TW380099B - Supporting device provided with a gas spring with a gas bearing, and lithographic device provided with such supporing devices - Google Patents

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五、發明說明（1) 本發明關於一種i撐裝置，复且 部分、一氣壓彈簧具有—壓室^ 邻份，、一第二 第二：支撐第二部分、及防止自二=向相對於 一振動傳送之裝置。 至第二部分之 本發明亦關於一種石版印 光罩托架、一聚焦單元具有—二2有—放射源、一 托架、一構架、及一底|;-放置裝置與-基體 元可平行於-X方向移動，該聚：體托架相對於聚焦單 於一 Y方向，該Y方向垂直於 二兀+於主軸且平行 至少支樓聚焦單元平行於二去D且垂直於主軸；該構架 支撐裝置支撐該構架，# 二向；該底座藉由至少三 撐方向之一支撐力。 #裝置對構架施加平行於支 第一段中提及類型之—支撐 · 卯-A-9 6/38766中得知。習4 /置及一石版印刷裝置可自 版印刷&應用於積體半導體雷版印刷裝置經由—光學石 置中之放射源為一光源二電夸=生1。習知石版印刷裝 於光罩托架上之—光Ϊ1路局部圖樣、其呈現於可； 體托架上之-半導體基體上缩小比例成像於可置於基 體上。此一半導體基體包括具有完 體大量攔位1別欄位J之故連貫通 每次兩連貫曝光步驟間帶；欄：經由定位裝置= 七ρ 平八相對於聚焦單元之定位。此程 序每次以包括-不同局部圖樣之—不同光罩重複許多次’ 從而可製造具有較複雜結構之積體半導體電路。由於以上

五、發明說明（2) _ 結構具有在次微米範圍内之細部尺寸，呈現於連 之：部圖樣應以次微采範圍内之精碴度成像於半導體：體 之攔位上。因此基體乾架與光罩托架在 聚焦單元居於精確位置。 你崎讣期間應相對於 - 之構架藉由習知類型之三支標裝置於 構第二部分繫結於構架。習知石= :及基體把架’同時底座可置放於一樓j:托 架與光罩托架在運作期間必須於托 置，運作期間必須盡可能避早7"居於精確位 能源於底座内之振動，而底振：：動：此構架振動可 僅用以在垂直方向支撐in匕三支擔裝置因此* 一振動傳送。 门時亦免於自底座至構架之 習知支撐裝置之氣壓彈簧之壓 一環形膜為界’其令該容写拉^力―至係以一圓柱形容器及 力室内。容H藉由-hi ^由忒膜懸吊於氣壓彈簧之壓 η 合器精由二較細拉力桿餐έ士认姑 桿位於容器内且平行於支撐方向延^於^部A，該拉力 座至構架之一振動傳送，由支衿 為盡可能避免自底 刷裝置組件連同構架共同構成播之石版印 行於支撐方向及垂直於支撐方 =弹簧系統必須在平 q之方向内具有盡可能低之 C:\ProgramFiles\Patent\55256.ptd 第 8 頁 五、發明說明（3) 自然頻率。習知支撐裝置之氣壓彈簧之壓 容積以對前述質量彈簧系統提供平行於支浐二二有一較大 能自然頻率。前述之拉力桿具有一較大長；=之最低可 簧系統提供垂直於支撐方向之最低可能自：：該質量彈 習知支撐裝置之—缺點在於其所用界壓彈 之膜具有-較大剛性1質量彈菁系統平力室 自然頻率因而增加，且第—部份平行^支#方^撐裝置之 份傳送到第二部分。此卜，兮 牙12之振動部 加-制動力，因而福ί : 期間對第二部份施 率之振動傳送增加。㈣，習知支樓裝置中 構：G長，於支樓裝置平行於支撑方向之-可容許 之受限，使第—部分垂直於支撐方向 之振動亦部份傳送至第二部分。 本發月之目的係提供第一段中提及類型之一支撐裝 U在：行於支撐方向及垂直於支撐方向之方向内之剛 壯也可此地低，且提供第二段中提及類型之一石版印刷 二ί其中由支撐裝置及藉此支撐之石版印刷裝置組件連 =架構成之一質量彈簧系統在平行⑨支禮方向Α垂直於 、f方向之方向内具有盡可能低之自然頻率，藉此盡可能 避免自支樓裝置第一部分至第二部分及自石版印刷底座至 構架之一振動傳送。 依據本發明之支撐裝置應用於此目的，其特徵在於壓力 室係由支撐裝置一中間部分之一圓柱形内壁及一活塞界 第9頁 C:\Program FiIes\Patent\55256. ptd 从、ir啊說明（4) -- =，該活塞在申間部分内可平行於支撐方向移動且藉由一 靜態氣體軸承以垂直於支撐方向之方向相對於中間部分支 撑’該靜態氣體軸承呈現於中間部分内壁與活塞之一外辟 間，該中間部分由第一部分爭行於支撐方向支撐，同時二 塞繫結於第二部分。 依據本發明之石版印刷裝置應用於此目的，其特徵在於 其内所用之每一支撐裝置係為依據本發明之—支撐裝置。 。在此註明該詞、、圓柱形内壁，，係意指—内壁再垂直於支 撐方向之任一假設平面内具有相同橫截面積。如此不僅涵 蓋圓形橫戴面積，舉例來說亦包含一等邊多邊形之橫截面 積。 ’、 如述靜態氣體轴承大致不對活塞施加平行於支樓方向之 力量。此外，活塞適合作為活塞外壁與中間部分内壁^ ::封間隙裝置以封鎖氣壓彈簧之壓力室。此:: 行於支撑方向之力量。依據以 d;壓彈菁之-剛性決定，藉此 弹簧之一適當設計使支撐裝置平行於逐、乱壓 到盡可能地低。因此，依據本、牙向之一剛性達 依據本發明應用於其内裝置内、由 連同構架構成之質量彈 座至構架平行於支擇方向之振U逆從而近可能避免自底 依據本發明之一支撐裝置之—特殊實施例之特徵在於其 C··XProgram i'iles\Patent\55256.ptd i'TTj' 五、發明說明（5) ㈣匕氣體轴承具有一氣體供給線路與麼力室連通。靜態氣 、軸承無須使用自該氣體供給線路而來之進一步氣體供 ^、i因此提出其内所用活塞及靜態氣體軸承之一特別簡單 ，巧本發明之—支撐裝置之另一實施例之特徵在於中& ^刀藉由一另一靜態氣體轴承相對於第一部分平行於支撐 向支撐，中間部分藉由該靜態氣體軸承以垂直於 可能性在第-部分之-支撐表面上方受導引 。=軋體軸承就平行於支撐方向而言具有一非常高之剛 ，因此另一靜態氣體軸承之出現對支撐裝置平行於 彈致不構成影響’因為後者係大致全然由氣‘ 加垂直態氣體轴承大致不對中間部分施 實鈀例在垂直於支撐方向之方向内具有大致另 =°由依據應1於其内之此另—實施例之支標$ = =石版印刷裝置組件連同構件所構成之質量彈 撐方二員ί因而在依據本發明之石版印刷裝置内垂直於支 於支撐裝置之振動傳送。 _至構条垂直 依據本發明一支撐裝置之一另一實施例之 =態氣體軸承呈現於第—部分支撐表面與界定愿力室= 底壁㈤。另一靜態氣體軸承因而： 力至内之-優勢氣體廢力平行於支禮方向m C:\Program Files\Patent\55256. ptd 第 11 頁 五、發明說明（6) 預技力裝置且提供一簡單構造 f—靜態氣體軸承 另—靜態氣體軸承 一依據本發明— 靜態氣體軸承且古一二之一特殊實施例之特徵在於另一 氣體軸承無須；用供給線路連通壓力室。另-靜態 給，因此提出 體供給線路而來之進一步氣體供 依據本發匕；2體抽承之-特別簡單構造。 分包括一通道， 二4之另—實施例之特徵在於中間部 之—主室連通藉此通道與第一部分内之氣壓彈簧 因而降低氣壓彈；平；；=致增加氣塵彈簧之容積， -步使配置於中間 咖支撐方向之剛性。纟室之使用進 置換中間A a σ刀内之壓力室之容積減少，因而使可 二，π /刀必須僅有限度内之尺寸。 位於中間n支撐裝置之—另—實施例之特徵在於通道 -通道與位於第一部分支推表面内之-另 用力室與主室間一簡單而使用之連接，導 Z Π 4刀洗垂直於支撐方向而言大致不受干涉力量。 if Μ ί本發明一支撐裝置之一特殊實施例，其中另—靜態 ^由承呈現於第一部分支撐表面與界定壓力室之中間部 底壁之間，且其中另一靜態氣體軸承具有一氣體供 線，連通壓力室，該實施例之特徵在於另一靜態氣體軸 承之氣體供給線路包括中間部分底壁内之通道。底壁内之 通道因此具有一雙重功能，藉此達到另一靜態氣體軸承與 其内所用氣體供給線路之一特別簡單且實用之構造。

第12頁 C:\Prograra Files\Patent\55256. ptd 五、發明說明（7) 依據本發明-支撐裝置' 結構件繫結於:第二；：一例之特徵在於活塞 沒方向内大致為 分，該連結構件扁車丄 垂直·彎曲軸彎曲。該連對垂直於支撐方向之：相： 對垂直於支擇方向—轉動使用盡可能避免第—部八 =由於此種第—部分轉動振動，動振動傳送至第二部刀 連、、·°構件具有對該彎曲軸之二ρ在運作期間為較小，者該 部分之轉動振動已然有 艮J内彎曲剛性，則該第二 撐方向内為大致不可變J，^。由於連結構件在平行於支 裝置平行於支俨方 7 ’連結構件之出現大致不對支产 依據:發產生影響。 以律 構件包括-橡膠環。橡膠環特徵在於連結 簡單構造，伴同對多數庫用衣供連結構件之一特別 彎曲剛性。 α用而5足夠之限度内連結構件一 =明將參照以下圖式詳細說明，圖式中： 圖2::n發明之-石版印刷裝置， L^概略顯不圖1之石版印刷裝置，及 之^概^本/圖明:^於圖1石版印刷裝置之一支標裝置 由：明顯不於圖1和2中之石版印刷裝置適用於製造 :版2裝置依序於平行於一垂直z方向具有一定位斤 =基體托架3、-聚焦單元5、另—定位裝置7與—光罩 '、及—放射源11。該石版印刷裝置係一光學石版印 C:\Program Files\Patent\55256. ptd 第13頁 刷裝置，其中放射源u包括一光源13、一光攔15、及反射 鏡Π和19 ;㈣聚焦單元5係—成像或投影系、统，其具有 一光學透鏡系統21與平行於2方向之一光學主軸23及一光 于減縮係數、舉例來說為4或5。基體托架3包括一支撐表 面25垂直於z方向延伸且可於其上放置一半導體基體27， 且:相對於聚焦單元5平行垂直於z方向之—χ方向移動， 且藉由定位裝置1平行垂直於χ方向且垂直於ζ方向之一¥方 向。光罩托架9包括一支撐表面29垂直於ζ方向延伸且可於 其上放置一光罩31，且藉由另一定位裝置7可相對於聚焦 單元5平行於X方向移動。 半導體基體27包括大量欄位33，攔位上具有相同半導體 電=，同時光罩31包括一單一積體半導體電路之一圖樣或 一次圖樣。在運作期間，半導體基體27之個別攔位33連貫 經過光罩31曝光。源於光源9之一光束35在一曝光步驟期' 間經光攔15與反射鏡17、19導引通過光罩31且藉由聚焦單 元5聚焦於半導體基體27之一個別欄位33，使光罩3丨上呈 現之圖樣以一縮小比例成像於半導體基體2 7之該攔位3 3 上。依循熟稱、'步進掃描（s tep and scan) ”原則之一成 像法應用於所示石版印刷裝置中，其中半導體基體27與光 罩31在一曝光步驟期間分別藉由定位裝置1及另一定位裝 置7相對於聚焦單元5平行於X方向同步移動，且在一個別 攔位33之一曝光後將半導體基體27之下一攔位33帶入相對 於聚焦單元5之定位’每次該步驟中基體托架3:藉由定位裳 置1平行於X方向及/或平行於γ方向步進移動。光罩31上

C:\ProgramFiles\Patent\55256.ptd 第 14 頁 ‘發明說明（9) 圖樣因而平订於χ方向掃過且成像於半導體基體π 同圖Jit33上。此程序重複許多次，每次使用包括-不 处槿二圖樣之一不同光罩，藉此得以製造具有複雜層 :細邱f:半導體電路。此種結構具有落在次微米範圍内 -欠微i r 2。光罩上呈現之圖樣或次圖樣因此應亦以落在 内之精確度成像於半導體基體上…意味著 定二ί ^定t裝置1與另一定位$置7相對於聚焦單元5 求。▲體托架3與光罩托架9之精確度受到非常嚴格之要 ^^進-步所示，石版印刷裝置包括一底座^可放置 上。石版印刷裝置進一步包括-構架39平行 靼-直支撐方向支撐基體托架3、％焦單元5、及光罩托 Μ，該支撐方向平行於2方向延伸。構架 ：： 1=屬Λ板41，該板橫越聚焦單元5光學主⑽延伸 且，、有圖1中未不之一中麥弁植择卩目 # «9 - ^ ^43 ^ J ^ # ^ 伸且藉由三垂直懸吊板45自主板“之—下部側縣吊方向在延此 中僅局部可見三懸吊板45其中之二。”單元在5萨 -二置環結於主板41，該環繫結於聚焦單元5鄰接a 9可移動地在構架39之另—承座49上 構平打於X/向延伸。另-承座49繫結於 =;:ΐίί剛硬金屬板51，該柱繫結於主㈣上。 撐構㈣，該支撐裝置相互以:；於…向支

Fa馮一二角形且每一支撐裝 C:\Prograin Files\Patent\55256. ptd 第 15 頁 五、發明說明（10) 置對構架39之主板41施加平行於支撐裝置之一支撐力。主 板U因此之故具有三角落部分55，主板41藉此角落部分架 於三支撐裝置53上。在此註明圖】中僅可見主板41三角落 部分55其中之二及三支撐裝置53其中之二。 如圖1所示、及圖2概略所示，定位裝置j包括一第一部 分57和一第二部分59，同時另—定位裝置？包括一第一部 分61和一第二部分63。第—部分5?和61分別繫結於基體托 及光罩托架9 ’同時第二部分“和㈡繫結於底座37。第 一部分59和63在運作期間分別對第一部分57和61施加驅動 力，第一部分57和61據此分別對第二部分59和63施加反作 用力。如圖1可見，定位裝置i之第二部分59繫結於一較剛 硬金屬臂65、該臂繫結於底座37，|定位裝置7之第二部 分63繫結於另一較剛硬金屬柱67、該柱亦繫結於底座37。 定位裝置1與另一定位裝置7之反作用力因此傳送至底座 37。底座3 7内之振動在該反作用力之影響下產生。由於底 座37係放置於一樓板上，底座37内之振動亦會在樓板内所 呈現振動之影響下生成。運作期間呈現於底座内、通過支 撐裝置53進入構架39之一振動傳送必須盡可能避免，因為 構架39平行於垂直支撐方向支撐基體托架3、光罩托架g、 及聚焦單元5，且因為可分別藉由定位裝置丨與另一定位裝 置7相對於聚焦單元5定位之基體托架3與光罩托架9之精確 度叉到非常嚴格之要求。支撐裝置53因此之故具有在下文 中更加詳細說明之裝置以避免自底座37進入構架39之一 動傳送。

C:\Program Files\Patent\55256. ptd 第16頁 五、發明說明（11) 如圖3所示，依據本發 置之支標裝置53包括—第—二據本發明石版印刷裝 裝置之底座37，一第二部°刀 其可繫結於石版印刷 之構架39，及一氣壓彈；刀结於石版印刷裝置 方向之一支撐力相對；以藉由平行於垂直支擇 彈簧73包括-壓力室75 :二二部分71。氣麼 體壓力。壓力室75由支撐铲置5月二：：：呈現-較高氣 圓柱形内壁77與在中間部二二中二= 之--活塞81界定。活塞δ1包括 二：：支f方向移動之 85相對於中間部分79垂直於支撐^:!氣體軸承 :間部分79圓柱形内壁77與套筒83一。形=。現： 軸，就其自身而言係習知之-:承 ㈡；路⑼位於套筒83内且連通麗力室75。 = 線糊之使用達到對靜態氣體軸承85之 81且有；-二：虱體供給，使靜態氣體軸承85與活塞 之構造。鄰接套筒83之-下部側91， 87門巧f置93呈現於中間部分79内壁77與套筒83外壁 87間用精此盡可能避免自壓力室加活塞8ι之一氣體泡 =。用以使氣體沿密封間隙93戌漏及自靜態氣體轴承85流 溝95介於密封間隙93與靜態氣體軸秘間，位於 f削3外壁87内。阻溝95與中間部分79内之—些排氣道97 連通:以將出現於阻溝95内之氣體排至外周環境。阻溝95 與排氣道97之使用避免靜態氣體軸承85之運作受沿密封間 隙93洩漏之氣體影響。由支撐裝置53施加平行於垂直支撐

體施加於套筒83環形 之一内壁99之一氣體 方向之支撐力因此為由壓力室75内氣 下部側91與活塞8 1橫越支撐方向延伸 力。 於邱所活Λ81經下文中詳述之—連結構件101繫結 ，第一 4刀71，同時燒杯狀中間部分79藉由另—靜熊 軸承103相對於第一部分69平行於垂直支撐方向支撐·'。另 二，態氣體軸承103就其自身而言係習知之一圓錐形間隙 ，承，且呈現於第一部分69垂直於垂直支撐表面延伸之一 ^撐表面105與中間部分79一底壁1〇7間，該底壁界定壓力 室75且亦垂直於垂直支撐方向延伸。燒杯狀中間部分79於 第°卩刀69支撐表面丨〇5上方藉由另一靜態氣體軸承大 致無摩擦地受導引，且因此可大致無摩擦地以垂直於垂直 支撐方向之方向相對於第一部分69移動。氣壓彈簧73之一 ^道109位於中間部分79底壁107之中央。通道1〇9與第一 部分69支撐表面1〇5内氣壓彈簧73之另一通道U]L相對，且 連通配置於第一部分69之氣壓彈簧73 —主室113。中間部 分79内之氣壓彈簧73壓力室75因此經由通道1〇9及另一通 道ill而與第一部分69内之氣壓彈簧73主室113連通。如圖 3所示’另—靜態氣體軸承1 〇 3之圓錐形軸承間隙直接併入 中間部分79底壁107内之通道109内，使通道1〇9在此同時 為另一靜態氣體轴承103構成一氣體供給線路連通壓力室 75。由於中間部分底壁〗内之通道1〇9因此具有一雙重 功此’是以獲得另一靜態氣體軸承丨〇 3與其内所用氣體供 給之一特別簡單而實用之構造。由於另一靜態氣體轴承

五、發明說明（13) 現^1第問一部分69支擒表面105與中間部分79底壁107 ΐ：： 3^?Λ7Λ« — - -^ 之畜接千/於垂直支撐方向一簡單而實用預拉力 體平二W ί Γ %氣體軸承10 3 ®錐形轴承間隙内之氣 施加於中間部分79之-支擇力由壓力 至了5 體以反向於該支撐力施加於底壁1〇7之 幅度地抵銷。不管另—靜能a 置大 ^ « Μ ^ ^ ^ J ^} ^ 壓力室4 ΐ1—07表鄰面近積轴：J隙之-表面積大於底壁107鄰近 刀至之表面積而成為可能。 依據本發明應用於依據本發$ $ & @ ^ & 置氣塵彈簧73連同構架39與====置内之支撐裝 組件共同組成一質量彈簧系 ：：刷裝置 ”平行於垂直支標方向及垂直於垂=3方9::於底座 相對於底座37繞平行於垂直支捭方撐：：移動，且可 可繞垂直於垂直支樓方向方向之一轉動軸轉動’且 活可在=部敝 39相對於底座37垂直於支撑方向’同時構架 53之中間部分79可相對於第—部八此在於支撐裝置 動。構架39繞平行於支撐方向之於支撐方向移 支撐裝置53之中間部分7 9透過使用 動可能在於 可相對於第一部分69繞平行於一靜L氣體軸承103 構架39繞垂直於支撑方…“==置

I C:\Program Files\Patent\55256. ptd 第19胃

所示，每-連構：1繫結於第二部分71。如圖3 不平行於支二簡單橡膠環115 ’該環大致 直贊曲軸能對垂直於支樓方向之兩相互垂 送，該= 第二部分71之—振動傳 向、環繞平行= = : =支撐方向、垂直於支撐方 之該樞軸等而古具動軸、及對垂直於支撐方向 置53在平行於；撐方：直= ：即支撐裝

及環繞垂直於支標方；之二 η具有盡可能低之一剛性。 J 賦Ϊ =以5一= 之::低可能剛… ’其中該主室與壓力室 75連通。主室113之使用讓麗力室75之容積 =至 能，使可移動中間部分79之尺寸與重量维成為可 氣壓彈簧73之一氣體供給道（圖中未 1=1二 ' 限度内。 内之-平均氣體壓力擊定Q、中能未連 依據本發明之壓力室75係由中間部八7q ^由於 軸承85可移動地導引之活塞81界^，支撐。由靜態氣體 撑方向之剛性大致全然由氣壓彈簧?3之二 平 不對活㈣施加摩擦力。支撑裂二 =

性大致不受連結構件1G1之出現影響、該構件Λ不W

五、發明說明（15) 於支撐方向變形 之出現影響、此 高之剛性。由於 然由氣體軸承7 3 當設計將會達到 免支撐裝置53自 之振動傳送。 支撐裝置53中 致無摩擦地在第 味著支撐裝置53 零’同時前述石 之自然頻率亦大 及第二部分71垂 避免。 ，且此剛性亦不受另一靜態氣體轴承丨〇3 軸承就平行於支撐方向而言亦具有一非常 支撐構件53平行於支撐方向之剛性大致全 ，剛性決定，壓力室75與主室113之一適 氣壓彈簧7 3之一夠低剛性，從而盡可能避 第一部分69至第二部分71平行於支撐方向 間部分7 9藉由另一靜態氣體軸承1〇3可大 —部分69支撐表面丨〇5上方移動之事實意 在垂直於支撐方向之方向内之剛性大致為 版印刷裝置質量彈簧系統垂直於支撐方向 ，為零。自底座37及第一部分69至構架39 於支掠方向之一振動傳送藉此大致全然 支挣裳置5 3環繞平行於支撐 亦大致為零，S為支撐裝ϊ53之之-轉動軸之剛性 體軸承103之使用而可大致 H分79因另—靜態氣 面⑽上方轉動’藉此亦大部分69支撐表 於支撐方向延伸之一轉動：二然避免第-部分6 9對平行 之第二部分71。 之轉動振動傳送至支撐裝置53 應用於連結構件i 〇1内之 該彎曲軸具有一限度内彎曲剛性故"=直於支擇方向之 於支撐方向之一樞軸之轉動 ^由於第—部分69對垂直 較小’自支撐裝置53第—部二 5作期間大致不存在或 刀69至第二部分71之此種轉動

五、發明說明（16) ' ^ 振動傳送足以透過具有限度内彎曲剛性之該橡膠環1 1 5之 使用而有效避免。然而在此註明，若需要一較小彎曲剛性 連結構件’或是甚至不要一限度内彎曲剛性連結構件，則 可能使用一另一種連結構件取代具有橡膠環丨丨5之連結構 件101。因此，舉例來說可能使用一球節，其舉例來說具 有一靜態氣體軸承以取代橡膠環115。 、 如前文所述’支撐裝置53之第二部分71可相對於第一 分69在平行於支撐方向及垂直於支撐方向之方向内移動: 且可繞平行於支撐方向之一轉動轴轉動，且可繞垂直於 撐方向之兩相互垂直柩軸轉動。在此註明依據本發明之 撐裝置53或石版印刷裝置可能具有避免或限制此種移動、 轉動、及樞動之裝置。目此舉例來說，可能提供一 介：第一部分69與第二部分71間。當就其自身而 S 〇之一勞倫茲（Lorentz)力引動器系統介於第—

Hi:部分71間使用則獲得一有利構造。由於此種勞 器為無接觸，此種勞倫兹力引動器不自第-： 置内夕可振動至第二部分71。依據本發明石版印刷妒 倫兹力撐裝置53舉例來說每一支撐裝置均具有-對勞 ;動号d，在此案例中三支撐裝置53之三對勞倫兹力 勞倫G引i;且Γ者中上考數字117概略性象徵此-對 動器合作以測量第二部分71之加速度。 #進掃描〃原則之—成像法應用於前述依據

五、發明說明（17) 本發明石版印 "步進掃描" 與半導體基體 元之恆定位置 構架3 9不僅 版印刷裝置内 亦關於基體私. 支撐之石版印 印刷裝置内佔 明支撐裝置支 置。 刷裝置中 原則之一 在半導體 支撐聚焦 之基體托 架與光罩 刷裝置。 用一精確 撐之構架 。在此註明本發明亦關於使用依循 成像法之石版印刷裴置，其中光罩 基體曝光期間維持在相對於聚焦單 單元5亦支撐前述依據本發明石 架3與光罩托架9。在此註明本發明 托架由石版印刷裝置其他支撐部分 ί ί至夕聚焦單元必須在此種石版 =位置，本發明關於由依據本發 V支撐聚焦單元之石版印刷裴 在此另外註明依據本發明之一 石版印刷裝置，且舉例來說亦可庠：不僅可應用於- 及其他由支撐裝置支擇某機、 機器或裝置。 匕避免振動傳送之 在此最後註明本發明亦涵蓋 部分一固定位置之支撐裝置。 部分至第二部分垂直於支撐方 但舉例來說若垂直於支撐方向 用中為可忽略地小，則此一傳 中間部分繫結於相對於第一 於此一支撐裝置中，自第一 向之一振動傳送並未避免， ^振動在支撐襞置之某些應 V可能屬可容許性。

C:\Program Files\Patent\55256.ptd

Claims (1)

1. 六、申請專利範圍 A^ —種支撐裝置，其具有一第 氣屋彈簧備有 方向支撐第二 分之裝置，其 一圓枝形内壁 於支撐方向移 垂直於支撐方 與活塞一外壁 部分 第 做支撐 2 -如 氣體軸 3.如 部分藉 支撐方 直於支 方導引 4 ·如 靜態氣 間部分 5. 如 靜態氣 6. 如 部分包 彈簧之 ，同時 申請專 承具有 分 至以相對於第—部分而在平行一支樓 及避免振動自第一部分傳送至第二部 於壓力室由支撐裝置之—中間部分之 塞界定，該活塞可在中間部分内平行 由靜態氣體轴承相對於中間部分以 向支樓’該軸承呈現於中間部分内壁 中間部分由第—部分平行於支撐方向 固定於第二部分。 第1項之支撐敦置，其特徵在於靜態 供給線路以與壓力室連通。 第1項之支撐裝置，其特徵在於中間 氣體轴承相對於第一部分而在平行於 間，分藉由該另一靜態氣體軸承以垂 可能性而在第一部分之一支撐表面上 利範圍第^項之支撐裝置，其特徵在於另一 呈現於第一部分支撐表面與界定壓力室之中 壁之間。 :5圍第1項之支撐裝置’其特徵在於另-具氣體供給線路以連通壓力室。 2 fe圍第0J頁之支撐裝置，其特徵在於中間 =，壓力室藉由該通道以與第一部分内氣壓 連通。 壓力 部分、 特徵在 及一活 動且藉 向之方 間，該 該活塞 利範圍 一氣體 申請專利範圍 由一另一靜態 向做支 撑方向 〇 申請專 體轴承 之一底 申請專 體轴承 申請專 括一通 一主室 撐，中 之移動

   位於令間= 2 圍第6項之支撐裝置’其特徵在於通道 與主室遠，3；刀_壁内’且併入位於第一部分支撐表面内及 g 哽通之另一通道。 靜態氣之支撐裝置，其特徵在於另-'底壁‘内之通道。供給線路，該供給線路包括中間部 藉由~ I I ^利範圍第1項之支撐裝置，其特徵在於活塞 支撐方向I鉍件^固定於第二部分，該連結構件在平行於 直彎曲軸線彎曲。 且此對垂直於支撐方向之兩相互垂 10.如申請專利範圍TS 構件包括一橡膠環。 員之支撐裝置，其特徵在於連結 1 ’ 種石版印刷裝置，A 架、一聚隹單元且有—士/、具有一放射源、一光罩托 可相對於$ I& +軸、一定位裝置備有一基體托架 在平行平行於與主轴呈垂直之一x方向且 構架至少;平於呈垂//垂直於f轴之一 Y方向移動、一 由至少#方向支撐聚焦單元，及一底座藉 支撐裝置個別對構架施加平行於支擇方向之—支 y支撐構架，其特徵在於每一支撐裝置係為申請專 '2、3、4、5、6、7、8、9或1〇項中之一支撐裝

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