JPS58111237A - 耐酸化性ゲツタ装置 - Google Patents

耐酸化性ゲツタ装置

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JPS58111237A
JPS58111237A JP56209368A JP20936881A JPS58111237A JP S58111237 A JPS58111237 A JP S58111237A JP 56209368 A JP56209368 A JP 56209368A JP 20936881 A JP20936881 A JP 20936881A JP S58111237 A JPS58111237 A JP S58111237A
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getter
powder
getter device
oxidation
boron oxide
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JP56209368A
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Tadaki Okai
岡井 忠毅
Katsuhiro Shimura
志村 勝弘
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J7/00Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J7/14Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H01J7/18Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering

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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は受信管、X線管、−極線管等の電子管内残留ガ
スを吸着する蒸発性の耐酸化性ゲッタ装置KIIする。
発明の技術的背景とその問題点 ゲッタ装置を大別すると、電子管等の真空領域内でバリ
ウムを蒸発して得られた薄膜に残留ガスを吸着させる蒸
発型ゲッタ装置と、チタン、ジルコニウム、タンタル等
を真空領域内に配置してゲッタ作用を行わせる非蒸発型
ゲッタ装置とに分けられる。
このうち蒸発型ゲッタ装置の蒸発物質即ち残留ガスを吸
着する物質としてはバリウムが広く用いられているが、
これは大気中で容易に酸化するためバリウムーアルンニ
ウム(以下Ba−ムjと称する)合金とし、これを粉末
化してゲッタ材としている。
さらに主に用いられるゲッタ装置としてはBa−ム4合
金粉末にニッケル粉末の反応添加材(還元性金属)の粉
末を混合して導電性容器に充填したものがある。これは
、ゲッタ装置が加熱されるとBa −AI 合金粉末中
のアルミニウムとニッケル粉末(反応添加材)とが反応
を起こし、その反応熱によってバリウムの蒸発が容易に
なる。
上記のゲッタ装置は高周波加熱などによ〕加熱しバリウ
ムのゲッタ膜を真空容器内壁IIc形成する。
しかし乍らゲッタ装置を蒸発させる以前に1ゲツタ装置
が不所望な加熱をしばしば受け、ゲッタ材のうち主とし
てニッケルが酸化されて、ゲッタ膜を形成する上で支障
となる場合がある。
九とえば、英国特許第1,226,728号明細書に開
示されているような場合である。この開示例によれば、
陰極線管を構成するパネル部とファンネル部とが、フリ
ットガラスにより封着さ引る前にゲッタ装置が内部に取
り付けられる−0その後、大気中でフリットガラスをフ
ァンネルとパネルとの封着部に塗布し、450℃で1時
間高温処理を行って封着を完了させる。
この際、Ba−AJ合金粉末とニッケル粉末との混合粉
末が充填されたゲッタ装置は、上記封着工程時の大気中
450℃の1時間の高温処理中に酸化して、主として酸
化ニッケル(以下NiOと称する)を生じる。NiOが
ゲッタ装置中に存在するとNiOとBa−Al合金粉゛
末とが高温時に、!@な反応を生じ、ゲッタ装置を加熱
してバリウムを蒸発させるC以下ゲッタフラッシュと称
する)際に1爆発的なバリウムの飛散という結果をもた
らす。
NlOの生成量が多量の場合、金属容器そのものまでが
溶断されてゲッタ材と共に爆発的な飛散をもたらす危険
性がある。たとえば、カラーテレビジョン用−極線管に
おいて、この種の爆発的飛散は耐圧不要等の原因となり
管機能を損うので絶対に避けなければならない。
以上の理由から大気中で高温に曝されても何ら障害を生
じないゲッタ装置が求められている。このような目的で
表面に有接シランを被覆したゲッタ装置が特開昭52−
841$60号公報に1また酸化シリコンを被覆し九ゲ
ッタ装置が特開昭52−139355号公報に、を九ホ
ウ素酸化物を被覆したゲッタ装置が4I−@56−61
736号公報に開示されている。
特開昭52−84960号公報によれば、アルキル、ア
リール、アラルキル、アルカリールおよび水素を含むポ
リシロキサ/がどの有機シランにより被覆されたゲッタ
装置が空気中480℃で1時間の加熱に耐え、爆発的な
飛散を呈することまくバリウムを蒸発せしめ得ることが
示されている。
しかしながら、このような有機シランによ)被覆された
ゲッタ装置でゲッタフラッシュを行りた際、有機シラン
かも主として炭化水素系の気体が多量に放出され、これ
らの気体はゲッタ膜に容易に8着されず、ゲッタフラッ
シュ後しばらくの間管内圧力が10JTorr程度に放
置されるという問題が生じる。
このような多量の残留ガスは、テレビ用陰極線線管内等
の高電圧で負荷された空間内ではイオン化され、加速さ
れて陰極あるいは陽極に衝突しスパッタリング現象をお
こす。このスパッタリング現象により開極上の電子放射
性物質の一部が他の好ましくない内部に飛着し耐圧特性
を著しく劣化させ九り、或は陽極側でいわゆるイオンス
ポットを生ずる。
また、特開昭52−139355号公報に示された酸化
シリコン層により被覆されたゲッタ装置は高温酸化に対
しかなシの保睦効釆を示す。
即ち、前記ゲッタ装置を大気中で加熱後、ゲッタフラッ
シュした場合、爆発的飛散の程度はかなり改善されたが
、少量のゲyり材の脱落と一部焼結したゲッタ材の容器
外への浮き上りが認められた。しかし乍ら陰極線管等の
電子管の耐圧特性の劣化防止のため、軽度圧せよゲッタ
フラッシュ時の爆発的飛散とゲッタ材の浮き上り及びゲ
ッタ材の脱落は完全に避叶る必要がある。
即ち、爆発的な飛散は飛散粒子が管内の不所望な箇所へ
飛着し、耐圧特性の劣化のみ愈らず回路の翅絡をひき起
こす場合がある。またゲッタ材の浮き上りはゲッタフラ
ッシュを行った際管内の不所望な箇所ヘバリクム膜を形
成せしめ、耐圧特性の劣化の原因となると共に、グツタ
フ2ツシエ後ゲツタ残留物が管内に落下し、管内の塵芥
のもととなり管機能を着るしく損う。
さらに1酸化シリコン層で被覆し九ゲッタ装置表面を電
子顕微鏡を用いて観察したとζろ酸化シリコン層が多孔
質な構造からなることが判明した。
即ちとの細孔を通してゲッタ装置表面へ酸素が供給され
、ゲッタ材の一部、主にニッケル粉末が酸化される。仁
のゲッタ材中のニッケル粉末の酸化が、軽度といえども
爆発的碌飛散を引き起す原因と考えられる。
次に、特開昭56−61736号会報にはゲッタ材中の
Ba−A1合金粉末とニッケル粉末とをホウ素酸化物で
被覆したゲッタ装置が開示さhている。
このゲッタ装置はゲッタ材自身が耐高温酸化性圧すぐれ
るという効果を有しているが、一方Ba−Al1合金粉
末とニッケル粉末との反応性が悪く力るという問題を有
している。
すなわち、ガラス質ホウ素酸化物で被覆していないゲッ
タ装置(以下前者のゲッタ装置と称する)と%開昭56
−61736号公報に示したゲッタ装置(以下後者のゲ
ッタ装置と称する)とを高周波加熱で同じ条件で加熱し
飛散させて比較した場合、後者のゲッタ装置は前者のゲ
ッタ装置よりも、飛散開始時間が遅くなった。その為、
前者のゲッタ装置の飛散開始時間に後者のゲッタ装置の
飛散開始時間を合わせるには、後者のゲッタ装置に、高
周波鱒導加熱のパワーアップが必要となる。
を九、さらに後者のゲッタ装置は、Ba−AJ合金肴粉
末ニッケル粉末との両表面が被覆されているため、ひと
たびBa−11合金粉末とニッケル粉末とが1反応し始
めると急激な反応をひき起こし、ゲッタ材の浮き上シの
原因ともなるという問題が生じ九。
その上、後者のゲッタ装置の製造法は、ゲッタ装置自身
をホウ素酸化物の溶剤に浸漬するだけなので、全てのゲ
ッタ材が完全にホウ素酸化物で被覆されるとは限らない
、さらにゲッタ材を充填した容器を溶剤に浸すので、ホ
ウ素酸化物をゲッタ材の表面から被覆することに表り、
被覆膜の厚さを&I1mすることがむずかしい、その為
、ゲッタ材主にニッケルが酸化して、NiOを生じ、ゲ
ッタフラッシュの際急激な反応が生じるという前者のゲ
ッタ装置の問題さえ完全には防止されない。
発明の目的 本発明の目的は以上の点に鑑みて表されたも0で、耐高
温酸化性を有し、かつその使用に際しても何ら障害を伴
うことのない高品位のゲッタ装置を提供することKある
発明の概要 本発明1jBa−A7合金粉末とホウ素酸化物で被覆し
たニッケル粉末とからなるゲッタ材と、とのゲッタ材を
充填した金属保持器とからなプ、ゲッタフラッシュ前の
高温雰囲気中でのニッケルの酸化を効果的に防止し、ゲ
ッタフラッシュ時のBa−A1合金とニッケルとの急激
な反応を抑制した耐酸化性ゲッタ装置である。
発明の実施例 以下に本発明の実施例をあげて詳細に説明する。
第1図は本発明に通用される耐酸化性ゲッタ装置中のゲ
ッタ材(刀の模式図である。ゲッタ材はBa−A1合金
粉末(2)と、透明で畝密なガラス質ホウ素酸化物(3
)で被覆されたニッケル粉末(4)とからなるコーテン
グ粉末(居とで形成されている。このBa−A1合金粉
末(2)とコーテング粉末四とは互いに接着されていな
い。ちなみに、第1図のBa−kl粉末(2)の大きさ
は略40 pm〜150μm1ニッケル粉lIZ図は、
本実施例のゲッタ材を充填し九ゲッタ装置の断面図であ
る。このゲッタ装置轡は外径22.0■、内径15.0
目、高さ2.7闘、厚さ0.18−で断面がU字形の不
銹鋼からなり、内縁郁輔は中空である環状金属製ゲッタ
容器からなっている。
そして、U字部α◆には1本実施例のゲッタ材(ト)が
充填されている。
次に本発明によって得られたゲッタ装置を実際に陰極線
管に用いた場合について説明する。第3図は陰極線管轡
の一部切欠断面図である。第磯図に示すように1前面ガ
ラスパネル(ホ)内面に蛍光面ルーll壁に支持固定す
る0次に本発明により得られれた7アンネル(至)とガ
ラスパネル四との当接面にフリットガラス四を被着し、
約450℃で1時間の高温処理により両者を封着すると
共に蛍光膜とメタルバック被膜との間の有機材を蒸発さ
せる。
この後に電子銃をネック部94に封着し、排気工程を経
て陰極線管轡を封止する。その後、高周波誘導加熱によ
りゲッタフラッシュを行ない、電子銃のエージング等を
経て陰極線管(ロ)が完成する。
このようKして得られた陰極線管は、従来のゲッタ装置
が電子銃に取り付けられた陰極線管と比較し、電子放射
特性及び耐圧特性が同等であることが確認された。した
がって、本発明のゲッタ装置を用いるととKより、ゲッ
タ装置をファンネルのネック部から挿入する必要はなく
なり、ゲッタ容器を充分な大きさに保ったままネック径
を小さくすることが出来た。これは、陰極線管を小型化
された省電力型とする場合に有益である。また、ゲッタ
装置を電子銃から電気的に切9離すことができるので、
不所望のサージ電流がゲッタ装置−電子続開に流れるこ
とを防止することができる。
上記実施例のゲッタ装置のゲッタ材自身は多孔質ではあ
るが、ニッケルが酸化されることがなくゲッタ容器の底
の方からもゲッタフラッシュの際バリウムが蒸発しやす
い、そして、Ba−A4合金粉末はホウ素酸化物で被覆
されておらず、ニッケル粉末のみが被覆されておaニッ
ケル粉末の被覆膜の厚さは適宜調整することが出来る。
これは、本発明ではニッケル粉末をホウ素酸化物で被覆
する工程杜、ゲッタ材を容器充填前に行うからである0
本発明のゲッタ装置を高周波誘導加熱でゲッタフラッシ
ュさせた場合、Ba−人1合金粉末とニッケル粉末との
反応性は嵐く、ホウ素酸化物で被覆していないゲッタ装
置と同じ飛散開始時間で飛散し始めた。その上、ゲッタ
装置を例えば大気中2時間450℃で高温処理した際に
もニッケル粉末が酸化されないのでNiOを形成してN
iOとBa−A1合金粉末とが急激な反応を起ζすこと
もなかった。そして、形成したバリウム膜の分布および
飛散バリウム量、放出ガス量(主として窒素ガス等)を
調定したとζろ、従来Oゲッタ装置と同等の特性を示し
た。さもに%特開昭56−61736号公報に示され大
尉酸化性ゲッタ装置は飛散開始するまでの時間を13秒
以下に押えると−浮き上)が発生しはじめるのに対し、
本発明の耐酸化性ゲッタ装置は飛散開始するまでの時間
を8秒に早めても浮き上りが見られないことが確認され
え。
次にホウ素酸化物をニッケル粉末に被覆する方法につい
て述べる。
無水ホウ酸を1.5重量%含むエチレングリコールモノ
メチルエーテル溶液中にニッケル粉末を浸漬し、ボール
ミルを30分間行なった後、大気中で150℃2時間電
熱型乾燥器を用いて乾燥させた。さらに真空中500℃
で30分間加熱し被覆したニッケル粉末をtlぐした後
、Ba−A[合金粉末と電化ゲルマニウム−鉄粉末との
重量組成比を略49:49:2に調整した。この様にし
て5作られたゲッタ材をゲッタ装置に充填する。そして
このゲッタ装置に対して真空加熱により脱ガスを行なっ
て本実施例のゲッタ装置は完成される。またゲッタ材赫
盪化ゲ′ルマニウムー鉄粉末を加えたのは、ゲッタ装置
からバリウムが蒸発する前に窒素がゲッタ装置から分離
放出され、この窒素に後から蒸発したバリウムが衝突し
拡散して広い範囲にバリウム膜を形成させる丸めである
。そして、電化ゲルマニウムー鉄粉末をゲッタ材に加え
る量を2重量−としたのは%窒素ガスが過剰に放出され
るとゲッタ膜が広く薄く形成される為、ガス吸着の機能
が低下するからである。tた。この窒素ガスは、役割を
果たした後、バリウム膜に吸着されるのは言うまでもな
い。
さらに本発明のようにニッケル粉末のみにホウ素酸化物
を被覆したことによるゲッタ材の酸化防止について、第
4図によ)詳細に説明する。
第4図は横軸にニッケル材に被覆されているホウ素酸化
物量、縦軸にゲッタ装置を大気中2時間450℃で高温
処理を行なつ°た場合のゲッタ材の酸化による増量をゲ
ッタ材中のニッケル量に対する重量組成比で示したもの
である。この場合、酸化増量をニッケル量に対する重量
組成比で示したのは、ゲッタ材中、 Ba−A1合金粉
末はほとんど酸化せず、主として酸化するのはニッケル
粉末だからである。
サテ、特性(4DK示す特開昭56−61736号公報
に示されたゲッタ装置を用いた場合は、被覆量が増えて
も酸化による増量は0.8重量−以下にはならないのに
対し、本発明の耐酸化性ゲッタ装置を用いた場合の特性
−では被覆量の増加と共に酸化による増量も減少してい
る。これは、本発明によりゲッタ材の酸化防止が有効で
あり、NiO生成を防止して、NiOとBa−kl粉末
との急激な反応を避けることが可能なことを意味してい
る。
さらに、 ニッケル粉末にホウ素酸化物を被覆する際、
ホウ素酸化物で被覆したニッケル粉末に対してホウ素故
化物の重量組成比が略0.15−〜0.30−程度が最
良であった。すなわち、ホウ素酸化物の被覆量は略0.
03重量−以上ならば、爆発的な飛散を惹き起こすNi
Oの生成を防止する効果を有するが、被蝋量が略0.0
3重1%〜0.15重量%では浮き上り現象が多少認め
られる。また被嶺量が略0.30重i1チ以上となると
Ba−A1合金粉末とニッケル粉末との反応性が低下し
飛散バリウム量が減少する。
なお、ニッケル粉末をホウ素酸化物で被覆するために1
本実施例では溶剤としてエチレングリコールモノメチル
エーテルを使用したが、これ以外にエチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブ
チルエーテルよりなる群から選ばれ九単体tたは混合溶
液を4使用することができる。重大、混合溶液とする際
、エチレングリコールモノメチルエーテルも他の溶液と
混合出来、さらに混合の割合はそれ程厳密でなくとも本
発明の効果には影響を及ぼさない、その上ゲッタ材製造
工程時の溶剤として通常は用いられ素酸化物を被覆する
工程がより容易にかつ安価に実施できる利点を有する。
さらに本実施例のゲッタ装置では、ニッケル粉末のみに
ホウ素酸化物を被覆するため、ホウ素酸化物を融解しニ
ッケル粉末の全表面に透明で緻密なガラス質ホウ素酸化
物を被覆する際、真空処理を用いたが水素処理を用いて
も形成されたホウ素酸化物で被覆したニッケル粉末の効
果は同じであった。さらに水素処理を用いることにより
、ホウ素酸化物で被覆したニッケル粉末は量産が可能と
なる利点な有する。
発明の効果 以上のように本発明によればニッケル粉末のみにホウ素
酸化物を被覆したため、Ba−11合金粉末とニッケル
粉末との反応性を低下させることなく、ニッケルの酸化
を防止出来る。従ってゲッタ装置がゲッタフラッシュ前
に高温雰囲気中に曝されてもゲッタ装置のバリウムを蒸
発させる際、バリウム−アルミニウム合金粉末と酸化ニ
ッケル粉末とが急激な反応を引き起こすことを防止でき
、爆発的な飛散を呈することなくバリウムを蒸発させる
ことが出来る。
さらに、ゲッタ材中に略2重Ik−の窒化ゲルマニウム
−鉄粉末を加えることにより、ゲッタ装置からバリウム
が蒸発する前に窒素がゲッタ装置から分離放出され、そ
の窒素に後から蒸発したバリウムが衝突し拡散し、広い
範囲にバリウム族を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による耐酸化性ゲッタ装置のゲッタ材の
構成を示す模式図、第2図は本実施例のゲッタ材を充填
したゲッタ装置を示す断面図、第3図は本発明の耐酸化
性ゲッタ装置を適用し九陰極線管の一部切欠断面図、第
4図はニッケル粉末のホウ素酸化物被覆量と酸化による
増量比を示す特性図である。 (1)・・・・ゲッタ材   (2)・・・−Ba−A
j合金粉末(3)・・・・ ガラス質ホウ素酸化物+4
) 、−ニッケル粉末 (6)四コーテング粉末四・・
・・ゲッタ装置  (ロ)・・・・U字部”:/ 4−
、j・四・・・・本実施例のゲッタ材 輔・・・・内縁部 (7317)代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか
1名)第  1 図 第  2 図 第  3 図 第4図 手続補正書(自発) 、事件の表示 特願昭56−409368号 −発明の名称 耐酸化性ゲッタ装置 、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (307)  東京芝浦電気株式会社 、代理人 〒100 東京都千代田区内幸町l−1−6 (1)明細書全文 (2)図面 補正の内容 (1)  明細書全文を別紙訂正明細書の通)訂正する
。 訂正明細書 10発明の名称 耐酸化性ゲッタ装置 2、 4許請求の範囲 偏したゲッタ材と、前記ゲッタ材を充填した金属保持器
とからなることを特徴とする耐酸化性ゲッタ装置。 (2)前記ホウ素酸化物が無水ホウ酸であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の耐酸化性ゲッタ装置
。 (3)  前記ホウ素酸化物の重量組成比が、前記ホウ
素酸化物で被覆したニッケル粉末に対して、略O,tS
*〜0.304であることを特徴とする特許請求の範@
I第1]j紀載の耐酸化性ゲッタ装置。 3、発明の詳細な説明 発明の技術分野 本発明は受信管、X線管、陰極線管等の電子管内浅域ガ
スを吸着する蒸発性の耐酸化性ゲッタ膜置く関する。 発明の技術的背景とその問題点 ゲッタ装置を大別すると、電子管等の真空領域内でバリ
ウムを蒸発して得られた薄嘆に残留ガスを吸着させる蒸
発型ゲッタ装置と、チタン、ジルコニウム、タンタル等
を真空領域内に配置してゲッタ作用を行わせる非蒸発型
ゲッタ装置とに分けられる。 このうち蒸発型ゲッタ装置の蒸発物質即ち残留ガスを吸
着する物質としてはバリウムが広く用いられているが、
これは大気中で容易VC#1化するためバリウム−アル
ミニウム(以下Ba−Ajと称する)合金とし、こ咋を
粉末化してゲッタ材としている。 さらに主に用いられるゲッタ装置としてはBa−Aj合
金粉床にニッケル粉末の反応添加材の粉末を混合して導
電性容器に充填したものがある。これは、ゲッタ装置が
加熱されるとBa−A1合金粉末中のアルミニウムとニ
ッケル粉末(反応添加材)とが反応を起こし、その反応
熱によってバリウムの蒸発が容易になる。 上記のゲッタ装置は高周波加熱などによ〕加熱しバリウ
ムのゲッタ膜を真空容器内11に形成する。 しかし乍らゲッタ装置を蒸発させる以前に、ゲッタ装置
が不所望な加熱をしばしば受杆、ゲッタ材のうち主とし
てニッケルが酸化されて、ゲッタ膜を形成する上で支障
となる場合がある。 たとえば、英国特許IK 1,226,728号明細書
く開示されているような場合である。この開示例によれ
ば、陰極線管を構成するパネル部とファンネル部とが、
フリットガラスにより封着される前くゲッタ装置が内部
にJIIEカ付けられる。その後、大気中でフリットガ
ラスをファンネルとパネルとの封着部に、塗布し、45
0℃で1時間高温処理を行って封着を完了させる。 この際、Ba−ムj合会粉末とニッケル粉末との1合粉
末が充填され九ゲッタ装置は、上記封着工種時の大気中
450℃の1時間の高置処理中に酸化して、主として酸
化ニッケル(以下NiOと称する)を生じる。NiOが
ゲッタ装置中く存在するとNi0とBa−11合金粉末
とが高温時に急激な反応を生じ、ゲッタ装置を加熱して
バリウムを蒸発サセル(以下ゲッタフラッシュと称する
)際に、爆発的なバリウムの飛散という結果をもたらす
。NiOの生成量が多量の場合、金属容器そのものまで
が溶断されてゲッタ材と共に爆発的な飛散をもたらす危
険性がある。たとえば、カラーテレビジョン用陰極線管
において、この種の爆発的飛散は耐圧不良等の原因とな
り管機能を損うので絶対に避けなければならない。 以上の理由から大気中で高温に曝されても何ら障害を生
じないゲッタ装置が求められて込る。このような目的で
表面に有機シランを被覆したゲッタ装置が特開昭52−
84960号公報に、また酸化シリコンを被覆したゲッ
タ装置が特開昭52−139355号公報に、またホウ
素酸化物をIN!lit、たゲッタ装置が4111昭5
6−61736号公報に開示されている。 特開昭52−84960号公報によれば、アルキル、ア
リール、アラルキル、アルカリールおよび水素を含むポ
リシロキサンなどの有機シラ/によル被覆されたゲッタ
装置が空気中420℃で1時間の加熱に耐え、爆発的な
飛散を呈することなくバリウムを蒸発せしめ得ろことが
示されている。 しかしながら、このような有機シランにより被覆され九
ゲッタ装置でゲッタ7ラツシエを行った際1.有機シラ
ンかも主として炭化水素系の気体が多量に放出され、こ
れらの気体はゲッタlIK容島Kl1着されず、ゲッタ
7ラツシエ後しばらくの間管内圧力が10−”Torr
@gK放置されるという問題が生じる。 このような多量の残留ガスは、テレビ用陰極線線管内等
の高電圧で負荷され九空間内ではイオン化され、加速さ
れて陰極あるいは陽極に衝央しスパッタリング現象をお
こす。このスパッタリング現象により陰極上の電子放射
性物質の一部が他の好ましくない箇所に飛着し耐圧特性
を著しく劣化させた9、或は陽極側でいわゆるイオンス
ポットを生ずる。 また、特開昭52−139355号公報に示された酸化
シリコン層によ)被覆されたゲツp@置社高温酸化に対
しかなりの保鏝効果を示す。 即ち、前記ゲッタ装置を大気中で加熱後、ゲッタフラッ
シュした場合、爆発的飛散の種度はかなり改善されたが
、少遁のゲッタ材の脱落と一部焼結したゲッタ材の容器
外への浮き−ヒりが認められた。しかし乍ら陰極線管等
の電子管の耐圧特性の劣化切土のため、軽度にせよゲッ
タフラッシュ時の爆発的飛散とゲッタ材の浮き上り及び
ゲッタ材の脱落は完全に避ける必要がある。 即ち、爆発的な飛散は飛散粒子が管内の不所望な箇所へ
飛着し、耐圧特性の劣化のみならず回路の短絡をひき起
こす1合がある。またゲッタ材の浮き上すはゲッタフラ
ッシュを行った際管内の不所望な箇所へバリウム膜を形
成せしめ、耐圧特性の劣化の原因となると共に、ゲッタ
フラッシュ後ゲッタ残留物が管内に落丁し、管内の塵芥
のもととな〕管fs能を着るしく横グ・ さらに、鹸化シリコン層で被嶺したゲッタ装置表面tt
子顕微il#It−用いて偵察したところ酸化シリコン
層が多孔質な構造からなることが判明した。 即ちこの細孔を通してゲッタ装置表面へ酸素が供給され
、ゲッタ#〇一部、主にニッケル粉末が鹸化される。こ
のゲッタ材中のニッケル粉末の酸化が、軽度といえども
爆発的な飛散を引き起す原因と考えられる。 次に、特開昭56−61736号公報にはゲッタ材中の
llm−A1合金粉末とニッケル粉末とをホウ素酸化物
で被覆し九ゲッタ装置が開示されている。このゲッタ装
置はゲッタ材自身が耐高温酸化性にすぐれるという効果
を有しているが、一方Bm−ム1合会粉末とニッケル粉
末との反応性が悪くなるという問題を有している〇 すなわち、ガラス質ホウ素酸化物で被覆していないゲッ
タ装置(以下前者のゲッタ装置と称する)と特開昭56
−61736号公報に示し九ゲッタ装置(以下後者のゲ
ッタ装置と称する)とを高周波加熱で同゛じ条件で加熱
し飛散させて比較した場合、後者のゲッタ装置は前者の
ゲッタ装置よ〕も、飛lk@始時!4が遅くなった。そ
の為、ゲッタフラッシュの時間を前者のゲッタ装置と同
S度にし、ゲッタフラッシュの時間を短縮させて隘極纏
管の生産性を向上させるためには、後者のゲッタ装置に
・高周波誘導加熱のパワーアップが必要となる。 また、後者のゲッタ装置に高周波誘導加熱を加えると、
Ba−A4合金粉末とニッケル粉末との両表面が被覆さ
れているため、ひとたびBa−A7合金粉末とニッケル
粉末とが、反応し始めると急激な反応をひき起こし、ゲ
ッタ材の浮き上りの原因ともなるという問題が生じた。 さらに後者のゲッタ装置に飛散開始時間を合わせるのに
高周波誘導加熱のパワーアップを行なうと、この問題は
さらにひどくなり九。 その上、後者のゲッタ装置のa進法は、ゲッタ偏置自身
をホウ素酸化物の溶剤に浸漬するだけなので、全てのゲ
ッタ材が完全にホウ素酸化物で被覆されるとは限らない
。さらにゲッタ材を充填した容器を溶剤に浸すので、ホ
ウ素酸化物をゲッタ材の表面から被覆することになシ、
被嶺膜の厚さを調整することがむすかし^。その為、ゲ
ッタ材主にニッケルが酸化して、NiOを生じ、ゲツタ
フラッシュの際急激な反応が生じるという前者のゲッタ
ー値の問題さえ完全に#i防止されない。 発明の目的 本発明の目的は以上の点に鑑みてなされえもので、耐高
温酸化性を有し、酸化ニッケル生成を鋳止し、爆発的な
飛散を呈することなくバリウムを4発させることが出来
る耐酸化性ゲッタ装置を提供することにある。 発明の概要 本発明はBm−A7合金粉末とホウ素酸化物で被覆した
ニッケル粉末とからなゐゲッタ材と、このゲッタ材を充
填し九金属保持器とからなり、ゲッタ7’)ツシエ前の
高温雰囲気中でのニッケルの鹸化を効果的に騎止し、ゲ
ッタフラッシュ時のBa−Aj合金とニッケルとの急激
な反応を抑制した耐酸化性ゲッタ装置である。 発明の実施例 以下に本発明の実施例をあげて詳細に説明する。 −1図は本発明に適用される耐酸化性ゲッタ装置中のゲ
ッタ材(1)の模式図でh為。ゲラ#虻はBa −A1
合金粉末(2)と、透明で緻密なガラス質ホウ素酸化物
(3)で被覆されたニッケル粉末(4)とからなる=−
テング粉末(5)とで形成されている。ちなみに、@1
図のBa−Ad粉末(2)の大きさは略40μm〜15
0μm、ニッケル粉末(4)の大きさは略3μm〜7μ
mで、ガラス質ホウ素酸化物(3)の量はニッケル重量
の略0.15憾〜0.30係である。 第2図は、本実施例のゲッタ材を充填したゲッタilf
の断面図である。この耐酸化性ゲッタ装置Iは外径22
.0 m、内径15.0m、高さ2.7mg、厚さ0.
181EImで断面がU字形の不銹鋼からなり、内縁部
aeは中空である環状金属製ゲッタ容器からなっている
。そして、U字部a尋には、本実施例のゲッタ#aSが
充填されている。 次に本発明によって得られたゲッタ装置を実際に陰極線
管に用いた場合について説明する。183図は陰極線管
01)の−一切欠唾面図である。第3図に示すように、
前面ガラスパネル(至)内面に螢光面Qυ、アルン蒸着
面(2)が順次破着形成され、フレーム(241を介し
て取り付けられたシャドウマスク(ハ)はパネル側壁に
支持固定1れている。次に本発明による耐酸化性ゲッタ
装置(至)は支持板(2)を介してフレーム(至)に堆
り付けられている。しかるIK、内面に導電1lIrn
が塗布され九7アンネル(2)とガラスパネル(2)と
の当接j[K7リツトガラス(至)が皺着され、約45
0℃で1時間の高温処理によ)両者は封着されると共に
螢光膿とメタルバック普請との間の有機材が蒸発される
。この後に電子銃はネック部alK封着され、排気工程
を経て陰極線管o1は封止されている。その後、高肩波
鐸導加熱によ〕ゲッタフラッシュが行なわれ、電子銃の
エージング等を経て陰極線管01が完成する。 このようにして得られた陰極線管は、ゲッタ装置が電子
銃に*b付けられ九従来の陰極線管と比較し、電子放射
特性及び耐圧特性が同等であることが確認された0した
がって、本発11による耐酸化性ゲッタ偏置を用いるこ
とによ)、ゲッタ装置ラフアンネルのネック舊から挿入
する必要はなくなり、ゲッタ容tSt兜分な大11さに
保りたままネック径を小吉くすることが出来九・これは
 ssi線管を小型化された省シカ型とする場合に有益
である・を九、ゲッタ装置を・−子銃から゛越気的に切
〕離すことがで自るので、不所望のサージ電流がゲッタ
装置−電子銃間に流れることを防止することができる。 上記実施例のゲッタ装置のゲッタ材自身は多孔質ではあ
るが、ニッケルが酸化されることがなくゲッタ容器の底
の方からもゲッタフラッシュの際バリウムが蒸発しゃす
い。そして、Ba−17合金粉末はホウ素酸化物で被覆
されておらず、ニッケル粉末のみが被覆されておりニッ
ケル粉末の被覆膜の厚さは適宜調整することが出来る。 これは、本発明では二ツケヶ粉末をホウ素酸化物で被覆
する1薯は、ゲッタ材を容器充填前に行うからである。 本発明のゲッタ装置を高局波鍔導加熱でゲッタクラッシ
ュさせた場合、 Ba−A1合金粉末とニッケル粉末と
の反応性は良く、ホウ素酸化物で被覆して匹ないゲッタ
装置と同じ飛散開始時間で飛散し始めた。その上、本発
明の耐酸化性ゲッタ装置を例えば大気中2時間450℃
で高温処理し友際WC%=ツケル肴末が酸化されないの
でNiOを形成してNiOとBa−A1合金粉末とが急
激な反応管起こすこともなかった。そして、形成したバ
リウム膜の分布および飛散バリウム量、放出ガス量(主
として窒素ガス等)を測定したところ、従来のゲッタ装
置と同等の特性を示し友。さらにゲッタフラッシュにか
かる時間を短縮して陰極線管の製造時間を短縮するため
に飛散開始時間を調べてみると、41開昭56−617
36号公報に示された耐酸化性ゲッタ装置は飛散開始す
るまでの時間を13秒以下に押えると浮き上)が発生し
はじめるのに対し、本発明の耐酸化性ゲッタ装置は飛散
開始するまでの時間を8秒に早めても浮き上pが見られ
ないことが確認された。即ち、本発明によ〕得られた耐
酸化性ゲッタ装置を用いるととによ〕陰極線管の製造時
間が特開昭56−61736号会報に示された耐酸化性
ゲッタ装置よルも短縮されることが暗示されている0 次にホウ素酸化物をニッケル粉末K11l覆する方法に
ついて述べる。 たとえば無水ホウ酸を1.5重量係合むたとえばエチレ
ングリコールモノメチルエーテル溶液中にニッケル粉末
を浸漬し、ボールミル1に30分間行なった後、大気中
で150℃2時間電熱型乾燥器を用いて乾燥させた。さ
らに真空中500℃で30分間加熱し被覆したニッケル
粉末を情ぐした後、Ba−A1合金粉末と窒化ゲルマニ
ウム−鉄粉末との重量組成比を略49 :49 : 2
に調整した。この様にして、製造されたゲッタ材をゲッ
タ装置に充填する。そしてこのゲッタ装置に対して真空
加熱によnJIQガスを行なって本実施例のゲッタ装置
は完成される。またゲッタ材に窒化ゲルマニウム−鉄粉
末を加えたのは、ゲッタ装置からバリウムが蒸発する前
に窒素がゲッタ装置から分離放出され、この窒素に後か
ら蒸発したバリウムが衝突し拡散して広い範囲にバリウ
ム1It−形成させるためである。 そして、窒化ゲルマニウム−鉄粉末をゲッタ材に加える
量を2重量%としたのは、窒素ガスが過剰に放出される
゛とゲッタ膿が広く薄く形成される為、ガス吸着の機能
が低下するからである。また、この窒素ガスは、役割を
果たし九後、ノ(9ウム膿に吸着されるのは言うまでも
ないO さらに本発明のようにニッケル粉末のみにホウ素酸化物
を被覆し九ことによるゲッタ材の鹸化防止について、1
14図によ〕詳11に説明する。 @4図は横軸にニッケル材に被覆されているホウ素酸化
物量、縦軸にゲッタ装置を大気中450℃2時間で高温
処理を行なった場合のゲッタ材の酸化による増量をゲッ
タ材中のニッケル量に対する重量比で示したものである
。この場合、酸化増量をニッケル量に対する重量比で示
したのは、ゲッタ材中、Ba−ム1合金役末はほとんど
酸化せず、主として酸化するのはニッケル粉末だからで
ある。 さて、特性(4aに示す善−昭56−61736号公報
に示されたゲッタ装置を用いた場合は、被覆量が増えて
4酸化による増量は0.8重量−以下にはならないのに
対し、本発@O耐酸化性ゲッタatを用いた場合の特性
−では被覆量の増加と共に鹸化による増量−減少してい
るOこれは1本発明によ)ゲッタ材の酸化防止が有効で
あ)、NiO生成を防止して、NiOとBa−Aj粉末
との急激な反応を避けることが可能なことを意味してい
る0さらに、ニッケル粉末にホウ素酸化物を被覆する際
、ホウ素酸化物で被覆したニッケル粉末に対してホウ素
酸化物の重量組成比が略0.15*〜Q、3〇−1i&
度が最良であった。すなわち、ホウ素酸化物の被覆量は
略0.03重量%以上ならば、爆発的な飛散を惹き起こ
すNiOの生成金防止する効果を有するが、被覆量が略
0.03重量%〜0,15重ilチでは浮き上〕現象が
多少認められる。また被覆量が略0.30重量%以上と
なるとBa−11合金粉末とニッケル粉末との反応性が
低下し角数ノ(リウ五量が減少する。 なお、ニッケル粉末をホウ素酸化物で被覆するために1
本実施例では溶剤としてエチレングリコールモノメチル
エーテルを使用したが、これ以外にエチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレンクリコール七ノーn−ブ
チルエーテルよ砂なる群から選ばれた単体または混合溶
液t−4v!用することができる。また、混合溶液とす
る際、エチレンゲリコールモノメチルエーテル%4h(
D溶液と1合出来、さらに混合の割合はそれ1厳密でな
くとも本発明の効果には影響を及ぼさない。その上ホウ
素酸化物で被覆されていない従来のゲッタ材製造工程時
の溶剤として通常は用いられない水を本発明では使用し
、ニッケル粉末にホウ素酸化物を被覆する際OWI剤と
することが出来る・この為、溶剤に水を使用する場合は
、ニッケル粉末にホウ素酸化物を被覆すゐ工1がよ〕容
品にかつ安価に実施できる利点を有する・を九ホウ素酸
化物は無水ホウ酸以外にオルトホウ酸、メタホウ酸、お
よび四ホウ酸よ)なる群から選ばれた単体、ま九は無水
ホウ酸を加え九群からの温合−をもちいてもよい。 さらに本実施例のゲッタ装置では、ニッケル粉末のみに
ホウ素酸化物を被覆するため、ホウ素酸化物を融解しニ
ッケル粉末の全表面に透明で緻密なガラス質ホウ素鹸化
物を被覆する際、真空処理を用い曳が水素処理を用いて
も形成されたホウ素酸化物で被覆したニッケル粉末の効
果は同じであつた。さらに水素処理を用いることによ抄
、ホウ素酸化物で被覆したニッケル粉末は量産が可能と
なる利点を有する。また、本発明の耐酸化性ゲッタ装置
を電子銃にll1tシ付けて陰極線管のネック部から挿
入しても良いのは言うまでもない。 発明の効果 以上のように本発明によればニッケル粉末のみにホウ素
酸化物を被覆したため、Ba−A1合金粉末とニッケル
粉末との反応性を低下させることなく、ニッケルの酸化
を防止出来る。従ってゲッタ装置がゲッタフラッシュ前
に高温雰囲気中に曝されてもゲッタ装置のバリウムを蒸
発させる際、ノ(リウムーアルミニウム合金粉末と酸化
ニッケル粉末とが急激な反応を引き起こすことを防止で
き、爆発的な飛散を呈することなく)くリウム會蒸発さ
せることが出来る。 4、図面の簡単な説明 第1図は本発明による耐酸化性ゲッタf装置のゲッタ材
の構成を示す模式図、142図は本実施例のゲッタ材を
充填し几耐酸化性ゲッタ装置を示す断面図、第3図は本
発明の耐鹸化性ゲッタ装置を適用し九隙−線管の一郁切
欠断面図、s4図はニッケル粉末のホウ素酸化物畿覆量
と酸化による増量比を示す特性図である。 (1)ゲッタ材    (2)・・・Ba−A1合金粉
末(3)・・・ガラス質ホウ素酸化物 (4)・・ニッケル粉末  (5)−・・コーテングI
nO3、f!9・・・耐酸化性ゲッタ装置a−・・U字
部     tlS・・・本実施例のゲッタ材III・
・・内縁部 代理人 弁理士  則 近 憲 佑 第  4  図 4・1頗1XBj(呵)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)バリウム−アルミニウム合金粉末とホウ素酸化物
    で被覆したニッケル粉末とからなるゲッタ材と、前記ゲ
    ッタ材を充填した金属保持器とからなることを特徴とす
    る耐酸化性ゲッタ装置。
  2. (2)  前記バリウム−アルミニ六ム合金粉末と前記
    ホウ素酸化物で被覆したニッケル粉末との重量組成比が
    、略l:1であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の耐酸化性ゲッタ装置。
  3. (3)前記ホウ素酸化物が無水ホウ酸であることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の耐酸化性ゲッタ装置
  4. (4)前記ホウ素酸化物の重量組成比が、前記ホウ素酸
    化物で被覆したニッケル粉末に対して、略0、15 %
    〜0.30 %であることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の耐酸化性ゲッタ装置。
  5. (5)前記バリウム−アルミニウム合金粉末と前記ホウ
    素酸化物で被覆したニッケル粉末とに1化ゲルマニウム
    ー鉄粉末を加えたことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の耐酸化性ゲッタ装置。
  6. (6)前記バリウム−アルミ合金粉末と前記ホウ素酸化
    物で被覆したニッケル粉末と前記窒化ゲル!ニウムー鉄
    粉末との重量組成比が、略49:49=2であることを
    特徴とする特許請求の範囲第5項記載の耐酸化性ゲッタ
    装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2230538A (en) * 1987-10-19 1990-10-24 Secretary Trade Ind Brit Sintered aluminium nickel alloys
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WO2000007209A1 (en) * 1998-07-28 2000-02-10 Saes Getters S.P.A. Process for the production of evaporable getter devices with reduced particle loss

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