TW389930B - Developing solution feed system for semiconductor photolithography process - Google Patents

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經濟部中央橾準局貝工消費合作杜印製 A 7 B7 * 五、發明説明（\ ) 本發明之背景： 1 .本發明之領域： 本發明偽關於半導體徹影製程用顯影液供應条统，尤 指在条统中在顯影液内所含的氣體被去除，而後該清潔液 披供慝到晶圓的上面以藉此從被形成於該晶圓之上的光阻 (PR)層去除不需要之部分。 2 .相關技術之說明： 一般而言，半導體元件藉重覆地執行徹影、擴散、蝕 刻、蒸發以及金饜線製作等製程而被製造.在半導體元件 生産製程中微影製程傜平常的一種製程。 徹顯製程偽用以形成待定之圖案於晶圓上的製程，該 製程包括形成光阻層於晶圓的表面上、刻印或曝光具有特 定之電路圖的標線腿案於該光阻層之上，以及因為藉供應 顯影_液而刻印以去除該層之不需要的部分.藉以在晶圓上 形成所需的圖案。 在上面的供慝条统中，如果該顯影液帶有其所含的氣 體而被供應至晶圓上，該圖案就被不良地形成，因此，氣 體去除装置被裝設在該顯影液供匾系統中以去除該溶液中 所含的氣鱧。 匾1傜顯示用於半導體微影製程之傳统的顯影液供應 条統之示意圖，該顯影液供應条統1 0包括用以儲存由外 部输入的顯影液之主槽12、複數傾用以儲存從該主槽 1 2經過供應管1 4所供應之待定量的顯影液的供應槽 本紙張尺度適用中國困家標率（CNS } Λ4規格（210X297公釐） --\-------，乂------訂--L----' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明説明（2 ) A7 B7 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 以製 4 的管到 接擇影閉 接4流. 連4刻之閉 、於 2量接接嘴 連菝顯關 連 26 三 3 的霣關 8 設 管定連連管 被 a 該地 一管 2 第置«,物的 1 装 接持 一被入 自 ο 在性 第接管 該裝之的氣 線被 連存第則伸。各 3 除擇 的連接。著除液來空 管且 一儲該點延中在閥去選 。開一連上沿去影外之 應並 第以到端 80 設制為 a 管打第二 2 在體顯之含 供端 傾用接個 22 装控要 ο 接被到第 3 除氣的含所 液末 數 6 連 一管室被該主 3 連而接的圓去之動所中 影之 複 1 被另接程閥 ，時閥傾 a 連 8 晶以體流中液 顯 8 ,槽個的連製制中同制 一 ο 被 2 至用氣 8 液影 之 1 中應一 6 三於控4* 控何 3 端管應括的 2 影顯 6 線 8 供有 2 第設個 2 且該任閥 一 接供包含管顯遂 1 管 1 該具管該裝 一管並 ，啓制有連被次所接該在 槽應。線到 6 接，被每接 ·是開控具三 2 依中連在除' 應供 2 管接 CVJ 連 82 ，連通就以藉著第 28 液三除去 供液 2 應連管二 22 等 一流也藉過沿到嘴 2 影第去以 該影嘴供被接第管嘴 a 第的 .4,經 ，接管管顯該以用 到顯管液管連該接管 ο 之液體 2 ,應連過接之著用 、 接該的影接二 ，連個 36 影氣管液供被經連動沿 、8 連到中顯連第點三 一閥 1 顯的接影被端此三流定 63 被接 ο 該値.端第每制槽閉含連顯而一藉第 8 測 3 置 、連 2 在一液的個，控應關所一該 4 另而該 2 以表装 6 波室 每影 4 數 2 供地中第 2 及， 管用儀濂 1 及程 ，顯 2 複 2 到性液該 管以動 接、度過， 产------訂--------Φ ί . (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適刑中國困家標準（CNS ) Λ4現格（210X297公釐） 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 B7 五、發明k明（$ ) 閥 3 0 b。 圖2偽顯示被装設於圖1之顯影液供應啻線中的氣體 去除装置之部分截斷圖，該氣體去除裝置34,被装設於 第三連接管28中·係以將近數以萬計的毛細管40所束 缚成堆之環氣樹脂所鏵模而成，毎一個毛細管的直徑為 100 — 300 毫微米（um)。 圖3詳细地顯示毛細管40,該顯影液沿著形成該毛 细管的薄膜之内部流動，而同時具有真空幫浦（未顯示） 之高度的真空狀態被形成於該薄膜的外面。 同時，該毛細管40被形成具有突出於該薄膜42之 内壁上的突出物44,而每一値毛細管具有將近1〇〇 — 300毫微米（《m)的直徑，該毛細管40的薄膜42 具有恐水特性，使得氣態的空氣能夠滲入該薄膜42而同 時液態的顯影液則不能夠滲人該薄膜4 2。 因此，氣體分壓和形成於該薄膜42的内壁之上的顯 影液供應壓力及藉真空幫浦而形成於該薄膜的外倒之上的 真空壓力被産生，使得在該顯影液中所含的氣體在通遇毛 細管期間能夠被排到外面。 為了去除在該顯影液中所含的氣體，該溶液必須通過 具有供應壓力的氣體去除裝置34,這個供應懕力以被供 憋入該供應槽16中之氮氧的加壓而被形成.該加壓將被 說明於如下所顥示。 公式： 本紙張尺度適用中國困家標準（CNS ) Λ4说格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 戍！ A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 五、發明说明 (^ … … P 〇〇 λ X ( W ο / 2 g ) X ( L / D ) 1 | 其 中 P 為 顯 影 液 供 ϋ 壓 力 ， λ 為 摩 擦 偽 數 W 2 為 平 均 速 1 度 t L 為 長 度 以 及 D 為 直 徑 〇 請 先 1 i 在 上 面 的 公 式 中 9 能 夠 很 容 易 地 領 會 到 顯 影 液 供 m 壓 閲 讀 背 | 力 傜 直 接 正比 於 長 度 > 但 是 反 比 於 直 徑 〇 之 注 1 然 而 » 在 傳 統 的 顯 影 液 供 應 % 統 中 當 顯 影 液 均 同 時 意 事 1 I 被 供 應 到 各 白 的 製 程 室 2 0 之 中 1 由 於 供 應 槽 1 6 之 氮 氣 再 & | 5 ( 的 加 壓 所 造 成 的 顯 影 液 供 應 壓 力 被 減 少在 該 供應懕 力 從. 苐 本 頁 1 二 連 接 管 2 6 被 分 到 第 三 連 接 管 2 8 之 製 程 的 期 間 〇 1 I 结 果 » 因 為 顯 影 液 通 過 具 有 被 減 少 之 供 慝 壓 力 的 氣 體 1 I 去 除 装 置 t 該 氣 體 去 除 装 置 之 氣 體 去 除 的 效 率 變 差 9 所 以 1 1 - 訂 • 該 顯 影 液 9 從 該 顯 影 液 中 所 含 的 氣 體 並 未 充 分 地 被 去 除 1 被 供 應 至 每 —. 摘 製 程 室 中 ， 而 因 此 導 致 製 程 不 良 〇 1 { 而 且 9 因 為 許 多 量 的 顯 影 液 不 能 夠 被 供 me 應 至 該 晶 圓 之 1 | 上 因 為 該 顯 影 液 供 應 壓 力 的 減 少 以 及 供 應 許 多 量 之 顯 影 液 1 % 所 需 的 供 應 時 間 較 長 之 故 9 所 以 總 共 的 顯 影 製 程 時 間 變 得 1 較 長 〇 1 1 此 外 » 在 傳 统 的 顯 影 液 供 應 条 統 中 t 因 為 每 一 個 氣 體 1 1 去 除 装 置 和 過 濾 装 置 都 被 裝 設 於 第 三 連 接 管 中 9 該 % 統 的 1 裝 設 費 用 增 加 而 且 其 管 理 也 難 以 執 行 〇 1 1 1 本 發 明 之 概 逑 ： 1 1 如 上 所 述 • 本 發 明 的 一 個 巨 的 在 於 提 供 用 於 半 導 體 徹 1 1 影 製 程 之 顯 影 液 供 應 % 統 • 而 7- 其 中 上 述 的 問 題 得 以 解 決 « 1 1 1 1 本紙浪尺度適用中國困家標半（CNS ) Λ4現格（21〇X297公釐) 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（$ ) 本發明之条統提高了相颶於顯影液供應壓力之氣體去除装 置的氣鱧去除效率，使得本糸统能夠在顯影製程期間防止 因在顯影液中所含的氣鳢所造成之製程不良。 本發明的另一傾目的在於提供用於半導體微影製程之 顯影液供應条统，其中該顯影液供應時間以及顯影製程時 間被減少.而使得該条统之移動性能夠被增加。 仍然是本發明的另一個目的在於提供用於半導靂撤影 製程之顯影液供應条統，其中該氣體去除裝置的數目被減 少，結果，能夠減少該条統之裝設賨用而且也能夠容易地 執行其管理。 本發明之顯影液供應条统包括複數個用以儲存特定量 之顯影液的供應槽和一個顯影液供應管線.該顯影液供應 管線具有複數個第一連接管，每一傾第一連接管被連接到 該供應槽、第二連接管被連接到邸將被匯集成為一艏通道 的第一連接管、以及複數個從該第二連接管被分出的第三 連接管，該顳影液供應条統也包括管嘴等，每一餹管嘴被 裝設於該顯影液供應管線的第三連接管中而《以濺鍍顯影 液於製程室中之晶圓上、氣體去除装置，被裝設於該顯影 液供應管線之第二連接管中而藉以去除在顯影液中所含的 氣體、以及關閉閥等，每一餾關閉閥被裝設於第三連接管 之通道中而藉以選擇性地衹供應顯影液經過該第三連接管 進入一偁製程室中。 附圓之簡略説明： 本紙悵尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4说格（210X297公釐） II .— UHH - I -义------訂-------In ^ . · - - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 i、發明説明（G) 伴隨之圖形，該圖形被包括入以提供本發明之進一步 的了解並且被併入和構成此說明書的一部分.圖示說明本 發明之持殊的實施例，而且和說明一起當作解釋本發明之 原理用，在附圖中： 圖1傜顯示甩於半導體微影製程之傳統的顯影液供慝 条统之示意圈； 圖2偽顯示被装設於園1之顯影液供應条統之顯影液 供蘸管線中的氣體去除裝置之部分的截斷圃； 圖3偽顯示供應位於圖2之氣醱去除装置中的毛细管 之被放大的部分截斷圖；及 圖4偽根據本發明之較佳實施例的半導體撤影製程用 顯影液供應条统之示意圖。 較佳實施例之詳細說明： 對於本發明之較佳實施例而言，參考現在將被詳细地 做成，而其例被圖示說明於附圈中。 如被圖示説明於圖4中，顯影液供應条統46配備複 數傾用以儲存特定量之顯影液的供應槽16,該供應槽藉 供應管14而與主槽1 2相連接來從該主槽1 2接收顯影 液。 該供應槽1 6經由顯影液供應管線6 0而供應該顯影 液到位於製程室20之中的晶圔32上，該顯影液供匾管 線60係由複數傾第一連接管24,每一個第一連接管披 連接到該供應槽、被連接到該第一連接管而匯集成為一個 本紙张尺度適川中國國家標準（CNS ) A4说格（210x297公* ) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印袈 經濟部中央標準局貝工消费合作社印装 A7 B7 五、發明k明（q ) 通道的第二連接管4 8、以及複數傾由該第二連接管4 8 所分出之第三連接啻5 0所構成。 在該顯影液供應線路60中，該複數艟第三連接管 50,毎一個第三連接管具有一個側端，該側端係位於該 製程室2 0之中而且配備管嘴2 2用以濺鍍顯影液於晶圓 32之上，氣體去除装置被裝設於第二連接管48中以去 除在流經該通道之顯影液中所含的氣醱，因此，該顯影液 ,其中所含的氣體藉該氣體去除装置52而被去除，經過 從第二連接管4 8所分出之第三連接管5 0被供應到每一 個製程室2 0中。 控制閥5 8 a被値別装設於該第一連接管24中而藉 以選擇性地關閉從供應槽16所供應的顯影液，而且同時 去除在顯影液中所含的氣體。 希望藉控制該控制閥5 8 a而僅由在供應槽1 6之中 具有最大置顯影液的供應槽來供應顯影液。 此外，關閉閥5 8 b被傾別裝設於第三連接管5 0中 而藉以選擇性地關閉經由氣體去除裝置5 2被供應到管嘴 22之中的顯影液.而且同時去除在顯影液中所含的氣匾 〇 藉控制該關閉閥5 8 b而經由第三連接管5 0僅供應 顯影液到其中的一餹製程室20之中，也就是，如果任何 一個關閉閥58b被開啓，另一値闢閉閥58b則自動披 葫閉。 -10- 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS ) M坭格（210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -後！ A7 B7 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印«. 五、發明k明 、 1 本 發 明 之 顯 影 液 供 應 管 線 6 0 傜 配 備 —· 個 用 以 從 頭 影 1 •·ι I 液 中 去 除 外 來 的 物 質 之 過 m 裝 置 5 6 以 及 用 以 測 定 顯 影 液 1 之 流 量 的 刻 度 計 量 器 0 請 先 1 | 閱 - 如 被 圖 示 說 明 於 圖 4 中 » 最 希 望 該 過 濾 装 置 5 6 被 裝 讀 背 1 設 於 第 二 連 接 管 4 8 中 » 而 在 氣 體 去 除 裝 置 之 4,4· 刖 使 得 所 過 之 1 濾 的 顯 影 液 能 夠 流 入 該 氣 體 去 除 裝 置 5 2 之 中 » 而 且 » 該 意 事 1 項 1 過 濾 装 置 5 6 也 可 以 被 装 設 於 第 一 連 接 管 2 4 中 〇 再 4 1 此 外 $ 該 過 濾 裝 置 5 6 可 以 被 装 設 於 第 二 連 接 管 4 8 寫1 本' 頁 Λ 中 而 在 氣 體 去 除 装 置 5 2 之 後 使 得 顯 影 液 * 其 中 所 含 的 1 氣 體 藉 氣 醴 去 除 裝 置 5 2 而 被 去 除 時 9 能 夠 被 過 濾 • 而 且 1 I 9 該 過 濾 裝 置 也 可 以 被 装 設 於 第 三 連 接 管 5 0 之 中 〇 1 1 - 訂 如 被 圖 示 説 明 於 圖 4 中 » 最 希 望 該 刻 度 計 董 器 5 4 被 1 個 別 地 裝 設 在 介 於 氣 腥 去 除 装 置 5 2 與 m 閉 閥 5 8 b 之 間 應 1 \ 而 藉 以 正 確 地 測 定 被 供 應 到 晶 圓 3 2 之 顯 影 液 的 量 而 且 1 ， 只 有 __ 個 刻 度 計 量 器 可 以 被 裝 設 於 第 二 連 接 管 4 8 之 中 1 Ο % 1 在 圖 4 之 顯 影 液 供 應 % 統 中 t 該 顯 影 液 從 主 槽 1 2 被 1 1 供 應 到 供 給 槽 1 6 中 而 藉 此 被 儲 存 於 供 應 槽 之 中 9 而 後 經 1 過 顯 影 液 供 應 管 線 6 0 進 人 管 嘴 中 藉 以 被 濺 鍍 在 晶 圔 3 2 J I 上 〇 1 1 | 因 為 本 發 明 的 氣 體 去 除 装 置 5 2 被 装 設 於 顯 影 液 供 應 1 1 管 線 6 0 的 第 二 連 接 管 4 8 之 中 • 並 且 該 顯 影 液 在 顯 彩 液 1 1 供 應 壓 力 不 被 減 少 的 情 形 下 通 過 氣 匾 去 除 裝 置 5 2 參 所 以 1 I - 11 - 1 1 1 本紙悵尺度適用中國國家標芈（CNS ) Λ4現格（210X297公釐） 經濟部中央標隼局貝工消费合作社印製 389930 五、發明説明（q) 能夠提升氣醱去除的效率，而且，因為該顯影液.從該顯 影液中所含的氣髏藉氣體去除裝置52而被去除，被供應 到晶圓32中，能夠阻止被在該顯影液中所含的氣體所導 致之製程不良。 此外，因為過濾装置56被装設在氣體去除装置52 之前並旦該顯影液，從該顯影液中藉該過濂裝置來去除外 來的物質，被供應到氣體去除装置52之中，所以該外來 的物質不會沈澱在氣匾去除装置52上，因此能夠維持氣 體去除装置之功能及壽命延缠。 此外，因為如果被装設於第三連接管50中之關閉閥 58b的一側之關閉閥被開啓，另一侧之聞閉閥則自動被 關閉，所以顯影液經過第三連接管50衹能被供應到一個 製程室20之中，因此，顯影液供應壓力不會減少而是維 持原狀，藉此被充分地及快速地供應到製程室，結果，能 夠縮短顯影製程時間。 因此，應該了解到本發明不被限定於在此所掲示當做 用以實行本發明所深思熟慮之最佳模式的持別實施例，更 確切地說，本發明不被限定於在本說明書中所敘述的持殊 實施例而除了當被定義於附加的申請項之中時。 -12- 本紙悵尺度適用中國國家標準（CNS > Λ4此格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -*

Claims (1)

1. 公告本j A8 B8 C8 D8

   煩請委员r-i-v::: f-K,.-.:A 後是巧0,<#實If内容 經濟部智总財/4-/»73;工消^合作社印焚 六、申請專利範圍 1 . 一種半導體微影製程用顯影液供應系統，包括： 複數涸供懕槽，用K儲存特定量的顯影掖； 一個具有複數個第一連接管之顯影液供應菅線，每一 涸第一連接管被連接到該供懕楢、一涸第二連接菅被連接 到卽將被匯集成為一個通道的第一連接管、以及複數個從 該第二連接菅所分出之第三連接管； 管嘴等，每一個管嘴被連接到該顯影疲供應管孃的第 三連接管而藉K濺鍍該顯影疲.於晶圓之上，每一個晶圓被 置於製程室之中； 氣體去除装置，其被装設於該顯影液供懕管媒之該第 二連接管中•藉以去除在沿著該管的内部流動之該顯影疲 中所含的氣體； 一過濾裝置，其用K去除在沿著該顯影疲供愿管媒而 流動之該顯影液中所含的外來物質；及 關閉闕，每一涸闞閉閥被装設於該第三連接管中而藉 R開啟與閫閉該管之通道，使得該顯影疲能夠经過該第三 連接管僅被選擇性地供懕入一個製程室中， 其中’該過漶装置被装設於該第二連接管中，且在該 氣體去除装置之前。 2 .如串讀專利範圍第丨項的系統，其中如果該關閉 閥的其中一個被開啟，則另一個關閉閥自動被關閉ΰ 3 .如申請專利範圍第1項的系统，再包括：複数個 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本吹乐义度適用中國國家揉车（CNS ) Λ4現格（210X 297公釐） A8 B8 C8 D8 189930 、申請專利範囷 1.—種半導體撤影製程用顯影液供應条统，包括： 複數艏供應槽，用以儲存待定置的顯影液； —侮具有複數傾第一連接管之顯影液供應管線，每一 個第一連接管被連接到該供應槽、一傾第二連接管披連接 到即將被匯集成為一値通道的第一連接管、以及複數傾從 該第二連接管所分出之第三連接管； 管嘴等，每一個管嘴被連接到該顯影液供匾管線的第 三連接管而藉以濺鍍該顯影液於晶圓之上，每一健晶圖被 • . “ 置於製程室之中； 氣體去除装置被裝設於該顯影液供應管線之該第二連 接管中而藉以去除在沿著該管的内部流動之該顯影液中所 含的氣髏；及 鼷閉閥.每一艏關閉閥被装設於該第三連接管中而藉 以開啓與蘭閉該管之通道，使得該顯影液能夠經過該第三 連接管僅被遘擇性地供應入一艏製程室中。 2. 如申請專利範圍第1項的条'統.，其中如果該闋閉 閥的其中一個被開啓，則另一個關閉閥自動被關閉。 3. 如申請專利範圍第1項的条統，再包括：複數個 控制閥被装設於該顯影液供應管線之該第一連接管中而藉 以遘搽地開啓與蘭閉該管之通道。 4. 如申請專利範圍第3項的条统，其中該控制閥被 控制僅一傾位在具有最大量的顯影液之側中的控制閥能夠, 被開啓。 本紙張尺度遑用中β*家輮率（CNS > A4规格（2丨0X297公釐） {请先閱讀背面之注f項再填寫本頁) 訂 Λ 經濟部中央樣率局貝工消费合作社印褽 389930 Α8 Β8 CS D8 κ、申請專利範困 5. 如申請專利範圍第1項的条统.再包括：用以去 @在沿著該顯影液供應管線而流動之該顯影液中所含的外 來物質之過濾裝置。 6. 如申請專利範圍第5項的条统，其中該過濾裝置 被装設於該第二連接管中在該氣體去除裝置之前。 7. 如申請專利範圍第5項的条統，其中該過濾装置 被裝設於該第二連接管中在該氣體去除裝置之後。 8. 如申請專利範圍第5項的条統，其中該過濾装置 被装設於傜各自位在介於該氣髏，去除裝置與該關閉閥之間 .的該第三連接管之中。 9. 如申請專利範圍第1項的条統，再包括：用以測 定沿著該顯影液供應管線而流動的該顯影液之量的刻度計 量器。 (請先閱讀背面之注$項再埃寫本頁) 訂 11 1. 經濟部中夫樣率局Λ工消费合作杜印«. 計 計 装之 度。度一。濾閥 刻前刻後過閉 該之該之該關 中置中置中該 其裝其裝其與 ,除，除 •置 統去統去统裝 条體条體条除 的氣的氣的去 項該項該項體 9 在 9 在 9 氣 第中第中第該 圍管圍管圍於 範接範接範介 。 利連利連利在中 專 二專二 專位之 請第謓第請自管 申該申該申各接 如於如於如偽連 . 設 .設 .於三 ο 装 1 装 2 設第 1 被 1 被 1 裝該 器 器 被的 董 量 置間 • JI. 本紙張尺農逋用中*家鏢率（CNS ) A4«t格（2丨0X297公釐） 公告本j A8 B8 C8 D8

   煩請委员r-i-v::: f-K,.-.:A 後是巧0,<#實If内容 經濟部智总財/4-/»73;工消^合作社印焚 六、申請專利範圍 1 . 一種半導體微影製程用顯影液供應系統，包括： 複數涸供懕槽，用K儲存特定量的顯影掖； 一個具有複數個第一連接管之顯影液供應菅線，每一 涸第一連接管被連接到該供懕楢、一涸第二連接菅被連接 到卽將被匯集成為一個通道的第一連接管、以及複數個從 該第二連接菅所分出之第三連接管； 管嘴等，每一個管嘴被連接到該顯影疲供應管孃的第 三連接管而藉K濺鍍該顯影疲.於晶圓之上，每一個晶圓被 置於製程室之中； 氣體去除装置，其被装設於該顯影液供懕管媒之該第 二連接管中•藉以去除在沿著該管的内部流動之該顯影疲 中所含的氣體； 一過濾裝置，其用K去除在沿著該顯影疲供愿管媒而 流動之該顯影液中所含的外來物質；及 關閉闕，每一涸闞閉閥被装設於該第三連接管中而藉 R開啟與閫閉該管之通道，使得該顯影疲能夠经過該第三 連接管僅被選擇性地供懕入一個製程室中， 其中’該過漶装置被装設於該第二連接管中，且在該 氣體去除装置之前。 2 .如串讀專利範圍第丨項的系統，其中如果該關閉 閥的其中一個被開啟，則另一個關閉閥自動被關閉ΰ 3 .如申請專利範圍第1項的系统，再包括：複数個 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本吹乐义度適用中國國家揉车（CNS ) Λ4現格（210X 297公釐）

   夂、申請專利範圍 控制閥被装設於該顯影液供應管媒之該第一連接管中而藉 R選擇地開敢與關閉該管之通道。 4 ·如申請專利範圍第3項的系铳，其中該控制閥被 控制僅一個位在具有最大量的顯影疲之側中的控制閥能夠 被開啟。 5 ·如申請專利範圍第1項的糸統，再包括：用K測 定沿著該顯影液供應管線而流動的該顯影疲之畺的刻度計 量器。 6 ‘如申請專利範圍第5項的系统，其中該刻度計量 器被装設於該第二連接管中在該氣體去除装置之前β 7 ·如申請專利範圍第5項的系统*其中該刻度計量 器被裝設於該第二連接管中在該氣體去除装置之後。 8 ♦如申請專利範圍第5項的系統，其中該遇濾裝置 被装設於係各自位在介於該氣體去除装置與該鼷閉閥之間 的該第三連接管之中。 ------------ (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) •tT 經濟部智总μί4ΑΗ工消赍合作社印於 衣+紙伕<度適用令國國家樣準（CNS ) Α4現格（210x 297公釐）