TW408382B - Liquid level control method and apparatus - Google Patents
Liquid level control method and apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- TW408382B TW408382B TW88102255A TW88102255A TW408382B TW 408382 B TW408382 B TW 408382B TW 88102255 A TW88102255 A TW 88102255A TW 88102255 A TW88102255 A TW 88102255A TW 408382 B TW408382 B TW 408382B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- liquid level
- level sensor
- solution
- concentration
- sensor
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
3954twr.d〇c/008 408382 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印裝 五、發明説明(丨) 本發明是有關於一種液位控制之方法及裝置,且特別 是有關於一種半導體晶片淸洗機台之液位控制之方法及裝 置。 在積體電路元件的製程中,幾乎在進行每一個化學步 驟之前或之後’例如’化學氣相沈積、乾式或濕式蝕刻都 必須經由淸洗的步驟,以去除附著於晶片上的有機物、無 機物或微粒(Particle)。 習知的淸洗晶片的流程’係採用一種多槽式(Multi-bath) 的方法。亦即在淸洗流程中使用多個淸洗機台,將—#曰 Ji-U曰白 片接著一批晶片輪流依序地置入各淸洗機台中淸洗D在淸 洗過程中,機台內溶液之濃度,易隨著時間而改變,這是 由於晶片移出機台時會帶走少許溶液,或是溶液中之水份 和化學藥品蒸發等原因所造成的。爲維持淸洗機台中溶液 之濃度一定,在每部習知機台中都設置有濃度控制裝置。 以下以較常使用的RCA1淸洗機台爲例,說明習知的濃度 控制裝置。(RCA丨爲氫氧化銨(NH4OH)、熱去離子水(H〇t Deionized Water,HDIW)與雙氧水(H202)之混合溶液) 請參照第1圖,其繪不習知具有濃度控制裝置之淸洗 機台的示意圖。如第1圖所示,溢流槽100中裝滿有RCA1 溶液,於溢流槽100之外側包圍著緩衝槽102,在緩衝槽 102之底部有一管路104連接一循環泵106並延伸致溢流 槽100底部,用以將緩衝槽102中之溶液回流至溢流槽100 中,形成一循環系統。 在循環泵106與溢流槽1〇〇之間的管路104上接有一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(2丨0X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 装· -訂 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 408382 3954t\v I'.doc/008 A7 B7 五、發明説明(i ) 加熱器108和一濃度偵測器no,加熱器108係用以使溶 液維持一固定溫度,而濃度偵測器110係用來測量溶液中 各成份之濃度。管路[12、114、116分別連接各存放有去 離子水、雙氧水 '氫氧化銨的儲存槽118、120、122上, 並與緩衝槽102相接。泵124、126 ' 128則分別裝設於管 路 112、1 14、Π6 上。 當機台操作時,先使RCA1溶液裝滿溢流槽100中, 並使部份溶液流入緩衝槽102中達到一預設之液位高度。 之後,將欲淸洗之晶片直接放入溢流槽100中進行淸洗, 溢流槽100中之溶液溢出時,流入緩衝槽102中,不致於 流出機台外。而循環泵106則持續將溶液自緩衝槽1〇2中, 經由管路104送回溢流槽100中循環。而濃度偵測器110 則隨時量測RCA1溶液中各化學成份之濃度,是否維持設 定値。當溶液中的各化學成份濃度改變時,便經由泵124、 126、128,根據濃度偵測器110測量結果,將儲存槽118、 12〇、122中之化學藥品,依所需之量由管路112、114、116 加入緩衝槽102中,以控制溶液之濃度。 然而,習知只對溶液之濃度作精確控制,卻未針對其 液位變化作控制,故當一段時間後,經過多批晶片在溢流 槽100中移入、移出、溶液中水份和化學藥品蒸發以及爲 維持濃度後續添加之樂品等原因’使得溶液之液位產生不 預期之變化。而且每當產量改變時,使進入溢流槽100中 晶片之數量改變,溶液之液位亦大受影響,導致液位常有 過高’或過低之現象,易造成機台當機。 4
本紙張尺度T21〇x297/>4_I 1r—-----/:參------订------,r (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
3954twi'.d〇c/00S 408382 A7 B7 經濟部中央標準局員工消费合作社印笨 五、發明説明(5) 當液位過低時,循環泵106及加熱器108便自動停止 運轉,以防止空轉及過熱,使得化學藥品無法循環,而且 整個系統的操作溫度亦會下降。當液位過高時,將使晶片 無法進入機台中,使得製程中斷。而不論是液位過低或過 高,兩者皆須人員執行復機,其調機過程費時不易,造成 人員操作上的困擾,亦不符合工廠經濟上之考量。 因此本發明的目的之就是在提供一種液位控制之方法 及裝置,將濃度控制爲主改爲液位控制導向,在液位控制 穩定之前題下,再施以濃度控制以期增加機台穩定度,並 維持良好濃度控制。 根據本發明之上述目的,提出一種液位控制之方法, 以液位控制爲出發點,在液位處於合理工作範圍時,再針 對濃度做控制,其方法包括:提供一包含濃度偵測器、液 位感應器及附有淸洗液注入泵之淸洗槽,當該溶液之液位 低於該液位感應器所設定之高度時,進行一液位高度控制 步驟:啓動該淸洗液注入泵直至淸洗液液位回至可偵測高 度。以及當淸洗液液位回至可偵測濃度時,進行一濃度控 制步驟啓動濃度偵測器,濃度偵測器進行偵測淸洗液之濃 度。 根據本發明之上述目的,提出一種液位控制裝置,包 括:一個溢流槽,一個緩衝槽包圍在溢流槽外側周緣。一 條第一管路連接於溢流槽底部和緩衝槽底部,以設於第一 管路上之循環泵,使槽中之溶液循環回流。一液位感應器, 設置於緩衝槽內之一高度上,數個儲存槽,槽內分別儲存 5 本紙乐尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(2IOX297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 私衣_ 訂' 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 408382 A7 B7 五、發明説明(γ ) 溶液中之各種成份。數個第二管路,連接儲存槽和該緩衝 之間,在每個第二管路上都裝有泵。一個濃度偵測器,設 置於可接觸到溶液之位置上,用以偵測溶液中各成份之濃 度。 爲讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明 顯易懂,下文特舉一較佳實施例,並配合所附圖式,作詳 細說明如下: 圖式之簡單說明: 第1圖是習知具有濃度控制裝置之淸洗機台示意圖; 以及 第2圖是依照本發明一較佳實施例,一種具有液位控 制裝置之淸洗機台示意圖。 圖式之標記說明: 100、202 :溢流槽 102、204 ·緩衝槽 104、112、114 ' 116、206、226、228、230 :管路 106、208 :循環栗 108、210 :加熱器 110、238 :濃度偵測器 118、120 ' 122、220、222、224 :儲存槽 124 ' 126 、 128 、 232 、 234 、 236 :泵 200 :容器 212 :過濾器 214 :底液位感應器 6 3954tw1' doc/008 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 3954twi'-d〇c/008 408382 A7 B7 經濟部中央標隼局負工消費合作社印製 五、發明説明(() 216 :止液位感應器 218 :頂液位感應器 240 :局度 實施例. 請參照第2圖,其繪示依照本發明一較佳實施例,一 種具有液位控制裝置之淸洗機台示意圖。 如第2圖所示,容器2〇0係由溢流槽2〇2和緩衝槽2〇4 所組成,其中緩衝槽204係包圍在溢流槽2〇〇之外側周緣。 在溢流槽202中裝滿溶液’例如是作爲淸洗晶片之RCA1 溶液。在緩衝槽204之底部有一管路2〇6連接一循環泵208 並延伸致溢流槽202之底部。當溢流槽202中之溶液溢出 流入緩衝槽204時,循環泵208可將緩衝槽204中之溶液 回流至溢流槽2〇2中,使溶液在緩衝槽204和溢流槽202 間形成一循環系統。 在循環泵208與溢流槽2〇2之間的管路206上接有一 加熱器210和過濾器212。加熱器210係用以使溶液維持 一固定溫度,而過濾器212可將溶液中之雜質顆粒去除保 持溶液之品質。 緩衝槽202中裝設有液位感應器,在本實施例中包括 底液位感應器214、止液位感應器216和頂液位感應器 2 3 8,三者之相對位置由低至高依序爲底液位感應器214、 止液位感應器216和頂液位感應器218。其中底液位感應 器214與止液位感應器2丨6之水平高度差比上止液位感應 器216與頂液位感應器218之水平高度差的比値例如爲4 : 7 ¾先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -%
、1T 本紙張尺度適用中國國家榇準(CNS ) A4規格(2丨OX2S»7公着) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印裝 408382 3954twf.doc/008 ~_B7 _ 五、發明説明(4 ) 4或是2 : 6,而較佳爲2 : 6。 儲存槽220、222、224分別存放溶液中各組成之成份, 並以管路226、228、230與緩衝槽204相接。泵232、234、 236則分別裝設於管路226、228、230上,可控制及提供 動力將儲存槽22〇、222、2以中之各成份輸入緩衝槽204 中,調節液位和各成份之濃度。其中儲存槽和泵的數量均 可視溶液之種類和實際需求而增減,且儲存槽之數量和泵 之數量並不限定要一致。 濃度偵測器231,設置於可接觸該溶液之固定位置上, 例如是設置於管路2〇6上,用以偵測溶液中各成份之濃度 變化。 上述裝置中,止液位感應器216具有二種狀態,當機 台操作時,溶液係裝滿溢流槽2〇2中,而緩衝槽2〇4中之 溶液高度則介於於底液位感應器214和止液位感應器216 之間’而止液位感應器216之爲第一狀態例如是關,此時 會進行液位控制模式導向,將液位控制在一合理的範圍, 可使液位較不易因移入晶片的多寡造成液位過高或過低。 其方式爲液位低於該高度240時,將泵232、234、236打 開’使儲存槽220、222、224中之各成份,以其混合成溶 液之比例,例如是(雙氧水:氫氧化銨:熱去離子水5 : 4 : 20) ’經由管路226、228、230流入緩衝槽204中,直 到緩衝槽204內溶液之液位到達止液位感應器216之高度 240爲止’以使停液位感應器216之狀態改變爲第二狀態, 例如狀態由關變爲開。 ί讀先閲讀背面之注^一^項再填寫本頁) > Lr- 訂 1 本紙張λα適用中國國家標準(CNS)从胁(21()><297公廣j 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 408382 A7 3954twrdt1C/〇08_B7_ 五、發明説明(Ί ) 止液位感應器216之高度240使底液位感應器214與 止液位感應器216之水平高度差與止液位感應器216和頂 液位感應器218之水平高度差的比値爲一定値,比如爲4 : 4或是2 : 6,較佳爲2 : 6。將液位控制在高度240附近, 由於與底液位感應器214和頂液位感應器218之位置仍有 段距離,固可得到一個較穩定而寬的操作範圍,不致於因 晶片產量變化而使液位變化過高或過低。 接著,緩衝槽204內溶液之液位到達止液位感應器216 後,使停液位感應器216之狀態改變,例如狀態由開變爲 關,此時已達到一液位穩定狀態,便啓動爲濃度控制模式 導向,以期增加機台穩定度,並維持良好濃度控制。其方 式爲以濃度偵測器2%隨時量測溶液中之各成份之濃度, 當濃度偵測器238測量之値爲預期溶液中之設定値時,將 各泵232、234、236關閉。當濃度偵測器238測量之結果 發現溶液中之成份濃度改變時,便將部份的泵232、234、 236打開,使部份之溶液成份經由對應之管路流入緩衝槽 204中,以維持濃度一致,而達到準確的濃度控制。例如 當溶液之雙氧水濃度減少時,打開泵232,使儲存槽220 內之雙氧水流入緩衝槽2〇4中,直到濃度偵測器238測量 到之溶液中雙氧水之濃度回昇爲設定値。 由上述實施例可知本發明具有下列優點: 1·裝設一液液位感應器於緩衝槽中,以其狀態開關, 判定啓動液位控制模式導向或是濃度控制模式導向。 2.在本發明之一較佳實施例中,使底液位感應器與止 9 本紙張尺度適用中國國家榇準(CNS )八4规格(210x297公着) ^ --------^------訂------梦' (餚先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 408382 Λ7 A 7 3 954twf. doc/008 B7 五、發明説明(¾ ) 液位感應器之水平高度差與止液位感應器和頂液位感應器 之水平高度差的比値爲4 : 4或2 : 6,可得到一個較穩定 而寬的操作範圍,不致於因晶片產量變化而使液位變化過 高或過低。 3.在液位控制穩定之前以液位控制導向爲主進行控 制,當液位穩定時改以濃度控制爲主進行控制以期增加機 台穩定度,並維持良好濃度控制。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上,然其並非用 以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者爲準。 / '— 一------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁〕 訂 經濟部中央標準局員工消費合作杜印裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210Χ297公釐)
Claims (1)
- 3954tu f.doc/008 408382 AS B8 C8 D8 經濟部4-央標举扃貝工消費合作社印装 々、申請專利範圍^^ 1. 一種液位方法,適用於晶片淸洗機台的液位 控制’其中該淸统、機.每包含一附有淸洗液注入栗之淸洗 槽,該方法包括 一液位高度控制系驟:提供一液位感應器,其感應淸 洗液之液位訊號’當該溶液之液位低於該液位感應器所設 定之筒度時’該液位感應器啓動該淸洗液注入泵直至淸洗 液液位回至可偵測高度; 一濃度控制步驟:當淸洗液液位回至可偵測濃度時, 啓動一濃度偵測器’該濃度偵測器進行偵測淸洗液之濃 度。 2. 如申請專利範圍第1項所述之液位控制方法,其中 虽5亥液位感應益啓動該淸洗液注入栗時,該淸洗液以最大 流速流入該淸洗槽。 3. 如申請專利範圍第1項之液位控制方法,其中該淸 洗液含有數個成份。 4_如申請專利範圍第1項所述之液位控制方法,其中 當ΐ亥濃度偵測器啓動後,該淸洗液之各成份濃度達設 定値時’則停止流入該容器中;若未達設定値之成份,則 依所需之量,流入該容器,直至達到設定値。 5.如申請專利範圍第1項所述之液位控制方法,其中 該液位感應器包含一頂液位感應器、一止液位感應器及一 底液位感應器。 6·如申請專利範圍第5項所述之液位控制方法,其中 該止液位感應器與該頂液位感應器之高度差比上該止液位 本紙張尺度ϋ用中關家料(CNs) Α4祕Qx297公羡) Γν-Μ卜-------裝------訂------f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ABCD408382 3954tu 1. doc/〇〇 ^ 六、申請專利範圍 感應器與該底液位感應器之高度差之比値爲(4 : 4)和(6 : 2) 其中之~1 ° 7,如申請專利範圍第5項所述之液位控制方法,其中 在該濃度控制步驟時,該溶液之液位係介於該止液位感應 器與該頂液位感應器之間·,在該液位控制時,該溶液之液 位係介於該止液位感應器與該底液位感應器之間。 8·—種液位控制裝置,該裝置至少包括: 一容器,用以裝塡一溶液; 一液位感應器,設置於該容器內之一高度上; 複數個儲存槽,該些儲存槽各分別儲存一成份,其中 該些成份可混合成該溶液; 複數個管路,連接該些儲存槽和該容器; 複數個泵,設置於該些管路上;以及 —濃度偵測器,設置於可接觸該溶液之固定位置上, 用以偵測該些成份之濃度。 9. 如申請專利範圍第8項所述之液位控制裝置,其中 其中該液位控制裝置具有一液位控制模式和一濃度控制模 式。 10. 如申請專利範圍第8項所述之液位控制裝置,其中 當該溶液在該緩衝槽內之液位低於該液位感應器之高度 時,啓動該些泵,使該些儲存槽中之該些成份’以其混合 成該溶液之比例’經由該些管路流入該容器’直到該溶液 在該緩衝槽內之液位到達該液位感應器之高度° 11. 如申請專利範圍第s項所述之液位控制裝置’其中 本紙張尺度適用中國國家揉半(CNS>A4规格(21〇X297公釐) —ί - I I I J i n i -I I. n I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂. if 經濟部中央標準局員工消費合作杜中复 ABCD 408382 申請專利範圍 _該溶液在該緩衝槽內之液位高於該液位感應器之高度 時’啓動該濃度偵測器,當該濃度偵測器測量之値爲設定 値時’將該些泵關閉;當該濃度偵測器測量之値非設定値 時’將部份之該些泵打開,使部份之該些成份經由該些管 路流入該容器,直到該濃度偵測器測量之値爲設定値。 12. —種液位控制裝置,該裝置至少包括: 一容器,用以裝塡一溶液,該容器包括一溢流槽,和 〜緩衝槽,其中該緩衝槽包圍在該溢流槽外側周緣; 一第一管路連接於該溢流槽底部和該緩衝槽底部; 一循環泵,設置於該第一管路上; 液位感應器,該液位感應器包括一底液位感應器1 一 頂液位感應器和一止液位感應器,設置於該緩衝槽內,其 相對位置由低至高依序爲該底液位感應器、該止液位感應 器、該頂液位感應器; 複數個儲存槽,該些儲存槽各分別儲存一成份,其中 該些成份可混合成該溶液; 複數個第二管路,連接該些儲存槽和該緩衝槽; 複數個泵,設置於該些第二管路上;以及 一濃度偵測器,設置可接觸於該溶液之一固定位置 上。 13. 如申請專利範圍第12項所述之液位控制裝置,其 中該止液位感應器至該頂液位感應器之水平高度差,與該 止液位感應器至該底液位感應器之水平闻度差相等。 U.如申請專利範圍第12項所述之液位控制裝置,其 本紙張尺度逋用中國国家椟车(CNS ) Μ規格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -rv 經濟-部中央樣牟局員工消費合作社印製 408382 3954twΓ doc/008 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 中該止液位感應器至該頂液位感應器之水平高度差,爲該 止液位感應器至該底液位感應器之水平高度差的三倍。 15. 如申請專利範圍第12項所述之液位控制裝置,其 中該液位控裝置具有一液位控制模式和一濃度控制模式。 16. 如申請專利範圍第15項所述之液位控制裝置,其 中當該溶液在緩衝槽內之液位高度介於該止液位感應器和 該底液位感應器之間,該止液位感應器爲關狀態,則啓動 該些泵,使該些儲存槽中之該些成份,以其混合成該溶液 之比例,經由該些第二管路流入該緩衝槽,直到該溶液在 該緩衝槽內之液位到達該止液位感應器之高度,以使該止 液位感應器狀態爲開。 17. 如申請專利範圍第15項所述之液位控制裝置,其 中當該溶液在緩衝槽內之液位高度介於該止液位感應器和 該頂液位感應器之間,該止液位感應器爲開狀態,則啓動 該濃度偵測器,當該濃度偵測器測量之値爲設定値時,將 該些泵關閉;當該濃度偵測器測量之値非設定値時,將部 份該些泵打開,使部份之該些成份經由對應之該些第二管 路流入該緩衝槽,直到該濃度偵測器測量之値爲設定値。 裝 訂 络 (請先閲讀背&之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標率局員工消費合作社印策 本紙張尺度速用中國國家標準(CNS ) A4規格(210XW7公釐)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW88102255A TW408382B (en) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | Liquid level control method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW88102255A TW408382B (en) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | Liquid level control method and apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW408382B true TW408382B (en) | 2000-10-11 |
Family
ID=21639708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW88102255A TW408382B (en) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | Liquid level control method and apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW408382B (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107919299A (zh) * | 2016-10-11 | 2018-04-17 | 盟立自动化股份有限公司 | 液位控制系统及方法 |
CN110517978A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-11-29 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 容器的溢流结构 |
TWI822339B (zh) * | 2022-09-19 | 2023-11-11 | 英業達股份有限公司 | 液位控制設備 |
-
1999
- 1999-02-12 TW TW88102255A patent/TW408382B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107919299A (zh) * | 2016-10-11 | 2018-04-17 | 盟立自动化股份有限公司 | 液位控制系统及方法 |
CN110517978A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-11-29 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 容器的溢流结构 |
TWI822339B (zh) * | 2022-09-19 | 2023-11-11 | 英業達股份有限公司 | 液位控制設備 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101239561B1 (ko) | 물의 경도를 측정하기 위한 방법 및 시스템 | |
US4980017A (en) | Method for recirculating high-temperature etching solution | |
CN102208327B (zh) | 半导体清洗液管理装置及方法 | |
US7360418B2 (en) | Method and apparatus for sensing liquid level using baseline characteristic | |
US20100000573A1 (en) | Apparatus and method for controlling concentration of wash aid in wash liquid | |
WO2012135792A1 (en) | Etch system and method for single substrate processing | |
TW410366B (en) | Cleaning method and apparatus | |
TW201501195A (zh) | 用以提供加熱的蝕刻溶液之處理系統及方法 | |
TW408382B (en) | Liquid level control method and apparatus | |
CN104047146A (zh) | 一种洗衣机用自动投放洗涤剂装置 | |
JP6713528B2 (ja) | 自動投入方法 | |
TW396430B (en) | Vacuum dryer and method of drying semiconductor device using the same | |
TW480573B (en) | Method and apparatus for detecting liquid level | |
AU679281B2 (en) | Method of dosing detergent product | |
JP2017117938A (ja) | 基板液処理装置および基板液処理方法 | |
TW406324B (en) | Auto-regulation method for concentration control | |
TW444290B (en) | Wafer cleaning method and apparatus | |
JP2001118821A (ja) | 洗浄方法 | |
JP6923419B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JPH04357835A (ja) | ウエット処理装置 | |
CN113818194A (zh) | 洗涤剂浓度自动监测方法、系统、存储介质及洗涤装置 | |
JPS61168394A (ja) | 洗濯機 | |
JPH07326599A (ja) | 半導体基板の洗浄方法および洗浄装置 | |
KR20210097288A (ko) | 세정 장치 및 세정 방법 | |
TW508637B (en) | Systems and methods for forming processing streams |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |