TW455549B - Lithographic imaging with constructions having mixed organic/inorganic layers - Google Patents

Lithographic imaging with constructions having mixed organic/inorganic layers Download PDF

Info

Publication number
TW455549B
TW455549B TW088104475A TW88104475A TW455549B TW 455549 B TW455549 B TW 455549B TW 088104475 A TW088104475 A TW 088104475A TW 88104475 A TW88104475 A TW 88104475A TW 455549 B TW455549 B TW 455549B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
item
ink
please
fan
Prior art date
Application number
TW088104475A
Other languages
English (en)
Inventor
Thomas E Lewis
Original Assignee
Presstek Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Presstek Inc filed Critical Presstek Inc
Application granted granted Critical
Publication of TW455549B publication Critical patent/TW455549B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/20Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by inorganic additives, e.g. pigments, salts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

經濟#智慧財查局員工消費合!TTi. A7 __B7_五、發明說明(Μ申請案 本案源自1998年3月23日提出的美國臨時申請案 6 0 / 0 7 9,0 2 1 號。發明背鲁 链明節臁 本發明係關於數位式印刷裝置和方法,尤指使用數位 式控制的雷射輸出,在石版印刷板構造加壓或減擊之成 法 像 上 件 構 刷 印 在 現 呈 像 圖 性 刷 印 中 術 刷 印 販 石 相 照 在 性 油 親 /t 墨 油 受 接 有 具 為
面 表 的 \f/ 性 油 疏 /1 墨 油 斥 hF 將印 地的 確用 正利 可統 即系 , 印 域乾 區 。 等中 此質 於介 加錄 腌記 旦到 一移 墨轉 油地 ο 效 型有 圖式 的型 Μ燁 區阃 容圖 以將 , 僅 性 , 斥墨 拒油 的的 分上 充件 有構 墨刷 油印 對於 件加 部胞 斥勻 排均 墨。 油用 其胞 ,接 件直 構其 刷許 毛紙 為於 稱像 與圖 先加 件施 構而 刷從 印簡 , 圓 地該 型 -典觸 。 接 中面 質表 介間 錄中 記順 到柔 移的 轉筒 型圓 像毯 介 錄。 記觸 ,接 内筒 統圓 糸毯 刷毛 印與 紙其 頁帶 WSJ-ΒΙ hv όΜ , 型内 典筒 在圓 C 印 質壓 介在 錄定 記固 他被 其係 或質 由Μ 藉可 ,液 性溶 水} 1J 親 係 域 區 像 圖濕 非潤 ,加 裡 _ 統板 系 對 刷先 印 , 販前 石之 式墨 濕油 在上 在 水 泉或 油 安 止 板 防。的 可性型 液油典 溶親上 水的術 泉域技 性區刷 著慷印 黏圖統 墨響傳 油tiV 。不影 性但顯 斥 ,相 排域照 墨區的 油像煩 的圈麻 需非暇 所於克 供黏為 提墨 -------------裝·-------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 455^49 A7 _B7_ 五、發明說明(2) 裝和板對齊操作,實務上已開發出電子的變通方法,把 圖像型式儲存成數位形式,把圖型直接印到板上。可接 受電腦控制的板成像裝置,包含各型雷射。例如美國專 利5,351,617和5.385,092號(全部内容於此列入參考)記 敕可燒鈾記錄系統,使用低功率雷射放電器,依圖像型 式除去一曆或多層石版印刷胚料,因而產生立即甩接受 油墨印刷之構件,不需經照相顯影,按照此等系統,雷 射輪出是從二極體導至印刷表面,並聚焦在該表面(或 視需要聚焦在對雷射燒鈾最敏感之層,一般是在表面曆 的下方)。 美國專利申請案08/700,287和08/7 56,267號(全文在 此列入參考)記載該成像裝置所用的各種石版印刷板造 型。一般而言,板構造包含無機層(即金羼,金羼之組 合物,或金觴/非金靥化合物),位在有機聚合物曆上 。無機層因應成像輻射ί例如紅外線或IR)而燒蝕。在 一項措_中,無機層代表板的最頂面,接受泉水溶液, 同時下方聚合物曆接受油墨。在另一項措施中,無機層 ;--—.1-裝---------—訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 油的間後一墨圖 受波的像上油之 接脈定成板或點 層像錨在於墨斑 下成其層 ,油該 JW用 Η 頂一對 , -利加最任 ,同 能,此得之點不 功液,使施斑域 } 溶曆 ,措像區 刷水頂}項圓光 印泉最故二生曝 版受弱之此產未 石接減失以會與 非或會消。後 , 而墨也層去最性 ί 油般機除 *和 收斥一無易波親 吸排,蝕容脈的 射則触燒中像體 賴曆燒於软成滾 於上層由步加性 用,櫬 ί 洗施著 只墨無斷清點黏 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A,〗規格(210 >=297公釐) A7 _B7五、發明說明(3) 於 由 制 Mr 7> 能 效 及 K 戰 挑 成 ο 造 像產 圖生 板對 刷 會 印板 版之 石型 成類 形等 即此 型 岐要 分 能 層效 同的 不鍵 該關 。 次 故 一 之 ί 渡定 過錨 然此 突彼 間其 層使 物 , 合性 聚特 機學 有化 和和 層理 機物 無的 有使 和即 物 , 機數 無模 為性 因彈 ,和 如數 例係 ο 脹 協膨 妥熱 性的 久同 耐不 的為 曆極 機有 無上 Μ 典 丨物 件機 上因時 用的在 使件存 和條獨 作在單 操外身 板對本 或層曆 化鄰一 變相任 度 二 是 溫。但 於^)-裂 由 懷 © 會 損 也ϊ成 層效造 楗失易 無而容 的故會 著之 , 黏力同 美應不 完的應 生 發 會 不 卻 可 擇用 選利 性如 容例 相 C 學理 化處 的預 物可 機亦 無 , 與} 於物 基塗 可間 , 中 定為 錨做 間或 層 f 進層 改物 為合 聚 的不 加本 胞基 後對 隨施 與措 使等 -此 面 , 表而 進然 " 改=限 K性有 ,容途 層相用 物面果 合界效 聚的渡 丨大過 漿更的 電有間 於層料 露機材 曝無同 1J骚 明 說 沭 槪 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 . 經濟部智慧財產局員工消费合泎社 過 變面 改界 以少 ,減 份 ’ 成能 機性 無效 加有 添的 内層 質機 母有 層 } 機上 有其 在加 用陁 利層 明機 發無 本將 和第將 層的即 機物輿 有 含 < 鄰聚物 相化機 有热無 具可積 括括澱 包包面 明將表 發 ο 的 本法物 ,製合 面之聚 層板化 一 刷軟 第印在 在眼而 。 石 , 猝的化 倉層軟 之 機麖 渡無一 方合 份聚 成質 組軟 在於 , 合 下整 況並 情 * 些 h 某面 在表 或茌 性佈 容物 相機 有無 層將 機 。 無丨 之同 加相 _ 面 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 455549 A7 _B7_ 五、發明說明(4 ) 物層內;在此點,可能需協肋無機物移入聚合物内(例 如充電無機物,並對聚合物下方的導體_Μ相反電荷) 。再將聚合物熟化,使整合锻積材料固定,因而形成複 合物,並在澱積無機物(Μ及聚合物的任何曝光部份) 上腌加所霈無櫬曆》此第二無機層,Κ及可能先前已猴 積的無機物,利用雷射輻射曝光,而受到燒蝕除去。第 二無機層和有機/無機複合物,對油墨和/或油墨黏著 性流髑的親和性不罔。無機層可例如為金靥性無櫬物, 如美國專利申請案08/700,287和08/756,267號所載。儘 管該無櫬物引進於聚合物母質内,通可持有聚合物的自 然親和力特性(例如親油性)。例如,雖然有機相對複 合物的蜊性和傳熱性有重大影響,因而增進與純無機層 的物理相容性,卻不會重大影響表面能量(故複合物保 持原聚合物特徵之對油墨和/或油墨黏著液之親和性)。 澱積材料可完全覆蓋聚合物料之表面,在上面肜成連 續層,或改為在表面上形成時斷時鏔之圖型。在前一種 情況下,成像輻射可從聚合物除去第二無機層和澱積材 料,使複合物表面曝光。 聚合物一般選擇是為了其石版印刷親和性特激,也為 了熟化成硬質立艘结構之能力,可將無櫬澱積材料永久 固定。不適於本發明的聚合物是玻璃轉化溫度低者(容 許在軟態和硬態之間重複與溫度有關之過渡),除非有 交聯基方便永久熟化(因而破壊進一步的.相過渡)。在 較佳具體例中,聚合物包括丙烯酸聚合物,與多官能性 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNShVl規格(210 X 297公釐> ;-ί-^-----r---J 訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財查局員費合咋-:1-_"". Λ/ ____Ι£ 五、發明說明(5) 丙烯酸酯單體組合,在無機物澱積後交聯。丙烯酸酷一 如許多無機豭積物,可在真空下澱積,使整個製程可在 里一操作中進行。 —般而言,澱積物具油墨接受性,而第二層為親水性 。然而,不必必定這種情況,也不是此等親和性特性造 成需使用濕板。例如,美國專利申請案08/700 ,287號所 述,第二層可在具有不同親和性特徵的頂塗下方。第二 層燒蝕會干擾頂塗的錨定,使其容易在成像後清洙步驟 中除去,透露出澱樓物(Μ及可能聚合物層)。頂塗在 乾板情形時,可為矽酮或氟化聚合物,如需頂塗聚合物 之濕板,則採用親水性聚合物。當然,在無機第二層上 1¾加聚合物層,可引出藉用無機濺潰物解決的同樣相容 性議題。 在第二_面,Μ接鑲毅積步驟在基材上建造格子結構 。聚合物母體和無機填料二者分階段澱積,各階段含聚 合物對填料之所需比率。在較佳具體例中,各階段中的 填料比例增加,Κ致濃度梯度是離基材愈遠而填料童愈 高。聚合物母體可在各階段澱積後熟化,將有機物和無 機物的分佈永久固定。結構表面腌加頂層,頂層和表面 對油墨和/或油墨黏著流體之親和性不同。頂層(而非 下方的格子结構)可藉曝露於電射輻射下而燒蝕除去。 聚合物母體和填料可呈蒸氣或液體澱積。在一具體例 中,母體係與多官能性丙烯酸酯單體組合之丙烯酸聚合 物.熟化步驟使輩體與聚合物交聯。結構仍然是典型上 -------------裝--------訂---------線 (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁} 4 9 A7 B7 五、發明說明(6 溻 為 需 不 是 果 結 但 性 水 親 為 層 機 無 積 澱 而 性 油 親。 的板 擇輸可 選其 , , , 位 内發部 型散定 圖射選 的輻的 像之曆 圖上機 依M無 可或蝕 板一燒 刷自K 印如 , 販例} 石 < 面 明射表 發輻板 本像個 ,成整 時於於 用光描 使曝掃 性出 列,表 行此或 的於件 點。構 特質刷 像介印 圖錄之 成記像 生到圖 接移錄 直式記 而方可 ,知種 位習何 部M任 光並指 曝 ,J 的墨件 物油構 積加卩 殺 _ 或 上板 J 加對板 能ο·Γ 的版 同石 不之 有坦 液平 溶上 水統 泉傳 或含 \ 包 和型 墨構 油當 對適 示 ; 顧定 由界 係所 像域 圖區 等之 此性 , 和 面親 印筒躕 刷 式 圓 含 包 可 〇 亦置 但配 .他 上其 筒或 圓帶 板端 的無 機, 刷 } 印面 在輥 裝之 安筒明 係圓說 其板 s ,如鮪 板例之 明 為 更 可 即 明 說 下 之 明 發 本 及 圖 附 照 參 在 明 : 說中 述其 前 , 白 第随第 和 意 2 、 之 層.,層 機圖機 無面無 的斷的 面大面 上放上 、 之和 材板材 基刷基 機印機 無版無 \ 石/ 機的機 有層有 合物子 混合格 有聚有 具面具 為頂為 圖最圖 --------------裝— f'.I . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· .線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖明 面說 斷细 大詳 放之 板例 刷體 印具 販佳 石較 一 近 少接 至 X 含sa 包 λ 丨其 置即 裝 , 像應 成響 的射 用發 使内 件區 構板 刷大 印最 明在 發可 本 , 與備 於設 適射 雷 -其 規 ί 格内 射號 雷 9 的,0 射85 發3’ 區5 R 和 I 7» 延61 在1, 5 ο 3 區5, 長案 波利 之專 強國 最美 收於 吸明 板載 約全 大完 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 _B7五、發明說明(7) 射 雷 之 ri 發 域 區 他 其 的 ip 光 磁。 電知 在公 , 所 i 士 考之 參道 人此 ΗΜ Λ、' XV 沪 文精 全為 和 號引射 92導雷 ,0束方 85光遠 θ他從 5其纜 或電 61鏡纖 1’透光 3'5藉用 5,可使 述出或 上輸 , 於射面 列雷表 詳,板 亦之至 型古c 供 造簡提 像。接 成利直 當專 , 適國件 美組 維出 ,輸 體掐 硬掃 位面 定表 關在 相 , 和向 器導 制確 控準 ο 之 面面 表表 板板 刷於 印對 材相 胚出 至輸 送束 傳光 , 持 器文 制版 控原 ο 的 化上 活板 置在 位印 之複 域要 區於 或當 hp 目 紮 柙 定其 選 , 的號 板信 接像 郯圖 在之 射人 雷進 使應 , 因 號區可 信光 P ΎΙ* 像用 β 圖利, 。 可如 像案例 圖檔。 Η 該生 正 。 產 或案置 Η 權裝 負科當 確資通 準圖他 的地其 版元或 原位} 成成IP 製存iR ,儲機 案上理 阃睬理 或電像 件在闞 板案頻 刷檔幕 印料映 到資及 移像M 要圖 , 需上調 義 Μ 色 定或的 其一色 ,和顔 料言義 資語定 入述以 輸敘用 的頁係 ^目紙 _ 語或地 述,元 敘點位 頁特。 紙有合 受所鉬 接的之 可像 亦圖 » 加 作施 操於 來可 機 , 版下 製況 做情 當一 可後 時在 用 。 使内 獨板 單 刷 身印 本版 。置石 度裝入 角像併 和成接 率 直 ----------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂. .線 經濟部智慧財產局員工消費合作社. 裝以然 安 ,顯 機器。 壓錄面 的記外 多筒或 當滾面 相或内 少器形 減錄筒 而記圓 因床的 , 平筒 刷成滾 印造在 始構裝 開可安 刻裝料 立裝肝 後像板 板成刷 材。印 杯間版 於時石 ,0 用滾 使的 地器 原圖 在描 合或 適器 較錄 計記 設成 筒構 滾身 部本 外筒 上 圓 機刷 刷印 印 ’ 版 Τ 石況 於 情 。 , 此件 地在組 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 455549 A7 B7 五、發明說明(8) 在滾筒構型中,雷射光束和板間所需的相對蓮動係藉 滾筒(和上面安裝的板)繞其軸線轉動,並平行於轉動 軸線來移動光束,Μ此對板沿周掃描,使圖像按軸向 「成長」。另外,光束可平行於滾筒軸線移動,每次通 過板後,按角位漸增,使圖像沿周「成長」。在二情況 下,利用光束完全掃描後,相當於原版文件或圖彤的圈 像(正像或負像),已施加於板的表面。 在平床溝型中,光束是拉過板的任一軸線,並在每次 通過後沿另一軸線索引。當然,光束和板間之所箱之相 對蓮動係由板運動而非(或另加)光束蓮動所產生。 不論光束的掃描方式如何,一般(對上壓機應用)宜 採用複數莆射,並將其輸出導至單一書寫行列。在每次 超過或沿板完成後,書寫行列再索引由行列所散發光束 數Κ及所需析像度(即每單位長度的圖像點數)決定之 距離。,下壓機應用時,其可被設計成配合極快速的板蓮 動(例如藉用高速度馬達),因而利用高度雷射臁波率 ,而經常利用單一雷射為成像源。 本發明代表性印刷構件如第1圖和第2圖所示。在第 1圖内,印刷板〗00包括聚合物層102和無機層104 。 澱積物106整合在聚合物102母質内,並隳篕此層全部 或大部份的頂表面,提供層102和104間之過渡層106s 。雖然衬料106事實上可能與層102的聚合物之化學相 容性,未必優於與層104之無機物之化學相容性,但其 在層102的母質之物理性整合,提供強力的機械黏著性 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2KU 297公釐) 7—'!^--------—訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 _B7五、發明說明(9) 層 面 表 示 ct> 圃 如
J 甲 指 Γ 或 部 突 的 列 系 1 M 物 合 聚 入 層 定 錨 固 牢 0 内 質 母 層 機 無 與 即 性膠 著塑 黏 、 質屬 實金 的為 層可 此 ο 對11 示材 顯基 Μ , 所下 J 如 性法 容製 相 ο 學10 化板 呈 聚 如 例 合烯 聚丙 受為 接如 上例 其可 •料 料材 材性 術合 藝聚 面此 平。 的 2 用10 耐層 他成 其形 或 , , 瞋 紙塗 、 料 ) 材 酿性 丙由 ο I 劑合 溶組 他體 其單 或酯 /酸 和烯 ) 丙 K -J 二 Ε 性 H fct ^—-., 酮功 丁 多 於 的 溶用 可選 其與 ,物 物合 合聚 聚系 糸酸 酸烯 有合 酯混 酸物 烯合 丙聚 性低 能降 官並 多性 。 普 上黏 ο 進 11促 材 -基用。 於作丨. 丨之點 造劑熔 鋪塑ί ( 可 佈酯 塗的 劑型 溶典 點LC 化RY tiAC 的物 物合 聚 糸 酸 烯 丙 的 應 供 司 公 斯哈 art P 羅 可 劑 溶 的 當 適 表 代 <請先閱讀背面之注音心事項再填寫本頁) -裝· - 訂* 壓 性 溶 例 /— ί 賄 酸 烯 丙 五 醇 四 戊 季 上 力 供 Γ 露 暴 。 其 酯在 酸 , 烯點 丙化 性軟 ΞΙ WHJ. 0 ί 官熱 多加 的樹 當 合 適混 表糸 代酸 丨烯 品丙 產的 99生 ?產 SR材 的基 應 / 互一 和屬與 靨金屬 金之金 上成種 Κ組多 或率或 一 比種 括定 一 包一有 6 按含 10藺或 料金 \ 材種和 。多S) 6 或ic 10種II 物二ta 積,nle 殺金er 加合nt _ 屜 Π 面金物 表或化 -1線' 經濟部智慧財產局員工消費合"社.1·"·:- 非為 佳可 較亦 之 6 II Λν 用 1 物物 成積 組0 種 。 此矽C 、 物氟 成、 組氧 之 、 合氮 組 鼷碳 金 、 非硼 種含 多包 或賜 種金 包 可 物 積 0 是 的 強 應 。 t 質 砂.物 化同 氧不 二數 如複 諸的 , 準 物標 合述 化 h 機 合 無符 硬括 璃真 玻« 用可 利 6 或10 ,物 法機 ) 無 絡 -網外 ( 另 塗 輥加 知胞 習機 用動 利運 可馱 6 間 o hv H £〇. 物用 機採 無法 塗 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(10) 空塗法,諸如真空蒸發,電子束(EB)蒸發,或噴濺等法 _加。該法之實施细節為技藝上所公知。毅積法可涉及 控制性冷卻,把無機物從蒸氣相冷凝所致的潛熱取走。 趁聚合物102堪軟時,需助無櫬物106移人聚合物102 内,以便形成上述突部。其一項策略是對無機物106充 靜電,並對基材110 _加相反電荷。 再將聚合物曆]02熟化,使其強烈交聯,因而「冷凍j 無櫬物106 ,賦予永久性,丙烯酸酯層102可利用EB曝 光而熟化。热化聚合物顯示比原來未熟化聚合物有實質 上更大的溫度抵抗性(即熟化後,曆102不再容易軟化) ,而在原光塗佈的溶劑内之溶解度,即使未消失也會寊 實降低。 再於表面106s (典型上包含曆102的曝光部,因其不 必確保曆102被無櫬物〗06完全覆蓋),典型上利用真 空锻積腌加上無櫬層1 04 。層1 04可例如為極薄曆金屬 (5 0 - 5 0 0 $,W鈦而言,3 0 0 ϋ為佳),其暴露於空氣時, 可有或可無顯影出天然氧化物表面。此層可為IR輻射燒 蝕,而圖像透過圖型化暘光而在板上形成。金觴或其氧 化物表面顯示親水性能,其提供此構造可用做石版印刷 板之基礎。層104利用燒蝕除去圖像,即暴露出表面 106s,若彼無機物106完全覆蒹,則此層可被燒触來露 出複合物層102的表面。基於親油性選擇最後暴露層; 據此,層104會接受泉水溶液時,而層102和/或無機 物106 ,會排斥泉水溶液,但接受油墨。 -12- 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) —-裝-------—訂-------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合泎:':1.l:!:k Λ7 __B7__ 五、發明說明(n) 在此具體例中,層104之金屬為至少一 d塊(過渡) 金靨、鋁、絪或錫餛合物而言,金屬以合金或金靥 互化物存在。再次地,在更活性金画上氧化物曆之發展 ,可產牛改進親水性的表面形態。 另外,層]04可能為硬質、耐久、親水性、金屬性無 機層,其包栝至少一種金靥與至少一種非金靥的化合物 ,或此種化合物之潖合物。曆10 4又再燒蝕地吸收成像 輻射,因此所施厚度只有100-2000^層104於此形式 的金屬成份,坷為d塊(過渡)金龎、f塊(鋼系)金 屬、鋁、絪或錫,或任何前述之混合物(合金,或在更 明確組成物存在的倩況下之金靥互化物)。較佳金鼷包 含钛、銬、釩、鈮、钽、鉗、鎢。非金屬成份可為p塊 元素硼、碳、氮、氧、矽中之一種或多種元素。按照此 規定之金屬/非金屬化合物,可有或無確定的化學計量 ,在某些情況下(例如A卜S ί化合物)可為合金。較佳 金驅/非金觴組合物包含ΉΝ、TiOH、ΉΟχ (其中0.9客 X ^ 2.0) ^ T i C ^ T i CH - 如有需要,在層104上可_加添加層112 , K達成不 同的親水性或物理特性。例如層11 2可為排斥油墨的矽 _或氟化聚合物料,由此將構造】0 0轉型為乾板。在成 像之際.層104之燒蝕會干擾層112的錨定,使其在成 像後清洗步驟中容易去除,而顯露表面或層102 。 層2可用的材料和塗佈技術載於美國專利5 , 3 3 L 7 3 7 號和再發證3 5 , 5 1 2號,其全文於此列入參考。基本上, -1 3 - ---------------------訂---------1 (清先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 45554g Α7 Β7 五、發明說明(12) 適用的矽酮材料使用繞試桿胞加,然後乾燥和加熱熟化 ,製成Μ例如2g/m2溅積的均匀塗膜。 板的第二具體例如第2圖所示。在此情況下構造150 包含级曆〗55 ,其所含無機物106濃度随遶離基材110 而遞增。層155按接績步驟構成如下。在基材110上施 加聚合物料102之第一塗層160 , K利用蒸氣凝结或塗 佈為佳。尤其若是層106在真空下澱積時,層102以可 顒從類似濺積條件之聚合物料為佳,Μ容許在同室或共 同真空下串聯的室内,分多次澱積建立連鑛諸層。一項 適當措施詳見美國專利5,440,446, 4,954,371, 4,696,719, 4,490,774, 4,647,818, 4,842,893, 5 ,032, 461,其全文於此列人參考。按照此所述,丙烯 酸醋單髏是於真空下呈蒸氣來施加。例如,可將軍體閃蒸 而噴入真空室内,於此凝结於表面。利用暴海於光化輻 射(一般為紫外線或UV),或ΕΒ源,使單體随後交聯。 相闞措_載於美國專利5, 260 ,095號,其全文於此列 入參考。按照此專利,丙烯酸酷單體可在真空下分佈或 塗佈於表面,而非由蒸氣凝結、濺積單體及利用UV或ΕΒ 曝光而交聯。 此等措胞之任一棰均可用來於基材110上施加曆102 。此外,其應用性不限於單體:寡聚物或大聚合物Η段 或母體,均可按任一技術施加,然後交聯°可用的丙烯 酸酷材料包含習用單體和寡聚物(單丙烯酸酯、二丙烯 酸酿、異丁烯酸酯等),如美國專利5,440,44δ號第8- -1 4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A.1規格(210 X 297公釐) 1 ί ^---;--^ - ----- I J -I ---I-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 A7 經濟部智慧財產局員工^費合作社'":-欠. __B7_ 五、發明說明(13) 1 0捅所述,Μ及為特別用途經化學修飾過的丙烯酸酷。 代表性簞丙烯酸酯包含異癸基丙烯酸酯、月桂基丙烯酸 酷、+三烷基丙烯酸酯、己内酯丙烯酸酯、乙氧化壬基 苯蓽丙烯酸確、異冰片基丙烯酸酷、三丙二醇甲醚軍丙 烯酸酯、新戊二醇丙氧化甲醚單丙烯酸酯;可用的二丙 烯酸酯包含1,6 -己二醇二丙烯酸酷、三丙二醇二丙烯酸 _、聚乙二醇f200)二丙烯酸醅、四乙二酵二丙烯酸酯 、聚乙二醇(400)二丙烯酸瞧、聚乙二醇(600 >二丙烯 酸_、丙氧化新IS二酵二丙烯酸酷、由UCB Radcure供 應的IRP-214產品(脂族二丙烯酸醅單體)、丙氧化1,6 -己二醇二丙烯酸酯、乙氧化〗,6 -己二醇二丙烯酸酿; 而可用的三丙烯酸酯包含三羥甲基丙烷三丙烯酸醅 (ΤΜΡΤ/0 和乙氧化 TMPTA 。 最後,可按照技藝上公知的技術,K例行方式(在大 氣壓力條件下),在基材110上施加丙烯酸酯官能性或 其他適當的樹脂塗膜。在如此一種措_中,一種或多種 丙烯酸酯可直接塗在基材〗10上,稍後加Μ熟化。在另 一措施中,將一種或多種丙烯酸酯與一或多種溶劑組合 ,在基材1 ] 0上鑲造,然後令溶劑蒸發,而澱槙的丙烯 酸醏最後熟化。Κ揮發性溶削為佳,其可以低塗佈重量 促進高度均勻應用。丙烯酸酶塗膜亦可含有溶於或分散 於丙烯酸酯的非丙烯酸酯官能性化合物。 當然,也有丙烯酸_聚合物Μ外之其它選擇例如可 能需利用到在外層無機層1 〇 4受熱時,會發生氣體(典 - 1 5 - -------------裝--------訂---------線 {睛先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 45各54g A7 B7 五、發明說明(14) 型上具爆炸性質)之強能有機物(諸如乙炔衍生物,叠 氮基或鰱氮化物衍生物,或硝基官能性化合物)。 在胞加聚合物102之曆160後,但在熟化之前,無機 填料106以相對於聚合物102的所需比率,施加於聚合 物102 。在未熟化狀態,聚合物102 K類似上述加熱軟 化層的方式接受無櫬物106 。一般而言,不必把材料106 抽入層160内,因該通常很薄。特別是Μ反應性噴濺等 澱積技術豳加時,材料106可在表面暦160上方形成綴 補_型或島狀,再按上述熟化。 層160利用蒸氣凝結施加時,對澱積圖型可提供更大 的控制,聚合物102可在不許併合和陳後形成膜的條件 下應用,由此容許產生不連鏞的聚合物曆。無機物106 再澱積於不連績圖型上,故有機層可有效拘束在無機物 内,而非反其道而行。如上所述,由蒸氣施加材料106 一般需有設備,κ便除去冷凝的潛m。 在層160澱積和熟化之後,為接鑛諸曆】62 、164 、 166重複製程,Μ無機物106對聚合物料102的不同比 率胞加。各階段的無機物比例宜遞增,如圖所示,導致 分級結構,無機物並離基材110而遞增。複合層155具 有從有機物到混合有/無機物的逐漸過渡。無機物的分 散島可Μ 「單位」(粒、顆粒、晶體等)為之,其幅度 較顔料等傳統上分散於有機黏合劑中之固體小一階段或 多階。 另外,可胞加層1 60-1 66 ,不必逐一個刖熟化,即延 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2〗〇χ297公釐) --裝---------訂*--------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 _B7 五、發明說明(15) 到諸層的全部頓序完成後才熟化。此項措施具有效率及 處理攒點。 層155完成後,按上逑狍加麿104 ,上面再隨意增附 加層1 1 2 。 所Μ ,可見前迷技術提供改良石販印刷和優異的板構 造。本文所用術語和表達,是用來說明而非限制,使用 該術語和表達時,無意抑除所示和所述特徵之等效物, 或其一部份,但需知在本發明申請專利範圍内,可有各 樺修飾變化。 -------------敦--------訂---------線 (晴先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經'"部智慧財產局員工消費合".吐 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 455549 A7 _B7 五、發明說明(16) 符號之說明 100 印 刷 板 102 聚 合 物 層 104 無 機 層 106 澱 稹 物 10 6s 過 渡 層 110 基 材 112 附 加 層 150 構 造 155 级 曆 160 第 室 層 162 接 m 諸 層 164 接 纊 諸 層 166 接 m 諸 層 ----------.I!裝-----------訂---------線,. (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2]〇χ 297公釐)

Claims (1)

  1. 0 4 5 5 5 4 88 88 ABCD 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、申請專利範圍 1. 一種印刷方法,包括: a .提供印刷構件,按照下列步驟製作: i . 提供第一層,包括熟化性無機麿,具有第一表 面; Π :將第一 _耽化; iii:在軟化第一曆的第一表面上澱積包括無機化合 物之緞積物,將澱積物澱積於第一層表面並整 合於其内; iv:將第一膺熟化,使整合殺積物固定; V : 在锻積物和第一表面的任何暴露部位施加第二 層,其中U)至少第二層具有與第一層不同的 親和性,至少一種印刷液賴選自包含油墨和油 墨黏普性流體,Μ及(b)至少第二層而非第一 層藉雷射幅射曝光,而經削除去; b .印刷構件在代表圖像的圖型,缓擇性暴露於雷射輸 出,Μ削平至少第二曆之選定部位,因而直接生成 阔像特點之行列; c .對構件施加油墨;以及 d.杷油墨轉印到記錄介質者。 2. 如申請專利範圍第1項之方法,又包括步驟為,把殺 積物在熟化之前,抽人第一層内者。 3. 如申請專利範圍第2項之方法,其中抽入步驟包括: 充電於澱積物,於第一面相反的第二面胞加相反電荷 ,Μ吸取澱積物通過第一層者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------裝-----„---—訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 申請專利範圍 A8 BS C8 DS 蓋射 覆雷 全藉 完1 tifi 積係 殺物 中積 其澱 法層 方續 之連 項成 1 形 第面 !1h 範在 利’ 專而 請表 申一 如第 油層 和 二 墨第 油與 含 , 包性 自和 選親 對的 !)體 ί 液 或刷 , 印 去一 除少 平 至 削之 經 0 , 潦 光性 曝著 射 黏 輻墨 覆 全 完 不 物 積 m 中 其 法 方 之 項 1 。 第 者龎 同鞔 不利 性專 和請 親申 之如 5 選親 對的 面體 表流 得刷 所印 ,一 型 少 _ 至 歌之 間體 的流 露性 暴著 面黏 表墨 在油 成和 形墨: ,油 面含 表包 蓋自 多步 與:化 括熟 包 , 層物 一 合 第聚 中 系 0 其酸 者 ,烯 同法丙 不方之 性之合 和項組 親 1 , 之第單 層園 _ 二範酸 第利烯 與專丙 , 請忡 性申能 和如官 6 真 在 係 驟 步 積0 中 其 法 V 方 者之 聯項 交 1 物第 合 園 聚範 與利 體專 單請 將申 驟如 接 墨 油 為 物 積0 中 其 法 方 之 項 第 Γ—^· 焉. ο 範 者利 行專 推-請 下申 空如 少 至 括 包 曆 二 第 中 其 ο 法 者方 性之 水項 親 β 為第 層圍 二範 第利 而專 , 請 性申 受如 9 --------------裝— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂: 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印 金 την 0 I I 少 0 至 者中 物其 合 , 化法 之方 屬 之 金項 τπ-ν 9 種第 一 圍 :>範 至利 與專 屬請 金申 樺如 括鋁 包 } 層]| 二(]· 第 , 0 中 靥 者其金 氧 ,糸 ' 法鑭 矽方塊 之 f 氮項i) 、 9 ( 碳第 , 、 圃屬 硼範金 含利渡 包專過 自請塊 選申 d 係如.; 屬 .ίί 软 括 包 層 二 第 中 其 法 ο方„ 者 之 一 項 其Π 少第 至園 II範 ) 利 ίν專 和請 絪申 V)如 455549 - CS D8六、申請專利範圍 者 法 法 方 方 之 之 項 項 2 2 第 第 爾 。葡 範者範 利物利 專化專 請氧請 申之申 guv D 鈦 如 ‘ 樺 ‘ 少 至 磨 二 第 其 化 氮 氧 層二 第 中 其 至 括 包 物 -積 澱 中 其 法 方 之 項 1 第 闇 範 利 專 請 0 申 者如 紋. . 金 非 種 一 。少。 者至者 物中砂 合其、 化,氧 之法、 屬方氮 金之、 非項氣 種15、 一 第碳 少圍、 至範硼 和利含 屬專包 金請自 種申選 一 如係 少 .0 無 括 包 層 1 第 中 其 法 方 之 項 11 第。 圍者 範液 利散 專分 請之 申料 如顔 .機 括 包 作 製 驟 步 列 : 下 括照 包按 法件 方構 刷刷 印印 <f—t\ 種伊 一 提 的在 物存 合率 化比 機呈 無料 括填 包和 和體 體母 母物 物合 合聚 聚 , 積物 0 合 上混 材之 基料 在填 對而 相材 的基 燿期 母量 物料 合填 聚 , 對構 料結 填級 ,分 次生 多產 } 而 Π.因 驟 , 步增 複遞 軎 景 --------------裝--- k · ' · (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) P. --線_ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 含 包 0 選 對 面 表 和 層 該 和 -; 層 化一 熟加 體瞄 母面 物表 ; 合 構 增聚結 遞將在 , 曝 體射 液輻 刷射 印雷 棰藉 一 構 少結 至非 之而 體層 流該 性 -著性 黏和 墨親 油的 和同 墨不 油有 射 雷 於 露 暴 '性 擇 選 内 型 圖 的 像 ; 爾 去表 除代 平在 riy hr 0 ff 而構 光刷 印 將 b 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 六、申請專利範圍 AS B8 CS DS 像 圖 生 產 接 直 而 因 位 β, 擇 選 的 唐 該 平 ; 削列 >Α行 , 之 出點 輸特 者 及質 % 介 ; 錄 墨記 油至 加印 施轉 件墨 構油 對杷 c d ) 分 (a生 驟產 步而 複因a , 中增 其遞 ,量 法對 方相 之的 項體 18母 第物 圍 合 範聚 利對 專科 請填 * , 如次 . 多 和 體 母 物 合 ο 聚 者中 增其 遞 , 而法 離方 距之 的項 t 8 材 1 基第 離圍 最| 範 料利 填 專 , 請 構申 結如 趿 . 和 體 母 物 合 聚 中 其 法 方 之 項 8 1J ο 第 者圍 積範 澱利 氣專 蒸請 早:申 料 如 填 . 利 體 母 物 合 聚 中 其 法 方 之 項 8 11 。 第 者圃 積範 澱利 體專 液請 呈 申 料如 填 . 與步 括化 包熟 物 , 合物 聚合 中聚 其系 ,酸 法烯 方丙 。 之 之 者項合 質22組 母第酷 成圍單 形範酯 ,利酸 化專烯 熟請丙 聯申能 交如官 用 .多 接 墨 油 係 面 表 中 其 法 方 〇 之 者項 聯18 交第 物圍 合範 聚利 與專 體請 單申 將如 驟 ‘ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 . -線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 少 至 括 包 層 該 中 其 去 、'·ί 方 C- 之 者項 性24 水第 親圍 為範 層利 該專 而請 , 申 性如 受 金 Ρ. ΤΠν 種少 ο 至 者中 物其 合 , 化法 之方 屬之 金項 .三 5 ΤΤΓ 2 種第 一 圍 少範 至利 和專 0 請 金申 禪如 括 , 包鋁 層 丨 亥 i -mn i 一--中·I 者其 , 氧 ,靥 、 法金 矽方系 、 之讕 氮項瑰 5 、 2 f 碳第η 、 圍 ί. 砸範 , 含利 _ 包萬金 自請將 選申過 係如愧 屬 ‘ d 2 2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 絪和(V )錫至少其一者。 28. 如申請專利範圍第27項之方法,其中該層包括钛者。 29. 如申請專利範圍第28項之方法,其中該層至少一種 钛之氧化物者。 30. 如申請專利範圍第28項之方法,其中該層氧氮化鈦 者。 31. 如申請專利範圃第18項之方法,其中填料包括至少 一樺金屬和至少一種非金屬之化合物者。 3 2 .如申請專利範圃第31項之方法,其中至少一種非金 屬係選自包含硼、碳、氟、氮、氧、矽者。 3 3 .如申請専利蹄圍第項之方法,其中基材包括顔料 者。 3 4 . —種石版印刷板印刷之製法方法,包括: a.提供第一層,包括熟化性無機層,具有第一表面; b .將第一唇軟化; c .在軟化第一層的第一表面上澱積包括無機化合物之 Si積物,將澱積物澱積於第一層表面並整合於其內; d. 將第一層熟化,使整合澱積物固定; e. 在澱積物和第一表面的任何暴露部位施加第二層, 其中, f .至少第二層而非第一層,利用®射輻射曝光而削平 除去;而 s.第二層和至少第一層,對選自包含油墨和油墨黏著 性流體之至少一種印刷液體,具有不同親和性者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------------------訂----1----線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 BS C8 DS t、申請專利範圍 3 5 .如申請專利範圍第3 4項之方法,又包括步驟為,把 澱積物life加第一暖之前,油入第一層内者。 3 6 .如申請專利範圍第3 4項之方法.其中抽入步驟包括 :充電於澱積物,於第·一面相反的第二面施加相反電 荷,Μ吸取澱積物通過第一層者。 3 7 .如申請專利範圍第3 4項之方法,其中澱積物完全覆 蓋第一表面.在h面形成連續層,殺積物係Π )藉雷 射輻射曝光,經削平除去,或(i丨)對選自包含油墨和 油墨黏著性流體之至少一印刷液體的親和性,與第二 層之親和性不同者。 3 8 .如申請專利範園第3 4項之方法,其中澱積物不完全 覆蓋表面,形成在表面暴露的間歐圖型,所得表面對 選自包含油墨和油墨黏著性流體之至少一印刷流體的 親和件,與第二層之親和性不同者。 3 9 .如申請專利範圍第3 4項之方法,其中第一層包括與 多官能性丙烯酸酯單酷組合之丙烯酸集聚合物,熟化 步驟將單體與聚合物交聯者。 4 〇 .如申請專利範圍第3 4項之方法,其中澱積步驟係在 真空下進行者。 4 1.如申請專利範鬧第3 4項之方法,其中澱積物為油墨 接受性,而第二層為親水性者。 4 2 .如Φ請專利範圍第4 ]項之方法.其中第二層包括至 少一埔余_與辛少·稩非金圃之化合物者。 4 3 如甶請專利範圍第42項之方法.其中至少一種非金 …2 4 - ΌΝ :)Α4 W.f;: : ' :-7 ^^1 n I —Fp i ^^1 ^^1 ^^1 ^^1 I - i^i ^^1 - on t n n HI n ^^1 I (請先閱讀背面之泛意事項再填寫本頁) AS B8 C8 D8 六、申請專利範圍 屬係選自包含硼、碳、氮、矽、氧者。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 44. 如申請專利範圃第42項之方法,其中第二層包括 (i) d塊過渡金屬,fn)f塊鑭系金翮,(ίίί)鋁, (ί ν )銦和ί ν .)錫至少其一者。 45. 如申請專利範圍第44項之方法,其中第二曆包括鈦 者。 46. 如申請專利範圍第45項之方法,其中第二層至少一 禪钛之氧化物者。 47. 如申請專利範圃第45項之方法,其中第二層氧氮化 鈦者。 48 .如申請專利範圍第34項之方法,其中殺積物包括至 少一稗金屬和至少一種非金靥之化合物者。 49. 如申請專利範圍第48項之方法,其中至少一種非金 屬係選自包含硼、碳、氟、氮、氧、矽者。 50. 如申請專利範圍第34項之方法,其中第一層包括顔 者。 5 1 . —種石版印刷板之製法方法,包括: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 a.在基材上澱稹聚合物母體和包括無機化合物的填料 之混合物,聚合物母體和填料呈比率存在; b . Μ不同比率重複步驟多次, c .將聚合物母體熟化;和 d.在結構表面施加一曆,該層和表面對選自包含油墨 和油墨黏著性流體之至少一種印刷液體,有不同的 親和性,該層而非結構藉雷射輻射曝光而削平除去 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 ><297公1 ) 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 驟 步 複 重 中 其 法 方 之 項 i— 5 第 圍 範 利 專 請 ο 申 者如 分 和 生 體 產 母 面 物 因 合 ,ο 聚 增者中 遞增其 景遞 , 對而法 相離方 的距之 體的項 母材51 物基第 合離圍 聚量範 對料利 料填專 填,請 , 構申 次結如 多级 . 和 體 母 物 合 聚 中 其 去 方 之 項 5 ο 第 者園 積範 澱利 氣專 蒸請 皂 申 料如 填 . 利 母 物 合 聚 中 其 法 方 之 項 11 5 。 第 者圖 積範 澱利 體專 液請 呈 Φ, 料如 填 . 包 禮 母 物 合 聚 中 1-1-·' 其 法 方 ο 之 者項 質55 母第 成圍 形範 ,利 化專 熟謓 聯申 交如 用 熟 接 , 墨 物 油 合 為 聚 面 系 表 酸 中 烯 其 丙 , 之。法 合者方 組聯之 _¾項 單物51 酷合第 酸聚圖 烯與範 丙體利 能單專 官將請 多驟申 與步如 栝化 少 至 括 包 層 該 。 中者 其物 , 合 法化 。 方之 者之屬 棵項金 k 7 bh 7 5 _ 親第種 為圍 一 層範少 二利至 第專和 而請藤 , 申 金 件如種 受 ·一 --------------裝—— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印】 至 中 。 其者 ,氧 法、 方矽 之 .、 項氮 8 5 、 第碳 園 ‘ 範硼 利含 專包 請自 申選 如係 . 屬 金 ILL T7T\ 種 括 -包鋁 0 ) 該II tb.ίι 其 , ,_ 法金 方系 之綱 項塊 8 5 f 第 Π 闌(! 範 , 利 _ 專金 請濟 申過 如瑰 者種 鈦 : 括少 包 孕 層 層 該該 中中 其 其 法 &方 ο 項 項 者6051 1 第 第 其圍圃 41 範 齡 牵利利 鋦專專 青 青 -1C.'ηπ f 申 和如如 0 ¥ 54 9 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 呔之氧化物者。 6 3 .如申請專利範圍第5 1項之方法,其中該層氧氮化钛 者0 64. 如申請專利箝蘭第51項之方法,其中填料包括至少 一種金屬和至少一種非金屬之化合物者。 65. 如申請專利範圍第6 4項之方法,其中至少一捶非金 屬係選自包含硼、碳、氟、氮、氧、矽者。 66. 如申請專利範圍第5〗項之方法,其中基質包括顔料 者0 -------- -----裝·---1---訂---- ----- I 4 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
TW088104475A 1998-03-23 1999-03-29 Lithographic imaging with constructions having mixed organic/inorganic layers TW455549B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US7902198P 1998-03-23 1998-03-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW455549B true TW455549B (en) 2001-09-21

Family

ID=22147909

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW088104475A TW455549B (en) 1998-03-23 1999-03-29 Lithographic imaging with constructions having mixed organic/inorganic layers

Country Status (10)

Country Link
US (2) US6207349B1 (zh)
EP (1) EP0984859B1 (zh)
JP (1) JP3255648B2 (zh)
KR (1) KR100312395B1 (zh)
CN (2) CN1229223C (zh)
AU (1) AU729498B2 (zh)
CA (1) CA2290595C (zh)
DE (1) DE69908261T2 (zh)
TW (1) TW455549B (zh)
WO (1) WO1999048689A1 (zh)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6378432B1 (en) 2000-05-03 2002-04-30 Presstek, Inc. Lithographic imaging with metal-based, non-ablative wet printing members
US6589710B2 (en) * 2000-12-26 2003-07-08 Creo Inc. Method for obtaining a lithographic printing surface
US6605407B2 (en) * 2000-12-26 2003-08-12 Creo Inc. Thermally convertible lithographic printing precursor
US6715421B2 (en) 2001-03-01 2004-04-06 Presstek, Inc. Transfer imaging with metal-based receivers
AU2002252128B2 (en) 2001-03-01 2004-09-23 Presstek, Inc Lithographic imaging with printing members having multiphase laser-responsive layers
DE10202991A1 (de) * 2002-01-26 2003-07-31 Roland Man Druckmasch Oberfläche für ein Bauteil einer Druckmaschine
AU2003245021A1 (en) * 2002-07-30 2004-02-16 Creo Il. Ltd. Single-coat self-organizing multi-layered printing plate
KR101002492B1 (ko) 2002-08-02 2010-12-17 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 스퍼터링 타겟, 소결체, 이들을 사용하여 제조한 도전막,유기 el 소자, 및 이것에 사용하는 기판
US8704211B2 (en) * 2004-06-30 2014-04-22 General Electric Company High integrity protective coatings
US8691371B2 (en) * 2002-09-11 2014-04-08 General Electric Company Barrier coating and method
US6840175B2 (en) 2002-11-20 2005-01-11 Flint Ink Corporation Lithographic printing method using a single fluid ink
JP2005280073A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の露光処理方法及びこの方法を実施する装置
GB2418628B (en) 2004-10-01 2006-12-13 Acktar Ltd Improved laminates and the manufacture thereof
US20070148346A1 (en) * 2005-12-23 2007-06-28 General Electric Company Systems and methods for deposition of graded materials on continuously fed objects
JP5900155B2 (ja) * 2011-09-06 2016-04-06 株式会社村田製作所 流体制御装置
US9731456B2 (en) 2013-03-14 2017-08-15 Sabic Global Technologies B.V. Method of manufacturing a functionally graded article
US10906343B2 (en) 2016-05-12 2021-02-02 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fabric print media
US20200338920A1 (en) * 2018-03-19 2020-10-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fabric printable medium

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4482622A (en) 1983-03-31 1984-11-13 Xerox Corporation Multistage deposition process
US5032461A (en) 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US4842893A (en) 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US4490774A (en) 1983-12-19 1984-12-25 General Electric Company Capacitors containing polyfunctional acrylate polymers as dielectrics
US4647818A (en) 1984-04-16 1987-03-03 Sfe Technologies Nonthermionic hollow anode gas discharge electron beam source
EP0242460A1 (en) 1985-01-18 1987-10-28 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Pennsylvania corporation) Monomer atomizer for vaporization
US4954371A (en) 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US4883731A (en) 1988-01-04 1989-11-28 Xerox Corporation Imaging system
US5176947A (en) * 1990-12-07 1993-01-05 International Business Machines Corporation Electroerosion printing plates
US5102756A (en) 1990-12-31 1992-04-07 Xerox Corporation Camera speed printing plate with in situ mask
US5260095A (en) 1992-08-21 1993-11-09 Battelle Memorial Institute Vacuum deposition and curing of liquid monomers
US5440446A (en) 1993-10-04 1995-08-08 Catalina Coatings, Inc. Acrylate coating material
US5440987A (en) * 1994-01-21 1995-08-15 Presstek, Inc. Laser imaged seamless lithographic printing members and method of making
US5681615A (en) 1995-07-27 1997-10-28 Battelle Memorial Institute Vacuum flash evaporated polymer composites
US5704291A (en) * 1996-01-30 1998-01-06 Presstek, Inc. Lithographic printing members with deformable cushioning layers
US5807658A (en) * 1996-08-20 1998-09-15 Presstek, Inc. Self-cleaning, abrasion-resistant, laser-imageable lithographic printing contructions

Also Published As

Publication number Publication date
US6207349B1 (en) 2001-03-27
JP2000513289A (ja) 2000-10-10
JP3255648B2 (ja) 2002-02-12
EP0984859B1 (en) 2003-05-28
DE69908261D1 (de) 2003-07-03
DE69908261T2 (de) 2004-03-25
CN1099345C (zh) 2003-01-22
US6300040B1 (en) 2001-10-09
CA2290595A1 (en) 1999-09-30
AU729498B2 (en) 2001-02-01
WO1999048689A1 (en) 1999-09-30
CN1229223C (zh) 2005-11-30
EP0984859A1 (en) 2000-03-15
KR20010012825A (ko) 2001-02-26
CA2290595C (en) 2004-06-15
CN1446687A (zh) 2003-10-08
CN1272080A (zh) 2000-11-01
AU3004999A (en) 1999-10-18
KR100312395B1 (ko) 2001-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW455549B (en) Lithographic imaging with constructions having mixed organic/inorganic layers
TW200804536A (en) Coating composition for producing magnetically induced images
EP1110623A3 (en) Powder coating process involving compression of the coating during curing
DE99727T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum ueberziehen von substraten mit polymeren.
TW200406467A (en) Alignable diffractive pigment flakes
WO1983004394A1 (en) Vaporizable dye composition and sheet containing same
EP3191554A1 (en) Build materials having a metallic appearance for 3d printing
CN105264591A (zh) 多个图像显示体
JP2022533166A (ja) セキュリティ文書及びセキュリティ文書の製造方法
JP5793981B2 (ja) 紫外線硬化型インクジェット組成物および記録物
US6432245B1 (en) Method for manufacturing a thin metal film with embossed pattern
TW445274B (en) Method of stabilizing a radiation curable, water insoluble monomer/prepolymer in an aqueous medium
CN108215556A (zh) 一种水性材料组合镭射转移纸及其制备方法
JP2008158141A (ja) ホログラム転写箔
JP3149747B2 (ja) 化粧紙及びその製造方法
JPS56144994A (en) Transfer agent and printing method using it
JPS61195900A (ja) 転写シ−ト
JPS5474291A (en) Production of anit-clouding transparent composite
JP3841838B2 (ja) 化粧シート
WO2001029828A8 (en) Methods and apparatus for rendering an optically encoded medium unreadable and tamper-resistant
JP2975074B2 (ja) 化粧材
JP3006420B2 (ja) 光硬化性印刷インキまたは被覆組成物
JPS6147425B2 (zh)
DE944264C (de) Durchsichtiger Gegenstand mit reflexionsmindernder Schicht
CN107266959A (zh) 抗划伤电子束固化铁制品表面印刷油墨及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees