TW309660B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW309660B
TW309660B TW85105895A TW85105895A TW309660B TW 309660 B TW309660 B TW 309660B TW 85105895 A TW85105895 A TW 85105895A TW 85105895 A TW85105895 A TW 85105895A TW 309660 B TW309660 B TW 309660B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
light
thin
item
reflection
Prior art date
Application number
TW85105895A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Nippon Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co filed Critical Nippon Electric Co
Application granted granted Critical
Publication of TW309660B publication Critical patent/TW309660B/zh

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Description

309660 g; 五、發明説明(,) 葙明背暑 1.路明領城 本發明有Μ—種薄膜電晶體陣列,且特別地·有闞一 種使用於主動矩陣液晶面板中之薄膜電晶體(TFT)。 2 .翌用抟術說明 參照第5團與第6圓說明根據習用技術之一種使用TFT 陣列之液晶顯示元件。第5圈係一部分其上形成液晶顕 示元件之平面讕,而第6鼷係取沿著第5圖之線B- B之 截面圈。 於一使用薄膜霣晶β (TFT)為主動元件之主動矩陣液 晶面板中,使用—可於約3001C (300攝氐度)之相當低之溫 度形成之非結晶矽氧化物(a-Si:H) _或類似物為此TFT 之通道曆102 。當光線進入其係主動區之此通道曆之中 時,載體產生於此通道層102中,而當此電晶體闢閉(off) 時,此等載體造成一漏電流而增加了閫閉霣流。此關閉 霉流之坩加,導致顯示器等等之不規則而大大地惡化了 主動矩陣液晶顬示器之顬示器品霣。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此,一般而言,藉由提供於對面基體上之黑色矩陣 層122來遮蔽TFT之光媒,但此係於一種如在一投射式顯 示元件中所見到之強光之條件下,卻存在一問鼯即入射 光102由於TFT中使用之金屬_與黑色矩陣曆122間之反 射而迂酒進入通道曆102之中,如第6 _中由線141之所 示 〇 另一方面,由於為了改菩光線實用效率而要求使孔徑 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 _ B7 五、發明説明(> ) 效率較高,故期望製作較小之黑色矩陣曆122或去除此 黑色矩陣曆122 。於此情況中,需要遮蔽在此陴列基《 上之光埭Μ防止當入射光線進來時,闞閉霣流之增加。 所Μ, —光蔽瞋105被提供於此TFT之上。 此结構之液晶面板由胞加一 «埸於玻璃基體1〇〇上所 K置之像素霣極106與其對面配置於玻璃基«120上之m 極121之間,來控制液晶130之狀態以開啟(on)與闞閉( off)傳輸於此之光線。 此液晶面板之製程將描述於下文中。於一由鉻(Cr), A1 (鋁)等等之金靨膜所構成之Μ極電檯在玻璃基體 上被製作圖案之後,一閘極絕緣膜11 4, 一由本質半専體 非结晶矽(下文稱為” a-SiU)”)所構成之通道曆102, — 由η型半導體非結晶矽(下文稱為"a-SiUO”)所構成之 接觸層107依序地形成於此玻璃基體100之上。然後·一 洩極電極1 0 3 ,—源極«極1 0 4 ,—由路,鋁等等之金鼷膜 所構成之影像信號線112, Μ及一像素電極106形成於此 玻璃基體100之上,而其後,形成一被動膜(Passivation fil»)115 Μ及接著形成一光蔽瞑101而作成一 TFT陣列之 基體。於對面基體側中,一相對電極121形成於另一坡 璃基傾120之上。最後,定位M (orientation filns)( 未圈示)分別地形成於TFT陣列基體及對面基體上。然後 ,轨行定位通程於此睹定位膜。於一封合鼷案形成於其 上之後,諸基體相互叠曆且使硬化,液晶130被注入於 此等基體之間,然後,封合此注入孔。因而,完成一液 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公f ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 309660 Α7 Β7 五、發明説明(3 ) 晶面板。 液晶顬示元件則藉由加上一僱極化層,一驅動霣路, 一外般等等於此液晶面板而製成。 然而,於此液晶面板中,一由鉻等等之金靨膜所構成 之黑色矩陣曆122配置於對面之基體上Μ改菩顯示器之 品質。 形成閜極電極101Μ自掃描信號線U1分支出來Μ及形 成洩極電極103Μ連接於一影像信號線112。亦即,如園 示,一圔案被形成使得掃描信號線U1與影像信號線112 可相互垂直交叉且彼此絕緣。一 TFT被配置於此相交部 分之上,«極電極101連接於掃描信號媒111,以及洩極 電極連接於影像信號媒112 。於第5圖中之平面圖顯示 一半専體瞑10 2, 一洩極霄極1〇3,—源極電極104,—光蔽 膜105,—像素電極106,Μ及一郾接之影像信號線112,惟 省略了其他零件。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 論及使用一主動矩陣液晶面板為投射式顯示元件,光 線從玻璃基Κ120之側邊施加,此基«上係形成相對電 極者。從玻璃基體120之側邊所胞加之光線141由此光線 進入側對面之玻璃基體100之内部面反射且由源極電極 104,洩極電極103等等之金鼸膜反射,然後由黑色矩陣層 122反射之後,结果光線141進入通道層10 2,此層為一主 動區。光蔽_1〇5形成而«由經遮蔽人射光線來抑制醑 閉(off)«流之增加Μ防止顧示器之品質惡化。 躭光遮蔽效應而言,存在一種情況其中此一作為金國 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印聚 五、發明説明( 4 ) 1 1 膜 之 導 電 性 物 質 或 半 導 體 膜 以 及 一 種 情 況 其 中 絶 緣 樹 1 1 脂 膜 被 使 用 於 一 光 蔽 膜 而 提 供 在 上 述 T F T陣列基體之上。 1 1 論 及 使 用 — 高 度 導 電 性 金 屬 膜 為 一 光 蔽 膜 10 1 , 則 存 在 請 1 先 1 下 逑 之 兩 個 問 題 〇 閱 1 第 一 個 問 題 偽 雜 散 電 容 形 成 於 洩 極 電 極 與 源 極 電 極 之 背 1 I 之 1 間 i 當 存 在 雜 散 電 容 時 9 即 使 TFT 關 閉 > 由 於 在 影 像 注 意 1 I 信 號 線 上 之 信 號 透 過 洩 極 電 極 一 (雜散電容) 一 光 蔽 膜 _ 拳 項 1 I 再 1 (雜散電容) — 源 極 電 極 — 像 素 電 極 而 傳 輸 > 此 雜 散 電 容 填 寫 本 導 致 像 素 電 極 電 壓 之 改 變 因 而 覺 度 不 規 則 且 交 叉 失 真 頁 1 I 發 生 » 因 此 惡 化 了 顯 示 器 之 品 質 〇 1 1 所 以 » 為 了 減 少 雜 散 電 容 i 已 掲 示 有 種 組 合 其 中 由 1 I 金 屬 膜 所 製 成 之 光 蔽 膜 被 分 別 提 供 9 例 如 由 曰 本 未 審 1 訂 査 專 利 公 告 (公開)案 號 第 6 4 -4 2 6 3 4 所 提 出 〇 此 技 術 減 少 1 雜 散 電 容 至 若 干 程 度 « 但 並 非 兀 全 地 〇 1 1 I 第 二 個 問 題 傜 經 電 氣 充 電 之 光 蔽 膜 會 導 致 T FT工作電壓 1 1 改 變 使 顯 示 器 之 不 規 則 性 發 生 〇 因 此 * 為 了 防 止 電 氣 充電 1 1 之 現 象 > -種連接此光蔽膜與- -掃描信號線或- -影像信號 f I 線 之 技 術 已 由 曰 本 未 審 査 專 利 公 告 (公開)案 號 第 6 3 - 1 I 2 7 6 0 31號提 出 〇 钬 而 * 此 技 •UT m 具 __* 問 題 即 比 較 於 未 執 行 1 1 此 種 連 接 之 情 況 9 其 雜 散 電 容 會 增 加 且 惡 化 顯 示 器 之 1 I 品 質 而 無 法 解 決 第 一 個 問 題 〇 1 1 論 及 使 用 . 半 導 體 膜 為 此 光 蔽 膜 時 9 雜 散 電 容 會 變 得 1 1 較 少 » 但 其 遮 蔽 效 應 亦 會 變 得 較 少 於 金 屬 膜 〇 1 I 例 如 , 於 曰 本 未 審 査 專 利 公 告 (公開)案 號 第 2 - 3 0 8 1 3 1 1 1 3 - 1 2 3 3 2 0 ,4 -8 6 8 0 9 號 中 已 掲 示 之 使 用 ___. 絶 緣 樹 脂 膜 為 1 1 - 6 - 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(2丨0X29*7公釐) A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( ) 1 1 光 蔽 膜 之 技 術 * 但 它 們 具 有 —. 問 颶 即 因 為 光 蔽 m 之 厚 度 1 1 太 厚 参 其 厚 度 控 制 與 圈 案 控 m 之 準 確 度 較 差 1 且 由 其 不 1 | 規 則 之 厚 度 與 1 案 製 作 所 導 致 之 不 規 則 定 位 會 造 成 顯 示 請 1 I 器 之 品 質 惡 化 〇 先 閱 1 I ik 1 | 再 者 » 一 種 已 由日本未審 査 専 利 公 告 (公開) 案 號 第 3 - 27 背 1 I 技 之 1 4028 號 揭 示 9 作 為 抑 制 在 顯 示 面 板 内 部 光 反 射 之 術 之 意 1 I 構 成 • 其 中 光 學 抗 反 射 膜 形 成 於 對 面 之 基 « 上 〇 於 此 事 項 1 I 再 1 1 構 成 中 因 為 光 學 抗 反 射 膜 係 形 成 於 對 面 之 基 體 上 * 所 填 基 體 本 以 存 在 —* 問 颶 即 參 假 如 當 此 TFT 陣 列 基 體 與 此 對 面 頁 1 相 互 叠 曆 而 於 其 間 生 成 滑 動 時 光 線 會 直 接 進 入 通 道 1 1 部 分 之 中 0 且 因 為 需 要 加 寬 光 學 抗 反 射 膜 之 面 積 去 除 1 I 層 暦 滑 動 之 效 應 » 故 與 光 蔽 膜 配 置 於 TFT 陣 列 基 體 上 之 1 1 倩 況 相 比 較 * 其 孔 徑 效 率 降 低 係 無 可 避 免 的 〇 訂 ! 而且 9 __‘ 由 導 電 性 物 質 所 構 成 之 光 吸 收 層 經 由 一 絕 緣 ! | 層 而 配 置 於 膨 像 信 號 線 上 之 結 構 已 揭 示 於 Β 本 未 審 査 專 1 1 利 公 告 (公開) 第 5- 24 1 199 號 〇 然 而 * 此 為 _* 種 用 於 防 止 1 I 由 一 接 線 所 反 射 之 光 線 進 入 像 素 中 而 造 成 假 信 號 之 技 術 Ϊ 1 1 無 法 減 少 Μ 閉 電 流 〇 1 1 明 概 pft 1 | 本 發 明 之 Β 的 係 提 供 — 種 薄 膜 電 晶 饈 陣 列 • 其 防 止 一 ! I 反 射 於 液 晶 面 板 內 部 之 光 線 進 入 通 道 m 9 且 抑 制 由 配 置 1 1 一 導 霄 性 光 蔽 m 於 TFT上所導致雑散堪容之增加 0 1 I 於 根 據 本 發 明 之 薄 祺 霣 晶 Η 中 t . 由 相 同 於 光 蔽 膜 之 1 1 物 質 所 製 成 經 由 絕 緣 曆 配 置 7- 於 半 導 Η 曆 上 之 抗 反 射 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(2丨0X 297公釐) A7 3 ΰ 3 6 6 Ο Β7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印取 五、發明説明 ( b ) 1 1 m 係 經 由 一 m 緣 m 而 配 置 於 此 薄 m 電 晶 體 之 源 極 極 與 1 1 洩 極 霄 極 上 参 其 中 此 半 導 體 曆 係 —- 薄 膜 霣 晶 Η 之 主 動 1 I 較 佳 地 » 光 蔽 m 與 抗 反 射 膜 係 由 非 结 晶 矽 製 成 倉 且 更 請 1 1 I 佳 地 9 係 彼 此 分 別 地 形 成 〇 先 閲 1 I 1 1 光 蔽 膜 與 抗 反 射 膜 可 由 相 同 之 nan 圖 案 製 作 方 法 由 相 間 背 1 I 之 1 之 層 製 成 〇 意 1 I EL 式 簡 事 項 1 1 再 1 1 第 1 圈 係 本 發 明 之 平 面 nai m 導 第 2 1 係 沿 第 1 圖 之 線 A- A所 取 之 截 面 圓 • 顯 示 本 本 頁 裝 1 發 明 之 第 一 實 施 例 » 1 1 第 3 圖 係 沿 第 1 麵 圔 之 線 A- A所 取 之 截 面 圖 9 顯 示 本 1 I 發 明 之 第 二 實 施 例 t 1 1 第 4 nan 圈 係 沿 第 1 nai 圆 之 媒 A- A所 取 之 截 面 ΠΒΠ 圖 9 顥 示 本 1 丁 1 發 明 之 第 三 實 胞 例 ! 1 I 第 5 ran 國 係 習 用 技 術 之 平 面 面 · 圈· Η 及 1 1 第 6 圔 係 沿 第 5 圈 之 線 B- B所 取 之 __- 截 面 圈 〇 1 I 較 伴 竇 例 說 蓋 奴 I 參 照 第 1 圔 與 第 2 鼷 » 說 明本 元 件 之 構 成 與 製 法 於 下 1 1 文 中 〇 1 1 於 製 作 — W 極 霣 極 101與 由 —* 鉻 (Cr ) 鋁 (A1 ) 等 等 之 金 ! I 鼸 瞋 所 構 成 之 掃 描 信 號 線 之 nm 圈系於 —· 諸 如 玻 璃 基 體 之 透 1 1 明 絕 緣 基 體 100上之後 一 m 極 絕緣膜] L14 , 一 由 本 質 半 1 I 導 Η 非 结 晶 矽 (下文 中稱為 ’a -S i ( I) 所 構 成 之 通 道 層 1 1 102 , Μ及_ 一由 >型半導體 非 ~ 8 结 晶矽 (下 文 中 稱 為 "1 J -S i 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4現格(210 X 297公釐) A7 _ B7 五、發明説明(7 ) (n + )")所構成之接觸曆107依序地形成於此玻璃基«100 上。然後,一洩極電極103,—源極霣極104,—由络(Cr) ,鋁(A 1 )等等之所構成之影像信號線11 2 , Μ及一由透明 導霣物質所構成之像素電極106形成於此玻璃基體100之 上。接著,形成一由氮化矽膜等等所構成之被動膜115° 然後,根據本發明,同時形成一光蔽臢105與抗反射多 層膜207及208W製作一 TFT陣列基體。 另一方面,於對面基體側之中.一相對«極121於一 由路(Cr)等之金靨_所構成之黑色矩陣層12 2形成於一玻 璃等之透明絕緣基體120上之後形成於此透明絕緣基體 120之上。 最後,定位膜(未圖示)分別地形成於此TFT陣列基體 與對面基體之上,然後,執行一定位法於此等定位膜,於 形成一密封鼷案於此等定位膜上之後,諸基體相互叠暦 且被硬化,注入液晶130於此等基體之間,然後•密封 此注入孔。因而,完成一液晶面板。 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 ---------}衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 於此實施例中如園示,光蔽膜105與抗反射膜207及208 係Μ如通道層102之相同a-Si(I)播由電漿CVD法製成,且 此等_相互分別獨立地形成。此等膜被製成300至50nB( 奈米)之厚度K實現光遮蔽能力。 躭使用此主動矩陣液晶面板為投射式顯示元件而言, 光線從玻璃基《120之側邊施加。於此情況中,如第2圏 中所示,從玻璃基體120之側邊所施加之光線140由此光 線進入側對面之玻璃基體100之內部面反射且由源極® 一 9 一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(《?) 極104,洩極電極103等等之金画膜反射,然後由黑色矩 陣層122反射之後,结果光線140進人通道層102,此靥為 一主動區。光蔽膜105形成而藉由遮蔽入射光線來抑_ 闞閉(off)鬣流之增加Μ防止顯示器之品質惡化。於此 實施例中,由於光蔽膜105係由a-Si(I)製成,躭使用此 液晶面板為投射式顯示元件而言,此光蔽縝105並不能 完全單獨地吸收朗著通道曆102進入之光線。 因此,會導致光媒反射於面板内部之a-Si(I)所製成 之抗反射膜207及208係與光蔽_105—起配置於源極霄 極104與洩極電極103之上。由於此等瞑,所以可減低面 板内部反射光媒強度,且藉由光蔽膜105可完全地封鎖 朝著通埴蘑102進來之光線。 與由金臑製成之情況相比較,由於光蔽瞑105與抗反 射膜207係由a-Si(I)製成,故可抑制洩極電極103與源 極® «104間雜敗«容之形成,且因為光蔽膜105與抗反 射多曆膜207係相互獨立形成,故更大輻度地滅低了雜 敗電容。 於此方式中,藉透過配置光蔽膜1 〇 5與抗反射_ 2 0 7於 TFT之上來防止入射光線進人通道層102之中,可減少關 閉(off)霣流且因而可改菩液晶顬示器之顯示器品質。 第3圔係本發明液晶顯示元件第二實腌例之截面圈。 其平面匾係相同於第一實豳例。於此實施例中,一第二 光蔽膜209與第二抗反射膜210及212係額外地分別形成 於光蔽膜105與抗反射_207與208之上。 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) ^^^1 n·^— vm /9 vm .^m ft Bm —Bn mmmtmi ^^^^1 ^^^^1 —h 0¾ 、v'口 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 — -..... ——-- 五、發明説明(9 ) 光蔽_ 105與抗反射膜207及208係由相同於通道JI 102 之a-Si(I> Μ相同於第一實施例之方式製成•而光蔽膜 209與抗反射賴210及212係由a-Si (NO製成,其中一諸如 磷等其為IX 10至20次方原子/立方公分或更高密度之η 型雑質被加入,相類似於接觸層107°而相類似於通道 腰1 0 2與接觸層1 〇 7之情況•形成光蔽膜1 0 5及2 0 9 * W及 抗反射_ 2 0 7及2 1 0與2 0 8及2 1 2係》由電嫌C V D法連鑛地 依序形成。此等光蔽鼸1〇5及209,Μ及此等抗反射賴207 ,208,210及212均透«相同之案製成方法形成。 根據此實豳例,由a-Si(n + )製成之厚度1〇〇至4〇〇nn( 奈米)之光蔽膜209與抗反射鎮210及212係分別地配置於 光蔽瞋105與抗反射W207與208之上。由於在與a-Si(I) 之比較上,此a-Si(n + )於諸如紅光之長波長範園中具有 一較低之透射率,故a-Si(n + >具有在長波長光線中改良 i·^^— ^^^1 i i I i I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 點 0 之 應 效 蔽 屏 光 • 1 示 S 顯a-例之 IgM *兩 述有 上具 地 曆 單 之 示 所 中 匾 4 別第所 分如中 膜 Μ 圔 射可 4 反亦第 抗膜, 與等即 _ 此亦 蔽但。 光),.理 中n+Jt 其i(來 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 與 9 ο 2 膜 蔽經 光線 各光 之於 示由 之 靥 單 | 有 具 膜 il.a-n+射α 與i(s e ) s t I I 抗 之 親 蔽 光 意 滿 人 令 可 化 變 而 光確 射別 入分 據來 根驗 係實 黴由 射藉 透地 進 媒 光 蔽之SKS «ulm )8^¾ 由 單 S内 ^ ^ 0 0^0 * " 81 二--Kd 顯 射述止 反上防 抗如來 與 上 -δ強是 Hii :a之定 ,入 長κ 波蔽 與光 度否 於 _ 射 反 抗 與 道 之中 FT之 卩層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) A7?>09βΒ0_五、發明説明(β ) 品優 器之 示 容 顯霣 之 敗 器 雜 示 間 顯 檯 晶 霉 液 極 了 源 菩 與 改 極 而 霄 因 極 且 洩 流 制 m 抑 閉 有 Μ 具 低 明 降 發 Μ。本 ,質 膜 蔽 光 之 曆 0 導 半 之 作 製 立 獨 互 相 且 別 分 由 。 藉膜 係射 其反 ,抗 點與 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公釐)

Claims (1)

  1. 2__ A8 BB C8 六、申請專利範圍 1. 一種薄_霣晶體陣列,包含: 許多數掃描信號線與許多數賁料信號線,配置於一 透明基體之上; 一薄瞑電晶體,配置於上述揷描信號線與上述資料 信號線之各交叉點; 一光蔽_,經由一絕緣膜而提供於上述薄膜電晶體 之一主動曆之上;K及 抗反射膜,經由一絕緣膜而提供於上述薄膜霣晶體 之源極與洩極電極之上。 2. 如申請專利範園第1項之薄膜電晶體陣列,其中上述 光蔽膜與上述抗反射膜係涸別地形成於半導體暦之外。 3. 如申請專利範園第1項之薄膜電晶體陣列,其中上述 光蔽膜與上述抗反射膜係相互分開形成。 4. 如申請專利範圍第1項之薄膜電晶體陣列,其中上述 光蔽膜與上述抗反射膜係藉使用供相同之層之相同圖 案製作方法來形成。 5. 如申請専利範園第1項之薄膜18晶體陣列,其中上述 半導體曆係非结晶矽者。 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 6. 如申請専利範画第1項之薄膜堪晶體陣列,其中一第 二光蔽膜與一第二抗反射膜係額外地個別形成於上述 光蔽膜與上述抗反射膜之上。 7. 如申請専利範園第6項之薄膜霣晶«陣列,其中上述 第二光蔽膜與上述第二反射膜係個別地形成於含一高密 度雜質之半導髓層之外。 -1 3 - 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X 297公釐) A8 B8 C8 D8 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 309660 申請專利範圍 8.如申請專利範園第2項之薄_電晶《陣列,其中一高 密度之雜質係摻雜於上述半導體層之中。 14 nn ml ^^^^1 ^^^/0 I In— ^^^^1 ^^—it fm ^ .¾ i (請先閱績背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Λ4規格(210X297公釐)
TW85105895A 1995-05-19 1996-05-18 TW309660B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12113095 1995-05-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW309660B true TW309660B (zh) 1997-07-01

Family

ID=14803625

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW85105895A TW309660B (zh) 1995-05-19 1996-05-18

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR100242034B1 (zh)
TW (1) TW309660B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100759977B1 (ko) * 2001-08-20 2007-09-18 삼성전자주식회사 빛샘 방지 구조를 가지는 박막 트랜지스터 기판
KR100897739B1 (ko) * 2002-10-05 2009-05-15 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100242034B1 (ko) 2000-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6610997B2 (en) Electro-optical device
US5563432A (en) Thin-film transistor and display device using the same
JP3381718B2 (ja) 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器
JP5184439B2 (ja) 表示装置
US6897909B2 (en) Liquid crystal display device
US5789761A (en) Thin-film transistor array having light shading film and antireflection layer
JPS6045219A (ja) アクテイブマトリクス型表示装置
JP3460706B2 (ja) 電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板および電気光学装置用基板の製造方法。
KR20040057798A (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
JP2003131245A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
JP2002319679A (ja) 半導体装置
JP2001356709A (ja) 電気光学装置及びその製造方法
JP2020060636A (ja) 電気光学装置、電子機器
JP3931547B2 (ja) 電気光学装置及びその製造方法
JP3501125B2 (ja) 電気光学装置
JP2002131778A (ja) 電気光学装置用基板およびこれを備えた電気光学装置並びに電子機器
TW309660B (zh)
TW200422748A (en) Manufacturing method of optoelectronic substrate, manufacturing method of optoelectronic apparatus, and the optoelectronic apparatus
JP2002122889A (ja) 電気光学装置及び投射型表示装置
KR20070069054A (ko) 전기 광학 장치, 그 제조 방법, 및 전자기기
JP2003280020A (ja) 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器
JPH0258030A (ja) 液晶表示装置
JP4206595B2 (ja) 電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器
JP3769970B2 (ja) 電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器
JP2002122857A (ja) 電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板および電気光学装置用基板の製造方法、並びに遮光膜

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees