TW434643B - Process for the production of evaporable getter devices with reduced particle loss - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 claims description 3
- 150000002291 germanium compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N triethylborane Chemical compound CCB(CC)CC LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims 2
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 claims 1
- 240000005373 Panax quinquefolius Species 0.000 claims 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims 1
- GIEAINOVPLDQPT-UHFFFAOYSA-N ethylgermanium Chemical compound CC[Ge] GIEAINOVPLDQPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- PIWKPBJCKXDKJR-UHFFFAOYSA-N Isoflurane Chemical compound FC(F)OC(Cl)C(F)(F)F PIWKPBJCKXDKJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNMLKYRHFLUEAL-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Al].[Al].[Ba] Chemical compound [Al].[Al].[Al].[Al].[Ba] CNMLKYRHFLUEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001553 barium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940084362 forane Drugs 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 235000015170 shellfish Nutrition 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PILOURHZNVHRME-UHFFFAOYSA-N [Na].[Ba] Chemical compound [Na].[Ba] PILOURHZNVHRME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 barium-aluminum compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012154 double-distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- QQXSEZVCKAEYQJ-UHFFFAOYSA-N tetraethylgermanium Chemical compound CC[Ge](CC)(CC)CC QQXSEZVCKAEYQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCZQFJFZMMALHB-UHFFFAOYSA-N tetraethylsilane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CC VCZQFJFZMMALHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J7/14—Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 3 4 5^3 A7 一_二____B7_ 五、發明說明(1 ) 本發明係關於一種可降低粒子損失之可蒸發吸氣裝置 的製造方法。 目前已知在形成電視螢幕的陰極射線管內採用可蒸發 吸氣裝置,以在陰極射線管預期壽命(約1 5年)期間保 持其內部必須真空度。 可蒸發吸氣裝置包括一上部開口容器(一般爲鋼製) ,其容納壓縮粉末包裝,壓縮粉末包裝一般包括鋇鋁化合 物(四鋁化鋇)及鎳之粉末混合物》在影像管抽成真空並 加以密封之後,先前已裝入的吸氣裝置藉由外側傳導加熱 ,使鋇蒸發並在陰極射線管內壁上澱積形成一薄層;此金 屬層是保持真空之作用材料,其將在陰極射線管壽命期間 可能在內部漏氣之氣體以化學方式限制氣體軌跡。在某些 情形下,四鋁化鋇及鎳粉末混合物亦加入含氮的鐵或鍺化 合物粉末,在鋇蒸發前釋出氮氣,以增加金屬澱積物之外 延及孔隙度。 許多專利中已揭示以鋇爲主之可蒸發吸氣裝置,例如 美國第 3,558,962 號,4,077,89 9 號, 4,342,662 號,及 5,1 18,988 號專利和 日本專利公開案第Hei 2-6185號。 習用裝置有時會有粒子損失之問題。如前所述,可蒸 發吸氣裝置包含利用特殊形狀衝床壓縮到容器內部的一包 粉末,但是包裝的自由表面(特別是容器壁附近)的粉末 粒子與包裝其餘部分的結合很差,結果,在鋇蒸發前,陰 極射線管在生產線上移動期間,吸氣裝置可能會損失粒子 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS)A4規格(210 X 297公釐〉 (請先閲讀背面之注意W-項再填寫本頁) · I ----1 i 訂·! 1!!·.^ -4- 43464 3 a7 ___B7 五、發明說明6 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 。所損失的粒子可能落在陰極射線管內螢幕內壁附近的柵 上,造成影像有黑點。高品質電視螢幕不容許有此現象, 若在測試陰極射線管時發現黑點,必須重新打開,淸除由 於金屬曝露在空氣下所形成的鋇化合物,以及再度使吸氣 裝置進入加工程序以及後續程序。 本發明之目的在於提供一種可降低粒子損失之可蒸發 吸氣裝置的製造方法。 上述本發明目的之達成係利用可蒸發吸氣裝置的製造 方法,其包括下列步驟: 利用習用方法生產由一上部開口容器形成之吸氣裝置 ,容器容鈉四鋁化鋇、鎳、以及可能的含氮的鐵或鍺化合 物之粉末包裝: 使至少一玻璃先質化合物酒精溶液在粉末包裝自由表 面行超音波霧化; 利甩溶液溶劑蒸發,再於真空下將吸氣裝置加熱到約 2 5 0〜3 5 0°C之溫度,以在粉末包裝自由表面形成一 玻璃層。 ; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之目的亦在於提供一種依據此方法產生之可蒸 發吸氣裝置。 以下參考所附圖式配合非限制性的一較佳實施例來揭 示本發明,其中: 圖1係一種可能的可蒸發吸氣裝置型式-圖2係未包覆依據本發明的玻璃層之可蒸發吸氣裝置 之粉末包裝的一部分。. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 * 297公釐) -5- 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4-34S43 - A7 B7 五、發明說明(3 ) 圖3係包覆依據本發明的玻璃層之可蒸發吸氣裝置之 粉末包裝的一部分。 主要元件對照 10 可蒸發吸氣裝置 11 容器 12 粉末包裝 13 上表面 2 0 四鋁化鋇粉末 2 # 鎳粉末 3 0 玻璃層 圖1中所示者爲一可蒸發吸氣裝置1 0,其外形爲大‘ 多數採用者,此型裝置由一個容器1 1所組成,其爲具有 矩形截面之環狀溝道,內部裝設一粉末包裝1 2,粉末包 裝12上表面13爲自由表面。圖2所示者爲粉末包裝細 部,其係由四鋁化鋇粉末2 0及鎳粉末2 1製成,鎳粉末 粒子一般較薄;但並未示出可有可無之含氮化合物。粉末 包裝上表面1 3未與容器壁接觸。雖然圖1中揭示一種吸 氣裝置特定型式,但實施時,本發明之方法可用於所有已 知可蒸發吸氣裝置。至於不同種類的可蒸發吸氣裝置及其 製備則請參考前述專利案。 本發明之方法利用一層薄玻璃層生產在機械上穩定的 粉末包裝自由表面,其係利用壓縮四鋁化鋇、鎳及可能的 含氮化合物而得。圖3所示者爲與圖2中相同之粉末包裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ---------- I I ^ · -----1— 訂---------# (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -6 - 經濟部智慧財產局貝工消f合作社印製 4 3 4 6 4 3 Α7 Β7 五、發明說明(φ ) *但覆有玻璃層3 0。 在依據習用方法製造可蒸發吸氣裝置之後,本發明之 方法包括利用超音波霧化使玻璃至少一化合物先質酒精溶 •液在粉末包裝自由表面1 3霧化。 酒精溶液之製備是利用溶膠/凝膠方法及規則。方法 最後所得之玻璃層一般是由氧化物混合物製成,其包括由 氧化矽、氧化鍺或其混合物中選出之第一成分以及由氧化 硼做爲第二成分;第一及第二成分之莫爾比爲1:3和3 :1之間,最好爲1 : 1。最好也加入少量其他氧化物成 分,例如氧化鋁,其百分比一般低於玻璃組成之1 0 %。 本申請案較佳爲使用氧化矽與氧化硼之等莫爾混合物。一 般做爲氧化物先質者爲乙醇化物,例如四甲基矽、四乙基 矽、四乙基鍺、三乙基硼及三異丙氧化鋁•使用乙醇鹽較 佳。溶劑一般包括甲醇或乙醇,後者較佳,因爲前者有毒 〇 爲了進行後述先質之水解及縮合反應,形成玻璃層時 每莫耳先質要加入至少二莫耳之水。一般言之,另外會加 入每莫耳先質加入〇 · 〇 1莫耳之硝酸,以強化形成玻璃 層之反應速率。溶液濃度一般是每公升溶液含有2至2 0 公克之先質化合物。‘ 所形成之溶液利用超音波霧化在四鋁化鋇及鎳和可能 的含氮化物粉末包裝自由表面13霧化。 - 具有包覆薄玻璃層的粉末自由表面之吸氣裝置爲習知 ,例如前述美國第US.4,3 42,6 6 2號專利及曰本 本纸張尺度適用中國困家樣準(CNS)A4規格<210 X 297公着) — II ------ — — — — — ^ illllllt^* > <請先閲讀背面之沒意事項再填寫本頁) A7 434643 B7 五、發明說明<5 ) 公開案Hei 2 - 6 1 8 5號。這些文件揭示包覆方法,例如 在先質溶液中浸入吸氣裝置,或是"旋轉包覆",其係將 一溶液滴置於要包覆之表面以及使吸氣裝置繞其軸線旋轉 ‘,以便使溶液均勻地擴展到整個粉末表面。然而,這些方 法能得到很厚的玻璃層,但材料浪費且可能產生鋇蒸發效 應。或者,包覆可利用傳統霧化爲之,其中溶液係利用溶 解槽內之氣體壓力(一般爲空氣或氮)強制通過噴嘴,或 是利用高量氣體流在噴嘴區建立之低壓而被吸入;然而在 兩種情況下,霧化流動速率很高,同樣造成厚玻璃層。此 外,這些技術形成的霧化錐很寬,其涵蓋的表面比粉末寬 ,在程序最後也在粉末容器上亦形成玻璃層澱積1而這是 電子管製造者不想要的。 反之,本發明之方法使用超音波霧化,包括在要通過 噴嘴的液體自由表面造成超音波頻率振動;增加超音波提 供之能量亦使振幅增加,液體表面的頂端及深處之間的距 離也增加,直到振幅使表面破裂,在頂端處形成液滴。此 技術與習用霧化技術相比之下有二主要優點,首先是能得 到相當低的液體低流動速率,甚至每秒數微升而已。之後 ,霧化產品以準直束被輸送,而非寬錐形式;例如可得到 覆以直徑爲1 m m或更少之霧化產品區,以及將氣體流導 尚霧化產品,(此可被散焦),因而得到能有高達5 0 c m直徑均勻包覆區之霧化錐。此二特性之結合使得僅以 很少量溶液下有精確的粉末表面包覆,最後的玻璃層厚度 非常薄。 - 本纸張尺度適用中國a家標準(CNS)A4规格(210 X 297公« ) — — — — — — —----I 1111111 ^ ·1111111 I (請先Μ讀背面之注項再填寫本頁} 經濟部智慧财產局貝工消费合作社印製 烴濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 43464 3 A7 B7 五、發明說明(6 ) 市面上有許多超音波霧化器,例如美國紐約州米爾頓 的所諾科技公司(Sono-TekCop.,)販賣之AccuMist (商 標名)超音波霧化器,這些霧化器的商用技術手冊詳載其 •操作原理及程序。 依據本發明之霧化係利用先質溶液在約每秒1 0〜 5 0微升之流率下完成。噴嘴與要包覆粉末表面之間的距 離一般在0·5〜5公分之範圔。 一旦粉末自由表面1 3已包覆先質溶液,藉由溶液溶 質之蒸發與玻璃先質化合物分子之間的反應而形成玻璃層 3 0° 所發生的化學反應如下: M(OR)„ + nH2〇M(OH)〇 + nROH (I) M(0R)n + M'(0H)m^ (OH)n.,M-0-M,(OH)m-. + H2〇 (II) 其中: M與Μ /爲相同或不同,其元素氧化物意欲形成玻璃 層: η與m分別爲Μ和Μ ~之原子價數;以及 —〇R爲對應R0H醇之烴氧基。 反應式(I )中,每莫耳先質需要至少二莫耳水。依 據本發明,最好採用最少量之水,水與先質莫耳總數之莫 耳比約爲2,因爲水會與四鋁化鋇化合物反應而改變其性 質。水在此爲試劑1最好是在溶液製備最後才加入,或是 本紙張尺度適用争困困家標準(CNS>A4慧格(210 X 297公*) ------------•裝----- ϋ I * ^1 ·1 n I 疒、 <請先閱讀背面之注f項再填寫本I) -9- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 43464 3 a? ___B7___ 五、發明說明(7 ) 在霧化前才加入,避免溶液過稠而不適合反應式(I )和 (I I )進行結果之霧化。反應式(I I )進行直至所有 氫氧基族群已經反應,一莫耳水減少3,並在二不同原子 '之間形成一氧橋(縮合反應)。由於元素Μ與^1>至少爲 三價,可得到由氧橋彼此結合且構成最後玻璃構造之Μ和 Μ ^原子三維晶格。 基於吸氣裝置最後使用用途之考量,溶液霧化之後的 步驟是在真空下進行,以將陷於玻璃層3 0或形成粉末包 裝1 2之粉末粒子2 0,2 1之間的間隙內之大氣氣體降 至最少。此外,在真空下運作強化(I)和(II)反應 ,因爲在反應式(I )形成之ROH醇和在反應式(I I )中形成的水中之ROH醇被持續移去。 最後步驟爲反應式(I I )中形成的玻璃層之固化, 其係仍在真空下於2 5 0〜3 5 Ot下爲之。 以下利用下列數例介紹本發明,這些非限制性例子揭 示數實施例以教導習於此技之人士如何實施本發明,且意 欲呈現實施本發明之最佳方式。 〔例1〕 生產2 5個圖1中所示之可蒸發吸氣裝置,各吸氣裝 置內徑爲2 0mm,容納粉末通道寬度約6mm,四鋁化 鋇(粒徑小於250#m)與鎳(平均粒徑約1 0 /z m ) 重量比爲1 : 1,二者混合物重爲100mg :粉末利用 對衝床施加約3 0 0 Ok g/cm2壓力而被壓縮在容器內 本紙張尺度適用_國國家標準(CNS)A4規格(210 * 297公釐) -10- ----:!-----* . — illtr·!-^- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 434643 B7_ 五、發明說明(8 ) 。所形成的2 5個吸氣裝置係利用使溶液霧化而'被包覆, 溶液之獲得係將2.1克四甲基矽和2.9克三乙基硼加 入1公升乙醇用|在霧化之前才加入9 Om 1之雙蒸餾水 •到溶液中。溶液之霧化係以一噴霧操作,噴嘴與粉末表面 保持約1 cm之距離,且在表面形成約〇 . 3 cm2之霧化 區,溶液霧化速率約30/z 1/s e c,同時使噴嘴在粉 末包裝表面線性移動速率約4 . 4 cm/s e c,使完整 包覆約需1秒;溶液在粉末表面上霧化量約爲◦.1 1 / c m2。之後,依此包式包覆之吸氣裝置被置入在吸氣 下之爐內,在9 0分鐘內加熱到3 5 Ot,之後從爐中移 出β 〔例2〕 例1中製備的2 5個樣本接受粒子損失測試。先製備 一燒杯,底部有一金屬過濾器,其孔隙度爲0 . 6 5 //m ,重量精度爲±0 . lmg。將米拉諾(Milano)義大利 ELE ATOCHEM公司販賣的FORANE (商標名)141b DGX注入燒杯,其係由含有少量穩定化合物之1,1_ 二氯一1 —氟代乙烷所組成。這些樣本——置入液體中且 接受超音波振動二分鐘。測試最後,設在玻璃底部之過濾 器被取出且以紅外線加熱5分鐘以使FORANE蒸發再稱重 ,其與原始重量之差異除以樣本數目,得到各樣本平均重 量損失。在本測試中所得到的各樣本平均重量損失爲〇· 3 7 m g 。 · 本紙張尺度適用t國國家標準(CNS)A4燒格<210 X 297公爱> — — — — — — — — — —— I — — — — ——II ·11111111 I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - A7 434§4 3 _____B7___ 五、發明說明(9 ) 〔例3〕(比較例) 例2中之測試再對例1中製備的2 5個吸氣裝置(但 '未利用超音波霧化形成玻璃層)爲之,其各樣本平均重量 損失爲0 . 56mg。 例2與例3之間的結果比較顯示係本發明方法包覆之 樣本與此領域中依據最佳製造技術製備的未包覆玻璃層之 可蒸發吸氣裝置相比之下其平均粒子重量損失減少了大約 3 5%。 (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本直} 經濟部智慧財產局具工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇χ 297公釐) -12-
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- 43464 3 六、申請專利範圍 附件一: 第881 10907號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國90年2月修正 1 ·〜種可降低粒子損失之可蒸發吸氣裝置的製造方 法’包拮以下步驟: 利用習用方法生產上部有一開口金屬容器(1 1 )所 形成之吸氣裝置,容器內有四鋁化鋇(2 〇 )、鎳(2 1 )及可能的含氮鐵或鍺化合物之混合物的粉末包裝(i 2 質 在粉末包裝自由表面(1 3 )上使有至少一玻璃先 化合物之酒精溶液進行超音波霧化; 使溶液溶質蒸發再使吸氣裝置在真空下2 5 〇〜 璃 3 5 0 °C下做熱處理,以在粉末包裝自由表面形成一玻 層(3 0 ) < 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 ·如申請專利範圍第1項之方法,其中要被霧化 溶液之製備係以醇類爲溶劑,從四甲基矽、四乙基砂、 乙基鍺,三乙基硼和三異丙氧化鋁中選用~或多種化合寒 做爲玻璃先質’每莫耳先質加入至少二莫耳水。 3 .如申請專利範圍第2項之方法,其中先質爲三2 盛砂’醇類爲乙醇,先質濃度爲每公升溶液中先質約爲$ 〜2 0克。 4 〃如申請專利範圍第1項之方法,其中係在溶液孩 率爲10〜50//丨/ sec下進行霧化。 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210 X 2打公瘦)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT1998MI001742A IT1301948B1 (it) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | Processo per la produzione di dispositivi getter evaporabili conridotta perdita di particelle |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW434643B true TW434643B (en) | 2001-05-16 |
Family
ID=11380534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW088110907A TW434643B (en) | 1998-07-28 | 1999-06-28 | Process for the production of evaporable getter devices with reduced particle loss |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
AU (1) | AU5192899A (zh) |
IT (1) | IT1301948B1 (zh) |
TW (1) | TW434643B (zh) |
WO (1) | WO2000007209A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1318937B1 (it) * | 2000-09-27 | 2003-09-19 | Getters Spa | Metodo per la produzione di dispositivi getter porosi con ridottaperdita di particelle e dispositivi cosi' prodotti |
ITMI20011341A1 (it) * | 2001-06-26 | 2002-12-26 | Getters Spa | Dispositivo getter evaporabile per tubi a raggi catodici |
ITMI20090410A1 (it) | 2009-03-18 | 2010-09-19 | Getters Spa | Leghe getter non evaporabili adatte particolarmente per l'assorbimento di idrogeno |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1050069B (it) * | 1975-12-12 | 1981-03-10 | Getters Spa | Dispositivo getter impermeabile che puo venir cotto all aria |
DE3070123D1 (en) * | 1979-10-25 | 1985-03-21 | Toshiba Kk | Getter device |
JPS58111237A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Toshiba Corp | 耐酸化性ゲツタ装置 |
DE3414245A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Battelle-Institut E.V., 6000 Frankfurt | Verfahren und vorrichtung zur dichten belegung von festkoerperoberflaechen mit feinen fluessigkeitstroepfchen |
-
1998
- 1998-07-28 IT IT1998MI001742A patent/IT1301948B1/it active IP Right Grant
-
1999
- 1999-06-28 TW TW088110907A patent/TW434643B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-23 WO PCT/IT1999/000233 patent/WO2000007209A1/en active Application Filing
- 1999-07-23 AU AU51928/99A patent/AU5192899A/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ITMI981742A0 (it) | 1998-07-28 |
ITMI981742A1 (it) | 2000-01-28 |
AU5192899A (en) | 2000-02-21 |
WO2000007209A1 (en) | 2000-02-10 |
IT1301948B1 (it) | 2000-07-20 |
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