TW460555B - Water-laden solid matter of vapor-phase processed inorganic oxide particles and slurry for polishing and manufacturing method of semiconductor devices - Google Patents

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 6055 5 A7 .^ B7 五、發明說明（、） 【發明背景】： 技術範圍 本發明係有關於以氣相法合成之無機氧化物（以下稱爲『 氣相法無機氧化物』）粒子之含水固體狀物質，及以該含水 固體狀物質爲原料所製造之製造超L S I等之半導體裝置用 之硏磨用漿體。又’本發明係有關於使用上述之硏磨用漿體 之半導體裝置之製造方法。本發明之含水固體狀物質具有高 容積密度’亦容易保存或輸送。本發明之硏磨用漿體並沒有 在保存中黏性增加和膠體化以及沉降分離等問題而具有高 安定性。 發明背景 近年來將氣相法無機氧化物粒子分散於水中而成之漿體 被應用於超LSI等半導體裝置的硏磨用途，於此氣相法無機 氧化物粒子中以二氧化矽爲例，將四氯化矽在氫氣與氧氣中 反應並加水分解以合成之二氧化矽的熱解法（高溫火焰加水 分解法），或是將金屬以金屬熔點以上溫度加熱所產生之金 屬蒸氣再與氧氣反應以合成無機氧化物之那羅弗斯科技公 司法（金屬蒸發氧化法）等所謂之以氣相法合成之無機氧化 物粒子。 作爲半導體裝置之硏磨用漿體原料的氣相法無機物氧化 物粒子，由於是非常微小之粒子，其容積密度非常低。例如 燻煙法二氧化矽之容積密度約爲0.05g/cm3之程度 '燻煙法 三氧化二鋁之容積密度約爲〇.〇5g/crii3之程度、那羅弗斯科 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公楚） I I V, ‘ I ^^ - I I — I I I ί [ I I t .. * I — — — — — J I I I I I I I. J (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 460555 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（ο 技公司法二氧化矽之整體密度約爲〇 . 0 5 g / c m 3之程度。 由於該等氣相法無機氧化物粒子之整體密度低，保存或 輸送時需要大的空間進行、處理困難 '成本亦高，因此希望 能增加氣相法無機氧化物粒子之容植密度。 增加氣相法無機氧化物粒子之容積密度之方法者，例如 將氣相法無機氧化物粒子中的空氣去除之方法。然而，以該 方法有提高整提高密度至〇.2g/cm3程度之限制》 因而硏究將氣相法無機氧化物粒子分散於水等之液體中 保存/輸送：然而’氣相法無機氧'化物粒子之水性分散體極 容易凝集’而產生不安定的問題。還有，氣相法無機氧化物 粒子之水性分散體的安定之保存方法者，亦曾考慮以調整 pH値，以及添加分散劑等方法，然而以該方法在調整pH値 後或添加分散劑後的水性分散體之用途則有受到限制之情 況。 爲了避免灰塵等混入，則有半導體裝置硏磨用漿體之製 造設備裝設在無塵室或無塵櫃內的情況。可是作爲硏磨用漿 體原料之氣相法無機氣化物粒子，因其爲非常微小之粒子所 以粉塵容易飛揚’而有使無塵室之淸潔度容易降低的問題， 因此氣相法無機氧化物粒子不要有粉塵飛揚的情形發生是 所希望的》 【發明之摘要】： 本發明係有關於增加作爲硏磨用漿體原料之氣相法無機 氧化物粒子之容積密度，以達到適於保存與輸送之目的。又 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------------------訂.--------I --- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 6055 5 A7 --------B7 五、發明說明（；） ，係有關於達到避免使作爲硏磨用漿體原料之氣相法無機 氧化物粒子粉塵飛揚之目的。又，係有關於使用該適於保存 與輸送且防止粉塵飛揚之氣相法無機氧化物粒子，可達致製 造安定性高之半導體裝置的硏磨用漿體之目的__又，係有關 於達致提供.種製造使用上述硏磨漿體之半導體裝置方法 之目的。 本發明者等爲了解決上述問題而重複地潛心硏究之結果 ’發現以添加特定量的水於氣相法無機氧化物粒子中可得 增加谷積岔度’以及可經過長時間的安定保存，更可大幅減 低粉塵之發生，而以本發明即可達致。 本發明之特徵爲在以氣相法合成之1 0 0重量份之無機氧 化物粒子中，添加4 0〜3 0 0重量份之水而成之含水固體狀物 質。 本發明之特徵爲在無論以燻煙法（高溫火焰加水分解法 )或那羅弗斯科技司法（金屬蒸發氧化法）之方法所合成之 100重量份之無機氧化物粒子中添加40〜300重量份之水而 成之含水固體狀物質。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 法加在的 格 司添度圍 規 公，密範 何 技Φ積之 任 科ST-容 Φ 述 斯 h 該 m 上 吻 m 弗U ’00將 羅彳·質 1 : 那¾¾物5 爲 或J狀ο 徵 法體爲 特 煙 U 固徑 其 燥量W粒 ’ 以S含均 體 在 ο 之平 漿 爲10成該 用 徵之r且 磨 特成水圍。硏 之合之範質之 明法份之物明 發相量m3狀發 本氣重/C體本 ,以003S固， 又之 ~3~水又 等40◦含 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x 297公釐） A7 460555 ___B7 五、發明說明（Y ) 之含水固體狀物質分散於水中而形成平均粒徑爲0 . 05~ 1 . 0 # πι之分散粒f。 又，本發明爲使用上述之硏磨用漿體之屮導體裝置之製 造方法，該半導體所代表之廣泛意義爲硏磨過之晶圓、放置 及固定該晶圓之各種裝置、甚至製作該晶圓之各種裝置（即 抓取該機板之各種裝置）。 【圖示簡單說明】 第1圖（a )爲以模型顯示之行星式之混練機原理之上視圖 ，（b )爲側面圖。 第2圖（a)爲以模型顯示之中空圓筒形狀之深層型罐狀過 濾器之斜視圖、（b )爲說明深層型過濾器之厚方向之孔洞構 造及孔徑變化之模型圖。 第3圖（a )爲顯示使用第2圖之深層型過濾器之過濾系統 之一個範例的構造圖'(b )爲以模型顯示的袋式之深層型過 濾器之斜視圖。 第4圖（a )爲正面目視轉動式造粒機之模型剖面圖、（b ) 爲顯示施力於轉動式造粒機內底部之迴轉圓盤上之粒子之 說明圖、（c )爲顯示在該迴轉圓盤上之粒子轉動狀態說明圖 【發明之詳細說明】 本發明中所用之氣相法無機氧化物粒子爲以燻煙法（高 溫火焰加水分解法）或那羅弗斯科技公司法（金屬蒸發氧化 法）等氣相法合成之無機氧化物粒子，其具有高純度。在高 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公髮） -------------^1 ------訂·--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 4 6055 5 五、發明說明（g) 純度製造上以較廉價的熱解法合成之無機氧化物粒子的方 法爲佳。 本發明中所用之氣相法無機氧化物粒子者，例如氧化矽 、氧化鋁、氣化鈦、氧化锆、氧化銻'氧化鉻' 氧化鍺'氧 化釩、氧化鶴、氧化鐵'氧化鋪、氧化錳'氣化鋅等之金屬 氧化物。該等之中特別以氧化矽、氧化鋁' 氧化鈽爲佳。 含水固體狀物質之製浩卞土 可使用任意之方法進行於上述任何丨0 0重量份之氣相法 無機氧化物粒子中添加水40-300重量份之水，以製得本發 明之含水固體狀物質^ 例如以裝設有攪拌機之混合槽中添加入少量氣相法無機 氧化物粒子和水同時進行輕微攪拌混合，進行本發明之含水 固體狀物質製造。而且混合時攪拌過強，將不利於將氣相法 無機氧化物之含水物形成漿體狀之目的，因此以攪拌製造情 況時，特別必須注意該強度。 以攪拌製得含水固體狀物質之攪拌型的造粒機者，例如 大川原製作公司所製造的流動噴射造粒機或奈良製作公司 所製造的高速攪拌型混合造粒機NMG - P、NMG - Η、NMG - L型 依照本發明但不使用攪拌機來製造含水固體狀物質之方 法，其係使用轉動式造粒機或流動式造粒機等方法。 以第4圖（a )模型表示轉動式造粒機之構造；轉動式造粒 機爲於圓筒51內之底部中設置迴轉圓盤52，以於該迴轉圓 本紙張尺度適用t國國家標準（CNS)A4規格（21〇χ297公釐） (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) *--------訂 --------線一. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 460555 A7 B7 五、發明說明（L ) (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) 盤5 2上供給氣相法無機氧化物粒子—起以噴霧等方式供給 水進行造粒的裝置’適宜地設定迴轉圓盤5 2之傾斜度、迴 轉數、設置深度，必要時應於迴轉H!盤5 2上設置溝枬，而 以適宜地構成該溝槽之深度、形狀 '方向、間隔等，可製得 粒徑一致之所希望尺寸的粒狀物。第4圖（b)顯示施於迴轉 圓盤5 2上粒子之力’（c )顯小某粒子之轉動狀態。於迴轉圓 盤5 2上同時以噴霧供給水於粒狀尺寸不一致之氣相法無機 氧化物粒子屮’如第4圖（b)所不爲迴轉圓盤52之迴轉方向 (接線方向）之力與離心力方向（半徑方向）之力的合力之 加成。因此尺寸不一致之氣相法無機氧化物粒子爲如第4圖 (c )所示，重複進行順著合力A的方向、順著內部周圍方向 碰撞圓筒51之內壁固、再次碰撞圓筒51之內壁面之運動： 即’以各個粒子之自轉與全體之公轉重複進行如拉住繩子般 之渦流運動。又’此時於迴轉圓盤52上之溝槽中碰撞而受 到衝擊以及剪斷而慢慢地球形化。如此一來，可得粒徑比較 一致之粒狀物。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 轉動式造粒機者爲有二，即不二粉末公司製之造粒機或栗本 鐵工公司所製之栗本型造粒機等；又，轉動式造粒機之方式 爲連續製得粒狀物之方式及以批式製得之方式。 流動式造粒機是在以送風所形成之層流中連續投入氣相 法無機氧化物粒子，與霧化之微粒水滴接觸而進行凝集造粒 。流動式造粒機者例如大川原製作公司所製之混合造粒機 ，另外亦於同機中進行乾燥工程。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 46055 5 _____B7______ 五、發明說明（i) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 該等裝置於必要時應爲了減少金屬污染，以於液體接觸 部位及粉體接觸部位施行聚尿烷、鐵氟龍、環氧樹脂等之內 襯或塗層’或者氧化锆等之陶瓷內襯爲佳。 此外，上述的各造粒機爲製得作爲本發明之含水固體狀 物質之粒狀物質的場合時所使用之裝置，而本發明之含水固 體狀物質並無對粒子形狀有所限制，例如板狀、塊狀等亦可 〇 本發明之含水固體狀物質爲粒狀之情形時，該平均粒徑 爲0.5〜100mm Φ之範圍，而以1〜30mm Φ之範圍爲佳，而以 2 - 2 0 m m Φ之範圍更佳；如較0 . 5 m m Φ小，由於流動性變差對 於計量或運送等之處理會變得困難而不方便；另一方面，如 較1 0 0 m m Φ大，由於處理時容易破裂而變得流動性不佳，對 於計量或運送等之處理也會變得困難而不方便。 當製造粒狀之本發明之含水固體狀物質情形時，該容積 密度以0.3〜3g/cm3之範圍爲佳，以0.4~2g/cm3之範圍更好 ，尤其特別以0 . 4 ~ 1 . 5 g / c m3之範圍更佳。如較小於0 . 3 g / c m5 則容易發生粉塵而不方便；另一方面，如較大於3g / cm3則 由於不易流動化，對於計量或運送會變得困難而不方便。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之含水固體狀物質之製造所用的水者爲可使用必 要純度之離子交換水等，而該水之用量則因氣相法無機氧化 物之種類、或因該一次粒徑之平均粒徑、或亦可因比表面積 等而異。相對於100重量份之氣相法無機氧化物粒子而言’ 其中水爲占40~300重量份之範圍，而以50〜200重量份之範 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 B7 460555 五、發明說明（a ) (請先閱讀背面之^意事項再填寫本頁) 圍爲佳，以6 0 ~ 1 5 〇重量份之範圍更佳；當由於作爲原料之 氣相法無機氧化物ΐ之· ¥ @ ϋ @小tb表· ιϋ積大青开多 時，需要多量的水；如水量較4 0重量份爲少，則不能製得 所希望的含水固體狀物質’或者所得之含水固體狀物質之整 體密度並不夠人：又如水量較4 0重量份爲少時，所製造的 物質之處理時會由於發生過多粉塵而不佳。水量如超過300 重量份則不能變成固體狀而不佳。 還有，但是爲了在製造後之用途沒有故障的條件下’必 要時應當亦可於本發明之含水固體狀物質中添加酸或鹼爲 佳。 硏磨用漿體之造方法- 例如將本發明之含水固體狀物質於以副迴轉軸帶動迴轉 攪拌葉同時以主迴轉軸帶動迴轉副迴轉軸之迴轉方式的混^ 練機混練槽内，必要時應添加水性溶體中加以攪拌而得本發 明之硏磨用漿體。還有’以副迴轉軸帶動迴轉攪拌葉同時以 主迴轉軸帶動迴轉副迴轉軸之迴轉方式’一般稱爲行星方式 〇 第1圖爲以模型顯示行星方式之混練機’（a )爲上視圖、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (b )爲側面圖。如圖所示，在行星方式之混練機混練槽1 〇內 ，設置在以箭頭方向迴轉於副迴轉軸a的周圍之攪拌葉11a 以及在以箭頭方向迴轉於副迴轉軸b的周圍之攪拌葉1 1 b， 同時設置在以箭頭方向迴轉於該副迴轉軸a、b的周圍之主 迴轉軸c;即行星方式之混練機爲攪拌葉在副迴轉軸之周圍 -1 0 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x297公釐） 460 55 5 A7 ----_B7____ 五、發明說明（气） 迥轉（自轉）’而且副迴轉軸在主迴轉軸之周圍迴轉（公轉 )所構成之混練機。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由於該設計之攪拌葉1 1 a、1 ] b進行複雜的軌跡運動，所 以混練槽內之流體可均勻地混練，則充分地分裂凝集體，該 結果使多星的粉體於比較少量的液體中高效率地分散成爲 可行的。 還有，雖然在第1圖中所顯示的是2支副迴轉軸分別爲a 和b的情況，但副迴轉軸爲1支亦可，而3支以上亦可。又 ，當設置複數支副迴轉軸之情形時，等間隔設置副迴轉軸亦 可…設置爲非等間隔亦可- 又，雖然在第1圖中所顯示的是1支副迴轉軸平均設置2 片攪拌葉爲1組的情況，但攪拌葉爲1片亦可，設置3片以 上攪拌葉爲1組亦可。又，在具有攪拌葉之副迴轉軸之同軸 上或在於具有攪拌葉之副迴轉軸之不同軸上設置高速迴轉 翼，而以該高速迴轉翼更能提昇分裂、分散凝集體之能力。 又，雖然在第1圖中所顯示的是主迴轉軸c或副迴轉軸a 、b以俯視爲逆時鐘方向迴轉的情況，但設定主迴轉軸與副 迴轉軸之迴轉方向爲相反方向，改變攪拌葉之運動軌跡亦可 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0 又，雖然在第I圖中所顯示的是攪拌葉11a、]lb在兩端 之間爲彎曲同時扭轉，即所謂的旋轉形狀的情況，但只要所 使用之攪拌葉形狀爲如能使混練槽中的流體均勻地混練'凝 集體能充分地分裂、而該結果可使多量的粉體於比較少量的 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 460555 ___B7__ 五、發明說明（^ ) 液體中高效率地分散的形狀時，採用其他形狀亦可。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 滿足上述要求之行星方式之混練機者例如可舉出以下列 名稱提供之混練機。例如以使用迪爾頓公司製之萬能混練攪 拌機、鮑爾克公司製之萬能攪拌機、栗本鐵工公司所製之 KPM強力攪拌機、足澤公司所製之行星式捏合攪拌機、特殊 機化工業公司製之T.K.高黏度分散攪拌機、淺田鐵工公司 製之行星式分散機等爲佳。特別是以組合進行自轉·公轉運 動之攪拌葉與高速迴轉翼（分散機）之裝置的行星式分散機 或T . K .高黏度分散攪拌機能在短時間將多量之粉體於比較 少量之液體中均勻化地分散爲佳。 硏磨用漿體分散時之濃度 由本發明之含水固體狀物質所製造之硏磨用漿體之分散 時濃度爲30-70之重量之範圍，以35〜60重量％之範圍爲 佳，而以4 5 0重量％之範圍更佳。固體成份濃度如在3 0 經溃部智慧財產局員工消費合作社印制衣 重量％以下，則會殘留多量凝集物而發生沉降•分離問題， 也有增加黏度之膠化情況：另一方面，濃度如高於70重量 %以上，則會發生裝置負荷過大而使攪拌動作停止的問題， 由於以該狀態繼續過度的攪拌動作及過剩地分散，也會有在 凝集而產生多量1 0 # m以上之粗大粒子的情況。 硏磨用漿體製造時之添加方法 在硏磨用漿體製造時，所希望的是將本發明之含水固體狀 物質以連續式或間接式的添加於水性溶體中連帶進行攪拌 處理。從一開始即將所需要量的含水固體狀物質添加進去， 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 46055 5 A7 B7 五、發明說明（u ) 亦會發生裝置负荷過大而使攪拌動作停止的問題，故以監視 混練機之電流値（負荷）同時以連續式或間接式添加含水固 體狀物質以免導致過負荷爲佳··含水固體狀物質之投入裝置 者可舉出以螺桿輸送方式等》 硏磨用漿體之製造中所用之本發明的含水固體狀物質相 較於使用粉未之無機氧化物粒子的情況，添加時間的縮短是 可能的，亦可大幅提昇裝置之運轉效率。 於漿體中鹼或酸之添加 添加本發明之含水固體狀物質所得之漿體中，以添加酸 或鹼因而提昇最終所得的硏磨用漿體之安定性爲佳。於添加 酸之情況時’最終稀釋後所得之硏磨用漿體之pH値以7〜2 之範圍爲佳；於添加鹼之情況時，最終稀釋後所得之硏磨用 漿體之pH値以72之範圍爲佳。pH値較2爲低時或較1 2 爲高時，則會發生無機氧化粒子溶解或凝集等問題。 酸或鹼的添加時間爲預先添加於本發明之含水固體狀物 質中之方法、攪拌途中、混練後之任何步驟均可。 酸則可使用例如鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸等之無機酸， 或醋酸、鄰苯二酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、聚丙稀 酸、馬來酸 '山梨酸等之有機酸，而以具有1價酸之鹽酸、 硝酸、醋酸爲佳。 鹼則可使用例如氫氧化鈣 '氫氧化鈉、氫氧化鋰、氣等 無機鹼基 '乙稀基二胺、三乙烯基胺、對二氮己環等之胺類 等。 本纸張尺度適用_國國家標準（CNS)A4規格<210 X 297公釐） -----------I r Μ.------f 訂·---------I-- {請先閱讀背面之;i意事項再填寫本頁) 460555 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（) 漿體之稀釋 使用本發明之含水固體狀物質所得之漿體或於該漿體中 添加酸或驗所得之糜體’於混練步驟後被稀釋是所希望的。 稀釋的程度雖然因經分散之無機氧化物粒種類或混練時 之固體成分濃度之不同而異，如以水性溶體稀釋，混練時固 體成分濃度較5重量％程度之上時’希望降低固體成分濃度 ;混練步驟時爲原來之固體成份濃度則不只因爲高黏度而 導致處理上的困難，同時更由於黏度增加而發生所謂膠體化 的問題。稀釋的方法爲以直接投入水性溶體之方法1因而變 得較容易自混練機中取出爲佳。混練步驟之後，爲了更爲提 高其均勻性，進而使用其他附有分散裝置之混練機進行分散 處理而得本發明之硏磨用漿體：於該情況下，以使用例如 型高速攪拌分散機、均相攪拌機、高壓均勻分散機機、薄膜 旋轉型高速攪拌機、或玻璃珠硏磨機爲佳。 又，在前述之混練機、分散裝置、粉體投入裝置中，爲 了儘可能防止硏磨用漿體之金屬污染的發生，以於內壁或攪 拌翼等之接觸液體部份·接觸粉體部份，施以聚尿烷或鐵氟 龍或環氧樹脂等之內襯，或是氧化锆等之陶瓷內襯達成提高 耐磨耗性之目的爲佳。 用於分散步驟之裝置的其他範例 在前述之行星方式的裝置之外，於硏磨用漿體之製造步 驟中，例如可使用以流體相撞分散之高壓均勻分散機。高壓 均勻分散機者可爲同榮商事公司之均勻分散機'日本精機製 -1 4 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） -------------^ -------訂--------- (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 460555 A7 ____ _____B7__ 玉、發明說明（I’） 作所公司之貝魯托利均勻分散機、三保I業公司之微流體化機、 月島機械公司之奈米化機、白水化學工業公司置之金那氏 P Y 、日本蜂公司之系統組織機、伊藤忠產機公司之終端機 等。薄膜旋轉型高速攪拌機者可爲特殊機化工業公司製之塡 充攪拃機。又，亦可使用如玻璃珠硏磨機之分散機 玻璃珠 之材料者以例如無鹼玻璃 '三氧化二鋁、銷石、氧化锆、二 氧化鈦 '氧化矽爲佳。 硏磨用漿體之製造處理爲使用一種分散機亦可，多數次 使用2種以上之分散機亦可。在分散步驟中使用加裝於行星 方式裝置之行星方式以外的情況時，爲了儘可能防止硏磨用 漿體之金屬污染的發生’以於內壁或攪拌翼等之接觸液體部 份·接觸粉體部份，施以聚尿烷或鐵氟龍或環氧樹脂等之內 襯’或是氧化銷等之陶瓷內襯達成提高耐磨耗性之目的爲佳 ’和前述之行星方式之裝置的情況相同。 硏磨用漿體之渦濾 爲了充分除去存在於本發明之硏磨用漿體中之粗大粒子 ’於硏磨用漿體製造之方法的混練後1進而以過濾器進行過 濾處理爲佳。該過濾器者可使用深層型之深層罐狀過濾器或 過濾袋式之過濾器。深層型之深層罐狀過濾器者可爲高技東 洋公司或日本極公司等之製品。又，過濾袋式之過濾器者爲 IPS公司之製品。 上述之深層型之過濾器中，其過濾材質之孔洞構造可爲 於入口側粗而於出口側細，而且從入口側隨著向出口側以連 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格mo X 297公釐） -------------Μ--— — — ί — 訂 I 1--I-- (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 460555 A7 B7 五、發明說明（w) 續式或階段地變細之一體成型之過濾器。由於深層型之過濾 器之過濾材質非常厚（例如：0 . 2〜2 c m )，可從通過該過爐 材質之流體中捕捉多量之異物》 第2圖（b )中展示深層型之過濾器的過漉質材之一個範例 。如圖所示，其孔涧構造爲於流體之進入（人口）側粗大而 排出（出口）側細小，而且設計如從進入側隨著向排出側以 連續式或階段地（階段爲1階段亦可，2階段以上亦可）變 細之一體構造的厚度d之過濾材質。這樣一來’粗大粒子中 '之較大粒子於進入側附近被補捉而比較小之粒子則於排出 側附近被捕捉，整體而言，粗大粒子於過濾器之厚的方向之 各部份中被捕捉。該結果爲確實進行粗大粒子之捕捉同時不 難估計具有可延長過濾器壽命之效果。 如於第2圖（b)中所示之所希望之深層型之過濾器之過濾 材質，雖纖維粗大但設計爲於流體之進入（入口）側粗而排 出（出口）側細，在由進入側至排出側之各部份的空隙率大 約一樣。於此，空隙率爲於與流體通過方向垂直之平面上之 剖面中的空隙面積率（空隙面積/(空隙面積+過濾材質面 積））。由於在由進入側至排出側之各部份的空隙率大約一 樣，使過濾時之壓力損失變小而粗大粒子之捕捉條件在厚的 方向變得大約一樣•進而可使用較爲低壓之幫浦。 具備上述過濾材質之深層型過濾器以如第2圖（a)所示之 中空圓筒形狀之罐狀過濾器20 1亦可，又，如第3圓（b )所 示之袋狀型式之過濾器202亦可。在中空圓筒形狀之過濾器 -1 6 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x297公釐） -------— — If — — 壯、 — — —— — — — ^ <11 — — — — — — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 46〇555 ___B7_____ 五、發明說明（β) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 20 1的情況時，具有可設計過濾材質之厚度爲所希望厚度之 優點。袋狀型式之情況時，由於在2 0 0部份（參照第3圖U ) )內設置流體由袋內向袋外通過型式之過濾器，於交換時， 具有可一起將被過濾物與過濾器2 0 2除去之效果。 如使用例如於第3圖（〇所示設置於2 0 0部份內過濾器之 該深層型過濾器，可由混練步驟後之漿體中將粗大粒子除去 。還有，除去對象之粗大粒子之粒徑可由適當地選擇過濾器 之孔洞構造。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第3圖（a )展示的是於分散機1 〇 1內之水性溶體中添加本 發明之含水固體狀物質並分散而製造硏磨用漿體，而將該硏 磨用漿體貯存於容器桶1 02之後，由該容器桶丨02送出之幫 浦P壓送至過濾器部份200中，以於該過濾器中設置之過濾 器201 (或202 )過濾之後，以經閥VI再返回容器桶102內 重複進行循環操作將硏磨用漿體內之粗大粒子充分除去後 ，關閉閥V 1同時打開閥V 2，將粗大粒子除去後之硏磨用漿 體貯存於容器桶300內之系統。還有’第3圖（a)中所展示 之循環式之系統爲使用一次通過之系統亦可。又，一次通過 方式之情況時，以空氣壓力等加壓容器桶來取代加壓幫浦P 之過濾器處理亦可。 還有，爲了由硏磨用漿體除去粗大粒子，亦可組合使用 離心分離法。又，於前段組合使用孔洞構造大之過瀘器作爲 預過濾器，進而不難估計具有可延長深層型過濾器之壽命的 效果。 -1 7 - 本紙張尺度適用中國固家標準（CNS)A4現格（210 X 297公釐Ί 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4^'〇5S§ A7 __B7_五、發明說明（…） 【實例】 以下爲本發明之實例說明。 於以下各實例中，含水率由將所製造之含水物於2 5 0 °C加 熱2 0分鐘後減少之重量計算而得。又 > 容積密度由將所製 造之含水物約500g裝入1000毫升之量筒中，基於該重量與 容積計算而得。 含水固體狀物質之實例 實例1 於3升之塑膠製燒杯中裝入4克氧迪爾#50 (以熱解法製 造之Si02粉末，容積密度爲0.05g/cm3，日本氧迪爾公司製 )，並添加約5克之離子交換水於燒杯中|以振動燒杯方式 加以混合。 再來添加4克之氧迪爾#50與約5克之離子交換水以振動 燒杯方式加以混合。以如此重複之操作，而得於合計40克 之氧迪爾#50添加約50克之離子交換水之均勻含水粒狀物 〇 再來以上述之重複操作而得900克之粒狀物。 所得粒狀物之粒徑爲槪略1 ~丨〇mm之範圍’以光學顯微鏡 攝影所測定之1 0 0個以上之粒子粒徑而求得之平均値’具有 之平均粒徑爲。又，具有平均之含水率55% 、容 積密度爲0 . 70g/cm3。 實例2 除了使用氧迪爾#90 (以熱解法所製造之Si〇2粉末’容積 -18- -----------I - --------訂·! I —---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 60555 A7 B7 五、發明說明（π ) 密度爲0.05g/cm3，曰本氧迪爾公司製）以取代氧迪爾#50 之外，與實例1相同方式製得粒狀物》 所得粒狀物之粒徑爲槪略丨~ 1 〇 m m之範圍’以與實例1相 同方式求得之平均粒徑爲6 . 2 m m Φ。又’具有中均之曰水率 5 5 % 、容積密度爲〇 . 7 2 g / c m 3。 實例3 除了使用氧迪爾# 2 0 0 (以熱解法所製造之S 1 02粉末’整 體密度爲〇.〇5g/cm3，日本氧迪爾公司製）以取代氧迪爾#50 之外，與實例〗相同方式製得粒狀物。 所得粒狀物之粒徑爲槪略卜1 之範圍，以與實例1相 同方式求得之平均粒徑爲6·4ηιιηΦ。又’具有平均之含水率 55% 、容積密度爲〇.68g/cm3。 實例4 除了使用氧化鋁C (以熱解法所製造之氧化鋁粉末’璧—I 密度爲0 . 0 5 g / c m3 ，日本氧迪爾公司製）以取代氧迪爾# 5 0 之外，與實例1相同方式製得粒狀物。 所得粒狀物之粒徑爲槪略卜I 〇mm之範圍，以與實例1相 同方式求得之平均粒徑爲3 · 8mm Φ。又，具有平均之含水率 55% 、容積密度爲0.7lg/cm3。 實例5 除了使用那羅弗斯科技（以金屬蒸發氧化法所製造之T 1 〇2 粉末，整體密度爲〇 . 2 6 g / c m3，C I化成公司製）以取代氧迪 爾# 50之外，與實例1相同方式製得粒狀物。 -1 9 - 本紙張尺度適用申國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

--------I — ^--- — — — II I I A7 B7 4 60555 五、發明說明（d ) 所得粒狀物之粒徑爲槪略1〜1 0 m m之範圍，以與實例1相 同方式求得之平均粒徑爲6 . 5 m m Φ。又，具有甲均之含水率 5 5 % 、容積密度爲0 . 7 1 g / c m3。 實例6 於具備實驗用Μ拌器（東京理化機械公司製攪拌器，混 合機U100型）之20升塑膠製容器中，裝入40克之氧迪 爾# 5 0並於慢慢擾拌同時，以噴霧方式添加5 〇克之離子交換 水。 於形成階段搜押粒狀物问時’再加入40克之氧迪爾#50 ，並於慢慢攪拌同時以噴霧方式添加50克之離子交換水。 以重複上述之操作而得由合計400克之氧迪爾#5〇與500 克之離子交換水形成之粒狀含水物。 所得粒狀物之粒徑爲槪略1 ~ 1 2 m m之範圍，以與實例1相 同方式求得之平均粒徑爲7.2ίπηιΦ。又，具有平均之含水率 5 5 % 、容積密度爲0 . 7 1 g / c m3。 實例7 使用具有富士粉末公司製之轉動式造粒機之造粒機製造 含水粒狀物。 即，於迴轉圓板5 1 (參照第4圖（a ))迴轉同時，個別添 加平均約50克之氧迪爾#50及以噴霧方式添加平均約40克 之離子交換水，製得由合計約1 000克之氧迪爾#50與約800 克之離子交換水形成之粒狀含水物° 所得粒狀物之粒徑爲槪略5 ~ 1 0mm之範圍，以與實例1相 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x 297公爱） -------------i -------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Μ

Claims (1)

1. 4 6055 A8 B8 C8 D8 六 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 申請專利範圍 h —種含水固體狀物質’其特徵爲於100重量份之以氣相法 合成之無機氧化物粒子中添加40〜300重量份之水。 2 .如專利申請範圍第1項之含水固體狀物質’其中無機氧化 物粒子是以燻'煙法或那羅弗斯科技公司法之任一方法合 成之無機氧化物粒子。 3 .如專利申請範圍第丨項之含水固體狀物質’其中含水固體 狀物質係具有容積密度範圍爲〇.3~3g/cm3及其平均粒徑 範圍爲0.5〜ΐΟΟιηιηΦ的粒狀體。 4. 一種硏磨用漿體1其特徵爲於1〇〇重量份之以氣相法合成 之無機氧化物粒子中添加40〜300重量份之水而形成之含 水固體狀物質*並於水中分散後所形成的分散粒子之平均 粒徑爲 〇.〇5〜1.〇/·ίηι。 5. —種製造含水固體狀物質之方法，其係具有容積密度範圍 爲0.3~3g/cm3之範圍、平均粒徑範圍爲0,5〜ΙΟΟηιηιΦ，其 中於裝設在筒內之底部之迴轉板上，以100重量份之無機 氧化物粒子相對於4 0〜3 0 0重量份之水之比例，來供給氣 相法合成所需之無機氧化物粒子與水，循環操作以由前述 迴轉板面所施之力將前述無機氧化物粒子或水之混合物 衝撞於前述筒內壁及迴轉板面上。 6 . —種半導體裝置之製造方法，其特徵爲使用如申請專利範 圍第4項之硏磨用漿體製造半導體裝置。 -24 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------fv--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· i線_