TW202415550A - 附標記之薄膜小片之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明課題在於提供一種可容易確認檢查部分之位置的附標記之薄膜小片之製造方法。 其解決手段為本發明實施形態之附標記之薄膜小片之製造方法，包含以下步驟：對片材決定檢查區域的步驟；將前述檢查區域劃分成複數個小片區域並檢查各小片區域的步驟；分別對檢查後之複數個小片區域在相同位置進行標記的步驟；以及，沿前述複數個小片區域切斷前述片材的步驟。

Description

附標記之薄膜小片之製造方法

本發明涉及一種附標記之薄膜小片之製造方法。

在各種工業製品中，廣泛利用了具有符合用途之構成及尺寸的薄膜小片。作為薄膜小片之一例，已知有一種具有積層結構的積層薄膜小片，前述積層薄膜小片例如可將複數個樹脂片材貼合後從所得積層片材切斷成小片狀而製造(例如，參照專利文獻1)。通常，薄膜小片會檢查是否具有所期望之品質。為了實現所述檢查的效率化，探討了對切出薄膜小片之前的積層片材實施檢查，再從該積層片材切出複數個薄膜小片。又，近年來，因應用途的多樣化，有時會要求對薄膜小片進行局部檢查。此時，若在對積層片材實施了檢查之後再從積層片材切出複數個薄膜小片時，可能會造成各薄膜小片中之檢查部分的位置變得不明確。因此，在各種製品中採用薄膜小片時，有無法將該檢查部分配置於所期望之位置之虞。 現有技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2013-121673號公報

發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往之課題而成，其主要目的在於提供一種可容易確認檢查部分之位置的附標記之薄膜小片之製造方法。

用以解決課題之手段 本發明實施形態之附標記之薄膜小片之製造方法，包含以下步驟：對片材決定檢查區域的步驟；將前述檢查區域劃分成複數個小片區域並檢查各小片區域的步驟；分別對檢查後之複數個小片區域在相同位置進行標記的步驟；以及，沿前述複數個小片區域切斷前述片材的步驟。 在一實施形態中，上述小片區域包含檢查規格不同之區域。 在一實施形態中，上述附標記之薄膜小片之製造方法在對上述小片區域進行標記的步驟後且在切斷上述片材的步驟前更包含下述步驟：將資訊碼設置於上述片材的步驟，該資訊碼具有與上述複數個小片區域之位置與各小片區域之檢查結果相關之資訊；前述製造方法係在切斷上述片材的步驟中從該資訊碼讀取資訊。 在一實施形態中，在檢查上述小片區域的步驟及對上述小片區域進行標記的步驟中，係以上述片材之外緣為基準對片材進行定位。 在一實施形態中，上述片材係積層有第1片材與第2片材的積層片材，且該第2片材具有比第1片材小的外形形狀。

發明效果 根據本發明實施形態，可製造可容易確認檢查部分的位置的附標記之薄膜小片。

以下，對本發明代表性實施形態進行說明，但本發明不受該等實施形態所限。

(用語及符號的定義) 本說明書中之用語及符號的定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」是面內折射率達最大之方向(即慢軸方向)的折射率，「ny」是在面內與慢軸正交之方向(即快軸方向)的折射率，「nz」是厚度方向的折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」是在23℃下以波長λnm的光測定的面內相位差。例如，「Re(550)」是在23℃下以波長550nm的光測定的面內相位差。Re(λ)可在將層(薄膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向的相位差(Rth) 「Rth(λ)」是在23℃下以波長λnm的光測定之厚度方向的相位差。例如，「Rth(550)」是在23℃下以波長550nm的光測定之厚度方向的相位差。Rth(λ)可將層(薄膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數可藉由Nz=Rth/Re求出。 (5)實質上平行或正交 「實質上正交」及「大致正交」之表述包括兩個方向構成之角度為90°±10°的情況，宜為90°±7°，更宜為90°±5°。「實質上平行」及「大致平行」的表述包括兩個方向構成之角度為0°±10°的情況，宜為0°±7°，更宜為0°±5°。並且，在本說明書中，僅提到「正交」或「平行」時，係定為可包括實質上正交或實質上平行之狀態。

A.附標記之薄膜小片之製造方法(光學積層體之製造方法)的概要 作為本發明附標記之薄膜小片之製造方法之一實施形態，可舉光學積層體(附標記之光學積層體)之製造方法。在光學積層體之製造方法中，可製造作為附標記之薄膜小片之一例的具有標記之光學積層體(附標記之光學積層體)。 圖1是在本發明一實施形態之光學積層體之製造方法中將積層片材定位於標記裝置之狀態的概略立體圖；圖2是顯示將圖1所示積層片材之檢查區域劃分成複數個小片區域並進行檢查的步驟；圖3是顯示對圖2所示小片區域進行標記的步驟；圖4是顯示將資訊碼設置於圖3所示積層片材的步驟；圖5是顯示將表面保護薄膜貼附於圖4所示積層片材的步驟；圖6是顯示從圖5所示資訊碼讀取資訊後將積層片材沿複數個小片區域切斷的步驟；圖7是藉由圖6所示步驟獲得之光學積層體的俯視圖；圖8是圖7所示光學積層體的概略剖面圖。

在一實施形態之光學積層體之製造方法中，可由片材34(更具體而言，為後述積層片材34)製造複數個光學積層體100(最終製品)。一實施形態之光學積層體之製造方法包含有以下步驟：對片材34決定檢查區域E1的步驟(區域決定步驟)；將檢查區域E1劃分成複數個小片區域E2並檢查各小片區域E2的步驟(檢查步驟)；分別對檢查後之複數個小片區域E2在相同位置進行標記的步驟(標記步驟)；以及，沿複數個小片區域E2切斷片材34的步驟(切斷步驟)。根據所述方法，檢查各小片區域E2後，在各小片區域E2之相同位置形成標記M，然後沿小片區域E2切斷片材34。藉此，可製造複數個具有標記M之光學積層體100。光學積層體100包含有在檢查步驟中經檢查之檢查部分。在一實施形態中，小片區域E2包含有檢查規格(判定優劣之基準)不同之區域。因此，光學積層體100可包含經以相對嚴格之基準進行檢查的第1區域與經以相對寬鬆之基準進行檢查的第2區域。在各種製品中採用光學積層體時，光學積層體的朝向對將檢查部分(代表上為第1區域)配置於所期望之置而言是重要的。上述複數個光學積層體由於相互在相同位置具有標記，因此可藉由標記來確認光學積層體的朝向，進而可確認光學積層體中之檢查部分(代表上為第1區域)的位置。結果，在製品中採用光學積層體時，可穩定地將檢查部分(代表上為第1區域)配置於所期望之位置。

在一實施形態中，光學積層體之製造方法係在對小片區域E2進行標記的步驟後且在切斷片材34的步驟前(標記步驟後且切斷步驟前)更包含下述步驟：將資訊碼35設置於片材34，該資訊碼35具有與複數個小片區域E2之位置與各小片區域E2之檢查結果相關之資訊(碼設置步驟)。又，在切斷步驟中，從資訊碼35讀取上述資訊，並沿複數個小片區域E2切斷片材34。也就是說，在切斷步驟中，係根據從資訊碼讀取之資訊，沿與該片材對應之小片區域進行切斷。結果，可抑制片材被以錯誤之小片尺寸切斷。

在一實施形態中，在檢查小片區域E2的步驟及對小片區域E2進行標記的步驟(檢查步驟及標記步驟)中，係以片材34之外緣為基準對片材34進行定位。片材34代表上為積層有第1片材3與第2片材4的積層片材，且該第2片材4具有較第1片材3更小之外形形狀。 所述積層片材34是可適宜用於製作作為最終製品的光學積層體(光學積層體小片)的中間製品，可藉由例如下述製造方法來製造。

B.積層片材之製造方法的概要 圖9是顯示準備圖1所示積層片材之製造方法中之第1片材及第2片材的步驟；圖10是圖9所示第1片材的概略剖面圖；圖11是圖9所示第2片材的概略剖面圖；圖12是將圖11所示第2片材貼合於第1片材的步驟；圖13是藉由圖12所示步驟所得積層片材的俯視圖。

一實施形態之積層片材之製造方法包含以下步驟：準備第1片材3及第2片材4的步驟(準備步驟)；以及，將第2片材4貼合於第1片材3的步驟(貼合步驟)。第2片材4具有較第1片材更小之外形形狀。在貼合步驟中，代表上，以使從第1片材3之厚度方向觀看時第2片材4整體位於第1片材3之外緣內側之方式，將第2片材4貼合於第1片材3上。根據所述方法，第1片材之外緣會成為積層片材之外緣，因此第1片材及第2片材之貼合偏移不會影響積層片材之外緣形狀。因此，可圖謀提高積層片材之外緣的形狀精度。結果，可以具有優異形狀精度之積層片材的外緣為基準進行定位並實施檢查步驟及標記步驟，因此可謀求提高檢查部分與標記之相對位置精度。

以下，具體說明各步驟。

C.準備步驟 如圖9~圖11所示，在準備步驟中，準備第1片材3與第2片材4。第1片材3代表上包含有偏光件。第2片材4代表上包含作為λ/4片發揮功能的相位差層。

C-1.第1片材 在一實施形態中，第1片材3係從長條狀第1原板片材1沖裁成預定尺寸來準備。在說明書中，「長條狀」是指長度相對於寬度而言充分長的細長形狀，例如包括長度相對於寬度為10倍以上、宜為20倍以上的細長形狀。長條狀第1原板片材1可捲繞成卷狀。在第1原板片材1中，偏光件的吸收軸方向宜沿第1原板片材之長條方向。第1片材3代表上可由第1原板捲材1沖裁出複數個。第1片材3可具有任意適當之形狀。關於從厚度方向觀看時之第1片材3之形狀，可舉例如圓形、橢圓形、多邊形，可適宜舉多邊形，可較適宜舉矩形(長方形)。當第1片材3具有長方形時，係以使第1片材3之長邊方向相對於第1原板片材1中之偏光件的吸收軸方向傾斜約45°之方式進行沖裁。當第1片材3具有長方形時，第1片材3之短邊尺寸例如為100mm以上，宜為200mm以上，又例如為400mm以下，宜為300mm以下。又，第1片材3之長邊尺寸例如為200mm以上，宜為350mm以上，又例如為600mm以下，宜為450mm以下。

如圖10所示，在一實施形態中，第1片材3依序包含有：偏光板5，其包含偏光件51；第1相位差層6，其顯示nx＞ny＞nz之折射率特性；及，第2相位差層7，其顯示nz＞nx＞ny之折射率特性。圖式例的第1片材3相對於偏光板5於與第1相位差層6相反側進一步具備有黏著劑層12a。又，第1片材3亦可相對於第2相位差層7於與第1相位差層6相反側進一步具備有黏著劑層12b。

C-1-1.偏光板 偏光板5具備之偏光件51可採用任意適當之偏光件。例如，形成偏光件之樹脂薄膜可為單層之樹脂薄膜，亦可為兩層以上之積層體。

關於由單層之樹脂薄膜構成之偏光件的具體例，可舉對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜實施了利用碘或二色性染料等二色性物質進行之染色處理及延伸處理者；PVA的脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。由於光學特性優異，因此可適宜使用利用碘對PVA系薄膜進行染色並進行單軸延伸而得之偏光件。

上述利用碘進行之染色可藉由例如將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可邊染色邊進行。又，亦可在延伸後進行染色。可視需要對PVA系薄膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色前將PVA系薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系薄膜表面之污垢或抗黏結劑，還可使PVA系薄膜膨潤而防止染色不均等。

關於使用積層體而得之偏光件的具體例，可舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體、或者使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而得之偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而得之偏光件可藉由下述方法來製作：例如，將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而在樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光件。在本發明一實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂的聚乙烯醇系樹脂層。延伸代表上包含將積層體浸漬於硼酸水溶液中來延伸。並且，延伸可視需要進一步包含在硼酸水溶液中之延伸之前將積層體在高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。而且，在本發明一實施形態中宜將積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一邊將積層體往長邊方向輸送一邊加熱，使其在寬度方向上收縮2%以上。代表上，本實施形態之製造方法包含對積層體依序實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使在熱塑性樹脂上塗佈PVA的情況下，也可提高PVA的結晶性，而可達成高光學特性。又，藉由同時事先提高PVA的定向性，可在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時防止PVA的定向性降低或溶解等問题，而可達成高光學特性。並且，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中的情況下，與PVA系樹脂層不含鹵化物的情況相比，可更抑制聚乙烯醇分子的定向紊亂及定向性降低。藉此，可提高經過染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體而進行之處理步驟所得之偏光件的光學特性。並且，藉由乾燥收縮處理使積層體在寬度方向上收縮，藉此可提高光學特性。所得樹脂基材/偏光件的積層體可直接使用(即，可將樹脂基材製成偏光件的保護層)，亦可將樹脂基材從樹脂基材/偏光件的積層體剝離，並於該剝離面上積層符合目的之任意適當的保護層來使用。所述偏光件之製造方法的詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。本說明書係援用該等公報整體之記載作為參考。

偏光件之厚度例如為1μm~80μm，宜為1μm~15μm，較宜為1μm~12μm，更宜為3μm~12μm，尤宜為3μm~8μm。偏光件之厚度若為所述範圍，便可良好地抑制加熱時的捲曲，且可獲得良好之加熱時的外觀耐久性。

偏光件宜在波長380nm~780nm內之任一波長下展現吸收二色性。偏光件之單體透射率例如為41.5%~46.0%，宜為43.0%~46.0%，較宜為44.5%~46.0%。偏光件之偏光度宜為97.0%以上，較宜為99.0%以上，更宜為99.9%以上。

偏光板5可具備保護層52。保護層52係設於偏光件51之至少一面。圖式例之保護層52係相對於偏光件51設於與第1相位差層6相反側。保護層52代表上係透過任意適當之接著劑層11a貼合於偏光件51。形成接著劑層11a之接著劑代表上可舉紫外線硬化型接著劑。接著劑層11a之厚度例如為0.4μm以上且3.0μm以下。

保護層可以可作為偏光件的保護層使用之任意適當的薄膜形成。關於成為該薄膜之主成分的材料的具體例，可舉聚降𦯉烯系等環烯烴(COP)系、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系等聚酯系、三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚碳酸酯(PC)系、(甲基)丙烯酸系、聚乙烯醇系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚烯烴系、乙酸酯系等透明樹脂。又，還可舉：(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，「(甲基)丙烯酸系樹脂」是指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。除此之外，還可舉例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載的聚合物薄膜。作為該薄膜的材料，可使用例如含有在側鏈具有取代或未取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂、與在側鏈具有取代或未取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂的樹脂組成物，可舉例如：具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組成物。該聚合物薄膜可為例如上述樹脂組成物的擠製成形物。樹脂薄膜的材料可單獨使用或組合來使用。

保護層之厚度代表上為5mm以下，宜為1mm以下，較宜為1μm~500μm，更宜為5μm~150μm。

又，亦可在保護層52之與偏光件51相反側的表面設有機能層52a。機能層52a係直接形成於保護層52的表面。本說明書中，「直接」是指不中介接著層(接著劑層或黏著劑層)。 機能層52a可對偏光板5賦予任意適當的性能。作為機能層52a，可舉例如硬塗層。硬塗層具有充分的表面硬度、優異的機械强度及優異的光透射性。硬塗層代表上可由紫外線硬化型樹脂形成。作為紫外線硬化型樹脂，可舉例如：聚酯系、丙烯酸系、胺甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、環氧系。機能層52a之厚度例如為0.5μm以上且20μm以下。

C-1-2.第1相位差層 代表上，第1相位差層6係透過任意適當之接著劑層11b貼合於偏光板5(偏光件51)。接著劑層11b係與上述接著劑層11a同樣地進行說明。第1相位差層6如上述，係顯示nx＞ny＞nz之折射率特性，且具有慢軸。有時將折射率特性顯示nx＞ny＞nz之關係的層(薄膜)稱為「負雙軸板」、「負B板」等。 第1相位差層6之面內相位差Re(550)代表上為90nm以上且140nm以下，宜為110nm以上且130nm以下。第1相位差層6的Nz係數代表上為0.9以上且1.7以下，宜為1.0以上且1.3以下。 第1相位差層6的慢軸方向與偏光件51的吸收軸方向構成之角度代表上為80°以上且100°以下，宜為85°以上且95°以下。 第1相位差層6可展現相位差值隨測定光的波長變大之逆色散波長特性，可展現相位差值隨測定光的波長變小之正波長色散特性，亦可展現相位差值幾乎不隨測定光的波長發生變化之平坦的波長色散特性。第1相位差層6宜展現平坦的波長色散特性。

作為構成第1相位差層6的樹脂，可舉例如：降𦯉烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚碸系樹脂。所述樹脂可單獨使用或組合來使用。構成第1相位差層之樹脂宜包含降𦯉烯系樹脂及/或纖維素系樹脂。

所述第1相位差層6代表上為由上述構成第1相位差層6之樹脂形成之高分子薄膜的延伸薄膜，係藉由在任意適當之延伸條件下延伸高分子薄膜而調製。 第1相位差層6之厚度可設定成可獲得所期望之光學特性。該第1相位差層6之厚度例如為10μm以上，宜為20μm以上，較宜為60μm以上，又例如為100μm以下，宜為90μm以下，更宜為80μm以下。

C-1-3.第2相位差層 第2相位差層7係相對於第1相位差層6位於與偏光板5相反側。第2相位差層7代表上係透過任意適當之接著劑層11c貼合於第1相位差層6。接著劑層11c係與上述接著劑層11a同樣地進行說明。

第2相位差層7如上述，顯示nz＞nx＞ny之折射率特性，且具有慢軸。有時將折射率特性顯示nz＞nx＞ny之關係的層(薄膜)稱為「正的雙軸板」、「正B板」等。 第2相位差層7的面內相位差Re(550)代表上為15nm以上且55nm以下，宜為25nm以上且45nm以下。第2相位差層7的Nz係數代表上為1.0以上且6.3以下，宜為1.8以上且3.6以下。 第2相位差層7的慢軸方向與偏光件51的吸收軸方向構成之角度代表上為80°以上且100°以下，宜為85°以上且95°以下。 第2相位差層7可展現逆色散波長特性，可展現正波長色散特性，亦可展現平坦的波長色散特性。第2相位差層7宜展現逆色散波長特性。即，第2相位差層7宜滿足Re(450)＜Re(550)的關係。

第2相位差層7可為任意適當之構成。具體而言，可為單獨的相位差薄膜，亦可為兩片以上相同或不同的相位差薄膜的積層體。第2相位差層宜為單獨的相位差薄膜。 作為構成第2相位差層7的樹脂，可舉例如熱塑性樹脂，可適宜舉展現負雙折射的聚合物、展現正雙折射的聚合物。所述樹脂可單獨使用或組合來使用。構成第2相位差層之樹脂較宜包含展現負雙折射的聚合物。藉由使用展現負雙折射的聚合物，可簡便獲得具有nz＞nx＞ny之折射率橢圓體且慢軸方向的均一性優異的相位差薄膜。在此，「展現負雙折射」是指在藉由延伸等使聚合物發生了定向時，該延伸方向的折射率相對變小。換言之，是指與延伸方向正交之方向的折射率變大。展現負雙折射的聚合物可舉例如：在側鏈導入有芳香環或羰基等極化各向異性大的化學鍵或官能基的聚合物。具體上可舉丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、馬來醯亞胺系樹脂，可適宜舉苯乙烯系樹脂。 作為構成第2相位差層7的苯乙烯系樹脂，可適宜舉苯乙烯-馬來酸酐共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-馬來醯亞胺共聚物、乙烯酯-馬來醯亞胺共聚物、烯烴-馬來醯亞胺共聚物。該等可單獨使用或組合兩種以上來使用。

又，作為上述展現負的雙折射的聚合物，還可適宜使用具有下述通式(I)所示重複單元的聚合物。所述聚合物可展現更高的負雙折射，且耐熱性、機械強度優異。所述聚合物可藉由例如使用導入了至少在鄰位具有取代基之苯基作為起始原料的馬來醯亞胺系單體的N取代基之N-苯基取代馬來醯亞胺而得。 [化學式1] 上述通式(I)中，R ₁~R ₅各自獨立表示氫、鹵素原子、羧酸、羧酸酯、羥基、硝基、或碳數1~8之直鏈或支鏈烷基或烷氧基(其中，R ₁及R ₅不同時為氫原子)，R ₆及R ₇表示氫或碳數1~8之直鏈或支鏈烷基或烷氧基，n表示2以上之整數。

所述第2相位差層7代表上為由上述構成第2相位差層7之樹脂形成之高分子薄膜的延伸薄膜，係藉由在任意適當之延伸條件下延伸高分子薄膜而調製。 第2相位差層7之厚度可設定成可獲得所期望之光學特性。該第2相位差層7之厚度例如為5μm以上，宜為10μm以上，較宜為20μm以上，又例如為70μm以下，宜為60μm以下，更宜為40μm以下。

C-1-4.黏著劑層 黏著劑層12a是為了將光學積層體100貼附於影像顯示單元而設置。在圖式例中，黏著劑層12a係相對於保護層52位於偏光件51相反側，且積層於機能層52a。構成黏著劑層12a的黏著劑可舉(甲基)丙烯酸系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑及聚矽氧系黏著劑，宜含有(甲基)丙烯酸系黏著劑。此外，在本說明書中，「(甲基)丙烯酸」包括丙烯酸及甲基丙烯酸。黏著劑層12a之厚度例如為3.5μm以上且35μm以下。宜在黏著劑層12a的表面暫時黏著有剝離襯墊13直至將光學積層體100供於使用為止。

黏著劑層12b是為了貼合第1片材3與第2片材4而設置。在圖式例中，黏著劑層12b係積層於第2相位差層7。黏著劑層12b係與上述黏著劑層12a同樣地進行說明。雖未圖示，但宜在黏著劑層12b的表面暫時黏著有剝離襯墊直至後述貼合步驟為止。

C-2.第2片材 如圖9所示，在一實施形態中，第2片材4係從長條狀第2原板片材2沖裁成預定尺寸而準備。長條狀第2原板片材2可捲繞成卷狀。在第2原板片材2中，相位差層的慢軸方向宜沿第2原板片材2的長條方向。第2片材4代表上可從第2原板捲材2沖裁出複數個。第2片材4代表上具有較第1片材3更小的外形形狀。第2片材4代表上具有與第1片材3同種外形形狀。

第1片材3宜具有矩形(長方形)，因此，第2片材4亦宜具有矩形(長方形)。第2片材4具有矩形時，第2片材4之邊長尺寸相對於對應之第1片材3之邊長尺寸例如為-5mm以下，宜為-10mm以下。第2片材4之邊長尺寸為上述上限以下時，在貼合步驟中，可以使第2片材整體位於第1片材之外緣內側之方式將第2片材穩定地貼附於第1片材上。 第2片材4具有長方形時，係以使第2片材4的長邊方向與第2原板片材2中之相位差層的慢軸方向大致平行之方式進行沖裁。第2片材4具有長方形時，在將第1片材3之短邊尺寸設為100時，第2片材4之短邊尺寸例如為90.0以上，宜為95.0以上，較宜為97.0以上，又例如小於100，宜為99.0以下。又，將第1片材3之長邊尺寸設為100時，第2片材4之長邊尺寸例如為90.0以上，宜為95.0以上，較宜為97.5以上，又例如小於100，宜為99.5以下。

如圖11所示，在一實施形態中，第2片材4依序包含有：第3相位差層8，其係作為λ/4板發揮功能；第4相位差層9，係顯示nz＞nx=ny之折射率特性；保護基材10；及，第1表面保護薄膜14。

C-2-1.第3相位差層 第3相位差層8代表上係顯示nx＞ny≥nz之折射率特性，且具有慢軸。此外，在此，「ny=nz」不僅包括ny與nz完全相等的情況，還包括實質上相等的情況。因此，在不損害本發明效果之範圍內，可有成為ny＜nz的情況。相位差層之Nz係數宜為0.9~2.0，較宜為0.9~1.5，更宜為0.9~1.2。 第3相位差層8之面內相位差Re(550)例如為100nm以上，宜為110nm以上，較宜為130nm以上，又例如為200nm以下，宜為180nm以下，較宜為150nm以下。 第3相位差層8可展現逆色散波長特性，可展現正波長色散特性，亦可展現平坦的波長色散特性。第3相位差層8宜展現逆色散波長特性。即，第3相位差層8宜滿足Re(450)＜Re(550)的關係。

構成第3相位差層8之樹脂可列舉例如：聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂。所述樹脂可單獨使用或組合來使用。構成第3相位差層8之樹脂宜包含聚碳酸酯系樹脂。

聚碳酸酯系樹脂宜包含選自下述通式(1)所示結構單元及/或下述通式(2)所示結構單元中之至少一種結構單元。該等結構單元是來自二價寡聚芴的結構單元，以下有時稱為寡聚芴結構單元。所述聚碳酸酯系樹脂等具有正的折射率各向異性。 [化學式2] [化學式3] 通式(1)及(2)中，R ¹~R ³各自獨立為直接鍵結、取代或未取代之碳數1~4伸烷基；R ⁴~R ⁹各自獨立為氫原子、取代或未取代之碳數1~10烷基、取代或未取代之碳數4~10芳基、取代或未取代之碳數1~10醯基、取代或未取代之碳數1~10的烷氧基、取代或未取代之碳數1~10的芳氧基、取代或未取代之胺基、取代或未取代之碳數1~10的乙烯基、取代或未取代之碳數1~10的乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基；惟，R ⁴~R ⁹相互可相同或不同，R ⁴~R ⁹中鄰接之至少兩個基亦可相互鍵結形成環。

聚碳酸酯系樹脂中之寡聚芴結構單元的含有比率例如為1質量%以上，宜為10質量%以上，較宜為15質量%以上，更宜為18質量%以上，又例如40質量%以下，宜為35質量%以下，較宜為30質量%以下，更宜為25質量%以下。寡聚芴結構單元的含有比率為上述下限以上時，可使第3相位差層中穩定展現所期望之逆色散波長依存性。寡聚芴結構單元的含有比率為上述上限以下時，可穩定展現相位差。

聚碳酸酯系樹脂較宜除寡聚芴結構單元外還包含下述結構式(3)所示結構單元、及/或下述結構式(4)所示結構單元。聚碳酸酯系樹脂若含有下述結構式(3)及/或下述結構式(4)所示結構單元，便可在第3相位差層中更穩定展現所期望之逆色散波長依存性。 [化學式4] [化學式5] 聚碳酸酯系樹脂中之上述結構式(3)所示結構單元的含有比率例如為5質量%以上，宜為10質量%以上，較宜為20質量%以上，更宜為25質量%以上，又例如為90質量%以下，宜為70質量%以下，較宜為50質量%以下。 聚碳酸酯系樹脂中之上述結構式(4)所示結構單元的含有比率例如為5質量%以上，宜為10質量%以上，較宜為15質量%以上，又例如為90質量%以下，宜為70質量%以下，較宜為50質量%以下。

構成第3相位差層8之樹脂特別宜除了聚碳酸酯系樹脂外還包含(甲基)丙烯酸系樹脂。 (甲基)丙烯酸系樹脂代表上包含來自甲基丙烯酸甲酯的結構單元。(甲基)丙烯酸系樹脂中來自甲基丙烯酸甲酯之結構單元的含有比率例如為70質量%以上，宜為80質量%以上，較宜為90質量%以上，更宜為95質量%以上。來自甲基丙烯酸甲酯之結構單元的含有比率若為上述下限以上，便可展現與聚碳酸酯系樹脂優異的相溶性。來自甲基丙烯酸甲酯之結構單元的含有比率代表上為100質量%以下。 (甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量Mw例如為10,000以上，宜為30,000以上，較宜為50,000以上，又例如為200,000以下，宜為180,000以下，較宜為150,000以下。此外，上述重量平均分子量是藉由GPC測定之聚苯乙烯換算的分子量。重量平均分子量Mw若在所述範圍內，便可穩定展現與聚碳酸酯系樹脂優異的相溶性。 構成第3相位差層8之樹脂中之(甲基)丙烯酸系樹脂的含有比率例如為0質量%以上，宜為0.5質量%以上，較宜為0.6質量%以上，又例如為2.0質量%以下，宜為1.5質量%以下，較宜為1.0質量%以下，更宜為0.9質量%以下，尤宜為0.8質量%以下。(甲基)丙烯酸系樹脂的含有比率在上述範圍內時，可使伸張性及相位差展現性顯著增大，且可抑制霧度。

所述第3相位差層8代表上為由上述構成第3相位差層之樹脂形成之高分子薄膜的延伸薄膜，係藉由延伸高分子薄膜而調製。 第3相位差層8之厚度可設定成可獲得所期望之光學特性。該第3相位差層8之厚度例如為10μm以上，宜為15μm以上，又例如為60μm以下，宜為55μm以下。

C-2-2.第4相位差層 第4相位差層9代表上係藉由任意適當之接著劑層11d貼合於第3相位差層8。接著劑層11d係與上述接著劑層11a同樣地進行說明。第4相位差層9如上述顯示nz＞nx=ny之折射率特性。有時將折射率特性顯示nz＞nx=ny之關係的層(薄膜)稱為「正C板」等。此外，在此「nx=ny」不僅包含nx與ny完全相等的情況，還包含實質上相等的情況。第4相位差層9的面內相位差Re(550)可為例如0nm以上且小於10nm。 第4相位差層9之厚度方向的相位差Rth(550)代表上為-100nm以上且-60nm以下，宜為-90nm以上且-70nm以下。

第4相位差層9可以任意適當之材料形成。第4相位差層9宜由含固定為垂面定向之液晶材料的薄膜形成。可進行垂面定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體，亦可為液晶聚合物。關於該液晶化合物及該光學補償層之形成方法的具體例，可舉日本專利特開2002-333642號公報之[0020]~[0028]中記載的液晶化合物及該光學補償層之形成方法。此時，第4相位差層9之厚度例如為10μm以下，宜為8μm以下，較宜為5μm以下，又代表上為0.5μm以上。

C-2-3.保護基材 保護基材10係相對於第4相位差層9位於與第3相位差層8相反側。保護基材10代表上係透過任意適當之黏著劑層12c貼合於第4相位差層9。黏著劑層12c係與上述黏著劑層12a同樣地進行說明。保護基材10係以任意適當之樹脂薄膜形成。作為構成保護基材10之樹脂，可舉例如與構成保護層52之樹脂相同者，宜可舉(甲基)丙烯酸系樹脂。保護基材10之厚度例如為20μm以上且200μm以下。雖未圖示，但亦可在保護基材10之與第4相位差層9相反側的表面設置光學機能層。作為光學機能層，可舉例如硬塗層、抗反射層、抗黏層、防眩層，可適宜舉抗反射層。

C-2-4.表面保護薄膜 在圖式例中，第1表面保護薄膜14係貼附於保護基材10。第1表面保護薄膜14可為臨時性地暫時黏著且在使用光學積層體前被剝離者(被用作製程材者)，亦可為以保持著貼附於光學積層體的表面之狀態作使用者(以永久接著為目的者)。雖未圖示，但第1表面保護薄膜14代表上具備有基材與黏著劑層。基材之材料可舉例如與構成保護層52之樹脂相同者，可適宜舉COP系樹脂。黏著劑層係將第1表面保護薄膜14之基材貼附於保護基材10。黏著劑層係與上述黏著劑層12a同樣地進行說明。

D.貼合步驟 在貼合步驟中，係貼合依上述方式準備之第1片材3及第2片材4。如圖12及圖13所示，係以使從第1片材3之厚度方向觀看時第2片材4整體位於第1片材3之外緣內側之方式，將第2片材4貼合於第1片材3上。更詳細而言，係以使第3相位差層8的慢軸方向與偏光件51的吸收軸方向構成之角度在下述範圍內之方式，使第2片材4之第3相位差層8與第1片材3之黏著劑層12b接觸。慢軸方向與吸收軸方向構成之角度例如代表上為40°以上且50°以下，宜為42°以上且48°以下，較宜為44°以上且46°以下，更宜為45°。

藉由以上方式而製造積層片材34。積層片材34具備有具有尺寸相對較大之第1片材3與具有尺寸相對較小之第2片材4。第1片材3與第2片材4係貼合在一起，從第1片材3之厚度方向觀看時，第2片材4係被作為第1片材3之周端部的邊緣區域3a包圍。邊緣區域3a之寬度可整體均一，亦可局部不同。邊緣區域3a之寬度例如為2.5mm以上，宜為5mm以上，又例如為30mm以下，宜為20mm以下。 積層片材34可為可製造複數個光學積層體100之母片材。積層片材34係供於製造複數個光學積層體100。

E.區域決定步驟 在區域決定步驟中，如圖1所示，係將上述積層片材34以積層片材34(第1片材3)之外緣為基準定位於標記裝置。作為標記裝置，可舉例如KEYENCE公司製的MK-G。在圖式例中，積層片材34係配置於標記裝置所具備之載台20上，而積層片材34(第1片材3)之外緣會與標記裝置所具備之固定治具21接觸。更詳細而言，兩個固定治具21會與積層片材34之外緣中對角之角部接觸。藉此，積層片材34會被固定於標記裝置。在一實施形態中，固定治具21係在已將積層片材34定位之狀態下以無法相對移動之方式被載台20支持著，載台20可連同固定治具21一同在橫向(X方向)及縱向(Y方向)上移動。藉此，積層片材34可在已固定於載台20之狀態下隨著載台20之移動而在橫向(X方向)及縱向(Y方向)上移動。

接下來，如圖2所示，以固定治具21(即積層片材34之外緣)為基準對積層片材34決定檢查區域E1。檢查區域E1係在第2片材4劃分。宜對第2片材4標記檢查區域E1之框。若標記檢查區域之框，在後述切斷步驟中，便可根據所標記之該框與切斷位置來容易確認積層體是否有被適當地切斷。關於標記方法可採用任意適當之方法，可舉例如噴墨印刷。

F.檢查步驟 接下來，在檢查步驟中，係以固定治具21(即積層片材34之外緣)為基準將上述檢查區域E1劃分成複數個小片區域E2。然後，檢查各小片區域E2。小片區域E2係對應於作為最終製品的光學積層體100，可因應所期望之光學積層體100而採用任意適當之形狀及尺寸。在圖式例中，小片區域E2從第1片材3之厚度方向觀看時具有矩形(長方形)。小片區域E2代表上包含有檢查規格不同之區域。更詳細而言，小片區域E2具有：以最嚴格之基準檢查的第1區域E2-1、以次於第1區域之基準檢查的第2區域E2-2、以次於第2區域之基準檢查的第3區域E2-3、以及以最寬鬆之基準檢查的第4區域E2-4。影像顯示裝置(特別是VR護目鏡等小型影像顯示裝置)中採用了光學積層體100時，係將第1區域E2-1設定成與使用者的眼睛相對向。在圖式例中，第1區域E2-1係配置成在小片區域E2之長邊方向上從小片區域E2之中心偏往一側。第2區域E2-2係配置成包圍第1區域E2-1，第3區域E2-3係配置成包圍第2區域E2-2，而第4區域E2-4係配置成包圍第3區域E2-3。

在檢查步驟中實施之檢查代表上為異物檢查。在異物檢查中，係檢查積層片材34之各小片區域E2中有無異物，將各小片區域E2判定為良品或不良品。關於異物檢查，可舉例如日本專利特開2021-135219號公報中記載的檢查方法。例如，利用檢查裝置所具備之相機22檢測各小片區域E2中所含之異物的尺寸及個數，並根據在預定尺寸以上之異物的個數來判定小片區域E2之優劣。在一實施形態中，第1區域E2-1之檢查基準為10μm以上的異物少於1個(=没有)，第2區域E2-2之檢查基準為15μm以上的異物少於1個(=没有)，第3區域E2-3之檢查基準為20μm以上的異物少於1個(=没有)，第4區域E2-4之檢查基準為30μm以上的異物少於1個(=没有)。若滿足該等檢查基準全部，便判定小片區域E2為良品，而在不滿足檢查基準中之至少任一基準時，判定小片區域E2為不良品。

G.標記步驟 接下來，如圖3所示，在標記步驟中，分別對檢查後之小片區域E2在相同位置進行標記。標記若在各小片區域E2中為相同位置，則可設於任意適當之位置。標記M宜設於小片區域E2之端部，在圖式例中，係設於小片區域E2之角部。標記M具有任意適當之形狀。標記M之形狀可舉例如圓形、橢圓形、多邊形。在圖式例中，標記M具有圓形。標記方法可採用任意適當之方法，可舉例如噴墨印刷。

H.碼設置步驟 接下來，在碼設置步驟中，將資訊碼35設置於積層片材34，該資訊碼35具有複數個小片區域E2之位置與各小片區域E2之檢查結果的資訊。資訊碼35可為一維碼，亦可為二維碼。資訊碼35宜為二維碼。在圖式例中，資訊碼35係設置於第2片材4之周端部。資訊碼35亦可設置於第1片材3之邊緣區域3a。藉此，如圖4所示，可獲得附資訊碼之積層片材30。附資訊碼之積層片材30具備積層片材34與資訊碼35。

I.表面保護步驟 如圖5所示，光學積層體之製造方法亦可進一步包含將第2表面保護薄膜36貼附於積層片材34的表面保護步驟。表面保護步驟代表上係在碼設置步驟後且在切斷步驟前實施。更詳細而言，係在第2片材4之第1表面保護薄膜14貼附第2表面保護薄膜36。第2表面保護薄膜36係在光學積層體(最終製品)之運送步驟中臨時性地暫時黏著、並在光學積層體之檢查前從表面保護薄膜14剝離的製程材。第2表面保護薄膜36具備有例如由COP系樹脂形成之基材與積層於基材之黏著劑層。

第2表面保護薄膜36代表上具有較第1片材3更小之外形形狀。第2表面保護薄膜36代表上具有與第1片材3同種的外形形狀。第1片材3宜具有矩形(長方形)，因此第2表面保護薄膜36亦宜具有矩形(長方形)。第2表面保護薄膜36具有矩形時，第2表面保護薄膜36之邊長尺寸相對於對應之第1片材3之邊長尺寸例如為-5mm以下，宜為-10mm以下。第2表面保護薄膜之邊長尺寸為上述上限以下時，在表面保護步驟中，可以使第2表面保護薄膜整體位於第1片材之外緣內側之方式將第2表面保護薄膜穩定地貼附於第2片材上。第2表面保護薄膜36代表上係以不與資訊碼35重疊之方式貼附於第2片材4。第2表面保護薄膜36具有長方形時，將第1片材3之短邊尺寸設為100時，第2表面保護薄膜36之短邊尺寸例如為90.0以上，宜為95.0以上，較宜為97.0以上，又例如小於100，宜為99.0以下。又，將第1片材3之長邊尺寸設為100時，第2表面保護薄膜36之長邊尺寸例如為90.0以上，宜為95.0以上，較宜為97.5以上，又例如小於100，宜為99.5以下。

J.切斷步驟 接下來，如圖6所示，在切斷步驟中，首先以積層片材34(附資訊碼之積層片材30)之外緣為基準將積層片材34(附資訊碼之積層片材30)定位於切斷裝置。具體而言，係使切斷裝置所具備之複數個定位銷41接觸積層片材34之外緣(即第1片材3之外緣)。接下來，切斷裝置所具備之讀取部42從資訊碼35讀取資訊(小片區域E2之位置及檢查結果)，基於所得資訊，切斷裝置將積層片材34沿複數個小片區域E2之劃分線(切斷線C)切斷。即，在切斷步驟中，係在已以積層片材34之外緣為基準進行了定位之狀態下將積層片材34(附資訊碼之積層片材30)沿複數個小片區域E2之劃分線(切斷線C)而切斷。如上述，積層片材具有優異之形狀精度，因此即使以積層片材之外緣為基準進行定位，也可精準地從積層片材切斷出複數個積層體(光學積層體)。因此，可精準地使光學積層體之切斷位置與檢查部分一致。結果，可使由積層片材製造之積層體(光學積層體)之品質更穩定。 藉由以上方式，可由一個積層片材34成批製造複數個光學積層體100(最終製品；光學積層體小片)。

K.光學積層體 如圖7所示，各光學積層體100具有標記M。即，光學積層體100為附標記之光學積層體。在所述光學積層體100中，可根據標記M來確認光學積層體100之朝向，進而可確認光學積層體100中第1區域E2-1之位置。在一實施形態中，係對成批製出之複數個光學積層體100，按標記M基準使光學積層體100之朝向一致後進行拾取。然後，可視需要，如圖14所示以使標記M在厚度方向上排列之方式積層複數個光學積層體100，並藉由端面加工裝置50整個進行端面加工。

如圖8所示，光學積層體100依序具備偏光板5；第1相位差層6；第2相位差層7；第3相位差層8；第4相位差層9；保護基材10；第1表面保護薄膜14；及，第2表面保護薄膜36。光學積層體100具備有第2表面保護薄膜36，因此第1表面保護薄膜14業經保護，而可在光學積層體100(最終製品)流通時、輸送時等抑制第1表面保護薄膜14受到損傷。因此，藉由在剝離第2表面保護薄膜36後將光學積層體100供於檢查(代表上為異物檢查)，可抑制第1表面保護薄膜14之傷痕被錯誤檢測，而可使光學積層體100之檢查結果與積層片材34之檢查結果匹配。

所述光學積層體100(最終製品)可為例如長邊10mm~70mm及短邊10mm~70mm左右之矩形，又可為例如長邊20mm~40mm及短邊10mm~30mm左右之矩形。

L.影像顯示裝置 上述A項~K項中記載之光學積層體可應用於影像顯示裝置。更詳細而言，將剝離襯墊13從黏著劑層12a剝離後，藉由黏著劑層12a將該光學積層體貼附於影像顯示單元並應用於影像顯示裝置。因此，本發明一實施形態還包括使用了所述光學積層體之影像顯示裝置。關於影像顯示裝置之代表例，可舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置。特別是上述A項~K項中記載之光學積層體，可適宜用於VR護目鏡等小型影像顯示裝置。本發明實施形態之影像顯示裝置代表上在其視辨側具備上述A項~K項中記載的光學積層體。影像顯示裝置包含影像顯示面板。影像顯示面板包含影像顯示單元。此外，有時將影像顯示裝置稱為光學顯示裝置，有時將影像顯示面板稱為光學顯示面板，有時將影像顯示單元稱為光學顯示單元。

產業上之可利用性 藉由本發明實施形態之附標記之薄膜小片之製造方法所得之附標記之薄膜小片可應用於各種工業製品，代表上為具有標記的光學積層體。光學積層體可適宜用於液晶顯示裝置及EL顯示裝置等影像顯示裝置、特別是非常小型(例如VR護目鏡)之影像顯示裝置。

1:第1原板片材(第1原板捲材) 2:第2原板片材(第2原板捲材) 3:第1片材 3a:邊緣區域 4:第2片材 5:偏光板 6:第1相位差層 7:第2相位差層 8:第3相位差層 9:第4相位差層 10:保護基材 11a~11d:接著劑層 12a~12c:黏著劑層 13:剝離襯墊 14:第1表面保護薄膜 20:載台 21:固定治具 22:相機 30:附資訊碼之積層片材 34:(積層)片材 35:資訊碼 36:第2表面保護薄膜 41:定位銷 42:讀取部 50:端面加工裝置 51:偏光件 52:保護層 52a:機能層 100:光學積層體 C:切斷線 E1:檢查區域 E2:小片區域 E2-1:第1區域 E2-2:第2區域 E2-3:第3區域 E2-4:第4區域 M:標記

圖1是在本發明一實施形態之光學積層體之製造方法中將積層片材定位於標記裝置之狀態的概略立體圖。 圖2是顯示將圖1所示積層片材之檢查區域劃分成複數個小片區域並進行檢查的步驟。 圖3是顯示對圖2所示小片區域進行標記的步驟。 圖4是顯示將資訊碼設置於圖3所示積層片材的步驟。 圖5是顯示將表面保護薄膜貼附於圖4所示積層片材的步驟。 圖6是顯示從圖5所示資訊碼讀取資訊後將積層片材沿複數個小片區域切斷的步驟。 圖7是藉由圖6所示步驟獲得之光學積層體的俯視圖。 圖8是圖7所示光學積層體的概略剖面圖。 圖9是顯示準備圖1所示積層片材之製造方法中之第1片材及第2片材的步驟。 圖10是圖9所示第1片材的概略剖面圖。 圖11是圖9所示第2片材的概略剖面圖。 圖12是顯示將圖11所示第2片材貼合於第1片材的步驟。 圖13是藉由圖12所示步驟獲得之積層片材的俯視圖。 圖14是顯示圖8所示光學積層體的端面加工步驟。

4:第2片材

20:載台

21:固定治具

34:(積層)片材

35:資訊碼

E1:檢查區域

E2:小片區域

M:標記

Claims (5)

1. 一種附標記之薄膜小片之製造方法，包含以下步驟： 對片材決定檢查區域的步驟； 將前述檢查區域劃分成複數個小片區域並檢查各小片區域的步驟； 分別對檢查後之複數個小片區域在相同位置進行標記的步驟；以及 沿前述複數個小片區域切斷前述片材的步驟。
2. 如請求項1之附標記之薄膜小片之製造方法，其中前述小片區域包含有檢查規格不同之區域。
3. 如請求項1或2之附標記之薄膜小片之製造方法，其在對前述小片區域進行標記的步驟後且在切斷前述片材的步驟前更包含以下步驟：將資訊碼設置於前述片材的步驟，該資訊碼具有與前述複數個小片區域之位置與各小片區域之檢查結果相關之資訊； 前述製造方法係在切斷前述片材的步驟中，從前述資訊碼讀取資訊。
4. 如請求項1之附標記之薄膜小片之製造方法，其中在檢查前述小片區域的步驟以及對前述小片區域進行標記的步驟中，以前述片材之外緣為基準將前述片材進行定位。
5. 如請求項1之附標記之薄膜小片之製造方法，其中前述片材係積層有第1片材與第2片材之積層片材，且前述第2片材具有比前述第1片材更小之外形形狀。

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