TW392084B - Galvanoplastic optical mounting - Google Patents
Galvanoplastic optical mounting Download PDFInfo
- Publication number
- TW392084B TW392084B TW087111266A TW87111266A TW392084B TW 392084 B TW392084 B TW 392084B TW 087111266 A TW087111266 A TW 087111266A TW 87111266 A TW87111266 A TW 87111266A TW 392084 B TW392084 B TW 392084B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- scope
- optical
- patent application
- inner layer
- bracket
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/025—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses using glue
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/026—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses using retaining rings or springs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Description
it I--- I - — 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 I ! · M . -^五、發明€明(一1 ^ 元件符號說明 1支架 2內層、內環、支架 3外框、支架 4模心 5溝糟 6電流源 7光學元件、鏡片 11,12細網 21表面 22孔位 30實心、實體零件 31 ' 32 接頭 41絕緣層 50電鍍糟 61逆電極 71黏合劑 A7 B7 392084 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部中央標準局負工消费合作社印装 A7 ._B7_____ 五、#爲_學._ 發明背景 發明領域 本發明與光學零組件之光學支架,特別是高精密度之光 學支架有關。 以往相關藝術品討論 衛星機載之光學支架需要特別高的標準。其支架光學零 組件需符合重量輕、高機械及熱量負載,及精密且無應力 等要求。這個領域的解決方式在德國專利DE 296 03 024,4 U 及本文中所引述資料的最新版本資料中均將提及。 另一個需要特別高標準的領域爲微石版顯相術。爲獲得〜 最好的顯相效果,其投射曝光系統需要精密的公差,即使 在熱效應下其應變亦應最小。 以上兩種運用領域中,通常需要採用金屬支架。廣意地 說亦即需要採用機械加工方式製造,含腐蝕、水刀切割、 硏磨、雷射剝離或其它類似方法》再以各種形式之彈簧絞 .鏈及樑等作爲分離裝置。 電鍍法爲製造薄璧精密材料,即使是光學鏡片等之己知 技術。其方法是以鋁或鎳或其合金等,電鍍在己經製成導 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) A4规格(210XW7公釐) --------C裝------訂------‘ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印裝 A7 B7 五、膜得心上。當達到所需的鍍厚時,電鍍零件則採 用不同的熱擴散法自模心中釋出。 東德專利DD 204 320 A中提供了採用正極裝置環鏡片 之電鍍法。該法中,導電環可裝於調整鏡片之中心點,透 過該法可使其鏡片置於支架中。隨後再將導電環蓋上,加 以熱量,無可避免地,鏡片將會因不同熱澎漲而產生應力。 發明總結 本發明之目的在於提高支架之精密度,使得其光學元件 之支架可以獲得最合適之去偶合效果。本發明的另一個目 的在於提供支架的另一項適合的製程。 以上目標係透過一只光學支架及以下製程等特性達成:‘ 一具光學元件之光學支架,其中包括與光學元件相鄰之 ' · 內側部份、一個外框及一個電鍍用之電極一 一該電極係以 彈簧絞鏈橫樑與內側部份及外框接合而成^ 用於製作附彈簧絞鏈橫樑光學支架之製程,其中包含至 少將其基座之一部份光學支架置於電化學裝置中,而且至 少一份需產生電鍍等反應。 電.鏟法可以產生一個相當精密的支架,並可以在幾個步 驟中增加其再現性。 0¾ (請先閱讀背面之注^|^項再填寫本頁)
L Γ 本紙張尺度適用中困國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印装 A7 B7___ 五、發明説明() 電化學沉稹法同時可用作爲光學元件無黏合劑之接合技 術,亦可用作爲截面端固態零組件整合之用。通常,截面會 導致電鍍之不經濟現象。 藍圖簡要說明 I 以下所列爲本發明之進一步詳細資料及其參考藍圖,其 中: 圖1爲電鍍法鏡片支架之示意總圖 圖2爲電鏟裝置中支架模心之截面圖 圖3爲支架及鏡片連接處之詳細截面圖^ 相關具體事項說明 圖1爲電鍍鏡片支架由模心釋出之狀態。 由於爲實心30包圍之故,外環3爲固態鋼性實心,該實 心最好亦採用其它輔助方法(本文中未明列)進行處理,例如 鑽孔或外套等,作爲光學鏡片之外包裝。11及12細網等形 成薄的彈簧橫樑可用來將2號環固定於相對3號環的中心, 但獨立於外環之裝置。舉例而言,亦可與其它光學元件連鎖 在一起,故不產生應力,2號環故可不致產生變形現象。這類 變形通常係因光學元件或其聯接部份所致β 第11及12號細網同樣地亦可以使第2號環及第3號環 本紙張尺度通用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(21_0f297公釐) ' — — ----------^-----Ii1T------ - (請先聞讀背面之注f項&寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 _____B7___ 五、發明説明() 變形,其變形之主因可能源自於溫度改變時之熱澎脹效應所 致。質是之故,第2號環通常應安置於第11及第12號細網 之中央部位,而且最好是由模心釋出,並且採用雷射切割等 無作用力之程序製作》 · 第2號內環最好以電鍍法製成密閉環,這種方式可以 承受其自模心脫離時所導致之熱收縮現象。隨後再以分隔 內環,以每隔2η之距離分別聯接至光學零組件(第7號鏡 片),這種方式將可以無應力地承受熱膨脹效應。第2η片段 亦可以由簡單彈簧絞鏈樑In組合而成》 第3號環之熱膨脹係由實體環整體(圖2中的30)所決〜 定。第11及12號細網(彈簧絞鏈樑)之熱膨脹決定於電化 學之電鍍材料。如幾何圖形調整合適(即細網長度,相對於 第2及3號環平面之入射角)則由美國專利U S 5,162,951(於前項德國專利DE 296 03 024.4 U中引用)己 知其外環及內環之間隔將無變化,否則亦可採用其它方式 變更之。其支架(1,2,3)即爲圖2電鍍裝置之模心4所示。 模心4可由玻璃組合而成,該模心以薄膜技術蒸氣沉積 法 '噴沙法、PVD、CVD等方法電鍍成具導電性之支架形狀。 電鍍時可透過遮罩法或電蝕法製作之,待保留之部位則以光 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) n n n n n n n n I ; I ~I n 訂. I I - . (請先M讀背面之注$項再4/t本頁) 經濟部中央棣準局βζ工消費合作社印装 A7 _B7___ 五、發明説明() 石版顯相法遮罩覆蓋之。 本文所示爲精密加工、並經硏磨及拋光之金屬模心。該 模心之支架(1,2,3)及細網11及12之間穿孔處覆有相當於 上述玻璃實心之絕緣層41。 « 由圖2可以明顯地看出外環3之實心30如何地以電鍍 層覆蓋並聯接至細網In。其左亦可看到細•丨間,其右之兩個細 網間則有一個空隙。實心30或模心4之第31及32號接頭 則可於電鍍時將實心30緊密地固定正確的位置。 實心部份不僅機械地固牢於支架處,同時亦以電化學法 覆蓋保護之。 % 圖2所示爲電化學儀器之簡圖,其中有溝糟5,電鍍糟50 及接至實心30及模心4導電部位之電流源6,第61件則 爲逆電極》 厚度爲120uni之鎳層,舉例而言需以lA/dm2電鍍10小 時。 圖3所示爲彈簧橫樑In與內環2第21部位之接合,其 內則插有鏡片7。這個區域之支架具有實心之標位表面21, 該表面並與鏡片7吻合。編號22之孔位可以容納黏合劑71 並將支架及鏡片7緊密地接合在一起。 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) A4洗格(210_X 2f公簸) ----------&---^_-—、玎;------^ . . (讀先聞讀背面之注意事項再本頁) 經濟部中央梂準扃負工消费合作社印装 A7 B7_____ 五、發明説明() 除鏡片以外之光學零組件如菱鏡、極光零組件、折射元 件或鏡片等即使其外形屬於不對稱形狀當然亦可以透過這 種方法固定之。 如不想使用黏合劑時,支架部份可以直接地透過電化學 法與光學元件結合在一起。模心之彈簧絞鏈及外環部位則 不再需要透過熱收縮法釋出應力。導電層接玉模心之黏合 力必需以分離劑予以減少。舉例而言,金屬模心部位可以施 以石墨層以降低黏合力。 支架部位亦可透過數組彈簧鉸鏈樑組合而成,如圖1所 示之系統先裝有六腳系統隨後再裝上外環。全部或部份由, 電鍍法製成之零組件可以結合在一起組成一個支架β 圖1中,實心3 0之外環其外圈、內圈及厚度分別爲 200mm, 160mm 及 20 mm,其細網爲 200um 厚,1〇咖寬及 15mm 長,且其與外環之角度爲10度。圖中並裝入外徑155mm之 石英玻璃鏡片,其電鍍材料爲鎳,實心爲鋼質材料。鏡片之 重心則裝於相對於外環固定表面lum之位置,適用溫度範圍 爲-20 C 至 22 C。 本紙張尺度適用中國國家楳準(CNS ) A4规格(210X297公釐) ---------------裝-----^---訂,------威 . * (請先Μ讀背面之注意事項再4ik本頁) it I--- I - — 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 I ! · M . -^五、發明€明(一1 ^ 元件符號說明 1支架 2內層、內環、支架 3外框、支架 4模心 5溝糟 6電流源 7光學元件、鏡片 11,12細網 21表面 22孔位 30實心、實體零件 31 ' 32 接頭 41絕緣層 50電鍍糟 61逆電極 71黏合劑 A7 B7 392084 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 1. 一種光學元件(7)之光學支架,其組成包括:一個緊鄰 於該元件(7)之-內層(2),一個外框(3),及聯接內層(2) 與外框(3),由電鍍法製成之極化彈簧鉸鏈樑(11,12, 1 i) ° 2. 依申請專利範圍第1所述之光學支架,其中光學元件(7) 含有將內層(2)外部聯接至有用光學區(又稱光學元件 (7))之可旋轉式對稱鏡片。 3. 依專利申請範圍第1所述之光學支架,其中所述之內 層部份(2)含有電鏟法製成之內層零件。 4. 依專利申請範圍第1所述之光學支架,其中內層部份(2) 由數個內層(2)組合而成。 5. 依專利申請範圍第1所述之光學支架(7),其內層部位 f含有運用薄層技術製成之一個薄層電導層,且其內層 (2)係以電鍍法加上導電層。 6. 依專利申請範圍第1所述之光學支架,其外框(3)包括 一個電鍍法製成之實體零件(30)。 7. 用於製作含彈簧橫樑光學支架(11,12,li)之製程, 該製程包括:至少可以容納電化學儀器之一部份基座, 及以電鍍法至少形成一部份所謂之光學支架。 8. 依專利申請範圍第7所述之製程,更包括以薄模法技 術提供該元件之一個電導層,及直接將至少一部份電 導層電鍍至所謂之支架(Π,2,3)之電鍍法。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) I訂經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 1. 一種光學元件(7)之光學支架,其組成包括:一個緊鄰 於該元件(7)之-內層(2),一個外框(3),及聯接內層(2) 與外框(3),由電鍍法製成之極化彈簧鉸鏈樑(11,12, 1 i) ° 2. 依申請專利範圍第1所述之光學支架,其中光學元件(7) 含有將內層(2)外部聯接至有用光學區(又稱光學元件 (7))之可旋轉式對稱鏡片。 3. 依專利申請範圍第1所述之光學支架,其中所述之內 層部份(2)含有電鏟法製成之內層零件。 4. 依專利申請範圍第1所述之光學支架,其中內層部份(2) 由數個內層(2)組合而成。 5. 依專利申請範圍第1所述之光學支架(7),其內層部位 f含有運用薄層技術製成之一個薄層電導層,且其內層 (2)係以電鍍法加上導電層。 6. 依專利申請範圍第1所述之光學支架,其外框(3)包括 一個電鍍法製成之實體零件(30)。 7. 用於製作含彈簧橫樑光學支架(11,12,li)之製程, 該製程包括:至少可以容納電化學儀器之一部份基座, 及以電鍍法至少形成一部份所謂之光學支架。 8. 依專利申請範圍第7所述之製程,更包括以薄模法技 術提供該元件之一個電導層,及直接將至少一部份電 導層電鍍至所謂之支架(Π,2,3)之電鍍法。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) I訂 經濟部中央標準局負工消費合作社印装 3920 34 g88 六、申請專利範圍 9. 依專利申請範圍第7所述之製程,更包括一個將實心(30) 整合至一個所謂的電鍍法沉積支架。 10. 依專利申請範圍第7所述之製程,更包括下列事項: 一組結構性導電表面之模心(4)之利用,及形成步驟完 成後將模心移出之方法。 11. 依專利申請範圍第7所述之製程,更包括所述電鍍步 驟後之各項步驟。 12. 依專利申請範圍第11所述之製程,亦包含其分離操作 程序。 13. 依專利申請範圍第12所謂之分離作業爲雷射朿切割或 水刀切割二者之一。 14. 依專利申請範圍第12所述之製程,其分離作業包括將 光學支架之內部(2)分離成片斷(2n)之程序。 ' 15. 依專利申請範圍第11所述之製程中,所謂之進一步處 理程序包括至少將材料由所謂之學支架中移除。 16. 依專利申請範圍第15所述之製程,其材料之移除係採 用硏磨法、拋光法、調合法,磨銑法或侵蝕法。 17. 依專利申請範圍第7所述之製程,更包括將光學元件(7) 聯接至所謂的極性分離區的光學支架處。 ---Γ- ί V------* |----.--rl· ------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家榇準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19735831A DE19735831A1 (de) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | Galvanoplastische Optik-Fassung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW392084B true TW392084B (en) | 2000-06-01 |
Family
ID=7839358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW087111266A TW392084B (en) | 1997-08-18 | 1998-07-13 | Galvanoplastic optical mounting |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6166868A (zh) |
EP (1) | EP0898189B1 (zh) |
JP (1) | JPH11153734A (zh) |
KR (1) | KR100557912B1 (zh) |
DE (2) | DE19735831A1 (zh) |
TW (1) | TW392084B (zh) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19735831A1 (de) * | 1997-08-18 | 1999-02-25 | Zeiss Carl Fa | Galvanoplastische Optik-Fassung |
US20030210856A1 (en) * | 2002-05-10 | 2003-11-13 | Cormack Robert H. | Telecentric 1xN optical fiber switches |
US6262853B1 (en) * | 1998-12-25 | 2001-07-17 | Olympus Optical Co., Ltd. | Lens barrel having deformable member |
US6768599B2 (en) * | 1998-12-25 | 2004-07-27 | Olympus Corporation | Lens barrel |
DE19930643C2 (de) | 1999-07-02 | 2002-01-24 | Zeiss Carl | Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung |
DE10030495A1 (de) | 2000-06-21 | 2002-01-03 | Zeiss Carl | Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper |
DE10136387A1 (de) | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Zeiss Carl | Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie |
TW577108B (en) * | 2001-11-07 | 2004-02-21 | Nikon Corp | Optical device and the manufacturing method thereof, optical system, and manufacturing method of exposure device and micro-device |
DE10158216A1 (de) * | 2001-11-28 | 2003-06-18 | Carlos Alberto Valenzuela | Spiegel, optisches Abbildungssystem und deren Verwendung |
DE10219514A1 (de) | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Zeiss Carl Smt Ag | Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie |
US20070019310A1 (en) * | 2003-07-09 | 2007-01-25 | Carl-Zeiss Smt Ag | Facet mirrors and a method for producing mirror facets |
DE10352820A1 (de) * | 2003-11-12 | 2005-06-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Flanschbaugruppe eines optischen Systems |
US7265917B2 (en) | 2003-12-23 | 2007-09-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Replacement apparatus for an optical element |
EP1643281A1 (de) * | 2004-10-02 | 2006-04-05 | Trumpf Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG | Optisches Element einer Laserbearbeitungsmaschine und Halterung des optischen Elements |
EP1649967B1 (de) * | 2004-10-20 | 2011-08-10 | TRUMPF Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG | Optisches Element eines Laserbearbeitungskopfs |
US7621044B2 (en) * | 2004-10-22 | 2009-11-24 | Formfactor, Inc. | Method of manufacturing a resilient contact |
DE102006038634A1 (de) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Halteeinrichtung für ein optisches Element mit Stützkraftausgleich |
US8441747B2 (en) | 2006-09-14 | 2013-05-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical module with minimized overrun of the optical element |
DE102008000967B4 (de) | 2008-04-03 | 2015-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie |
CN102364370B (zh) * | 2011-10-31 | 2013-08-28 | 北京空间机电研究所 | 一种高隔热效率小热应力影响的低温光学系统支撑装置 |
CN106405775B (zh) * | 2016-12-08 | 2018-08-24 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 应用于大口径分色镜的支撑调整机构 |
CN108469662B (zh) * | 2017-02-23 | 2020-10-27 | 玉晶光电(厦门)有限公司 | 光学镜头、其组装方法及镜筒 |
DE102017209696A1 (de) * | 2017-06-08 | 2018-12-13 | Trumpf Laser Gmbh | Schutzglas mit Transponder und Einbauhilfe sowie zugehöriges Laserwerkzeug |
CN108492906B (zh) * | 2018-04-28 | 2020-08-14 | 北京控制工程研究所 | 嵌套型掠入射聚焦光学镜头的镜片无应力调节装置及方法 |
CN111198465A (zh) * | 2018-11-16 | 2020-05-26 | 三营超精密光电(晋城)有限公司 | 挡环及采用该挡环的镜头 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE204320C (zh) * | ||||
GB846289A (en) * | 1957-03-15 | 1960-08-31 | Nat Res Dev | Improvements in or relating to the manufacture of electromagnetic waveguides |
DE2526318A1 (de) * | 1975-06-12 | 1976-12-23 | Siemens Ag | Metallischer zwischentraeger zur halterung und kontaktierung eines halbleiterkoerpers |
DD204320A1 (de) * | 1981-10-30 | 1983-11-23 | Volker Eberhardt | Anordnung optischer bauelemente in mechanischen fuehrungen |
SU1265679A1 (ru) * | 1985-06-10 | 1986-10-23 | Предприятие П/Я Р-6681 | Юстировочное устройство |
NL8800865A (nl) * | 1988-04-05 | 1989-11-01 | Stork X Cel Bv | Metalen cilinderzeef gemaakt uit velvormig materiaal en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke zeef. |
US5162951A (en) * | 1990-07-31 | 1992-11-10 | Eastman Kodak Company | Method for designing an optical system |
US5058993A (en) * | 1990-10-01 | 1991-10-22 | Hughes Aircraft Company | Lightweight optical bench and method of fabricating same |
US5383168A (en) * | 1993-04-01 | 1995-01-17 | Eastman Kodak Company | Actively athermalized optical head assembly |
US5570238A (en) * | 1995-03-31 | 1996-10-29 | Lockheed Missiles & Space Company, Inc. | Thermally compensating lens mount |
US5953477A (en) * | 1995-11-20 | 1999-09-14 | Visionex, Inc. | Method and apparatus for improved fiber optic light management |
DE29603024U1 (de) * | 1996-02-21 | 1996-04-18 | Zeiss Carl Fa | Spannungsfreie Lagerung |
US5891317A (en) * | 1997-02-04 | 1999-04-06 | Avon Products, Inc. | Electroformed hollow jewelry |
DE19735831A1 (de) * | 1997-08-18 | 1999-02-25 | Zeiss Carl Fa | Galvanoplastische Optik-Fassung |
-
1997
- 1997-08-18 DE DE19735831A patent/DE19735831A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-06-30 KR KR1019980025569A patent/KR100557912B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-07-13 EP EP98112971A patent/EP0898189B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-07-13 DE DE59813054T patent/DE59813054D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-13 TW TW087111266A patent/TW392084B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-07-30 US US09/126,934 patent/US6166868A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-08-06 JP JP10222703A patent/JPH11153734A/ja active Pending
-
2000
- 2000-09-01 US US09/653,660 patent/US6503383B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19735831A1 (de) | 1999-02-25 |
EP0898189B1 (de) | 2005-09-14 |
KR100557912B1 (ko) | 2007-12-04 |
US6503383B1 (en) | 2003-01-07 |
US6166868A (en) | 2000-12-26 |
KR19990023174A (ko) | 1999-03-25 |
JPH11153734A (ja) | 1999-06-08 |
EP0898189A1 (de) | 1999-02-24 |
DE59813054D1 (de) | 2005-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW392084B (en) | Galvanoplastic optical mounting | |
CA2088605C (en) | Formation of microstructures by multiple level deep x-ray lithography with sacrificial metal layers | |
US20080218721A1 (en) | Optical element unit | |
JPH0744819A (ja) | 磁気薄膜ヘッドの製造方法 | |
US6135054A (en) | Semiconductor wafer holder with CVD silicon carbide film coating | |
US6001180A (en) | Semiconductor wafer holder with CVD silicon carbide film coating | |
EP2746850B1 (en) | Method of manufacturing mirror shells of a nested shells grazing incidence mirror | |
Desta et al. | Fabrication of graphite masks for deep and ultradeep X-ray lithography | |
JP2009091600A (ja) | 電鋳法における形状転写導電層の形成方法 | |
JP3857160B2 (ja) | 感光体および画像形成装置 | |
Watson | Electroforming today | |
JPS62152299A (ja) | スピ−カ用振動板の製造方法 | |
JP2000319028A (ja) | ガラス光学素子プレス成形用型の再生方法 | |
JPH05287577A (ja) | 電鋳型製造用基板及び電鋳型の製造方法 | |
JPH09218299A (ja) | X線取り出し窓およびその製造方法ならびに前記x線取り出し窓を用いたx線露光装置 | |
JPH06347620A (ja) | レプリカミラーの製造方法および製造用型 | |
Ahmad et al. | Design and fabrication of low-cost x-ray mirrors | |
CN1166461A (zh) | 一种薄壁金属曲面镜面的制造方法 | |
JPS6028048A (ja) | マスタ−スタンパ−の製造方法 | |
JPH02173284A (ja) | スタンパ | |
Rozelot et al. | Aluminium mirrors versus glass mirrors | |
JP3457466B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダの製造方法 | |
JPS63144304A (ja) | レ−ザ用金属ミラ−及びその製造方法 | |
KR20000034062A (ko) | Cvd 실리콘 카바이드 필름 코팅을 갖는 반도체 웨이퍼 홀더 | |
JPH059775A (ja) | スタンパの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |