TW500779B - Matting agents based on silicon dioxide - Google Patents
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Description
500779 A7 B7 五、發明説明(/ ) 本發明係闞於經塗覆之消光劑,其製備方法及其使用 於塗料和真漆中。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 首先使用二氧化矽或矽凝膠粒子作為消光劑而獲得微 粗表面在塗曆上。然而,在大多數含溶劑或含水之塗料 和漆中,在儲存期間,未經處理之矽膠粒子時常形成硬 沉積物。通常,試圖再分散此等消光劑甚難,且在許多 情況下,不成功。因此,此瑪象時常意指:當用盡塗料 時,使用此類塗料所產生之塗層光澤變更,因為某些消 光劑積聚在儲存塗料或漆之容器的底部。為了遊兔此種 可厭之影響,經由塗料製造商添加各種添加劑,例如膨 潤土 (其可形成觸變結構並防止粒子之沉降)。另外可 能性是製造商變更消光劑本身,即:舉例而言,將消光 劑塗覆Μ由聚烯烴,礦蜡,石蝤等所組成之該群中所選 出之婦。通常,使用基於淌光麵之5至10WTS:蟮而形成 消光劑,在習用之塗料和漆中,它產生可容易予以再分 散之軟沉積物。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因此,德國專利察10 06 100掲示製備矽凝膠消光劑 之方法,其中將經乾燥和研磨之矽膠浸潰Μ不溶於漆等之 溶劑中的微晶蜡。該方法係在高於蟮之熔點的溫度下進 行0 另種製備消光_之方法自德國專利案1 5 92 865中得 知。在此方法中,採用惰性無色高熔點蜡的水乳狀液或 分散體或在室溫下,不溶於漆溶劑中之合成物質用Μ將 矽酸變型。 一3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 500779 A7 B7 五、發明説明(z) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 世界專利案95/31 508中揭示••基於具有一定微孔孔徑 分佈之非晶形矽膠之消光劑,將它塗覆K指定之蜡並具 有良好消光性質及其製備之方法。 歐洲專利案A-0 348 226中掲示:基於無機水凝膠之 消光劑,其具有一定之微孔體積和揮發性物質之含董, 指定平均粒子大小和粒子大小分佈,K致當將它分散入 塗覆組合物中時,獲得某種研磨細度。 歐洲專利案A-0 003 627中揭示:製備脾,甲醛和矽 石粒子的含水膠態分散體的親水性組合物之方法,其中 ,各種混合階段係在一定pH值下進行而矽石粒子具有1 至8αιπ的平均大小。使用經由所揭示之方法而獲得之組 合物在感光光敏鹵化銀材料中。 歐洲專利案97/1 2942中揭示一種塗覆材料,它可經由 照射或熱予Μ固化,像由包含經化學改質之二氧化矽粒 子之組合物所組成。將二氧化矽粒子改質至該程度:將 有機化合物(其中含有聚合之不飽和基團,(硫)脾基園 和(硫化)胺基甲酸乙酯基圈)經由一個甲矽烷氧基基囿 而化學聯合至其表面。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 塗覆二氧化矽粒子之上述各種方法具有消耗極大量的 蜡(5至10tfT!K >的缺點。另外,因為下列原因,不能 將彼等連同水凝膠消光劑而使用。通常,將二氧化矽乾 凝膠在高於蜡熔點的溫度下,在噴射研磨機中塗覆Μ蜡 。在面操作期W ,係將熔融蜡均句分佈在二氧化矽粒子 上。如果在水凝膠之微粉化期間,添加蜡(其係在相當 一4 一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 500779 A7 B7 , 五、發明説明(3 ) 低溫度下進行),則此操作不能導致塗覆粒子,因為尚 未達到蜡之熔點(在噴射研磨機中,研磨水凝膠期間, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 最大可能溫度是5〇υ,而增加所供應之熱可能僅具有蒸 發來自矽膠之水的效果而不能增加瀕度)。因此之故, 使用矽酸水凝膠和蜡粒子的此種混合物在水基之塗料或 漆中導致形成硬沉積物。因此之故,蜡不具有效果。 因此,本發明的目的在提供一種有效率之消光劑,在 儲存於水基之塗料和漆中期間,它形成軟沉積物而可將 它立即再分散。亦係本發明的一個目的在提供更為有效 率之二氧化矽粒子之塗覆方法,此方法優於自先前技藝 所知之使用蜡塗覆。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此等目的經由基於二氧化矽之消光劑予Μ實瑪,其特 徵為:它包括二氧化矽粒子,它具有2.5至20m®的粒子 大小及基於該消光劑,0至65WTS5的水份含董,且經塗 覆K0.2至10WTS:的艉-胺基甲酸乙酿衍生物或具有下列 通式之P-胺基甲酸乙酿衍生物的混合物: r1-o-co-nh-r3-nh-co-nh-r5-nh~co-nh-r4-nh-co-or2 (I) 其中 R1 和 R2 彼此獨立係 CnH2n+1- _或 CmH2m+1(CpH2pO)r-, 0)-,n=4-22, p=2-4, r=l一10, R3 和 R4 彼此獨 立係 f # 或-(CH2)6~ …-及-一------’ .… - -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 500779 A7 B7 五、發明説明()
Rs H CH3 h ch: H CH-, CH- ch2- - ch2-ch2-, -(ch2)6-或-(ch2)12-· 本發明另外係關於製備消光劑之方法,其特徼為:在 其微粉化期間,添加式(I)之脲-胺基甲酸乙_衍生物 至二氧化矽。 各從羼申請專利範圔係關於本發明之較佳具體實施例。 根據本發明之P-胺基甲酸乙酿衍生物在下文中亦稱 為有機組份或添加劑。 因此,就大體而論,有機添加劑是低分子量之脲-胺 基甲酸乙酯化合物。 在本發明之較佳具體實施例中,在式(I)的P-胺基 甲酸乙酯衍生物中,各自獨立,η係4-18,特別是4-14 ,宜是4-8, hi是1-15,特別是1-12,宜是4-8, ρ是2 或3 ,特別是2而r是1-8,特別是3-8,宜是4-6。R3 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 和R 4各自獨立宜是:
CH *CH*i 而R 5宜是 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) / /y A7 B7 五、 發明説明(
^ piQ CH, ·· CH1 裉據本發明,特佳之脾-胺基甲酸乙酿衍生物的實例 是:
Ch〇CH2(CH :°82〇)*心0 〜卜^—ΜΗ—C—Ν
•'•♦H一C 一NH~-NH—C 一 (〇CH2〇 IH~ CH, CH/ 、叫 CH’ 2 或 υ
_ KJ •Ci、-;-NH-C一NJ
NH—C—(〇CH2C m· I »n^— i ml nd I in (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 —H_ xw/ _λ CHj " CHi CJlj 其中s + t = 6:剥9而s和t是大於或等於3 ° 二氧化矽組份宜選自矽酸水凝膠及/或矽酸乾凝膠。 此等凝膠可經由溶膠-凝膠方法或經由沉濂方法予从製 備。二氧化矽粒子的大小宜是5至15//m,特別是5至 10 u m ° 基於是否使用水凝膠或乾凝膠用Μ製備根據本發明之 消光劑,二氧化矽粒子具有0至10WTJK之水份含量,特 別0至5 VTS:而宜為1至3 WT!C或基於消光劑· 30至65 WTX之水份含量,特別40至60WTS;而宜為大約50WTS!。 宜將彼等塗覆Μ基於消光劑,0.3至8WTX (特別是0.5 至3WTi!)式(I)的驛-胺基甲酸乙醸衍生物。 自先前技藝得知:具有一定極性之溶劑中的P-胺基 一7- Η8 ,ιτ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 500779 A7 B7 五、發明説明(4 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 甲酸乙_之雙極性結構導致形成三維網路。利用此效果 而產生觸變效應在漆和塗料中,例如,它防止矽膠粒子 形成硬沉積物。然而,該三維結構僅形成在某些糸統中 ,即:適度,極性。因此,根據製造商之說明書,屬於 上式(1>之來自BYK化學有限公司之商業產物BYK-410 在醇和水中,未顯示觸變效應。 出人意料Μ外,如果將充作消光劑之二氧化矽粒子或 矽膠粒子塗覆Κ根據式(I )之脲-胺基甲酸乙_衍生物, 貝《避兔在水基之漆和塗料中形成硬沉積物。 根據本發明之消光劑,就大體而論,其製備係經由在 其粉碎期間,添加根據本發明之Ρ衍生物至二氧化矽。 擧例而言,此操作可在嗔射研磨機或在高速混合機(例 如,一具Henschel混合機)中進行。噴射研磨機宜使用 熱空氣予Μ操作。其結果是,將有機組份Μ極细粒子之 形式分佈在矽膠粒子上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Ρ衍生物其本身可如歐洲專利Α-0 006 252中所掲示 方法予Μ製備。可將彼等有利Μ有機溶液的形式而添加 ,此有機溶劑含有10至75WTS;,宜是30至60WT»:,特別 是45至55WU脲-胺基甲酸乙酿衍生物。舉例而言,可 使用Ν -甲基吡咯烷_作為溶劑。因此,舉例而言,可特 別有利採用來自Wesel市之ΒΥΚ化學有限公司之商業產 物BYK-410 ,它包含通式I的脲-胺基甲酸乙酯其形式 是爾瞎中,至多65WT!K溶液。 經使用於根據本發明之方法中之二氧化矽或矽膠可經 -8 ~ 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) A4規格(210X297公釐) 7 7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 I發明説明(7) 由溶驂-凝膠方法予Μ製備,舉例而言,如歐洲專利案 384 226中所逑。 裉據本發明,特別採用水凝膠◊水凝膠消光劑具有優 點即;因為孔隙填滿了水,彼等不會形成粉塵。少1的 表面水造成粒子相互之黏附。在根據本發明之方法中, 舉例而言,將水凝膠在噴射研磨機中使用熱空氣予以微 粉化,予Μ乾燥至30至65WTJK之水份含量,宜係40至 6〇WTS:,特別大約50WT3;,並塗覆Μ脲衍生物。 如果採用乾凝膠,則宜將它在嗔射研磨機中使用熱空 氣予Μ微粉化,調節至〇至10WTS;之水份含量,宜係〇 至5WTJK ,特別1至3 WTS!,並塗覆Μ酹衍生物。 通常,新穎塗覆方法需要,基於消光劑僅大約1WTX有 機物料,唯根據本發明,於塗覆時,可採用較少或較多 有機物料。因此之故,需要甚低濃度的有機添加劑而容 許形成軟沉積物,可將它迅速再溶入塗料和漆中。反之 ,在蟮塗覆的情況下,雷要5至10WTS;,蝤來防止在水 基之条統中形成硬沉積物達充分程度。因此之故,根據 本發明之方法,不僅用於節省物料和降低作業溫度而產 生成本利益,而且增加消光劑之效率。因為造成消光之 二氧化矽含量較高,所W該物料之效率較高。 經假定:在根據本發明之消光劑的情況下,硬沉積物 之形成係經由下列歷程而予避免:就大體而論,必須將 _ -胺基甲酸乙酯衍生物分雜成為個別分子,Μ便它具 有最大活性。此操作典型係經由將它溶解入適度極性的 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -----——:-I — r·^-------tT--------#1. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 500779 A7 _B7_ 五、發明説明($ ) 溶劑中予K實現。然而,添加添加劑至噴射研磨機中之 矽膠粒子導致極細粒子之脫集聚(不論滚劑是什麽)。 使有機組份的此等極细粒子連舍至矽膠粒子上。此現象 造成粒子表面的不均匀極性而因此之故,在沉積物形成 期間,僅有鬆弛附聚(絮凝)。此等絮凝體是充分的大 而能柢抗沉稹物中之重力,且依然軟,甚至在儲存後, 迅速可溶解。 因此之故,可將根據本發明之消光爾有利使用於水基 之塗曆,塗料和漆中及含水之照射固化之漆系統中。 謇例 粒子的孔隙體積經由使用來自Micro verities ·之A S A P 2400氮氣吸附測量儀器,進行氮之吸附予以量計。粒子 大小係在來自Malvern儀器有限公司之Malvern Mastersizer予Μ測定。水凝膠之水份含董係經由在 1 60 t!之溫度下失重予Κ測定。乾凝膠的水份含最使用 卡爾費雪爾裝置董計。所陳述Μ重量計百分數係鼷於最 終產物(消光劑)的重董/ 碳含量係使用一具Leco SC440裝置(Dusseldorf公司) 量計,並基於最終產物中之二氧化矽含量,从重量計* 而陳述。 沉降實驗在兩種漆糸統中進行:a)來自Weilburger
Lackfabrik 之 Senosol-Hydro-Glanzlaclc, —種透明水 基之料及b)來自Mannheiffl Lack化學有限公司(Wagner) 之 Wacocell S 689° - 10 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) ---IM--.----- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 500779 A 7 B7 五、發明説明(/ ) 管例1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 使用溶膠-凝膠方法,製備具有65WTX的水份含量之 矽酸水凝膠並在使用熱空氣操作之噴射研磨機中予Μ微 粉化。熱空氣溫度是220 ¾而所引人之數量是720kg/h。 在同時,將2.61/h,脾-胺基甲酸乙酿衍生物BYK-410 (來自Wesel之BYK有限公司的商業產物)經由入口噴嘴 引入噴射研磨機中。所產生之產物具有8紅》之粒子大小, 54_596:之水份含量和〇.56tfT5K碳含量(相當於大約0.7 VT»之添加劑濃度)。 fcb較性管例1 如實例1中,使用溶膠-凝膠方法,將具有65WTX水 份含量之矽酸水凝膠在使用熱空氣之噴射研磨機中微粉 化成8.0 a m的粒子大小和56.3WTJ;之水份含量。然而, 與實例1成對比,未進行塗覆。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在每一情況下,將3克的實例1和比較性實例1中所 製備之產物,經由使用溶解器(分散單元)M 3000rpin (每分鐘轉數)攪拌歷10分鐘而摻合入l〇〇g Senosol Hydro - GUnz lack, 07-1415-405 · 314 型(Wee 1 burger Lackfabrik, Weilburg)。然後將漆引入l〇〇m丨容器中並 將密閉之容器儲存在室溫下之實驗室中歷6星期。在此 段時間後,研究自消光劑粒子所形成之沉積物的稠度。 未經塗覆之水凝膠消光劑(比較性實例1 )形成硬沉 積物W經由振邋而分散。可能僅經由使用 鏟子自容器底部移除沉積物。使用ΒΥΚ-410所塗覆之水 -11 一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 500779 A7 ---B7 五、發明説明() ί胃例1 )形成之沉積物,可極易予以再分散。僅 容器,沉積物已變成自容器之底部分雛。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 窨例2 &溶膠〜凝膠方法所製備並具有大約1WT!K之水份 粒子大小之矽酸乾凝膠在PM1〇L型的 Heasel^i混合器中與bY)(_41〇混合。將7·5克之有機化合 物添加至75〇克矽謬中,同時ΜΙ,ΟΟΟγρηι攒拌歷1〇分鐘 。當添加終了時,在2 , 500rr>m下繼續混合歷10分鐘。將 混合物在AUine AF(noo型的流化床噴射研磨機中微粉 化成為之粒子大小。本實例中所使用之研磨條件是: 研磨膣力: 5 · 0巴 空氣消耗: 26m3/h 研磨室中之瀕度: 163t! 篩子: 1 5 , 050rpni 獲得具有5.49am之粒子大小,(K66WTS!之碳含量及 2· 7WTJ!之水份含量的產物。 l:b酸性管例^ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如實例2中一樣,自相同乾凝膠出發,在與實例2中 相同之研磨機中,在下列條件下,製備成未經塗覆之比 較物料。 研磨壓力: 5.0巴 空氣消耗: 19m3/h ^磨室中之溫度: 19 υ 篩子: 15, 170ΓΡΙΒ -12 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ;297公釐) 500779 A7 _ ___B7 _ 五、發明説明(// ) 如此所獲得之產物具有5·5μ iR之粒子大小,〈0.2WT* 的碳含量及1.34tfT!K之水份含量。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 比較桦奮崖1 一種經蜡塗覆之比較物料,經由在空氣噴射研磨機中 研磨矽酸乾凝膠連同同時添加蟮入嗔射研磨機中而以生 產規镆製成。矽膠係M 350 k g/h餵供人而蜡則M 30kg/h 餵供入。其他研磨條件是: 研磨壓力: 7 ♦ 5巴 空氣消耗: 1,780m 3 /h 研磨室中之溫度·· 138¾ 獲得一種產物,具有5.56^cm之粒子大小,7.5WTS;之 碳含量和1 . 3WTS;之水份含量。 在每一情況下,K如實例1和比較性實例1中所敘逑 之相同方式,將實例2 ,比較性實例2和比較性實例3 等中所獲得之3克的產物摻合入100克,Senosol Hydro -Glanzlack中。亦如實例1中之方式,研究粒子的沉降 。在6星期後,沉積物的稠度經鑑定如下: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 :根據本發明之產物形成沉積物,其可能極易再分 散。僅經由倒轉容器,沉積物可能已經自底鄯分離。 比_齩袢管例2 :未經塗覆之產物形成硬沉積物,僅使用鏟 子,才可能使它與底部分離。 I遊件管例3 :經塗覆之產物形成硬沉積物,此哽沉積物 經由i 邏蓉器而可予‘ μ再分散。 該項比較顯示:與使用10WT3!蜡塗覆之消光劑及未經 -13 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 500779 A7 B7 五、發明説明(/之) 塗覆之消光劑比較,使用1WTOYK-410塗覆的顧然改良 性質。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 比齩性管例4: 將來自實例2 ,比較性實例2和比較性實例3之產物 摻合入一種習用之硝化纖維素塗料(WACOCELL S 689) 中。在每一情況下,使用在3,000γριβ操作之溶解器將2 克之消光劑摻合入100克,硝化纖維素塗料中歷10分鐘 ,將混合物引人lOOffil容器中,將此等容器封閉並儲存 在室溫下之實驗室中歷6星期。在此段時間後,研究自 各消光劑粒子所形成之沉積物中的稠度。 實一12··根據本發明所塗覆之產物形成硬沉積物,其與來 自比較性實例2產物者可相It 。 比較性實胤2 ··未經塗覆之消光劑形成硬沉積物,其僅在 極大困難下可予Μ分散。 比較性實例3 :經塗覆Μ蜡之分散形成一種沉積物,可極 易將此沉積物再分散◊經由倒轉容器,沉積物可能已經 自底部分雛。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此項比較顯示:根據本發明之效果,即:經由使用脾 -胺基甲酸乙酯衍生物塗覆而避兔形成硬沉積物係可在 水基之塗料中予Μ實現。 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)
Claims (1)
- 500779 Α8 Β8 C8 D8 滅I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^、申請專利範圍 第88105292號「基於二氧化矽之消光劑」專利案 (90年3月修正) 六、申請專利範圍: 1. 一種基於二氧化矽之消光劑,其特徵爲:它包括具有 2.5至20/zm粒子大小之二氧化矽粒子,及基於消光劑 計爲0至65WT%之水份含量;且經以0.2至10WT%的 脲-胺基甲酸乙酯衍生物,或具有下列通式(1 )的脲-胺 基甲酸乙酯衍生物的混合物所塗覆: R1-0-C0-NH-R3-NH-C0-i^H-R5-NH-C0-NH-R4-NH-C0-0R2 (工) 其中 R1 和 R2 係彼此獨立爲 CnH2n + 1i CmH2m+1(CpH2pO)r-, n = 4-22, m=l-18, p = 2-4, r=l-10, R3和R4係彼此獨立爲 ;或-(叫6-2.如申請專利範圍第1項之消光劑,其中··包括具有5 Μ 1 5 // m粒子大小之二氧化砍粒子。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) J J I I 訂 I ^ . 線.Aw"" (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 500779 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 3. 如申請專利範圍第1項之消光劑,其中二氧化矽粒子具 有基於消光劑計爲0至10WT%的水份含量。 4. 如申請專利範圍第1項之消光劑,其中二氧化矽粒子具 有基於消光劑計爲30至65WT%的水份含量。 5. 如申請專利範圍第1項之消光劑,其中將二氧化矽粒子 塗覆以基於消光劑計爲〇·3至8WT%式(I)之脲-胺基 甲酸乙酯衍生物。 6. 如申請專利範圍先第1項之消光劑,其中二氧化矽係選 自矽酸水凝膠及/或矽酸乾凝膠。 7. 如申請專利範圍第1項之消光劑,其中在式(I )之脲-胺 基甲酸乙酯衍生物中,相互獨立,n = 4-18,m=l-15,p = 2 或3, R3及R4係相互獨立且宜是 及 -04-0- ,倾· 或 CH. ^ ^ ^ -----IT------^ Awl (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 8.如申請專利範圍第1項之消光劑,其中脲-胺基甲酸乙 酯衍生物具有下式:-C—,或 .11 c4h8(Ch2ch2〇i>—c—NiH—C 一CH ^ Q Nhf-NH-C— P〇i2CM2)|C4H8 本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS ) A4規格(210x297公釐) 500779 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 其中s +1 = 6-9而且s和t係大於或等於3。 9. 一種製備如申請專利範圍第1至8項中任一項的消光劑 之方法,其特徵爲:在其微粉化期間,將式(I)的脲-胺 基甲酸乙酯衍生物添加至二氧化矽。 10. 如申請專利範圍第9項之方法,其中脲-胺基甲酸乙酯 衍生物係以包括10至75WT%的脲-胺基甲酸乙酯衍生 物之有機溶液之形式而添加。 11. 如申請專利範圍第10項之方法,其中該有機溶劑是N-甲基吡咯烷酮。 1Z如申請專利範圍第9項之,方法,其中微粉化係在使用熱 空氣之噴射硏磨機中而進行。 13. 如申請專利範圍第9項之方法,其中矽酸水凝膠係在使 用熱空氣之噴射硏磨機中予以微粉化以並乾燥成30至 65WT% 之水份含量。 14. 如申請專利範圍第9項之方法,其中矽酸乾凝膠係在使 用熱空氣之噴射硏磨機中予以微粉化並調節成〇至 10WT% 之水份含量。 15. 如申請專利範圍第1至8項中之任一項之消光劑,其係 用於水系塗覆劑塗料或漆中。 16. 如申請專利範圍第9至14項中之任一項之方法,其中 所得到消光劑係用於水系塗覆劑塗料或漆中。 17如申請專利範圍第1至8項中之任一項之消光劑,其係 用於水溶性輻射固化漆系統中。 18.如申請專利範圍第9至14項中之任一項之方法,其中 所得到消光劑係用於水系溶性輻射固化漆系統中。 — 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) I II « J 訂 ^ AWI (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19816362A DE19816362A1 (de) | 1998-04-03 | 1998-04-03 | Mattierungsmittel auf Basis von beschichtetem Siliciumdioxid |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW500779B true TW500779B (en) | 2002-09-01 |
Family
ID=7864398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW088105292A TW500779B (en) | 1998-04-03 | 1999-04-02 | Matting agents based on silicon dioxide |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
AU (1) | AU3418799A (zh) |
DE (1) | DE19816362A1 (zh) |
TW (1) | TW500779B (zh) |
WO (1) | WO1999051692A1 (zh) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7635662B2 (en) | 1998-09-04 | 2009-12-22 | Chemipro Kasei Kaisha, Ltd. | Compound for color-producing composition, and recording material |
DE10004487A1 (de) * | 2000-02-02 | 2001-08-16 | Basf Coatings Ag | Physikalisch, thermisch oder thermisch und mit aktinischer Strahlung härtbare wässrige Zusammensetzungen und ihre Folgeprodukte sowie deren Herstellung |
CN101003499B (zh) * | 2000-03-02 | 2011-01-19 | Chemipro化成株式会社 | 生色组合物和记录材料 |
WO2001066515A1 (fr) * | 2000-03-02 | 2001-09-13 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Substance chromogene et materiau d'enregistrement |
ES2290625T3 (es) * | 2003-05-14 | 2008-02-16 | Evonik Degussa Gmbh | Silices de precipitacion modificadas en la superficie. |
US7560587B2 (en) * | 2004-12-04 | 2009-07-14 | Xerox Corporation | Bis[urea-urethane] compounds |
CN1330714C (zh) * | 2005-01-18 | 2007-08-08 | 武汉理工大学 | 可诱导聚氯乙烯结晶的纳米二氧化硅制备方法 |
CN101585977B (zh) * | 2009-06-12 | 2012-12-19 | 武汉理工大学 | 一种聚丙烯增强增韧改性剂的制备方法 |
DE102009045109A1 (de) | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte Semi-Gele |
EP3630882A4 (en) | 2017-06-02 | 2021-02-24 | W.R. Grace & Co.-Conn. | COATED PARTICLES AND METHOD OF MANUFACTURING AND USING THEREOF |
CN113382804B (zh) | 2019-02-01 | 2023-06-23 | 格雷斯公司 | 基于二氧化硅的消光剂及其制备和使用方法 |
EP4021970A4 (en) | 2019-08-30 | 2023-09-27 | W. R. Grace & Co.-Conn. | SILICA-BASED MATTIFYING FORMULATIONS AND METHODS OF MAKING AND USING THEM |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2822908C2 (de) * | 1978-05-26 | 1980-03-20 | Byk-Mallinckrodt Chemische Produkte Gmbh, 4230 Wesel | Thixotropiemittel für Überzugsmittel |
DE3706860A1 (de) * | 1987-03-04 | 1988-09-15 | Byk Chemie Gmbh | Thixotrope zubereitungen, verwendung von polycarbonsaeureamiden zu ihrer herstellung und mit polycarbonsaeureamiden beschichtetes siliciumdioxid |
NZ232095A (en) * | 1989-02-15 | 1992-01-29 | Grace W R & Co | Flatting agent produced by milling a hydrous inorganic oxide hydrogel |
DE4032619C3 (de) * | 1990-10-15 | 1998-01-08 | Grace Gmbh | Si0¶2¶-Mattierungsmittel, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung |
ATE119929T1 (de) * | 1990-02-14 | 1995-04-15 | Grace Gmbh | Si02-mattierungsmittel, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung. |
DE19516253A1 (de) * | 1995-04-26 | 1996-10-31 | Grace Gmbh | Mattierungsmittel auf Basis von aggregiertem Siliciumdioxid mit verbesserter Effizienz |
JP3474330B2 (ja) * | 1995-10-03 | 2003-12-08 | Jsr株式会社 | 反応性シリカ粒子、その製法および用途 |
-
1998
- 1998-04-03 DE DE19816362A patent/DE19816362A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-03-30 AU AU34187/99A patent/AU3418799A/en not_active Abandoned
- 1999-03-30 WO PCT/EP1999/002160 patent/WO1999051692A1/en active Application Filing
- 1999-04-02 TW TW088105292A patent/TW500779B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1999051692A1 (en) | 1999-10-14 |
AU3418799A (en) | 1999-10-25 |
DE19816362A1 (de) | 1999-10-07 |
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