TW438994B - Fabrication method of light diffusion plate - Google Patents
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438994
_案號88103應 五、發明說明（1) =為#關於提供一種具有多頻繞射&高透射率效 :彳不連續光點擴散為連續光源之光擴散板製作方 法0 一，習用之大型看板’係以LED等點光源排'列顯示各種 文子或圖案，其線條不具連㈣，為其最大之缺點。 本發明之發明人深感點光源之使用於連續線條之表現 存有上述之缺點，乃著手加以謀求改善，終而創作此發 明。 本發明之主要目的即在提供一種製作處理步驟簡單迅 速之光擴散板製作法。 本發明之次一目的在於提供一種具有多頻繞射效應之 光擴散板。 有關本發明為達成上述目的所採用之技術手段及其功 效，茲舉一可行實施例，並配合圖式詳述如下，俾使審查 委員對本發明之製作方法，更易於瞭解。 — 請參閱第一圖所示’係為本發明實施例之流程示竟 圖。 於第一步驟中，係依據顯示器光源之大小及書素 (Pixel)，可以計算出每單位英吋内有幾個光點，—該'光點 為代表砂粒大小之號數，供能據此選取噴砂之砂粒大小。 於第二步驟中’係將噴砂直接成型於高折^率之玻璃 基板上’以形成具粗糖面之多頻繞射基板，或者以喷_砂處 理製成粗糙面之模具，利用此模具以塑膠射出法 ' (in ject ion )射出製出或以壓模成型法壓印製出高折射 率之塑膠基板，例如PC、PS塑膠基板...等等，該^折射 第4頁 _BB1Q3105_8承 1 备2 2 曰 修正____ 五、發明說明（2) 率.之塑膠基為一具粗糙面之多頻繞射基板，此多頻繞射基 板在可見光55Onm波長之光學折射率為h 56到1. 58範圍。 於第三步驟中，係將多頻繞射基板浸浴於矽溶液中； 該矽溶液為一p〇 1 y si 1 oxane樹脂，其以5 °c到1 8 °c溫度使 多頻繞射基板之粗糙面實施浸浴處理，待矽溶液完全黏附 基板上後’再缓慢拉離液面形成矽溶液薄膜。 於第四步驟中’係將表面黏附矽溶液之基板實施供烤 處理’其烘烤處理分成兩階段，第一階段烘烤條件先^8〇 它溫度烘烤90分鐘，再以125〇c溫度烘烤15分鐘為第二階 段供烤條件進行烘烤’以完成光擴散板製品。如第二圖所 不之光擴散板剖面，覆蓋在基板上之矽溶液會硬化成矽氧 化薄膜層3 ’其矽氧化薄膜層3主要化學鍵結為 〇 Si-〇-Si-〇-，在可見光55〇nm波長之光學折 到1.5範圍。 又如第二圖所示可知，本發明光擴散板製作方法，因 暴板1 一側表面為不規則高低起伏而且分佈均勾之粗糙面 ’以具有均勻多頻繞射光學效應，可使點光源均句擴 1薄2 粗糙面2上覆蓋較低折射率的矽氧化薄膜層3， ^ /膜層3的折射率還是大過空氣介質的折射率丨，使 應使兩光邊線材在 射Λ比：、少?降低過多的光擴散效 連續之光點變成連續線效果，並可使不 保有平滑“iir i :於數位影像處理時將 如第三圖所示為光擴散板消 H=像。
第5頁 比較圖’其+ m m 角子及圖像的效果說明 一 、中(〇圖為點光源顯示影像，（b )圖為經光
Claims (1)
- 脅t為2 2日修正 43 89 9 4 ^88^f〇5^ 六、申請專利範匿-. 一種光擴散板製作方法，其方法包括下列步驟： 第一步驟為依顯示器光源之大小及晝素（Pixel)計算 出單位英吋内有幾個光點，供能據此選取大 小之號數； 第二步驟為將噴砂直接成型於高折射率之玻璃基板 上，以形成具粗糙面之多頻繞射基板，或者以喷砂處理製 成粗糙面之模具，以模具製出具有粗糙面之多頻繞射基 板’該多頻繞射基板在可見光5 5 0nm波長之光學折射率為 1. 56到1. 58範圍； 第三步驟為將多頻繞射基板浸浴於矽溶液中，該矽溶 液為一 PolySil〇xane樹脂，其以51到18它溫度使多頻繞 射基板之粗糙面實施浸浴處理，再緩慢拉離液面形成矽溶 液薄膜；以及 第四步驟為將表面黏附矽溶液之基板實施烘烤處理， 其烘烤處理分成兩階段，第—階段烘烤條件先以8〇艺溫度 烘烤90分鐘，再以丨25 X：溫度烘烤丨5分鐘為第二階段烘烤 條件進行烘烤，使覆蓋在基板上矽溶液之薄膜硬化成矽氧 化層，其矽氧化層主要化學鍵結為_〇_Si_〇_Si_〇_ ，在可 見光5 5Onm波長之光學折射率在丨.47到[5範圍.，以完成具 有多頻繞射及高透射率效應，能使不連續光點擴散為連ς 光源之光擴散板製品β ' 制2.、t申請專利範圍第1項所述之光擴散板製作方法， 其製成品之光擴散板係由噴砂粒直接成型或塑膠射出成型 或壓印成型製作出多頻繞射高折射率基板，其特徵在於：第8頁 438994 τ^2 2 曰 案號881的】加 六、申請專利範圍 該基板之一側面為斗 形成-薄膜層，將薄’其粗链面上浸洛妙溶液以 粗链面使兩邊之材料硬化成石夕氧化層；藉此該 效應’使先線結糙面上依然具有多頻繞射及高透射率^ 效，，進而達到具有將*連續光點擴散為連續光源，且具 有高透光率之板體結構者。 ” 3、如申請專利範圍第1項所述之光擴散板製作方法， 其中以噴砂處理製成粗糙面之模具，以塑膠射出法 (injection )射出製作具有粗糙面之多頻繞射基板，或 以壓模成型法壓印製作具有粗糖面之多頻繞射基板，多頻 繞射基板為高折射率塑膠PC基板者。第9頁
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW88103105A TW438994B (en) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | Fabrication method of light diffusion plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| TW88103105A TW438994B (en) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | Fabrication method of light diffusion plate |
Publications (1)
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| TW438994B true TW438994B (en) | 2001-06-07 |
Family
ID=21639816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| TW88103105A TW438994B (en) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | Fabrication method of light diffusion plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TW438994B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1296760C (zh) * | 2005-05-20 | 2007-01-24 | 深圳市中电淼浩固体光源有限公司 | 一种使用匀光器的led光源 |
-
1999
- 1999-02-26 TW TW88103105A patent/TW438994B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1296760C (zh) * | 2005-05-20 | 2007-01-24 | 深圳市中电淼浩固体光源有限公司 | 一种使用匀光器的led光源 |
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