理該碳層以賦予其親水性改良邊L开y眼叙表面以增加其親水性的方法，其中該含碳層係由具有4至8個碳原子之二晞烴化合物所製成的。本發明也關於具有藉此方法所製得之表面的隱形眼鏡。背景由矽舉烷材料所製得的隱形眼鏡已被研究許多年了。此㈣被細分成兩個主要類型’即為水凝膠和非水凝 \非水/级膠不會吸收少量的水，反之水凝膠可吸收且可、隹持水A平衡狀態。水凝膠一般具有大於約5重量％之水含量，、較普遍的是介於10至約80重量％之間。水凝膠 P:形眼鏡傾向具有相當疏水性、不可溼潤的表面。因此， k些熱磺技者充分了解對賦予矽氧烷隱形眼鏡表面親水性以改善其生物.可互.容性或被眼中的眼淚流體弄澄性的需求。、因此，改善隱形眼鏡的配戴舒適度是必要的。在連續配戴型的叙片例子中’冑片早晚佩戴，鏡片的舒適度和因此其表面是特別重要的。而且，連續配戴型的鏡片表面不 /、必須針對舒it度作設計，而且也免因連續佩戴不適合材料所製得的鏡片而引起的眼角膜浮腫、發炎和並他利的影響。 η 已讓矽氧烷鏡片接受電漿表面處理以改善其表面性質，如可賦予表面更高親水性、抗沈積性、抗癢性和類似性 -4 - 546332 A7 ----- 一 ___ B7 五、發明説明（2 ) 貝般電漿表面處理的實例包括讓隱形眼鏡表面送入下列物質所形成的電漿+ :惰性氣體或氧（參見，例如美國 f 利編號4，G55,378 ; 4，122,942 ;和 4,214，G14);各種烴類單體（參見，例如美國專利編號4，143,949);和氧化劑和烴類的組合物，如水和乙醇（參見，例如w〇 95/〇46〇9和美^ 專利編號4,632,844)。連續的電漿表面處理也是已知的，如這些包括先以惰性氣體或氧處理，接著以烴電漿處理之表面處理方法（參見，例如美國專利編號4,3i2,5M和 5,326,5辱4)。 ’ 、發給Peyman等人之美國專利編號4,3 12,575揭示一種在該鏡片上提供一隔離層的方法，其係藉矽氧烷或聚胺基甲酸酯鏡片在烴環境存在下進行一種發光放電（電漿）程序，接著在流體放電過程中讓該鏡片置於氧中，因此增加該鏡片表面的親水性。Peyman等人教導此方法應在無氧的存在下進行，而且以如甲烷或丁烷等烷類為佳。相反地，發給 Yanagihara之美國4,632,844教導在氧存在下以各種烴類^ 行隱形眼鏡之電漿處理。Yanagihara包括丁二烯（實例工* 和申請專利範圍第3項）的使用，但實例中並無說明其可應用於矽氧烷材料中。W〇 94/29756提及一種氧/甲烷/氧^ 重步驟方法以表面處理一 RGP(硬式透氣）矽氧烷鏡°片，= 無提供任何參數。雖然此表面處理已被揭示以供改善矽氧烷隱形眼鏡的表面性質用，但結果不一致而且有問題，在一些例子中阻礙高Dk碎氧院水凝膠鏡片材料的商業化。雖然碎氧院水凝 -5-

546332 A7 —~~^一_ —…―

五、發明説明（3 ) 膠鏡片可在未水合狀態下以電漿處理之，但膠相對物，該水凝膠接著在水合時會膨脹=畜余^非水凝二：：覆變得複雜。事實上，水合作用通常會造成鏡= 私脹大約1 〇至約2 0 %，視鏡片的水分冬曰巧的膨脹和接下來進行的熱壓處理，一、兄片式，可能有不利的影響，甚至會除去所需;用層== 上的損失，即一種相當於脫層的現象。貝所以’希望提供-種表面上具有可承受接下來所進行的水合和熱壓處理之光學澄清、親水性塗層的錢燒水凝膠形眼鏡。在連續佩戴時可高度透氧的矽氧烷水凝膠鏡片例子中’極希望形成-種水可澄潤和牢固的塗層，因此佩戴孩鏡片時是安全又舒適，而且可連續(晚上和白天)佩戴此鏡片一週或更久而不會對眼角膜有不利影響。發明概述本發明是關於矽氧烷水凝膠隱形眼鏡之表面處理。特別是本發明關於一種藉由具有4至8個碳原子之二烯烴化合物所製成的含碳層塗覆在隱形眼鏡上，然後藉由另一次的電桌處理氧化該含碳層以提供其表面含氮或含氧基，或者使其具有第二層親水性聚合物塗層而改良該隱形眼鏡表面以增加其親水性的方法。本發明也關於一種具有此種方法所製得之表面塗層的隱形眼鏡。在本發明的一個具體實例中，該方法包括（丨）以一原子化氧或氮之氧化源進行初電漿氧化，（2 )無氧或氮之氧化源的存在下以二烯烴進行電漿處理，和（3 )接下來以一氧 -6 - I紙張尺度適用中S S家鮮(CNS) A4規格(咖X 297公董) 546332 A7 B7

裝町

^46332 五發明説明（5 2物，該電聚易蚀刻此鏡片表面，形成自由基和氧化” =當此種氧化只被用於表面處理時，其^ =更高的親纽;但是，此表面處理的涵蓋== 、儿王而且矽虱烷材料的整體性質在該鏡片 :月顯可見(如連接鏡片表面的彻分子鏈可旋轉= 朝表面外側露出疏水芙）、、層於孩鏡片表面上，因此在下層石夕氧燒材料和鏡片表= 屏障。將竣層沈積在鏡片上形成 /入严水氧化將賦予該表面更高的親水性。本本發明的目的是提供水凝膠鏡片—種較發明方法包括下列步驟：根據成=二：表面進行電漿氧化反應以在鏡片表面上形成3乳或II的耳能基進而促進接下來碳塗層的黏著； (b)以具有4至8個碳原子之二婦煙化合物所製 ^體使氧化，的鏡片表面在無氧的存在下進^電㈣合沈知，因此在鏡片表面上形成一碳層；和聚潤 (〇令其進行第二次電漿氧化或塗覆第二層親水性 :物塗層以賦予該碳塗層表面親水性和眼淚流體可澄電 U) 因此，先讓水凝膠鏡片表面進行電漿氧化，接著進行漿聚合以沈積-碳層，職進行最終電漿氧化。在步中，、初電漿氧化製傷欲結合碳層的鏡片表面，其中該是接下來在步驟(b)中藉電漿聚合沈積在鏡片上的：二層或塗層相當完全地覆蓋在下層矽氧烷材料上。步驟心 -8 - 本紙痕尺度適用中國國家標準A4規格(21〇><297公g 546332 五發明説明（6 A7 B7 =驟⑻之碳塗層親水性。因此，當該鏡片最後水2 而〆、中磺鏡片-般會脹大1〇至約2 ， : 的;初電漿氧化可在-氧化媒介所組, :兄中几成。在此使用“氧化，，或‘‘氧化作用，，一詞去只的思我’其不限於指與氧結合，而是意指與陰電性元 2合，纟中陰電性元素一般包括氧、氮和硫。此種鏡片 ^化FT在氧化媒介如含氧或氮的化合物所組成的環境中元成’其中含氧或氮的化合物：氨、空氣、水、過氧化物、、〇2(氧氣）、甲醇、丙酮、燒基胺等或其適合的組合物 (精惰性氣體進行電漿處理，接著暴露於—氧化環境中也可更間接地氧化該表面）。利用13_56百萬赫之放電頻率時，電漿處理是適合在介於10和1〇〇〇瓦之至_瓦，約u—rr，較佳為以幻·〜力下，母側進行約丄〇秒至60分鐘，若連續處理這些側面時三較佳係約1-10分鐘。最好相當“強，，的氧化電漿被用在初氧化中，如使用吹過5 %過氧化氳溶液的周遭空氣。初表面處理之後，令氧化過的鏡片表面在一烴環境中進行電漿聚合反應以在該鏡片上形成一聚合物（含碳的）表面。該烴在聚合過程中必須呈氣態，而且其沸點在一大氣壓下低於約200°C。具有4至8個碳原子，較佳為4至6個碳原子的二烯烴被發現具有出乎意料之外的優點。也可使用各種含有少量其他烴類之組合物，其包括飽和和不飽和烴、發明説明（

五類。如技術上p Ar, ΛΛ » 仅W工匕知的，此類只要他們可形成電衆，而且“：=取代或經取代，發現主要利用具有至碳：燒和乙炔。但是，已塗声被笋㈣ΓΖ 的塗層。較具可撓性的合時明顯脹大的“高水，，鏡片是極理想或特 3·56百禺赫的無線電步彻瓦下約30秒至1Gr^/ 瓦，較佳為2〇_ 不將J 1〇刀鉸或更久，較佳為3 0秒至3分鐘從沈積下來。如有經驗的技術者所了解的，其他電漿條件也適合，例如利用脈衝電漿。若所提供的烴塗層太厚’其可能造成朦朧狀態，形成一種混濁的鏡片。而且，由於鏡片和塗層之間的膨服差異，厚的塗層可此干擾鏡片水合使鏡片裂開。因此，由XPS 刀析所測彳于的烴層厚度應小於約5 〇〇埃，較佳為介於2 5和 500埃之間，最佳為5〇至2〇〇埃。待烴層沈積在鏡片上之後，必需賦予該鏡片可溼潤性。在本發明的一個具體實例中，藉黏接官能基於該鏡片上，最好使該碳層進行另一次電漿氧化反應，因此在該鏡片上形成一親水性表面而賦予該鏡片親水性。此氧化係利用一種如空氣、過氧化氫、〇2 (氧氣）、氨、烷基胺和類似物或其組合物之氧化媒介的氣體組成物，雖然以相當弱的氧化媒介為佳，如〇2或水。烴層的氧化一般是在i3.56百萬赫的放笔頻率在1〇〇至500瓦和o.i-i.〇 t〇rr進行一段適合的時 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332

間，最好是約1-10分鐘。在本發明的 # t /隹伞贫A的另一個具體實例中， :與沿著鏈有反應性基之已形成聚合物進行接枝聚丄 :反應’以形成卜層覜水性聚合物塗層的方式可賦予該石反層親水性，例如，如盘并因_ X批L，〃此冋時入檔和共同審理中所揭示的’其-般被定為美國專”請案編號__(備審案件標號嶋75和m764)，在此將其整個併人以作為參考。本發明對應用在連續佩戴型的矽氧烷水凝膠上特別有利。水凝膠是為人所熟知含有水合、交聯聚合物系統的材料種類丨，纟中該系統所包含的水係處於平衡狀態。此種材料通常是由至少一種含矽氧烷的單體和至少一種親水性單體之混合物聚合而製得。含矽氧烷單體或親水性單體可作為父聯劑（交聯劑被定義為具有多個可聚合官能基的單體），或者使用另一種交聯劑《可用於形成矽氧烷水凝膠 <可應用的含矽氧烷單體單位在技術上是為人所熟知的，而且在美國專利編號4，136,250;4，153,641;4,740,533; 5,034,461 ; 5,070,215 ; 5,260,000 ; 5,310,779 ;和 5,358,995 中提供許多實例。可應用的含矽氧烷單體單位實例包括巨大的聚矽氧烷基燒基（甲基）丙烯酸單體。以下列式I表示一個巨大的聚石夕氧烷基烷基（甲基）丙婦酸單體實例··

本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明（9 其中： & X 指-0-或-NR-; 各R18獨立地指氫或甲基；各R W獨立地指低碳^數燒基、苯基或下式表示之基團 .一卜R丨9.

Rl9· 其中夺Rl9,獨立地指低碳數fe基、苯基；和 h是1至1 〇。一些較佳的巨大單體是甲基丙稀氧基丙基參（三甲基石夕燒氧基）矽烷或叁（三甲基矽烷氧基）矽烷基丙基甲基丙婦酸酯，有時相當於TRIS和叁（三曱基矽烷氧基）矽烷基丙基乙烯基胺基甲酸酯，有時相當於TRIS_VC。此巨大單體可與矽氧烷巨單體共聚合，其中矽氧垸巨單體是一種以不飽和基將該分子兩個或多個末端保持的聚 (有機矽氧燒）°發給Deichert等人之美國專利編號 4，153,641揭示，例如各種不飽和基，其包括丙烯氧基或甲基丙晞氧基。另一類代表性的含矽氧烷單體包括含矽氧烷之乙晞基碳酸酯或乙婦基胺基甲酸酯單體如：丨，3 _雙[4 -乙缔基氧基裂基氧基-丁 - 1 -基]四甲基_二矽氧烷；3 _ (三甲基矽烷基）丙基乙烯基碳酸酯；3 -(乙烯基氧基羰基硫基）丙基_ [叁 (三曱基矽烷氧基）矽烷]；3 叁（三曱基矽烷氧基）矽烷基] -12- Ϊ紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董^-------- 546332 A7 ^__B7 五、發明説明（1〇 ) ~"" 丙基乙婦基胺基甲酸啤3 -[叁（三甲基矽烷氧基）矽烷基] 丙基埽丙基胺基甲酸酯；3-[叁（三甲基矽烷氧基）矽烷基] 丙基乙婦基碳酸酯；第三丁基二甲基矽烷氧基乙基乙婦基石炭酸酿；三甲基矽烷基乙基乙婦基碳酸酯；和三甲基碎燒基甲基乙婦基碳酸酯。另一類含矽氧烷單體包括聚胺基甲酸酯-聚矽氧烷巨單體（有時也相當於預聚物），其可能如傳統胺基甲酸酯彈性物般具有硬-軟-硬嵌段物。矽氧烷胺基甲酸酯的實例被揭示於許多刊物中，其包括Lai, Yu-Chin，“巨大的聚矽氧烷基燒基甲基丙烯酸酯在聚胺基甲酸酯-聚矽氧烷水凝膠中的角色’’’應用聚合物科學期刊，卷6 〇，1193-1 199頁 (1996)。PCT所公開的申請案標號w〇 96/31792揭示此類單體的實例，在此將其揭示整個併入以作為參考。矽氧燒胺基甲酸酯單體的其他實例可以式11和III作代表： (II) E(*D*A*D*G)a*D*A*D*E’ ；或 (III) E(*D*G*D*A)a*D*G*D*E，；其中： D指燒基二基團、烷基環烷基二基團、環烷基二基團、方基二基團或烷基芳基二基團，其中該二基團具有6至30 個碳原子； G指烷基二基團、環烷基二基團、烷基環烷基二基團、芳基二基團或烷基芳基二基團，其中該二基團具有1至4〇個奴原子而且在其主鏈上包含醚、硫或胺連接基； *指一個胺基甲酸酯或脲連接基； -13-

546332 A7 B7 五、發明説明（11 a是至少1 ; A指式I V之二價聚合物基： (IV) .宇 i—— k 3 其中：各Rs獨立地指具有1至1 0個碳原子之烷基或經氟取代的烷基，其中該烷基可在碳原子之間包含醚連接基； m ’是至少1 ;和 p是一個可提供400至10,000之一部份重的數目；各E和E ’獨立地指一個以式VI代表的可聚合不飽和有機基團： (VI)

(CH2)w~(X}x— (7)ι—(Ar)y-~R25- 其中： r23是氫或甲基； R24是氫、具有1至6個碳原子的烷基或-CO-Y-R26基，其中 Y是-0-、-S-或-NH-; R25是具有1至1 0個碳原子的二價伸烷基； R26是具有1至1 2個碳原子的烷基； X 指-CO-或-0C0-; -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) ^46332 A7 B7 發明説明（ 2 指-〇·或-NH-; A r指一個具有6至3 0個碳原子的芳族基團；〜是〇至6 ; X是0或1 ; y是0或1 ;和z是osi。 ~個較佳的含石夕氧燒胺基甲酸酯單體是以式（V11)來代表： (VII) 9 ο 〇 ^〇CN 'R27—Nt〇CH2CH2OCH2CH20(!：i CH3 ch3 Η - R27-NC0(CH2)fn--^i—0--^ i一(CHjpfp ύΗ3 l6n3 p

H

H Ε”一〇γΝ—R27—N(p〇CH2CH2〇CH2CH2〇cA—R27〜Ac〇其中m是至少1，最好是3或4，a是至少1，最好是1，p 是—個可提供400至10,000之一部份重的數目，最好是至少3 〇，除去異氰酸基之後，r27是二異氰酸基的二基團，如異佛爾酮二異氰酸酯的二基團，和各E，，是一個以下式表示之基團： ch3 入^〇^ch2— 0 另一類代表性的含矽氧烷單體包括氟化單體。如美國專利編號4,954,587、5,079,319和5,010，141中所描述的，此類 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A*規格(21〇 χ 297公釐） 546332 A7 B7 五、發明説明（13 單體已被用於氟梦氧燒水凝膠的形成以降低在由其所製成之隱形眼鏡上沈積物的累積。如美國專利編號5,387,662和 5,321，108中所描述的，具有特定氟化側基，即之含梦氧垸單骨畫的使用被發現彳改善親水性和含梦氧二單體單位之間的互容性。 ^ 示在一個本發明較佳具體實财，—㈣氧^凝膠材料包含（大邵份，即在被共聚合的單體混合物中）5至5〇重量 % ’較佳為1〇至25重量％之一種或多㈣氧垸巨單體，里5 土 75重丨置％，較佳為30至6〇重量％之一種或多種聚矽氧烷基烷基（甲基）丙婦酸單體和1〇至5〇重量％，較佳為2〇土 4 0重f %义規水性單體。親水性單體的實例包括，但不限於含乙晞系不飽和内醯胺之單體如N_乙埽基吡咯严酉同、甲基丙晞酸和丙埽酸；經㈣酸取代的醇類，如^ 基乙基甲基丙婦㈣和2_祕乙基丙晞酸酿和丙晞齡胺^ 如甲基丙埽驢胺和N，N_二甲基丙埽酿胺、乙埽基碳酸㉛或乙埽基胺基甲酸S旨單體如美國專利編號5,G7m丨5中所^ 示的，和噁唑烷酮單體如美國專利編號4,91〇,277中所揭的。其他親水性單體將為熟諳此技者所了解的。上述矽氧烷材料僅為舉例，其他可用於作為根據本發明因塗覆而受益的基質材料已被揭示於各種刊物中，而且持、’ί發展其在隱开> 眼鏡和其他材料元件上的用途。利用各種慣用技術可製造應用本發明之隱形眼鏡以產生 —種具有理想後和前鏡片表面的成形物件。旋轉澆鑄方法被描述於美國專利編號3,4〇8,429和3,66〇,545 ;較好的靜 -16- M6332 五、發明説明（14 工操作。操：::Γ的熟化之後，經常接著進行機械加如一余如、，、疋’、種具有理想最終構型的隱形眼鏡。量單二二：：範園4,555,732揭示-種方法，其中過 ΐ:::: 模型中藉旋轉輪化形成-種具有前的成形物件。接著利用車床裁剪已熟：的障心浐/面以提供具有理想厚度和後鏡片表面械加工操作，例如整理邊緣刀=表面 <後，可進行其他機製造呈理想最終形狀之鏡片後，希望在整理、餘溶劑自鏡片中除去。這是因單= =2機:釋:以減少單體混合物聚合所產二 =刀離、’而且降低反應聚合混合物的玻璃轉化溫度，序更有效而且最後產生-較均句的聚合產物。別產物足夠的均勾性與碎氧垸水凝膠特触八二i 含珍歧單體的内含物易與親水性共單月豆刀離。週合的有機稀釋劑包括，例如單羥基 cl0直鏈脂族單羥醇類如正己醇和正壬 A ^ 6- ^ 吁為符隹；二醇類如乙二醇單乙基趟；嗣類如甲基乙基酮；酯類如庚酸甲基酯；和烴類如 1 有機稀釋劑具有足夠揮發性以幫助其在或近周遭;^ =1=的物件中被除去。-般而言，該稀;劑係；佳。 i0/o 土 5〇重量％為特 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210:297公釐)—" -- - 546332 五、發明説明（15 :後將已熟化鏡片中，溶劑除去，並力或在真空下蒸發而完成。可广:在或近週遭屢該稀釋劑的所需時於輪度以縮短蒸發力條件將视如稀釋，和=去除步驟所需時間、溫度和壓同而變化，其單體成份的揮發性等因素之不體實例，去除H w此技者決定。根據—較佳具 6。至㈣。在:用的溫糾 -系列加教循 t:箱中於惰性氣體或真空下，使用後之已孰化物化溶劑去除效率。稀釋劑去除步驟不超過重量含不超過20重量％之稀釋劑，較佳為除去有機稀釋劑之後，接下愔浞i隹仁她U, 丨Θ快2甲釋出並視二該機械加工步驟包括，例如磨光作；：：或表面。一般而言’此種機械加工操 =可在自模型零件中釋出物件之前或之後進行。最好利用片、空每：將鏡片自模型中取出藉以自該模型中乾釋出此鏡 m利用機械鑷子裝置將此鏡片移至第二組真空鎮子並將其放在旋轉表面上以磨滑其表面或邊緣。然後將此知片翻面以操作該鏡片的另一面。脫模/機械加工操作之後，接著如上所述，此鏡片根據 —1明進仃表面處理，其包括電漿聚合以形成一碳層，接著黏接親水性反應聚合物鏈。電漿處理包括令放電在-低壓下’最好以無線電頻率 (一般為13.50百萬赫）通過一氣體。如上所述，此放電被氣態原子或分子所吸收，因此形成一可與隱形眼鏡表面作 18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐） 546332 A7 B7 五、發明説明（16 ) 用的電漿。由低能量放電開始乏後，電漿中所存在之活躍自由電子間的碰撞產生離子、激態分子和自由基。此類物種一旦形成可在氣相中與其本身以及與其他基態分子反應。此電漿處理可被視為一種視能量而定的程序，其包含活躍的氣體分子。為了使化學反應發生在鏡片表面上，需要所需物種 (元素或分子）的電荷態和粒子能量等項。無線電頻率電漿一般產生活躍物種之分佈。一般而言，“粒子能量”相當於活躍物釋之所謂的波茲曼型能量分佈平均。在一種低密度電漿中，電子能力分佈可能與維持電漿的電場強度相對於放電壓力（E / p )之比例有關。，如熟諳此技者可了解的，電漿能量密度P是隨瓦數、壓力、氣體流速等而變。電漿技術的背景資料包括下列文獻：A.T. Bell，Proc. Inti. Conf. Phenom. Ioniz. Gases，“不平衡電漿中的化學反應”，19-33(1977) ; J. M. Tibbitt，R. Jensen，A. T\ Bel卜 Μ· Shen，巨分子，“ 一種電漿聚合的動力學模型’’，^_，648-653(1977) ; J· M. Tibbitt，M. Shen，A· T. Bell，巨分子科學_化學，“電漿聚合烴類之結構特徵”，A10 ^ 1623-1648(1976) ; C. P. Ho，H. Yasuda，J. Biomed，Mater· Res.，“塗覆在矽氧烷隱形眼鏡表面之甲烷電漿聚合物的超薄塗層”，12_，919-937(1988);H.Kobayashi，A.T. Bell，Μ· Shen，巨分子，“飽和和不飽和烴類之電漿聚合 ”，2_，277-283(1974) ; R. Y. Chen，美國專利編號 4,143，949，3月1 3日，1979年，“將親水性塗層放在疏水 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明（17 ) 性隱形眼鏡上的方法”;和H. Yasuda，H. C. Marsh，M. 0. Bumgarner ，N. Morosoff，應用聚合物科學期刊，“在一無電發光放電中聚合有機化合物VI.乙炔與非慣用的共單體’’，， 2845-2858(1975)，在此將這些文獻併入以為參考。以電漿技術領域中此先前研究為基礎，可了解改變壓力和放電能量對電漿改善速度的影響。此速度一般隨壓力的增加而降低。因此，當壓力增加時，維持電漿的電場強度相對於氣體壓力之比例，E/p值降低，因此造成平均電子能量的降低。電子能量上的降低因而造成所有電子-分子碰撞程序之速率係數的降低。增加壓力的另一個結果是電子密度降低。此提供當壓力固定不變時，電子密度和能量應呈線性關係。事實上，將呈未水合態之隱形眼鏡放在一個電發光放電反應槽（如一個真空槽）中可處理該隱形眼鏡表面。此反應槽是商業上可取得的。該鏡片被固定在該槽中鋁盤上（其當作一電極）或其他用來調整鏡片位置的支撐裝置。可表面處理鏡片兩侧之特定支撐裝置的使用在技術上是已知且可用於本發明中。下列實例提供申請者用於矽氧烷鏡片上或其他醫學元件上形成塗層之最佳模式。表面處理之後，可萃取鏡片以自該鏡片上除去殘留物。一般在隱形眼鏡的製造中，部份單體混合物並未完全被聚合。此來自聚合程序之不完全聚合材料會影響光學澄清度或可能對眼睛有害。殘留物質可能包括未被先前溶劑去除 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332

發明説明操作完全除去的溶劑、來自單體混合物之未反應單體、來自聚合程序以副產物形式存在的寡聚物，或甚 / 用模型遷移至鏡片上的添加劑。〜所從已聚合隱形眼鏡材料中萃取此殘留物質的慣用方法包括以一種醇溶液萃取數小時（以萃取疏水性殘留物質= 著以水萃取之（以萃取親水性殘留物質）。因此，部份醇萃取溶液保留在已聚合隱形眼鏡材料之聚合網狀結構中，而且應在此鏡片被安全地和舒適地佩戴在眼睛上之前，從浐片材料’將其萃取出來。自鏡片中萃取出醇類可藉利二；水清洗數小時可達到。萃取應儘可能完全，因為自鏡片^ 取出殘留物質進行得不完全可能對鏡片的使用壽命有不利影響。此類殘留物也可能干擾光學澄清度或鏡片表面所需的均勻親水性而影響鏡片的效果和舒適度。重要的是所二擇的萃取溶液對鏡片的光學澄清度不能有任何不利的影響。主觀上了解光學澄清度為目視檢查鏡片時所見到= 清度。 ^ 萃取之後，該鏡片進行水合作用，其中以水、經緩衝的食鹽水或類似物完全水合該鏡片。當此鏡片最後水合時 (其中鏡片一般膨脹10至約20%或更高），該塗層仍維二不動而且黏在鏡片上，而提供一種已發現可抵抗脫層的牢固、親水性塗層。水合作用之後，該鏡片經過化妝品檢查，其中受過訓練的檢查員檢查隱形眼鏡的澄清度和無任何缺點如孔洞、粒子、氣泡、刮痕、眼淚存在。檢查最好在放大ι〇χ下進 -21 - 546332 A7 B7 五、發明説明（19 )

行。該鏡片通過化妝品檢查步驟之後’可將此鏡片裝在’ 不論小玻璃瓶、塑膠氣泡袋或其他容器中以維持該鏡片於一無菌狀態供消費者使用。最後，包裝過的鏡片進行殺菌，如熟諳此技者可了解的，其中殺菌可在一個慣用熱壓器中，最好在一空氣加壓殺菌循環，有時相當於一種空氣-水蒸汽混合循環中完成。最好此高溫高壓殺菌是在1 〇〇 °C至200 °C下進行10至120分鐘。殺菌之後，可在儲存前再檢查一次已殺菌鏡片的鏡片尺寸。以下利實例進一步說明本發明的目的和優點，但這些實例中所引用之特定物質和其量以及其他條件和細節不應受本發明過度的限制。實例1 此實例揭示一種用於下列實例之代表性矽氧烷水凝膠鏡片材料。將此材料的調配物提供於下面表1中。表1 成备份重 TRIS-VC 55 NVP 30 V2D25 15 VINAL 1 正-壬醇 15 Darocur 0.2 著色劑 0.05 町

線上面係指下列材料： -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明（20 ) TRIS-VC 叁（三甲基矽烷氧基）矽烷基丙基乙缔基胺基甲酸酯 NVP N -乙晞基吡咯烷酮 V2D25 如先前美國專利編號5,534,604中所描述之含矽氧烷的乙晞基碳酸酯 VINAL N -乙烯氧基羰基丙氨酸

Darocur Darocur-1173，U V 引發劑著色劑 1，4 -雙[仁（2 -甲基丙婦氧基乙基）苯基胺基] ; 蒽醌實例2 下面表2代表一種用於下列實例之聚胺基甲酸酯矽氧烷水凝膠調配物。

裝表2 成份份重胺基曱酸酯交聯樹脂 55 TRIS 20 DMA 25 UV吸收劑 0.5 正·己醇 12 Irgacure-819 0.5 IMVT 150 ppm

線上面係指下列材料： TRIS 叁（三甲基矽烷氧基）矽烷基丙基甲基丙婦酸酯 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 546332 A7 B7 五、發明説明（21 )

DMA 胺基甲酸酯 Irgacure-819 IMVT N，N -二甲基丙錦τ醯胺如先前美國專利編號5,034,461中所描述之含矽氧烷的交聯樹脂一種U V引發劑一種著色劑，即1，4 -雙[4 - ( 2 -甲基丙晞氧基乙基）苯基胺基]蒽醌實例3 下面表3代表一種用於製造下列實例之鏡片的聚胺基甲酸酯矽氧烷水凝膠調配物。表3 成份份重 P2〇20 20 TRIS 40 DMA 40 正-己醇 5 DAROCUR-1173 0.5 IMVT 150 ppm 上面係指下列材料： TRIS 叁（三曱基矽烷氧基）矽烷基丙基甲基丙晞酸酯 DMA N，N -二甲基丙晞醯胺 F2D20 如先前美國專利編號5,374,662和5,496,871中所描述之含矽氧烷的交聯樹脂 Darocur 一種UV引發劑 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332

IMVT —種著色.劑，即1,4-雙[4-(2·甲基丙烯氧基乙基）苯基胺基]Ε醌實例4 此實例說明-種根據本發明表面改良矽氧烷水凝膠鏡片的方法。該鏡片是由上面實令"之材料(相當於Baiamc〇n A)所製成的。在根據本發明進行鏡片表面改良之前，一種典型利用此材料製備隱形眼鏡的方法如下。由她⑴識 A調配物所製得之矽氧烷水凝膠鏡片是從聚丙婦模型中澆鑄模製两成的。在惰性氮氣環境下，將45微升調配物注入一乾淨聚丙晞内凹模型半邊並以互補的聚丙烯外凸模型半邊覆於其上。在70 psi的壓力下擠壓該模型半邊，並在uv 光（6-11毫瓦/平方公分，由Spectr〇nic 所測得）的存在下熟化混合物約1 5分鐘。另外將此模型曝露在υν光下約5分鐘。移開頂端模型半邊，然後將鏡片置於強制空氣烘箱中維持在60 °C下3小時以除去正-壬醇。接著，在 23 00 rpm下以6 0克的力將鏡片邊緣磨1 〇秒使成球狀。溶劑去除和萃取之後，在處理前乾燥該鏡片。將鏡片置於 Branson RF電漿單元中（13.56百萬赫）一盤上，其中該盤可將鏡片升南至兩電極之間並讓氣流圍繞鏡片。將電聚單元中的空氣排掉直到壓力達到1·〇 torr。在1·0 t〇rr^，將氨導入該槽中約1 ·〇分鐘，在1〇〇瓦下2〇·〇秒以點燃電聚。停止氨流，然後在0.3 torr下，導入丁二缔約丨· 〇分鐘。在 1 0 0瓦下6 0秒以點燃丁二婦電漿。最後，停止丁二婦流，然後在1.0 torr下’再導入氣約1.0分鐘。在1 〇〇瓦下2 〇秒 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明（23 ) 以點燃另一次氨電漿。（使用從Rochester Welding供應商所取得的氨和丁二晞i體，其純度為99.9 + %。）然後讓該鏡片在HPLC級的水中平衡，加熱至80°C、冷卻、置於硼酸鹽緩衝液中並高溫高壓殺菌之（在12 1 °C下，一循環約3 0 分鐘）。為了說明第二組電漿條件，在規模較大的第二次運轉中，Balafilcon鏡片被置於一 Branson RF電漿單元中（13.56 百萬赫）並排掉電漿單元中的空氣直到壓力達到0.2 torr。將氨送;入該槽中。在450瓦下約60.0秒以1 55 seem的流速點燃電漿。停止氨流，然後導入丁二烯約1.0分鐘。在325 瓦下6 0秒以200 seem的流速點燃丁二晞電漿。最後，停止丁二烯流，然後再導入氨。在450瓦下60秒以155 seem的流速點燃另一次氨電漿。然後讓該鏡片在HPLC級的水中平衡，加熱至80°C、冷卻、置於硼酸鹽缓衝液中並高溫高壓殺菌之（在121°C下，一循環約30分鐘）。實例5 由實例3之矽氧烷反式丁晞二酸酯材料所製得的鏡片是從聚丙烯模型中澆鑄模製而成的，而且直接從電漿槽或在所下所示整個加工操作完成後分析該鏡片。在電漿處理之前該鏡片預先經過萃取，而且電漿處理後，所有經完整加工過的鏡片在小玻璃瓶中以高溫高壓殺菌之。該電漿槽係入上所描述的。在進行任何電漿處理之前，先將所有鏡片抽至至少0.5 torr之真空度。為了比較，甲烷和丁二晞電漿聚合皆被用於鏡片上。 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)

裝訂

線 546332

表面改艮包括-在空氣/水/過氧化物環境（空氣吹過一過氧化物溶液m.Ot⑽和200瓦下5分鐘所構成之初氧化電，、。接著，烴塗層在150瓦和〇·5 t〇rfT以每側5分鐘而沈，於其上。碳塗覆之後，以手lab system電暈系統進行電表面處理以賦予該表面親水性。樣品在空氣中大氣壓下接梵電暈處理。此程序係利用2 5 0瓦之最高瓦數或20,〇〇〇伏特之高峰電極電壓（A c高峰在2 5千赫）。此私暈產生強烈的臭氧味道。電暈條件是每側以級數6處理3秒，。將1/2英吋（1·27公分）球電極固定在離表面ι/4 英吋（ 0.635公分）之已塗覆鏡片的中心處。電暈處理之後，以水（HPLC級的水，72.4達因/公分）將聚合物表面完全弄溼。超過1 0 0埃（透明）厚的碳膜被沈積在鏡片基質上。此沈 %係利用甲燒或丁二婦氣體被加速並強迫進入鏡片表面引發碳沈積而達成。此沈積背後的想法是完全覆蓋此基質而不使任何下面基質的化學性質顯露在丨00埃（xps儀器的採樣深度）最外面。XPS的數據是在物理電子[PHI]，5600型的X -射線光電分光計（XPS )中取得。該儀器具有阿波羅工作站’其包含PHI 8503A，4.0A版軟體。XPS顯示電漿反應所沈積的碳塗覆於矽氧烷水凝膠基質上。該塗層是以脂族碳為主的組成物，其只含微量或不含任何氧（O.i-2.5% 原子組成物）。利用甲烷和丁二烯之電漿的XPS數據係表示於下面表4中。表4 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 瑪332 A7 B7

、發明説明（25 ) 猎原子力顯微鏡（AFM)測量該基質的形態。經甲烷電漿碳塗覆：表面影像(對了與丁二晞比較)顯示其完全被塗覆。沈積後，如原子力顯微鏡所測得的，該碳塗層是均句且呈現低粗糙值（在5G x5(m米大小上的均方根粗糙度是5 奈米）。以碳塗覆的程序中出現複製許多原基質的特色。該薄膜厚度變化至任何所需值。製得高達〇1微米的碳塗層。經由氧電漿的使用可能增加基值得黏著力。發現來自甲烷的碳塗層被放置在水凝膠材料表面上時不會膨脹。當此表面在水、食鹽水、硼酸鹽緩衝鹽水或磷酸鹽緩衝鹽水中膨脹時，其原子力顯微鏡（AFM)測量顯露出一破裂表面。但是，若電漿槽中的甲烷氣體被丨，3-丁二雄取代，當水凝膠基材在水中膨脹時，該塗層固定不變。忒1，3 - 丁二缔必須膨脹超過4 〇 %才會完全裂開並弄破塗層。此高可撓性使該塗層可被置於無水隱形眼鏡上，然後讓該塗層隨基材而膨脹，因此獲得一較”牢固”的表面。塗 -28 本紙银尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 ---- —___B7 五、發明説^ 寒 — -- =的硬：可經由厚度和添加氫、氦至基質電漿氣體中而變、d供最佳判力。進㈣外_時，此塗層被判定、、、、、々而且不會在美各上或功能上降低鏡片的性能。實例6 此試驗被設計成研究丁三埽塗層厚度對表面地形、基本化學和鏡片澄清-混濁比例的影響。胺基甲酸醋鏡片是由實例2之材料所製得的，而且在四種不同的丁二婦電漿條件下經加工和電漿處理過：3〇秒、6〇秒、9〇秒和18〇秒。 s >去除溶劑和萃取之後可獲得胺基甲酸酯，並在處理前風乾 <。將此鏡片放在一 Brans〇n RF電漿單元（13 56百萬赫）的盤子上，其中該盤可將鏡片升高至兩電極之間並讓氣流圍繞在鏡片周圍。排掉電漿單元中的空氣直到壓力達到 0·15 torr。在0.26 torr下以155 Sccm的速度將氨送入該槽中約1 _0分鐘，然後在450瓦下點燃電漿約1 ·〇分鐘。停止氨流，然後在0.25 torr下以200 sccm的速度將丁二烯送入約 1·〇分鐘。在325瓦下點燃丁二烯電漿約30秒、6〇秒、90 秒或180秒。最後，停止丁二婦流，然後在〇·26 t〇rr下以 1 55 seem的速度再將氨約1 · 〇分鐘。在45〇瓦下再次點燃氣電槳約1.0分鐘。將經電漿塗覆的鏡片放入一 1 · 〇 % (重量/ 體積）無水乙腈並讓其泡脹至平衡。然後使此鏡片在去離子水中平衡並在高溫高壓殺菌之（在121 °C下，一循環約30 分鐘）。各樣品係利用低解析光譜圖（〇_ i丨00 eV )分析之以鐘定樣品表面上所存在的元素（1 〇-丨00埃）。這些由低解析測量掃 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公羡) 546332 A7

t:::出：：素中可獲得高解析光譜圖。從高解析光譜圖物。以儀器傳送函數和有興趣之軌域的原子截面感受這些光電料下的面積之後，從其可算 :組成。測試此鏡片的前和後側。XPS結果係表示於下面表5中。

標準偏差 **表5中最後一欄是以碳1 s電子為基礎的塗層厚度估計值。 X P S結果顯示鏡片的塗層厚度隨電漿曝露時間而增加， -30- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332 A7

，前側的沈積速度比後側快。在各塗覆條件之後評估镜片 :澄清度/混濁度’所有鏡片皆通過評估，除了 =、 =過之鏡片。在相和彳㈣之間所見収«度上的声 *被認為可能是圍繞鏡片幾何結構(即内凹對外凸)之氣； =造成的壓力差之故，其中該壓力差與電裝㈣有：: ^ ·〇刀1里和i·5分鐘丁二埽電漿處理過的叙片具有可接印，3)或較佳透明_混濁比例’而經三分，處理過的鏡片以U評比失敗。當塗層達到一：界厚度時库生透明/混濁議題，在乙腈中膨脹時，塗層變得極為起伏和/或該表面變成較㈣。因此，料相同的調配物，當塗層厚度變得較厚時’在此例中胺基甲酸醋的澄清度降低。此臨界厚度可能因各調配物而異，雖然有一趨勢水έ量車乂间的材料，臨界塗層厚度越低。此現象發生係因為水含量較高的鏡片在乙腈中膨脹得越大，造成此表面比具有相同塗層厚度之水含量較低的鏡片粗糙。 - Α例7 由上面實例3之調配物所製得的反式丁晞二酸酯鏡片可在除去溶劑和萃取、乾燥後獲得。將此鏡片放在一 Branson RF電漿單元（13.56百萬赫）的盤子上，其中該盤可將鏡片升高至兩電極之間並讓氣流圍繞在鏡片周圍。排掉電漿單元中的空氣直到壓力達到1〇 t〇rr。在1〇 t〇rr下將氨送入該槽中約1·0分鐘，然後在1〇〇瓦下點燃電漿約2〇〇秒叙。停止氣流，然後在〇.3 torr下將丁二婦送入約1 .〇分鐘。在100瓦下點燃丁二婦電漿約3 〇秒。最後，停止丁二 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 546332 A7 ____ B7 五、發明説明（烯流，然後在1·〇 t〇n>下再將氨送入約1〇分鐘。在1〇〇瓦下再次點燃氨電漿約2 0 i少。然後讓該鏡片在HPLC級的水中平衡’加熱至80°C、冷卻、置於硼酸鹽緩衝液中並高溫高叙囷之（在121C下，一循環約30分鐘）。以光電分光計 (XPS )分析鏡片。控制組鏡片可在溼加工之後乾燥而獲得。此鏡片不再進行任何其他加工程序。控制組鏡片的低解析光譜測定碳、氧、矽和氮。在表面上有65.8%仏〇.3 碳、17.7%+Λ〇·2 氧、5·7%+/-〇·6 氮和 10·8%+/-0·3矽。結果表示於下面表6中。表6 」ci Γ〇] [N1 [Sil [Nal 控制組平均 65.8 17.7 5.7 0.0 10.8 0.0 --—-- Sd 0.3 0.2 0.6 0.0 0.3 0.0 然後該鏡片在100瓦和1.0 torr下以氨電漿處理20.〇秒。低解析XPS光譜測定碳、氧、矽和氮。在表面上有以.00/。〜·1·1 碳、18.8%+/-〇.7 氧、9·0%+/-〇.8 氮和 1〇·2%+/·〇·8 石夕與技制組比較，氮和氧含量增加，碳含量降低和硬含量維持不變。結果表示於下面表7中。 -32- 本紙張尺度適种_家鮮(CNS) Α4規格(21GX297公釐) 546332

表7

I2LJNL

[FI 0.0 0.0 [Si] 10.2 0.8 [Na] 0.0 0.0 以XPS刀析經氨/丁二婦/氨電衆處理過的反式n交酉H :匕鈿片不再進行任何其他加工程序。低解析光譜測足碳、氧、石夕和氮。在表面上有78·2%+/·2·3碳、7.8%仏 1·6乳、11·5%+Μ.4氮和2·7%+Μ·5碎。χρ8數據顯示石夕含量㈣及氮㈣含量增加’其指出含氮/碳的塗層已被塗覆在矽反式丁烯二酸酯的基質表面上。2.7%矽的測定值=碳層厚度置於5和6奈米之間，只要碎是由下面表面 U得的、、二氨/ 丁二烯/氨電漿處理過的反式丁烯二酸酯鏡片的XPS結果表示於下面表&中。表8 [Cl [0] [N] [FI rSil ΓΚΤοΊ 碳/NH3 平均 78.2 7.8 11.5 0.0 L叫 2 7 LJNa| π π 電漿 Sd 2.3 1.6 1.4 0.0 1.5 0.0 .......a m·1❿少於導疋衣不於圖1中。此控制組鏡片可在溼加工之後乾燥獲得的並接受分析。原子力顯微術（AFM)影像為5〇平方微米並將前側（鏡片前側）表= 於左邊和後側表示於右邊。兩表面的鏡片表面地形顯示從所使用的工具所複製的線（從工具所獲得的線製造形成鏡片的模型）。前側也有凹洞，其可從工具或氣泡被置於= -33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明（31

裝體混合物中。前側鏡片表面的均方根（RMS )粗糙度是41 奈米+/-ο·ι，後側的粗糙度是4·7奈米+/_0·3。一般澆鑄模型鏡片具有從2-25奈米之RMS粗糙度。已塗覆親水性聚合物且加工完全之反式丁烯二酸酯（一經氨、丁二烯和氨電漿處理的反式丁埽二酸酯鏡片浸在一親水性聚合物）的AFM影像表示於圖2中。該親水性聚合物是由二甲基丙婦驢胺（DMA )和乙烯基_ 4，4 -二甲基_ 2 ·噚唑啉· 5 -酮 (：ΥϋΜ〇)(；80%/20)。aFM影像再次為5〇平方微米並將前側表示P左邊和後側表示於右邊。該影像是朝鏡片中心拍攝。該地形圖看起來像是具有一些塗層相關特色和光迂迴 <應力/擴張特色（波長為〇·25_〇5〇微米之波狀表面）的控制組鏡片。當該塗層變得較厚時，沿著邊緣出現較嚴重的迂迴地形。此迂迴地形是碳塗層在乙衛溶劑中膨脹而造成的。前側鏡片表面的均方根（11]^8)粗糙度是8·〇奈米+/_ 3.4，後側的RMS粗糙度是5 3奈米+/_2 2，以低於25奈米為佳。 .. ^ 貫例8 此實例說明根據本發明之隱形眼鏡的表面改良，其使用單體混合物進行接枝聚合以提供第二層親水性聚合物塗層的實例。直接從電漿槽和完成如下所示之所有加工操作之訂

後分析實例3(矽氧烷反式丁稀二酸酐，水合時含36%的水） ^鏡片。所有經完整加工過之鏡片在小玻璃瓶中進行高溫 $壓殺菌。含有N，N-二甲基丙婦醯胺（DMA)的溶液a可藉溶解3克蒸餾過的DMA於3⑽毫升純水中而製得。溶液b • 34 - 546332 A7 B7 五、發明説明（32 ) 是由溶解2克DMA和0.01克乙二醇二甲基丙烯酸酯 (EGDMA)於200毫升减水中而製得。溶液c是藉溶解1克 DMA和〇 · 3克SPE (磺酸基貝泰（suif〇betain) N，N-二甲基甲基氧基乙基-N-(3-磺酸基丙基）_銨貝泰）於1 00亳升純水中而製得。製備0·2% Vazo 64 (重量/體積，下文中的w/v)之乙醇落液，並將2 0 0微升加入各鏡片玻璃瓶中。氧化還原對是1 0 % (重量/體積）過硫酸銨溶液和5 % (重量/體積）四亞甲基二胺溶液。將50微升之各溶液加入各鏡片樣品中。隔夜進P所有處理。打開樣品玻璃瓶以經硼酸鹽緩衝的鹽水取代處理溶液，接著進行一循環高溫高壓殺菌。下面表9提供樣品編號、相對處理和χ p s數據。在各例中處理1 〇各鏡片。錢行任何處理之前，萃取這些鏡片並乾燥之。 -35- 546332 A7 B7 五、發明説明（33 表9 樣品編號電漿處理後處理觸媒溫度側（A 或P) Ols Nls Cls Si2p Nals 1 NH2/丁二晞 DMA 無 80°C A 18 6.8 70.7 4.5 0 2 nh2/丁二晞 DMA 無 80°C A 15.6 5.1 72.8 6.5 0.1 3 nh2/丁二晞 DMA 無 80°C P 18.2 6.6 67.9 7 0 4 NH2/丁二烯/〇2 DMA 無 80°C A 16.7 3.9 73.9 5.5 0 5 NH2/丁二烯/〇2 DMA 無 80°C A 19.6 4.5 66 9.8 0.1 6 NH2/丁二烯/〇2 DMA 無 80°C P 32.9 6.9 50.6 4.6 2.6 7 NH2/丁二烯/〇2 DMA/ EGDMA 無 80°C A 15.7 4.7 73.3 6.1 0.1 8 NH2/丁二烯/〇2 DMA/ EGDMA 無 80°C A 16.3 4.6 75 4 0 9 NH2/丁二晞/〇2 DMA/ EGDMA 無 80°C P 15.5 4.1 75.9 4.6 0.2 10 NH2/丁二烯 DMA Vazo 64 80°C A 17.4 5.8 71.9 4.8 0.2 11 NH2/丁二晞 DMA Vazo 64 80°C A 20.7 6.1 64.9 8.2 0.1 12 NH2/丁二烯 DMA Vazo 64 80°C P 21.5 6.5 62.2 9.6 0.2 13 NH2/丁二婦 DMA 氧化還原室溫 A 14.5 7.1 77.3 0.9 0.2 14 NH2/丁二稀 DMA 氧化還原室溫 A 15.8 7.7 74.6 1.4 0.5 15 nh2/丁二烯 DMA 氧化還原室溫 P 16.7 5.5 70.5 7.3 0.1 16 nh2/丁二晞 DMA/ EGDMA 氧化還原室溫 A 15.3 7.8 74 2.7 0.1 17 nh2/丁二烯 DMA/ EGDMA 氧化還原室溫 A 18.5 7.6 71 2.1 0.9 18 nh2/丁二稀 DMA/ EGDMA 氧化還原室溫 P 16.3 5.8 71.5 6.4 0 19 nh2/丁二烯 DMA/ SPE 氧化還原室溫 A 18.9 7.2 69.8 3.5 0.1 20 nh2/丁二晞 DMA/ SPE 氧化還原室溫 A 17.2 7.2 70.1 5.4 0.2 21 nh2/丁二烯 DMA/ SPE 氧化還原室溫 P 18 5.4 68.1 8.2 0.2 -36- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 546332 A7 B7 五、發明説明（34 ) 樣品編號電漿處理後處理觸媒溫度側（A 或P) Ols Nls Cls Si2p Nals AA nh2/丁二烯無無室溫 A (平均） 4.86 1 93.1 1 na AB nh2/丁二晞無無室溫 P (平均） 8.42 2.2 84.7 4.7 na BA NH2/丁二晞/〇2 無無室溫 A (平均） 19 3.4 74 3.3 na BB NH2/丁二烯/〇2 無無室溫 P (平均） 23.1 4.9 66.1 4.8 na 在本文教示之下，可能對本發明做許多改良與改變。因此，應f里解本發明可在申請專利範圍之範圍内實施，而不是在本文特定敘述中實施。 -37- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)

Claims

546332

申請專利範野 A8 B8 C8 D8 — i.:種處料㈣切膠隱形眼鏡表面法包含下列連續步碱：女八宁a万 ⑷令鏡片表面進行電漿氧化反應；有效氧的存在下，讓氧化過的鏡片表面在本有4至8個碳原子之— 叫杜口庫以％成50 = ^ 的烴環境中進行電漿聚合反【以心成、5〇土 500埃厚的碳層；和 ⑷令該表面進行電漿氧化或 9合物塗層可賦予步驟⑻之碳層親水性。見水性氷 •根據申凊專利範圍第pg 甘士止面盥k或氮的/、其中步驟（b)之鏡片表 /、虱次虱的虱化源進行電漿氧化，藉製造親水性官能基藉以形成—親水性表面。“ ’根據申請專利範圍第1項之甘丄也面可藉由自由基聚合靜黏:法’人其：步驟⑻之鏡片表合物將親水性聚合物應基之預形成聚至鏡片表面上的互補反=基上上。’其h反應性基鍵結 4. 專利範園第〗項之方法，其中步驟至1…壓力下以1^^ 5. 根據申請專利範圍第1Jf之方法，其 ”反應是獨立地在-含氧或氮的環境中進行，4): :Γ'選”少-種下列環境：周遭空氣、氧氣:：; 化虱、虱、水和其組合。、乳 6·根據中請專利範圍第！項之 ::應是在含有異— 本紙張尺度適用準(CNS) A4_H(^X297公董了裝訂