TW202346502A - 光學用黏著片材 - Google Patents

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沖田奈津子
池嶋裕美
野呂弘司
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明之目的在於提供一種為了對圖像顯示面板進行二次加工而能夠抑制將黏著片材自圖像顯示面板剝離時產生靜電之光學用黏著片材。又，本發明之其他目的在於提供一種具有表現出優異之階差吸收性之黏著劑層之光學用黏著片材。 光學用黏著片材10A具有將基材1與黏著劑層2積層而成之積層構造，上述基材1具有第一面1a及第二面1b，上述黏著劑層2積層於基材1之第一面1a。黏著劑層2含有液狀之防靜電劑。黏著劑層2之表面電阻值未達10 10Ω。黏著劑層2之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]未達60 kPa。

Description

光學用黏著片材
本發明係關於一種光學用黏著片材。詳細而言，本發明係關於一種適於圖像顯示裝置之製造之光學用黏著片材。
作為智慧型手機、個人電腦用監視器、電視等各種圖像顯示裝置，廣泛使用液晶顯示裝置或有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置。於此種圖像顯示裝置中，為了防止來自外部之衝擊引起之圖像顯示面板之破損等，而於圖像顯示面板之視認側設置透明樹脂板或玻璃板等前面透明板。又，亦普及有於圖像顯示面板之視認側具備觸控面板之圖像顯示裝置。
作為於圖像顯示面板之前面配置上述前面透明板或觸控面板等之方法，提出有將圖像顯示面板與前面透明板、觸控面板等經由黏著片材貼合之「層間填充構造」(例如專利文獻1)。又，亦存在於前面透明板與觸控面板之間亦設置黏著片材之情形。於層間填充構造中，由於利用黏著劑填充構件間之空隙，故而界面之折射率差減小，反射或散射引起之視認性之降低受到抑制。又，於層間填充構造中，由於藉由黏著片材將構件間貼合併固定，故而與僅於殼體固定構件之情形相比，具有不易產生掉落等衝擊引起之構件之剝落之優點。
於利用黏著片材貼合於圖像顯示面板時，存在產生氣泡之混入或貼合位置之偏移等貼合不良之情形。於產生貼合不良之情形時，期待將黏著片材自圖像顯示面板剝離去除，並再利用(於本說明書中，有時稱為「二次加工」)圖像顯示面板。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2014-125524號公報
[發明所欲解決之問題]
於產生貼合不良之情形時，於為了對圖像顯示面板進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，黏著片材會產生靜電。所產生之靜電對圖像顯示面板之顯示單元之配向性等造成影響，成為引起顯示不良之原因。尤其是於為了實現高畫質化而提高像素數之圖像顯示面板中，難以另行設置用以排放靜電之接地線，需要採取用以釋放靜電之對策。
又，於觸控面板之表面形成經圖案化之ITO(氧化銦錫)等透明且為導電性之印刷層，進而於周邊部形成銀或銅之牽引配線。又，通常於前面透明板之周緣部以框狀印刷黑色之隱蔽部。於在圖像顯示面板或前面透明板、觸控面板等各種構件存在此種印刷層或配線等凹凸形狀之階差之情形時，對於將該等接合之黏著片材，亦要求表現出黏著劑層能夠充分地追隨該階差且於無氣泡等殘留之情況下進行填充之特性(於本說明書中，有時稱為「階差吸收性」)。
本發明係基於如以上之情況而想出者，本發明之目的在於提供一種為了對圖像顯示面板進行二次加工而能夠抑制將黏著片材自圖像顯示面板剝離時產生靜電之光學用黏著片材。又，本發明之其他目的在於提供一種具有表現出優異之階差吸收性之黏著劑層之光學用黏著片材。 [解決問題之技術手段]
即，本發明之第一態樣提供一種光學用黏著片材，其具有將基材與黏著劑層積層而成之積層構造，上述基材具有第一面及第二面，上述黏著劑層積層於上述基材之第一面。於本說明書中，存在將本發明之第一態樣之光學用黏著片材稱為「本發明之光學用黏著片材」之情形。又，存在將構成本發明之光學用黏著片材之上述黏著劑層稱為「本發明之黏著劑層」，且將上述基材稱為「本發明之基材」之情形。
本發明之光學用黏著片材可適宜地用於圖像顯示裝置之製造。即，本發明之黏著劑層可適宜地用於將前面透明板、觸控面板、其他光學構件(偏光膜、相位差膜等)貼合於構成圖像顯示裝置之圖像顯示面板。又，本發明之基材可為用以製造圖像顯示裝置之各種光學構件，例如前面透明板、觸控面板、其他光學構件(偏光膜、相位差膜等)等。
於本發明之光學用黏著片材中，本發明之黏著劑層含有液狀之防靜電劑。上述防靜電劑對本發明之黏著劑層賦予防靜電性，就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電之方面而言較佳。又，上述防靜電劑為液狀之構成能夠於不損及本發明之黏著劑層之黏著特性之情況下對本發明之黏著劑層賦予優異之防靜電效果，因此本發明之黏著劑層與本發明之基材之間之密接性提高，例如即便於如熱衝擊(週期性地重複加熱與冷卻)之嚴酷之環境下，亦能夠防止於本發明之黏著劑層與基材之界面產生空隙而透明性降低，從而維持優異之光學特性，就可獲得上述特性(於本說明書中，有時將此種特性稱為「耐熱衝擊性」)之方面而言較佳。
於本發明之光學用黏著片材中，本發明之黏著劑層之表面電阻值未達10 10Ω。本發明之黏著劑層之表面電阻值未達10 10Ω之構成就本發明之黏著劑層表現出優異之防靜電效果，於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電之方面而言較佳。
於本發明之光學用黏著片材中，本發明之黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]未達60 kPa。本發明之黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]未達60 kPa之構成就以下方面而言較佳：於圖像顯示面板或光學構件等中存在印刷層或配線等之凹凸形狀之階差之情形時，本發明之黏著劑層能夠充分地追隨該階差，而於不會殘留氣泡等之情況下進行填充，即，表現出優異之階差吸收性，進而，能夠防止上述貼合不良。
於本發明之光學用黏著片材中，上述防靜電劑較佳為離子液體。上述防靜電劑為離子液體之構成就以下方面而言較佳：能夠於不損及本發明之黏著劑層之黏著特性之情況下對本發明之黏著劑層賦予優異之防靜電效果，因此本發明之黏著劑層與本發明之基材之間之密接性提高，可獲得優異之耐熱衝擊性。
於本發明之光學用黏著片材中，上述離子液體較佳為包含氟原子數為10個以下之陰離子成分。上述離子液體包含氟原子數為10個以下之陰離子成分之構成就上述離子液體相對於本發明之黏著劑層之相容性提高，能夠抑制離子液體自黏著劑層分離所引起之霧度之上升，而能夠提高圖像顯示裝置之視認性之方面而言較佳。
於本發明之光學用黏著片材中，本發明之黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)較佳為-10℃以下。本發明之黏著劑層之Tg為-10℃以下之構成就即便於低溫環境下亦能夠維持本發明之黏著劑層之優異之階差吸收性的方面而言較佳。
本發明之光學用黏著片材之可見光線透過率較佳為90%以上。又，本發明之光學用黏著片材之霧度較佳為1%以下。該等構成就使用本發明之光學用黏著片材所製造之圖像顯示裝置表現出優異之視認性之方面而言較佳。
於本發明之光學用黏著片材中，上述基材之第二面較佳為經抗反射處理及/或防眩處理。上述基材之第二面經抗反射處理及/或防眩處理之構成就能夠防止於上述圖像顯示裝置之基板上所配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射而能夠提高視認性之方面而言較佳。
於本發明之光學用黏著片材中，上述黏著劑層較佳為含有丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。該構成就調整上述黏著劑層之上述特性(尤其是階差吸收性)之方面而言較佳。
又，本發明之第二態樣提供一種將本發明之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成之圖像顯示裝置。於本說明書中，存在將本發明之第二態樣之圖像顯示裝置稱為「本發明之圖像顯示裝置」之情形。 本發明之圖像顯示裝置於積層構造中具有本發明之光學用黏著片材，因此就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電之方面而言較佳。又，於圖像顯示面板或光學構件等中存在印刷層或配線等之凹凸形狀之階差之情形時，本發明之黏著劑層能夠充分地追隨該階差，而於不會殘留氣泡等之情況下進行填充，即，表現出優異之階差吸收性，進而，能夠防止上述貼合不良，就該方面而言較佳。
又，本發明之第三態樣提供一種排列複數塊本發明之圖像顯示裝置而成之拼接顯示器。於本說明書中，存在將本發明之第三態樣之拼接顯示器稱為「本發明之拼接顯示器」之情形。本發明之拼接顯示器適宜作為廣告顯示或公告板等標牌等大畫面之圖像顯示裝置。 [發明之效果]
藉由將本發明之光學用黏著片材用於圖像顯示裝置之製造，就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電之方面而言較佳。又，能夠於不損及發明之黏著劑層之黏著特性之情況下對本發明之黏著劑層賦予優異之防靜電效果，因此本發明之黏著劑層與本發明之基材之間之密接性提高，可獲得優異之耐熱衝擊性，就該方面而言較佳。又，於圖像顯示面板或光學構件等中存在印刷層或配線等之凹凸形狀之階差之情形時，本發明之黏著劑層能夠充分地追隨該階差，而於不會殘留氣泡等之情況下進行填充，即，表現出優異之階差吸收性，進而，能夠防止上述貼合不良，就該方面而言亦較佳。
本發明之光學用黏著片材具有將基材與黏著劑層積層而成之積層構造，上述基材具有第一面及第二面，上述黏著劑層積層於上述基材之第一面。再者，「黏著片材」包括「黏著帶」之含義。即，本發明之光學用黏著片材亦可為具有帶狀之形態之黏著片材。
本發明之圖像顯示裝置係將本發明之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成之圖像顯示裝置。又，本發明之拼接顯示器係排列複數塊本發明之圖像顯示裝置而成之拼接顯示器。
以下，關聯圖而對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限定於此，僅為例示。
圖1係表示本發明之光學用黏著片材之一實施態樣之模式圖(截面圖)。 於圖1中，光學用黏著片材10A具有積層基材1與黏著劑層2而成之積層構造。基材1具有第一面1a及第二面1b，於基材1之第一面1a積層有黏著劑層2。
於圖2中，光學用黏著片材10B具有積層基材1與黏著劑層2而成之積層構造。基材1具有第一面1a及第二面1b，於基材1之第一面1a積層有黏著劑層2。基材1之第二面1b經抗反射處理及/或防眩處理3。
圖3係表示本發明之圖像顯示裝置之一實施態樣之模式圖(截面圖)。於圖3中，圖像顯示裝置20於光學用黏著片材10B之黏著劑層2中積層有圖像顯示面板4。
圖4係表示本發明之拼接顯示器之一實施方式之模式圖(立體圖)。於圖4中，拼接顯示器30係將9塊圖像顯示裝置20(省略積層構造之圖示)以3×3之陣列於支持基板31上以瓷磚狀排列形成。 以下，對各構成進行說明。
＜光學用黏著片材＞ 本發明之光學用黏著片材中之「光學」意指用於光學用途，更具體而言，意指用於使用光學構件之製品(光學製品)之製造等。作為光學製品，例如可例舉：圖像顯示裝置、觸控面板等輸入裝置等，可適宜地用於液晶圖像顯示裝置、自發光型圖像顯示裝置(例如有機EL(電致發光)圖像顯示裝置、LED(light emitting diode，發光二極體)圖像顯示裝置)等之製造。本發明之光學用黏著片材尤其適於自發光型圖像顯示裝置之製造。
本發明之光學用黏著片材只要於本發明之基材之第一面積層有本發明之黏著劑層，則其形態並無特別限定。例如可為僅單面為黏著面之單面黏著片材，亦可為雙面為黏著面之雙面黏著片材。又，於本發明之光學用黏著片材為雙面黏著片材之情形時，本發明之光學用黏著片材可具有兩個黏著面係由本發明之黏著劑層所提供之形態，亦可具有其中一個黏著面係由本發明之黏著劑層所提供而另一個黏著面係由本發明之黏著劑層以外之黏著劑層(其他黏著劑層)所提供之形態。於本發明之光學用黏著片材構成光學製品之最表面之情形時，較佳為單面黏著片材，於將被附體(光學構件)彼此貼合之情形時，較佳為雙面黏著片材。
本發明之光學用黏著片材除了具有本發明之基材、本發明之黏著劑層以外，亦可於不損及本發明之效果之範圍內，於表面或任意層間具有其他層，例如本發明之基材以外之基材、本發明之黏著劑層以外之黏著劑層、中間層、底塗層、防靜電層、剝離襯墊、表面保護膜等。
本發明之光學用黏著片材之霧度並無特別限定，較佳為1%以下。本發明之光學用黏著片材之霧度為1%以下之構成就本發明之圖像顯示裝置表現出優異之視認性之方面而言較佳。就本發明之圖像顯示裝置表現出更優異之視認性之方面而言，本發明之光學用黏著片材之霧度較佳為0.8%以下，更佳為0.5%以下，或可為0.4%以下。本發明之光學用黏著片材之霧度之下限值並無特別限定，越低越佳，亦可為0.01%以上。
本發明之光學用黏著片材之下述熱衝擊試驗後之霧度並無特別限定，較佳為1%以下。 ・熱衝擊試驗 對於本發明之光學用黏著片材，於-40℃之氛圍下曝露30分鐘，繼而，於80℃之氛圍下曝露30分鐘，以此作為熱衝擊之1個週期，使用熱衝擊試驗機，將上述熱衝擊進行200個週期。
本發明之光學用黏著片材之上述熱衝擊試驗後之霧度為1%以下之構成就即便於如熱衝擊之嚴酷之環境下本發明之圖像顯示裝置亦能夠維持優異之視認性之方面而言較佳。就本發明之圖像顯示裝置能夠維持更優異之視認性之方面而言，本發明之光學用黏著片材之上述熱衝擊試驗後之霧度較佳為0.8%以下，更佳為0.5%以下，或亦可為0.4%以下。本發明之光學用黏著片材之上述熱衝擊試驗後的霧度之下限值並無特別限定，越低越佳，亦可為0.01%以上。
上述熱衝擊試驗前後之本發明之光學用黏著片材的霧度之差(熱衝擊試驗後之光學用黏著片材之霧度－熱衝擊試驗前之光學用黏著片材之霧度)較佳為2%以下。本發明之光學用黏著片材之上述熱衝擊試驗前後的霧度之差為2%以下之構成就即便於如熱衝擊之嚴酷之環境下本發明之圖像顯示裝置亦能夠維持優異之視認性之方面而言較佳。就本發明之圖像顯示裝置能夠維持更優異之視認性之方面而言，本發明之光學用黏著片材之上述熱衝擊試驗前後的霧度之差更佳為1.8%以下，進而較佳為1.5%以下，或亦可為1以下。
本發明之光學用黏著片材之霧度、本發明之光學用黏著片材之上述熱衝擊試驗後之霧度、及其差可依照JIS K 7136進行測定，具體而言，可藉由下文揭示之實施例所記載之方法進行測定。本發明之光學用黏著片材之霧度、本發明之光學用黏著片材之上述熱衝擊試驗後之霧度、及其差可藉由構成本發明之基材之樹脂、玻璃之種類或厚度、構成本發明之黏著劑層之樹脂之種類或厚度、防靜電劑之種類或量、對基材表面實施抗反射處理及/或防眩處理等進行調整。
本發明之光學用黏著片材之可見光線透過率並無特別限定，較佳為90%以上。本發明之光學用黏著片材之可見光線透過率為90%以上之構成就可獲得本發明之圖像顯示裝置中之優異之視認性的方面而言較佳，更佳為90.5%以上，亦可為91%以上。本發明之光學用黏著片材之可見光線透過率之上限並無特別限定，可為95%以下。
本發明之光學用黏著片材之可見光線透過率可依照JIS K7361-1進行測定。本發明之光學用黏著片材之可見光線透過率可藉由構成本發明之基材之樹脂、玻璃之種類或厚度、構成本發明之黏著劑層之樹脂之種類或厚度、防靜電劑之種類或量、對基材表面實施抗反射處理及/或防眩處理等進行調整。
本發明之光學用黏著片材之以L *a *b *表色系統所規定之L *並無特別限定，就可獲得本發明之圖像顯示裝置中之優異之視認性的方面而言，較佳為90以上，較佳為92以上，較佳為94以上，又，a *及b *並無特別限定，可相同或不同，較佳為-5～5，更佳為-3～3，尤佳為-1～1之範圍(其中為0或大致為0)。
對本發明之光學用黏著片材進行上述熱衝擊試驗前後之L *a *b *表色系統中之b *之變化量(Δb *)並無特別限定，就本發明之光學用黏著片材表現出優異之耐熱衝擊性之方面而言，較佳為0.1以下，較佳為0.05以下。
L *a *b *表色系統意指被稱為國際照明委員會(CIE)1976表色系統之色空間，可依照JIS Z 8781-4(2013年)進行測定。以L *a *b *表色系統所規定之L *、a *、b *、及Δb *可藉由構成本發明之基材之樹脂、玻璃之種類或厚度、構成本發明之黏著劑層之樹脂之種類或厚度、防靜電劑之種類或量、對基材表面實施抗反射處理及/或防眩處理等進行調整。
本發明之光學用黏著片材相對於丙烯酸系樹脂板之於23℃以剝離速度300 mm/分鐘且剝離角度180°進行剝離時之黏著力並無特別限定，就本發明之基材及圖像顯示面板之充分之密接性之觀點而言，較佳為3 N/25 mm以上，更佳為5 N/25 mm以上，進而較佳為7 N/25 mm以上。若本發明之光學用黏著片材相對於丙烯酸系樹脂板之於23℃以剝離速度300 mm/分鐘且剝離角度180°進行剝離之黏著力為3 N/25 mm，則容易獲得針對本發明之基材之良好之黏著性或良好之階差中之隆起之抑止性而較佳。再者，本發明之光學用黏著片材相對於丙烯酸系樹脂板之於23℃以剝離速度300 mm/分鐘且剝離角度180°進行剝離之黏著力之上限值並無特別限定，例如為40 N/20 mm，更佳為60 N/20 mm。
本發明之光學用黏著片材相對於丙烯酸系樹脂板之於23℃以剝離速度5 mm/分鐘且剝離角度150°進行剝離時之剝離帶電量並無特別限定，就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電之方面而言，較佳為±2 kV以內，更佳為±1.5 kV以內，進而較佳為±1 kV以內。
本發明之光學用黏著片材相對於丙烯酸系樹脂板之於23℃以剝離速度300 mm/分鐘且剝離角度180°進行剝離時之黏著力及於23℃以剝離速度5 mm/分鐘且150°進行剝離時之剝離帶電量係藉由下文揭示之實施例中之黏著力、剝離帶電量測定進行測定。本發明之黏著劑層相對於丙烯酸系樹脂板之於23℃以剝離速度300 mm/分鐘且剝離角度180°進行剝離時之黏著力及於23℃以剝離速度5 mm/分鐘且150°進行剝離時之剝離帶電量可藉由用以形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物之組成(例如基礎聚合物之種類或分子量、使用量、單體組成、官能基之種類及量、防靜電劑之種類或量、交聯劑之種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射照射條件)等進行調整。
本發明之光學用黏著片材之厚度並無特別限制，例如若考慮尺寸穩定性、強度、操作性等作業性、薄層性等方面，則較佳為10～500 μm之範圍，更佳為20～300 μm之範圍，最佳為30～200 μm之範圍。
＜基材＞ 作為構成本發明之基材之素材，可例舉玻璃或塑膠膜等。作為上述塑膠膜，例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂；環狀烯烴系聚合物(COP)(例如商品名「ARTON」(JSR股份有限公司製造)、商品名「ZEONOR」(Nippon Zeon股份有限公司製造)等)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯(PC)、三乙醯纖維素(TAC)、聚碸、聚芳酯、聚醚醚酮(PEEK)、聚醯亞胺(PI)、透明聚醯亞胺(CPI)、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等塑膠材料，較佳為尺寸穩定性優異而不易收縮之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂、環狀烯烴系聚合物(COP)、聚碳酸酯(PC)、聚醚醚酮(PEEK)、透明聚醯亞胺(CPI)。再者，該等塑膠材料可單獨使用或組合使用2種以上。本發明之基材係於將本發明之光學用黏著片材貼附於被附體(圖像顯示面板等)時與黏著劑層一起貼附於被附體之部分。本發明之光學用黏著片材之使用時(貼附時)所剝離之剝離襯墊不包括於「基材」中。
本發明之基材具有包括第一面與第二面之膜狀(基板狀)之形態。本發明之基材只要為構成本發明之圖像顯示裝置之構件，則無特別限定，可例舉：前面透明板、觸控面板、其他光學構件(偏光膜、相位差膜等)等各種光學膜，較佳為用作前面透明板。於本發明之基材為前面透明板之情形時，第二面成為本發明之圖像顯示裝置之最表面。
本發明之基材之玻璃轉移點(Tg)並無特別限定，較佳為60℃以上。本發明之基材之玻璃轉移點為60℃以上之構成就於使用環境下之本發明之圖像顯示裝置之機械物性穩定之方面而言較佳。就本發明之圖像顯示裝置之機械物性之穩定性之觀點而言，上述基材之玻璃轉移點可為63℃以上、或65℃以上。又，上述基材之玻璃轉移點之上限值並無特別限定，就能夠簡化基材之成形製程之方面而言，上述基材之玻璃轉移點較佳為350℃以下，亦可為250℃以下、200℃以下、140℃以下、130℃以下、或125℃以下。
本發明之基材之玻璃轉移點(Tg)可依照JIS K 7121進行測定。本發明之基材之玻璃轉移點(Tg)可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類等進行調整。
本發明之基材之濕度膨脹係數並無特別限定，較佳為5×10 -5/%RH以下。本發明之基材之濕度膨脹係數為5×10 -5/%RH以下之構成就本發明之基材之濕度變化中之尺寸穩定性提高而能夠抑制使用環境下之本發明之圖像顯示裝置之收縮或膨脹、維持透明性不變之方面而言較佳。就本發明之基材之尺寸穩定性之方面、收縮或膨脹較少而能夠維持透明性不變之方面而言，本發明之基材之濕度膨脹係數較佳為3×10 -5/%RH以下，亦可為2×10 -5/%RH以下。 本發明之基材之濕度膨脹係數之下限值並無特別限定，越低越佳，可為0.001×10 -5/%RH以上。 本發明之基材之濕度膨脹係數可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類或基材製造時之條件(溫度、擠出速度等)等進行調整。
本發明之基材之霧度並無特別限定，就本發明之圖像顯示裝置表現出優異之視認性之方面而言，更佳為1%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.5%以下，或可為0.4%以下。本發明之基材之霧度之下限值並無特別限定，越低越佳，可為0.01%以上。
本發明之基材之霧度可依照JIS K 7136進行測定。本發明之基材之霧度可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類或厚度、對基材表面實施抗反射處理及/或防眩處理等進行調整。
本發明之基材之反射率並無特別限定，較佳為5%以下。本發明之基材之反射率為5%以下之構成就能夠防止於本發明之圖像顯示裝置中之圖像顯示面板之基板上所配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射之方面而言較佳，更佳為3%以下，亦可為1.5%以下。本發明之基材之反射率之下限並無特別限定，可為0.1%以上、或0.3%以上。
本發明之基材之反射率可依照JIS K7361-1進行測定。本發明之基材之反射率可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類或厚度、對基材表面實施抗反射處理及/或防眩處理等進行調整。
本發明之基材之厚度並無特別限制，例如若考慮尺寸穩定性、強度、操作性等作業性、薄層性等方面，則較佳為10～500 μm之範圍，更佳為20～300 μm之範圍，最佳為30～200 μm之範圍。本發明之基材之折射率並無特別限制，例如為1.30～1.80之範圍，較佳為1.40～1.70之範圍。
本發明之基材之第二面較佳為實施反射表面處理及/或防眩處理。對本發明之基材之第二面實施反射表面處理及/或防眩處理之構成就能夠防止於本發明之圖像顯示裝置之基板上所配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射之方面而言較佳。
作為上述抗反射處理，可無特別限定地使用公知之抗反射處理，例如可例舉抗反射(antireflection，AR)處理。
作為上述抗反射(antireflection，AR)處理，可無特別限制地應用公知之AR處理，具體而言，可藉由在本發明之基材之第二面上形成嚴格控制厚度及折射率之光學薄膜或將上述光學薄膜積層兩層以上而成之抗反射層(AR層)而實施。上述AR層係藉由利用光之干涉效果使入射光與反射光之反轉相位互相抵消而表現出抗反射功能。表現抗反射功能之可見光線之波長區域例如為380～780 nm，尤其是視感度較高之波長區域為450～650 nm之範圍，較佳為以使其中心波長550 nm之反射率成為最小之方式設計AR層。
作為上述AR層，通常可例舉積層二至五層光學薄層(嚴格控制厚度及折射率之薄膜)而成之構造之多層抗反射層，藉由將折射率不同之成分以特定之厚度形成複數層，AR層之光學設計之自由度提高，能夠進一步提高抗反射效果，分光反射特性亦可於可見光區域變得均勻(flat)。於上述光學薄膜中，由於要求較高之厚度精度，故而通常各層之形成係藉由作為乾式方式之真空蒸鍍、濺鍍、CVD(chemical vapor deposition，化學氣相沈積)等實施。
又，上述AR層亦可藉由抗反射層形成用塗佈液形成。上述抗反射層形成用塗佈液例如可包含樹脂、含有氟元素之添加劑、中空粒子、實心粒子及稀釋溶劑等，例如可將該等混合而製造。
上述樹脂例如可例舉熱硬化性樹脂、藉由紫外線或光而硬化之游離輻射硬化性樹脂。作為上述樹脂，亦可使用市售之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。
作為上述熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂，例如可使用藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之硬化型化合物，例如可例舉：聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
上述樹脂例如亦可使用具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之反應性稀釋劑。上述反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報所記載之反應性稀釋劑，例如包括單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作為上述反應性稀釋劑，較佳為三官能以上之丙烯酸酯、三官能以上之甲基丙烯酸酯。其原因在於：能夠使本發明之基材之第二面之硬度變得優異。作為上述反應性稀釋劑，例如亦可例舉：丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸之丙烯酸酯、異三聚氰酸之甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。上述樹脂之硬化前之重量平均分子量例如可為100以上、300以上、500以上、1,000以上、或2,000以上，可為100,000以下、70,000以下、50,000以下、30,000以下、或10,000以下。若上述硬化前之重量平均分子量較高，則硬度降低，但有彎曲時不易發生開裂之傾向。另一方面，若上述硬化前之重量平均分子量較低，則有分子間交聯密度提高而硬度變高之傾向。
作為上述樹脂，較佳為包含多官能丙烯酸酯(例如季戊四醇三丙烯酸酯)。
為了將上述硬化型樹脂硬化，例如亦可添加硬化劑。上述硬化劑並無特別限定，例如可適當使用公知之聚合起始劑(例如熱聚合起始劑、光聚合起始劑等)。上述硬化劑之添加量並無特別限定，相對於上述抗反射層形成用塗佈液中之上述樹脂100重量份，例如可為0.5重量份以上、1.0重量份以上、1.5重量份以上、2.0重量份以上、或2.5重量份以上，可為15重量份以下、13重量份以下、10重量份以下、7重量份以下、或5重量份以下。
上述含有氟元素之添加劑並無特別限定，例如可為分子中含有氟之有機化合物或無機化合物。上述有機化合物並無特別限定，例如可例舉：含氟防污塗佈劑、含氟丙烯酸系化合物、含有氟及矽之丙烯酸系化合物等。具體而言，上述有機化合物例如可例舉信越化學工業股份有限公司製造之商品名「KY-1203」、DIC股份有限公司製造之商品名「MEGAFAC」等。上述無機化合物亦無特別限定。上述含有氟元素之添加劑之添加量並無特別限定，例如相對於上述抗反射層形成用塗佈液中之固形物成分整體之重量，上述固形物成分中之氟元素之重量例如可為0.05重量%以上、0.1重量%以上、0.15重量%以上、0.20重量%以上、或0.25重量%以上，可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、或3重量%以下。又，例如相對於上述抗反射層形成用塗佈液中之上述樹脂100重量份，上述含有氟元素之添加劑之重量例如可為0.05重量%以上、0.1重量%以上、0.15重量%以上、0.20重量%以上、或0.25重量%以上，可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、或3重量%以下。
上述中空粒子並無特別限定，例如可為二氧化矽粒子、丙烯酸系粒子、丙烯酸-苯乙烯共聚合粒子等。上述二氧化矽粒子例如可例舉日揮觸媒化成工業股份有限公司製造之商品名「Thrulya 5320」、「Thrulya 4320」等。上述中空粒子之重量平均粒子徑並無特別限定，例如可為30 nm以上、40 nm以上、50 nm以上、60 nm以上、或70 nm以上，可為150 nm以下、140 nm以下、130 nm以下、120 nm以下、或110 nm以下。上述中空粒子之形狀並無特別限制，例如可為珠狀之大致球形，亦可為粉末等不定形者，較佳為大致球形者，更佳為縱橫比為1.5以下之大致球形之粒子，最佳為球形之粒子。藉由添加上述中空粒子，例如可實現上述抗反射層之低折射率、良好之抗反射特性等。上述中空粒子之添加量並無特別限定，相對於上述抗反射層形成用塗佈液中之上述樹脂100重量份，例如可為30重量份以上、50重量份以上、70重量份以上、90重量份以上、或100重量份以上，可為300重量份以下、270重量份以下、250重量份以下、200重量份以下、或180重量份以下。就抗反射層之低折射率化之觀點而言，較佳為上述中空粒子之添加量不會過少，就確保抗反射層之機械特性之觀點而言，較佳為上述中空粒子之添加量不會過多。
上述實心粒子並無特別限定，例如可為二氧化矽粒子、氧化鋯粒子、含鈦粒子(例如氧化鈦粒子)等。上述二氧化矽粒子例如可例舉日產化學工業股份有限公司製造之商品名「MEK-2140Z-AC」、「MIBK-ST」、「IPA-ST」等。上述實心粒子之重量平均粒子徑並無特別限定，例如可為5 nm以上、10 nm以上、15 nm以上、20 nm以上、或25 nm以上，可為300 nm以下、250 nm以下、200 nm以下、150 nm以下、或100 nm以下。上述實心粒子之形狀並無特別限制，例如可為珠狀之大致球形，亦可為粉末等不定形者，較佳為大致球形者，更佳為縱橫比為1.5以下之大致球形之粒子，最佳為球形之粒子。藉由添加上述實心粒子，例如上述含有氟元素之添加劑容易偏集存在於所塗佈之上述抗反射層形成用塗佈液之表面，抗反射層之耐擦傷性優異，可實現低折射率、良好之抗反射特性等。上述實心粒子之添加量並無特別限定，相對於上述抗反射層形成用塗佈液中之上述樹脂100重量份，例如可為5重量份以上、10重量份以上、15重量份以上、20重量份以上、或25重量份以上，可為150重量份以下、120重量份以下、重量份以下、100重量份以下、或80重量份以下。
上述稀釋溶劑例如可為包含MIBK(甲基異丁基酮)及PMA(丙二醇單甲醚乙酸酯)之混合溶劑。該情形時之混合比率並無特別限定，於將MIBK之重量設為100重量%之情形時，PMA之重量例如可為20重量%以上、50重量%以上、100重量%以上、150重量%以上、或200重量%以上，可為400重量%以下、350重量%以下、300重量%以下、或250重量%以下。
上述稀釋溶劑例如可為除了MIBK及PMA以外進而包含TBA(第三丁醇)之混合溶劑。該情形時之混合比率並無特別限定，於將MIBK之重量設為100重量%之情形時，PMA之重量例如可為10重量%以上、30重量%以上、50重量%以上、80重量%以上、或100重量%以上，可為200重量%以下、180重量%以下、150重量%以下、130重量%以下、或110重量%以下。又，於將MIBK之重量設為100重量%之情形時，TBA之重量例如可為10重量%以上、30重量%以上、50重量%以上、80重量%以上、或100重量%以上，可為200重量%以下、180重量%以下、150重量%以下、130重量%以下、或110重量%以下。
上述稀釋溶劑之添加量亦無特別限定，例如相對於抗反射層形成用塗佈液整體之重量之固形物成分之重量例如可設為0.1重量%以上、0.3重量%以上、0.5重量%以上、1.0重量%以上、或1.5重量%以上，可設為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、或3重量%以下。就確保塗佈性(潤濕、調平)之觀點而言，較佳為上述固形物成分之含有率不會過高，就防止風乾不均、白化等乾燥引起之外觀不良之觀點而言，較佳為上述固形物成分之含有率不會過低。
繼而，於本發明之基材之第二面上塗佈上述抗反射層形成用塗佈液(上述塗佈步驟)。塗佈方法並無特別限定，例如可適當使用噴水塗佈法、模嘴塗佈法、旋轉塗佈法、噴霧塗佈法、凹版塗佈法、輥塗法、棒式塗佈法等公知之塗佈方法。上述抗反射層形成用塗佈液之塗佈量亦無特別限定，所形成之上述抗反射層之厚度例如可設為0.1 μm以上、0.3 μm以上、0.5 μm以上、1.0 μm以上、或2.0 μm以上，可設為50 μm以下、40 μm以下、30 μm以下、20 μm以下、或10 μm以下。
繼而，將所塗佈之上述抗反射層形成用塗佈液加以乾燥，形成塗膜(上述塗膜形成步驟)。乾燥溫度並無特別限定，例如可為30～200℃之範圍。上述乾燥溫度例如可為40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上、或100℃以上，可為190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下、或110℃以下。乾燥時間並無特別限定，例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上、或60秒以上，可為150秒以下、130秒以下、110秒以下、或90秒以下。
進而，亦可將上述塗膜硬化(硬化步驟)。上述硬化例如可藉由加熱、光照射等進行。上述光並無特別限定，例如可為紫外線等。上述光照射之光源亦無特別限定，例如可為高壓水銀燈等。上述紫外線硬化中之能量線源之照射量以紫外線波長365 nm下之累計曝光量計，較佳為50～500 mJ/cm 2。若照射量為50 mJ/cm 2以上，則容易充分地進行硬化，所形成之抗反射層之硬度容易變高。又，若為500 mJ/cm 2以下，則能夠防止所形成之抗反射層之著色。
作為上述防眩(AG)處理，可無特別限制地應用公知之AG處理，例如可藉由在本發明之基材之第二面上形成防眩層而實施。作為上述防眩層，可無限制地採用公知者，通常形成為於樹脂中分散有無機或有機之粒子作為防眩劑之層。
作為上述防眩層，並無特別限定，例如使用包含樹脂、粒子及觸變賦予劑之防眩層形成材料而形成，上述粒子及上述觸變賦予劑凝集，藉此於上述防眩層之表面形成凸狀部。藉由該構成，防眩層具有兼顧防眩性與白斑之防止之優異之顯示特性，同時儘管利用粒子之凝集而形成防眩層，但能夠防止成為外觀疵點之防眩層表面之突起狀物之產生而提高製品之良率。
上述樹脂例如可例舉熱硬化性樹脂、藉由紫外線或光而硬化之游離輻射硬化性樹脂。作為上述樹脂，亦可使用市售之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。
作為上述熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂，例如可使用藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之硬化型化合物，例如可例舉：聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
上述樹脂例如亦可使用具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之反應性稀釋劑。上述反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報所記載之反應性稀釋劑，例如包括單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作為上述反應性稀釋劑，較佳為三官能以上之丙烯酸酯、三官能以上之甲基丙烯酸酯。其原因在於能夠使上述防眩層之硬度變得優異。作為上述反應性稀釋劑，例如亦可例舉：丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸之丙烯酸酯、異三聚氰酸之甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
作為上述樹脂，較佳為包含胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂，更佳為硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂及多官能丙烯酸酯(例如季戊四醇三丙烯酸酯)之共聚物。
用以形成上述防眩層之粒子之主要功能係使所形成之防眩層之表面成為凹凸形狀而賦予防眩性，又，對防眩層之霧度值進行控制。防眩層之霧度值可藉由控制上述粒子與上述樹脂之折射率差而進行設計。作為上述粒子，例如有無機粒子及有機粒子。上述無機粒子並無特別限制，例如可例舉：氧化矽粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子、氧化鋅粒子、氧化錫粒子、氧化鋯粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石粒子、高嶺土粒子、硫酸鈣粒子等。又，上述有機粒子並無特別限制，例如可例舉：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA微粒子)、聚矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯并胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末等。該等無機粒子及有機粒子可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
上述粒子之重量平均粒徑(D)較佳為處於2.5～10 μm之範圍內。藉由將上述粒子之重量平均粒徑設為上述範圍，例如防眩性更優異，且能夠防止白斑。上述粒子之重量平均粒徑更佳為3～7 μm之範圍內。再者，上述粒子之重量平均粒徑例如可藉由庫爾特計數法進行測定。例如使用利用細孔電阻法之粒度分佈測定裝置(商品名：Coulter Multisizer，Beckman Coulter公司製造)，對與粒子通過上述細孔時之粒子之體積相當之電解液之電阻進行測定，藉此測定上述粒子之數量與體積，而算出重量平均粒徑。
上述粒子之形狀並無特別限制，例如可為珠狀之大致球形，亦可為粉末等不定形者，較佳為大致球形者，更佳為縱橫比為1.5以下之大致球形之粒子，最佳為球形之粒子。
上述防眩層中之上述粒子之比率相對於上述樹脂100重量份，較佳為0.2～12重量份之範圍，更佳為0.5～12重量份之範圍，進而較佳為1～7重量份之範圍。藉由設為上述範圍，例如防眩性更優異，且能夠防止白斑。
上述防眩層可包含觸變賦予劑。藉由包含上述觸變賦予劑，能夠容易地控制上述粒子之凝集狀態。作為用以形成上述防眩層之觸變賦予劑，例如可例舉：有機黏土、氧化聚烯烴、改性脲等。
上述有機黏土為了改善與上述樹脂之親和性，較佳為經有機化處理之黏土。作為有機黏土，例如可例舉層狀有機黏土。上述有機黏土可自己製備，亦可使用市售品。作為上述市售品，例如可例舉：Lucentite SAN、Lucentite STN、Lucentite SEN、Lucentite SPN、Somasif ME-100、Somasif MAE、Somasif MTE、Somasif MEE、Somasif MPE(商品名，均為CO-OP. CHEMICAL股份有限公司製造)；S-BEN、S-BEN C、S-BEN E、S-BEN W、S-BEN P、S-BEN WX、S-BEN N-400、S-BEN NX、S-BEN NX80、S-BEN NO12S、S-BEN NEZ、S-BEN NO12、S-BEN NE、S-BEN NZ、S-BEN NZ70、ORGANITE、ORGANITE D、ORGANITE T(商品名，均為Ho Jun股份有限公司製造)；Kunipia F、Kunipia G、Kunipia G4(商品名，均為KUNIMINE INDUSTRIES股份有限公司製造)；TIXOGEL VZ、Claytone HT、Claytone 40(商品名，均為Rockwood Additives公司製造)等。
上述氧化聚烯烴可自家製備，亦可使用市售品。作為上述市售品，例如可例舉：Disparlon 4200-20(商品名，楠本化成股份有限公司製造)、Flownon SA300(商品名，共榮社化學股份有限公司製造)等。
上述改性脲係異氰酸酯單體或其加成物與有機胺之反應物。上述改性脲可自家製備，亦可使用市售品。作為上述市售品，例如可例舉：BYK410(BYK-Chemie公司製造)等。
上述觸變賦予劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
上述凸狀部之上述防眩層距粗糙度平均線之高度較佳為未達防眩層之厚度之0.4倍。更佳為0.01倍以上且未達0.4倍之範圍，進而較佳為0.01倍以上且未達0.3倍之範圍。若為該範圍，則能夠適宜地防止於上述凸狀部形成成為外觀疵點之突起物。上述防眩層藉由具有此種高度之凸狀部，而可使其不易產生外觀疵點。此處，上述距平均線之高度例如可藉由日本專利特開2017-138620號公報所記載之方法進行測定。
上述防眩層中之上述觸變賦予劑之比率相對於上述樹脂100重量份，較佳為0.1～5重量份之範圍，更佳為0.2～4重量份之範圍。
上述防眩層之厚度(d)並無特別限制，較佳為處於3～12 μm之範圍內。藉由將防眩層之厚度(d)設為上述範圍，例如能夠防止本發明之光學用黏著片材產生捲曲，而能夠避免搬送性不良等生產性之降低之問題。又，於上述厚度(d)處於上述範圍之情形時，上述粒子之重量平均粒徑(D)如上文所述，較佳為處於2.5～10 μm之範圍內。藉由上述防眩層之厚度(d)與上述粒子之重量平均粒徑(D)為上文所述之組合，能夠使防眩性更優異。上述防眩層之厚度(d)更佳為3～8 μm之範圍內。
上述防眩層之厚度(d)與上述粒子之重量平均粒徑(D)之關係較佳為處於0.3≦D/d≦0.9之範圍內。藉由處於此種關係，防眩性更優異，且能夠防止白斑，進而，可製成無外觀疵點之防眩層。
於本發明之光學用黏著片材中，如上文所述，上述防眩層藉由上述粒子及上述觸變賦予劑凝集而於上述防眩層之表面形成凸狀部。於形成上述凸狀部之凝集部中，上述粒子於上述防眩層之面方向上以複數個聚集之狀態存在。藉此，上述凸狀部成為平緩之形狀。上述防眩層藉由具有此種形狀之凸狀部，而能夠維持防眩性，並且防止白斑，進而能夠使其不易產生外觀疵點。
上述防眩層之表面形狀藉由控制防眩層形成材料所包含之粒子之凝集狀態而能夠任意設計。上述粒子之凝集狀態例如可藉由上述粒子之材質(例如粒子表面之化學修飾狀態、對溶劑或樹脂之親和性等)、樹脂(黏合劑)或溶劑之種類、組合等進行控制。此處，可藉由上述防眩層形成材料所包含之觸變賦予劑控制上述粒子之凝集狀態。其結果為，能夠使上述粒子之凝集狀態成為如上文所述般，而能夠使上述凸狀部成為平緩之形狀。
於本發明之光學用黏著片材中，於本發明之基材由樹脂等形成之情形時，較佳為於本發明之基材與上述防眩層之界面具有滲透層。上述滲透層係上述防眩層之形成材料所包含之樹脂成分滲透至本發明之基材而形成。若形成滲透層，則能夠提高本發明之基材與上述防眩層之密接性而較佳。上述滲透層之厚度較佳為0.2～3 μm之範圍，更佳為0.5～2 μm之範圍。例如於本發明之基材為聚酯系樹脂且上述防眩層所包含之樹脂為丙烯酸系樹脂之情形時，能夠形成上述滲透層。上述滲透層例如可藉由利用穿透式電子顯微鏡(TEM)觀察本發明之光學用黏著片材之截面進行確認，能夠測定厚度。
即便於應用於此種具有滲透層之本發明之光學用黏著片材之情形時，亦能夠容易地形成兼顧防眩性與白斑之防止之所需之平緩之表面凹凸形狀。上述滲透層越為缺少與上述防眩層之密接性之基材，越提高密接性，因此較佳為形成為較厚。
於上述防眩層中，較佳為最大徑為200 μm以上之外觀疵點於每1 m 2防眩層中為1個以下。更佳為無上述外觀疵點。
於上述防眩層表面之凹凸形狀中，較佳為平均傾斜角θa(°)為0.1～5.0之範圍，更佳為0.3～4.5之範圍，進而較佳為1.0～4.0之範圍，尤佳為1.6～4.0。此處，上述平均傾斜角θa係由下述數式(1)所定義之值。上述平均傾斜角θa例如為藉由日本專利特開2017-138620所記載之方法所測定之值。 平均傾斜角θa＝tan－1Δa      (1)
於上述數式(1)中，Δa如下述數式(2)所示，為於由JIS B 0601(1994年度版)所規定之粗糙度曲線之基準長度L中，相鄰之山之頂點與谷之最低點之差(高度h)之合計(h1＋h2＋h3・・・＋hn)除以上述基準長度L所得之值。上述粗糙度曲線係利用相位差補償形高通濾波器自截面曲線中去除較特定之波長更長之表面起伏分量而成之曲線。又，上述截面曲線係於利用與對象面成直角之平面切斷對象面時該切口處出現之輪廓。 Δa＝(h1＋h2＋h3・・・＋hn)/L      (2)
若θa處於上述範圍，則防眩性更優異，且能夠防止白斑。
於形成上述防眩層時，較佳為所製備之防眩層形成材料(塗佈液)表現出觸變性，由下述所規定之Ti值較佳為處於1.3～3.5之範圍，更佳為1.3～2.8之範圍。 Ti值＝β1/β2 此處，β1係使用HAAKE公司製造之RheoStress 6000於剪切速度20(1/s)之條件下所測定之黏度，β2係使用HAAKE公司製造之RheoStress 6000於剪切速度200(1/s)之條件下所測定之黏度。
若Ti值未達1.3，則容易產生外觀疵點，與防眩性、白斑相關之特性變差。又，若Ti值超過3.5，則上述粒子不易凝集而容易成為分散狀態。
上述防眩層之製造方法並無特別限制，可藉由任意方法進行製造，例如可準備包含上述樹脂、上述粒子、上述觸變賦予劑及溶劑之防眩層形成材料(塗佈液)，將上述防眩層形成材料(塗佈液)塗佈於本發明之基材之第二面形成塗膜，使上述塗膜硬化形成防眩層，藉此製造。亦可一併使用藉由利用模具之轉印方式或噴砂、壓紋輥等適當之方式賦予凹凸形狀之方法等。
上述溶劑並無特別限制，可使用各種溶劑，可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。根據上述樹脂之組成、上述粒子及上述觸變賦予劑之種類、含量等而存在最佳之溶劑種類或溶劑比率。作為溶劑，並無特別限定，例如可例舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙醚、丙二醇單甲醚等醚類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。
作為本發明之基材，例如於採用聚酯系樹脂形成滲透層之情形時，可適宜地使用針對聚酯系樹脂之良溶劑。作為該溶劑，例如可例舉：乙酸乙酯、甲基乙基酮、環戊酮等。
藉由適當選擇上述溶劑，能夠使觸變賦予劑對防眩層形成材料(塗佈液)之觸變性良好地表現。例如於使用有機黏土之情形時，可適宜地單獨使用或併用甲苯及二甲苯，例如於使用氧化聚烯烴之情形時，可適宜地單獨使用或併用甲基乙基酮、乙酸乙酯、丙二醇單甲醚，例如於使用改性脲之情形時，可適宜地單獨使用或併用乙酸丁酯及甲基異丁基酮。
可於上述防眩層形成材料中添加各種調平劑。作為上述調平劑，以防止塗佈不均(塗佈面之均一化)為目的，例如可使用氟系或聚矽氧系之調平劑。可根據對上述防眩層之表面要求防污性之情形或將抗反射層(低折射率層)或包含層間填充劑之層形成於防眩層上之情形等適當選定調平劑。例如由於藉由包含上述觸變賦予劑而能夠使塗佈液表現觸變性，故而不易產生塗佈不均。因此，例如具有能夠擴大上述調平劑之選項之優點。
上述調平劑之調配量相對於上述樹脂100重量份，例如為5重量份以下，較佳為0.01～5重量份之範圍。
可視需要於不損及性能之範圍內於上述防眩層形成材料中添加顏料、填充劑、分散劑、塑化劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、防污劑、抗氧化劑等。該等添加劑可單獨使用一種，或可併用兩種以上。
上述防眩層形成材料例如可使用如日本專利特開2008-88309號公報所記載之先前公知之光聚合起始劑。
作為將上述防眩層形成材料塗佈於本發明之基材之第二面上之方法，例如可使用噴水塗佈法、模嘴塗佈法、旋轉塗佈法、噴霧塗佈法、凹版塗佈法、輥塗法、棒式塗佈法等塗佈法。
塗佈上述防眩層形成材料，於本發明之基材上形成塗膜，並使上述塗膜硬化。較佳為於上述硬化之前將上述塗膜加以乾燥。上述乾燥例如可為自然乾燥，亦可為吹風進行之風乾，亦可為加熱乾燥，亦可為將該等組合而成之方法。
上述防眩層形成材料之塗膜之硬化方法並無特別限制，較佳為紫外線硬化。能量線源之照射量以紫外線波長365 nm下之累計曝光量計，較佳為50～500 mJ/cm 2。若照射量為50 mJ/cm 2以上，則硬化變得更充分，所形成之防眩層之硬度亦變得更充分。又，若為500 mJ/cm 2以下，則能夠防止所形成之防眩層之著色。
如以上般，可於本發明之基材之第二面形成上述防眩層。再者，亦可藉由上文所述之方法以外之製造方法形成防眩層。上述防眩層之硬度於鉛筆硬度中亦受到層之厚度所影響，較佳為具有2H以上之硬度。
上述防眩層可為積層有兩層以上之複數層構造。
可於上述防眩層上配置上述AR層(低折射率層)。例如於在圖像顯示裝置安裝有光學用黏著片材之情形時，作為使圖像之視認性降低之要因之一，可例舉空氣與防眩層界面處之光之反射。AR層係減少該表面反射者。再者，上述防眩層及抗反射層可分別為積層有兩層以上之複數層構造。
又，為了防止污染物之附著及提高所附著之污染物之去除容易性，較佳為將由含有氟基之矽烷系化合物或含有氟基之有機化合物等所形成之污染防止層積層於上述抗反射層及/或防眩層上。
較佳為對本發明之基材及上述防眩層之至少一者進行表面處理。若對本發明之基材之表面進行表面處理，則與上述防眩層之密接性進一步提高。又，若對上述防眩層之表面進行表面處理，則與上述AR層之密接性進一步提高。
為了防止本發明之基材產生捲曲，亦可對上述防眩層之另一面進行溶劑處理。又，為了防止產生捲曲，亦可於上述防眩層之另一面形成透明樹脂層。
＜黏著劑層＞ 本發明之黏著劑層可為不具有基材(基材層)之黏著劑層，亦可為具有基材之類型之黏著劑層。再者，於本說明書中，存在將不具有基材(基材層)之黏著劑層稱為「無基材黏著劑層」之情形，且存在將具有基材之類型之黏著劑層稱為「附基材之黏著劑層」之情形。作為上述無基材黏著劑層，例如可例舉僅包含本發明之黏著劑層之單層之黏著劑層或包含本發明之黏著劑層與其他黏著劑層(本發明之黏著劑層以外之黏著劑層)之黏著劑層等。又，作為上述附基材之黏著劑層，可例舉於基材之雙面側具有本發明之黏著劑層之黏著劑層或於基材之其中一面側具有本發明之黏著劑層且於另一面側具有其他黏著劑層之黏著劑層等。作為構成「附基材之黏著劑層」之「基材(基材層)」，可使用與本發明之基材同樣之塑膠膜。
本發明之黏著劑層之表面電阻值未達10 10Ω。本發明之黏著劑層之表面電阻值未達10 10Ω之構成就本發明之黏著劑層表現出優異之防靜電效果，為了於產生對本發明之圖像顯示面板之貼合不良之情形時進行二次加工而能夠抑制將黏著片材自圖像顯示面板剝離時之靜電之產生之方面而言較佳。就本發明之黏著劑層表現出更優異之防靜電效果而能夠更高效地抑制本發明之圖像顯示裝置之二次加工時的靜電之產生之方面而言，本發明之黏著劑層之表面電阻值較佳為0.97×10 10Ω以下，更佳為0.96×10 10Ω以下，進而較佳為0.95×10 10Ω以下。本發明之黏著劑層之表面電阻值之下限值並無特別限定，越低越佳，可為10 7Ω以上。
本發明之黏著劑層之下述熱衝擊試驗後之表面電阻值較佳為未達10 10Ω。 ・熱衝擊試驗 對於本發明之光學用黏著片材，於-40℃之氛圍下曝露30分鐘，繼而，於80℃之氛圍下曝露30分鐘，以此作為熱衝擊之1個週期，使用熱衝擊試驗機，將上述熱衝擊進行200個週期。
本發明之黏著劑層之上述熱衝擊試驗後之表面電阻值未達10 10Ω之構成就如下方面而言較為適宜：即便於如熱衝擊之嚴酷之環境下，本發明之黏著劑層亦維持優異之防靜電效果，例如於在圖像顯示裝置之使用環境下產生發光元件之不亮等故障之情形時，能夠抑制為了進行修理而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時之靜電之產生。就本發明之黏著劑層於圖像顯示裝置之使用環境下維持更優異之防靜電效果，能夠更高效地抑制為了修理本發明之圖像顯示裝置而二次加工時之靜電之產生之方面而言，本發明之黏著劑層之上述熱衝擊試驗後之表面電阻值較佳為0.97×10 10Ω以下，更佳為0.96×10 10Ω以下，進而較佳為0.95×10 10Ω以下。本發明之黏著劑層之上述熱衝擊試驗後之表面電阻值之下限值並無特別限定，越低越佳，可為10 7Ω以上。
依照下式算出上述熱衝擊試驗前後之本發明之黏著劑層的表面電阻值之差之絕對值。 ｜Log 10B－Log 10A｜ A：熱衝擊試驗前之表面電阻值 B：熱衝擊試驗後之表面電阻值
上述熱衝擊試驗前後之本發明之黏著劑層的表面電阻值之差之絕對值(｜Log 10B－Log 10A｜)較佳為1log Ω以下。上述熱衝擊試驗前後之本發明之黏著劑層的表面電阻值之差為1log Ω以下之構成就如下方面而言較為適宜：即便於如熱衝擊之嚴酷之環境下，本發明之黏著劑層亦維持優異之防靜電效果，例如於在圖像顯示裝置之使用環境下產生發光元件之不亮等故障之情形時，能夠抑制為了進行修理而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時之靜電之產生。就本發明之黏著劑層於圖像顯示裝置之使用環境下維持更優異之防靜電效果，能夠更高效地抑制為了修理本發明之圖像顯示裝置而二次加工時之靜電之產生之方面而言，本發明之黏著劑層之上述熱衝擊試驗前後的表面電阻值之差更佳為0.9log Ω以下，進而較佳為0.8log Ω以下，尤佳為0.7 log Ω以下。
本發明之黏著劑層之表面電阻率、上述熱衝擊試驗前後之表面電阻值、及其差係藉由下文揭示之實施例中之表面電阻值測定而進行測定。本發明之黏著劑層之表面電阻率、上述熱衝擊試驗前後之表面電阻值、及其差可藉由用以形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物之組成(例如基礎聚合物之種類或分子量、使用量、單體組成、官能基之種類及量、防靜電劑之種類或量、交聯劑之種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射照射條件)等進行調整。
本發明之黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]未達60 kPa。本發明之黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]未達60 kPa之構成就如下方面而言較為適宜：於圖像顯示面板或光學構件等中存在印刷層或配線等之凹凸形狀之階差之情形時，本發明之黏著劑層能夠充分地追隨該階差，而於不會殘留氣泡等之情況下進行填充，即，表現出優異之階差吸收性，進而，能夠防止上述貼合不良。就本發明之黏著劑層表現出更優異之階差吸收性之方面而言，本發明之黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]較佳為55 kPa以下，更佳為50 kPa以下，可為45 kPa以下。本發明之黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]之下限值就於本發明之光學用黏著片材之保管時不易產生黏著劑層自端部伸出之異常等加工性之觀點而言，較佳為1 kPa以上，可為5 kPa以上。
具體而言，本發明之黏著劑層之上述利用奈米壓痕法獲得之硬度H可藉由下文揭示之實施例之方法進行測定。本發明之黏著劑層之上述利用奈米壓痕法獲得之硬度H可藉由用以形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物之組成(例如基礎聚合物之種類或分子量、使用量、單體組成、官能基之種類及量、防靜電劑之種類或量、交聯劑之種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射照射條件)等進行調整。
本發明之黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)較佳為-10℃以下。本發明之黏著劑層之Tg為-10℃以下之構成就即便於低溫環境下亦能夠維持本發明之黏著劑層之優異之階差吸收性的方面而言較佳。就即便於低溫環境下亦能夠維持本發明之黏著劑層之更優異之階差吸收性的方面而言，本發明之黏著劑層之玻璃轉移點較佳為-15℃以下，可為-20℃以下。本發明之黏著劑層之Tg之下限值並無特別限定，就於本發明之光學用黏著片材之保管時不易產生黏著劑層自端部伸出之異常等加工性之觀點而言，較佳為-50℃以上，可為-40℃以上。
本發明之黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)係藉由下文揭示之實施例中之動態黏彈性測定而進行測定。本發明之黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)可藉由用以形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物之組成(例如基礎聚合物之種類或分子量、使用量、單體組成、官能基之種類及量、防靜電劑之種類或量、交聯劑之種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射照射條件)等進行調整。
本發明之黏著劑層之於25℃、1 Hz下之儲存彈性模數較佳為未達200 kPa。本發明之黏著劑層之於25℃、1 Hz下之儲存彈性模數未達200 kPa之構成就本發明之黏著劑層充分地追隨本發明之圖像顯示裝置於使用環境下之收縮或膨脹而能夠抑制隆起或剝落之方面而言較佳。又，就如下方面而言較為適宜：於圖像顯示面板或光學構件等中存在印刷層或配線等之凹凸形狀之階差之情形時，表現出優異之階差吸收性，進而，能夠防止上述貼合不良。就抑制本發明之光學用黏著片材之隆起或剝落，階差吸收性更優異之方面而言，本發明之黏著劑層之於25℃、1 Hz下之儲存彈性模數較佳為180 kPa以下，更佳為160 kPa以下，進而較佳為140 kPa以下，可為120 kPa以下。本發明之黏著劑層之於25℃、1 Hz下之儲存彈性模數之下限值並無特別限定，就於本發明之光學用黏著片材之保管時不易產生黏著劑層自端部伸出之異常等加工性之觀點而言，較佳為1 kPa以上，可為5 kPa以上。
本發明之黏著劑層之於85℃、1 Hz下之儲存彈性模數較佳為未達100 kPa。本發明之黏著劑層之於85℃、1 Hz下之儲存彈性模數未達100 kPa之構成就本發明之黏著劑層充分地追隨本發明之圖像顯示裝置於使用環境下之收縮或膨脹而能夠抑制隆起或剝落之方面而言較佳。又，就如下方面而言較為適宜：於圖像顯示面板或光學構件等中存在印刷層或配線等之凹凸形狀之階差之情形時，表現出優異之階差吸收性，進而，能夠防止上述貼合不良。就抑制本發明之光學用黏著片材之隆起或剝落，階差吸收性更優異之方面而言，本發明之黏著劑層之於85℃、1 Hz下之儲存彈性模數較佳為97 kPa以下，更佳為95 kPa以下，進而較佳為92 kPa以下，可為90 kPa以下。本發明之黏著劑層之於85℃、1 Hz下之儲存彈性模數之下限值並無特別限定，就於本發明之光學用黏著片材之保管時不易產生黏著劑層自端部伸出之異常等加工性之觀點而言，較佳為1 kPa以上，可為5 kPa以上。
本發明之黏著劑層之於25℃或85℃、1 Hz下之儲存彈性模數係藉由下文揭示之實施例中之動態黏彈性測定而進行測定。本發明之黏著劑層之於25℃或85℃、1 Hz下之儲存彈性模數可藉由用以形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物之組成(例如基礎聚合物之種類或分子量、使用量、單體組成、官能基之種類及量、防靜電劑之種類或量、交聯劑之種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射照射條件)等進行調整。
本發明之黏著劑層之300%拉伸殘存應力值並無特別限定，較佳為25 N/cm 2以下。本發明之黏著劑層之300%拉伸殘存應力值為25 N/cm 2以下之構成就本發明之黏著劑層充分地追隨本發明之圖像顯示裝置於使用環境下之收縮或膨脹而能夠抑制隆起或剝落之方面而言較佳。又，就如下方面而言較為適宜：於圖像顯示面板或光學構件等中存在印刷層或配線等之凹凸形狀之階差之情形時，表現出優異之階差吸收性，進而，能夠防止上述貼合不良。就抑制本發明之光學用黏著片材之隆起或剝落，階差吸收性更優異之方面而言，本發明之黏著劑層之300%拉伸殘存應力值更佳為20 N/cm 2以下，進而較佳為18 N/cm 2以下，可為15 N/cm 2以下。本發明之黏著劑層之300%拉伸殘存應力值之下限值並無特別限定，就於本發明之光學用黏著片材之保管時不易產生黏著劑層自端部伸出之異常等加工性之觀點而言，較佳為1 N/cm 2以上，可為1.5 N/cm 2以上。
本發明之黏著劑層之300%拉伸殘存應力值係藉由下文揭示之實施例中之300%拉伸殘存應力值測定而進行測定。本發明之黏著劑層之300%拉伸殘存應力值可藉由用以形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物之組成(例如基礎聚合物之種類或分子量、使用量、單體組成、官能基之種類及量、防靜電劑之種類或量、交聯劑之種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射照射條件)等進行調整。
作為構成本發明之黏著劑層之黏著劑，並無特別限定，例如可例舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑等。其中，作為構成黏著劑層之黏著劑，就透明性、黏著性、耐候性、成本、黏著劑之設計之容易性之方面而言，較佳為丙烯酸系黏著劑。即，本發明之黏著劑層較佳為包含丙烯酸系黏著劑之丙烯酸系黏著劑層。上述黏著劑可單獨使用或組合2種以上使用。
上述丙烯酸系黏著劑層含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。上述丙烯酸系聚合物係含有丙烯酸系單體(於分子中具有(甲基)丙烯醯基之單體)作為構成聚合物之單體成分之聚合物。上述丙烯酸系聚合物較佳為含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為構成聚合物之單體成分之聚合物。再者，丙烯酸系聚合物可單獨使用或組合2種以上使用。
形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物可為任意形態。例如黏著劑組合物可為乳液型、溶劑型(溶液型)、活性能量線硬化型、熱熔融型(熱熔型)等。其中，就生產性之方面、容易獲得光學特性或外觀性優異之黏著劑層之方面而言，較佳為溶劑型、活性能量線硬化型之黏著劑組合物。尤其是就容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為活性能量線硬化型之黏著劑組合物。
即，本發明之黏著劑層較佳為含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑層，由活性能量線硬化型之丙烯酸系黏著劑組合物所形成。又，本發明之黏著劑層亦較佳為含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑層，由溶劑型之丙烯酸系黏著劑組合物所形成。
作為上述活性能量線，例如可例舉：α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射或紫外線等，尤佳為紫外線。即，上述活性能量線硬化型之黏著劑組合物較佳為紫外線硬化型之黏著劑組合物。
作為形成上述丙烯酸系黏著劑層之黏著劑組合物(丙烯酸系黏著劑組合物)，例如可例舉：以丙烯酸系聚合物作為必需成分之丙烯酸系黏著劑組合物、或者以構成丙烯酸系聚合物之單體(monomer)之混合物(有時稱為「單體混合物」)或其部分聚合物作為必需成分之丙烯酸系黏著劑組合物等。作為前者，例如可例舉所謂溶劑型之丙烯酸系黏著劑組合物等。又，作為後者，例如可例舉所謂活性能量線硬化型之丙烯酸系黏著劑組合物等。上述「單體混合物」意指包含構成聚合物之單體成分之混合物。又，上述「部分聚合物」亦存在稱為「預聚物」之情形，意指上述單體混合物中之單體成分中之1種或2種以上單體成分部分聚合之組合物。
上述丙烯酸系聚合物係以丙烯酸系單體作為必需之單體成分(monomer composition)所構成(形成)之聚合物。上述丙烯酸系聚合物較佳為以(甲基)丙烯酸烷基酯作為必需之單體成分所構成(形成)之聚合物。即，上述丙烯酸系聚合物較佳為含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為結構單元。於本說明書中，「(甲基)丙烯酸基」表示「丙烯酸基」及/或「甲基丙烯酸基」(「丙烯酸基」及「甲基丙烯酸基」中之任一者或兩者)，其他亦為同樣。再者，上述丙烯酸系聚合物包含1種或2種以上單體成分。
關於作為必需之單體成分之上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可較佳地例舉具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或組合2種以上使用。
作為具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，並無特別限定，例如可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯((甲基)丙烯酸硬脂酯)、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等具有碳數為1～20之直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。其中，上述具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯較佳為具有碳數為4～18之直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)、丙烯酸月桂酯(LA)、丙烯酸丁酯(BA)。又，上述具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或組合使用2種以上。
上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述(甲基)丙烯酸烷基酯之比率並無特別限定，較佳為50重量%以上(例如50～100重量%)，更佳為53～100重量%，進而較佳為55～100重量%。
又，丙烯酸系黏著劑組合物可除了上述丙烯酸系聚合物以外包含上述(甲基)丙烯酸烷基酯。於丙烯酸系黏著劑組合物除了丙烯酸系聚合物以外含有(甲基)丙烯酸烷基酯之情形時，該(甲基)丙烯酸烷基酯之含量(調配量)相對於丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為10重量份以上(例如10～100重量份)，更佳為20～90重量份，進而較佳為30～80重量份。
上述丙烯酸系聚合物可包含上述(甲基)丙烯酸烷基酯以及共聚合性單體作為構成聚合物之單體成分。即，上述丙烯酸系聚合物可包含共聚合性單體作為結構單元。再者，共聚合性單體可單獨使用或組合使用2種以上。
作為上述共聚合性單體，並無特別限定，就容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點、於高濕環境下之白濁化之抑制及耐久性提高、接著可靠性、與紫外線吸收劑等各種添加劑之相容性、透明性之方面而言，可較佳地例舉於分子內具有氮原子之單體、於分子內具有羥基之單體。即，上述丙烯酸系聚合物較佳為含有於分子內具有氮原子之單體作為結構單元。又，上述丙烯酸系聚合物較佳為含有於分子內具有羥基之單體作為結構單元。
上述於分子內具有氮原子之單體係於分子內(1分子內)具有至少1個氮原子之單體(monomer)。於本說明書中，存在將上述「於分子內具有氮原子之單體」稱為「含有氮原子之單體」之情形。作為上述含有氮原子之單體，並無特別限定，可較佳地例舉含有環狀氮之單體、(甲基)丙烯醯胺類等。再者，含有氮原子之單體可單獨使用或組合2種以上使用。
上述含有環狀氮之單體只要具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基且具有環狀氮結構，則無特別限定。上述環狀氮結構較佳為於環狀結構內具有氮原子。
作為上述含有環狀氮之單體，例如可例舉：N-乙烯基環狀醯胺(內醯胺系乙烯基單體)、具有含氮雜環之乙烯基系單體等。
作為上述N-乙烯基環狀醯胺，例如可例舉下述式(1)所表示之N-乙烯基環狀醯胺。 [化1] (式(1)中，R 1表示二價有機基)
上述式(1)中之R 1為二價有機基，較佳為二價之飽和烴基或不飽和烴基，更佳為二價之飽和烴基(例如碳數3～5之伸烷基等)。
作為上述式(1)所表示之N-乙烯基環狀醯胺，例如可例舉：N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-乙烯基-3-嗎啉酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-㗁 𠯤-2-酮、N-乙烯基-3,5-嗎啉二酮等。
作為上述具有含氮雜環之乙烯基系單體，例如可例舉具有嗎啉環、哌啶環、吡咯啶環、哌𠯤環等含氮雜環之丙烯酸系單體等。
作為上述具有含氮雜環之乙烯基系單體，並無特別限定，例如可例舉：(甲基)丙烯醯基嗎啉、N-乙烯基哌𠯤、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基吡𠯤、N-乙烯基嗎啉、N-乙烯基吡唑、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基㗁唑、乙烯基異㗁唑、乙烯基噻唑、乙烯基異噻唑、乙烯基嗒𠯤、(甲基)丙烯醯基吡咯啶酮、(甲基)丙烯醯基吡咯啶、(甲基)丙烯醯基哌啶等。
作為上述具有含氮雜環之乙烯基系單體，其中，較佳為具有含氮雜環之丙烯酸系單體，更佳為(甲基)丙烯醯基嗎啉、(甲基)丙烯醯基吡咯啶、(甲基)丙烯醯基哌啶。
作為上述(甲基)丙烯醯胺類，例如可例舉：(甲基)丙烯醯胺、N-烷基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺等。作為上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-正丁基(甲基)丙烯醯胺、N-辛基(甲基)丙烯醯胺等。進而，上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺中亦可包含如二甲胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、二乙胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、二甲胺基丙基(甲基)丙烯醯胺之具有胺基之(甲基)丙烯醯胺。作為上述N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(正丁基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(第三丁基)(甲基)丙烯醯胺等。
又，上述(甲基)丙烯醯胺類例如亦包括各種N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺。作為上述N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-2-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺等。
又，上述(甲基)丙烯醯胺類例如亦包括各種N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺。作為上述N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺等。
又，作為上述含有環狀氮之單體、上述(甲基)丙烯醯胺類以外之含有氮原子之單體，例如可例舉：含胺基之單體、含氰基之單體、含醯亞胺基之單體、含異氰酸酯基之單體等。作為上述含胺基之單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基丙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等。作為上述含氰基之單體，例如可例舉：丙烯腈、甲基丙烯腈等。作為上述含醯亞胺基之單體，可例舉：馬來醯亞胺系單體(例如N-環己基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等)、伊康醯亞胺系單體(例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺等)、丁二醯亞胺系單體(例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基丁二醯亞胺等)等。作為上述含異氰酸酯基之單體，例如可例舉：異氰酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯等。
其中，作為上述含有氮原子之單體，較佳為含有環狀氮之單體，更佳為N-乙烯基環狀醯胺。更具體而言，尤佳為N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)。
於上述丙烯酸系聚合物含有上述含有氮原子之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述含有氮原子之單體之比率並無特別限定，較佳為1重量%以上，更佳為3重量%以上，進而較佳為5重量%以上。若上述比率為1重量%以上，則高濕環境下之白濁化之抑制與耐久性進一步提高，可獲得較高之接著可靠性而較佳。又，上述含有氮原子之單體之比率之上限就獲得具有適度之柔軟性之黏著劑層之方面、獲得透明性優異之黏著劑層之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為30重量%以下，更佳為25重量%以下，進而較佳為20重量%以下。
上述於分子內具有羥基之單體係於分子內(1分子內)具有至少1個羥基(hydroxyl)之單體，可較佳地例舉具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基且具有羥基者。但上述於分子內具有羥基之單體不包括上述含有氮原子之單體。即，於本說明書中，於分子內具有氮原子與羥基兩者之單體包括於上述「含有氮原子之單體」中。於本說明書中，存在將上述「於分子內具有羥基之單體」稱為「含羥基之單體」之情形。再者，含羥基之單體可單獨使用或組合使用2種以上。
作為上述含羥基之單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸羥基辛酯、(甲基)丙烯酸羥基癸酯、(甲基)丙烯酸羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯；乙烯醇；烯丙醇等。
其中，作為上述含羥基之單體，較佳為含羥基之(甲基)丙烯酸酯，更佳為丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)。
於上述丙烯酸系聚合物含有上述含羥基之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述含羥基之單體之比率並無特別限定，就高濕環境下之白濁化之抑制與耐久性提高、獲得較高之接著可靠性之方面而言，較佳為0.5重量%以上，更佳為0.8重量%以上，進而較佳為1重量%以上。又，上述含羥基之單體之比率之上限就容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為30重量%以下，更佳為25重量%以下，進而較佳為20重量%以下。
又，以進一步強化利用含羥基之單體獲得之上述效果為目的，丙烯酸系黏著劑組合物可除了上述丙烯酸系聚合物以外，包含含羥基之單體。於丙烯酸系黏著劑組合物除了丙烯酸系聚合物以外含有含羥基之單體之情形時，該含羥基之單體之含量(調配量)相對於丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為1重量份以上，更佳為3重量份以上，進而較佳為5重量份以上。若上述含量為5重量份以上，則高濕環境下之白濁化之抑制與耐久性進一步提高，可獲得更高之接著可靠性而較佳。又，上述含羥基之單體之含量(調配量)之上限就凝集力之方面、獲得接著性、接著可靠性之容易性之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，進一步較佳為30重量份以下，更佳為25重量份以下，進而較佳為20重量份以下，尤佳為17重量份以下。
上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述含有氮原子之單體及上述含羥基之單體之比率之合計並無特別限定，就高濕環境下之白濁化之抑制與耐久性提高、獲得較高之接著可靠性之方面而言，較佳為5重量%以上，更佳為10重量%以上，進而較佳為15重量%以上。又，上述比率之合計之上限就獲得具有適度之柔軟性之黏著劑層之方面、獲得透明性優異之黏著劑層之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為50重量%以下，更佳為40重量%以下，進而較佳為35重量%以下。
作為含有氮原子之單體及含羥基之單體以外之共聚合性單體，進而可例舉含羧基之單體。上述含羧基之單體只要具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基且具有羧基，則無特別限定。作為含羧基之單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸、伊康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯酸、異丁烯酸等，又，例如亦包括馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基之單體。再者，含羧基之單體可單獨使用或組合2種以上使用。
於上述丙烯酸系聚合物含有上述含羧基之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述含羧基之單體之比率並無特別限定，就獲得較高之接著可靠性之方面而言，較佳為0.5重量%以上，更佳為0.8重量%以上，進而較佳為1重量%以上。又，上述含羧基之單體之比率之上限就容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為30重量%以下，更佳為25重量%以下，進而較佳為20重量%以下。
作為含有氮原子之單體及含羥基之單體以外之共聚合性單體，進而可例舉含脂環結構之單體。上述含脂環結構之單體只要具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基且具有脂環結構，則無特別限定。例如，具有環烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯包括於上述含脂環結構之單體中。再者，含脂環結構之單體可單獨使用或組合2種以上使用。
上述含脂環結構之單體中之脂環結構為環狀之烴結構，較佳為碳數5以上，更佳為碳數6～24，進而較佳為碳數6～15，尤佳為碳數6～10。
作為上述含脂環結構之單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸環丙酯、(甲基)丙烯酸環丁酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯、(甲基)丙烯酸環辛酯、(甲基)丙烯酸異𦯉基酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、下述式(2)所表示之HPMPA、下述式(3)所表示之TMA-2、下述式(4)所表示之HCPA等(甲基)丙烯酸系單體。再者，於下述式(4)中，以線相連之環己基環與括號內之結構式之鍵結部位並無特別限定。該等中，較佳為(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉基酯。
[化2] [化3] [化4]
於上述丙烯酸系聚合物含有上述含脂環結構之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述含脂環結構之單體之比率並無特別限定，就耐久性提高、獲得較高之接著可靠性之方面而言，較佳為10重量%以上。又，上述含脂環結構之單體之比率之上限就獲得具有適度之柔軟性之黏著劑層之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為50重量%以下，更佳為40重量%以下，進而較佳為30重量%以下。
進而，作為共聚合性單體，例如可例舉多官能性單體。作為上述多官能性單體，例如可例舉：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯等。再者，多官能性單體可單獨使用或組合使用2種以上。
於上述丙烯酸系聚合物含有上述多官能性單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述多官能性單體之比率並無特別限定，就容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為0.5重量%以下(例如超過0重量%且為0.5重量%以下)，更佳為0.2重量%以下(例如超過0重量%且為0.2重量%以下)。
又，上述多官能性單體除了調配於上述丙烯酸系聚合物中以外，亦可調配於丙烯酸系黏著劑組合物中。於丙烯酸系黏著劑組合物除了丙烯酸系聚合物以外含有多官能性單體之情形時，該多官能性單體之含量(調配量)相對於丙烯酸系聚合物100重量份，就容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，較佳為0.5重量份以下(例如超過0重量份且為0.5重量份以下)，更佳為0.2重量份以下(例如超過0重量份且為0.2重量份以下)。
又，作為上述共聚合性單體，可例舉(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯。作為上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯，並無特別限定，例如可例舉：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等。其中，上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯較佳為丙烯酸烷氧基烷基酯，更佳為丙烯酸2-甲氧基乙酯(MEA)。再者，上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯可單獨使用或組合使用2種以上。
於上述丙烯酸系聚合物含有上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯作為構成聚合物之單體成分之情形時，上述(甲基)丙烯酸烷基酯與上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯之比率並無特別限定，以[前者：後者](重量比)計，較佳為超過100：0且為25：75以下，更佳為超過100：0且為50：50以下。
除此以外，作為上述共聚合性單體，例如可例舉：含環氧基之單體、含磺酸基之單體、含磷酸基之單體、具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯、乙烯酯類、芳香族乙烯基化合物、烯烴類或二烯類、乙烯醚類、氯乙烯等。作為上述含環氧基之單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等。作為上述含磺酸基之單體，例如可例舉：乙烯基磺酸鈉等。作為含磷酸基之單體，例如可例舉：2-羥基乙基丙烯醯基磷酸酯等。作為上述具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。作為上述乙烯酯類，例如可例舉：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等。作為上述芳香族乙烯基化合物，例如可例舉：苯乙烯、乙烯基甲苯等。作為上述烯烴類或二烯類，例如可例舉：乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯、異丁烯等。作為上述乙烯醚類，例如可例舉：乙烯基烷基醚等。
本發明之黏著劑層中之基礎聚合物(尤其是丙烯酸系聚合物)之含量並無特別限定，相對於本發明之黏著劑層之總重量100重量%，較佳為50重量%以上(例如50～100重量%)，更佳為80重量%以上(例如80～100重量%)，進而較佳為90重量%以上(例如90～100重量%)。
上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)為100000～5000000，較佳為500000～4000000，更佳為750000～3000000。丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為100000以上之構成就黏著力提高、耐發泡剝落性提高之方面而言較佳。另一方面，丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為5000000以下之構成就容易提高黏著力、耐發泡剝落性提高之方面而言較佳。
上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)可藉由GPC法(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)進行聚苯乙烯換算而求出。例如可使用Tosoh股份有限公司製造之高速GPC裝置「HPLC-8120GPC」，藉由下述條件進行測定。 管柱：TSKgel SuperHZM-H/HZ4000/HZ3000/HZ2000 溶劑：四氫呋喃 流速：0.6 ml/分鐘
上述丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)並無特別限定，較佳為-70～-10℃，更佳為-65～-15℃，進而較佳為-60～-20℃。若丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度為-70℃以上，則凝集力提高，耐發泡剝落性容易提高而較佳。又，丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度為-10℃以下之構成就如下方面而言較佳：即便於低溫環境下亦維持上述黏著劑層之應力緩和性，上述黏著劑層充分地追隨本發明之圖像顯示裝置之使用環境下之收縮或膨脹，而能夠抑制隆起或剝落，能夠充分地確保與被附體之密接性。
上述丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)係以下述FOX之式所表示之玻璃轉移溫度(理論值)。 1/Tg＝W 1/Tg 1＋W 2/Tg 2＋・・・＋W n/Tg n上述式中，Tg表示丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(單位：K)，Tg i表示單體i形成均聚物時之玻璃轉移溫度(單位：K)，W i表示單體i之單體成分總量中之重量分率(i＝1、2、・・・・n)。 作為上述構成丙烯酸系聚合物之單體之均聚物之Tg，可採用下述值。 丙烯酸2-乙基己酯             -70℃ 丙烯酸正己酯                   -65℃ 丙烯酸正辛酯                   -65℃ 丙烯酸異壬酯                   -60℃ 丙烯酸正壬酯                   -58℃ 丙烯酸正丁酯                   -55℃ 丙烯酸乙酯                      -20℃ 丙烯酸月桂酯                   0℃ 甲基丙烯酸2-乙基己酯       -10℃ 丙烯酸甲酯                      8℃ 甲基丙烯酸正丁酯             20℃ 甲基丙烯酸甲酯                105℃ 丙烯酸                             106℃ 甲基丙烯酸                      228℃ 乙酸乙烯酯                      32℃ 苯乙烯                             100℃
又，作為上述未記載之單體之均聚物之Tg，可採用「Polymer Handbook」(第三版，John Wiley & Sons, Inc，1989年)所記載之數值。進而，作為上述文獻中亦未記載之單體之均聚物之Tg，可採用藉由上述測定方法所獲得之值(藉由黏彈性試驗獲得之tanδ之峰頂溫度)。
本發明之黏著劑層所含有之上述丙烯酸系聚合物等基礎聚合物可藉由使單體成分聚合而獲得。作為該聚合方法，並無特別限定，例如可例舉：溶液聚合方法、乳化聚合方法、塊狀聚合方法、利用活性能量線照射之聚合方法(活性能量線聚合方法)等。其中，就黏著劑層之透明性、成本等方面而言，較佳為溶液聚合方法、活性能量線聚合方法，更佳為活性能量線聚合方法。
又，於上述單體成分之聚合時，可使用各種通常之溶劑。作為上述溶劑，例如可例舉：乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；甲苯、苯等芳香族烴類；正己烷、正庚烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷等脂環式烴類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等有機溶劑。再者，溶劑可單獨使用或組合2種以上使用。
於上述單體成分之聚合時，可根據聚合反應之種類使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑(光起始劑)等聚合起始劑。再者，聚合起始劑可單獨使用或組合使用2種以上。
作為上述熱聚合起始劑，並無特別限定，例如可例舉：偶氮系聚合起始劑、過氧化物系聚合起始劑(例如過氧化二苯甲醯、過氧化馬來酸第三丁酯等)、氧化還原系聚合起始劑等。其中，較佳為日本專利特開2002-69411號公報所揭示之偶氮系聚合起始劑。作為上述偶氮系聚合起始劑，可例舉：2,2'-偶氮二異丁腈(以下有時稱為「AIBN」)、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈(以下有時稱為「AMBN」)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸等。再者，熱聚合起始劑可單獨使用或組合使用2種以上。
於在上述丙烯酸系聚合物之聚合時使用上述偶氮系聚合起始劑之情形時，上述偶氮系聚合起始劑之使用量並無特別限定，例如相對於上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為0.05重量份以上，更佳為0.1重量份以上，又，較佳為0.5重量份以下，更佳為0.3重量份以下。
作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，例如可例舉：安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、芳香族磺醯氯系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、苯偶醯系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫𠮿系光聚合起始劑等。除此以外，可例舉：醯基氧化膦系光聚合起始劑、二茂鈦系光聚合起始劑。作為上述安息香醚系光聚合起始劑，例如可例舉：安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、大茴香醚甲醚等。作為上述苯乙酮系光聚合起始劑，例如可例舉：2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-(第三丁基)二氯苯乙酮等。作為上述α-酮醇系光聚合起始劑，例如可例舉：2-甲基-2-羥基苯丙酮、1-[4-(2-羥基乙基)苯基]-2-甲基丙烷-1-酮等。作為上述芳香族磺醯氯系光聚合起始劑，例如可例舉：2-萘磺醯氯等。作為上述光活性肟系光聚合起始劑，例如可例舉：1-苯基-1,1-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)-肟等。作為上述安息香系光聚合起始劑，例如可例舉：安息香等。作為上述苯偶醯系光聚合起始劑，例如可例舉：苯偶醯等。作為上述二苯甲酮系光聚合起始劑，例如可例舉：二苯甲酮、苯甲醯基苯甲酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羥基環己基苯基酮等。作為上述縮酮系光聚合起始劑，例如可例舉：苯偶醯二甲基縮酮等。作為上述9-氧硫𠮿系光聚合起始劑，例如可例舉：9-氧硫𠮿、2-氯-9-氧硫𠮿、2-甲基-9-氧硫𠮿、2,4-二甲基-9-氧硫𠮿、異丙基-9-氧硫𠮿、2,4-二異丙基-9-氧硫𠮿、十二烷基-9-氧硫𠮿等。作為上述醯基氧化膦系光聚合起始劑，例如可例舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等。作為上述二茂鈦系光聚合起始劑，例如可例舉：雙(η 5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。再者，光聚合起始劑可單獨使用或組合使用2種以上。
於在上述丙烯酸系聚合物之聚合時使用上述光聚合起始劑之情形時，上述光聚合起始劑之使用量並無特別限定，例如相對於上述構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為0.01重量份以上，更佳為0.1重量份以上，又，較佳為3重量份以下，更佳為1.5重量份以下。
本發明之黏著劑層含有液狀之防靜電劑。上述防靜電劑對本發明之黏著劑層賦予防靜電性，就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電之方面而言較佳。又，上述防靜電劑為液狀之構成就以下方面而言較佳：能夠於不損及本發明之黏著劑層之黏著特性之情況下對本發明之黏著劑層賦予優異之防靜電效果，因此本發明之黏著劑層與本發明之基材之間之密接性提高，可獲得優異之耐熱衝擊性。
作為上述液狀之防靜電劑，只要為於室溫(例如25℃)下呈液狀之防靜電劑，則無特別限定，例如可例舉：離子液體、鹼金屬鹽、含離子性基之聚矽氧等。就以下方面而言較佳為離子液體：能夠於不損及本發明之黏著劑層之黏著特性之情況下對本發明之黏著劑層賦予優異之防靜電效果，因此本發明之黏著劑層與本發明之基材之間之密接性提高，可獲得優異之耐熱衝擊性。再者，液狀之防靜電劑可單獨使用或組合2種以上使用。
上述離子液體係於室溫(25℃)下呈液狀之熔鹽(離子性化合物)。離子液體考慮如下者：能夠容易地添加及分散或溶解於本發明之黏著劑層中，分子移動容易，可於不損及黏著特性之情況下獲得優異之防靜電能力。
作為上述離子液體，可較佳地使用包含下述式(A)～(E)所表示之有機陽離子成分及陰離子成分者。藉由該等具有陽離子之離子液體，可獲得防靜電能力更優異之黏著劑層。
[化5]
上述式(A)中之R a表示碳數4至20之二價烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子(例如氧原子、氮原子、硫原子等。以下同樣)取代之官能基，R b及R c相同或不同，表示氫或碳數1至16之烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子取代之官能基。但於氮原子(N)含有雙鍵之情形時不存在R c。
上述式(B)中之R d表示碳數2至20之二價烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子取代之官能基，R e、R f、及R g相同或不同，表示氫或碳數1至16之烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子取代之官能基。
上述式(C)中之R h表示碳數2至20之二價烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子取代之官能基，R i、R j、及R k相同或不同，表示氫或碳數1至16之烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子取代之官能基。
上述式(D)中之Z表示氮、硫、或磷原子，R l、R m、R n、及R o相同或不同，表示碳數1至20之烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子取代之官能基。但於Z為硫原子之情形時不存在R o。
上述式(E)中之R P表示碳數1至18之烴基，可為上述烴基之一部分經雜原子取代之官能基。
作為式(A)所表示之陽離子，例如可例舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、嗎啉鎓陽離子等。
作為式(A)所表示之陽離子之具體例，例如可例舉：1-乙基吡啶鎓陽離子、1-丁基吡啶鎓陽離子、1-己基吡啶鎓陽離子、1-丁基-3-甲基吡啶鎓陽離子、1-丁基-4-甲基吡啶鎓陽離子、1-己基-3-甲基吡啶鎓陽離子、1-丁基-3,4-二甲基吡啶鎓陽離子、1,1-二甲基吡咯啶鎓陽離子、1-乙基-1-甲基吡咯啶鎓陽離子、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓陽離子、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓陽離子、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓陽離子、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓陽離子、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓陽離子、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓陽離子、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓陽離子、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓陽離子、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓陽離子、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓陽離子、1,1-二丙基吡咯啶鎓陽離子、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓陽離子、1,1-二丁基吡咯啶鎓陽離子、吡咯啶鎓-2-酮陽離子、1-丙基哌啶鎓陽離子、1-戊基哌啶鎓陽離子、1,1-二甲基哌啶鎓陽離子、1-甲基-1-乙基哌啶鎓陽離子、1-甲基-1-丙基哌啶鎓陽離子、1-甲基-1-丁基哌啶鎓陽離子、1-甲基-1-戊基哌啶鎓陽離子、1-甲基-1-己基哌啶鎓陽離子、1-甲基-1-庚基哌啶鎓陽離子、1-乙基-1-丙基哌啶鎓陽離子、1-乙基-1-丁基哌啶鎓陽離子、1-乙基-1-戊基哌啶鎓陽離子、1-乙基-1-己基哌啶鎓陽離子、1-乙基-1-庚基哌啶鎓陽離子、1,1-二丙基哌啶鎓陽離子、1-丙基-1-丁基哌啶鎓陽離子、1,1-二丁基哌啶鎓陽離子、2-甲基-1-吡咯啉陽離子、1-乙基-2-苯基吲哚陽離子、1,2-二甲基吲哚陽離子、1-乙基咔唑陽離子、N-乙基-N-甲基嗎啉鎓陽離子等。
作為式(B)所表示之陽離子，例如可例舉：咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子等。
作為式(B)所表示之陽離子之具體例，例如可例舉：1,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1,3-二乙基咪唑鎓陽離子、1-乙基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-丁基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-己基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-辛基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-癸基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-十二烷基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-十四烷基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓陽離子、1-乙基-2,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1-丁基-2,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1-(2-甲氧基乙基)-3-甲基咪唑鎓陽離子、1,3-二甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3-三甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4-四甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,5-四甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,3-二甲基-1,4-二氫嘧啶鎓陽離子、1,3-二甲基-1,6-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3-三甲基-1,4-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3-三甲基-1,6-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4-四甲基-1,4-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4-四甲基-1,6-二氫嘧啶鎓陽離子等。
作為式(C)所表示之陽離子，例如可例舉：吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子等。
作為式(C)所表示之陽離子之具體例，例如可例舉：1-甲基吡唑鎓陽離子、3-甲基吡唑鎓陽離子、1-乙基-2-甲基吡唑啉鎓陽離子、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓陽離子、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓陽離子、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑鎓陽離子、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓陽離子、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓陽離子、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓陽離子等。
作為式(D)所表示之陽離子，例如可例舉：四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子或者上述烷基之一部分被取代為烯基或烷氧基、進而環氧基而成者等。
作為式(D)所表示之陽離子之具體例，例如可例舉：四甲基銨陽離子、四乙基銨陽離子、四丁基銨陽離子、四戊基銨陽離子、四己基銨陽離子、四庚基銨陽離子、三乙基甲基銨陽離子、三丁基乙基銨陽離子、三甲基癸基銨陽離子、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨陽離子、縮水甘油基三甲基銨陽離子、三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子、四辛基鏻陽離子、三乙基甲基鏻陽離子、三丁基乙基鏻陽離子、三甲基癸基鏻陽離子、二烯丙基二甲基銨陽離子、三丁基-(2-甲氧基乙基)鏻陽離子等。其中，可較佳地使用：三乙基甲基銨陽離子、三丁基乙基銨陽離子、三甲基癸基銨陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、三乙基甲基鏻陽離子、三丁基乙基鏻陽離子、三甲基癸基鏻陽離子等非對稱之四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子、或N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨陽離子、縮水甘油基三甲基銨陽離子、二烯丙基二甲基銨陽離子、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨陽離子、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨陽離子、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨陽離子、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨陽離子、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨陽離子、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨陽離子、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨陽離子、N,N-二乙基-N-丙基-N-丁基銨陽離子、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨陽離子、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨陽離子、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨陽離子、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨陽離子、N,N-二乙基-N-丁基-N-庚基銨陽離子、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨陽離子、N,N-二甲基-N,N-二己基銨陽離子、三甲基庚基銨陽離子、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨陽離子、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨陽離子、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨陽離子、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨陽離子、三乙基丙基銨陽離子、三乙基戊基銨陽離子、三乙基庚基銨陽離子、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨陽離子、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨陽離子、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨陽離子、N,N-二丙基-N,N-二己基銨陽離子、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨陽離子、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨陽離子、三辛基甲基銨陽離子、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨陽離子。
作為式(E)所表示之陽離子，例如可例舉：鋶陽離子等。又，作為上述式(E)中之R P之具體例，可例舉：甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十八烷基等。
另一方面，作為陰離子成分，只要滿足成為離子液體，則無特別限定，例如可使用：Cl -、Br -、I -、AlCl 4 -、Al 2Cl 7 -、BF 4 -、PF 6 -、ClO 4 -、NO 3 -、CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、C 4F 9SO 3 -、(CF 3SO 2) 2N -、(C 2F 5SO 2) 2N -、(C 3F 7SO 2) 2N -、(C 4F 9SO 2) 2N -、(CF 3SO 2) 3C -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、F(HF) n -、(CN) 2N -、C 4F 9SO 3 -、(C 2F 5SO 2) 2N -、C 3F 7COO -、(CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、C 9H 19COO -、(CH 3) 2PO 4 -、(C 2H 5) 2PO 4 -、C 2H 5OSO 3 -、C 6H 13OSO 3 -、C 8H 17OSO 3 -、CH 3(OC 2H 4) 2OSO 3 -、C 6H 4(CH 3)SO 3 -、(C 2F 5) 3PF 3 -、CH 3CH(OH)COO -、及(FSO 2) 2N -等。
又，作為陰離子成分，亦可使用下述式(F)所表示之陰離子等。 [化6]
作為陰離子成分，其中就可獲得低熔點之離子液體之方面而言，尤其可較佳地使用含有氟原子之陰離子成分。 上述離子液體較佳為包含氟原子數為10個以下之陰離子成分。上述離子液體包含氟原子數為10個以下之陰離子成分之構成就上述離子液體相對於本發明之黏著劑層之相容性提高，能夠抑制離子液體自黏著劑層分離所引起之霧度之上升，而能夠提高圖像顯示裝置之視認性之方面而言較佳。就上述離子液體相對於本發明之黏著劑層之相容性提高，抑制黏著劑層之霧度之上升之觀點而言，上述離子液體之陰離子成分所含之氟原子數更佳為8個以下，進而較佳為6個。上述離子液體之陰離子成分所含之氟原子數之下限值就可獲得低熔點之離子液體之方面而言，較佳為4個以上。
作為本發明所使用之離子液體之具體例，可自上述陽離子成分與陰離子成分之組合中適當選擇而使用，例如可例舉：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1,1-二甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、2-甲基-1-吡咯啉四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(九氟丁基磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-己基-3-甲基咪唑鎓溴化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓氯化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、2-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑啉鎓雙(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、三氟甲磺酸四戊基銨、四戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺酸四己基銨、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺酸四庚基銨、四庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四氟硼酸二烯丙基二甲基銨、三氟甲磺酸二烯丙基二甲基銨、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟甲磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺酸縮水甘油基三甲基銨、縮水甘油基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺酸四辛基鏻鹽、四辛基鏻雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N-乙基-N-甲基嗎啉鎓硫氰酸鹽、4-乙基-4-甲基嗎啉鎓甲基碳酸鹽等。上述離子液體可單獨使用，或可將2種以上混合使用。
本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之液狀防靜電劑之含量並無特別限定，就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠高效地抑制產生靜電之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.5重量份以上，更佳為1重量份以上，進而較佳為1.5重量份以上。又，液狀之防靜電劑之含量之上限並無特別限定，就圖像顯示裝置之視認性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為20重量份以下，更佳為15重量份以下。
上述丙烯酸系黏著劑組合物較佳為含有上述丙烯酸系聚合物、及重量平均分子量為1000～30000之丙烯酸系低聚物。若含有丙烯酸系低聚物，則本發明之光學用黏著片材中之界面中對被附體之接著性提高，因此容易獲得強接著性，又，容易獲得優異之耐發泡剝落性。再者，於本說明書中，存在將「重量平均分子量為1000～30000之丙烯酸系低聚物」簡稱為「丙烯酸系低聚物」之情形。
作為上述丙烯酸系低聚物，可較佳地例舉以分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯作為必需之單體成分所構成之丙烯酸系聚合物，可更佳地例舉以分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為必需之單體成分所構成之丙烯酸系聚合物。即，作為上述丙烯酸系低聚物，可較佳地例舉含有分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物，可更佳地例舉含有分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。
上述分子內(1分子內)具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯(以下有時稱為「含有環之(甲基)丙烯酸酯」)之環狀結構(環)可為芳香族性環、非芳香族性環之任一者，並無特別限定。作為上述芳香族性環，例如可例舉：芳香族性碳環[例如苯環等單環碳環、或萘環等縮合碳環等]、各種芳香族性雜環等。作為上述非芳香族性環，例如可例舉：非芳香族性脂肪族環(非芳香族性脂環式環)[例如環戊烷環、環己烷環、環庚烷環、環辛烷環等環烷烴環；環己烯環等環烯烴環等]、非芳香族性橋接環[例如蒎烷、蒎烯、𦯉烷、降𦯉烷、降𦯉烯等中之二環式烴環；金剛烷等中之三環以上之脂肪族烴環(橋接式烴環)等]、非芳香族性雜環[例如環氧環、氧雜環戊烷環、氧雜環丁烷環等]等。
作為上述三環以上之脂肪族烴環(三環以上之橋接式烴環)，例如可例舉：下述式(5a)所表示之二環戊基、下述式(5b)所表示之二環戊烯基、下述式(5c)所表示之金剛烷基、下述式(5d)所表示之三環戊基、下述式(5e)所表示之三環戊烯基等。 [化7]
即，作為上述含有環之(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯、(甲基)丙烯酸環辛酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯；(甲基)丙烯酸異𦯉基酯等具有二環式之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三環戊酯、(甲基)丙烯酸1-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯等具有三環以上之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等(甲基)丙烯酸芳氧基烷基酯、(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳基烷基酯等具有芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯等。其中，作為上述含有環之(甲基)丙烯酸酯，尤其是較佳為含有非芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯，更佳為丙烯酸環己酯(CHA)、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)、丙烯酸二環戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)，進而較佳為丙烯酸二環戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)。再者，含有環之(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或組合2種以上而使用。
於上述含有非芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯中，於使用具有三環以上之脂肪族烴環(尤其是三環以上之橋接式烴環)之(甲基)丙烯酸酯之情形時，尤其是就不易發生聚合抑制之方面而言較佳。又，於使用具有不含不飽和鍵之上述式(5a)所表示之二環戊基、上述式(5c)所表示之金剛烷基、上述式(5d)所表示之三環戊基的(甲基)丙烯酸酯之情形時，能夠進一步提高耐發泡剝落性，進而，能夠顯著地提高對聚乙烯或聚丙烯等低極性之被附體之接著性。
丙烯酸系低聚物之全部單體單元(構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量)中之上述含有環之(甲基)丙烯酸酯之含量(比率)並無特別限定，相對於構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量(100重量份)，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份。若上述含有環之(甲基)丙烯酸酯之含量為10重量份以上，則耐發泡剝落性容易提高而較佳。又，若含量為90重量份以下，則黏著劑層具有適度之柔軟性，黏著力或階差吸收性等容易提高而較佳。
又，關於作為丙烯酸系低聚物之單體單元之上述具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等烷基之碳數為1～20之(甲基)丙烯酸烷基酯等。其中，就與丙烯酸系聚合物之相容性變得良好之方面而言，較佳為甲基丙烯酸甲酯(MMA)。再者，上述(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或組合2種以上而使用。
丙烯酸系低聚物之全部單體單元(構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量)中之上述具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量(比率)並無特別限定，就耐發泡剝落性之方面而言，相對於構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量(100重量份)，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份，進而較佳為20～60重量份。若含量為10重量份以上，則尤其是對丙烯酸系樹脂或聚碳酸酯製之被附體之黏著力容易提高而較佳。
作為丙烯酸系低聚物之單體單元，除了上述含有環之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯以外，亦可包含能夠與該等單體共聚合之單體(共聚合性單體)。再者，丙烯酸系低聚物之全部單體單元(構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量)中之上述共聚合性單體之含量(比率)並無特別限定，相對於構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量(100重量份)，較佳為49.9重量份以下(例如0～49.9重量份)，更佳為30重量份以下。又，共聚合性單體可單獨使用或組合2種以上而使用。
關於作為丙烯酸系低聚物之單體單元之上述共聚合性單體(構成丙烯酸系低聚物之上述共聚合性單體)，例如可例舉：(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯[例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等]；含有羥基(hydroxyl)之單體[例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁基、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、乙烯醇、烯丙醇等]；含醯胺基之單體[例如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺等]；含胺基之單體[例如(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等]；含氰基之單體[例如丙烯腈、甲基丙烯腈等]；含磺酸基之單體[例如乙烯基磺酸鈉等]；含磷酸基之單體[例如2-羥基乙基丙烯醯基磷酸酯等]；含異氰酸酯基之單體[例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等]、含醯亞胺基之單體[環己基馬來醯亞胺、異丙基馬來醯亞胺等]等。
如上所述，丙烯酸系低聚物較佳為含有分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。其中，較佳為包含含有環之(甲基)丙烯酸酯、及上述具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。於上述包含含有環之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物中，相對於構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量(100重量份)之含有環之(甲基)丙烯酸酯之量並無特別限定，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份。又，具有直鏈或支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量並無特別限定，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份，進而較佳為20～60重量份。
進而，作為丙烯酸系低聚物之尤佳之具體構成，可例舉作為單體單元而包含(1)選自由丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸二環戊酯、丙烯酸環己酯、及甲基丙烯酸環己酯所組成之群中之至少1種單體、以及(2)甲基丙烯酸甲酯之丙烯酸系聚合物。上述尤佳之具體構成之丙烯酸系低聚物中的丙烯酸系低聚物之全部單體單元中之(1)丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸二環戊酯、丙烯酸環己酯、及甲基丙烯酸環己酯之含量(於包含2種以上之情形時為該等之合計量)相對於構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量(100重量份)，較佳為30～70重量份，(2)甲基丙烯酸甲酯之含量較佳為30～70重量份。但上述丙烯酸系低聚物並不限定於上述具體構成。
丙烯酸系低聚物可藉由利用公知或慣用之聚合方法使上述單體成分聚合而獲得。作為上述丙烯酸系低聚物之聚合方法，例如可例舉：溶液聚合方法、乳化聚合方法、塊狀聚合方法、利用活性能量線照射之聚合方法(活性能量線聚合方法)等。其中，較佳為塊狀聚合方法、溶液聚合方法，更佳為溶液聚合方法。
於丙烯酸系低聚物之聚合時，可使用各種通常之溶劑。作為上述溶劑，例如可例舉：乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；甲苯、苯等芳香族烴類；正己烷、正庚烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷等脂環式烴類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等有機溶劑。再者，此種溶劑可單獨使用或組合2種以上而使用。
進而，於丙烯酸系低聚物之聚合時，可使用公知或慣用之聚合起始劑(例如熱聚合起始劑或光聚合起始劑等)。再者，聚合起始劑可單獨使用或組合2種以上而使用。
作為熱聚合起始劑，例如可例舉：2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN)、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈(AMBN)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸、2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、1,1'-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2'-偶氮雙(2,4,4-三甲基戊烷)等偶氮系起始劑；過氧化苯甲醯、第三丁基過氧化氫、過氧化二第三丁基、過氧化苯甲酸第三丁酯、過氧化二異丙苯、1,1-雙(第三丁基過氧基)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙(第三丁基過氧基)環十二烷等過氧化物系起始劑等。再者，於進行溶液聚合之情形時，較佳為使用油溶性之聚合起始劑。又，熱聚合起始劑可單獨使用或組合2種以上而使用。
作為上述熱聚合起始劑之使用量，並無特別限定，例如相對於丙烯酸系低聚物之全部單體單元(構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量)100重量份，為0.1～15重量份。
又，作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，例如可例舉與上述所例舉之丙烯酸系聚合物之聚合時所使用之光聚合起始劑相同之光聚合起始劑。上述光聚合起始劑之使用量並無特別限定，可適當選擇。
於上述丙烯酸系低聚物之聚合時，為了調整分子量(具體而言，為了將重量平均分子量調整為1000～30000)，可使用鏈轉移劑。作為上述鏈轉移劑，例如可例舉：2-巰基乙醇、α-硫甘油、2,3-二巰基-1-丙醇、辛基硫醇、第三壬基硫醇、十二硫醇(月桂硫醇)、第三-十二硫醇、縮水甘油基硫醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸甲酯、硫代乙醇酸乙酯、硫代乙醇酸丙酯、硫代乙醇酸丁酯、硫代乙醇酸第三丁酯、硫代乙醇酸2-乙基己酯、硫代乙醇酸辛酯、硫代乙醇酸異辛酯、硫代乙醇酸癸酯、硫代乙醇酸十二烷基酯、乙二醇之硫代乙醇酸酯、新戊二醇之硫代乙醇酸酯、季戊四醇之硫代乙醇酸酯、α-甲基苯乙烯二聚物等。其中，就抑制加濕引起之本發明之光學用黏著片材之白化的觀點而言，較佳為α-硫甘油、硫代乙醇酸甲酯，尤佳為α-硫甘油。再者，鏈轉移劑可單獨使用或組合2種以上而使用。
上述鏈轉移劑之含量(使用量)並無特別限定，相對於丙烯酸系低聚物之全部單體單元(構成丙烯酸系低聚物之單體成分總量)100重量份，較佳為0.1～20重量份，更佳為0.2～15重量份，進而較佳為0.3～10重量份。藉由將鏈轉移劑之含量(使用量)設為上述範圍，可容易地獲得將重量平均分子量控制為1000～30000之丙烯酸系低聚物。
上述丙烯酸系低聚物之重量平均分子量(Mw)為1000～30000，較佳為1000～20000，更佳為1500～10000，進而較佳為2000～8000。由於丙烯酸系低聚物之重量平均分子量為1000以上，故而黏著力或保持特性提高，耐發泡剝落性提高。另一方面，丙烯酸系低聚物之重量平均分子量為30000以下，因此容易提高黏著力，耐發泡剝落性提高。
上述丙烯酸系低聚物之重量平均分子量(Mw)可藉由GPC法並進行聚苯乙烯換算而求出。例如可使用Tosoh股份有限公司製造之高速GPC裝置「HPLC-8120GPC」，藉由下述條件進行測定。 管柱：TSKgel SuperHZM-H/HZ4000/HZ3000/HZ2000 溶劑：四氫呋喃 流速：0.6 ml/分鐘
上述丙烯酸系低聚物之玻璃轉移溫度(Tg)並無特別限定，較佳為20～300℃，更佳為30～300℃，進而較佳為40～300℃。若丙烯酸系低聚物之玻璃轉移溫度為20℃以上，則耐發泡剝落性容易提高而較佳。又，若丙烯酸系低聚物之玻璃轉移溫度為300℃以下，則黏著劑層具有適度之柔軟性，容易獲得良好之黏著力或良好之階差吸收性，容易獲得優異之接著可靠性，因此較佳。
上述丙烯酸系低聚物之玻璃轉移溫度(Tg)係以上述FOX之式表示之玻璃轉移溫度(理論值)。 作為上述構成丙烯酸系低聚物之單體之均聚物之Tg，可採用下述表1所記載之值。又，作為表1中未記載之單體之均聚物之Tg，可採用「Polymer Handbook」(第三版，John Wiley & Sons, Inc，1989年)所記載之數值。進而，作為上述文獻中亦未記載之單體之均聚物之Tg，可採用藉由上述測定方法所獲得之值(藉由黏彈性試驗獲得之tanδ之峰頂溫度)。
[表1]
表1
   組成 Tg[℃]
均聚物 甲基丙烯酸甲酯(MMA) 105
甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA) 175
丙烯酸二環戊酯(DCPA) 120
甲基丙烯酸異𦯉基酯(IBXMA) 173
丙烯酸異𦯉基酯(IBXA) 97
甲基丙烯酸環己酯(CHMA) 66
甲基丙烯酸1-金剛烷基酯(ADMA) 250
丙烯酸1-金剛烷基酯(ADA) 153
共聚物 DCPMA/MMA＝60/40 144
再者，表1中之「DCPMA/MMA＝60/40」之共聚物意指DCPMA 60重量份與MMA 40重量份之共聚物。
上述丙烯酸系黏著劑組合物含有丙烯酸系聚合物及丙烯酸系低聚物之情形時之丙烯酸系低聚物之含量並無特別限定，相對於上述丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為1～30重量份，更佳為2～20重量份，進而較佳為2～10重量份。即，上述黏著劑組合物中之丙烯酸系低聚物之含量並無特別限定，相對於上述丙烯酸系聚合物之全部單體單元100重量份，較佳為1～30重量份，更佳為2～20重量份，進而較佳為2～10重量份。上述丙烯酸系黏著劑組合物中之丙烯酸系低聚物之含量並無特別限定，例如相對於上述單體混合物100重量份，較佳為1～30重量份，更佳為2～20重量份，進而較佳為2～10重量份。若丙烯酸系低聚物之含量為1重量份以上，則容易獲得優異之接著性及優異之耐發泡剝落性而較佳。又，若丙烯酸系低聚物之含量為30重量份以下，則容易獲得優異之透明性及接著可靠性而較佳。又，就容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，丙烯酸系低聚物之含量較佳為10重量份以下，更佳為8重量份以下。
作為含有丙烯酸系聚合物及丙烯酸系低聚物之上述黏著劑組合物之製作方法，並無特別限定。例如視需要於構成丙烯酸系聚合物之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物之單體成分之混合物的部分聚合物(形成丙烯酸系聚合物之單體混合物或其部分聚合物)中添加丙烯酸系低聚物、添加劑等並加以混合，經此製作。
本發明之黏著劑層並無特別限定，較佳為含有紫外線吸收劑(UVA)。若本發明之黏著劑層含有紫外線吸收劑，則就能夠抑制紫外線引起之圖像顯示面板之損害之方面而言較佳。再者，紫外線吸收劑可單獨使用或組合2種以上使用。
作為上述紫外線吸收劑，並無特別限定，例如可例舉：苯并三唑系紫外線吸收劑、羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑等。
作為苯并三唑系紫外線吸收劑(苯并三唑系化合物)，例如可例舉：2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(商品名「TINUVIN PS」，BASF公司製造)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(商品名「TINUVIN 384-2」，BASF公司製造)、3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸辛酯及3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2イル)苯基]丙酸2-乙基己酯之混合物(商品名「TINUVIN 109」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 900」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 928」，BASF製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯/聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 1130」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-對甲酚(商品名「TINUVIN P」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 234」，BASF公司製造)、2-[5-氯-2H-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 326」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二-第三戊基苯酚(商品名「TINUVIN 328」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 329」，BASF公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚](商品名「TINUVIN 360」，BASF公司製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 213」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚(商品名「TINUVIN 571」，BASF公司製造)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(商品名「Sumisorb 250」，住友化學股份有限公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-第三辛基苯酚](商品名「Adekastab LA-31」，ADEKA股份有限公司製造)等。
作為羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑(羥苯基三𠯤系化合物)，例如可例舉：2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-羥基苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷氧基)甲基]環氧乙烷之反應產物(商品名「TINUVIN 400」，BASF公司製造)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基]-5-[3-(十二烷氧基)-2-羥基丙氧基]苯酚)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤與縮水甘油酸(2-乙基己基)酯之反應產物(商品名「TINUVIN 405」，BASF公司製造)、2,4-雙(2-羥基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 460」，BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[(己基)氧基]-苯酚(商品名「TINUVIN 1577」，BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]-苯酚(商品名「Adekastab LA-46」，ADEKA股份有限公司製造)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 479」，BASF公司製造)等。除此以外，可例舉下述式(6)所表示之化合物(商品名「TINUVIN 477」，BASF公司製造)。 [化8]
作為二苯甲酮系紫外線吸收劑(二苯甲酮系化合物)、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑(氧基二苯甲酮系化合物)，例如可例舉：2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸(酸酐及三水合物)、2-羥基-4-辛基氧基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羥基二苯甲酮、4-苄氧基-2-羥基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮(商品名「KEMISORB 111」，Chemipro Kasei股份有限公司製造)、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮(商品名「SEESORB 106」，Shipro Kasei股份有限公司製造)、2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮等。
作為水楊酸酯系紫外線吸收劑(水楊酸酯系化合物)，例如可例舉：2-丙烯醯氧基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-3-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-4-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-5-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-3-甲氧基苯甲酸苯酯、2-羥基苯甲酸苯酯、2-羥基-3-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-4-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-5-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-3-甲氧基苯甲酸苯酯、3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸2,4-二-第三丁基苯酯(商品名「TINUVIN 120」，BASF公司製造)等。
作為氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑(氰基丙烯酸酯系化合物)，例如可例舉：2-氰基丙烯酸烷基酯、2-氰基丙烯酸環烷基酯、2-氰基丙烯酸烷氧基烷基酯、2-氰基丙烯酸烯基酯、2-氰基丙烯酸炔基酯等。
作為上述紫外線吸收劑，就具有較高之紫外線吸收性並且進一步提高耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方式、容易獲得具有優異之光學特性、較高之透明性之黏著劑層之方面、具有優異之光穩定性之方面而言，較佳為選自由苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、及羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑，更佳為苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑。尤佳為具有碳數為6以上之基及羥基作為取代基之苯基鍵結於構成苯并三唑環之氮原子之苯并三唑系紫外線吸收劑。
又，上述紫外線吸收劑就獲得更高之紫外線吸收性、進一步提高耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方面而言，較佳為下述所求出之吸光度A為0.5以下。 吸光度A：對上述紫外線吸收劑之0.08%甲苯溶液照射波長400 nm之光所測定之吸光度
於本發明之黏著劑層含有紫外線吸收劑之情形時，本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之上述紫外線吸收劑之含量並無特別限定，就進一步提高耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.01重量份以上，更佳為0.05重量份以上，進而較佳為0.1重量份以上。又，上述紫外線吸收劑之含量之上限就抑制紫外線吸收劑之添加所伴隨之黏著劑之黃色化現象的產生而獲得優異之光學特性、較高之透明性、及優異之外觀特性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為10重量份以下，更佳為9重量份以下，進而較佳為8重量份以下。
本發明之黏著劑層可含有光穩定劑。於本發明之黏著劑層含有光穩定劑之情形時，尤佳為含有上述紫外線吸收劑及光穩定劑。光穩定劑能夠捕捉光氧化所生成之自由基，因此能夠提高黏著劑層對光(尤其是紫外線)之耐性。再者，光穩定劑可單獨使用或組合2種以上使用。
作為上述光穩定劑，並無特別限定，例如可例舉：酚系光穩定劑(酚系化合物)、磷系光穩定劑(磷系化合物)、硫醚系光穩定劑(硫醚系化合物)、胺系光穩定劑(胺系化合物)(尤其是受阻胺系光穩定劑(受阻胺系化合物))等。
作為上述酚系光穩定劑(酚系化合物)，例如可例舉：2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、4-羥基甲基-2,6-二-第三丁基苯酚、2,6-二-第三丁基-4-乙基苯酚、丁基化羥基大茴香醚、3-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯基)丙酸正十八烷基酯、(4-羥基-3-甲基-5-第三丁基)苄基丙二酸二硬脂酯、生育酚、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-乙基-6-第三丁基苯酚)、4,4'-亞甲基雙(2,6-二-第三丁基苯酚)、4,4'-亞丁基雙(6-第三丁基-間甲酚)、4,4'-硫代雙(6-第三丁基-間甲酚)、苯乙烯酚、N,N'-六亞甲基雙(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯丙醯胺、雙(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基膦酸乙酯)鈣、1,1,3-三(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)丁烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯、四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基甲基]甲烷、1,6-己二醇-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-環己基苯酚)、2,2'-亞甲基雙[6-(1-甲基環己基)-對甲酚]、1,3,5-三(4-第三丁基-3-羥基-2,6-二甲基苄基)異三聚氰酸、1,3,5-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)異三聚氰酸、三乙二醇-雙[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯]、2,2'-草醯胺雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸乙酯]、6-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯胺基)-2,4-二辛基硫基-1,3,5-三𠯤、對苯二甲酸雙[2-第三丁基-4-甲基-6-(2-羥基-3-第三丁基-5-甲基苄基)苯基]酯、3,9-雙{2-[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷、3,9-雙{2-[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷等。
作為磷系光穩定劑(磷系化合物)，例如可例舉：亞磷酸三(壬基苯酯)、亞磷酸三(2,4-二-第三丁基苯基)酯、亞磷酸三[2-第三丁基-4-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基硫基)-5-甲基苯基]酯、亞磷酸十三烷基酯、亞磷酸辛酯二苯酯、亞磷酸二(癸酯)單苯酯、二(十三烷基)季戊四醇二亞磷酸酯、二硬脂基季戊四醇二亞磷酸酯、二(壬基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4-二-第三丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4,6-三-第三丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、四(十三烷基)異亞丙基二苯酚二亞磷酸酯、四(十三烷基)-4,4'-亞正丁基雙(2-第三丁基-5-甲基苯酚)二亞磷酸酯、六(十三烷基)-1,1,3-三(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)丁烷三亞磷酸酯、四(2,4-二-第三丁基苯基)伸聯苯基二亞膦酸二酯、9,10-二氫-9-氧雜-10-磷雜菲-10-氧化物、三(2-[(2,4,8,10-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜環庚烯-6-基)氧基]乙基)胺等。
作為硫醚系光穩定劑(硫醚系化合物)，例如可例舉：硫代二丙酸二月桂酯、二肉豆蔻酯、二硬脂酯等二烷基硫代二丙酸酯化合物；四[亞甲基(3-十二烷基硫基)丙酸酯]甲烷等多元醇之β-烷基巰基丙酸酯化合物等。
作為胺系光穩定劑(胺系化合物)，例如可例舉：琥珀酸二甲酯及4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物(商品名「TINUVIN 622」，BASF公司製造)、琥珀酸二甲酯及4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物與N,N',N'',N'''-四-(4,6-雙-(丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)胺基)-三𠯤-2-基)-4,7-二氮雜癸烷-1,10-二胺之一比一反應產物(商品名「TINUVIN 119」，BASF公司製造)、二丁基胺-1,3-三𠯤-N,N'-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-1,6-六亞甲基二胺與N-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)丁基胺之縮聚物(商品名「TINUVIN 2020」，BASF公司製造)、聚[{6-(1,1,3,3-四甲基丁基)胺基-1,3,5-三𠯤-2-4-二基}{2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基}亞胺基]六亞甲基{(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺基}(商品名「TINUVIN 944」，BASF公司製造)、癸二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯及癸二酸甲酯1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基酯之混合物(商品名「TINUVIN 765」，BASF公司製造)、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯(商品名「TINUVIN 770」，BASF公司製造)、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-1-(辛氧基)-4-哌啶基)酯、1,1-二甲基乙基氫過氧化物與辛烷之反應產物(商品名「TINUVIN 123」，BASF公司製造)、[[3,5-雙(1,1-二甲基乙基)-4-羥基苯基]甲基]丁基丙二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯(商品名「TINUVIN 144」，BASF公司製造)、環己烷及過氧化物N-丁基2,2,6,6-四甲基-4-哌啶胺-2,4,6-三氯-1,3,5-三𠯤之反應產物與2-胺基乙醇之反應產物(商品名「TINUVIN 152」，BASF公司製造)、癸二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯及癸二酸甲酯1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基酯之混合物(商品名「TINUVIN 292」，BASF公司製造)、1,2,3,4-丁烷四羧酸與1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶醇及3,9-雙(2-羥基-1,1-二甲基乙基)-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷之混合酯化物(商品名「Adekastab LA-63P」，ADEKA股份有限公司製造)等。作為胺系穩定劑，尤佳為受阻胺系穩定劑。
於本發明之黏著劑層含有光穩定劑之情形時，本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之光穩定劑之含量並無特別限定，就容易表現出對光之耐性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.1重量份以上，更佳為0.2重量份以上。又，上述含量之上限就不易產生光穩定劑自身引起之著色而容易獲得較高之透明性之方面、光學特性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為5重量份以下，更佳為3重量份以下。
本發明之黏著劑層之形成並無特別限定，可使用交聯劑。例如可使丙烯酸系黏著劑層中之丙烯酸系聚合物交聯並控制凝膠分率。再者，交聯劑可單獨使用或組合2種以上使用。
作為上述交聯劑，並無特別限定，例如可例舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑、脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、胺系交聯劑等。其中，較佳為異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑，更佳為異氰酸酯系交聯劑。
作為上述異氰酸酯系交聯劑(多官能異氰酸酯化合物)，例如可例舉：1,2-伸乙基二異氰酸酯、1,4-伸丁基二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯等脂環族聚異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯類等。又，作為上述異氰酸酯系交聯劑，例如亦可列舉：三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯加成物(商品名「Coronate L」，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯加成物(商品名「Coronate HL」，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、三羥甲基丙烷/苯二甲基二異氰酸酯加成物(商品名「Takenate D-110 N」，三井化學股份有限公司製造)等市售品。
作為上述環氧系交聯劑(多官能環氧化合物)，例如可例舉：N,N,N',N'-四縮水甘油基-間苯二甲胺、二縮水甘油基苯胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷、1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、山梨醇聚縮水甘油醚、甘油聚縮水甘油醚、季戊四醇聚縮水甘油醚、聚甘油聚縮水甘油醚、山梨醇酐聚縮水甘油醚、三羥甲基丙烷聚縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、三縮水甘油基-三(2-羥基乙基)異氰尿酸酯、間苯二酚二縮水甘油醚、雙酚-S-二縮水甘油醚，除此以外，可例舉分子內具有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。又，作為上述環氧系交聯劑，例如亦可列舉：商品名「Tetrad C」(Mitsubishi Gas Chemical股份有限公司製造)等市售品。
於本發明之黏著劑層之形成使用交聯劑之情形時，上述交聯劑之使用量並無特別限定，就獲得充分之接著可靠性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.001重量份以上，更佳為0.01重量份以上。又，上述使用量之上限就於黏著劑層中獲得適度之柔軟性而提高黏著力之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是階差吸收性)控制為特定之範圍之觀點而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為10重量份以下，更佳為5重量份以下。
本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)就提高加濕條件下之接著可靠性之方面、尤其是提高對玻璃之接著可靠性之方面而言，可含有矽烷偶合劑。再者，矽烷偶合劑可單獨使用或組合2種以上使用。若上述黏著劑層含有矽烷偶合劑，則能夠提高加濕條件下之接著性、尤其是對玻璃之接著性。
作為上述矽烷偶合劑，並無特別限定，例如可例舉：γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-苯基-胺基丙基三甲氧基矽烷等。進而，作為矽烷偶合劑，例如亦可列舉：商品名「KBM-403」(信越化學工業股份有限公司製造)等市售品。其中，作為上述矽烷偶合劑，較佳為γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷。
於本發明之黏著劑層含有矽烷偶合劑之情形時，本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之上述矽烷偶合劑之含量並無特別限定，相對於上述基礎聚合物100重量份，較佳為0.01重量份以上，更佳為0.02重量份以上。又，上述矽烷偶合劑之含量之上限相對於上述基礎聚合物100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.5重量份以下。
本發明之黏著劑層可含有著色劑。再者，著色劑可單獨使用或組合2種以上使用。若上述黏著劑層含有著色劑，則就能夠防止於本發明之圖像顯示裝置之基板上所配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射之方面而言較佳。
上述著色劑只要能夠溶解或分散於本發明之黏著劑層中，則可為染料，亦可為顏料。就即便少量之添加亦能夠達成較低之霧度、如顏料般無沈澱性而容易均勻地分佈之方面而言，較佳為染料。又，就即便少量之添加色表現性亦較高之方面而言，亦較佳為顏料。於使用顏料作為著色劑之情形時，較佳為導電性較低或無導電性者。又，於使用染料之情形時，較佳為與上述光穩定劑等併用。
作為上述著色劑，只要吸收可見光(波長400～700 nm)，則可無限定地使用對紫外線(波長330～400 nm)表現出透過性者、或對紫外線表現出吸收性者，較佳為吸收可見光且具有紫外線透過性者。即，上述著色劑較佳為波長330～400 nm之透過率之最大值大於波長400～700 nm之透過率之最大值的著色劑。又，上述著色劑亦較佳為波長330～400 nm之平均透過率大於波長400～700 nm之平均透過率者。著色劑之透過率係使用以波長400 nm下之透過率成為50～60%左右之方式藉由四氫呋喃(THF)等適當之溶劑或分散介質(波長330～700 nm之範圍之吸收較小之有機溶劑)進行稀釋之溶液或分散液進行測定。
通常用作黑色著色劑之碳黑或鈦黑之紫外線之吸收大於可見光之吸收(紫外線透過率小於可見光透過率)。因此，若於活性能量線硬化型之丙烯酸系黏著劑組合物中添加碳黑等著色劑，則為了光硬化所照射之紫外線大部分被著色劑吸收，光聚合起始劑所吸收之光量較小，光硬化需要時間(累計照射光量變多)。又，於黏著劑層之厚度較大之情形時，到達光照射面之相反側之面的紫外線較少，因此即便進行長時間之光照射，亦有光硬化變得不充分之傾向。針對於此，藉由使用紫外線之透過率大於可見光之著色劑，而能夠抑制著色劑引起之硬化阻礙。
作為紫外線透過性之黑色顏料，可例舉：TOKUSHIKI製造之「9050BLACK」、「UVBK-0001」等。作為紫外線吸收性之黑色染料，可例舉：Orient Chemical Industries製造之「VALIFAST BLACK 3810」、「NUBIAN Black PA-2802」等。作為紫外線吸收性之黑色顏料，可例舉：碳黑、鈦黑等。
本發明之黏著劑層中之著色劑之含量例如相對於上述基礎聚合物100重量份，為0.01～20重量份左右，根據著色劑之種類或黏著劑層之色調及光透過率等適當設定即可。著色劑可以溶解或分散於適當之溶劑中而成之溶液或分散液之形式添加至組合物中。
本發明之黏著劑層可視需要進而於不損及本發明之效果之範圍內含有交聯促進劑、黏著賦予樹脂(松脂衍生物、聚萜烯樹脂、石油樹脂、油溶性酚等)、抗老化劑、填充劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、塑化劑、軟化劑、界面活性劑等添加劑。再者，此種添加劑可單獨使用或組合2種以上使用。
本發明之黏著劑層之霧度並無特別限定，就外觀特性、透明性、光學特性之方面而言，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.5%以下。再者，於本說明書中，黏著劑層之霧度例如可使用測霧計依照JIS K 7136進行測定。
本發明之黏著劑層之可見光線透過率並無特別限定，就外觀特性、透明性、光學特性之方面而言，較佳為90%以上，更佳為90.5%以上，進而較佳為91%以上。再者，於本說明書中，黏著劑層之可見光線透過率例如可使用測霧計依照JIS K 7361-1進行測定。再者，上述可見光線透過率為波長400～780 nm之光(可見光)之透過率。
本發明之黏著劑層之厚度並無特別限定，就獲得充分之接著可靠性之方面而言，較佳為12 μm以上，更佳為15 μm以上，進而較佳為20 μm以上，尤佳為25 μm以上。若上述厚度為12 μm以上，則就黏著劑層充分地追隨本發明之圖像顯示裝置之使用環境下之收縮或膨脹而能夠抑制隆起或剝落之方面、階差吸收性優異之方面而言較佳。又，上述厚度就光學特性之方面而言，較佳為500 μm以下，更佳為300 μm以下，進而較佳為200 μm以下。
＜光學用黏著片材之製造＞ 本發明之光學用黏著片材可藉由在本發明之基材之第一面上積層本發明之黏著劑層而製備。
於本發明之基材之第一面上積層本發明之黏著劑層之方法並無特別限定，例如可藉由如下方法進行：將上述黏著劑組合物塗佈(塗敷)於剝離襯墊上，將所獲得之黏著劑組合物層加以乾燥而使其硬化；或將上述黏著劑組合物塗佈(塗敷)於剝離襯墊上，對所獲得之黏著劑組合物層照射活性能量線而使其硬化，藉此於剝離襯墊上形成片狀之黏著劑層，並將上述黏著劑層貼合於本發明之基材之第一面上。又，可視需要進而進行加熱乾燥。 於藉由活性能量線之照射進行硬化時，較佳為於塗膜之表面進一步附設剝離襯墊，以將黏著劑組合物夾持於2片剝離襯墊間之狀態照射活性能量線，而防止氧導致之聚合抑制。
於本發明之基材之第一面上積層本發明之黏著劑層之其他方法例如亦可藉由如下方法進行：將上述黏著劑組合物塗佈(塗敷)於本發明之基材之第一面上，將所獲得之黏著劑組合物層加以乾燥而使其硬化；或將上述黏著劑組合物塗佈(塗敷)於本發明之基材之第一面上，對所獲得之黏著劑組合物層照射活性能量線而使其硬化。又，可視需要進而進行加熱乾燥。 於藉由活性能量線之照射進行硬化時，較佳為於塗膜之表面附設剝離襯墊，以將黏著劑組合物夾持於本發明之基材與剝離襯墊之間之狀態照射活性能量線，而防止氧導致之聚合抑制。
於活性能量線照射之前，以去除溶劑等為目的，亦可對片狀之塗膜進行加熱。於藉由加熱進行溶劑等之去除之情形時，較佳為於附設剝離襯墊之前實施。
作為上述活性能量線，例如可例舉：α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射或紫外線等，尤佳為紫外線。又，活性能量線之照射能量、照射時間、照射方法等並無特別限制。
上述黏著劑組合物可藉由公知或慣用之方法而製作。例如溶劑型之丙烯酸系黏著劑組合物可藉由在含有上述丙烯酸系聚合物之溶液中混合液狀之防靜電劑、及視需要之添加劑(例如紫外線吸收劑等)而製作。例如，活性能量線硬化型之丙烯酸系黏著劑組合物可藉由在上述丙烯酸系單體之混合物或其部分聚合物中混合液狀之防靜電劑、及視需要之添加劑(例如紫外線吸收劑等)而製作。
再者，上述黏著劑組合物之塗佈(塗敷)可利用公知之塗佈法。例如可使用凹版輥式塗佈機、逆輥塗佈機、接觸輥塗佈機、浸漬輥塗佈機、棒式塗佈機、刮刀塗佈機、噴霧塗佈機、缺角輪塗佈機、直接塗佈機等塗佈機。
尤其是於藉由活性能量線硬化型之黏著劑組合物形成黏著劑層之情形時，活性能量線硬化型之黏著劑組合物較佳為含有光聚合起始劑。再者，於活性能量線硬化型之黏著劑組合物含有紫外線吸收劑之情形時，較佳為作為光聚合起始劑而至少含有於較大之波長範圍內具有吸光特性之光聚合起始劑。例如，較佳為只好含有除了紫外光以外於可見光下亦具有吸光特性之光聚合起始劑。其原因在於：紫外線吸收劑之作用導致擔憂活性能量線對硬化之阻礙，但若含有於較大之波長範圍內具有吸光特性之光聚合起始劑，則於黏著劑組合物中容易獲得較高之光硬化性。
＜防靜電層＞ 於本發明之光學用黏著片材中，可於表面或任意之層間具有防靜電層。藉由本發明之光學用黏著片材具有防靜電層，就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電之方面而言較佳。上述防靜電層較佳為形成於本發明之基材與本發明之黏著劑層之間。
作為上述防靜電層，並無特別限定，例如為將含有導電性聚合物之導電塗佈液塗佈於剝離襯墊上所形成之防靜電層。具體而言，例如為將含有導電性聚合物之導電塗佈液塗佈於本發明之基材之第一面所形成之防靜電層。作為具體之塗佈之方法，可例舉：輥塗法、棒式塗佈法、凹版塗佈法等。
作為上述導電性聚合物，例如可例舉於π共軛系導電性聚合物中摻雜聚陰離子而成之導電性聚合物等。作為π共軛系導電性聚合物，可例舉：聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚乙炔等鏈狀導電性聚合物。作為聚陰離子，可例舉：聚苯乙烯磺酸、聚異戊二烯磺酸、聚乙烯基磺酸、聚烯丙基磺酸、聚丙烯酸乙基磺酸、聚甲基丙烯羧酸等。
作為上述防靜電層之厚度，較佳為1 nm～1000 nm，更佳為5 nm～900 nm。上述防靜電層可僅為1層，亦可為2層以上。
＜剝離襯墊＞ 於本發明之光學用黏著片材中，本發明之黏著劑層之表面(本發明之黏著劑層之黏著面)可於使用之前由剝離襯墊進行保護。剝離襯墊作為黏著劑層之保護材而使用，於將本發明之光學用黏著片材貼附於被附體時剝離。
作為上述剝離襯墊，可利用慣用之剝離紙等，具體而言，例如除了於至少其中一表面具有剝離處理劑形成之剝離處理層之基材以外，可使用包含氟系聚合物(例如聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、氯氟乙烯-偏二氟乙烯共聚物等)之低接著性基材、或包含無極性聚合物(例如聚乙烯、聚丙烯等烯烴系樹脂等)之低接著性基材等。
作為上述剝離襯墊，例如可適宜地使用於剝離襯墊用基材之至少其中一面形成有剝離處理層之剝離襯墊。作為此種剝離襯墊用基材，可例舉：聚酯膜(聚對苯二甲酸乙二酯膜等)、烯烴系樹脂膜(聚乙烯膜、聚丙烯膜等)、聚氯乙烯膜、聚醯亞胺膜、聚醯胺膜(尼龍膜)、嫘縈膜等塑膠系基材膜(合成樹脂膜)或紙類(高級紙、日本紙、牛皮紙、玻璃紙、合成紙、面漆紙等)，除此以外，可例舉藉由層壓或共擠出等將該等複層化而成者(2～3層之複合體)等。
作為構成上述剝離處理層之剝離處理劑，並無特別限定，例如可使用聚矽氧系剝離處理劑、氟系剝離處理劑、長鏈烷基系剝離處理劑等。剝離處理劑可單獨使用或組合2種以上而使用。
上述剝離襯墊之厚度並無特別限定，自5～100 μm之範圍中適當選擇即可。
上述剝離襯墊為了防止圖像顯示面板等被附體之破損，而可於剝離襯墊用基材之至少其中一面形成有防靜電層。防靜電層可形成於剝離襯墊之其中一面(剝離處理面或未處理面)，亦可形成於剝離襯墊之雙面(剝離處理面及未處理面)。
作為上述防靜電層，並無特別限定，例如為將含有導電性聚合物之導電塗佈液塗佈於剝離襯墊上所形成之防靜電層。具體而言，例如為將含有導電性聚合物之導電塗佈液塗佈於剝離襯墊上(剝離處理面及/或未處理面)所形成之防靜電層。作為具體之塗佈之方法，可例舉：輥塗法、棒式塗佈法、凹版塗佈法等。
作為上述導電性聚合物，可使用與構成上述構成本發明之光學用黏著片材之防靜電層的導電性聚合物相同者。
作為上述防靜電層之厚度，較佳為1 nm～1000 nm，更佳為5 nm～900 nm。上述防靜電層可僅為1層，亦可為2層以上。
＜表面保護膜＞ 於本發明之光學用黏著片材中，本發明之基材之第二面可藉由表面保護膜進行保護。上述表面保護膜於本發明之光學用黏著片材、本發明之圖像顯示裝置之製造時或搬送時用作本發明之基材之第二面之保護材。
作為上述表面保護膜之形成材料，可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降𦯉烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等之共聚物樹脂等。較佳為酯系樹脂(尤其是聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂)。
上述表面保護膜之厚度代表性而言為20 μm～250 μm，較佳為30 μm～150 μm。
上述表面保護膜經由任意合適之黏著劑以能夠剝離之方式貼合於本發明之基材之第二面。較佳為形成形成有黏著劑層之表面保護膜，並將其貼合於本發明之光學用黏著片材之本發明的基材之第二面。作為上述表面保護膜之積層所使用之黏著劑，例如可例舉如下黏著劑組合物，該黏著劑組合物以丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為基礎樹脂，並於該基礎樹脂中調配有選自異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶化合物等中之交聯劑，進而調配有矽烷偶合劑等。黏著劑層之厚度通常為1 μm～60 μm，較佳為3 μm～30 μm。若黏著劑層過薄，則有產生黏著性降低、容易混入氣泡等異常之虞，若過厚，則有產生黏著劑溢出等異常之虞。就耐化學品性、密接性等觀點而言，可較佳地使用丙烯酸系黏著劑。
＜圖像顯示裝置＞ 本發明之圖像顯示裝置具有將本發明之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成之積層構造。於圖3中，圖像顯示裝置20於光學用黏著片材10B之黏著劑層1中積層有圖像顯示面板4。
本發明之圖像顯示裝置於積層構造中具有本發明之光學用黏著片材，因此就於產生對圖像顯示面板之貼合不良之情形時，為了進行二次加工而將黏著片材自圖像顯示面板剝離時，能夠抑制產生靜電、能夠抑制圖像顯示面板之損傷之方面而言較佳。又，能夠於不損及發明之黏著劑層之黏著特性之情況下對本發明之黏著劑層賦予優異之防靜電效果，因此就本發明之黏著劑層與本發明之基材之間之密接性提高而獲得優異之耐熱衝擊性之方面而言較為適宜。又，能夠抑制使用環境下之本發明之光學用黏著片材之收縮或膨脹，能夠維持透明性不變。又，本發明之黏著劑層會充分地追隨圖像顯示裝置之收縮或膨脹，不易產生隆起或剝落。進而，於圖像顯示面板存在配線等引起之凹凸形狀之階差之情形時，本發明之黏著劑層能夠充分地追隨該階差，而於不會殘留氣泡等之情況下進行填充，即，階差吸收性優異。
作為上述圖像顯示面板，並無特別限定，例如可例舉：液晶圖像顯示面板、自發光型圖像顯示面板(例如有機EL(電致發光)圖像顯示面板、LED圖像顯示面板)等。
上述圖像顯示面板係RGB之元件交替排列所形成，為了提高對比度，較佳為利用黑矩陣(BM)填充RGB之元件間。
本發明之圖像顯示裝置可於表面或任意之層間具備本發明之光學用黏著片材及上述圖像顯示面板以外之光學構件。作為上述光學構件，並無特別限定，可例舉：偏光板、相位差板、抗反射膜、視角調整膜、光學補償膜等。再者，上述光學構件亦包括保持圖像顯示裝置或輸入裝置之視認性並且發揮加飾或保護之作用之構件(設計膜、裝飾膜或表面保護板等)。
本發明之圖像顯示裝置可藉由將上述圖像顯示面板與本發明之光學用黏著片材之黏著劑層貼合而製造。
具體而言，圖像顯示面板與本發明之光學用黏著片材之貼附可藉由於加熱及/或加壓下使其積層而實施。亦可於在加熱及/或加壓下使其積層後照射活性能量線而進行硬化。活性能量線之照射可與本發明之黏著劑層之形成同樣地進行。
＜拼接顯示器＞ 本發明之拼接顯示器係排列複數塊本發明之圖像顯示裝置所形成。於圖4中，拼接顯示器30係將9塊圖像顯示裝置20(省略積層構造之圖示)以3×3之陣列於支持基板31上以瓷磚狀排列形成，圖像顯示裝置20彼此以間隙32相接。作為上述支持基板，可使用與本發明之基材同樣之玻璃板或塑膠膜。
本發明之圖像顯示裝置之使用環境下之收縮或膨脹受到抑制，因此本發明之拼接顯示器中之複數個圖像顯示裝置間不易產生空隙或重疊，間隙不易變得明顯，而可維持良好之外觀。進而，收縮或膨脹較少，能夠維持透明性不變。又，本發明之黏著劑層充分地追隨圖像顯示裝置之收縮或膨脹，而亦可防止產生隆起或剝落導致之異常。
又，於本發明之拼接顯示器中，於對本發明之基材之第二面實施抗反射處理及/或防眩處理之情形時，就能夠防止於本發明之圖像顯示裝置之基板上所配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射之方面而言較佳。又，於拼接顯示器中，就不易視認到本發明之圖像顯示裝置之間之間隙的方面而言亦較佳。
本發明之拼接顯示器可具備本發明之圖像顯示裝置及上述支持基板以外之構件。作為此種構件，並無特別限定，可例舉：背光裝置、觸控感測器等。
本發明之拼接顯示器可於上述支持基板上無間隙地排列複數塊本發明之圖像顯示裝置，藉由利用玻璃密封最表面等加以固定，藉此製造。 實施例
以下，基於實施例對本發明進一步進行詳細說明，但本發明並不限定於該等實施例。
＜實施例1＞ [(甲基)丙烯酸系聚合物溶液1之製備] 於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中裝入丙烯酸丁酯(BA)95質量份、丙烯酸(AA)5質量份、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN)0.2質量份、乙酸乙酯234質量份，緩慢攪拌並導入氮氣，將燒瓶內之液溫保持於65℃附近，進行6小時聚合反應，而製備(甲基)丙烯酸系聚合物溶液1(30質量%)。上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)為60萬，分子量分佈(Mw/Mn)為4.0，玻璃轉移溫度(Tg)為-47℃。
[丙烯酸系黏著劑組合物1之製備] 利用乙酸乙酯將上述(甲基)丙烯酸系聚合物溶液1(30質量%)稀釋為20質量%，於該溶液500質量份(固形物成分100質量份)中添加環氧系交聯劑(Mitsubishi Gas Chemical股份有限公司製造，商品名「Tetrad-C」，1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷，環氧當量：110，官能基數：4)0.075質量份(固形物成分0.075質量份)、液狀之防靜電劑(Japan Carlit股份有限公司製造，商品名「CIL312」，1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)3質量份(實際質量3質量份)後，進行混合攪拌，而製備丙烯酸系黏著劑組合物1(丙烯酸系黏著劑溶液)。
[黏著片材1之製作] 將上述丙烯酸系黏著劑組合物1塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理之厚度75 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET膜、透明基材、剝離襯墊)之表面，風乾3分鐘後，於145℃加熱90秒，而形成厚度50 μm之黏著劑層1。繼而，於上述黏著劑層1之表面貼合單面形成有防眩層之防眩性膜(DNP股份有限公司製造，商品名「DSG23」，PET膜)之非防眩層面，而獲得包含防眩性膜/黏著劑層1/剝離襯墊之黏著片材1。
＜實施例2＞ [丙烯酸系黏著劑組合物2之製備] 於(甲基)丙烯酸系聚合物溶液2(綜研化學股份有限公司製造，商品名「SK Dyne 2137KH」，丙烯酸丁酯(BA)99質量份與丙烯酸4-羥基丁酯(HBA)1質量份之共聚物，18質量%)之556質量份(固形物成分100質量份)中添加異氰酸酯系交聯劑(三井化學股份有限公司製造，商品名「Takenate D110 N」，三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯)0.27質量份(固形物成分0.2質量份)、過氧化物系交聯劑(日本油脂股份有限公司製造，商品名「Nyper BMT」，過氧化苯甲醯)0.75重量份(固形物成分0.3質量份)、液狀之防靜電劑(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals股份有限公司製造，商品名「MTOATFSI」，三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)3質量份(實際質量3質量份)後，進行混合攪拌，而製備丙烯酸系黏著劑組合物2。 [黏著片材2之製作] 除使用上述丙烯酸系黏著劑組合物2以外，以與實施例1同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層1/剝離襯墊之黏著片材1。
＜實施例3＞ [丙烯酸系黏著劑組合物3之製備] 調配作為預聚物形成用單體成分之丙烯酸丁酯(BA)67質量份、丙烯酸環己酯(大阪有機化學工業公司製造，商品名「Viscoat#155」)14質量份、及丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)19質量份、以及光聚合起始劑(BASF製造，商品名「Omnirad184」)0.09質量份、光聚合起始劑(BASF製造，商品名「Omnirad651」)0.09質量份，照射紫外線進行聚合，而獲得預聚物組合物。於上述預聚物組合物100重量份中添加液狀之防靜電劑(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals股份有限公司製造，商品名「MTOATFSI」，三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)3質量份後，將該等均勻混合，而製備丙烯酸系黏著劑組合物3。
[黏著劑層3之製備) 以表面設置有聚矽氧系離型層之厚度75 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(Mitsubishi Chemical製造之「DIAFOIL MRF75」)作為基材(兼作重剝離襯墊)，以厚度成為50 μm之方式於基材之離型層上塗佈上述丙烯酸系黏著劑組合物3而形成塗佈層。於該塗佈層上貼合單面經聚矽氧剝離處理之厚度75 μm之PET膜(Mitsubishi Chemical製造之「DIAFOIL MRE75」)之離型層作為覆蓋片(兼作輕剝離襯墊)。藉由以燈正下方之照射面中之照射強度成為5 mW/cm 2之方式調節了位置之黑光燈自覆蓋片側對該積層體照射紫外線進行光硬化，而獲得厚度50 μm之黏著劑層3。
[黏著片材3之製備] 於自上述所獲得之黏著劑層3剝離其中一個剝離襯墊所露出之黏著面貼合單面形成有防眩層之防眩性膜(DNP股份有限公司製造，商品名「DSG23」，PET膜)之非防眩層面，而獲得包含防眩性膜/黏著劑層3/剝離襯墊之黏著片材3。
＜實施例4＞ 使用第一工業製藥股份有限公司製造之商品名「IL220」、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺3質量份作為液狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例3同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層4/剝離襯墊之黏著片材4。
＜實施例5＞ 使用Japan Carlit股份有限公司製造之商品名「CIL612」、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺3質量份作為液狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例3同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層5/剝離襯墊之黏著片材5。
＜實施例6＞ 使用Japan Carlit股份有限公司製造之商品名「CIL312」、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺2質量份作為液狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層6/剝離襯墊之黏著片材6。
＜實施例7＞ 使用Mitsubishi Materials Electronic Chemicals股份有限公司製造之商品名「EMIN441」、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(九氟丁基磺醯基)醯亞胺3質量份作為液狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例3同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層7/剝離襯墊之黏著片材7。
＜實施例8＞ 使用Japan Carlit股份有限公司製造之商品名「CIL312」、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺5質量份作為液狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層8/剝離襯墊之黏著片材8。
＜實施例9＞ 使用Japan Carlit股份有限公司製造之商品名「CIL312」、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺10質量份作為液狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層9/剝離襯墊之黏著片材9。
＜比較例1＞ 使用Japan Carlit股份有限公司製造之商品名「CIL312」、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺0.1質量份作為液狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層10/剝離襯墊之黏著片材10。
＜比較例2＞ 使用Mitsubishi Materials Electronic Chemicals股份有限公司製造之商品名「LiTFSI」、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰3質量份作為固體狀之防靜電劑，除此以外，以與實施例1同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層11/剝離襯墊之黏著片材11。
＜比較例3＞ [丙烯酸系黏著劑組合物12之製備] 調配作為預聚物形成用單體成分之丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)78重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)18重量份、及丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)4重量份、以及光聚合起始劑(BASF製造，商品名「Omnirad184」)0.09質量份、光聚合起始劑(BASF製造，商品名「Omnirad651」)0.09質量份，照射紫外線進行聚合，而獲得預聚物組合物。於上述預聚物組合物100重量份中添加液狀之防靜電劑(Japan Carlit股份有限公司製造，商品名「CIL312」，1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)3質量份後，將該等均勻混合，而製備丙烯酸系黏著劑組合物12。 [黏著片材12之製作] 除使用上述丙烯酸系黏著劑組合物12以外，以與實施例3同樣之方式，獲得包含防眩性膜/黏著劑層12/剝離襯墊之黏著片材12。
(評價) 使用上述實施例及比較例中所獲得之黏著片材，進行以下評價。將評價方法示於以下。將結果示於表2。
(1)表面電阻值之測定 自上述實施例及比較例中所獲得之黏著片材將剝離襯墊剝離，於溫度23℃、相對濕度50%之環境下，使用電阻率計(TREK製造之「Model 152-1」)，使探針(TREK製造之「Model 152P-2P」)接觸於黏著劑表面，於施加電壓100 V、電壓施加時間10秒之條件下測定表面電阻值。
(2)熱衝擊試驗後之表面電阻值之測定 自下述熱衝擊試驗中取出黏著片材後，於溫度23℃、相對濕度50%之環境下放置2小時以上，使用電阻率計(TREK製造之「Model 152-1」)，使探針(TREK製造之「Model 152P-2P」)接觸於將剝離襯墊剝離之黏著劑表面，於施加電壓100 V、電壓施加時間10秒之條件下測定表面電阻值。 ・熱衝擊試驗 對於實施例及比較例中所獲得之黏著片材，於-40℃之氛圍下曝露30分鐘，繼而，於80℃之氛圍下曝露30分鐘，以此作為熱衝擊之1個週期，使用熱衝擊試驗機，將上述熱衝擊進行200個週期。 依照下式算出熱衝擊試驗前後之黏著劑層之表面電阻值的差之絕對值。 ｜Log 10B－Log 10A｜ A：熱衝擊試驗前之表面電阻值 B：熱衝擊試驗後之表面電阻值
(3)藉由奈米壓痕法進行之黏著劑層之硬度之測定 對於實施例及比較例之黏著劑層，將切成1 cm見方左右者固定於支持體(松浪硝子工業股份有限公司製造，載玻片)，作為奈米壓痕測定用試樣，於以下條件下進行奈米壓痕測定，獲得負載荷重-位移曲線。 ・奈米壓痕測定條件 裝置：Hysitron Inc.公司製造之Triboindenter 使用壓頭：Berkovich(三角錐) 測定方法：單個壓入測定 測定溫度：室溫 壓入深度：100 nm
硬度H係根據將壓頭壓入至上述壓入深度時之負載荷重(最大負載P max)、及此時之壓頭與試樣之接觸面積(接觸投影面積Ac)，藉由以下之式(1)所算出。 [數1]
(4)黏著劑層之儲存彈性模數、及玻璃轉移溫度 自各實施例及比較例中所獲得之黏著劑層將剝離襯墊剝離，將複數層黏著劑層積層，製作厚度約2 mm之試驗樣品。將該試驗樣品沖裁成直徑7.9 mm之圓盤狀，夾入平行板中，使用Rheometric Scientific公司製造之「先進流變擴展系統(Advanced Rheometric Expansion System(ARES))」，藉由以下條件進行動態黏彈性測定，自測定結果中讀取25℃及85℃下之儲存彈性模數G'。又，以tanδ成為極大之溫度作為黏著劑層之玻璃轉移溫度。 (測定條件) 變形模式：扭轉 測定頻率：1 Hz 測定溫度：-70℃～150℃
(5)黏著劑層之300%拉伸殘存應力值 將各實施例及比較例中所獲得之黏著劑層切割為40 mm×40 mm之尺寸，將單面之剝離襯墊剝離後，以黏著劑面彼此貼合之方式摺疊1次，將單面之剝離襯墊再次剝離，並再次將黏著劑面彼此貼合，而製作約10 mm×40 mm之尺寸、厚度約為400 μm之黏著劑層樣品。將上述黏著劑層樣品設置於將夾頭間距離設定為20 mm之拉伸試驗機，以拉伸速度200 mm/分鐘拉伸60 mm(300%)(拉伸後之夾頭間距離為80 mm)。於拉伸了60 mm之位置固定保持300秒，測定其後之應力值，根據下述式算出「300%拉伸殘存應力值」。 300%拉伸殘存應力值(N/cm 2)＝固定保持300秒後之應力值(N)/(4×黏著片材厚度(mm)/10)
(6)霧度 使用霧度測定裝置(村上色彩研究所製造之HR-100)，於室溫(23℃)下對各實施例及各比較例中所獲得之黏著片材進行測定。以重複次數3次進行測定，以其平均值作為測定值。
(7)熱衝擊試驗後之霧度 將各實施例及各比較例中所獲得之黏著片材供於上述熱衝擊試驗後，使用霧度測定裝置(村上色彩研究所製造之HR-100)，於室溫(23℃)下進行測定。以重複次數3次進行測定，以其平均值作為測定值。 算出熱衝擊試驗前後之霧度之差(熱衝擊試驗後之霧度－熱衝擊試驗前之霧度)。
(8)可見光線透過率 使用霧度測定裝置(村上色彩研究所製造之HR-100)，於室溫(23℃)下對各實施例及各比較例中所獲得之黏著片材進行測定。以重複次數3次進行測定，以其平均值作為測定值。
(9)L *a *b *表色系統 將各實施例及比較例中所獲得之黏著片材貼附於載玻片(商品名「MICRO SLIDE GLASS」，白研磨，NO.2，厚度：1.0～1.2 mm，松浪硝子股份有限公司製造)而製成試驗片。再者，於貼附黏著片材時，使用手壓輥，避免於表面形成指紋等污漬，且避免異物或氣泡進入。 使用簡易型分光色差計(商品名「DOT-3C」，村上色彩技術研究所股份有限公司製造)測定上述試驗片之L *值、b *值及a *值。再者，測定係對試驗片之黏著片材面照射光而進行。 L *值、b *值及a *值係依照JIS Z 8781-4(2013年)進行。 關於熱衝擊試驗後之b *，如上述般將所製作之試驗片供於上述熱衝擊試驗後，於溫度23℃、相對濕度50%之環境下放置2小時以上，使用簡易型分光色差計(商品名「DOT-3C」，村上色彩技術研究所股份有限公司製造)進行測定。以熱衝擊試驗後之b *減去熱衝擊試驗前之b *所得者作為熱衝擊試驗後之b *之差(Δb *)。
(10)針對丙烯酸系樹脂板之黏著力及剝離帶電量 [針對丙烯酸系樹脂板之黏著力之測定方法] 作為被附體，準備寬度70 mm、長度100 mm之丙烯酸系樹脂板(Mitsubishi Rayon公司製造，商品名「Acrylite」，厚度：1 mm)。將各實施例及比較例中所獲得之黏著片材切割為寬度25 mm、長度100 mm之尺寸，將其黏著面以0.25 MPa之壓力、0.3 m/min之速度壓接於上述丙烯酸系樹脂板。將其於23℃、50%RH之環境下貼附30分鐘放置後，於相同環境下，使用萬能拉伸試驗機於剝離速度300 mm/min、剝離角度180°之條件下將黏著片材自上述丙烯酸系樹脂板剝離，測定此時之黏著力[N/25 mm]。
[剝離帶電量之測定法] 將各實施例及比較例中所獲得之黏著片材切割為寬度25 mm、長度80 mm之尺寸，將剝離襯墊剝離後，貼合於預先去靜電之丙烯酸系樹脂板(Mitsubishi Rayon公司製造，商品名「Acrylite」，厚度：1 mm、寬度：25 mm、長度：70 mm)，以黏著片材之其中一端部自丙烯酸系樹脂板之端伸出10 mm之方式，利用手壓輥進行壓接。 將該樣品於23℃、50%RH之環境下放置1天後，設置於高度20 mm之樣品固定台之位置。將自丙烯酸系樹脂板伸出10 mm之黏著片材之端部固定於自動卷取機，以成為剝離角度150°、剝離速度5 m/min之方式進行剝離。對於此時所產生之被附體(丙烯酸系樹脂板)表面之電位，藉由固定於距丙烯酸系樹脂板之中央之高度100 mm之位置之電位測定器(春日電機公司製造，型式「KSD-0103」)測定剝離帶電壓。測定係於23℃、50%RH之環境下進行。
(11)與被附體之密接性(階差吸收性)之評價 對於各實施例及比較例中所獲得之黏著片材，使用所謂印刷玻璃研究密接性(階差吸收性)。於所使用之印刷玻璃之表面圖案形成使玻璃表面產生15 μm之印刷階差之印刷層，對於此種印刷玻璃之印刷圖案形成面，使用手壓輥，於室溫下貼合黏著片材。然後，於貼合於印刷玻璃之黏著片材中，將未沿著玻璃表面之印刷圖案之緣端(印刷階差之部分)產生寬度1 mm以上之隆起之情形評價為密接性良好(○)，將產生此種寬度1 mm以上之隆起之情形評價為密接性不良(×)。
(12)熱衝擊試驗後之空隙之評價 與上述密接性之評價同樣地，利用手壓輥將黏著片材貼合於印刷玻璃，而製作試驗片。將所製作之試驗片供於上述熱衝擊試驗後，於溫度23℃、相對濕度50%之環境下放置2小時以上，以目視確認印刷階差部分是否存在空隙。於貼合於印刷玻璃之黏著片材中，將未沿著玻璃表面之印刷圖案之緣端(印刷階差之部分)產生寬度1 mm以上之隆起之情形評價為密接性良好(○)，將產生此種寬度1 mm以上之隆起之情形評價為密接性不良(×)。
[表2]
(表2)
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 比較例1 比較例2 比較例3
表面電阻值[Ω]…A 3×10 9 9×10 9 9×10 9 4.6×10 9 2.3×10 9 9×10 9 2×10 9 1×10 9 5×10 8 1×10 11 2.5×10 9 3×10 9
熱衝擊試驗後表面電阻值[Ω]…B 4×10 9 8×10 9 9×10 9 4×10 9 1×10 9 9×10 9 4×10 8 2×10 9 4×10 8 1×10 11 3×10 9 4×10 9
表面電阻值差[logΩ] ｜log(B)－log(A)｜ 0.1 0.1 0.0 0.1 0.4 0.0 0.7 0.3 0.1 0.0 0.1 0.1
黏著劑層硬度(壓痕)[kPa] 31 9 45 45 45 31 45 31 31 31 31 60
黏著劑層Tg[℃] -27 -40 -20 -20 -20 -27 -20 -27 -27 -27 -38 -3
黏著劑層儲存彈性模數(ARES) 25℃[kPa] 60 66 110 110 110 60 120 60 60 62 61 200
黏著劑層儲存彈性模數(ARES) 80℃[kPa] 37 49 85 82 86 37 83 37 37 38 39 100
黏著劑層殘存應力[N/cm 2] 4.3 6.4 13.4 12.6 14.1 4.3 14.4 4.3 4.3 12.4 9.3 26
霧度(附玻璃)[%]•••C 0.2 0.2 0.3 0.3 0.3 0.2 2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.3
熱衝擊試驗後霧度(附玻璃)[%]…D 0.2 0.2 0.3 0.3 0.3 0.2 10.5 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
霧度差(D－C) [%] 0 0 0 0 0 0 8.5 0 0 0 0 0.1
可見光透過率(附玻璃)[%] 92 92 91.4 91.4 91.4 92 89 92 92 92 91.9 91.4
L*(附玻璃) 96.6 96.5 96.5 96.6 96.5 96.6 94.4 96.6 96.6 96.6 96.6 96.5
a*(附玻璃) -0.38 -0.37 -0.37 -0.37 -0.36 -0.38 -0.38 -0.38 -0.38 -0.38 -0.37 -0.37
b*(附玻璃) 0.19 0.13 0.16 0.17 0.17 0.19 0.16 0.19 0.19 0.19 0.19 0.16
針對丙烯酸系樹脂板之黏著力[N/25 mm] 9.1 8.3 10.9 12.3 12.3 10.3 10.8 8.5 7.3 12.4 8.8 11.6
針對丙烯酸系樹脂板之剝離帶電量[kV] -0.2 -0.4 -0.6 -0.7 -0.6 -0.3 -0.3 -0.1 -0.1 -2.2 -1.6 -0.9
與被附體之密接性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 ×
熱衝擊試驗後之空隙 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 × ×
熱衝擊試驗前後之b*差(Δb*) 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.02 0.01 0.01
以下，備註本發明之變化。 [備註1]一種光學用黏著片材，其特徵在於：其具有將基材與黏著劑層積層而成之積層構造，上述基材具有第一面及第二面，上述黏著劑層積層於上述基材之第一面，且 上述黏著劑層含有液狀之防靜電劑， 上述黏著劑層之表面電阻值未達10 10Ω， 上述黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]未達60 kPa。 [備註2]如備註1所記載之光學用黏著片材，其中上述防靜電劑為離子液體。 [備註3]如備註2所記載之光學用黏著片材，其中上述離子液體包含氟原子數為10個以下之陰離子部。 [備註4]如備註1至3中任一項所記載之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)為-10℃以下。 [備註5]如備註1至4中任一項所記載之光學用黏著片材，其可見光線透過率為90%以上。 [備註6]如備註1至5中任一項所記載之光學用黏著片材，其霧度為1%以下。 [備註7]如備註1至6中任一項所記載之光學用黏著片材，其中上述基材之第二面經抗反射處理及/或防眩處理。 [備註8]如備註1至7中任一項所記載之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層為含有丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。 [備註9]一種圖像顯示裝置，其係將如備註1至8中任一項所記載之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成。 [備註10]一種拼接顯示器，其係排列複數塊如備註9所記載之圖像顯示裝置而成。
1:基材 1a:基材之第一面 1b:基材之第二面 2:黏著劑層 3:抗反射處理及/或防眩處理 4:圖像顯示面板 10A:光學用黏著片材 10B:光學用黏著片材 20:圖像顯示裝置 30:拼接顯示器 31:支持基板 32:間隙
圖1係表示本發明之光學用黏著片材之一實施方式的模式圖(截面圖)。 圖2係表示本發明之光學用黏著片材之另一實施方式的模式圖(截面圖)。 圖3係表示積層有圖2之光學用黏著片材之本發明之圖像顯示裝置的一實施方式之模式圖(截面圖)。 圖4係表示本發明之拼接顯示器之一實施方式之模式圖(立體圖)。
1:基材
1a:基材之第一面
1b:基材之第二面
2:黏著劑層
10A:光學用黏著片材

Claims (10)

  1. 一種光學用黏著片材，其特徵在於：其具有將基材與黏著劑層積層而成之積層構造，上述基材具有第一面及第二面，上述黏著劑層積層於上述基材之第一面，且 上述黏著劑層含有液狀之防靜電劑， 上述黏著劑層之表面電阻值未達10 10Ω， 上述黏著劑層之利用奈米壓痕法獲得之硬度H[kPa]未達60 kPa。
  2. 如請求項1之光學用黏著片材，其中上述防靜電劑為離子液體。
  3. 如請求項2之光學用黏著片材，其中上述離子液體包含氟原子數為10個以下之陰離子部。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)為-10℃以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學用黏著片材，其可見光線透過率為90%以上。
  6. 如請求項1至5中任一項之光學用黏著片材，其霧度為1%以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之光學用黏著片材，其中上述基材之第二面經抗反射處理及/或防眩處理。
  8. 如請求項1至7中任一項之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層為含有丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。
  9. 一種圖像顯示裝置，其係將如請求項1至8中任一項之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成。
  10. 一種拼接顯示器，其係排列複數塊如請求項9之圖像顯示裝置而成。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007063298A (ja) * 2005-08-29 2007-03-15 Nippon Carbide Ind Co Inc 粘着剤溶液組成物及び表面保護フィルム
JP5332315B2 (ja) * 2007-09-03 2013-11-06 住友化学株式会社 光学積層体
JP5311342B2 (ja) * 2009-02-09 2013-10-09 綜研化学株式会社 帯電防止性粘着剤組成物および帯電防止フィルム
JP5164188B2 (ja) * 2010-09-28 2013-03-13 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着シート類および表面保護フィルム
JP5860673B2 (ja) * 2011-11-07 2016-02-16 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層、粘着剤層付偏光板および画像形成装置
JP6236246B2 (ja) * 2013-07-31 2017-11-22 日東電工株式会社 粘着シート、及び光学部材
JP6433143B2 (ja) * 2014-04-16 2018-12-05 日東電工株式会社 粘着シート、及び、光学部材
JP6438818B2 (ja) * 2015-03-03 2018-12-19 リンテック株式会社 粘着性組成物、粘着剤、粘着シートおよび粘着剤層付き光学フィルム
JP2016028289A (ja) * 2015-09-18 2016-02-25 日東電工株式会社 粘着型偏光板および画像表示装置
JP6343364B2 (ja) * 2017-04-19 2018-06-13 日東電工株式会社 粘着剤組成物、及び粘着シート

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