TW436855B - Ultraviolet ray irradiator - Google Patents
Ultraviolet ray irradiator Download PDFInfo
- Publication number
- TW436855B TW436855B TW088116423A TW88116423A TW436855B TW 436855 B TW436855 B TW 436855B TW 088116423 A TW088116423 A TW 088116423A TW 88116423 A TW88116423 A TW 88116423A TW 436855 B TW436855 B TW 436855B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- window member
- irradiation device
- ultraviolet irradiation
- heating means
- ultraviolet
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
- B08B7/0057—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like by ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0064—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by temperature changes
- B08B7/0071—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by temperature changes by heating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
1 4368 5 5 Α7 Β7 五、發明說明(1 ) 【產業上之利用領域】 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明是關於由介電勢壘放電燈所放射之紫外線,以 及由該紫外線同時產生之臭氧,來作爲乾式洗淨之紫外線 •照射裝置。 【先行技術】 過去習知之使用紫外線光源之紫外線照射裝置來達成 乾式洗淨技術是眾所皆知,藉由該紫外線照射裝置,得以 在液晶、或半導體產業進行光照去灰(Ashing )或精密光 照洗淨。 在這種紫外線照射裝置’從以往作爲紫外線光源的是 使用具有良好放射之2 53 . 7nm或184 · 9nm波 長之紫外線的低壓水銀燈或中壓水銀燈。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 並且,在處理半導體或液晶裝置時,由於多使用有機 溶劑、酸、鹼液等等之各種藥品,所以會有許多這些藥品 之氣化游離物。在這些藥品中,具有會吸收紫外線,藉由 該光能量而分解,而與其他藥品反應產生反應生成物者, 例如,產生硫氫化氨(N Η 4 ) H ( S 0 4 )或硫酸氨( Ν Η ,丨)2 S 0 4 » 如此之反應產生物,係成爲細小塵埃而在無塵室內對 流,而當這些細小塵埃集聚時,有時會造成對製造過程有 不良影響之原因。 另一方面,近年來取代前述水銀燈,有趨於利用可以 具有強力光能源’效率良好地放射單一波長之介電勢壘放 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公) -4 - 1J 題 BK, lp 之 決 解 欲 所 明 發 * 4 3 6 8 5 5 A7 ______B7___ 五、發明說明(2 ) 電燈,來作爲紫外線照射裝置之紫外線光源。 以介電勢壘放電燈作爲紫外線光源之紫外線照射裝置 ,其爲了與大氣隔離,而將介電勢壘放電燈置於密閉容器 內,從該介電勢壘放電燈所放射之紫外線,係透過設於容 器之一部的窗構件來作非處理物之照射。 然而,使用介電勢壘放電燈之紫外線照射裝置1由於 有用以透過紫外線之窗構件,導致前述反應生成物對流時 會附著於窗構件上之問題。 反應生成物附著於窗構件之理由,是由於介電勢壘放 電燈在點燈時,燈泡表面溫度約只有7 0 °C左右之低溫| 而藉由從燈泡所放射之輻射熱不能夠充分將窗構件予以加 熱,所以無法藉由來自窗構件的輻射熱,使接近窗構件之 反應生成物予以分解,而造成直接附著於窗構件上之現象 〇 於此結果下,會由於附著於窗構件上的反應生成物, 而使紫外線的透過率降低,造成照射區域內之紫外線強度 不平均之問題。 再者,進而產生非處理物之處理不良、處理不均1而 發生材料利用率(良品率)降低之問題。 並且,當窗構件上所附著之反應生成物堆積較多時, 會使該反應生成物從窗構件上剝離而造成大的塵屑,而造 成污染無塵室之處理環境之問題。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格(210 X 297公« ) I------------ 衷--------訂---------1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消貲合作社印製 -5- 經濟郭智慧財產局員工消費合作社印製 4368 5 5 A7 ___B7_ 五、發明說明(3 ) 本發明’乃基於如上所述之情形而發明,其目的便是 使由紫外線而產生之反應生成物不會附著於窗構件,因此 ’本發明之目的是在提供一種防止紫外線放射強度低下, 而能夠防止由該反應生成物造成塵屑產生之紫外線照射裝 置。 【用以解決課題之手段】 爲解決上述之課題,申請專利範圍第1項所記載之紫 外線照射裝置’其特徵爲:對於使介電勢塵放電燈配置於 容器內部’在該容器內形成有讓紫外線從前述介電勢壘放 電燈放射而透出之窗構件之紫外線照射裝置中,設有將前 述窗構件加熱至1 ο 〇 °c以上之加熱手段。 申請專利範圍第2項所記載之紫外線照射裝置,係針 對於申請專利範圍第1項所記載之紫外線照射裝置,尤其 是該加熱手段,係設於紫外線照射裝置內。 申請專利範圍第3項所記載之紫外線照射裝置,係針 對於申請專利範圍第2項所記載之紫外線照射裝置,尤其 是該加熱手段,係爲形成於窗構件之表面的厚膜加熱器。 申請專利範圍第4項所記載之紫外線照射裝置,係針 對於申請專利範圍第2項所記載之紫外線照射裝置,尤其 是該加熱手段,係爲形成於窗構件之表面的線狀加熱器。 申請專利範圍第5項所記載之紫外線照射裝置,係針 對於申請專利範圍第2項所記載之紫外線照射裝置,尤其 是該加熱手段,係爲爲白熱燈泡。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之生意事項再填寫本頁) 展--------訂-------!線 -6- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4368 5 5 A7 ____B7___ 五、發明說明(4 ) 【發明實施形態】 第1圖係本發明之紫外線照射裝置之說明圖。 於不鏽鋼製之容器1的內部,配置有複數個用以放射 紫外線之介電勢壘放電燈2 ,而於容器1的前方則配置有 使紫外線透過之由石英玻璃所成的窗構件3。 並且,該容器1係爲密閉,介電勢壘放電燈2是與大 氣隔離|而容器1內,則充塡有對來自介電勢壘放電燈2 所放射之光線爲透過性之非活性氣體,例如,氮、氬、氣 等氣體。 該介電勢壘放電燈2,係被封入有2 5 0 t 〇 r r之 氣氣作爲其放電用氣體’而每發光部份之表面積1 c m2之 輸入電力爲0.2W,使波長172nm具有最大値之紫 外線作有效率之放射。 符號4 ,係效率良好地將介電勢壘放電燈2所放射之 紫外線朝向窗構件3之方向反射的反射鏡。 其次,對加熱手段作說明。 <加熱手段1 > 如第2圖所顯示,於窗構件3之紫外線照射裝置內側 1具體上是在介電勢壘放電燈之表面形成有厚膜加熱器。 此厚膜加熱器Η 1 ’是將導電性發熱膏以網點印刷印 在窗構件3上,在5 0 0 °C下燒成處理3 0分鐘所成。 又’此厚膜加熱器H1之發熱量爲1.9KW。 <加熱手段2 > 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公茇) l·---.--------^---:-----訂---------線 (請先閱讀背面之主意事項再填寫本頁) H368 5 5 A7 B7 五、發明說明(5 ) 如第2圖所顯示,於窗構件3之紫外線照射裝置內側 ,具體上是在介電勢壘放電燈之表面形成有線狀加熱器之 微細加熱器Η 2。 ' 此微細加熱器,是在不鏽鋼製之細管中,沿其管軸配 置由鎳鉻線所成之發熱體,並在與細管之間充塡以高純度 之鎂粉末而呈線狀而可以彎曲之加熱器。 又,此微細加熱器之外徑爲1.6mm、長度40m ,發熱量約爲4 K W。 將作爲加熱手段之厚膜加熱器或線狀加熱器置於紫外 線照射裝置內,具體而言,是形成在介電勢壘放電燈之表 面,其理由是,防止加熱器直接接觸到非處理物作處理時 所產生之氣體藥物,以防止加熱器之劣化,或是,不會造 成加熱器正下方因加熱器本身所形成之陰影。 又,藉由將厚膜加熱器或線狀加熱器直接形成於窗構 件3之表面,而得以效率良好地將窗構件3予以加熱。 <加熱手段3 > 如第4圖所顯示,於容器1之內部,在鄰接介電勢壘 放電燈2之間配置鹵素白熱燈泡5。 此情形是藉由白熱燈泡所放射之紅外線來將窗構件3 予以加熱。 如此利用白熱燈泡作爲加熱手段時,使得紫外線照射 裝置之製造比起前述之厚膜加熱器或線狀加熱器更爲簡單 之同時,由於完全不存在任何東西會在窗構件3將紫外線 遮蔽,所以所照射之紫外線強度之均一性更佳。 本紙張尺度適用令國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ----·-------- 策--------訂---------線 1 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -8- A7 436855 ___B7_____ 五、發明說明(6 ) 又,在本實施例中,白熱燈泡係使用兩端封止型之 500W、25A的鹵素燈泡。 其次,對於第1圖之紫外線照射裝置,實施了當第2 圖所示之將厚膜加熱器形成於窗構件時|附著物受窗構件 溫度影響情況之實驗。其結果如第5圖所示。 第5圖,縱軸係顯示於窗構件之波長1 7 2 nm之光 線透過率,其隨窗構件之溫度上昇而透過率亦變大,由此 可知隨著窗構件的溫度升高|附著於窗構件的反應生成物 便分解而開始從窗構件游離|當窗構件爲1 0 0 °C時,便 沒有反應生成物。又,當窗構件至1 0 0 °c時,反應生成 物在接近窗構件就由於熱輻射而分解,便不會附著於窗構 件。 由此結果可知,藉由將窗構件加熱至1 0 0 °c以上, 可以防止反應生成物對窗構件附著,而防止紫外線放射強 度的低下,因而可防止來自反應生成物之塵屑的產生。 【發明之效果】 如以上所說明,本發明之紫外線照射裝置,因爲藉由 加熱手段將窗構件加熱至1 0 〇 °c以上,所以能夠防止由 有機溶劑、酸、鹼液等之各種藥品生成之反應生成物附著 於窗構件,而防止紫外線放射強度的低下,因而可防止來 自反應生成物之麈屑的產生。 又,因爲加熱手段是設在紫外線照射裝置內,所以不 會因有機溶劑、酸、鹼液等之各種藥品而劣化。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ----^---------'机--------訂---------線. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -9 - A7 4368 5 5 ________B7__ 五、發明說明(7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 作爲加熱手段,乃藉由厚膜加熱器或線狀加熱器而直 接形成於窗構件的表面’利用個別之加熱器所產生的熱直 接使窗構件被加熱,所以能夠效率良好地加熱窗構件。 作爲加熱手段,乃藉由使用白熱燈泡,不但製造簡單 ,並且可以使紫外線強度之均一性更爲良好之同時,將窗 構件予以加熱。 【圖面之簡單說明】 第1圖是本發明之紫外線照射裝置的說明圖。 第2圖是使用厚膜加熱器作爲加熱手段之窗構件的說 明圖。 第3圖是使用微細加熱器作爲加熱手段之窗構件的說 明圖。 第4圖是使用白熱燈泡作爲加熱手段之窗構件的說明 圖。 第5圖是受窗構件之溫度的影響下,反應生成物之附 著對紫外線透過率之變化的實驗資料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 【符號說明】 1 :容器 2 :介電勢壘放電燈 3 :窗構件 4 :反射鏡 5 :白熱燈泡 本紙張尺度適用t國國家標準(CNS)A4規格(2〗0 X 297公釐) -10- 4368 5 5 A7 _B7 五、發明說明(8 ) 熱熱 D P 力力膜狀厚線 I—I C0 Η Η {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 哀--------訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -11 -
Claims (1)
- 4368 5 5 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 · 一種紫外線照射裝置,其特徵爲: 使介電勢壘放電燈配置於容器內部,在該容器內形成 有讓紫外線從前述介電勢壘放電燈放射而透出之窗構件, 旦設有將前述窗構件加熱至1 0 〇 °C以上之加熱手段。 2 ‘如申請專利範圍第1項之紫外線照射裝置,其中 前述加熱手段,係設於紫外線照射裝置內。 3 ·如申請專利範圍第2項之紫外線照射裝置,其中 則述加熱手段’爲形成於窗構件之表面的厚膜加熱器。 4,如申_請專利範圍第2項之紫外線照射裝置,其中 前述加熱手段,爲形成於窗構件之表面的線狀加熱器。 5 _如申請專利範圍第2項之紫外線照射裝置,其中 前述加熱手段,係爲白熱燈泡。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Γ 經濟部智慧財產局員工消#合作社印製 本紙張尺度逋用中國國家梂準(CNS ) A4洗格(210X297公釐) -12-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11289798A JP3653980B2 (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | 紫外線照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW436855B true TW436855B (en) | 2001-05-28 |
Family
ID=14598247
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW088103250A TW466503B (en) | 1998-04-09 | 1999-03-03 | Ultraviolet ray irradiator |
TW088116423A TW436855B (en) | 1998-04-09 | 1999-09-23 | Ultraviolet ray irradiator |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW088103250A TW466503B (en) | 1998-04-09 | 1999-03-03 | Ultraviolet ray irradiator |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100462750B1 (zh) |
TW (2) | TW466503B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010034992A (ko) * | 2000-06-29 | 2001-05-07 | 박용석 | 자외선 조사장치 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3315843B2 (ja) * | 1995-09-01 | 2002-08-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JPH09260303A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 半導体製造装置のクリーニング方法および半導体製造装置 |
-
1999
- 1999-03-03 TW TW088103250A patent/TW466503B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-04-09 KR KR10-1999-0012537A patent/KR100462750B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-09-23 TW TW088116423A patent/TW436855B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW466503B (en) | 2001-12-01 |
KR100462750B1 (ko) | 2004-12-17 |
KR19990083090A (ko) | 1999-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4945290A (en) | High-power radiator | |
TW457594B (en) | Thermal processor for semiconductor wafers | |
JPH027353A (ja) | 高出力放射器 | |
TW436855B (en) | Ultraviolet ray irradiator | |
JP3653980B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP3214153B2 (ja) | 誘電体バリヤ放電ランプを使用した洗浄方法 | |
JP2008039766A (ja) | 光電子銃および殺菌装置 | |
US20020067130A1 (en) | Flat-panel, large-area, dielectric barrier discharge-driven V(UV) light source | |
TW543072B (en) | Substrate treatment device using a dielectric barrier discharge lamp | |
JP2008052916A (ja) | 紫外線照射装置 | |
EP1158574B1 (en) | Ultraviolet radiation producing apparatus | |
US6787787B1 (en) | Ultraviolet radiation producing apparatus | |
JP3214154B2 (ja) | 誘電体バリヤ放電ランプを使用した洗浄方法 | |
JP2005222905A (ja) | エキシマランプ | |
JP2571437B2 (ja) | 容器殺菌装置 | |
JPH06244159A (ja) | 光励起ガス反応装置 | |
WO2018008365A1 (ja) | 光洗浄処理装置 | |
EP3168860A1 (en) | Device and method for producing uv radiation | |
JPH10106490A (ja) | 紫外線ランプ,点灯装置および紫外線照射装置 | |
JP2000195470A (ja) | マトリックス蛍光表示装置 | |
JP3674589B2 (ja) | 誘電体バリア放電ランプを使用した処理方法、および処理装置 | |
JP2007287516A (ja) | 紫外線光源体及び紫外線照射装置 | |
JP7029641B2 (ja) | エキシマランプ | |
JPS5854544A (ja) | 紫外線放射用二重管形ランプ | |
CN1155990C (zh) | Uv基片加热和光化学的设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent |