TW202346521A - 發光裝置 - Google Patents

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笹原一輝
野依慎太郎
藤田昌邦
雨宮虎太朗
片岡賢一
西野智哉
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明課題提供一種發光裝置，其於自發光元件之視辨側配置有具有高折射率且可承受大變形之黏著劑層。 其解決手段為：發光裝置包含：自發光元件；低折射率層，係配置於較上述自發光元件更靠視辨側；及高折射率黏著劑層，係直接接觸上述低折射率層而積層。上述高折射率黏著劑層之折射率大於1.560，且在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上。

Description

發光裝置
本發明涉及一種發光裝置，詳細來說涉及一種具有配置於自發光元件之視辨側的黏著劑層之發光裝置。
一般而言，黏著劑(亦稱壓敏接著劑，以下亦同)在室溫附近之溫度區域中呈軟質固體(黏彈性體)之狀態，具有可藉由壓力簡單地接著於被黏著體之性質。而活用這種性質，黏著劑在從家電製品乃至汽車、各種機械、電氣機器、電子機器等各種產業領域中，基於接合或固定、保護等目的而被廣泛利用。作為黏著劑之用途之一例，可舉在液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等這類顯示裝置中，接合偏光薄膜、相位差薄膜、覆蓋窗構件、其他各種光透射性構件及其他構件之用途。有關光學構件用黏著劑之技術文獻可舉專利文獻1、2。專利文獻3係涉及具有黏著劑層之發光裝置的技術文獻。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2014-169382號公報 專利文獻2：日本專利特開2017-128732號公報 專利文獻3：日本專利特開2022-8015號公報
發明欲解決之課題 專利文獻1、2中揭示了一種以(甲基)丙烯酸酯聚合物為主成分之黏著劑組成物、及使該黏著劑組成物交聯而成之黏著劑，該(甲基)丙烯酸酯聚合物含有具有複數個芳香環之單體作為單體單元；且提出了藉由使用具有複數個芳香環之單體使黏著劑之折射率為1.50以上，尤宜為1.51以上。又，亦已知一種將由高折射率的無機材料構成之粒子(例如氧化鋯粒子或氧化鈦粒子等無機粒子)摻混於樹脂中來提升折射率的技術。但摻混有無機粒子的黏著劑因折射率與黏著特性(例如剝離強度、柔軟性等)處於抵換關係，故難以應用於黏著劑領域。例如，以在發光裝置中配置於自發光元件之視辨側的黏著劑層的高折射率化來說，在摻混無機粒子時還必須考量到對光學特性(例如全光線透射率、霧度等)之影響。在所述背景下，本發明人等在專利文獻3中提出了一種於自發光元件之視辨側配置有高折射率且具光學品質之黏著劑層的發光裝置。
然而，近年以可用於智慧型手機等電子機器之有機EL顯示裝置等的顯示器來說，折疊式顯示器或可捲式顯示器已實用化，從而用於上述用途之黏著劑必須具有順應可反覆彎折之被黏著體的柔軟性。柔軟性優異之黏著劑亦容易順應、密著於3維形狀等曲面形狀之表面，從而還適於具有曲面形狀之電子機器用途。關於具有高折射率之黏著劑，若可提高柔軟性，便亦可期待應用於上述折疊式顯示器等之反覆彎折之用途上。然而，具有高折射率之黏著性聚合物有具有芳香環等玻璃轉移溫度高之傾向，從而使用高折射率材料所形成的黏著劑會有柔軟性降低之傾向。黏著劑之設計中，高折射率與柔軟性具有抵換關係。若可實現一種具有高折射率且同時具有可承受使用在伴隨巨大變形之柔軟性的黏著劑，則即使在上述折疊式顯示器等中，仍可將配置於自發光元件之視辨側的黏著劑層高折射率化，而有用。
本發明係有鑑於上述情事而創造者，目的在於提供一種發光裝置，其於自發光元件之視辨側配置有具有高折射率且可承受大變形之黏著劑層。
用以解決課題之手段 本說明書所提供之發光裝置包含：自發光元件；低折射率層，係配置於較上述自發光元件更靠視辨側；及高折射率黏著劑層，係直接接觸上述低折射率層而積層。上述高折射率黏著劑層之折射率大於1.560，且在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上。上述高折射率黏著劑層具有高折射率且在低溫高速之變形試驗中可進行350%以上之變形，故即便在低溫環境下仍可高速且充分變形，而可承受大變形。將滿足上述特性之高折射率黏著劑層與低折射率層組合而構成積層體，該積層體可應用於例如折疊式顯示器等伴隨巨大變形之用途，而可構築一種利用高折射率之可提升正面亮度的發光裝置。
在數個態樣中，上述高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中，變形量350%下之應力宜為5.0N/mm 2以下。滿足上述特性之黏著劑具有高折射率，且即便在低溫環境下仍可保持預定以上之柔軟性，並且可高速且充分變形。因此，適於作為在伴隨巨大變形之用途上之高折射率黏著劑層。
在數個態樣中，上述高折射率黏著劑層之折射率n 1與上述低折射率層之折射率n 2之比(n 1/n 2)宜為大約1.05以上。藉此，可容易獲得正面亮度提升效果。
此外，適當組合本說明書所記載之各要素而成者亦可包含於藉由本件專利申請案尋求專利保護之發明範圍中。
以下說明本發明之理想實施形態。本說明書中未特別言及之事項以外且為本發明實施所需之情事，乃熟知此項技藝之人士可根據關於本說明書所載發明實施之教示及申請時之技術常識而理解。本發明得以根據本說明書中所揭示之內容及該領域之技術常識來實施。 此外，在以下圖式中，對於發揮相同作用之構件、部位有時賦予相同符號來說明，且有時省略或簡化重複之說明。又，圖式中記載之實施形態為了清楚說明本發明而經示意化，並非完全正確表示實際提供之製品的尺寸或比例尺。
此外，本說明書中，自發光元件意指可藉由流通的電流值來控制發光亮度的發光元件。自發光元件可以單一體構成，亦可以集合體來構成。自發光元件之具體例包含發光二極體(LED)及有機EL，惟不受該等所限。在此揭示之發光裝置，包含所述自發光元件作為構成要素。在上述發光裝置之例中，還包含作為照明利用之光源模組裝置(例如面狀發光體模組)或形成有畫素之顯示裝置，惟不受該等所限。
本說明書所揭示之技術事項包含：發光裝置、高折射率黏著劑層及用於形成其之黏著劑組成物、低折射率層及用於形成其之組成物、包含高折射率黏著劑層及低折射率層之積層片(黏著片)、該積層片之黏著面被剝離襯墊保護的附剝離襯墊之積層片等。
＜發光裝置之構成例＞ 將本說明書所提供之發光裝置的一構成例顯示於圖1。圖1所示發光裝置100包含：自發光元件70；低折射率層12，係配置於較自發光元件70更靠視辨側；及高折射率黏著劑層11，係直接接觸低折射率層12而積層。發光裝置100亦可更包含有配置於高折射率黏著劑層11之視辨側的覆蓋窗構件80。圖1所示發光裝置100中，在自發光元件70與覆蓋窗構件80之間配置有由高折射率黏著劑層11及低折射率層12構成之積層片10。在自發光元件70與低折射率層12之間、在高折射率黏著劑層11與覆蓋窗構件80之間、在覆蓋窗構件80之更靠視辨側，可各自獨立中介有1或2層以上未圖示之層，亦可不中介。又，亦可與圖1相反，高折射率黏著劑層11配置於自發光元件側，且低折射率層12配置於覆蓋窗構件側。
在此揭示之技術中，低折射率層可具有黏著性，亦可為非黏著性。在數個態樣中，低折射率層宜為具有黏著性之層、亦即低折射率黏著劑層。藉此，低折射率黏著劑層與高折射率黏著劑層之積層片(黏著片)會成為雙面接著性，從而提高在發光裝置之製造中的組裝性。所述積層片在組入發光裝置前，例如可如圖2所示，為以下附剝離襯墊之積層片的形態：其為由高折射率黏著劑層11與低折射率黏著劑層12構成之積層片10(無基材之雙面黏著片2)，該積層片10之高折射率黏著劑層11側之表面(第1表面)10A成為第1黏著面，低折射率黏著劑層12側之表面(第2表面)10B成為第2黏著面，且該等黏著面各自被剝離襯墊31、32保護。
＜高折射率黏著劑層＞ 在此揭示之發光裝置包含高折射率黏著劑層，該高折射率黏著劑層係直接接觸該發光裝置所含之低折射率層而積層。該高折射率黏著劑層係折射率較上述低折射率層相對更高之層。上述高折射率黏著劑層宜為：折射率大於1.560，且在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上。如上述，高折射率黏著劑層具有高折射率且在低溫高速之變形試驗中可進行350%以上之變形，其即便在低溫環境下仍可高速且充分變形，而可承受大變形。將滿足上述特性之高折射率黏著劑層與低折射率層組合而構成積層體，該積層體可應用於例如折疊式顯示器等伴隨巨大變形之用途，而可構築一種利用高折射率黏著劑層之高折射率之可提升正面亮度的發光裝置。
(折射率) 在此揭示之發光裝置具有折射率n 1大於1.560的高折射率黏著劑層。所述高折射率黏著劑層可藉由利用折射率大於1.560之黏著劑(黏彈性材料)構成該高折射率黏著劑層之至少一表面(黏著面)來實現。
此外，本說明書中，黏著劑之折射率意指該黏著劑之表面(黏著面)的折射率。黏著劑之折射率可使用市售的折射率測定裝置(阿貝折射率計)，在測定波長589nm、測定溫度25℃之條件下進行測定。阿貝折射率計例如可使用ATAGO公司製之型式「DR-M4」或其等效品。測定試樣可使用由評估對象之黏著劑構成之黏著劑層。黏著劑之折射率具體上可以後述試驗例記載之方法來測定。黏著劑之折射率可藉由例如該黏著劑之組成(例如構成基底聚合物之單體成分的組成、可視需要使用之添加劑等)來調節。
本說明書所提供之技術事項包含：折射率大於1.560之黏著劑層(高折射率黏著劑層)、可形成該黏著劑層之黏著劑組成物、及包含上述高折射率黏著劑層之積層片。上述積層片例如可為由上述高折射率黏著劑層與低折射率層(典型上為低折射率黏著劑層)構成之積層黏著劑層，亦可為於支持基材之一面上依序或以相反順序積層有高折射率黏著劑層及低折射率層之構成。
在數個態樣中，高折射率黏著劑層之折射率例如為1.563以上，為1.565以上是適當的，宜大於1.570。在數個理想態樣中，上述高折射率黏著劑層之折射率可為1.575以上，可為1.580以上，可為1.585以上，可為1.590以上，亦可為1.595以上。根據具有所述折射率之高折射率黏著劑層，可利用該高折射率黏著劑層與直接鄰接其之低折射率層(典型上為低折射率黏著劑層)之相對折射率之關係，來有效控制透射高折射率黏著劑層之光的行為。高折射率黏著劑層之折射率的理想上限可因應鄰接之層的折射率等而不同，故不受特定範圍所限。在數個態樣中，考量到柔軟性或黏著特性、透明性等之平衡，高折射率黏著劑層之折射率例如可為1.700以下，可為1.670以下，可為1.650以下，可為1.620以下，亦可為1.600以下。
(變形特性) 在數個態樣中，高折射率黏著劑層除了折射率大於1.560外，在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量還宜為350%以上。上述高折射率黏著劑層具有高折射率且滿足上述特性，故即便在低溫環境下仍可高速且充分變形，而可承受大變形。滿足上述特性之高折射率黏著劑層可理想的具有高折射率，而且可承受使用在諸如折疊式顯示器用途等伴隨巨大變形之用途上。此外，本說明書揭示之高折射率黏著劑層包含無限制上述特性(在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上)之態樣，且在所述態樣中，高折射率黏著劑層不限於滿足上述特性者。
又，在數個態樣中，高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中，變形量350%下之應力宜為5.0N/mm 2以下。滿足上述特性之高折射率黏著劑層具有高折射率，且即便在低溫環境下仍可保持預定以上之柔軟性，並且可高速且充分變形。故，適於使用在伴隨大變形之用途上。在數個理想態樣中，上述變形量350%下之應力可為4.9N/mm 2以下、4.8N/mm 2以下、4.7N/mm 2以下或4.6N/mm 2以下，亦可為4.5N/mm 2以下、4.4N/mm 2以下、4.3N/mm 2以下、4.2N/mm 2以下、4.1N/mm 2以下、4.0N/mm 2以下、3.9N/mm 2以下、3.8N/mm 2以下、3.7N/mm 2以下、3.6N/mm 2以下、3.5N/mm 2以下、3.4N/mm 2以下、3.3N/mm 2以下、3.2N/mm 2以下、3.1N/mm 2以下、3.0N/mm 2以下、2.9N/mm 2以下、2.8N/mm 2以下、2.7N/mm 2以下、2.6N/mm 2以下、2.5N/mm 2以下、2.4N/mm 2以下、2.3N/mm 2以下或2.2N/mm 2以下。上述變形量350%下之應力的下限值理論上可為0.0N/mm 2以上，在數個理想態樣中可為0.1N/mm 2以上、0.2N/mm 2以上、0.3N/mm 2以上、0.4N/mm 2以上、0.5N/mm 2以上、0.6N/mm 2以上、0.7N/mm 2以上、0.8N/mm 2以上、0.9N/mm 2以上、1.0N/mm 2以上、1.1N/mm 2以上、1.2N/mm 2以上、1.3N/mm 2以上、1.4N/mm 2以上、1.5N/mm 2以上、1.6N/mm 2以上、1.7N/mm 2以上、1.8N/mm 2以上、1.9N/mm 2以上、2.0N/mm 2以上、2.1N/mm 2以上或2.2N/mm 2以上，亦可為2.3N/mm 2以上、2.4N/mm 2以上、2.5N/mm 2以上、2.6N/mm 2以上、2.7N/mm 2以上、2.8N/mm 2以上、2.9N/mm 2以上、3.0N/mm 2以上、3.1N/mm 2以上、3.2N/mm 2以上、3.3N/mm 2以上、3.4N/mm 2以上、3.5N/mm 2以上、3.6N/mm 2以上、3.7N/mm 2以上、3.8N/mm 2以上、3.9N/mm 2以上、4.0N/mm 2以上、4.1N/mm 2以上、4.2N/mm 2以上、4.3N/mm 2以上、4.4N/mm 2以上、4.5N/mm 2以上或4.6N/mm 2以上。具有上述變形量350%下之應力的高折射率黏著劑層可成為具有柔軟性且同時具備適度之凝集力者。
在數個態樣中，高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中變形量350%下之應力S(-20℃)、與在溫度25℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中變形量350%下之應力S(25℃)的比(S(-20℃)/S(25℃))宜為50以下。根據滿足上述特性之高折射率黏著劑層，可在包括低溫區域之寬廣溫度區域中發揮穩定之性能。在數個理想態樣中，上述比(S(-20℃)/S(25℃))可為49以下、48以下、47以下、46以下、45以下、44以下、43以下、42以下、41以下、40以下、39以下、38以下、37以下、36以下、35以下、34以下、33以下、32以下或31以下，亦可為30以下、29以下、28以下、27以下、26以下、25以下、24以下、23以下、22以下、21以下、20以下、19以下、18以下、17以下、16以下或15以下。上述比(S(-20℃)/S(25℃))的下限通常為0以上，在數個理想態樣中，可為1以上、2以上、3以上、4以上、5以上、6以上、7以上、8以上、9以上、10以上、11以上、12以上、13以上、14以上或15以上，亦可為16以上、17以上、18以上、19以上、20以上、21以上、22以上、23以上、24以上、25以上、26以上、27以上、28以上、29以上、30以上或31以上。
在上述溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗，更具體而言可藉由後述試驗例記載之方法來實施。上述在溫度25℃、速度300mm/分鐘之條件下實施之變形試驗，除了將溫度變更為25℃以外，以與上述在-20℃下之變形試驗相同方式實施變形試驗，測定350%變形時之應力[N/mm 2]，並從所得結果求出在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施之變形試驗中變形量350%下之應力S(-20℃)、與在溫度25℃、速度300mm/分鐘之條件下實施之變形試驗中變形量350%下之應力S(25℃)的比(S(-20℃)/S(25℃))。
高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下之350%變形性、在350%下之應力及比(S(-20℃)/S(25℃))可藉由選擇構成基底聚合物之單體成分的組成、設定基底聚合物之重量平均分子量(Mw)、選擇塑化劑種類或使用量、有無使用交聯劑以及選擇種類及使用量、有無使用添加劑以及選擇種類及使用量等來調節。
(儲存彈性模數G') 雖無特別限定，但在數個態樣中，高折射率黏著劑層在0℃下之儲存彈性模數G’(0℃)在1.0×10 4Pa~1.0×10 6Pa之範圍內。根據上述高折射率黏著劑層，因具有高折射率且儲存彈性模數G'(0℃)之範圍已被抑制在低範圍內，故可成為兼顧高折射率與柔軟性者。具有上述範圍之儲存彈性模數G'(0℃)之高折射率黏著劑層可成為兼顧高折射率與柔軟性且具有可承受反覆彎折操作之柔軟性者。上述儲存彈性模數G'(0℃)宜為5.0×10 5Pa以下，可為2.0×10 5Pa以下，可為1.0×10 5Pa以下，可為7.0×10 4Pa以下，可為5.0×10 4Pa以下，亦可為3.0×10 4Pa以下。又，上述儲存彈性模數G'(0℃)宜為2.0×10 4Pa以上，較宜為4.0×10 4Pa以上，可為6.0×10 4Pa以上，亦可為1.0×10 5Pa以上。
在此揭示之高折射率黏著劑層在-20℃下之儲存彈性模數G'(-20℃)無特別限定，例如可小於1.0×10 10Pa，可小於1.0×10 9Pa，為5.0×10 8Pa以下是適當的，可為1.0×10 8Pa以下，可為5.0×10 7Pa以下，可為1.0×10 7Pa以下，可為5.0×10 6Pa以下，可為1.0×10 6Pa以下，亦可為5.0×10 5Pa以下。如上述儲存彈性模數G'(-20℃)經限制之高折射率黏著劑層可成為具有優異之柔軟性者。例如，可成為在更低之溫度區域中具有良好之柔軟性，且在包含低溫區域在內之寬廣溫度區域中具有可承受反覆彎折操作之柔軟性者。上述儲存彈性模數G'(-20℃)的下限無特別限定，例如為1.0×10 2Pa以上，為1.0×10 3Pa以上是適當的，宜為1.0×10 4Pa以上，較宜為1.0×10 5Pa以上，可為5.0×10 5Pa以上，亦可為1.0×10 6Pa以上。具有上述儲存彈性模數G'(-20℃)之高折射率黏著劑層可成為具有柔軟性且同時具備適度之凝集力者。又，根據具有上述儲存彈性模數G'(-20℃)之高折射率黏著劑層，有即便在低溫區域中仍容易兼顧高折射率與柔軟性之傾向。
在此揭示之高折射率黏著劑層在25℃下之儲存彈性模數G'(25℃)可因應使用目的或使用態樣等適當設定，不限定於特定範圍，而由對被黏著體之貼附容易性等觀點來看，例如小於1.0×10 6Pa是適當的，宜小於5.0×10 5Pa，較宜小於3.0×10 5Pa，可小於1.0×10 5Pa，亦可為5.0×10 4Pa以下。如上述儲存彈性模數G'(25℃)經限制之高折射率黏著劑層在室溫環境等一般使用溫度下具有良好之柔軟性。上述儲存彈性模數G'(25℃)的下限無特別限定，由加工性或處理性等觀點來看，又考慮到高折射率化，例如為1.0×10 2Pa以上，為5.0×10 2Pa以上是適當的，宜為1.0×10 3Pa以上，較宜為3.0×10 3Pa以上，亦可為5.0×10 3Pa以上。具有上述儲存彈性模數G'(25℃)之高折射率黏著劑層即便在高溫區域中仍具有適度之凝集力，且有耐熱性優異之傾向，故理想。
在數個態樣中，高折射率黏著劑層在25℃下之儲存彈性模數G’(25℃)宜低於後述低折射率層在25℃下之儲存彈性模數G'(25℃)。根據所述構成，藉由對高折射率黏著劑層與低折射率層之積層體賦予密著性或柔軟性，改善高低差順應性或對曲面等順應性，從而可實現可適宜應用於多種器件設計用途之積層片(黏著片)。
(儲存彈性模數比) 在數個態樣中，可使用0℃下之儲存彈性模數G'(0℃)相對於25℃下之儲存彈性模數G'(25℃)之比(G'(0℃)/G'(25℃))在1~1000之範圍內的黏著劑作為高折射率黏著劑層。根據滿足上述特性之高折射率黏著劑層，因已抑制在0℃至室溫區域為止之寬廣溫度區域中的彈性模數變化，故容易發揮對溫度變化呈穩定之特性(柔軟性等)。上述比(G’(0℃)/G’(25℃))為300以下是適當的，宜為100以下，較宜為50以下，可為25以下，可為10以下，亦可為5以下。上述比(G’(0℃)/G’(25℃))的下限值例如可為2以上，亦可為3以上。
在數個態樣中，可使用-20℃下之儲存彈性模數G'(-20℃)相對於25℃下之儲存彈性模數G'(25℃)之比(G'(-20℃)/G'(25℃))在1~1000之範圍內的黏著劑作為高折射率黏著劑層。根據滿足上述特性之高折射率黏著劑層，因已抑制在更低溫度區域至室溫區域為止之寬廣溫度區域中的彈性模數變化，故可發揮對溫度變化呈穩定之特性(柔軟性等)。上述比(G’(-20℃)/G’(25℃))可為500以下，可為300以下，可為150以下，可為100以下，可為50以下，亦可為30以下。上述比(G’(-20℃)/G’(25℃))的下限值例如可為5以上，可為50以上，可為100以上，亦可為200以上。
(玻璃轉移溫度) 高折射率黏著劑層之玻璃轉移溫度(Tg)無特別限定，可考慮在低溫區域下之柔軟性或在高溫區域下之凝集力(耐熱性等)來設定。在數個態樣中，高折射率黏著劑層之Tg例如為30℃以下，可為15℃以下，亦可為5℃以下。在數個理想態樣中，由柔軟性之觀點來看，高折射率黏著劑層之Tg為0℃以下，較宜為-5℃以下，更宜為-10℃以下，亦可為-15℃以下(例如-20℃以下)。高折射率黏著劑層之Tg愈低，有與被黏著體之密著性等黏著特性愈優異之傾向。又，藉由將高折射率黏著劑層之Tg設定得較低，則可抑制在高於Tg之溫度區域中的彈性模數變化。高折射率黏著劑層之Tg的下限值例如為-50℃以上，為-40℃以上是適當的，可為-30℃以上，亦可為-25℃以上。根據具有上述Tg之高折射率黏著劑層，有可容易獲得適當之凝集力的傾向。且，有容易形成兼顧高折射率與大變形性之黏著劑的傾向。
黏著劑層在上述各溫度下之儲存彈性模數G'及黏著劑層之玻璃轉移溫度可藉由後述試驗例記載之動態黏彈性測定法測定，並可從其結果算出各儲存彈性模數比。黏著劑層(例如高折射率黏著劑層)之各儲存彈性模數G'、各儲存彈性模數比及玻璃轉移溫度例如可藉由選擇構成基底聚合物之單體成分的組成、設定基底聚合物之Mw、選擇塑化劑種類或使用量、有無使用交聯劑以及選擇種類及使用量、有無使用添加劑以及選擇種類及使用量等來調節。
(在130℃下保持1小時後之彈性模數變化) 雖無特別限定，但在數個態樣中，宜使用下述黏著劑作為高折射率黏著劑層：將黏著劑在130℃之環境下保持1小時後在-20℃下之儲存彈性模數G'1、與在130℃之環境下保持1小時前在-20℃下之儲存彈性模數G'0的比(G’1/G’0)為50以下(具體上為1~50)。滿足該特性之高折射率黏著劑層即使暴露在高溫之情況下，彈性模數之變化仍被限制在預定範圍內，而可發揮穩定之特性。上述比(G’1/G’0)宜為30以下，較宜為10以下，更宜為3以下，可為2以下，亦可小於1.5。
在130℃下保持1小時後之彈性模數變化係以下述方法測定。亦即，將黏著劑組成物塗佈於單面經聚矽氧處理之PET薄膜R1的聚矽氧處理面，在130℃下加熱3分鐘，形成厚度20µm之黏著劑層。接著，於上述黏著劑層之表面貼合單面經聚矽氧處理之PET薄膜R2的聚矽氧處理面。從所得附剝離襯墊之黏著劑層(剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊)剝開其中一剝離襯墊，在130℃之烘箱內保持1小時。烘箱係使用對測定試樣具有充分容量且可一邊排氣一邊加熱者。例如可使用espec公司製之烘箱。積層上述在130℃下保持1小時後之黏著劑(層)並製成厚度約1.5mm後，進行高壓釜處理(0.5MPa、50℃、15分鐘)，使各層密著。針對依上述方式所得之測定用試樣，藉由與上述儲存彈性模數G'之測定相同方法求出在130℃之環境下保持1小時後在-20℃下之儲存彈性模數G’(G’1)[Pa]。然後，求出所得儲存彈性模數G’1[Pa]與事先測定之在130℃之環境下保持1小時前在-20℃下之儲存彈性模數G’0[Pa]的比(G’1/G’0)。
(全光線透射率) 在數個態樣中，高折射率黏著劑層之全光線透射率宜為85.0%以上(例如86.0%以上、88.0%以上、90.0%以上或大於90.0%)。全光線透射率的上限在理論上係從100%排除在空氣界面產生之反射所造成之光損失(弗芮耳損失(Fresnel loss))所得之值，實用上例如可為大約98%以下，可為大約96%以下，亦可為大約95%以下。在數個態樣中，考量到折射率或黏著特性，高折射率黏著劑層之全光線透射率可為大約94%以下，可為大約93%以下，亦可為大約92%以下。關於高折射率黏著劑層之該等之全光線透射率，亦可適宜應用於由該高折射率黏著劑層與後述低折射率層(典型上為低折射率黏著劑層)構成之積層片之全光線透射率。
全光線透射率係根據JIS K 7136：2000，使用市售的透射率計來測定。透射率計可使用村上色彩技術研究所製之商品名「HAZEMETER HM-150」或其等效品。全光線透射率可依後述試驗例記載之方法來測定。高折射率黏著劑層之全光線透射率可藉由例如選擇該黏著劑層之組成或厚度等來調節。此外，為了與後述彎折試驗後之全光線透射率作區別，有時將上述全光線透射率稱為初始全光線透射率。
又，在數個態樣中，高折射率黏著劑層在反覆進行10次彎折試驗後彎折部之全光線透射率(彎折試驗後之全光線透射率)宜維持在彎折試驗前之全光線透射率的85%以上，前述彎折試驗係在25℃下將片狀黏著劑各面以半徑2mm彎折成U字形並以該操作為1組之試驗。滿足上述特性之高折射率黏著劑層即使對於反覆之彎折，其光學特性之變化(例如白化)仍少，因此適於折疊式顯示器用途等預想有彎折的光學用途。上述彎折試驗後之全光線透射率較宜為彎折試驗前之全光線透射率的90%以上，更宜為95%以上，尤宜為98%以上(例如99%以上)。上述彎折試驗後之全光線透射率可藉由選擇構成基底聚合物之單體成分的組成、設定基底聚合物之重量平均分子量(Mw)、選擇塑化劑種類或使用量、有無使用交聯劑以及選擇種類及使用量、有無使用添加劑以及選擇種類及使用量等來調節。
上述彎折試驗前後之全光線透射率更具體而言係以下述方法測定。即，將黏著劑層裁切成2cm×10cm之長方形，獲得測定用試驗片。將φ4mm之圓柱狀棒水平固定在對測定來說充分之高度，使上述所得試驗片覆於棒上，使其中一面以半徑2mm撓曲成U字形後保持1分鐘。具體而言，係將上述試驗片其長度方向之中央部分覆於棒上，使其成倒U字形。接著，以夾具(13g)固定位於試驗片下方之兩端，並於該夾具上透過長度1cm之線懸吊60g之砝碼並固定，對試驗片之撓曲部施加荷重。在該狀態下，將試驗片在預定溫度環境(或25℃)下保持1分鐘，經過1分鐘後，從棒取下試驗片。接著，在相同溫度環境下，對試驗片之另一面(上述其中一面之相反面)亦與上述其中一面同樣地，用上述其中一面之彎折部之相反側以半徑2mm撓曲成U字形後保持1分鐘。在同一試驗片之上述彎折部反覆進行10次以其為1組之彎折試驗後，藉由與上述初始全光線透射率之測定方法相同之方法，對上述彎折部測定彎折後之全光線透射率[%]。
(霧度值) 在數個態樣中，高折射率黏著劑層之霧度值例如可為5.0%以下，宜為3.0%以下，較宜為2.0%以下，更宜為1.0%以下，可為0.9%以下，可為0.8%以下，可為0.5%以下，亦可為0.3%以下。如所述透明性高之黏著劑有利於應用於要求高光透射性之用途(例如光學用途)上、或要求可通過該黏著劑良好地視辨被黏著體之性能的用途上。高折射率黏著劑層之霧度值的下限無特別限制，由提升透明性之觀點來看霧度值越小越好。另一方面，在數個態樣中，考量到折射率或黏著特性，高折射率黏著劑層之霧度值例如可為0.05%以上，亦可為0.10%以上。關於高折射率黏著劑層之該等霧度值，亦可適宜應用於由該高折射率黏著劑層與後述低折射率層(典型上為低折射率黏著劑層)構成之積層片之霧度值。
在此「霧度值」意指對測定對象照射可見光時漫透射光相對於全透射光之比率。亦稱為Haze Value。霧度值可以下式表示。 Th(%)=Td/Tt×100 上述式中，Th為霧度值(%)，Td為散射光透射率，Tt為全光透射率。霧度值之測定可依後述試驗例記載之方法來進行。黏著劑層之霧度值可藉由例如選擇該黏著劑層之組成或厚度等來調節。
(黏著面之表面平滑性) 在數個態樣中，高折射率黏著劑層之表面(黏著面)宜具有高表面平滑性。
例如，上述黏著面其算術平均粗度Ra宜被限制在預定值以下。由光學均質性之觀點來看，宜為具備設計成算術平均粗度Ra變低之黏著面的構成。藉由限制算術平均粗度Ra，例如在通過上述黏著面擷取光之使用態樣(在發光裝置中配置於較自發光元件更靠視點側之黏著片等)中，便可發揮抑制因黏著劑層之表面狀態而發生亮度不均的效果。黏著面之算術平均粗度Ra低一事亦有利於抑制光學應變，而光學應變之抑制亦有助於提升光學均質性。在此揭示之積層片(黏著片)為具有第1黏著面及第2黏著面之雙面黏著片之形態(例如，由高折射率黏著劑層與低折射率黏著劑層構成之積層片之形態)時，宜至少第1黏著面之算術平均粗度Ra被限制在預定值以下，較宜為兩黏著面之算術平均粗度Ra皆被限制在預定值以下。藉由雙面黏著片之各黏著面具有高表面平滑性，可適宜實現光學均質性優異之接著。
在數個態樣中，黏著面之算術平均粗度Ra宜為大約70nm以下，較宜為大約65nm以下，更宜為大約55nm以下，可小於50nm，可小於45nm，亦可小於40nm。由生產效率等觀點來看，在數個態樣中，黏著面的算術平均粗度Ra例如可為大約10nm以上，可為大約20nm以上，亦可為大約30nm以上(例如大約40nm以上)。在積層片具有第1黏著面及第2黏著面之態樣中，第1黏著面之算術平均粗度Ra與第2黏著面之算術平均粗度Ra可為相同程度，亦可不同。
又，例如，上述黏著面之最大高度Rz宜被限制在預定值以下。由光學均質性之觀點來看，宜為具備設計成最大高度Rz變低之黏著面的構成。藉由限制最大高度Rz，例如在如上述通過上述黏著面擷取光之使用態樣中，便可發揮抑制因黏著劑層之表面狀態而發生亮度不均的效果。黏著面之最大高度Rz低一事亦有利於抑制光學應變。在此揭示之積層片為具有第1黏著面及第2黏著面之雙面黏著片之形態時，宜至少第1黏著面之最大高度Rz被限制在預定值以下，較宜為兩黏著面之最大高度Rz皆被限制在預定值以下。藉由雙面黏著片之各黏著面具有高表面平滑性，可適宜實現光學均質性優異之接著。
在數個態樣中，黏著面之最大高度Rz宜為大約600nm以下，較宜為大約500nm以下，更宜為大約450nm以下，尤宜為大約400nm以下，可小於350nm，可小於300nm，亦可小於250nm。由生產效率等觀點來看，在數個態樣中，黏著面的最大高度Rz例如可為大約10nm以上，可為大約50nm以上，可為大約100nm以上，亦可為大約200nm以上。在具有第1黏著面及第2黏著面之態樣中，第1黏著面之最大高度Rz與第2黏著面之最大高度Rz可為相同程度，亦可不同。
黏著面之算術平均粗度Ra及最大高度Rz係使用非接觸式表面粗度測定裝置測定。非接觸式表面粗度測定裝置可使用光干涉方式表面粗度測定裝置，例如可使用3維光學輪廓儀(商品名「NewView7300」，ZYGO公司製)或其等效品。具體而言，例如可藉由以下測定方法或以可獲得與利用該測定方法之情況同等或對應之結果之方式來設定測定操作或測定條件，來測定算術平均粗度Ra及最大高度Rz。
即，使用3維光學輪廓儀(商品名「NewView7300」，ZYGO公司製)，在23℃、50%RH之環境下在以下條件下測定測定用試樣之表面形狀。從測得之資料依循JIS B 0601-2001算出算術表面粗度Ra。最大高度Rz係針對藉由上述測定所得資料(粗度曲線)，求出自該粗度曲線之平均線至上側最高之頂部之高度Rp與自上述平均線至下側最深之谷部之深度Rv的和。進行5次測定(亦即N=5)，並使用其等之平均值。 上述測定用試樣例如可將測定對象之黏著劑層或包含該黏著劑層之黏著片裁切成長度150mm、寬度50mm左右之尺寸來調製。黏著面已被剝離襯墊保護時，平穩地(例如在拉伸速度300mm/分鐘、剝離角度180°之條件下)剝開該剝離襯墊，使黏著面露出。宜在使黏著面露出後靜置30分鐘左右後再進行測定。 [測定條件] 測定面積：5.62mm×4.22mm (物鏡：2.5倍，內部透鏡：0.5倍) 解析模式： Remove：Cylinder Data Fill：ON(Max：25) Remove Spikes：ON (xRMS：1) Filter：OFF
黏著面之算術平均粗度Ra及最大高度Rz可藉由用於形成黏著劑層之黏著劑組成物之組成或性狀(黏度、調平性等)、保護黏著面之剝離襯墊之表面(剝離面)的性狀等來調節。
(基底聚合物) 在此揭示之技術中，構成高折射率黏著劑層之黏著劑的種類無特別限定。上述黏著劑可為包含可在黏著劑領域中使用之丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物(天然橡膠、合成橡膠、該等之混合物等)、聚酯系聚合物、胺甲酸酯系聚合物、聚醚系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚醯胺系聚合物、氟系聚合物等之各種橡膠狀聚合物之1種或2種以上作為黏著性聚合物(意指可將黏著劑塑形之結構聚合物，以下亦稱「基底聚合物」)者。由黏著性能或成本等觀點來看，可適宜採用包含丙烯酸系聚合物或橡膠系聚合物作為基底聚合物之黏著劑。其中，又以將丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)為宜。在此揭示之技術適宜在使用丙烯酸系黏著劑之態樣下實施。
以下，主要說明藉由丙烯酸系黏著劑構成之高折射率黏著劑層，惟非意在將在此揭示之技術中的高折射率黏著劑層限定為丙烯酸系黏著劑層。
此外，在本說明書中，黏著劑之「基底聚合物」意指該黏著劑中所含橡膠狀聚合物之主成分，除此之外不作任何限定解釋。上述橡膠狀聚合物係指於室溫附近之溫度區域中展現橡膠彈性之聚合物。又，在本說明書中，「主成分」在未特別註記時，意指包含大於50重量%之成分。 又，在本說明書中，「丙烯酸系聚合物」意指包含下述單體單元作為構成該聚合物之單體單元的聚合物：該單體單元係源自1分子中具有至少1個(甲基)丙烯醯基之單體。以下，1分子中具有至少1個(甲基)丙烯醯基之單體亦稱「丙烯酸系單體」。因此，本說明書中之丙烯酸系聚合物係定義為包含源自丙烯酸系單體之單體單元的聚合物。丙烯酸系聚合物之典型例可舉可用於該丙烯酸系聚合物之合成之總單體中丙烯酸系單體之比率大於50重量%(宜大於70重量%，例如大於90重量%)之聚合物。 又，在本說明書中「(甲基)丙烯醯基」係指總括丙烯醯基及甲基丙烯醯基之意。同樣地，「(甲基)丙烯酸酯」係指總括丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯之意，而「(甲基)丙烯酸」係指總括丙烯酸及甲基丙烯酸之意。因此，在此所提丙烯酸系單體之概念可包含具有丙烯醯基之單體(丙烯酸系單體)及具有甲基丙烯醯基之單體(甲基丙烯酸系單體)兩者。
(丙烯酸系聚合物) 在此揭示之高折射率黏著劑層可適宜採用丙烯酸系黏著劑層(高折射率丙烯酸系黏著劑層)。作為上述丙烯酸系黏著劑之基底聚合物的丙烯酸系聚合物宜為包含含芳香環單體(A1)作為構成該丙烯酸系聚合物之單體成分者。亦即，宜為包含含芳香環單體(A1)作為單體單元之丙烯酸系聚合物。在此，本說明書中所謂「構成丙烯酸系聚合物之單體成分」，意指無論是以預先形成之聚合物(可為寡聚物)之形態包含於黏著劑組成物中、或是以未聚合單體之形態包含於黏著劑組成物中，皆會在由該黏著劑組成物形成之黏著劑中構成丙烯酸系聚合物之重複單元的單體。亦即，構成丙烯酸系聚合物之單體成分可在聚合物、未聚合物、部分聚合物之任一形態下包含於上述黏著劑組成物中。由黏著劑組成物之調製容易性等觀點來看，在數個態樣中宜為將單體成分之實質上全部(例如95重量%以上，宜為99重量%以上)以聚合物之形態包含的黏著劑組成物。
(單體(A1)) 單體(A1)可使用1分子中包含至少1個芳香環與至少1個乙烯性不飽和基之化合物。單體(A1)可單獨使用1種所述化合物或組合2種以上來使用。
上述乙烯性不飽和基之例可舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、(甲基)烯丙基等。由聚合反應性之觀點來看宜為(甲基)丙烯醯基，而由柔軟性或黏著性之觀點來看以丙烯醯基較佳。由抑制高折射率黏著劑層之柔軟性降低之觀點來看，單體(A1)可適宜使用1分子中所含之乙烯性不飽和基之數量為1的化合物(即單官能單體)。
可使用作為單體(A1)之化合物1分子中所含芳香環之數量可為1，亦可為2以上。上述芳香環之數量的上限無特別限制，例如可為16以下。在數個態樣中，由丙烯酸系聚合物之調製容易性或黏著劑之透明性等之觀點來看，上述芳香環之數量例如可為12以下，宜為8以下，較宜為6以下，可為5以下，可為4以下，可為3以下，亦可為2以下。
可使用作為單體(A1)之化合物具有之芳香環亦可為：苯環(可為構成聯苯結構或茀結構之一部分的苯環)；萘環、茚環、薁環、蒽環、菲環之縮合環等之碳環；亦可為吡啶環、嘧啶環、嗒𠯤環、吡𠯤環、三𠯤環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、三唑環、㗁唑環、異㗁唑環、噻唑環、噻吩環等之雜環(heterocycle)。上述雜環中作為環構成原子所含之雜原子例如可為選自於由氮、硫及氧所構成群組中之1或2種以上。在數個態樣中，上述構成雜環之雜原子可為氮及硫之一者或兩者。單體(A1)亦可具有例如如二萘并噻吩結構般1或2個以上碳環與1或2個以上雜環已進行縮合之結構。
上述芳香環(宜為碳環)可於環構成原子上具有1或2個以上取代基，亦可不具有取代基。具有取代基時，該取代基可例示烷基、烷氧基、芳氧基、羥基、鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子等)、羥烷基、羥烷基氧基、環氧丙氧基等，惟不受該等所限。在包含碳原子之取代基中，該取代基所含之碳原子之數量宜為1~4，較宜為1~3，且例如可為1或2。在數個態樣中，上述芳香環可為於環構成原子上不具有取代基之芳香環、或可為於環構成原子上具有選自於由烷基、烷氧基及鹵素原子(例如溴原子)所構成群組中之1或2個以上取代基之芳香環。此外，單體(A1)具有之芳香環於其環構成原子上具有取代基，係指該芳香環具有具乙烯性不飽和基之取代基以外之取代基。
芳香環與乙烯性不飽和基可直接鍵結，亦可隔著連結基來鍵結。上述連結基例如可為包含選自伸烷基、氧伸烷基、聚(氧伸烷基)基、苯基、烷基苯基、烷氧基苯基、該等基中之1或2個以上氫原子被羥基取代之結構的基團(例如羥伸烷基)、氧基(-O-基)、硫代氧基(-S-基)等中之1或2種以上結構的基團。在數個態樣中，可適宜採用芳香環與乙烯性不飽和基直接鍵結之結構的含芳香環單體、或隔著選自於由伸烷基、氧伸烷基及聚(氧伸烷基)基所構成群組中之連結基而鍵結之結構的含芳香環單體。上述伸烷基及上述氧伸烷基之碳原子數宜為1~4，較宜為1~3，例如可為1或2。上述聚(氧伸烷基)基中之氧伸烷基單元的重複數例如可為2~3。
作為單體(A1)，可適宜採用之化合物之例可舉含芳香環(甲基)丙烯酸酯及含芳香環乙烯基化合物。含芳香環(甲基)丙烯酸酯及含芳香環乙烯基化合物可分別單獨使用1種或組合2種以上來使用。亦可組合1種或2種以上含芳香環(甲基)丙烯酸酯與1種或2種以上含芳香環乙烯基化合物來使用。
在數個理想態樣中，由可容易獲得高程度的高折射率化效果來看，可使用1分子中具有2個以上芳香環(宜為碳環)之單體作為單體(A1)。1分子內具有2個以上芳香環之單體(含複數個芳香環之單體)之例可列舉：具有2個以上非縮合芳香環隔著連結基鍵結之結構的單體、具有2個以上非縮合芳香環直接(亦即不隔著其他原子)化學鍵結之結構的單體、具有縮合芳香環結構之單體、具有茀結構之單體、具有二萘并噻吩結構之單體、具有二苯并噻吩結構之單體等。其中，可適宜使用具有2個以上非縮合芳香環隔著連結基鍵結之結構的單體(例如後述間苯氧基苄基(甲基)丙烯酸酯)。含複數個芳香環之單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
上述連結基可為例如：氧基(-O-)、硫代氧基(-S-)、氧伸烷基(例如-O-(CH 2) n-基，在此n為1~3，宜為1)、硫代氧伸烷基(例如-S-(CH 2) n-基，在此n為1~3，宜為1)、直鏈伸烷基(亦即-(CH 2) n-基，在此n為1~6，宜為1~3)、上述氧伸烷基、上述硫代氧伸烷基及上述直鏈伸烷基中之伸烷基已部分鹵化或完全鹵化之基團等。由高折射率黏著劑層之柔軟性等觀點來看，上述連結基之適宜例可舉氧基、硫代氧基、氧伸烷基及直鏈伸烷基。具有2個以上非縮合芳香環隔著連結基鍵結之結構的單體之具體例可舉苯氧基苄基(甲基)丙烯酸酯(例如間苯氧基苄基(甲基)丙烯酸酯)、硫代苯氧基苄基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄基苄酯等。
上述2個以上非縮合芳香環直接化學鍵結之結構的單體例如可為含聯苯結構之(甲基)丙烯酸酯、含三苯基結構之(甲基)丙烯酸酯、含乙烯基之聯苯等。具體例可舉鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、聯苯甲基(甲基)丙烯酸酯等。
上述具有縮合芳香環結構之單體之例可舉含萘環(甲基)丙烯酸酯、含蒽環(甲基)丙烯酸酯、含乙烯基萘、含乙烯基蒽等。具體例可舉：1-萘基甲基(甲基)丙烯酸酯(別名：1-萘甲基(甲基)丙烯酸酯)、羥乙基化β-萘酚丙烯酸酯、2-萘乙基(甲基)丙烯酸酯、2-萘氧乙基丙烯酸酯、2-(4-甲氧基-1-萘氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯等。
上述具有茀結構之單體的具體例可舉9,9-雙(4-羥苯基)茀(甲基)丙烯酸酯、9,9-雙[4-(2-羥乙氧基)苯基]茀(甲基)丙烯酸酯等。此外，具有茀結構之單體因包含2個苯環直接化學鍵結之結構部分，故包含在具有上述2個以上非縮合芳香環直接化學鍵結之結構的單體的概念中。
上述具有二萘并噻吩結構之單體可舉含(甲基)丙烯醯基之二萘并噻吩、含乙烯基之二萘并噻吩、含(甲基)烯丙基之二萘并噻吩等。具體例可列舉：(甲基)丙烯醯氧基甲基二萘并噻吩(例如於二萘并噻吩環之5位或6位鍵結有CH 2CH(R 1)C(O)OCH 2-之結構的化合物；此處，R 1為氫原子或甲基)、(甲基)丙烯醯氧基乙基二萘并噻吩(例如於二萘并噻吩環之5位或6位鍵結有CH 2CH(R 1)C(O)OCH(CH 3)-或CH 2CH(R 1)C(O)OCH 2CH 2-之結構的化合物；此處，R 1為氫原子或甲基)、乙烯基二萘并噻吩(例如於萘并噻吩環之5位或6位鍵結有乙烯基之結構的化合物)、(甲基)烯丙氧基二萘并噻吩等。此外，具有二萘并噻吩結構之單體係藉由包含萘結構、還有具有噻吩環與2個萘結構已進行縮合之結構，而亦包含於上述具有縮合芳香環結構之單體的概念中。
上述具有二苯并噻吩結構之單體可舉含(甲基)丙烯醯基之二苯并噻吩、含乙烯基之二苯并噻吩等。此外，具有二苯并噻吩結構之單體由於具有噻吩環與2個苯環已進行縮合之結構，而包含於上述具有縮合芳香環結構之單體的概念中。 此外，二萘并噻吩結構及二苯并噻吩結構皆不屬於2個以上非縮合芳香環直接化學鍵結之結構。
在數個理想態樣中，單體(A1)可使用1分子中具有1個芳香環(宜為碳環)之單體。1分子中具有1個芳香環之單體(含單數個芳香環之單體)例如有助於提升高折射率黏著劑層之柔軟性或調整黏著特性、提升透明性等。含單數個芳香環之單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。在數個態樣中，由提升高折射率黏著劑層之折射率之觀點來看，1分子中具有1個芳香環之單體亦可與含複數個芳香環之單體組合來使用。
1分子中具有1個芳香環之單體之例可列舉：(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲氧基苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、乙氧基化苯酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧丙酯、(甲基)丙烯酸苯氧丁酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、氯苄基(甲基)丙烯酸酯等含碳芳香環(甲基)丙烯酸酯；2-(4,6-二溴-2-二級丁基苯氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4,6-二溴-2-異丙基苯氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、6-(4,6-二溴-2-二級丁基苯氧基)己基(甲基)丙烯酸酯、6-(4,6-二溴-2-異丙基苯氧基)己基(甲基)丙烯酸酯、2,6-二溴-4-壬基苯基丙烯酸酯、2,6-二溴-4-十二基苯基丙烯酸酯等含溴取代芳香環(甲基)丙烯酸酯；苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、三級丁基苯乙烯等含碳芳香環之乙烯基化合物；N-乙烯吡啶、N-乙烯嘧啶、N-乙烯吡𠯤、N-乙烯吡咯、N-乙烯咪唑、N-乙烯基㗁唑等雜芳香環上具有乙烯基取代基之化合物等。
單體(A1)亦可使用如上述之各種含芳香環單體中之乙烯性不飽和基與芳香環之間包夾有氧伸乙基鏈之結構的單體。如所述使乙烯性不飽和基與芳香環之間包夾有氧伸乙基鏈之單體可視為原本單體的乙氧基化物。上述氧伸乙基鏈中之氧伸乙基單元(-CH 2CH 2O-)的重複數典型上為1~4，宜為1~3，較宜為1~2，例如為1。經乙氧基化之含芳香環單體的具體例可舉：乙氧基化鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化壬苯酚(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化甲酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、苯氧基二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
單體(A1)中之含複數個芳香環之單體之含量無特別限制，例如可為5重量%以上、25重量%以上、40重量%以上。在數個態樣中，單體(A1)中之含複數個芳香環之單體之含量例如可為50重量%以上，而由容易獲得更高折射率之觀點來看，宜為70重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。單體(A1)亦可實質上100重量%為含複數個芳香環之單體。亦即，單體(A1)亦可僅使用1種或2種以上含複數個芳香環之單體。又，在其他數個態樣中，例如考慮到高折射率與大變形性之平衡，單體(A1)中之含複數個芳香環之單體之含量可小於100重量%，可為98重量%以下，可為90重量%以下，可為80重量%以下，可為70重量%以下，可為65重量%以下，可為50重量%以下，可為25重量%以下，亦可為10重量%以下。在此揭示之技術即便在單體(A1)中之含複數個芳香環之單體之含量小於5重量%之態樣下仍可實施。亦可不使用含複數個芳香環之單體。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中之含複數個芳香環之單體之含量無特別限制，可設定成可實現兼顧所期望之折射率與大變形性之高折射率黏著劑層。上述單體成分中之含複數個芳香環之單體之含量例如可為3重量%以上，可為10重量%以上，亦可為25重量%以上。在數個態樣中，由容易實現具有更高折射率之高折射率黏著劑層之觀點來看，上述單體成分中之含複數個芳香環之單體之含量例如可大於35重量%，大於50重量%是有利的，宜大於70重量%，可為75重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為91重量%以上、92重量%以上、93重量%以上、94重量%以上、95重量%以上、96重量%以上、97重量%以上、98重量%以上或99重量%以上。上述單體成分中之含複數個芳香環之單體之含量考慮到高折射率與大變形性之平衡，設為大約99重量%以下是有利的，可為98重量%以下，可為96重量%以下，可為93重量%以下，可為90重量%以下，可為85重量%以下，可為80重量%以下，亦可為75重量%以下。在其他數個態樣中，由容易實現更高黏著特性及/或光學特性(例如透明性)之觀點來看，上述單體成分中之含複數個芳香環之單體之含量可為70重量%以下，可為60重量%以下，可為50重量%以下，可為40重量%以下，可為25重量%以下，可為15重量%以下，亦可為5重量%以下。在此揭示之技術即便在上述單體成分中之含複數個芳香環之單體之含量小於3重量%之態樣下仍可實施。
單體(A1)中之含單數個芳香環之單體之含量無特別限制，例如可為5重量%以上、25重量%以上、40重量%以上。在數個態樣中，單體(A1)中之含單數個芳香環之單體之含量例如可為50重量%以上，而由容易獲得更高折射率之觀點來看，宜為70重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。單體(A1)亦可實質上100重量%為含單數個芳香環之單體。亦即，單體(A1)亦可僅使用1種或2種以上含單數個芳香環之單體。又，在數個態樣中，例如考慮到高折射率與大變形性之平衡，單體(A1)中之含單數個芳香環之單體之含量可小於100重量%，可為98重量%以下，可為90重量%以下，可為80重量%以下，可為70重量%以下，可為65重量%以下，可為50重量%以下，可為25重量%以下，亦可為10重量%以下。在此揭示之技術即便在單體(A1)中之含單數個芳香環之單體之含量小於5重量%之態樣下仍可實施。亦可不使用含單數個芳香環之單體。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中之含單數個芳香環之單體之含量無特別限制，可設定成可實現兼顧所期望之折射率與大變形性之高折射率黏著劑層。上述單體成分中之含單數個芳香環之單體之含量例如可為3重量%以上，可為10重量%以上，亦可為25重量%以上。在數個態樣中，由容易實現具有更高折射率之高折射率黏著劑層之觀點來看，上述單體成分中之含單數個芳香環之單體之含量例如可大於35重量%，大於50重量%是有利的，宜為60重量%以上，較宜大於70重量%，可為75重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，可為95重量%以上，亦可為98重量%以上。上述單體成分中之含單數個芳香環單體之含量考慮到高折射率與大變形性之平衡，可設為大約99重量%以下，宜設為98重量%以下，較宜設為96重量%以下，可為93重量%以下，可為90重量%以下，可為85重量%以下，可為80重量%以下，亦可為75重量%以下。在數個態樣中，由容易實現更高黏著特性及/或光學特性(例如透明性)之觀點來看，上述單體成分中之含單數個芳香環之單體之含量可為70重量%以下，可為60重量%以下，可為50重量%以下，可為40重量%以下，可為25重量%以下，可為15重量%以下，亦可為5重量%以下。在此揭示之技術即便在上述單體成分中之含單數個芳香環之單體之含量小於3重量%之態樣下仍可實施。
在數個理想態樣中，單體(A1)之至少一部份可適宜採用高折射率單體。在此，「高折射率單體」意指其折射率例如為大約1.510以上、宜為大約1.530以上、較宜為大約1.550以上之單體。高折射率單體之折射率的上限無特別限制，惟由丙烯酸系聚合物之調製容易性或與適合作為黏著劑之柔軟性之兼顧容易性之觀點來看，例如為3.000以下，可為2.500以下，可為2.000以下，可為1.900以下，可為1.800以下，亦可為1.700以下。高折射率單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。 此外，單體之折射率係使用阿貝折射率計在測定波長589nm、測定溫度25℃之條件下進行測定。阿貝折射率計可使用ATAGO公司製之型式「DR-M4」或其等效品。當有從製造商等提供了在25℃下之折射率的標稱值時，可採用該標稱值。
上述高折射率單體可從在此揭示之含芳香環單體(A1)之概念所含之化合物(例如上述所例示之化合物及化合物群)之中適當採用具有該折射率者。具體例可列舉：間苯氧基苄基丙烯酸酯(折射率：1.566，均聚物之Tg：-35℃)、1-萘甲基丙烯酸酯(折射率：1.595，均聚物之Tg：31℃)、乙氧基化鄰苯基苯酚丙烯酸酯(氧伸乙基單元之重複數：1，折射率：1.578)、丙烯酸苄酯(折射率(nD20)：1.519，均聚物之Tg：6℃)、丙烯酸苯氧乙酯(折射率(nD20)：1.517，均聚物之Tg：2℃)、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯(折射率：1.510，均聚物之Tg：-35℃)、6-丙烯醯氧基甲基二萘并噻吩(6MDNTA，折射率：1.75)、6-甲基丙烯醯氧基甲基二萘并噻吩(6MDNTMA，折射率：1.726)、5-丙烯醯氧基乙基二萘并噻吩(5EDNTA，折射率：1.786)、6-丙烯醯氧基乙基二萘并噻吩(6EDNTA，折射率：1.722)、6-乙烯基二萘并噻吩(6VDNT，折射率：1.802)、5-乙烯基二萘并噻吩(縮寫：5VDNT，折射率：1.793)等，惟不受該等所限。
單體(A1)中之高折射率單體(亦即折射率為大約1.510以上、宜為大約1.530以上、較宜為大約1.550以上之含芳香環單體)之含量無特別限制，例如可為5重量%以上，可為25重量%以上，可為35重量%以上，亦可為40重量%以上。在數個態樣中，由容易獲得更高折射率之觀點來看，單體(A1)中之高折射率單體之含量例如可為50重量%以上，宜為70重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。單體(A1)亦可實質上100重量%為高折射率單體。又，在數個態樣中，例如由平衡兼顧高折射率與大變形性之觀點來看，單體(A1)中之高折射率單體之含量可小於100重量%，可為98重量%以下，可為90重量%以下，可為80重量%以下，亦可為65重量%以下。在其他數個態樣中，考量到黏著特性及/或光學特性，單體(A1)中之高折射率單體之含量可為50重量%以下，可為25重量%以下，可為15重量%以下，亦可為10重量%以下。在此揭示之技術即便在單體(A1)中之高折射率單體之含量小於5重量%之態樣下仍可實施。亦可不使用高折射率單體。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中之高折射率單體之含量無特別限制，可設定成可實現兼顧所期望之折射率與大變形性之高折射率黏著劑層。又，在需要之情況下，亦可進一步考慮兼顧黏著特性(例如接著力等)及/或光學特性(例如全光線透射性、霧度值等)來設定。上述單體成分中之高折射率單體之含量例如可為3重量%以上，可為10重量%以上，亦可為25重量%以上。在數個態樣中，構成丙烯酸系聚合物之單體成分中，高折射率單體之含量例如可大於35重量%，而由容易獲得更高折射率之觀點來看，大於50重量%是有利的，宜大於70重量%，可為75重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。上述單體成分中之高折射率單體之含量由平衡兼顧高折射率與大變形性之觀點來看，設為99重量%以下是有利的，宜設為98重量%以下，較宜設為96重量%以下，可為93重量%以下，可為90重量%以下，可為85重量%以下，可為80重量%以下，亦可為75重量%以下。在其他數個態樣中，考量到黏著特性及/或光學特性，上述單體成分中之高折射率單體之含量可為70重量%以下，可為50重量%以下，可為25重量%以下，可為15重量%以下，亦可為5重量%以下。在此揭示之技術即便在上述單體成分中之高折射率單體之含量小於3重量%之態樣下仍可實施。
在數個理想態樣中，單體(A1)之至少一部分係採用均聚物之Tg為10℃以下之含芳香環單體(以下有時表記為「單體L」)。當增加單體成分中之含芳香環單體(A1)(尤其是相當於上述含複數個芳香環之單體、含單數個芳香環之單體及高折射率單體中之至少一者的含芳香環單體(A1))之含量時，黏著劑之柔軟性會大致傾向降低，但藉由採用單體L作為該單體(A1)之一部分或全部，可抑制柔軟性降低。藉此，可更良好地維持大變形性，並可提升折射率。單體L之Tg例如可為5℃以下，可為0℃以下，可為-10℃以下，可為-20℃以下，亦可為-25℃以下。單體L之Tg的下限無特別限制。考量到與折射率提升效果之平衡，在數個態樣中，單體L之Tg例如可為-70℃以上，可為-55℃以上，亦可為-45℃以上。在其他數個態樣中，單體L之Tg例如可為-30℃以上，可為-10℃以上，可為0℃以上，亦可為3℃以上。單體L可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
單體L可從在此揭示之含芳香環單體(A1)之概念所含之化合物(例如上述所例示之化合物及化合物群)之中適當採用具有該Tg者。可作為單體L使用之含芳香環單體之適宜例可舉：間苯氧基苄基丙烯酸酯(均聚物之Tg：-35℃)、丙烯酸苄酯(均聚物之Tg：6℃)、丙烯酸苯氧乙酯(均聚物之Tg：2℃)、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯(均聚物之Tg：-35℃)。
單體(A1)中之單體L之含量無特別限制，例如可為5重量%以上，可為25重量%以上，亦可為40重量%以上。在數個態樣中，由容易獲得以更高水準兼顧高折射率與大變形性之高折射率黏著劑層之觀點來看，單體(A1)中之單體L之含量例如可為50重量%以上，而由提升大變形性之觀點來看宜為60重量%以上，可為70重量%以上，可為75重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。單體(A1)亦可實質上100重量%為單體L。又，在其他數個態樣中，例如由平衡兼顧高折射率與大變形性之觀點來看，單體(A1)中之單體L之含量可小於100重量%，可為98重量%以下，可為90重量%以下，可為80重量%以下，亦可為65重量%以下。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中之單體L之含量例如可為3重量%以上，可為10重量%以上，亦可為25重量%以上。在數個態樣中，由容易獲得以更高水準兼顧高折射率與大變形性之高折射率黏著劑層之觀點來看，單體成分中之單體L之含量例如可大於35重量%，而由提升折射率之觀點來看，大於50重量%是有利的，宜大於70重量%，可為75重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。上述單體成分中之單體L之含量由平衡兼顧高折射率與大變形性之觀點來看，設為大約99重量%以下是有利的，宜設為98重量%以下，較宜設為96重量%以下，可為93重量%以下，可為90重量%以下，可為85重量%以下，可為80重量%以下，亦可為75重量%以下。
在數個態樣中，含芳香環單體(A1)亦可組合單體L(亦即為均聚物的Tg為10℃以下之含芳香環單體)與Tg高於10℃之單體H來使用。單體H之Tg例如可高於10℃，可高於15℃，亦可高於20℃。藉由組合單體L與單體H來使用，在單體成分中之含芳香環單體(A1)之含量多之高折射率黏著劑層中，可以更高水準兼顧該高折射率黏著劑層之高折射率化與適於對被黏著體密著之柔軟性。單體L與單體H之使用量比可設定成可適宜展現所述效果，並無特別限定。
在數個態樣中，含芳香環單體(A1)可適宜自不含2個以上非縮合芳香環直接化學鍵結之結構(例如聯苯結構)的化合物中選擇。例如，宜為藉由下述組成之單體成分構成之丙烯酸系聚合物：包含2個以上非縮合芳香環直接化學鍵結之結構的化合物之含量小於5重量%(較宜為小於3重量%，亦可為0重量%)。關於如此限制包含2個以上非縮合芳香環直接化學鍵結之結構的化合物之使用量一事，由實現更平衡兼顧高折射率與大變形性之高折射率黏著劑層之觀點來看是有利的。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中之單體(A1)之含量無特別限制，可設定成可實現兼顧所期望之折射率與大變形性、進而黏著特性(例如接著力等)及/或光學特性(例如全光線透射率、霧度值等)之高折射率黏著劑層。在數個態樣中，上述單體成分中之單體(A1)之含量例如可為30重量%以上，宜為50重量%以上，亦可較宜為60重量%以上，亦可為70重量%以上。在數個理想態樣中，構成丙烯酸系聚合物之單體成分中之單體(A1)之含量例如可大於70重量%，為75重量%以上是適當的；而由容易獲得更高折射率之觀點來看，宜為80重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為91重量%以上、92重量%以上、93重量%以上、94重量%以上、95重量%以上、96重量%以上、97重量%以上、98重量%以上或99重量%以上。上述單體成分中之單體(A1)之含量典型上小於100重量%，而由平衡兼顧高折射率與大變形性之觀點來看，大約99重量%以下是有利的，可為98重量%以下，可為96重量%以下，可為93重量%以下，亦可為90重量%以下。在數個態樣中，由容易實現更高黏著特性及/或光學特性(例如透明性)之觀點來看，上述單體成分中之單體(A1)之含量可小於90重量%，可小於85重量%，亦可小於80重量%。
(單體(A2)) 在數個理想態樣中，構成丙烯酸系聚合物之單體成分除上述單體(A1)外，可更含有單體(A2)。上述單體(A2)係相當於具有羥基之單體(含羥基單體)及具有羧基之單體(含羧基單體)中之至少一者的單體。上述含羥基單體係1分子內具有至少1個羥基與至少1個乙烯性不飽和基之化合物。上述含羧基單體係1分子內包含至少1個羧基與至少1個乙烯性不飽和基之化合物。單體(A2)可有助於用以將交聯點導入丙烯酸系聚合物、或賦予高折射率黏著劑層適度的凝集性。單體(A2)可單獨使用1種或組合2種以上來使用。單體(A2)可含有芳香環，亦可不含芳香環。單體(A2)可適宜使用不含芳香環之單體。此外，單體(A2)係定義為與前述單體(A1)不同之單體，例如前述單體(A1)可定義為不具羥基及羧基之單體。
單體(A2)具有之乙烯性不飽和基之例可舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、(甲基)烯丙基等。由聚合反應性之觀點來看宜為(甲基)丙烯醯基，而由提升柔軟性或黏著性之觀點來看以丙烯醯基較佳。由提升高折射率黏著劑層之柔軟性之觀點來看，單體(A2)可適宜使用1分子中所含之乙烯性不飽和基之數量為1的化合物(即單官能單體)。
在數個態樣中，單體(A2)可使用乙烯性不飽和基(例如(甲基)丙烯醯基)與羥基及/或羧基之距離較長的單體。藉此，在上述羥基及/或羧基用於交聯反應之態樣中，可容易獲得柔軟性高之交聯結構。例如，可將構成連結上述乙烯性不飽和基與羥基及/或羧基之鏈(連結鏈)的原子(典型上為碳原子或氧原子)之數量為3以上(例如4以上、5以上、6以上、7以上、8以上、9以上、10以上、11以上、12以上、13以上、14以上、15以上、16以上、17以上、18以上或19以上)的化合物作為單體(A2)使用。上述連結鏈構成原子數的上限例如為45以下，亦可為20以下(例如19以下、18以下、17以下、16以下、15以下、14以下、13以下、12以下、11以下、10以下、9以下或8以下)。此外，連結上述乙烯性不飽和基與羥基及/或羧基之連結鏈構成原子數，係指從乙烯性不飽和基到達羥基或羧基所需之最小原子之數量。例如，上述連結鏈由直鏈伸烷基(即-(CH 2) n-基)構成時，n之數量便成為上述連結鏈構成原子數。又例如，上述連結鏈為氧伸乙基(即-(C 2H 4O) n-基)時，構成氧伸乙基之碳原子數2與氧原子數1之和3與n之積(3n)便成為上述連結鏈構成原子數。作為所述單體(A2)，可使用在上述乙烯性不飽和基與上述羥基及/或羧基之間具有至少1個-例如-(CH 2) n-所示之伸烷基單元、或-(C mH 2mO)-所示之氧伸烷基單元(例如前述式中之m為2的氧伸乙基單元、前述式中之m為3的氧伸丙基單元、前述式中之m為4的氧伸丁基單元)者，但無特別限定。上述伸烷基單元或氧伸烷基單元之數量無特別限定，亦可為1以上(例如1~15或1~10或2~6或2~4)。又，表示上述伸烷基單元之式中之n例如為1~10之整數，可為2以上，可為3以上，亦可為4以上，且可為6以下，亦可為5以下。表示上述氧伸烷基單元之式中之m為2以上之整數，例如為2~4之整數。單體(A2)可為除上述乙烯性不飽和基、羥基及/或羧基、伸烷基單元及/或氧伸烷基單元外，還包含酯鍵或醚鍵、硫醚鍵、芳香環、脂肪族環、雜環(例如包含氮原子(N)或氧原子(O)、硫原子(S)之環)者。又，上述伸烷基單元或氧伸烷基單元亦可具有取代基。
含羥基單體之例可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯、(4-羥甲基環己基)甲基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯；聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇單(甲基)丙烯酸酯等聚伸烷基二醇單(甲基)丙烯酸酯等，惟不受該等所限。可適宜使用之含羥基單體之例可舉丙烯酸4-羥丁酯(Tg：-40℃)及丙烯酸2-羥乙酯(Tg：-15℃)。由提升在室溫區域中之柔軟性之觀點來看，以Tg更低之丙烯酸4-羥丁酯較佳。又，在使用(甲基)丙烯酸羥烷基酯作為含羥基單體且將該羥基利用於交聯反應之態樣中，由獲得柔軟性高之交聯結構之觀點來看，宜使用上述(甲基)丙烯酸羥烷基酯中之羥烷基之碳數多之單體，宜使用例如上述羥烷基之碳數為3以上(例如3~12，宜為4~10)之(甲基)丙烯酸羥烷基酯(例如丙烯酸4-羥丁酯)。在數個理想態樣中，單體(A2)之50重量%以上(例如大於50重量%、大於70重量%或大於85重量%)可為丙烯酸4-羥丁酯。含羥基單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
在使用含羥基單體作為單體(A2)之數個態樣中，上述含羥基單體可為選自不具甲基丙烯醯基之化合物中之1種或2種以上。不具甲基丙烯醯基之含羥基單體的適宜例可舉上述各種丙烯酸羥烷基酯。例如，以作為單體(A2)使用之含羥基單體中大於50重量%、大於70重量%或大於85重量%為丙烯酸羥烷基酯為佳。藉由使用丙烯酸羥烷基酯，可將有助於提供交聯點或賦予適度凝集性的羥基導入丙烯酸系聚合物，且相較於僅使用對應之甲基丙烯酸羥烷基之情況更可容易獲得在室溫區域中之柔軟性或黏著性佳的黏著劑。
含羧基單體之例除(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯等丙烯酸系單體外，還可舉伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸及異巴豆酸等，惟不受該等所限。可適宜使用之含羧基單體之例可舉丙烯酸、甲基丙烯酸。又，在數個態樣中，由提升高折射率黏著劑層之柔軟性之觀點來看，含羧基單體例如宜使用下述式(1)所示之化合物。 CH 2=CR 1-COO-R 2-OCO-R 3-COOH　　　　　(1) 在此，上述式(1)中之R 1為氫或甲基。R 2及R 3為2價連結基(具體上為碳原子數1~20(例如2~10，宜為2~5)之有機基)，可彼此相同亦可互異。上述式(1)中之R 2及R 3例如可為2價脂肪族烴基、芳香族烴基、脂環族烴基。例如，上述R 2及R 3可為碳原子數2~5之伸烷基。上述式(1)所示之含羧基單體之具體例可列舉例如：2-(甲基)丙烯醯氧基乙基六氫酞酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-酞酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥乙基-酞酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-琥珀酸、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基六氫酞酸氫酯、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基酞酸氫酯、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基四氫酞酸氫酯等。含羧基單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。亦可併用含羥基單體與含羧基單體。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中之單體(A2)之含量無特別限制，可按目的設定。在數個態樣中，上述單體(A2)之含量例如為0.01重量%以上，0.1重量%以上是適當的，宜為0.5重量%以上。由獲得更高之使用效果之觀點來看，在數個態樣中，上述單體(A2)之含量可設為1重量%以上，可設為2重量%以上，亦可設為4重量%以上。單體成分中之單體(A2)之含量的上限係設定成與單體(A1)之含量的合計不超過100重量%。在數個態樣中，上述單體(A2)之含量例如設為30重量%以下或25重量%以下是適當的，而由使單體(A1)之含量相對較多而容易高折射率化之觀點來看，宜設為20重量%以下，較宜設為15重量%以下，可小於12重量%，可小於10重量%，亦可小於7重量%。在數個理想態樣中，由提升高折射率黏著劑層之大變形性之觀點來看，上述單體(A2)之含量小於5重量%，較宜小於3重量%，亦可為1.5重量%以下。
(單體A3) 在數個態樣中，構成丙烯酸系聚合物之單體成分除上述單體(A1)外，可更含有(甲基)丙烯酸烷基酯(以下亦稱「單體(A3)」)。單體(A3)可有助於提升高折射率黏著劑層之柔軟性。且，還可有助於改善添加劑在黏著劑內之相溶性或接著力等之黏著特性。單體(A3)可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
單體(A3)可適宜使用於酯末端具有碳原子數1~20之(即C 1-20之)直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸C 1-20烷基酯之具體例可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸十四酯、(甲基)丙烯酸十五酯、(甲基)丙烯酸十六酯、(甲基)丙烯酸十七酯、(甲基)丙烯酸十八酯、(甲基)丙烯酸異十八酯、(甲基)丙烯酸十九酯、(甲基)丙烯酸二十酯等，惟不受該等所限。
在數個態樣中，單體(A3)之至少一部分可適宜採用均聚物之Tg為-20℃以下(較宜為-40℃以下，例如-50℃以下)之(甲基)丙烯酸烷基酯。所述低Tg之(甲基)丙烯酸烷基酯可有助於提升高折射率黏著劑層之柔軟性。且，還可有助於改善接著力等之黏著特性。上述(甲基)丙烯酸烷基酯之Tg的下限無特別限制，例如可為-85℃以上，可為-75℃以上，可為-65℃以上，亦可為-60℃以上。上述低Tg(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例可舉丙烯酸正丁酯(BA)、丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)、丙烯酸庚酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸異壬酯(iNA)等。在其他數個態樣中，單體(A3)之至少一部分可採用均聚物之Tg高於-20℃(例如-10℃以上)之(甲基)丙烯酸烷基酯。上述(甲基)丙烯酸烷基酯之Tg的上限例如為10℃以下，可為5℃以下，亦可為0℃以下。具有該範圍之Tg的(甲基)丙烯酸烷基酯可有助於調整高折射率黏著劑層之柔軟性。具有上述Tg之(甲基)丙烯酸烷基酯宜與上述低Tg(甲基)丙烯酸烷基酯併用，但無特別限定。具有上述Tg之(甲基)丙烯酸烷基酯的具體例可舉丙烯酸月桂酯(LA)。
在使用單體(A3)之數個態樣中，宜使用(甲基)丙烯酸C 4-8烷基酯作為單體(A3)。其中，較宜使用丙烯酸C 4-8烷基酯。(甲基)丙烯酸C 4-8烷基酯可單獨使用1種或組合2種以上來使用。藉由使用(甲基)丙烯酸C 4-8烷基酯，有容易實現提升高折射率黏著劑層之柔軟性、且可容易獲得良好黏著特性(接著力等)的傾向。在使用(甲基)丙烯酸C 4-8烷基酯作為單體(A3)之態樣中，單體成分中所含之(甲基)丙烯酸烷基酯中(甲基)丙烯酸C 4-8烷基酯之比率為30重量%以上是適當的，宜為50重量%以上，較宜為70重量%以上，更宜為90重量%以上，亦可實質上為100重量%。
在使用單體(A3)之數個態樣中，可使用(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯作為單體(A3)。藉由使用(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯，可調節各溫度區域之儲存彈性模數。例如將高溫區域之儲存彈性模數設定成相對較高，可抑制低溫區域與高溫區域之儲存彈性模數差變大。且，(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯有與單體(A1)之共聚性亦優異之傾向。(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯可單獨使用1種或組合2種以上來使用。(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯宜為丙烯酸C 1-6烷基酯，較宜為丙烯酸C 2-6烷基酯，更宜為丙烯酸C 4-6烷基酯。在其他數個態樣中，(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯宜為(甲基)丙烯酸C 1-4烷基酯，較宜為(甲基)丙烯酸C 2-4烷基酯，更宜為丙烯酸C 2-4烷基酯。(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯之適宜例可舉BA。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中，(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯之含量例如可為1重量%以上，可為3重量%以上，可為5重量%以上，亦可為8重量%以上。在數個態樣中，由提升柔軟性、接著力等之觀點來看，上述(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯之含量可為10重量%以上，可為15重量%以上，可為20重量%以上，亦可為25重量%以上(例如30重量%以上)。單體成分中(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯之含量的上限例如小於50重量%，亦可小於35重量%。在數個態樣中，由維持高折射率之觀點來看，上述(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯之含量例如為24重量%以下，宜小於20重量%，較宜小於17重量%，可小於12重量%，可小於7重量%，可小於3重量%，亦可小於1重量%。在此揭示之技術即便在實質上不使用(甲基)丙烯酸C 1-6烷基酯之態樣下仍可實施。
在使用單體(A3)之其他數個態樣中，可適宜使用(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯作為單體(A3)。藉由使用(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯，可適宜降低儲存彈性模數。(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯可單獨使用1種或組合2種以上來使用。(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯宜為丙烯酸C 7-10烷基酯，較宜為丙烯酸C 7-9烷基酯，更宜為丙烯酸C 8烷基酯。(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯之例可舉2EHA、iNA、LA，適宜例可舉2EHA。
構成丙烯酸系聚合物之單體成分中，(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯之含量例如可為1重量%以上，可為3重量%以上，可為5重量%以上，亦可為8重量%以上。在數個態樣中，由提升柔軟性、接著力等之觀點來看，上述(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯之含量可為10重量%以上，可為15重量%以上，可為20重量%以上，亦可為25重量%以上(例如30重量%以上)。單體成分中(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯之含量的上限例如小於50重量%，亦可小於35重量%。在數個態樣中，由維持高折射率之觀點來看，上述(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯之含量例如為24重量%以下，宜小於20重量%，較宜小於17重量%，可小於12重量%，可小於7重量%，可小於3重量%，亦可小於1重量%。在此揭示之技術即便在實質上不使用(甲基)丙烯酸C 7-12烷基酯之態樣下仍可實施。
在使用單體(A3)之數個態樣中，由提升柔軟性之觀點來看，上述單體(A3)之至少一部分宜為丙烯酸烷基酯。丙烯酸烷基酯之使用在接著力等之黏著特性方面來看亦有利。例如，單體(A3)中50重量%以上宜為丙烯酸烷基酯，單體(A3)中之丙烯酸烷基酯之比率較宜為75重量%以上，更宜為90重量%以上，單體(A3)亦可實質上100重量%為丙烯酸烷基酯。亦可為僅使用1種或2種以上丙烯酸烷基酯作為單體(A3)且不使用甲基丙烯酸烷基酯之態樣。
在單體成分包含(甲基)丙烯酸烷基酯之態樣中，單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量可設定成可適當發揮其使用效果。在數個態樣中，上述(甲基)丙烯酸烷基酯之含量例如可為1重量%以上，可為3重量%以上，可為5重量%以上，亦可為8重量%以上。單體成分中之單體(A3)之含量的上限係設定成與單體(A1)、(A2)之含量的合計不超過100重量%，例如小於50重量%，亦可小於35重量%。在數個態樣中，上述單體(A3)之含量例如可為24重量%以下。一般而言，(甲基)丙烯酸烷基酯之折射率較低，因此為了高折射率化，限制單體成分中之單體(A3)之含量，使單體(A1)之含量相對較多是有利的。由所述觀點來看，單體(A3)之含量小於單體成分之23重量%是適當的，宜小於20重量%，較宜小於17重量%，可小於12重量%，可小於7重量%，可小於3重量%，亦可小於1重量%。在此揭示之技術即便在實質上不使用單體(A3)之態樣下仍可適宜實施。
(其他單體) 構成丙烯酸系聚合物之單體成分亦可視需求包含有上述單體(A1)、(A2)、(A3)以外之單體(以下稱作「其他單體」)。上述其他單體例如可為了調整丙烯酸系聚合物之Tg、調整黏著性能、改善在黏著劑層內之相溶性等來使用。上述其他單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
上述其他單體之例可舉具有羥基及羧基以外之官能基的單體(含官能基單體)。例如，可使黏著劑之凝集力或耐熱性提升之其他單體可舉含磺酸基單體、含磷酸基單體、含氰基單體等。又，作為可於丙烯酸系聚合物中導入可成為交聯基點之官能基、或是可有助於提升與被黏著體之密著力或改善在黏著劑內之相溶性的單體，可列舉：含醯胺基單體(例如(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等)、含胺基單體(例如胺乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯等)、具有含氮原子環之單體(例如N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-(甲基)丙烯醯基嗎福林等)、含醯亞胺基單體、含環氧基單體、含酮基單體、含異氰酸酯基單體、含烷氧矽基單體等。此外，具有含氮原子環之單體中有例如像N-乙烯基-2-吡咯啶酮般亦相當於含醯胺基單體之物。關於上述具有含氮原子環之單體與含胺基單體之關係亦同。
上述含官能基單體以外可使用之其他單體可列舉：乙酸乙烯酯等乙烯酯系單體；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯等含非芳香族性環(甲基)丙烯酸酯；乙烯、丁二烯、異丁烯等烯烴系單體；氯乙烯等含氯單體；甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等含烷氧基單體；甲基乙烯基醚等乙烯基醚系單體等。可在提升黏著劑之柔軟性等目的下使用之其他單體的一適宜例可舉乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯(別名：乙基卡必醇丙烯酸酯，均聚物之Tg：-67℃)。
使用上述其他單體時，其使用量無特別限制，可在單體成分之合計量不超過100重量%之範圍內適當設定。由容易發揮使用單體(A1)所得之折射率提升效果之觀點來看，單體成分中之上述其他單體之含量可設為例如大約35重量%以下，設為大約25重量%以下(例如0~25重量%)是適當的，可大約20重量%以下(例如0~20重量%)，設為大約10重量%以下(例如0~10重量%)是有利的，宜為大約5重量%以下，例如為大約1重量%以下。在此揭示之技術可適宜在單體成分實質上不含上述其他單體之態樣下實施。
在數個態樣中，構成丙烯酸系聚合物之單體成分可為含甲基丙烯醯基單體之使用量經抑制在預定以下之組成。單體成分中之含甲基丙烯醯基單體之使用量例如可小於5重量%，可小於3重量%，可小於1重量%，亦可小於0.5重量%。關於如此限制含甲基丙烯醯基單體之使用量一事，由實現平衡兼顧柔軟性或黏著性與高折射率之黏著劑之觀點來看是有利的。構成丙烯酸系聚合物的單體成分亦可為不含含甲基丙烯醯基單體之組成(例如僅由含丙烯醯基單體構成之組成)。
在數個態樣中，由抑制高折射率黏著劑層之著色或變色(例如黃變)之觀點來看，構成高折射率黏著劑層之基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)之單體成分中含羧基單體之使用量業經限制。單體成分中之含羧基單體之使用量例如可小於1重量%，可小於0.5重量%，可小於0.3重量%，可小於0.1重量%，亦可小於0.05重量%。關於如此限制含羧基單體之使用量一事，由可抑制下述金屬材料腐蝕之觀點來看亦有利，所述金屬材料是可接觸在此揭示之高折射率黏著劑層的金屬材料、抑或可與在此揭示之高折射率黏著劑層鄰近配置的金屬材料(例如可存在於被黏著體上之金屬配線或金屬膜等)。在此揭示之技術可在上述單體成分不含含羧基單體之態樣下實施。 基於同樣理由，在數個態樣中，構成高折射率黏著劑層之基底聚合物之單體成分中具有酸性官能基(除羧基以外，還包含磺酸基、磷酸基等)之單體之使用量亦可業經限制。所述態樣之單體成分中之含酸性官能基單體之使用量可應用上述含羧基單體之理想使用量。在此揭示之技術可在上述單體成分不含含酸性基單體之態樣(亦即高折射率黏著劑層之基底聚合物為無酸之態樣)下實施。
(玻璃轉移溫度) 構成高折射率黏著劑層之基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)之單體成分宜具有根據該單體成分之組成的玻璃轉移溫度(Tg)大約成為15℃以下之組成。在數個態樣中，上述Tg宜為10℃以下，較宜為5℃以下，更宜為1℃以下，亦可為0℃以下。在其他數個態樣中，上述Tg可為-10℃以下，可為-20℃以下，可為-25℃以下，可為-30℃以下，亦可為-35℃以下。由提升高折射率黏著劑層之柔軟性之觀點來看，Tg低是有利的。又，上述Tg例如可為-60℃以上，而由容易進行黏著劑之高折射率化之觀點來看，宜為-50℃以上，較宜高於-45℃，亦可高於-40℃。在數個態樣中，上述Tg可高於-30℃，可高於-20℃，可高於-10℃，亦可為-5℃以上。兼顧有高折射率與大變形性之高折射率黏著劑層可藉由使用具有上述範圍之Tg之組成的基底聚合物來適宜形成。
在此，根據構成基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)之單體成分之組成的Tg在未特別說明的情況下，意指根據上述單體成分之組成藉由Fox式求得之玻璃轉移溫度。Fox式如以下所示，係共聚物之Tg與構成該共聚物之單體各自均聚合後之均聚物的玻璃轉移溫度Tgi的關係式。 1/Tg=Σ(Wi/Tgi) 在上述Fox式中，Tg表示共聚物之玻璃轉移溫度(單位：K)，Wi表示該共聚物中之單體i的重量分率(重量基準之共聚比率)，Tgi表示單體i之均聚物的玻璃轉移溫度(單位：K)。 關於使用於Tg之計算之均聚物的玻璃轉移溫度，係使用「Polymer Handbook」(第3版，John Wiley & Sons, Inc., 1989年)等公知資料中記載之值。關於上述Polymer Handbook中記載之複數種值的單體，係採用最高之值。公知資料中未記載均聚物之Tg時，係使用藉由日本專利特開2007-51271號公報中記載之測定方法所得之值。
(基底聚合物之調製方法) 在此揭示之技術中，獲得藉由如所述之單體成分構成之基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)的方法無特別限定，可適當採用溶液聚合法、乳化聚合法、整體聚合法、懸浮聚合法、光聚合法等公知的聚合方法。例如，可適宜採用溶液聚合法。進行溶液聚合時之聚合溫度可因應使用之單體及溶劑之種類、聚合引發劑之種類等適當選擇，例如可設為20℃~170℃左右(典型上為40℃~140℃左右)。
溶液聚合所用溶劑(聚合溶劑)可從以往公知之有機溶劑適當選擇。例如，可使用選自下述中之任1種溶劑或2種以上之混合溶劑：甲苯等芳香族化合物類(典型上為芳香族烴類)；乙酸乙酯等乙酸酯類；己烷或環己烷等脂肪族或脂環式烴類；1,2-二氯乙烷等鹵烷類；異丙醇等低級醇類(例如碳原子數1~4之一元醇類)；三級丁基甲基醚等醚類；甲基乙基酮等酮類等。
聚合所用之引發劑可因應聚合方法之種類從公知之聚合引發劑適當選擇。例如可適宜使用2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)等偶氮系聚合引發劑之1種或2種以上。作為聚合引發劑之其他例可舉：過硫酸鉀等過硫酸鹽；苯甲醯基過氧化物、過氧化氫等過氧化物系引發劑；苯基取代乙烷等取代乙烷系引發劑；芳香族羰基化合物等。聚合引發劑之又其他例可舉過氧化物與還原劑組合而成之氧還系引發劑。聚合引發劑可單獨使用1種或組合2種以上來使用。聚合引發劑之使用量若為通常之使用量即可，例如可相對於單體成分100重量份自大約0.005~1重量份左右(典型上為大約0.01~1重量份左右)之範圍內選擇。
上述聚合中可視需要使用以往公知之各種鏈轉移劑。例如可使用正十二基硫醇、三級十二基硫醇、氫硫乙酸、α-硫甘油等硫醇類。或者，亦可使用不含硫原子之鏈轉移劑(非硫系鏈轉移劑)。非硫系鏈轉移劑之例可舉N,N-二甲基苯胺、N,N-二乙基苯胺等苯胺類；α-蒎烯、萜品油烯等類萜類；α-甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯二聚物等之苯乙烯類等。鏈轉移劑可單獨使用1種或組合2種以上來使用。使用鏈轉移劑時之使用量相對於單體成分100重量份，例如可設為大約0.01~1重量份左右。
基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)之重量平均分子量(Mw)無特別限定，例如為大約30×10 4以上，為大約50×10 4以上是適當的，可為大約70×10 4以上，亦可為大約80×10 4以上。藉由使用Mw為預定值以上之基底聚合物，可容易獲得可發揮所期望之黏著特性的適度凝集力。又，可含有更多塑化劑等添加劑，而有容易實現所期望之柔軟性的傾向。又，基底聚合物之Mw的上限例如為大約500×10 4以下，而由黏著性能之觀點來看，宜在大約400×10 4以下(較宜在大約150×10 4以下，例如大約130×10 4以下)之範圍內。在數個態樣中，上述Mw可小於100×10 4，可為80×10 4以下，亦可為60×10 4以下。在此揭示之技術所帶來之效果可適宜在使用具有上述範圍之Mw的丙烯酸系聚合物之態樣中實現。
在此，聚合物之Mw可藉由凝膠滲透層析法(GPC)換算成聚苯乙烯而求得。具體上，可使用商品名「HLC-8220GPC」(東曹(Tosoh)公司製)作為GPC測定裝置，以下述條件測定來求得。 [GPC之測定條件] 試樣濃度：0.2重量%(四氫呋喃溶液) 試樣注入量：10µL 溶析液：四氫呋喃(THF) 流量(流速)：0.6mL/分鐘 管柱溫度(測定溫度)：40℃ 管柱： 試樣管柱：商品名「TSKguardcolumn SuperHZ-H」1支+商品名「TSKgel SuperHZM-H」2支」(東曹(Tosoh)公司製) 參考管柱：商品名「TSKgel SuperH-RC」1支(東曹(Tosoh)公司製) 檢測器：示差折射計(RI) 標準試料：聚苯乙烯
(塑化劑) 在數個態樣中，上述高折射率黏著劑層(例如高折射率丙烯酸系黏著劑層)除基底聚合物外，還含有塑化劑。藉由使用塑化劑，可提升高折射率黏著劑層之柔軟性，進而可實現大變形性。塑化劑宜使用從以下說明之塑化劑中選定1種或2種以上，且該塑化劑可兼顧折射率1.55以上且上述350%變形特性。
在此揭示之塑化劑之適宜例可舉具有2個以上含雙鍵之環的環狀不飽和有機化合物。換言之，上述適宜例之塑化劑是1分子中具有2個以上含雙鍵之環的化合物。因此，上述塑化劑至少具有第1含雙鍵之環與第2含雙鍵之環。藉由具有2個以上含雙鍵之環，可無損高折射率黏著劑層之折射率、或維持折射率的同時還可實現提升高折射率黏著劑層之柔軟性、進而實現大變形性。由發揮塑化效果之觀點來看，上述塑化劑具有之含雙鍵之環之數量宜為6以下，可為4以下，亦可為3以下。
又，在此揭示之技術中所使用之塑化劑宜為在30℃下為液態之化合物。此外，在本說明書中，「液態」意指流動性，以物質之狀態來說係指液體。該化合物包含熔點在30℃以下之化合物。上述塑化劑在30℃下為液態，藉此可適宜發揮塑化效果，而可適宜實現提升高折射率黏著劑層之柔軟性、進而可適宜實現大變形性。上述塑化劑宜為在25℃下為液態之化合物，較宜為在20℃下為液態之化合物。例如，藉由使用具有2個以上含雙鍵之環且在30℃下為液態之化合物作為塑化劑，可適宜形成兼顧高折射率與大變形性之高折射率黏著劑層。
塑化劑之分子量無特別限定，通常係使用分子量較上述基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)更小者。由容易展現塑化效果之觀點來看，塑化劑之分子量為30000以下是適當的，為25000以下是有利的，可小於10000(例如小於5000)，亦可小於3000。在數個態樣中，塑化劑之分子量宜為2000以下，較宜為1200以下，更宜為900以下，可為600以下，可為500以下，可為400以下，可為300以下，亦可為250以下(例如220以下)。由提升在黏著劑層內之相溶性等觀點來看，塑化劑之分子量不過大是有利的。又，由容易發揮充分之塑化效果之觀點來看，塑化劑之分子量為100以上是適當的，宜為130以上，較宜為150以上，可為170以上，可為200以上，可為220以上，亦可為250以上。塑化劑之分子量不過低一事由黏著劑之耐熱性能或抑制被黏著體污染之觀點來看亦佳。在數個態樣中，塑化劑之分子量例如為300以上，為315以上是適當的，亦可為350以上。分子量大的塑化劑不易汽化，故藉由將分子量大的塑化劑利用於黏著劑，可容易獲得可發揮穩定特性的黏著劑。又，分子量大的塑化劑不易在黏著劑內移動。因此，例如不易發生塑化劑移動至黏著劑表面等而影響黏著特性之現象。上述塑化劑之分子量較宜為400以上，更宜為450以上，尤宜為500以上，亦可為530以上。 此外，塑化劑之分子量可使用根據化學結構算出之分子量。當有從製造商等提供了分子量的標稱值時，可採用該標稱值。
雖無特別限定，但在數個態樣中，塑化劑可使用在130℃下轉移成氣相之轉移量(130℃汽化量)以重量基準計為10%以下(具體上為0~10重量%)之塑化劑。藉由使用滿足該特性之塑化劑，含該塑化劑之高折射率黏著劑層對於溫度變化或濕度變化，其特性因塑化劑而造成的變化可被抑制。例如，即使是在暴露於高溫或高濕度之環境下使用時或長期使用時，仍可成為發揮穩定特性的黏著劑。塑化劑之130℃汽化量可小於10重量%，可小於5重量%，可小於3重量%，亦可小於1重量%。
塑化劑在130℃下轉移成氣相之轉移量可從將塑化劑在130℃下保持1小時前後之重量變化求得。剝離強度更具體而言可以下述方法測定。 [塑化劑轉移成氣相之轉移量] 將塑化劑(測定試樣)約1g滴下至鋁製杯內，在23℃、45%RH環境下以電子天平秤量至0.01mg單位為止(W0g)。接著，將放入有上述測定試樣之杯子在130℃之烘箱內保持1小時。烘箱係使用對測定試樣具有充分容量且可一邊排氣一邊加熱者。例如可使用espec公司製之烘箱。在上述130℃下保持1小時後，從烘箱取出放入有上述測定試樣之杯子，恢復至室溫後秤量(W1g)。將以烘箱加熱前之測定試樣的重量W0[g]與以烘箱加熱後之測定試樣之重量W1[g]代入式：1-W1/W0，求出測定試樣在130℃下轉移成氣相之轉移量[%]。測定係對3試樣進行(n=3)，並採用平均值。
雖無特別限定，但在數個態樣中，高折射率黏著劑層在130℃之環境下保持1小時後，該高折射率黏著劑層中之塑化劑之減量以重量基準計為5%以下(具體而言為0~5重量%)。關於滿足該特性之高折射率黏著劑層，即便進行預定條件的加熱，該高折射率黏著劑層中之塑化劑仍幾乎都會留在高折射率黏著劑層內，而可維持其效果(主要為塑化效果)。因此，上述高折射率黏著劑層其因塑化劑而造成的特性變化可被抑制，從而即便在使用環境下或長期使用之情況下，仍可發揮穩定之特性。上述在130℃下保持1小時後高折射率黏著劑層中之塑化劑之減量宜小於3重量%，較宜小於1重量%，更宜小於0.5重量%，可小於0.3重量%，亦可為0.1重量%以下。上述在130℃下保持1小時後高折射率黏著劑層中之塑化劑之減量可從在130℃下保持1小時前後高折射率黏著劑層中之塑化劑之重量變化求出。
高折射率黏著劑層中之塑化劑量例如可藉由液體層析測定來定量。剝離強度更具體而言可以下述方法測定。 [黏著劑中之塑化劑之加熱減量] 將黏著劑組成物塗佈於單面經聚矽氧處理之PET薄膜R1的聚矽氧處理面，在130℃下加熱3分鐘，形成厚度20µm之黏著劑層。接著，於上述黏著劑層之表面貼合單面經聚矽氧處理之PET薄膜R2的聚矽氧處理面。從所得附剝離襯墊之黏著劑層(剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊)剝開其中一剝離襯墊，在130℃之烘箱內保持1小時。烘箱係使用對測定試樣具有充分容量且可一邊排氣一邊加熱者。例如可使用espec公司製之烘箱。針對在烘箱中加熱前後之黏著劑，在以下條件下實施液態層析(LC)測定。從上述LC之結果求出加熱前後之黏著劑中所含之塑化劑之量，從其重量比求出在130℃之環境下保持1小時後之黏著劑中之塑化劑之減量[%]。測定係對3試樣進行(n=3)，並採用平均值。此外，在對上述黏著劑進行LC測定前，宜對塑化劑單體進行LC測定，作成檢量曲線後根據該檢量曲線定量黏著劑中之塑化劑。 [LC測定條件] 採取黏著劑約0.01g並加入氯仿2mL，振動一晩。於該溶液中加入乙腈8mL，使聚合物成分再沉澱，將該上清液以0.45µm膜濾器過濾。適當稀釋所得濾液，注入分析裝置(島津製作所公司製，HPLC Prominence)來實施測定。 管柱： GL Sciences, Inertsil ODS-3(4.6mmφ×250mm，5µm) 管柱溫度：40℃ 管柱流量：1.0mL/分鐘 溶析液：超純水/乙腈的梯度條件 注入量：1µL 檢測器：DAD(挑選190nm~400nm、272nm)
在可使用具有含雙鍵之環之塑化劑之態樣中，上述塑化劑具有之含雙鍵之環可為含共軛雙鍵之環(典型上為芳香環)，亦可為含非共軛雙鍵之環中之任一者。上述塑化劑可為具有選自芳香環及雜環(heterocycle)中之至少1種環作為含雙鍵之環者。此外，上述雜環可為具有包含於芳香環之結構者，亦可為具有與芳香環不同之含雙鍵之雜環結構者。上述塑化劑可具有之含雙鍵之環(典型上為芳香環)可為苯環(可為構成聯苯結構或茀結構之一部分的苯環)；萘環、茚環、薁環、蒽環、菲環之縮合環等之碳環；亦可為吡啶環、嘧啶環、嗒𠯤環、吡𠯤環、三𠯤環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、三唑環、㗁唑環、異㗁唑環、噻唑環、噻吩環等之雜環。上述雜環中作為環構成原子所含之雜原子例如可為選自於由氮、硫及氧所構成群組中之1或2種以上。在數個態樣中，上述構成雜環之雜原子可為氮及硫之一者或兩者。上述塑化劑亦可具有例如如二萘并噻吩結構般1或2個以上碳環與1或2個以上雜環已進行縮合之結構。
上述含雙鍵之環(典型上為芳香環，宜為碳環)可於環構成原子上具有1或2個以上取代基，亦可不具有取代基。具有取代基時，該取代基可例示烷基、烷氧基、芳氧基、羥基、鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子等)、羥烷基、羥烷基氧基、環氧丙氧基等，惟不受該等所限。在包含碳原子之取代基中，該取代基所含之碳原子之數量宜為1~4，較宜為1~3，且例如可為1或2。在數個態樣中，上述含雙鍵之環可為於環構成原子上不具有取代基之芳香環，或可為於環構成原子上具有選自於由烷基、烷氧基、乙烯性不飽和基(例如(甲基)丙烯醯氧基)、羥基及羥烷基所構成群組中之1或2個以上取代基之芳香環。取代基可適宜使用烷基、烷氧基、羥烷基。
在數個態樣中，可適宜採用不具乙烯性不飽和基之化合物作為塑化劑。藉此，可抑制黏著劑組成物因熱或光而變質(凝膠化之進行或黏度上升造成調平性降低)，提高保存穩定性。採用不具乙烯性不飽和基之塑化劑一事，由在含該塑化劑之黏著劑層中，抑制因乙烯性不飽和基之反應而造成彈性模數之變化、尺寸變化或變形(翹曲、起伏等)、光學應變之發生等之觀點來看亦佳。
塑化劑可適宜使用折射率大約為1.50以上之高折射率塑化劑。藉由使用高折射率塑化劑，容易兼顧高折射率與大變形性。由獲得柔軟性的同時還維持、提升高折射率黏著劑層之折射率之觀點來看，塑化劑之折射率宜為大約1.51以上，較宜為大約1.53以上，更宜為大約1.55以上，可為大約1.56以上，可為大約1.58以上，可為大約1.60以上，亦可為大約1.62以上。在數個態樣中，由黏著劑組成物之調製容易性或在黏著劑內之相溶性等觀點來看，塑化劑之折射率為2.50以下是適當的，為2.00以下是有利的，可為1.90以下，可為1.80以下，亦可為1.70以下。 此外，塑化劑之折射率係與單體之折射率同樣地，使用阿貝折射率計在測定波長589nm、測定溫度25℃之條件下進行測定。當有從製造商等提供了在25℃下之折射率的標稱值時，可採用該標稱值。
在數個態樣中，塑化劑可使用選自下述化合物之1種或2種以上：具有2個以上非縮合含雙鍵之環(典型上為芳香環)隔著連結基鍵結之結構的化合物、具有2個以上非縮合含雙鍵之環(典型上為芳香環)直接(亦即不隔著其他原子而)化學鍵結之結構的化合物、具有縮合含雙鍵之環(典型上為芳香環)結構之化合物、具有茀結構之化合物、具有二萘并噻吩結構之化合物、具有二苯并噻吩結構之化合物等。
在數個理想態樣中，塑化劑可使用具有2個以上非縮合含雙鍵之環隔著連結基鍵結之結構的化合物A。上述連結基可為例如：氧基(-O-)、硫代氧基(-S-)、氧伸烷基(例如-O-(CH 2) n-基，在此n為1~3，宜為1)、硫代氧伸烷基(例如-S-(CH 2) n-基，在此n為1~3，宜為1)、直鏈伸烷基(亦即-(CH 2) n-基，在此n為1~6，宜為1~3)、上述氧伸烷基、上述硫代氧伸烷基及上述直鏈伸烷基中之伸烷基已部分鹵化或完全鹵化之基團等。上述連結基亦可為具有酯鍵者。塑化劑中，連結第1含雙鍵之環(非縮合環)與第2含雙鍵之環(非縮合環)之連結基亦可從與上述同種類者選擇。由高折射率黏著劑層之大變形性之觀點來看，上述連結基之適宜例可舉氧基、硫代氧基、氧伸烷基及直鏈伸烷基。上述連結基之原子數無特別限定，在數個態樣中，例如為1~30，可為1~25，可為1~20，設為1~18是適當的，宜為1~12，較宜為1~10，更宜為1~8，尤宜為1~5，可為1~3，亦可為1或2。又，在其他數個理想態樣中，上述連結基之原子數例如為10以上，宜為15以上，較宜為20以上，更宜為22以上(例如25以上或30以上)。並且，上述連結基之原子數的上限例如為50以下，理想上為40以下是適當的，亦可為35以下。在使用具有氧伸烷基作為上述連結基之塑化劑之態樣中，適宜應用上述連結基之原子數。此外，連結基之原子數係指從一非縮合含雙鍵之環到達另一非縮合含雙鍵之環所需的最小原子之數量。例如，連結基由直鏈伸烷基(即-(CH 2) n-基)構成時，n之數量便成為連結基之原子數。又例如，連結基為氧伸乙基(即-(C 2H 4O) n-基)時，構成氧伸乙基之碳原子數2與氧原子數1之和3與n之積(3n)便成為連結基之原子數。上述化合物之適宜例可舉具有苯氧基苄基之化合物。上述化合物之例可舉苯氧基苄基(甲基)丙烯酸酯(例如間苯氧基苄基(甲基)丙烯酸酯)、苯氧基苯甲醇、氧基雙[(烷氧基烷基)苯](例如4,4'-氧基雙[(甲氧基甲基)苯])、聚乙二醇苯甲酸酯等。
在使用具有2個以上非縮合含雙鍵之環隔著連結基鍵結之結構的化合物A作為塑化劑之態樣中，上述化合物A之使用量無特別限定，係設定成可實現在此揭示之黏著劑特性及效果。由大變形性之觀點來看，在數個理想態樣中，上述化合物A相對於基底聚合物100重量份之使用量大於30重量份，較宜為35重量份以上，更宜為40重量份以上，尤宜為45重量份以上，更尤宜為50重量份以上，可為55重量份以上，亦可為60重量份以上。又，由平衡兼顧高折射率黏著劑層之高折射率化與大變形性之觀點來看，上述化合物A相對於基底聚合物100重量份之使用量設為大約200重量份以下是適當的，宜設為150重量份以下，較宜設為120重量份以下，可為100重量份以下，可為80重量份以下，亦可為70重量份以下。
又，在使用具有2個以上非縮合含雙鍵之環隔著連結基鍵結之結構的化合物A作為塑化劑之態樣中，高折射率黏著劑層可任意包含上述化合物A以外之塑化劑之1種或2種以上，亦可不包含。上述化合物A以外之塑化劑可在不損及在此揭示之技術所帶來之效果的範圍內使用適當量。在所述態樣中，上述化合物A以外之塑化劑之使用量設為小於高折射率黏著劑層所用之塑化劑整體的50重量%是適當的，宜小於30重量%，較宜小於10重量%，更宜小於3重量%，尤宜小於1重量%。在此揭示之技術可使用實質上不含上述化合物A以外之塑化劑的高折射率黏著劑層來適宜實施。
在數個理想態樣中，塑化劑可使用1分子中具有2個以上含雙鍵之環的乙二醇系化合物。上述乙二醇系化合物具有之氧伸乙基單元(即-(C 2H 4O)-單元)之數量例如為1以上，2以上是適當的，宜為3以上，較宜為4以上(例如5以上)。又，上述氧伸乙基單元之數量的上限例如為10以下，可為8以下，亦可為6以下。上述乙二醇系化合物可為具有下述結構之化合物：2個以上非縮合含雙鍵之環隔著作為連結基之上述氧伸乙基單元鍵結。該化合物可為具有1或2個以上酯基者。上述乙二醇系化合物可舉具有2個以上苯甲酸隔著酯鍵與三乙二醇或聚乙二醇連結之結構的化合物。
在使用1分子中具有2個以上含雙鍵之環的乙二醇系化合物作為塑化劑之態樣中，上述乙二醇系化合物之使用量無特別限定，係設定成可實現在此揭示之黏著劑特性及效果。由大變形性之觀點來看，在數個理想態樣中，上述乙二醇系化合物相對於基底聚合物100重量份之使用量大於30重量份，較宜為35重量份以上，更宜為40重量份以上，尤宜為45重量份以上，更尤宜為50重量份以上，可為55重量份以上，亦可為60重量份以上。又，由平衡兼顧高折射率黏著劑層之高折射率化與大變形性之觀點來看，上述乙二醇系化合物相對於基底聚合物100重量份之使用量設為大約200重量份以下是適當的，宜設為150重量份以下，較宜設為120重量份以下，可為100重量份以下，可為80重量份以下，亦可為70重量份以下。
又，在使用1分子中具有2個以上含雙鍵之環的乙二醇系化合物作為塑化劑之態樣中，高折射率黏著劑層可任意包含上述乙二醇系化合物以外之塑化劑之1種或2種以上，亦可不包含。上述乙二醇系化合物以外之塑化劑可在不損及在此揭示之技術所帶來之效果的範圍內使用適當量。在所述態樣中，上述乙二醇系化合物以外之塑化劑之使用量設為小於高折射率黏著劑層所用之塑化劑整體的50重量%是適當的，宜小於30重量%，較宜小於10重量%，更宜小於3重量%，尤宜小於1重量%。在此揭示之技術可使用實質上不含上述乙二醇系化合物以外之塑化劑的高折射率黏著劑層來適宜實施。
在其他數個態樣中，可使用液態松香酯等液態松香類、液態莰烯酚作為塑化劑。上述液態松香類(例如液態松香酯)可相當於上述具有縮合含雙鍵之環結構的化合物。
又，塑化劑亦可利用公知之塑化劑(例如鄰苯二甲酸酯系、對苯二甲酸酯系、己二酸酯系、己二酸系聚酯、苯甲酸乙二醇酯等)之1種或2種以上。
塑化劑之使用量無特別限定，可按目的設定。由大變形性之觀點來看，在數個理想態樣中，塑化劑相對於基底聚合物100重量份之使用量大於30重量份，較宜為35重量份以上，更宜為40重量份以上，尤宜為45重量份以上，更尤宜為50重量份以上，可為55重量份以上，亦可為60重量份以上。又，由平衡兼顧高折射率黏著劑層之高折射率化與大變形性之觀點來看，塑化劑相對於基底聚合物100重量份之使用量設為大約200重量份以下是適當的，宜設為150重量份以下，較宜設為120重量份以下，可為100重量份以下，可為80重量份以下，亦可為70重量份以下。在更重視黏著特性之數個態樣中，塑化劑相對於基底聚合物100重量份之使用量可為45重量份以下，亦可為35重量份以下。
(添加劑(H RO)) 在此揭示之高折射率黏著劑層中，可含有較基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)更高折射率之有機材料作為依期望所使用之添加劑。以下，有時將所述有機材料表記為「添加劑(H RO)」。在此，上述「H RO」係表示高折射率(High Refractive index)之有機材料(Organic material)。藉由使用添加劑(H RO)，可實現可更適宜兼顧折射率與黏著特性(剝離強度、柔軟性等)之高折射率黏著劑層。可作為添加劑(H RO)使用之有機材料可為聚合物，亦可為非聚合物。又，可具有聚合性官能基，亦可不具聚合性官能基。此外，本說明書中，添加劑(H RO)係定義為與可作為上述塑化劑使用之化合物不同者。例如，添加劑(H RO)可為在30℃(例如25℃或20℃)下非為液態(液體)者。添加劑(H RO)可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
添加劑(H RO)之折射率可在與基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)之折射率的相對關係下設定為適當的範圍，因此不受特定範圍所限。添加劑(H RO)之折射率例如大於1.55、大於1.56或大於1.57，且可自較基底聚合物之折射率更高之範圍中選擇。由高折射率黏著劑層之高折射率化之觀點來看，在數個態樣中，添加劑(H RO)之折射率為1.58以上是有利的，宜為1.60以上，較宜為1.63以上，可為1.65以上，可為1.70以上，亦可為1.75以上。藉由折射率較高之添加劑(H RO)，即便使用較少量之添加劑(H RO)仍可達成目標折射率。此事由抑制黏著特性或光學特性降低之觀點來看為佳。添加劑(H RO)之折射率的上限無特別限制，惟由在黏著劑內之相溶性、高折射率化與適合作為黏著劑之柔軟性之兼顧容易性等觀點來看，例如為3.000以下，可為2.500以下，可為2.000以下，可為1.950以下，可為1.900以下，亦可為1.850以下。 此外，添加劑(H RO)之折射率係與單體之折射率同樣地，使用阿貝折射率計在測定波長589nm、測定溫度25℃之條件下進行測定。當有從製造商等提供了在25℃下之折射率的標稱值時，可採用該標稱值。
作為添加劑(H RO)使用之有機材料的分子量無特別限定，可按目的作選擇。由平衡兼顧高折射率化之效果與其他特性(例如適於黏著劑之柔軟性、霧度等光學特性)之觀點來看，在數個態樣中，添加劑(H RO)之分子量為大約小於10000是適當的，宜小於5000，較宜小於3000(例如小於1000)，可小於800，可小於600，可小於500，亦可小於400。由提升在黏著劑內之相溶性之觀點來看，添加劑(H RO)之分子量不過大是有利的。又，添加劑(H RO)之分子量例如可為130以上，亦可為150以上。在數個態樣中，由該添加劑(H RO)之高折射率化之觀點來看，添加劑(H RO)之分子量宜為170以上，較宜為200以上，可為230以上，可為250以上，可為270以上，可為300以上，可為500以上，可為1000以上，亦可為2000以上。在數個態樣中，可將分子量為1000~10000左右(例如1000以上且小於5000)之聚合物作為添加劑(H RO)來使用。 添加劑(H RO)之分子量可使用針對非聚合物或低聚合度(例如2~5聚物左右)之聚合物依據化學結構算出之分子量、或使用基質輔助雷射脫附游離飛行時間型質量分析法(MALDI-TOF-MS)所得之測定值。添加劑(H RO)為聚合度更高之聚合物時，可使用根據以適當條件進行之GPC的重量平均分子量(Mw)。當有從製造商等提供了分子量的標稱值時，可採用該標稱值。
可成為添加劑(H RO)之選項的有機材料之例包含具有芳香環之有機化合物、具有雜環(可為芳香環，亦可為非芳香族性雜環)之有機化合物等，惟不受該等所限。
可作為添加劑(H RO)使用之上述具有芳香環之有機化合物(以下亦稱「含芳香環化合物」)所具有之芳香環，可自與可作為單體(A1)使用之化合物所具有之芳香環相同之物來選擇。
上述芳香環可於環構成原子上具有1或2個以上取代基，亦可不具有取代基。具有取代基時，該取代基可例示烷基、烷氧基、芳氧基、羥基、鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子等)、羥烷基、羥烷基氧基、環氧丙氧基等，惟不受該等所限。在包含碳原子之取代基中，該取代基所含之碳原子之數量例如為1~10，1~6是有利的，宜為1~4，較宜為1~3，例如可為1或2。在數個態樣中，上述芳香環可為於環構成原子上不具有取代基之芳香環、或可為於環構成原子上具有選自於由烷基、烷氧基及鹵素原子(例如溴原子)所構成群組中之1或2個以上取代基之芳香環。
可作為添加劑(H RO)使用之含芳香環化合物之例可列舉例如：可作為單體(A1)使用之化合物；包含可作為單體(A1)使用之化合物作為單體單元的寡聚物；從可作為單體(A1)使用之化合物中去除具有乙烯性不飽和基之基團(可為鍵結於環構成原子之取代基)或該基團中構成乙烯性不飽和基之部分，且取代成氫原子或不具乙烯性不飽和基之基團(例如羥基、胺基、鹵素原子、烷基、烷氧基、羥烷基、羥烷基氧基、環氧丙氧基等)之結構的化合物等，且可舉不符合在此揭示之塑化劑者，惟不受該等所限。
在數個態樣中，由可容易獲得較高的高折射率化效果來看，可適宜採用1分子中具有2個以上芳香環之有機化合物(以下亦稱「含複數個芳香環之化合物」)作為添加劑(H RO)。含複數個芳香環之化合物可具有乙烯性不飽和基等聚合性官能基，亦可不具有。又，含複數個芳香環之化合物可為聚合物，亦可為非聚合物。又，上述聚合物可為包含含複數個芳香環之單體作為單體單元之寡聚物(宜為分子量大約5000以下、較宜為大約1000以下之寡聚物；例如為2~5聚物左右之低聚合物)。上述寡聚物例如可為：含複數個芳香環之單體的均聚物；2種以上含複數個芳香環之單體的共聚物；1種或2種以上含複數個芳香環之單體與其他單體的共聚物等。上述其他單體可為不符合含複數個芳香環之單體的含芳香環單體，可為不具芳香環之單體，亦可為該等之組合。在使用寡聚物作為添加劑(H RO)之態樣中，該寡聚物可藉由以公知方法使對應之單體成分聚合來獲得。
含複數個芳香環之化合物之非限定例可列舉：具有2個以上非縮合芳香環隔著連結基鍵結之結構的化合物、具有2個以上非縮合芳香環直接(亦即不隔著其他原子)化學鍵結之結構的化合物、具有縮合芳香環結構之化合物、具有茀結構之化合物、具有二萘并噻吩結構之化合物、具有二苯并噻吩結構之化合物等。含複數個芳香環之化合物可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
可成為添加劑(H RO)之選項的具有雜環的有機化合物(以下亦稱為含雜環有機化合物)之例可舉硫代環氧化合物、具有三𠯤環之化合物等。硫代環氧化合物之例可舉日本專利第3712653號公報中記載之雙(2,3-環硫代丙基)二硫化物及其聚合物(折射率1.74)。具有三𠯤環之化合物之例可舉1分子內具有至少1個(例如3~40個，宜為5~20個))三𠯤環之化合物。此外，三𠯤環具有芳香族性，故具有三𠯤環之化合物亦包含於上述含芳香環化合物之概念中，且，具有複數個三𠯤環之化合物亦包含於上述含複數個芳香環之化合物之概念中。
在數個態樣中，可適宜採用不具乙烯性不飽和基之化合物作為添加劑(H RO)。藉此，可抑制黏著劑組成物因熱或光而變質(凝膠化之進行或黏度上升造成調平性降低)，提高保存穩定性。採用不具乙烯性不飽和基之添加劑(H RO)一事，由在具有含該添加劑(H RO)之黏著劑層中，抑制因乙烯性不飽和基之反應而造成尺寸變化或變形(翹曲、起伏等)、光學應變之發生等之觀點來看亦佳。
添加劑(H RO)可在不顯著損及在此揭示之技術所帶來之效果的範圍內使用適當量。在數個態樣中，添加劑(H RO)相對於基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)100重量份之使用量(使用複數種化合物時為其等之合計量)若大於0重量份則無特別限定，可按目的設定。在數個態樣中，添加劑(H RO)相對於基底聚合物100重量份之使用量可設為例如80重量份以下，而由平衡兼顧高折射率黏著劑層之高折射率化與抑制黏著特性或光學特性降低之觀點來看，設為60重量份以下是有利的，且宜設為45重量份以下。在更重視黏著特性或光學特性之數個態樣中，添加劑(H RO)相對於基底聚合物100重量份之使用量例如可為30重量份以下，可為10重量份以下，可為3重量份以下，亦可為1重量份以下。在此揭示之技術可適宜在使用不含添加劑(H RO)之高折射率黏著劑層之態樣下實施。又，由高折射率黏著劑層之高折射率化之觀點來看，添加劑(H RO)相對於基底聚合物100重量份之使用量可設為例如1重量份以上，設為3重量份以上是有利的，宜設為5重量份以上，可為7重量份以上，可為10重量份以上，可為15重量份以上，亦可為20重量份以上。
(交聯劑) 在此揭示之技術中，用於形成高折射率黏著劑層之黏著劑組成物中可為了調整黏著劑之凝集力等，視需求含有交聯劑。交聯劑可使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、吖𠰂系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、三聚氰胺系樹脂、金屬螯合物系交聯劑等在黏著劑領域中公知之交聯劑。其中，可適宜採用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑。作為交聯劑之其他例，可舉1分子內具有2個以上乙烯性不飽和基之單體，亦即多官能性單體。交聯劑可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
異氰酸酯系交聯劑可使用2官能以上之異氰酸酯化合物，可列舉例如：三亞甲基二異氰酸酯、伸丁基二異氰酸酯、五亞甲基二異氰酸酯(PDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、二體酸二異氰酸酯等脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯(IPDI)、1,3-雙(異氰酸基甲基)環己烷等脂環族異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯(XDI)等芳香族異氰酸酯類；經將異氰酸酯化合物藉由脲甲酸酯鍵、縮二脲鍵、三聚異氰酸酯鍵、脲二酮鍵、脲鍵、碳二亞胺鍵、脲酮亞胺鍵、㗁二𠯤三酮鍵等改質之聚異氰酸酯改質體(例如HDI之三聚異氰酸酯體、HDI之脲甲酸酯體等)等。市售物之例可列舉：商品名TAKENATE 300S、TAKENATE 500、TAKENATE 600、TAKENATE D165N、TAKENATE D178N、TAKENATE D178NL(以上，三井化學公司製)、Sumidur T80、Sumidur L、Desmodur N3400(以上，Sumika Bayer Urethane公司製)、Millionate MR、Millionate MT、Coronate L、Coronate HL、Coronate HX、Coronate 2770(以上，東曹(Tosoh)公司製)、商品名Duranate A201H(以上，旭化成公司製)等。異氰酸酯化合物可單獨使用1種或組合2種以上來使用。亦可併用2官能之異氰酸酯化合物與3官能以上之異氰酸酯化合物。
環氧系交聯劑可列舉例如：雙酚A、環氧氯丙烷型環氧系樹脂、伸乙基環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、甘油二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、1,6-己二醇環氧丙基醚、三羥甲丙烷三環氧丙基醚、二環氧丙基苯胺、二胺基環氧丙基胺、N,N,N',N'-四環氧丙基-間茬二胺及1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺基甲基)環己烷等。該等可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
多官能性單體可列舉例如：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯苯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺甲酸酯丙烯酸酯、丁基二醇二(甲基)丙烯酸酯、己基二醇二(甲基)丙烯酸酯等。多官能性單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
在數個態樣中，交聯劑之至少一部分可使用每分子具有2個交聯反應性基(例如異氰酸酯基)之2官能交聯劑。藉由使用2官能交聯劑，容易形成柔軟之交聯結構。2官能交聯劑可單獨使用1種或組合2種以上來使用。又，2官能交聯劑亦可與3官能以上之交聯劑併用。
在數個態樣中，交聯劑可適宜使用不具芳香環、脂肪族環等環結構之非環式交聯劑(亦稱鏈狀交聯劑)。例如，上述異氰酸酯系交聯劑中，宜使用不具芳香環及三聚異氰酸酯環等環結構之異氰酸酯系化合物。藉由使用非環式異氰酸酯系化合物作為交聯劑，容易形成柔軟性高之交聯劑。上述非環式異氰酸酯之具體例可舉：脂肪族異氰酸酯系化合物(例如PDI或HDI)、或脂肪族異氰酸酯系化合物之改質體(例如PDI或HDI之經脲甲酸酯鍵、縮二脲鍵、脲鍵、碳二亞胺鍵改質之聚異氰酸酯改質體)。非環式交聯劑可單獨使用1種或組合2種以上來使用。在數個理想態樣中，可使用非環式2官能交聯劑作為上述交聯劑。
在數個態樣中，可使用1分子中之一交聯反應性基(例如異氰酸酯基)與其他一交聯反應性基之距離較長的交聯劑作為交聯劑。藉此，可形成具有預定以上長度之柔軟的交聯結構。例如，可將交聯劑1分子中構成一連結交聯反應性基與其他交聯反應性基之連結鏈的原子之數量為10以上(例如12以上或14以上)的化合物作為交聯劑使用。上述連結鏈構成原子數的上限可因應目的藉由聚合等來調製，因此無特別限定，例如為2000以下，可為1000以下，可為500以下，可為100以下，可為50以下，可為30以下，亦可為20以下。此外，上述連結交聯反應性基之連結鏈構成原子數意指在交聯劑1分子中，從一交聯反應性基到達其他交聯反應性基(具有3個以上交聯反應性基時，為最靠近上述一交聯反應性基的交聯反應性基)所需之最小原子之數量。具有上述連結鏈之交聯劑可單獨使用1種或組合2種以上來使用。在數個理想態樣中，可使用非環式2官能交聯劑作為上述交聯劑。上述交聯劑之市售物例可舉商品名Coronate 2770(東曹(Tosoh)公司製)、商品名TAKENATE D178NL(三井化學公司製)、商品名Duranate A201H(旭化成公司製)等。
使用交聯劑時之使用量無特別限定，可相對於基底聚合物100重量份設為0.001重量份~5.0重量份左右之範圍。由提升高折射率黏著劑層之柔軟性、對被黏著體之密著性之觀點來看，在數個態樣中，交聯劑相對於基底聚合物100重量份之使用量宜為3.0重量份以下，較宜為2.0重量份以下，可為1.0重量份以下，亦可為0.5重量份以下。在數個理想態樣中，交聯劑相對於基底聚合物100重量份之使用量小於0.5重量份，可為0.4重量份以下，可為0.3重量份以下，亦可為0.2重量份以下。又，由適當發揮交聯劑之使用效果之觀點來看，在數個態樣中，交聯劑相對於基底聚合物100重量份之使用量例如可為0.005重量份以上，可為0.01重量份以上，可為0.05重量份以上，可為0.08重量份以上，亦可為0.1重量份以上。在數個理想態樣中，交聯劑相對於基底聚合物100重量份之使用量大於0.1重量份，可為0.2重量份以上，可為0.3重量份以上，亦可為0.4重量份以上。根據在此揭示之技術，藉由在上述範圍內使用適當量之交聯劑，可適宜形成可承受大變形之高折射率黏著劑層。
為了使交聯反應更有效地進行，亦可使用交聯觸媒。交聯觸媒之例可舉：鈦酸四正丁酯、鈦酸四異丙酯、四乙醯丙酮鋯、乙醯丙酮鐵(III)、丁基錫氧化物、二月桂酸二辛錫等金屬系交聯觸媒等。其中又以二月桂酸二辛錫等錫系交聯觸媒為佳。交聯觸媒之使用量無特別限制。考量到交聯反應速度之快慢與黏著劑組成物使用期限之長短之平衡，交聯觸媒相對於基底聚合物100重量份之使用量例如可設為大約0.0001重量份以上且1重量份以下之範圍，宜設為0.001重量份以上且0.5重量份以下之範圍。
黏著劑組成物中可含有可產生酮-烯醇互變異構性之化合物作為交聯延遲劑。藉此，可實現延長黏著劑組成物之使用期限的效果。例如，可在包含異氰酸酯系交聯劑之黏著劑組成物中，適宜利用可產生酮-烯醇互變異構性之化合物。可產生酮-烯醇互變異構性之化合物可使用各種β-二羰基化合物。例如可適宜採用β-二酮類(乙醯丙酮、2,4-己二酮等)或乙醯乙酸酯類(乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯等)。可產生酮-烯醇互變異構性之化合物可單獨使用1種或組合2種以上來使用。可產生酮-烯醇互變異構性之化合物的使用量，相對於基底聚合物100重量份，可設為例如0.1重量份以上且20重量份以下，可設為0.5重量份以上且10重量份以下，亦可設為1重量份以上且5重量份以下。
(賦黏劑) 在此揭示之高折射率黏著劑層中亦可含有賦黏劑。賦黏劑可使用松香系增黏樹脂、萜系增黏樹脂、酚系增黏樹脂、烴系增黏樹脂、酮系增黏樹脂、聚醯胺系增黏樹脂、環氧系增黏樹脂、彈性體系增黏樹脂等公知的增黏樹脂。該等可單獨使用1種或組合2種以上來使用。增黏樹脂之使用量無特別限定，可按目的及用途來設定成能發揮適當之黏著性能。在數個態樣中，由折射率或透明性之觀點來看，賦黏劑相對於基底聚合物100重量份之使用量設為30重量份以下是適當的，宜設為10重量份以下，較宜設為5重量份以下。在此揭示之技術可適宜在不使用賦黏劑之態樣下實施。
(高折射率粒子) 在此揭示之高折射率黏著劑層中可含有高折射率粒子作為任意成分。在此，高折射率粒子意指可藉由使黏著劑含有其來提高該黏著劑之折射率的粒子。以下，有時將高折射率粒子表記為「粒子P HRI」。HRI係high refractive index(高折射率)之意。粒子P HRI之種類無特別限定，可從金屬粒子、金屬化合物粒子、有機粒子、有機-無機複合物粒子中選定可提升黏著劑之折射率的材料之1種或2種以上來使用。粒子P HRI可從無機氧化物(例如金屬氧化物)中適宜使用可提升黏著劑之折射率者。構成粒子P HRI之材料的適宜例可舉氧化鈦(titania、TiO 2)、氧化鋯(zirconia、ZrO 2)、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化銅、鈦酸鋇、氧化鈮(Nb 2O 5等)等之無機氧化物(具體上為金屬氧化物)。由該等無機氧化物(例如金屬氧化物)構成之粒子可單獨使用1種或組合2種以上來使用。粒子P HRI之平均粒徑(係指根據雷射散射繞射法所得之50%體積平均粒徑)無特別限定，例如可從大約1nm以上且1000nm以下之範圍選擇。
高折射率黏著劑層中之粒子P HRI之含量可在不損及在此揭示之技術所帶來之效果的範圍內使用適當量。又，上述粒子P HRI之含量可因應目標之折射率而不同。例如，上述粒子P HRI之含量可考慮所要求之黏著特性等來適當設定成可成為預定以上之折射率。在數個態樣中，高折射率黏著劑層中之粒子P HRI之含量在高折射率黏著劑層中例如小於10重量%，可小於1重量%，亦可小於0.1重量%。在此揭示之技術可在高折射率黏著劑層實質上不含粒子P HRI之態樣下實施。
(調平劑) 在數個態樣中，用於形成高折射率黏著劑層的黏著劑組成物中，可為了提升由該組成物形成之高折射率黏著劑層的外觀(例如提升厚度之均一性)或提升黏著劑組成物之塗敷性等，視需求含有調平劑。調平劑之非限定之例可舉丙烯酸系調平劑、氟系調平劑、聚矽氧系調平劑等。調平劑例如可從市售之調平劑選擇適當之物，利用常法來使用。
(其他添加劑) 在此揭示之技術中，用於形成高折射率黏著劑層的黏著劑組成物亦可在不顯著妨礙本發明效果之範圍內視需求包含有軟化劑、著色劑(染料、顏料等)、充填劑、抗靜電劑、抗老化劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、光穩定劑、防腐劑等可使用於黏著劑組成物之公知的添加劑。針對所述各種添加劑，可依常法使用以往公知者，而無特別賦予本發明任何特徵，故省略詳細說明。
雖無特別限定，但在此揭示之技術所帶來之效果可藉由使用包含上述基底聚合物(典型上為丙烯酸系聚合物)與塑化劑之高折射率黏著劑層來適宜達成。在此揭示之技術可適宜在使用以上述基底聚合物與上述塑化劑為主體之高折射率黏著劑層之態樣中實施。因此，在數個理想態樣中，高折射率黏著劑層可採用上述基底聚合物及上述塑化劑以外之成分(其他成分)之含量經限制的組成。例如，高折射率黏著劑層中，上述基底聚合物與上述塑化劑之合計量可設為高折射率黏著劑層之75重量%以上(例如75重量%以上且100重量%以下或小於100重量%)，可為85重量%以上，可為90重量%以上，可為95重量%以上，可為98重量%以上，亦可為99重量%以上(例如大於99重量%)。上述基底聚合物及上述塑化劑以外之成分之使用經限制一事，在實現高折射率黏著劑層之大變形性方面來看是有利的。
＜低折射率層＞ 在此揭示之技術中，低折射率層(宜為低折射率黏著劑層)之折射率n 2宜較高折射率黏著劑層之折射率n 1更低。藉此，可利用高折射率黏著劑層與低折射率層之折射率差，來控制透射包含該等層之積層片之光的行為。低折射率層之折射率n 2例如可在1.35~1.55左右之範圍內。在數個態樣中，由增大與高折射率黏著劑層之折射率n 1的折射率差而易提高後述之正面亮度提升效果之觀點來看，低折射率層之折射率n 2例如宜為1.49以下，較宜為1.47以下(例如1.46以下或1.45以下)，可為1.43以下，可為1.41以下，亦可為1.40以下。又，由材料之易取得性或與黏著特性之兼顧容易性之觀點來看，在數個態樣中，低折射率層之折射率n 2例如可為1.36以上，可為1.38以上，可為1.40以上，可為1.42以上，亦可為1.45以上。又，在低折射率層為低折射率黏著劑層之態樣中，可調整高折射率黏著劑層及低折射率黏著劑層之積層體(積層片)各面之接著力的相對關係。
在數個態樣中，高折射率黏著劑層之折射率n 1與低折射率層之折射率n 2之比(n 1/n 2)例如可大於1.00，可為大約1.01以上，為大約1.02以上是適當的，亦可為大約1.03以上。在數個態樣中，比(n 1/n 2)為大約1.05以上是有利的，宜為大約1.06以上，較宜為大約1.07以上，亦可為大約1.08以上。比(n 1/n 2)的上限無特別限制。在數個態樣中，由黏著特性或透明性等觀點來看，比(n 1/n 2)例如可為大約1.20以下，可為大約1.18以下，可為大約1.16以下，可為大約1.14以下，亦可為大約1.12以下。
在數個態樣中，高折射率黏著劑層之折射率n 1與低折射率層之折射率n 2之差、亦即折射率差(n 1-n 2)，例如可大於0.00，可為0.01以上，可為0.02以上，可為0.03以上，可為0.05以上，可為0.07以上，可為0.09以上，可為0.10以上，亦可為0.12以上。折射率差(n 1-n 2)的上限無特別限制。在數個態樣中，由黏著特性或透明性等觀點來看，折射率(n 1-n 2)例如可為0.30以下，可為0.26以下，可為0.21以下，可為0.18以下，亦可為0.16以下。
在數個態樣中，低折射率層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量宜為350%以上。除了高折射率黏著劑層，連低折射率層亦滿足上述特性，藉此包含高折射率黏著劑層及低折射率層之積層片(黏著片)即便在低溫環境下仍可高速且充分變形，而可耐受大變形。在上述溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗，更具體而言可藉由後述試驗例記載之方法來實施。
又，在數個態樣中，低折射率層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中，變形量350%下之應力宜為5.0N/mm 2以下。滿足上述特性之低折射率層具有高折射率，且即便在低溫環境下仍可保持預定以上之柔軟性，並且可高速且充分變形。故，適於使用在伴隨大變形之用途上。在數個理想態樣中，上述變形量350%下之應力可為4N/mm 2以下，可為3N/mm 2以下，可為2N/mm 2以下，可為1N/mm 2以下，可為0.5N/mm 2以下，亦可為0.3N/mm 2以下。上述變形量350%下之應力的下限值在理論上為0.0N/mm 2以上，在數個理想態樣中亦可為0.1N/mm 2以上。
低折射率層之儲存彈性模數G’(25℃)無特別限制，例如可為1.0kPa~500kPa之範圍。由提高由低折射率層賦予之柔軟性或提升對變形之順應性的效果之觀點來看，在數個態樣中，低折射率層之儲存彈性模數G'(25℃)為400kPa以下是適當的，宜為300kPa以下，較宜為200kPa以下(例如180kPa以下或150kPa)以下，可為120kPa以下，可為90kPa以下，亦可為70kPa以下。又，由賦予低折射率層適度凝集性之觀點來看，在數個態樣中，低折射率層之儲存彈性模數G'(25℃)為5.0kPa以上是適當的，宜為10kPa以上，可為15kPa以上，可為25kPa以上，可為35kPa以上，可為60kPa以上，亦可為80kPa以上。由容易實現更高凝集力或黏著特性之觀點來看，在數個態樣中，低折射率層之儲存彈性模數G'(25℃)可為95kPa以上，可為110kPa以上，亦可為140kPa以上。
在低折射率層為黏著劑層之態樣中，構成該黏著劑層之黏著劑的種類無特別限定。構成低折射率黏著劑層之黏著劑可為包含可在黏著劑領域中使用之丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物(例如天然橡膠、合成橡膠、該等之混合物等)、聚酯系聚合物、胺甲酸酯系聚合物、聚醚系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚醯胺系聚合物、氟系聚合物等之各種橡膠狀聚合物之1種或2種以上作為基底聚合物者。由黏著性能或成本等觀點來看，可適宜採用包含丙烯酸系聚合物或橡膠系聚合物作為基底聚合物之黏著劑。其中，又以將丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)為宜。在高折射率黏著劑層為丙烯酸系黏著劑層之態樣下，由高折射率黏著劑層與低折射率黏著劑層之密著性之觀點來看，可適宜採用低折射率黏著劑層為丙烯酸系黏著劑層之構成。
在數個態樣中，上述丙烯酸系聚合物宜為例如下述單體原料之聚合物：包含(甲基)丙烯酸烷基酯，且更可包含與該(甲基)丙烯酸烷基酯具有共聚性之其他單體(共聚性單體)。單體原料中，上述(甲基)丙烯酸烷基酯之含量例如可為10重量%以上，可為25重量%以上，可為35重量%以上，亦可為45重量%以上。上述丙烯酸系聚合物亦可為包含(甲基)丙烯酸烷基酯作為主單體且更可包含上述共聚性單體作為副單體之單體成分的聚合物。在此，主單體意指在上述單體原料中單體組成占超過50重量%之成分。上述單體組成之超過55重量%或超過60重量%亦可為(甲基)丙烯酸烷基酯。在數個態樣中，丙烯酸系聚合物之上述單體原料中(甲基)丙烯酸烷基酯所佔比率例如可設為70重量%以上，可設為85重量%以上，可設為90重量%以上，可為95重量%以上，亦可為98重量%以上。上述(甲基)丙烯酸烷基酯之比率的上限無特別限定，宜設為99.5重量%以下(例如99重量%以下)，或者由適宜發揮由副單體所帶來之特性(例如凝集力)之觀點來看，亦可設為98重量%以下(例如小於97重量%)。
(甲基)丙烯酸烷基酯可適宜使用例如下述式(1)所示化合物。 CH 2=C(R 1)COOR 2(1) 在此，上述式(1)中之R 1為氫原子或甲基。又，R 2為碳原子數1~20之鏈狀烷基(以下，有時將所述碳原子數之範圍表示為「C 1-20」)。由黏著劑之儲存彈性模數等觀點來看，以R 2為C 1-12(例如C 2-10，典型上為C 4-8)之鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯為佳。上述R 2為C 1-20之鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用1種或組合2種以上來使用。理想之(甲基)丙烯酸烷基酯可舉丙烯酸正丁酯及丙烯酸2-乙基己酯。
上述共聚性單體有助於用以將交聯點導入丙烯酸系聚合物、或提高丙烯酸系聚合物之凝集力。上述共聚性單體可使用例如含羧基單體、含羥基單體、含酸酐基單體、含醯胺基單體、含胺基單體、具有含氮原子環之單體、含磺酸基單體、含磷酸基單體等含官能基單體之1種或2種以上。共聚性單體之其他例可舉乙酸乙烯酯等乙烯酯系單體、苯乙烯等芳香族乙烯基化合物、含非芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯、含烷氧基單體等。具體例可舉於上所述作為可用於高折射率黏著劑層之基底聚合物之單體之物等，惟不受其等所限。例如，由提升凝集力之觀點來看，上述共聚性單體宜為含羧基單體及/或含羥基單體共聚而成之丙烯酸系聚合物。含羧基單體之適當例可舉丙烯酸、甲基丙烯酸。含羥基單體之適當例可舉丙烯酸2-羥乙酯或丙烯酸4-羥丁酯。
在數個態樣中，為了降低低折射率層之折射率n 2，可使用含氟單體作為上述共聚性單體。單體原料中，含氟單體之含量例如可為10重量%以上，可為25重量%以上，亦可為35重量%以上。由容易實現更低折射率之低折射率層之觀點來看，上述含氟單體之含量宜為40重量%以上，較宜為45重量%以上，更宜為55重量%以上，可為60重量%以上，可為75重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。單體原料中之含氟單體之含量的上限無特別限定，亦可為100重量%。在數個態樣中，由低折射率層之凝集性等觀點來看，上述含氟單體之含量為99.9重量%以下是適當的，宜為99.5以下，可為99重量%以下，可為97重量%以下，亦可為92重量%以下。含氟單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
含氟單體可適宜使用含氟丙烯酸系單體。含氟丙烯酸系單體若為分子內具有至少1個氟原子之丙烯酸系單體則無特別限制。例如可適宜使用含氟之(甲基)丙烯酸酯。含氟之(甲基)丙烯酸酯之適當例可舉於酯末端具有氟化烴基者。氟化烴基可舉例如氟化脂肪族烴基、氟化脂環式烴基、氟化芳香族烴基等。氟化烴基宜為氟化脂肪族烴基。氟化脂肪族烴基可舉氟化烷基等。氟化脂肪族烴基中，脂肪族烴部位可為直鏈狀亦可為支鏈狀。又，在氟化脂肪族烴基中，氟原子可鍵結於脂肪族烴基部位之任一碳原子上。鍵結於1個碳原子上之氟原子可為單數，亦可為複數。鍵結有氟原子之碳原子之數量無特別限制。
氟化脂肪族烴基(其中又為氟化烷基)中，烴基部位之碳原子數無特別限制。在數個態樣中，考慮到與其他共聚性單體之相溶性，以碳原子數例如為1~18(宜為1~12)左右之氟化脂肪族烴基為佳。氟化脂肪族烴基之具體例可列舉三氟甲基、二氟甲基、單氟甲基等氟化甲基；五氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、1,2,2,2-四氟乙基、1,1,2-三氟乙基、1,2,2-三氟乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1-二氟乙基、1,2-二氟乙基、2,2-二氟乙基、1-單氟乙基、2-單氟乙基等氟化乙基等。碳原子數為3以上之氟化烷基與上述例示之氟化甲基或氟化乙基同樣地可例示烷基部位之碳原子中任1個以上碳原子上鍵結有單數或複數氟原子的各種氟化烷基。
氟化脂環式烴基可舉氟化環烷基等。與上述氟化脂肪族烴基同樣地，在氟化脂環式烴基中，氟原子可鍵結於脂環式烴基之任一碳原子上，且鍵結於1個碳原子上之氟原子可為單數及複數任一者。並且，鍵結有氟原子之碳原子之數量無特別限制。氟化脂環式烴基包含例如：2-氟環己基、3-氟環己基、4-氟環己基等具有1個氟原子之環己基；2,4-二氟環己基、2,6-二氟環己基等具有2個氟原子之環己基；2,4,6-三氟環己基等具有3個氟原子之環己基等。
氟化烴基可不具有取代基亦可具有取代基。所述取代基無特別限制，可列舉例如：烷基等烴基、烷氧基、羥基、羧基、胺基、硝基、氰基、鹵素原子等。取代基可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
含氟原子之(甲基)丙烯酸酯[氟化(甲基)丙烯酸酯]包含例如：含氟原子之(甲基)丙烯酸烷基酯[氟化烷基(甲基)丙烯酸酯]、含氟原子之(甲基)丙烯酸環烷基酯[氟化環烷基(甲基)丙烯酸酯]、含氟原子之(甲基)丙烯酸芳基酯[氟化芳基(甲基)丙烯酸酯]等。
含氟原子之(甲基)丙烯酸酯宜為氟化烷基(甲基)丙烯酸酯(尤其為氟化烷基丙烯酸酯)。氟化烷基(甲基)丙烯酸酯可列舉例如：2,2,2-三氟乙基丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製商品名「Viscoat 3F」等)、2,2,3,3-四氟丙基丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製之商品名「Viscoat 4F」等)、1H,1H,5H-八氟戊基丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製之商品名「Viscoat 8F」等)、1H,1H,5H-八氟戊基甲基丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製之商品名「Viscoat 8FM」等)、2-(十七氟壬基)乙基丙烯酸酯(共榮社化學股份公司製之商品名「FA-108」等)、1H,1H,2H,2H-十三氟辛基丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製之商品名「Viscoat 13F」等)等。
由低折射率化效果或柔軟性等觀點來看，氟化烷基(甲基)丙烯酸酯中之氟化烷基的碳原子數為3以上是有利的，宜為4以上，較宜為5以上，更宜為6以上或7以上，尤宜為8以上。由黏著性能等觀點來看，上述氟化烷基之碳原子數為18以下是有利的，宜為14以下，較宜為12以下，可為10以下，亦可為9以下。在數個態樣中，上述氟化烷基之碳原子數可為7以下，亦可為5以下。又，在數個態樣中，含氟原子之(甲基)丙烯酸酯宜為烷基之1位的碳未鍵結氟之氟化烷基(甲基)丙烯酸酯，例如可適宜採用如1H,1H,2H,2H-十三氟辛基丙烯酸酯這種烷基之1位的碳及2位的碳中之任一者未鍵結氟之氟化烷基(甲基)丙烯酸酯。
在數個態樣中，低折射率層為丙烯酸系黏著劑層且該黏著劑之基底聚合物的丙烯酸系聚合物可為下述單體原料之聚合物：至少包含如上述之含氟丙烯酸系單體(例如氟化烷基(甲基)丙烯酸酯)，且可更包含與該含氟丙烯酸系單體具有共聚性之其他單體(共聚性單體)。該單體原料可包含(甲基)丙烯酸烷基酯，亦可不含。上述單體原料中，含氟丙烯酸系單體之含量例如可為10重量%以上，可為25重量%以上，亦可為35重量%以上。由容易實現更低折射率之低折射率層之觀點來看，上述含氟丙烯酸系單體之含量宜為40重量%以上，較宜為45重量%以上，更宜為55重量%以上，可為60重量%以上，可為75重量%以上，可為85重量%以上，可為90重量%以上，亦可為95重量%以上。單體原料中之含氟丙烯酸系單體之含量的上限無特別限定，亦可為100重量%。在數個態樣中，由低折射率層之凝集性等觀點來看，上述含氟丙烯酸系單體之含量為99.9重量%以下是適當的，宜為99.5以下，可為99重量%以下，可為97重量%以下，亦可為92重量%以下。含氟丙烯酸系單體可單獨使用1種或組合2種以上來使用。
用以調製低折射率層之基底聚合物的單體原料可為除了含氟丙烯酸系單體(例如氟化烷基(甲基)丙烯酸酯)外還更包含共聚性單體之組成。上述共聚性單體可使用例如含羧基單體、含羥基單體、含酸酐基單體、含醯胺基單體、含胺基單體、具有含氮原子環之單體(例如N-乙烯基-2-吡咯啶酮等N-乙烯基環狀醯胺)、含磺酸基單體、含磷酸基單體等含官能基單體之1種或2種以上。共聚性單體之其他例可舉乙酸乙烯酯等乙烯酯系單體、苯乙烯等芳香族乙烯基化合物、(甲基)丙烯酸環烷基酯或(甲基)丙烯酸異莰酯等含非芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯、含烷氧基單體等。具體例可舉於上所述作為可用於高折射率黏著劑層之基底聚合物之單體之物等，惟不受其等所限。例如，由提升凝集力之觀點來看，上述共聚性單體宜為含羧基單體及/或含羥基單體共聚而成之丙烯酸系聚合物。
在數個理想態樣中，用以調製低折射率層之基底聚合物的單體原料可為包含含羥基單體之組成。含羥基單體有助於提升凝集力或導入交聯點等。含羥基單體之適當例可舉丙烯酸2-羥乙酯或丙烯酸4-羥丁酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯。由提升在室溫區域中之柔軟性之觀點來看，可更適宜使用丙烯酸4-羥丁酯。單體原料中之含羥基單體之含量無特別限制，例如可為0.01重量%以上(宜為0.1重量%以上，較宜為0.5重量%以上)。在數個態樣中，上述含羥基單體之含量可為上述單體原料的0.7重量%以上，可為0.9重量%以上，亦可為1.5重量%以上。含羥基單體之含量的上限無特別限定，例如可為15重量%以下或10重量%以下。在數個態樣中，由低折射率化之觀點來看，上述單體原料中含羥基單體之含量小於10重量%是適當的，宜設為小於5重量%，可小於3重量%，可小於2.5重量%，亦可小於1.5重量%。
在數個態樣中，由抑制低折射率層之著色或變色(例如黃變)之觀點來看，用以調製低折射率層之基底聚合物的單體原料中含羧基單體之含量宜業經限制。上述單體原料中之含羧基單體之含量例如可小於1重量%，宜小於0.5重量%，較宜小於0.3重量%，更宜小於0.1重量%(例如小於0.05重量%)。關於如此限制含羧基單體之含量一事，由可抑制下述金屬材料觀點來看亦有利，所述金屬材料是可接觸低折射率層的金屬材料、抑或可與低折射率層鄰近配置的金屬材料(例如可存在於被黏著體上之金屬配線或金屬膜等)。在此揭示之技術可適宜在上述單體原料不含含羧基單體之態樣下實施。 基於同樣理由，在數個態樣中，用以調製低折射率層之基底聚合物之單體原料中具有酸性官能基(除羧基以外，還包含磺酸基、磷酸基等)之單體之含量宜業經限制。所述態樣之單體原料中之含酸性官能基單體之含量可應用上述含羧基單體之理想含量。在此揭示之技術可適宜在上述單體原料不含含酸性基單體之態樣(亦即低折射率層之基底聚合物為無酸之態樣)下實施。
低折射率層之基底聚合物與高折射率黏著劑層之基底聚合物同樣地可適當採用公知之聚合方式來調製。基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)之重量平均分子量(Mw)無特別限定，可為例如大約10×10 4~500×10 4之範圍，亦可為大約20×10 4~200×10 4之範圍。在數個態樣中，由與高折射率黏著劑層之密著性等觀點來看，低折射率黏著劑層之基底聚合物的Mw為250×10 4以下是適當的，可為200×104以下，可為150×10 4以下，可為120×10 4以下(例如95×10 4以下)，可為75×10 4以下，可為68×10 4以下，亦可為60×10 4以下。又，在數個態樣中，由低折射率黏著劑層之凝集性等觀點來看，基底聚合物之Mw例如可為30×10 4以上，可為40×10 4以上，亦可為50×10 4以上。在數個理想態樣中，基底聚合物Mw可為大約70×10 4以上，可為大約100×10 4以上，可為130×10 4以上，亦可為160×10 4以上(例如180×10 4以上)。藉由使用Mw為預定值以上之基底聚合物，可容易獲得可發揮所期望之黏著特性的適度凝集力。並且，藉由利用由如上述之高分子量之聚合物所帶來之凝集性，可容易獲得柔軟性優異、進而可承受大變形的柔軟性。為了調製Mw，可視需求使用以往公知之鏈轉移劑。
雖無特別限定，但由接著性之觀點來看，低折射率層之基底聚合物(例如丙烯酸系聚合物)的Tg大約為0℃以下是有利的，宜為大約-5℃以下(例如大約-15℃以下或-25℃以下)。又，由黏著劑層之凝集力之觀點來看，低折射率層之基底聚合物的Tg大約為-75℃以上，宜為大約-70℃以上(例如-50℃以上，進一步為-30℃以上)。丙烯酸系聚合物之Tg可藉由適當改變單體組成(即，合成該聚合物時使用之單體種類或使用量比)來調整。
低折射率層中可使用公知交聯劑。又，低折射率層中可含有賦黏劑其他添加劑。交聯劑或賦黏劑可從與可使用於高折射率黏著劑層之物相同之物中適當選擇，並使用適當之量。
在用於形成低折射率黏著劑層的黏著劑組成物包含交聯劑之態樣中，上述交聯劑可適宜採用例如異氰酸酯系交聯劑。在數個態樣中，由與高折射率黏著劑層之密著性等觀點來看，異氰酸酯系交聯劑相對於上述黏著劑組成物之基底聚合物100重量份之使用量例如可小於0.5重量份，可小於0.3重量份，可小於0.2重量份，亦可小於0.15重量份。又，由適當發揮交聯劑之使用效果之觀點來看，在數個態樣中，異氰酸酯系交聯劑相對於基底聚合物100重量份之使用量例如可為0.005重量份以上，可為0.01重量份以上，可為0.05重量份以上，亦可為0.08重量份以上。
＜黏著劑層之製作＞ 在此揭示之技術中，構成黏著劑層(可為高折射率黏著劑層及/或低折射率層；只要未特別說明，則以下亦同)之黏著劑可使用黏著劑組成物來形成。可使用之黏著劑組成物之形態無特別限定，例如可為下列各種形態：有機溶劑中包含黏著劑形成成分之形態的溶劑型黏著劑組成物、調製成可藉由紫外線或放射線等活性能量線硬化而形成黏著劑之活性能量線硬化型黏著劑組成物、黏著劑形成成分分散於水中之形態的水分散型黏著劑組成物、在加熱熔融狀態下塗敷且冷卻至室溫附近便可形成黏著劑的熱熔型黏著劑組成物等。黏著劑可為藉由乾燥、交聯、聚合、冷卻等使溶劑型、活性能量線硬化型、水分散型、熱熔型等形態之黏著劑組成物硬化而成之黏著劑，亦即可為上述黏著劑組成物的硬化物。黏著劑組成物之硬化手段(例如乾燥、交聯、聚合、冷卻等)可僅應用1種，亦可同時或多階段應用2種以上。以溶劑型黏著劑組成物來說，典型上可使該組成物乾燥(宜為進一步交聯)來形成黏著劑。以活性能量線硬化型黏著劑組成物來說，典型上係藉由照射活性能量線使聚合反應及/或交聯反應進行而形成黏著劑。在必須以活性能量線硬化型黏著劑組成物進行乾燥時，可於乾燥後照射活性能量線。在此揭示之黏著劑可使用溶劑型黏著劑組成物來適宜形成，但無特別限定。
在此揭示之技術中之黏著片的黏著劑層可藉由在對適當表面賦予(例如塗佈)黏著劑組成物後使該組成物硬化來形成。黏著劑組成物之塗佈例如可使用凹版輥塗佈機、反向輥塗佈機、接觸輥塗佈機、浸漬輥塗佈機、棒塗機、刮刀塗佈機、噴塗機等慣用之塗佈機來實施。
在此揭示之技術中之黏著劑層可為具有後硬化性之黏著劑層，亦可為不具後硬化性之黏著劑層。在此，具有後硬化性之黏著劑層係指可藉由熱或活性能量線(例如紫外線)之照射來使其進一步硬化之黏著劑層。作為具有後硬化性之黏著劑層之例可舉：於基底聚合物之側鏈具有未反應之乙烯性不飽和基之黏著劑層、或包含未反應多官能性單體的黏著劑層。在數個態樣中，黏著劑層宜不具後硬化性。不具後硬化性之黏著劑層不會發生伴隨後硬化反應之尺寸變化(即尺寸穩定性佳)，因此容易抑制黏著劑層或貼附有該黏著劑層之被黏著體的翹曲。不會發生後硬化所造成之尺寸變化(例如硬化收縮)由抑制黏著劑層之光學應變之觀點來看亦有利。
在此揭示之技術中之黏著劑層之厚度無特別限定，可設為例如3µm以上，宜為5µm以上。藉由厚度5µm以上之黏著劑層，可容易獲得良好之黏著特性。又，所述厚度之黏著劑層會吸收可能存在於被黏著體表面之凹凸而容易密著性良好地接合於該被黏著體。由防止光干涉造成之著色或顏色不均之觀點來看，黏著劑層之厚度(例如高折射率黏著劑層之厚度)為5µm以上亦佳。在數個態樣中，黏著劑層之厚度可為10µm以上，可為20µm以上，可為30µm以上，可為50µm以上，亦可為70µm以上或85µm以上。又，在數個態樣中，黏著劑層之厚度例如可為300µm以下，可為250µm以下，可為200µm以下，可為150µm以下，亦可為120µm以下。在數個理想態樣中，黏著劑層之厚度為100µm以下，較宜為75µm以下，更宜為70µm以下，可為50µm以下，亦可為30µm以下。由包含該黏著劑層之積層片或發光裝置之薄型化等觀點來看，黏著劑層之厚度不過大是有利的。且，薄型黏著劑層有對被黏著體之順應性優異之傾向。在此揭示之技術例如可適宜在黏著劑層之厚度成為3µm~200µm(較宜為5µm~100µm，更宜為5µm~75µm)之範圍之態樣下實施。
在數個態樣中，上述黏著劑層之厚度至少可應用於高折射率黏著劑層之厚度T 1。低折射率黏著劑層之厚度T 2亦可從相同範圍中選擇。不論是否為黏著劑層，上述黏著劑層之厚度亦可應用於低折射率層之厚度T 2。高折射率黏著劑層之厚度T 1與低折射率層之厚度T 2可為相同程度，亦可不同。高折射率黏著劑層之厚度T 1與低折射率層之厚度T 2之比(T 1/T 2)例如可為0.1以上，可為0.2以上，可為0.3以上，可為0.4以上，可為0.5以上，亦可為1.0以上(例如大於1.0)。又，上述比(T 1/T 2)例如可為20以下，可為10以下，可為5以下，亦可為3以下。在數個態樣中，上述比(T 1/T 2)可小於2，可小於1.5，亦可小於1。在其他數個態樣中，上述比(T 1/T 2)可為0.8以下，可為0.6以下，亦可為0.5以下。
獲得高折射率黏著劑層與低折射率層(典型上為低折射率黏著劑層)積層而成之構成(積層片)之方法，可採用例如：於剝離性表面(例如剝離襯墊之剝離面)上分別形成高折射率黏著劑層及低折射率層，並將該等貼合之方法；將用以形成低折射率層之組成物塗佈於高折射率黏著劑層上並使其硬化之方法，或反之將用以形成高折射率黏著劑層之黏著劑組成物塗佈於低折射率層上並使其硬化之方法等，惟不受該等所限。在貼合預先形成之高折射率黏著劑層及低折射率層時，亦可視需求進行促進其等層之密著的處理。例如可進行高壓釜處理、輥壓處理等，但不受該等所限。
(剝離強度) 在此揭示之黏著劑層對玻璃板之剝離強度無特別限定。在數個態樣中，黏著劑層對玻璃板之剝離強度例如為0.1N/25mm以上，亦可為0.5N/25mm以上。在數個理想態樣中，上述對玻璃板之剝離強度為1.0N/25mm以上，較宜為1.5N/25mm以上，更宜為2.0N/25mm以上，可為3.0N/25mm以上，可為5.0N/25mm以上，亦可為10N/25mm以上。如所述，對玻璃板剝離強度為預定值以上之黏著劑層適宜用於例如玻璃製構件等之接合或固定。上述剝離強度的上限無特別限制，例如可為30N/25mm以下、25N/25mm以下或20N/25mm以下。
在此，上述剝離強度係藉由下述方式來掌握：壓接於作為被黏著體之鹼玻璃板上並於23℃、50%RH之環境下放置30分鐘後，接著投入加壓脫泡裝置(高壓釜)中在溫度50℃、壓力0.5MPa之條件下進行30分鐘高壓釜處理，再於23℃、50%RH之氣體環境下放置24小時後，在剝離角度180度、拉伸速度300mm/分鐘之條件下測定剝離強度。在測定時，可視需求在測定對象之黏著劑層上貼附適當之襯底材(例如厚度25µm左右~50µm左右之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜)來補強。剝離強度更具體而言可以下述方法測定。 [對玻璃板剝離強度] 在23℃、50%RH之測定環境下，從黏著劑層之一面剝離剝離襯墊，並貼合厚度50µm之PET薄膜進行襯底後，裁切成寬度25mm、長度100mm之尺寸做成試驗片。從試驗片剝離另一面之剝離襯墊，使2kg之滾筒於作為被黏著體之鹼玻璃板(松浪硝子工業公司製，厚度1.35mm，青玻璃磨砂品)的表面來回1次進行壓接。將其放置於相同環境下30分鐘後，接著投入加壓脫泡裝置(高壓釜)中，在溫度50℃、壓力0.5MPa之條件下進行30分鐘高壓釜處理，再於23℃、50%RH之氣體環境下放置24小時後，使用萬能拉伸壓縮試驗機，依循JIS Z 0237：2000，在拉伸速度300mm/分鐘、剝離角度180度之條件下測定剝離強度(接著力)[N/25mm]。萬能拉伸壓縮試驗機例如可使用美蓓亞公司製之「拉伸壓縮試驗機，TG-1kN」。 在此揭示之高折射率黏著劑層與低折射率黏著劑層積層而構成具有第1黏著面及第2黏著面之雙面黏著片之形態的積層片時，在數個態樣中，上述剝離強度宜至少應用於第1黏著面(由高折射率黏著劑層構成之黏著面)，較宜應用於第1黏著面及第2黏著面兩面。第1黏著面對玻璃板之剝離強度與第2黏著面對玻璃之剝離強度可為相同程度，亦可不同。
＜支持基材＞ 高折射率黏著劑層及低折射率層亦可依序或以相反順序積層於支持基材之一面上。如所述高折射率黏著劑層及低折射層積層於支持基材上之構成亦可視為附基材之黏著片。因此，根據本說明書提供一種附基材之黏著片(黏著製品)，其包含：由高折射率黏著劑層及低折射率層(宜為低折射率黏著劑層)構成之積層片、與支持該積層片之支持基材。
支持基材之材質無特別限定，可因應使用目的或使用態樣等適當選擇。可使用之基材的非限定例可列舉：以聚丙烯(PP)或乙烯-丙烯共聚物等之聚烯烴為主成分的聚烯烴薄膜、以聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等之聚酯為主成分的聚酯薄膜、以聚氯乙烯為主成分的聚氯乙烯薄膜等塑膠薄膜；由聚胺甲酸酯發泡體、聚乙烯(PE)發泡體、聚氯丁二烯發泡體等發泡體構成之發泡體片；各種纖維狀物質(可為麻、綿等天然纖維、聚酯、維尼綸等合成纖維、乙酸酯等半合成纖維等)單獨或混紡等而成的織布及不織布；日本紙、道林紙、牛皮紙、皺紋紙等紙類；鋁箔、銅箔等之金屬箔等。亦可為該等複合而成之構成的基材。所述複合基材之例可舉例如金屬箔與上述塑膠薄膜積層而成之結構的基材、業經玻璃布等無機纖維強化之塑膠基材等。
在數個態樣中，可適宜使用各種薄膜基材。上述薄膜基材可為如發泡體薄膜或不織布片材等多孔質之基材，可為非多孔質之基材，亦可為多孔質之層與非多孔質之層積層而成之結構的基材。在數個態樣中，上述薄膜基材可適宜使用包含獨立且可維持形狀之(自立型之、或是非依存性之)樹脂薄膜作為基底薄膜者。在此，「樹脂薄膜」係指非多孔質之結構且典型上為實質上不含氣泡(無孔洞)之樹脂薄膜。因此，上述樹脂薄膜係可與發泡體薄膜或不織布區別之概念。上述樹脂薄膜可適宜使用獨立且可維持形狀之(自立型之、或是非依存性之)者。上述樹脂薄膜可為單層結構，亦可為2層以上之多層結構(例如3層結構)。
構成樹脂薄膜之材料可列舉例如：以聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯為主成分之聚酯系樹脂、以聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-丁烯共聚物等聚烯烴為主成分之聚烯烴系樹脂、三醋酸纖維素等纖維素樹脂、乙酸酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、尼龍6、尼龍66、部分芳香族聚醯胺等聚醯胺(PA)系樹脂、聚醯亞胺(PI)系樹脂、透明聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺(PAI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚碸(PES)、降𦯉烯系樹脂等環狀聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂、乙烯-乙烯醇共聚物樹脂、聚芳酯系樹脂、聚伸苯硫醚(PPS)系樹脂、聚胺甲酸酯(PU)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)、聚四氟乙烯(PTFE)或氟化聚醯亞胺等氟系樹脂等。
上述樹脂薄膜可為使用單獨包含所述樹脂之1種的樹脂材料所形成者，亦可為使用摻合有2種以上之樹脂材料所形成者。上述樹脂薄膜可為無延伸，亦可為經延伸(例如單軸延伸或雙軸延伸)者。例如，可適宜使用PET薄膜、PBT薄膜、PEN薄膜、無延伸聚丙烯(CPP)薄膜、雙軸延伸聚丙烯(OPP)薄膜、低密度聚乙烯(LDPE)薄膜、直鏈狀低密度聚乙烯(LLDPE)薄膜、PP/PE摻合物薄膜等。由強度或尺寸穩定性之觀點來看，理想之樹脂薄膜之例可舉PET薄膜、PEN薄膜、PPS薄膜及PEEK薄膜。由取得容易性等觀點來看，尤宜為PET薄膜及PPS薄膜，其中又以PET薄膜為佳。
在樹脂薄膜中，可在不顯著妨礙本發明效果之範圍內視需求摻混光穩定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、著色劑(染料、顏料等)、充填材、滑劑(slipping agent)、抗黏結劑等公知之添加劑。添加劑之摻混量無特別限定，可按黏著片之用途等適當設定。
樹脂薄膜之製造方法無特別限定。例如可適當採用擠製成形、充氣成形、T型模澆鑄成形、砑光輥成形等以往公知之一般樹脂薄膜成形方法。
上述基材可為實質上由所述基底薄膜所構成者。或者，上述基材亦可為除上述基底膜外，還包含輔助性之層者。作為上述輔助性之層之例，可舉光學特性調整層(例如著色層、抗反射層)、用於對基材賦予所期望之外觀的印刷層或層合層、抗靜電層、底塗層、剝離層等表面處理層。
在數個態樣中，作為支持基材可適宜採用具有光透射性之基材(以下亦稱光透射性基材)。藉此，便可構成附具有光透射性之基材之黏著片。光透射性基材之全光線透射率例如可大於50%，亦可為70%以上。在數個理想態樣中，支持基材之全光線透射率為80%以上，較宜為90%以上，亦可為95%以上(例如95~100%)。上述全光線透射率係根據JIS K 7136：2000，使用市售之透射率計來測定。透射率計可使用村上色彩技術研究所製之商品名「HAZEMETER HM-150」或其等效品。上述光透射性基材之適宜例可舉具有光透射性之樹脂薄膜。上述光透射性基材亦可為光學薄膜。
基材之厚度無特別限定，可因應使用目的或使用態樣等作選擇。基材之厚度例如可為500µm以下，而由處理性或加工性之觀點來看，宜為300µm以下，可為150µm以下，可為100µm以下，可為50µm以下，可為25µm以下，亦可為10µm以下。基材之厚度若變小，對被黏著體之表面形狀的順應性會傾向提升。又，由處理性或加工性等觀點來看，基材之厚度例如可為2µm以上，可為10µm以上，亦可為25µm以上。
基材之中要積層黏著劑層之側的面亦可視需求施行有電暈放電處理、電漿處理、紫外線照射處理、酸處理、鹼處理、藉由塗佈底塗劑(底漆)形成底塗層等之以往公知的表面處理。所述表面處理可為用以提升黏著劑層對基材之投錨性之處理。用於形成底塗層的底漆之組成無特別限定，可從公知物適當選擇。底塗層之厚度無特別限制，通常為0.01µm~1µm左右是適當的，宜為0.1µm~1µm左右。可視需求對基材施行之其他處理可舉抗靜電層形成處理、著色層形成處理、印刷處理等。該等處理可單獨或組合來應用。
在此揭示之技術中，高折射率黏著劑層及低折射層構成附基材之黏著片時，該黏著片之厚度例如可為1000µm以下，可為350µm以下，可為200µm以下，可為120µm以下，可為75µm以下，亦可為50µm以下。又，由處理性等觀點來看，上述黏著片之厚度例如可為10µm以上，可為25µm以上，可為80µm以上，亦可為130µm以上。 此外，黏著片之厚度意指貼附於被黏著體之部分的厚度。例如圖2所示之構成的無基材之雙面黏著片2中，係指從黏著劑層之第1表面(第1黏著面)10A至第2表面(第2黏著面)10B為止之厚度，而不包含剝離襯墊31、32之厚度。
＜積層片＞ 包含在此揭示之高折射率黏著劑層及低折射率層之積層片(黏著片)如上述可為由高折射率黏著劑層及低折射率層(宜為低折射率黏著劑層)構成之積層片，亦可為更包含支持該積層片之支持基材的附基材之積層片。
在數個態樣中，積層片之霧度值例如可為5.0%以下，宜為3.0%以下，較宜為2.0%以下，更宜為1.0%以下，可為0.9%以下，可為0.8%以下，可為0.5%以下，亦可為0.3%以下。如所述透明性高的積層片在要求高光透射性之用途上乃有利。積層片之霧度值的下限無特別限制，由提升透明性之觀點來看霧度值越小越好。另一方面，在數個態樣中，考量到折射率或黏著特性，霧度值例如可為0.05%以上，亦可為0.10%以上。積層片之霧度值可利用與上述黏著劑層之霧度值之測定相同方法來測定。具體上，可以後述試驗例中記載之方法來測定。積層片之上述霧度值可藉由選擇上述黏著劑層之組成等或在具有基材之構成中選擇基材種類或基材厚度來獲得。
在數個態樣中，積層片之全光線透射率宜為85.0%以上(例如88.0%以上、90.0%以上或大於90.0%)。如所述透明性高的積層片在要求高光透射性之用途上乃有利。全光線透射率的上限在實用上可為例如大約98%以下，可為大約96%以下，亦可為大約95%以下。在數個態樣中，考量到折射率或黏著特性，積層片之全光線透射率可為大約94%以下，可為大約93%以下，亦可為大約92%以下。積層片之全光線透射率可利用與上述黏著劑層之全光線透射率之測定相同方法來測定。具體上，可以後述試驗例中記載之方法來測定。積層片之全光線透射率可藉由選擇上述黏著劑層之組成等或在具有基材之構成中選擇基材種類或基材厚度來獲得。
在此揭示之積層片(無基材之積層片或附基材之積層片)之厚度例如可為1000µm以下，可為350µm以下，可為200µm以下，可為120µm以下，可為75µm以下，亦可為50µm以下。又，由處理性等觀點來看，黏著片之厚度例如可為5µm以上，可為10µm以上，可為15µm以上，可為25µm以上，可為80µm以上，亦可為130µm以上。 此外，黏著片之厚度意指貼附於被黏著體之部分的厚度。例如圖2所示之構成的無基材之雙面黏著片2中，係指從黏著劑層之第1表面(第1黏著面)10A至第2表面(第2黏著面)10B為止之厚度，而不包含剝離襯墊31、32之厚度。
＜附剝離襯墊之積層片＞ 在此揭示之高折射率黏著劑層及低折射率層在組入發光裝置之前，可採取使包含高折射率黏著劑層與低折射率層之積層片的黏著面抵接剝離襯墊之剝離面的形態之黏著製品(附剝離襯墊之積層片)之形態。因此，根據本說明書提供一種附剝離襯墊之積層片(黏著製品)，其包含高折射率黏著劑層與低折射率層之積層片、及具有抵接該積層片之黏著面的剝離面之剝離襯墊。
剝離襯墊無特別限定，例如可使用樹脂薄膜或紙(可為聚乙烯等樹脂層合而成之紙)等之剝離襯墊基材上具有剝離處理層之剝離襯墊、或是由藉由氟系聚合物(聚四氟乙烯等)或聚烯烴系樹脂(聚乙烯、聚丙烯等)這類低接著性材料形成之樹脂薄膜構成之剝離襯墊等。上述剝離處理層可為藉由剝離處理劑將剝離襯墊基材進行表面處理所形成者。剝離處理劑可為聚矽氧系剝離處理劑、長鏈烷基系剝離處理劑、氟系剝離處理劑、硫化鉬(IV)等公知之剝離處理劑。在數個態樣中，可適宜採用具有利用聚矽氧系剝離處理劑所得剝離處理層之剝離襯墊。剝離處理層之厚度或形成方法無特別限定，可設定成能在剝離襯墊之黏著面側表面發揮適當之剝離性。
在數個態樣中，由黏著面之平滑性等觀點來看，可適宜採用作為剝離襯墊基材之樹脂薄膜(以下亦稱剝離薄膜基材)上具有剝離處理層之構成的剝離襯墊(以下亦稱剝離薄膜)。剝離薄膜基材可使用各種塑膠薄膜。在本說明書中，所謂塑膠薄膜典型上為非多孔質的片材，係例如可與不織布作區別(亦即，不包含不織布)之概念。
上述塑膠薄膜之材料可列舉例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-丁烯共聚物等聚烯烴系樹脂、三醋酸纖維素等纖維素樹脂、乙酸酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、降𦯉烯系樹脂等環狀聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂、乙烯-乙烯醇共聚物樹脂、聚芳酯系樹脂、聚伸苯硫醚系樹脂等。亦可使用由該等樹脂中之任1種或2種以上混合物形成之剝離薄膜基材。其中較佳之剝離薄膜基材可舉由聚酯系樹脂形成之聚酯系樹脂薄膜(例如PET薄膜)。
可作為上述剝離薄膜基材使用之塑膠薄膜可為無延伸薄膜、單軸延伸薄膜、雙軸延伸薄膜中之任一者。又，上述塑膠薄膜可為單層結構，亦可為包含2層以上子層之多層結構。上述塑膠薄膜中亦可摻混有抗氧化劑、抗老化劑、耐熱穩定劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、顏料或染料等之著色劑、滑劑、充填劑、抗靜電劑、成核劑等可用於黏著片之剝離薄膜基材之公知的添加劑。多層結構之塑膠薄膜中，各添加劑可摻混在所有的子層中，亦可僅摻混在一部分的子層中。
在數個理想之態樣中，上述剝離薄膜基材(典型上為塑膠薄膜)可適宜使用在其剝離面側之層中無機粒子等粒子(例如可為顏料或滑劑、充填劑等)之含量業經限制者、或實質上不包含所述粒子者。在此所謂實質上不包含，意指該層中之粒子(例如無機粒子)之量小於1重量%，宜意指小於0.1重量%(例如0~0.01重量%)。具備所述剝離薄膜基材之剝離薄膜容易成為剝離面之算術平均粗度Ra或最大高度Rz低者。上述剝離薄膜基材(典型上為塑膠薄膜)具有多層結構時，剝離面側之層中之粒子含量可為該剝離面側層以外之層中之粒子含量的1/10以下(例如1/50以下)。
在第1黏著面及第2黏著面上分別具有剝離襯墊之形態的附剝離襯墊之積層片中，配置於其中一黏著面上的剝離襯墊(以下，亦稱為其中一剝離襯墊)與配置於另一黏著面上的剝離襯墊(以下，亦稱為另一剝離襯墊)可為具有同種材料及構成者，亦可為具有不同種材料、構成者。
剝離襯墊(宜為剝離薄膜)之厚度無特別限定，例如可為10µm~500µm左右。由剝離襯墊之強度或尺寸穩定性之觀點來看，剝離襯墊之厚度為20µm以上是適當的，宜為30µm以上，可為35µm以上，可為40µm以上，亦可為45µm以上。又，由剝離襯墊之處理性(例如捲繞容易度)等觀點來看，剝離襯墊之厚度為300µm以下是適當的，宜為250µm以下，可為200µm以下，可為150µm以下，亦可為130µm以下。在數個理想態樣中，剝離襯墊之厚度為大約125µm以下，可為大約115µm以下，可為大約105µm以下，可為大約90µm以下，亦可為大約70µm以下。藉由將剝離襯墊之厚度設為預定值以下，便不易形成做成捲狀時之捲繞痕跡，而能順利從黏著片去除，從而在剝離襯墊去除後之黏著面可容易獲得高表面平滑性。
在具備其中一剝離襯墊及另一剝離襯墊之態樣的附剝離襯墊之積層片中，該等剝離襯墊之厚度可相同亦可互異。在數個態樣中，由剝離作業性等觀點來看，其中一剝離襯墊與另一剝離襯墊宜具有不同之厚度，例如較厚的剝離襯墊之厚度宜為較薄的剝離襯墊之厚度的大約1.1倍以上(例如大約1.25倍以上；上限無特別限制，例如為5倍以下)。
(黏著面側表面之算術平均粗度Ra) 在數個態樣中，剝離襯墊(宜為剝離薄膜)由實現具有高表面平滑性之黏著面之觀點來看，黏著面側表面之算術平均粗度Ra宜被限制在預定值以下(例如大約100nm以下，進一步為小於50nm)。在數個態樣中，剝離襯墊之黏著面側表面之算術平均粗度Ra例如宜為大約30nm以下，較宜為大約25nm以下，可為大約20nm以下，亦可為大約18nm以下。又，由剝離襯墊之製造容易性或處理性等觀點來看，在數個態樣中，上述算術平均粗度Ra例如可為大約5nm以上，可為大約10nm以上，亦可為大約15nm以上。在第1黏著面及第2黏著面上分別配置有剝離襯墊之形態的附剝離襯墊之積層片中，兩剝離襯墊之黏著面側表面皆宜滿足上述任一算術平均粗度Ra。兩剝離襯墊之黏著面側表面的算術平均粗度Ra可為相同程度，亦可不同。
(黏著面側表面之最大高度Rz) 在數個態樣中，剝離襯墊(宜為剝離薄膜)由實現具有高表面平滑性之黏著面之觀點來看，黏著面側表面之最大高度Rz宜為700nm以下。在數個態樣中，剝離襯墊之黏著面側表面之最大高度Rz宜為大約600nm以下，可為大約500nm以下，可為大約400nm以下，亦可為大約300nm以下。又，由剝離襯墊之製造容易性或處理性等觀點來看，在數個態樣中，上述最大高度Rz例如可為大約50nm以上，可為大約80nm以上，可為大約100nm以上，可為大約200nm以上，亦可為大約300nm以上。在第1黏著面及第2黏著面上分別配置有剝離襯墊之形態的附剝離襯墊之積層片中，兩剝離襯墊之黏著面側表面皆宜滿足上述任一最大高度Rz。兩剝離襯墊之黏著面側表面的最大高度Rz可為相同程度，亦可不同。
(背面之表面性狀) 剝離襯墊(宜為剝離薄膜)之背面(黏著劑層側之相反面)的算術平均粗度Ra或最大高度Rz無特別限定。由生產性等觀點來看，剝離襯墊之背面的算術平均粗度Ra亦可例如大於30nm(例如大於35nm，進一步為大約50nm以上)。由生產性等觀點來看，剝離襯墊之背面的最大高度Rz例如可大於400nm(例如大約500nm以上)，亦可大於800nm(例如1000nm以上)。
剝離薄膜表面之算術平均粗度Ra及最大高度Rz可藉由薄膜材料之選擇或成形方法、剝離處理等表面處理等來調節。例如可舉調節構成剝離性表面之層(抗黏結層、硬塗層、寡聚物防止層等)之平滑性，使該表面層或剝離薄膜基材中之填料粒子減量或不使用(無粒子化)，其他還有調整延伸條件等。
剝離襯墊(宜為剝離薄膜)表面之算術平均粗度Ra及最大高度Rz係使用非接觸式表面粗度測定裝置測定。非接觸式表面粗度測定裝置可使用光干涉方式表面粗度測定裝置，例如可使用3維光學輪廓儀(商品名「NewView7300」，ZYGO公司製)或其等效品。例如可以黏著劑將玻璃板(MATSUNAMI公司製之鈉鈣玻璃板，厚度1.3mm)貼合於剝離襯墊之與測定面相反側的面上並固定，使用3維光學輪廓儀(商品名「NewView7300」，ZYGO公司製)在23℃、50%RH之環境下測定表面形狀。
＜用途＞ 在此揭示之技術中，高折射率黏著劑層可貼合於構成發光裝置之各種被黏著體來使用。上述被黏著體之構成材料(被黏著體材料)無特別限定，可列舉例如：銅、銀、金、鐵、錫、鈀、鋁、鎳、鈦、鉻、銦、鋅等或包含該等中之2種以上的合金等金屬材料，或是例如聚醯亞胺系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚腈系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚酯系樹脂(PET系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂等)、聚氯乙烯系樹脂、聚伸苯硫醚系樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚醯胺系樹脂(所謂的芳醯胺樹脂等)、聚芳酯系樹脂、氟系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、二醋酸纖維素或三醋酸纖維素等纖維素系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、液晶聚合物、石墨烯等碳材料等各種樹脂材料(典型上為塑膠材)、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、SiO 2、ITO(氧化銦錫)、ATO(銻摻雜氧化錫)等金屬氧化物及其混合物、氮化鋁、氮化矽、氮化鈦、氮化鎵、氮化銦等氮化物及其複合物、鹼玻璃、無鹼玻璃、石英玻璃、硼矽酸鹽玻璃、藍寶石玻璃碳等無機材料等。在此揭示之高折射率黏著劑層可貼附在至少表面由上述材料構成之構件(例如光學構件)上來使用。又，在此揭示之技術中之低折射率層(宜為低折射率黏著劑層)可積層(例如貼合)於上述各種被黏著體來使用。
在此揭示之高折射率黏著劑層可在下述貼附態樣下使用：在貼合於被黏著體後，不須進行加熱至較室溫左右溫度區域(例如20℃~35℃)更高之溫度的處理之貼附態樣。又，在因應被黏著體之種類等所容許之情況下，亦可在對被黏著體貼合後、貼合之時間點及貼合前之至少任一時間點進行加熱處理。加熱處理可在提升黏著劑對被黏著體之密著性或促進接著等目的下進行。加熱處理溫度可在因應黏著片之構成材料或被黏著體之種類所容許之範圍內，考量被黏著體之表面狀態等來適當設定成可獲得所期望之效果，例如可為100℃左右或其以下，可為80℃以下，可為60℃以下，亦可為50℃以下。
作為黏著劑層之貼附對象的構件或材料可為具有光透射性者。以所述被黏著體來說，可容易獲得在此揭示之高折射率黏著劑層為高透明性之優點。上述被黏著體之全光線透射率例如可大於50%，亦可為70%以上。在數個理想態樣中，上述被黏著體之全光線透射率為80%以上，較宜為90%以上，更宜為95%以上(例如95~100%)。在此揭示之高折射率黏著劑層適宜在貼附於全光線透射率為預定值以上之被黏著體(例如光學構件)上之態樣下使用。上述全光線透射率係根據JIS K 7136：2000，使用市售之透射率計來測定。透射率計可使用村上色彩技術研究所製之商品名「HAZEMETER HM-150」或其等效品。
被黏著體之折射率與抵接該被黏著體而配置之黏著劑層(高折射率黏著劑層或低折射率層)之折射率可為相同程度，亦可不同。例如，藉由使黏著劑層的折射率相對於被黏著體的折射率相對地變高，可使從被黏著體側以臨界角以下之角度入射黏著劑層之光在正面側折射，提高正面亮度。此時，被黏著體之折射率例如可為1.55以下、1.50以下、1.48以下、1.45以下，亦可小於1.45，又例如可為1.10以上、1.20以上、1.30以上或1.35以上。又，藉由相對於黏著劑層為相對較高之折射率的被黏著體，可使從黏著劑層側入射被黏著體之光在正面側折射，提高正面亮度。此時，被黏著體之折射率例如可為1.60以上、1.65以上或1.70以上，且例如為3.00以下，可為2.50以下或2.00以下。另一方面，藉由縮小黏著劑層與被黏著體之折射率差，可抑制在界面的光反射。此時，被黏著體之折射率可為1.55~1.80左右，可為1.55~1.75左右，亦可為1.60~1.70左右。被黏著體之折射率可以與黏著劑之折射率相同之方法來測定。
在數個理想態樣中，上述被黏著體可為具有上述任一折射率且具有上述任一全光線透射率者。在所述被黏著體貼附或積層有高折射率黏著劑層及/或低折射率層之形態的發光裝置中，尤能適宜發揮在此揭示之技術所帶來的效果。
在此揭示之高折射率黏著劑層及低折射率層可以包含其等之積層片之形態貼附於如上述之各種被黏著體來使用。較佳用途之一例可舉光學用途。更具體而言，例如可適宜將在此揭示之積層片作為可用於貼合光學構件之用途(光學構件貼合用)或使用有上述光學構件之製品(光學製品)之製造用途等的光學用黏著片來使用。以所述態樣使用之積層片亦可視為配置於光學積層體之層間的層間片。
上述光學構件係指具有光學特性(例如偏光性、光折射性、光散射性、光反射性、光透射性、光吸收性、光繞射性、旋光性、視辨性等)之構件。上述光學構件若為具有光學特性之構件則無特別限定，可列舉例如構成顯示裝置(影像顯示裝置)、輸入裝置等機器(光學機器)之構件或用於該等機器之構件，可舉例如偏光板、波長板、相位差板、光學補償薄膜、增亮薄膜、導光板、反射薄膜、抗反射薄膜、硬塗(HC)薄膜、衝擊吸收薄膜、防污薄膜、光致變色薄膜、調光薄膜、透明導電薄膜(ITO薄膜)、設計薄膜、裝飾薄膜、表面保護板、稜鏡、透鏡、彩色濾光片、透明基板，或進一步為該等積層而成之構件(該等有時統稱為「機能性薄膜」)等。此外，上述「板」及「薄膜」係分別設為包含板狀、薄膜狀、片狀等形態者，例如「偏光薄膜」係設為包含「偏光板」或「偏光片」等者，而「導光板」係設為包含「導光薄膜」或「導光片」等者。又，上述「偏光板」係設為包含圓偏光板者。
上述顯示裝置可舉例如液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、微LED(µLED)、迷你LED(miniLED)、PDP(電漿顯示器面板)、電子紙等。又，上述輸入裝置可舉觸控面板等。
上述光學構件無特別限定，可舉例如由玻璃、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、金屬薄膜等構成之構件(例如片狀或膜狀、板狀構件)等。此外，本說明書中之「光學構件」亦設為包含保持顯示裝置或輸入裝置之視辨性的同時擔任裝飾或保護功能之構件(設計薄膜、裝飾薄膜或表面保護薄膜等)。
在此揭示之高折射率黏著劑層(可為與低折射層之積層片的形態)例如可在配置於將具有1或2種以上光透射、反射、擴散、波導、聚光、繞射等功能之薄膜或螢光薄膜等光學薄膜與其他光學構件(可為其他光學薄膜)之間的態樣下使用，且可適宜用於接合上述光學薄膜與上述其他光學構件。其中，在具有至少1種光之波導、聚光、繞射之功能的光學薄膜之接合中，接合層之全部整體宜為高折射率，而可成為在此揭示之技術的理想應用對象。
在此揭示之高折射率黏著劑層例如可適宜用於導光薄膜、擴散薄膜、螢光薄膜、調色薄膜、稜鏡片、柱鏡薄膜、微透鏡陣列薄膜等光學薄膜之接合。該等用途中，由光學構件之小型化的傾向或高性能化之觀點來看，係要求薄型化或光擷取效率之提升。在此揭示之高折射率黏著劑層可適宜作為可符合所述要求之黏著劑層來利用。更詳細而言，例如在導光薄膜或擴散薄膜之接合時，藉由調整作為接合層之黏著劑層的折射率(例如高折射率化)可有助於薄型化。螢光薄膜之接合可藉由適當調整螢光發光體與黏著劑之折射率差，來提升光擷取效率(亦可視為發光效率)。就調色薄膜之接合而言，藉由適當調整黏著劑之折射率以使與調色用顏料之折射率差變小，可降低散射成分，而有助於提升光透射性。在稜鏡片、柱鏡薄膜、微透鏡陣列薄膜等之接合時，藉由適當調整黏著劑之折射率來控制光的繞射，可有助於提升亮度及/或視角。
在此揭示之高折射率黏著劑層(可為與低折射層之積層片之形態)可適宜在貼附於高折射率之被黏著體(可為高折射率之層或構件等)之態樣下使用，而可抑制與上述被黏著體之界面反射。可在所述態樣下使用之高折射率黏著劑層宜如上述與高折射率之被黏著體之折射率差小且在與被黏著體之界面的密著性高。又，由提高外觀之均質性之觀點來看，黏著劑層之厚度的均一性宜高，例如黏著面之表面平滑性宜高。當高折射率之被黏著體的厚度較小時(例如為5µm以下、4µm以下或2µm以下時)，由抑制反射光之干涉造成之著色或顏色不均之觀點來看，抑制在界面之反射一事特別有意義。作為所述使用態樣之一例可舉以下態樣：可在依序具備偏光件、第1相位差層及第2相位差層之附相位差層之偏光板中，用於上述偏光件與上述第1相位差層之接合及/或上述第1相位差層與上述第2相位差層之接合。
又，在此揭示之高折射率黏著劑層可適宜在貼附於光半導體等之發光層(例如主要為藉由無機材料構成之高折射的發光層)之態樣下使用。藉由縮小發光層與高折射率黏著劑層之折射率差，可抑制在該等界面之反射，提升光擷取效率。由提升亮度之觀點來看，高折射率黏著劑層宜為低著色。其由抑制高折射率黏著劑層造成之非刻意之著色之觀點來看亦有利。
在此揭示之高折射率黏著劑層在作為相機或發光裝置等構成構件使用之微透鏡及其他透鏡構件(例如構成微透鏡陣列薄膜之微透鏡或相機用微透鏡等透鏡構件)中，可適宜作為覆蓋透鏡面之塗佈層、和與上述透鏡面相對向之構件(例如具有與透鏡面對應之表面形狀的構件)的接合層、充填於上述透鏡面與上述構件之間的充填層等來使用。在此揭示之高折射率黏著劑層即使抵接高折射率之透鏡(例如藉由高折射率樹脂構成之透鏡、或具有高折射率樹脂製之表面層的透鏡)而配置，仍可減低與該透鏡之折射率差。此事由上述透鏡及具備有該透鏡之製品的薄型化之觀點來看是有利的，亦可有助於抑制像差或提升阿貝數。在此揭示之技術中，構成高折射率黏著劑層之黏著劑(黏彈性材料)亦可在例如充填於適當之透明構件之凹部或空隙之形態下，將其本身作為透鏡樹脂來利用。
使用在此揭示之黏著劑層(為高折射率黏著劑層及/或低折射率黏著劑層，宜為亦可積層於低折射率層之高折射率黏著劑層)來貼合光學構件之態樣無特別限定，例如可為以下態樣：(1)透過在此揭示之黏著劑層來貼合光學構件彼此之態樣；或(2)透過在此揭示之黏著劑層將光學構件貼合至光學構件以外之構件之態樣；亦可為(3)在此揭示之黏著劑層為包含光學構件之黏著片的形態且將該黏著片貼合至光學構件或光學構件以外之構件之態樣。此外，在上述(3)之態樣中，包含光學構件之形態的黏著片例如可為支持體為光學構件(例如光學薄膜)之黏著片。如所述包含光學構件作為支持體之形態的黏著片亦可視為黏著型光學構件(例如黏著型光學薄膜)。又，在此揭示之黏著劑層構成具有支持體之類型的黏著片且使用上述機能性薄膜作為上述支持體時，該黏著片亦可視為在機能性薄膜之至少單面側具有在此揭示之黏著劑層的「黏著型機能性薄膜」。
由上述，根據在此揭示之技術，提供一種具備在此揭示之黏著劑層與藉由貼附等而積層有該黏著劑層之構件(例如光學薄膜等之樹脂薄膜)的光學積層體。藉由貼附等而積層有黏著劑層之構件可為具有上述被黏著體材料之折射率者。又，黏著劑層之折射率與構件之折射率的差(折射率差)可為上述被黏著體與黏著劑層之折射率差。關於構成積層體之構件，如以上述構件、材料、被黏著體所說明，故不反覆重複說明。
在此揭示之高折射率黏著劑層及積層片係可承受大變形者，因此活用其特徵，例如適於攜帶型電子機器等之電子機器中之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、觸控面板等輸入裝置等之具備發光裝置之機器(光學機器)。尤其，適宜作為折疊式顯示器或可捲式顯示器之發光裝置。在此揭示之高折射率黏著劑層及積層片可具有可承受反覆彎折操作之柔軟性，因此可在貼附於折疊式顯示器或可捲式顯示器之狀態下良好地順應反覆彎折之被黏著體(折疊式顯示器等)。所述使用形態之貼附對象物可舉可用於折疊式顯示器或可捲式顯示器之視窗玻璃或覆蓋玻璃等玻璃構件。而且，在此揭示之高折射率黏著劑層及積層片例如亦容易順應、密著於攜帶型電子機器具有之3維形狀等曲面形狀之表面，故還適於具有所述曲面形狀之電子機器之發光裝置。又，在數個理想態樣中，高折射率黏著劑層及積層片可為除了具有柔軟性外還已改善彈性模數等特性之穩定性者。上述攜帶型電子機器有時會在高溫環境下使用，且其內部空間有會因電子零件發熱而帶熱之情形，故使用上述特性之穩定性佳之黏著劑之優點大。
在此揭示之可具備發光裝置之攜帶型電子機器之例中包含：攜帶型電話、智慧型手機、平板型電腦、筆記型電腦、各種穿戴式機器(例如手錶這類穿戴於手腕之腕帶型、以夾帶或垂吊等形式裝附於身體一部份之模組型、包含眼鏡型(單眼型或雙眼型；包含頭戴型)之眼戴型、以例如配件型態裝附於襯衫或襪子、帽子等之衣服型、耳機這類裝附於耳朵上之耳戴型等)、數位相機、數位視訊攝影機、音響機器(可攜式音樂播放器、IC錄音機等)、計算機(電子計算機等)、可攜式遊戲機、電子辭典、電子筆記本、電子書籍、車載用資訊機器、可攜式收音機、可攜式電視、可攜式列印機、可攜式掃描機、可攜式數據機等。此外，在本說明書中，所謂「可攜式」以僅可攜帶來說還不夠，其還指具有個人(標準的成人)相對上可容易搬運之程度的可攜性。
如從以上說明及以下試驗例可理解，本說明書所揭示之事項中包含以下事項。 [1]一種發光裝置，包含： 自發光元件； 低折射率層，係配置於較前述自發光元件更靠視辨側；及 高折射率黏著劑層，係直接接觸前述低折射率層而積層； 前述高折射率黏著劑層之折射率大於1.560，且在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上。 [2]一種發光裝置，包含： 自發光元件； 低折射率層，係配置於較前述自發光元件更靠視辨側；及 高折射率黏著劑層，係直接接觸前述低折射率層而積層； 前述高折射率黏著劑層之折射率大於1.560且包含塑化劑。 [3]如上述[1]或[2]之發光裝置，其中前述高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中，變形量350%下之應力為5.0N/mm 2以下。 [4]如上述[1]至[3]中任一項之發光裝置，其中前述高折射率黏著劑層之折射率n 1與前述低折射率層之折射率n 2之比(n 1/n 2)為1.05以上。 [5]一種積層片，包含低折射率層與積層於該低折射率層之高折射率黏著劑層； 前述高折射率黏著劑層之折射率大於1.560，且在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上。 [6]一種積層片，包含低折射率層與積層於該低折射率層之高折射率黏著劑層； 前述高折射率黏著劑層之折射率大於1.560且包含塑化劑。 [7]如上述[5]或[6]之積層片，其中前述高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中，變形量350%下之應力為5.0N/mm 2以下。 [8]如上述[5]至[7]中任一項之積層片，其中前述高折射率黏著劑層之折射率n 1與前述低折射率層之折射率n 2之比(n 1/n 2)為1.05以上。 [9]一種附剝離襯墊之積層片，包含：如上述[5]至[8]中任一項之積層片、與保護前述高折射率黏著劑層之表面的剝離襯墊。
以下將說明諸個有關本發明之試驗例，惟所述具體例所示者非意在限定本發明。此外，以下說明中，表示使用量或含量之「份」及「%」在未特別說明下為重量基準。
＜丙烯酸系黏著劑組成物C1之調製＞ 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷卻器之四口燒瓶中，饋入作為單體成分之間苯氧基苄基丙烯酸酯(共榮社化學公司製，商品名「LIGHT ACRYLATE POB-A」，折射率：1.566，以下表記為「POB-A」)95份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)3份及2-丙烯醯氧基乙基琥珀酸酯(共榮社化學公司製，商品名「HOA-MS(N)」，以下表記為「HOA-MS」)2份、作為聚合引發劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.2份及作為聚合溶劑之乙酸乙酯，一邊緩慢地攪拌一邊導入氮氣，並將燒瓶內之液溫保持在60℃附近進行6小時聚合反應，調製出丙烯酸系聚合物P1之溶液(40%)。丙烯酸系聚合物P1之Mw為50萬。 將上述丙烯酸系聚合物P1之溶液用乙酸乙酯稀釋成聚合物濃度30%，並於該溶液334份(非揮發成分100份)添加作為塑化劑A1之聚乙二醇苯甲酸酯(三洋化成工業公司製，商品名「Sumflex EB-300」，分子量：538，折射率：1.515，在20℃下為液體，以下表記為「EB-300」)60份、作為交聯劑之非環式2官能之異氰酸酯系交聯劑(東曹(Tosoh)公司製，商品名「Coronate 2770」，六亞甲基二異氰酸酯(HDI)脲甲酸酯體)0.3份、作為交聯延遲劑之乙醯丙酮2份、作為交聯觸媒之乙醯丙酮鐵(III)之1%乙酸乙酯溶液1份(非揮發成分0.01份)並攪拌混合，調製出丙烯酸系黏著劑組成物C1。
＜丙烯酸系黏著劑組成物C2之調製＞ 除了將單體成分之組成變更成POB-A 99份及HOA-MS 1份外，以與上述丙烯酸系聚合物P1之溶液之調製相同方式，調製出丙烯酸系聚合物P2之溶液。丙烯酸系聚合物P2之Mw為50萬。將上述丙烯酸系聚合物P2之溶液用乙酸乙酯稀釋成聚合物濃度30%，並於該溶液334份(非揮發成分100份)添加上述塑化劑A1(EB-300)60份、作為交聯劑之環氧系交聯劑(三菱瓦斯化學公司製，商品名「TETRAD C」，1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺基甲基)環己烷)0.5份並攪拌混合，調製出丙烯酸系黏著劑組成物C2。
＜丙烯酸系黏著劑組成物C3之調製＞ 除了將單體成分之組成變更成POB-A 95份、丙烯酸月桂酯(LA)2份、丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)2份及4HBA 1份外，以與上述丙烯酸系聚合物P1之溶液之調製相同方式，調製出丙烯酸系聚合物P3之溶液。丙烯酸系聚合物P3之Mw為50萬。將上述丙烯酸系聚合物P3之溶液用乙酸乙酯稀釋成聚合物濃度30%，並於該溶液334份(非揮發成分100份)添加作為塑化劑A2之3-苯氧基苯甲醇(東京化成工業公司製，折射率：1.591，在20℃下為液體，以下表記為「POB-AL」)60份、上述異氰酸酯系交聯劑(Coronate 2770)0.3份、作為交聯延遲劑之乙醯丙酮2份、作為交聯觸媒之乙醯丙酮鐵(III)之1%乙酸乙酯溶液1份(非揮發成分0.01份)並攪拌混合，調製出丙烯酸系黏著劑組成物C3。
＜丙烯酸系黏著劑組成物C4之調製＞ 除了將單體成分之組成變更成POB-A 90份、2EHA 9份及4HBA 1份外，以與上述丙烯酸系聚合物P1之溶液之調製相同方式，調製出丙烯酸系聚合物P4之溶液。丙烯酸系聚合物P4之Mw為50萬。將上述丙烯酸系聚合物P4之溶液用乙酸乙酯稀釋成聚合物濃度30%，並於該溶液334份(非揮發成分100份)添加上述塑化劑A2(POB-AL)60份、上述異氰酸酯系交聯劑(Coronate 2770)0.5份、作為交聯延遲劑之乙醯丙酮2份、作為交聯觸媒之乙醯丙酮鐵(III)之1%乙酸乙酯溶液1份(非揮發成分0.01份)並攪拌混合，調製出丙烯酸系黏著劑組成物C4。
＜丙烯酸系黏著劑組成物C5之調製＞ 除了將單體成分之組成變更成POB-A 98份、4HBA 1份及HOA-MS 1份外，以與上述丙烯酸系聚合物P1之溶液之調製相同方式，調製出丙烯酸系聚合物P5之溶液。丙烯酸系聚合物P5之Mw為50萬。將上述丙烯酸系聚合物P5之溶液用乙酸乙酯稀釋成聚合物濃度30%，並對該溶液334份(非揮發成分100份)添加上述塑化劑A1(EB-300)20份、上述異氰酸酯系交聯劑(Coronate 2770)0.1份、作為交聯延遲劑之乙醯丙酮2份、作為交聯觸媒之乙醯丙酮鐵(III)之1%乙酸乙酯溶液1份(非揮發成分0.01份)並攪拌混合，調製出丙烯酸系黏著劑組成物C5。
＜丙烯酸系黏著劑組成物C6之調製＞ 除了將單體成分之組成變更成丙烯酸正丁酯(BA)99份及4HBA 1份、並調節聚合時之單體成分之濃度外，以與上述丙烯酸系聚合物P1之溶液之調製相同方式，調製出丙烯酸系聚合物P6之溶液。丙烯酸系聚合物P6之Mw為200萬。將上述丙烯酸系聚合物P6之溶液用乙酸乙酯稀釋成聚合物濃度30%，並對該溶液334份(非揮發成分100份)添加作為交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯的三聚異氰酸酯體(東曹(Tosoh)公司製，商品名「Coronate HX」，3官能異氰酸酯化合物)之1%乙酸乙酯溶液10份(非揮發成分0.1份)並攪拌混合，調製出丙烯酸系黏著劑組成物C6。
＜黏著片之製作＞ (例1) 將上述調製出之丙烯酸系黏著劑組成物C1塗佈於單面經聚矽氧處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜R1(厚度50µm)的聚矽氧處理面上，在130℃下加熱2分鐘，形成厚度20µm之黏著劑層。接著，於上述黏著劑層之表面貼合單面經聚矽氧處理之PET薄膜R2(厚度25µm)的聚矽氧處理面。依上述方式，而獲得兩面被PET薄膜(剝離襯墊)R1、R2保護之形態的黏著劑層(高折射率黏著劑層)。此外，相較於剝離襯墊R1，剝離襯墊R2相對上為輕剝離。 又，將上述調製出之丙烯酸系黏著劑組成物C6塗佈於單面經聚矽氧處理之PET薄膜R1(厚度50µm)的聚矽氧處理面上，在130℃下加熱2分鐘，形成厚度50µm之黏著劑層。於上述黏著劑層之表面貼合單面經聚矽氧處理之PET薄膜R2(厚度38µm)的聚矽氧處理面。依上述方式，而獲得兩面被PET薄膜(剝離襯墊)R1、R2保護之形態的黏著劑層(低折射率黏著劑層)。 從上述高折射率黏著劑層及上述低折射率黏著劑層剝開剝離襯墊R2並貼合黏著面彼此，以手墨輥壓接。對該積層體在50℃、0.60MPa之條件下實施30分鐘高壓釜處理後，在50℃之環境下進行48小時熟化。依上述方式而獲得由高折射率黏著劑層/低折射率黏著劑層之二層結構構成之積層片(無基材之雙面黏著片)。該黏著片之表面受到2片剝離襯墊R1保護。
(例2~5) 除了將用於形成各黏著劑層之黏著劑組成物的種類依表1所示變更外，以與例1相同方式而獲得由高折射率黏著劑層/低折射率黏著劑層之二層結構構成之積層片(無基材之雙面黏著片)。
＜測定及評估＞ (折射率) 針對各黏著劑層，使用阿貝折射率計(ATAGO CO., LTD.製，型式「DR-M4」)在測定波長589nm、測定溫度25℃之條件下測定折射率。將結果列示於表1。
(儲存彈性模數G') 積層各黏著劑層製成厚度約1.5mm者並沖裁成直徑7.9mm之圓盤狀，將其作為測定用試樣。使用Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System (ARES)」，藉由以下條件進行動態黏彈性測定。從測定結果讀取在25℃下之儲存彈性模數G'。將結果列示於表1。 [測定條件] 變形模式：扭轉 測定頻率：1Hz 溫度範圍：-50℃~150℃ 升溫速度：5℃/分鐘 形狀：平行板 7.9mmφ
(全光線透射率及霧度值) 使用已將各例之黏著片貼合於無鹼玻璃(厚度0.8~1.0mm，全光線透射率92%，霧度0.4%)上之試驗片，用霧度計(村上色彩技術研究所製，商品名「HAZEMETER HM-150」)，在23℃之測定環境下測定上述試驗片之全光線透射率及霧度。將從測定值減去上述無鹼玻璃之全光線透射率及霧度後之值作為黏著片之全光線透射率及霧度值。將結果列示於表1。
(變形試驗) 將各黏著劑層裁切成長度300mm、剖面積為1mm 2之寬度，並在23℃、50%RH之環境下將黏著劑層捲成筒狀，而獲得試驗片。使用拉伸試驗機(島津製作所製，裝置名「精密萬能試驗機Autograph AG-X plus 5kN」)，在-20℃、夾具間距離100mm、拉伸速度300mm/分鐘之條件下進行上述試驗片之變形試驗(拉伸試驗)求出S-S曲線，評估試驗片是否有變形(伸長)350%以上。當試驗片變形了350%以上時，測定350%變形時之應力[N/mm 2]。將結果列示於表1。上述變形試驗中，將在-20℃下可變形350%以上之黏著劑判定為可承受大變形之黏著劑。
此外，黏著劑層之厚度較小時，為了提升操作性等，亦可使用調製成厚度為5µm以上(例如5µm~200µm左右)之試驗片來實施上述變形試驗。試驗片之厚度可藉由例如適當疊合黏著劑層來調節。又，亦可使用與形成測定對象之黏著劑層所用者相同之黏著劑組成物，製作出容易進行變形試驗之厚度的試驗片，並對該試驗片進行上述變形試驗。上述變形試驗例如可使用厚度10µm~50µm左右之試驗片來實施。又，在試驗時，宜在夾持處之黏著面塗敷粉末，事先去除黏著劑之沾黏所致之影響。
[表1]
如表1所示，例1~4之黏著片包含：折射率大於1.560且在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上之高折射率黏著劑層、與低折射率層。又，該等例之高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中，變形量350%下之應力為5.0N/mm 2以下。又，高折射率黏著劑層之折射率n 1與低折射率層之折射率n 2之比(n 1/n 2)為1.05以上。該黏著片被確認具有以日本專利特開2022-8015號公報之實施例中記載之方法評估的正面亮度提升效果。可知藉由使用上述黏著片，可構築一種發光裝置，其在自發光元件之視辨側配置有具有高折射率且可承受大變形之黏著劑層。另一方面，例5之黏著片雖高折射率黏著劑層之折射率大於1.560，但在溫度-20℃、速度300mm之變形試驗中，於變形之較早階段便斷裂，而無法承受大變形。
以上已詳細說明本發明之具體例，惟該等僅為例示，非限定申請專利範圍者。申請專利範圍中記載之技術包含以上所例示之具體例經各種變形、變更者。
2:無基材之雙面黏著片 10:積層片(黏著片) 10A:第1表面(第1黏著面) 10B:第2表面(第2黏著面) 11:高折射率黏著劑層 12:低折射率黏著劑層(低折射率層) 31,32:剝離襯墊 70:自發光元件 80:覆蓋窗構件 100:發光裝置
圖1係示意顯示一實施形態之發光裝置之構成的剖面圖。 圖2係示意顯示用於一實施形態之發光裝置的積層片之構成的剖面圖。
2:無基材之雙面黏著片
10:積層片(黏著片)
10A:第1表面(第1黏著面)
10B:第2表面(第2黏著面)
11:高折射率黏著劑層
12:低折射率黏著劑層(低折射率層)
70:自發光元件
80:覆蓋窗構件
100:發光裝置

Claims (3)

  1. 一種發光裝置，包含： 自發光元件； 低折射率層，係配置於較前述自發光元件更靠視辨側；及 高折射率黏著劑層，係直接接觸前述低折射率層而積層； 前述高折射率黏著劑層之折射率大於1.560，且在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中之變形量為350%以上。
  2. 如請求項1之發光裝置，其中前述高折射率黏著劑層在溫度-20℃、速度300mm/分鐘之條件下實施變形試驗中，變形量350%下之應力為5.0N/mm 2以下。
  3. 如請求項1或2之發光裝置，其中前述高折射率黏著劑層之折射率n 1與前述低折射率層之折射率n 2之比(n 1/n 2)為1.05以上。
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