TW202328803A - 生成曲線子解析度輔助特徵（ｓｒａｆ）的方法、驗證ｓｒａｆ的光罩規則檢查（ｍｒｃ）的方法以及製造光罩的方法 - Google Patents

生成曲線子解析度輔助特徵（ｓｒａｆ）的方法、驗證ｓｒａｆ的光罩規則檢查（ｍｒｃ）的方法以及製造光罩的方法 Download PDF

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Abstract

揭露一種生成曲線子解析度輔助特徵（SRAF）的方法（所述方法能夠容易地生成滿足光罩規則檢查（MRC）條件的曲線SRAF）、一種用於曲線SRAF的容易的MRC驗證的MRC驗證方法、以及一種包括生成曲線SRAF的方法的光罩製造方法。生成曲線SRAF的方法包括生成用於生成與主要特徵對應的曲線SRAF的曲線軸線、在曲線軸線的線上生成曲線點、以及基於曲線點來生成曲線SRAF。

Description

生成曲線子分辨率輔助特徵(SRAF)的方法、驗證SRAF的掩模規則檢查(MRC)的方法以及製造掩模的方法
本發明概念是有關於一種光罩製造方法，且更具體而言，是有關於一種生成子解析度輔助特徵（SRAF）的方法、一種驗證光罩規則檢查（MRC）的方法以及一種包括生成SRAF的方法的製造光罩的方法。 [相關申請案的交叉參考]
本申請案是基於在2021年12月8日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2021-0175210號且根據35 U.S.C. § 119主張優先於所述韓國專利申請案，所述韓國專利申請案的揭露內容全文併入本案供參考。
在半導體製程中，可實行使用光罩的光微影製程，以在半導體基板（例如晶圓）上形成圖案。可簡單地將光罩定義為其中不透明材料的圖案形狀被形成於透明基底材料上的圖案轉移本體。為了簡要闡釋光罩的製造製程，在對所需電路進行設計及對電路的佈局進行設計之後，藉由光學鄰近修正（optical proximity correction，OPC）獲得的光罩設計資料作為光罩下線（mask tape-out，MTO）設計資料被傳輸。此後，基於MTO設計資料實行光罩資料準備（mask data preparation，MDP），且可藉由實行例如曝光製程等前端（front end of line，FEOL）製程及例如缺陷檢驗等後端（back end of line，BEOL）製程來製造光罩。
本發明概念提供一種生成曲線子解析度輔助特徵（sub-resolution assist feature，SRAF）的方法（所述方法能夠容易地生成滿足光罩規則檢查（mask rule check，MRC）條件的曲線SRAF）、一種有利於曲線SRAF的MRC驗證的MRC驗證方法、以及一種包括生成SRAF的方法的製造光罩的方法。
另外，本發明概念欲解決的問題並不限於上述問題，且熟習此項技術者可根據以下說明清楚地理解其他問題。
根據本發明概念的態樣，提供一種曲線SRAF的方法，所述方法包括：生成用於生成與主要特徵對應的曲線SRAF的曲線軸線；在曲線軸線的線上生成曲線點；以及基於曲線點生成曲線SRAF。
根據本發明概念的另一態樣，提供一種驗證曲線SRAF的MRC的方法，所述方法包括：提取曲線SRAF；找出曲線SRAF的邊的法線方向；基於法線方向在其中半寬度在曲線點的兩個側上對稱的位置處生成曲線點；對曲線點進行連接以生成曲線軸線；以及基於曲線點及曲線軸線來實行曲線SRAF的MRC。
根據本發明概念的另一態樣，提供一種製造光罩的方法，所述方法包括：將主要特徵的邊細分成分割邊；以將針對分割邊中的每一者生成曲線SRAF的距離生成曼哈頓型位置多邊形；藉由使位置多邊形變圓而生成用於生成曲線SRAF的曲線軸線；在曲線軸線的線上生成曲線點；針對曲線點中的每一者而在形狀方向上以半寬度的距離生成形狀點；對形狀點進行連接以生成曲線SRAF；對曲線SRAF實行MRC；判斷在實行MRC時是否存在缺陷；若不存在缺陷，則將包括主要特徵及曲線SRAF的佈局影像作為光罩下線（MTO）設計資料進行傳送；基於MTO設計資料來準備光罩資料；以及基於光罩資料針對光罩對基板進行曝光。
在下文中，參照附圖詳細闡述本發明概念的實例性實施例。在圖式中，相同的參考編號用於相同的組件，且已給出的對圖式的說明則被省略。
圖1是示意性地示出根據本發明概念實例性實施例的生成曲線子解析度輔助特徵（SRAF）的方法的製程的流程圖，且圖2A至圖2E是示出在圖1所示生成曲線SRAF的方法中自將主要特徵的邊細分成分割邊至生成曲線點的製程的概念圖。
參照圖1及圖2A，在根據本實施例的生成曲線SRAF的方法中，首先，將主要特徵Fm的邊細分成分割邊Pe（S110）。此處，主要特徵Fm可與將在基板（例如晶圓）上形成的目標圖案對應。可藉由利用曝光製程將光罩上的圖案轉移至基板上而形成此種目標圖案。因此，首先，可對與目標圖案對應的光罩上的圖案的佈局（即光罩佈局）進行設計。作為參照，一般而言，目標圖案的形狀可能由於曝光製程的性質而與光罩上的圖案的形狀不同。另外，由於光罩上的圖案被縮小投影並轉移至基板上，因此光罩上的圖案可具有較目標圖案大的大小。
另一方面，隨著圖案的精細化，在曝光製程期間出現由於相鄰圖案之間的影響而引起的光學鄰近效應（optical proximity effect，OPE），且為了克服這一點，可實行光學鄰近修正（OPC），光學鄰近修正（OPC）藉由對光罩佈局進行修正來抑制OPE出現。OPC大體上分為兩種類型，一種是基於規則的OPC，且另一種是基於仿真或基於模型的OPC。基於模型的OPC在時間及成本方面可能是有利的，此乃因基於模型的OPC僅使用代表性圖案的量測結果，而不需要對大量測試圖案中的全部進行量測。另一方面，OPC可不僅包括對光罩佈局進行修改，亦包括在圖案的隅角上添加被稱為襯線的亞微影特徵，或者添加SRAF（例如廣義上的散射條）。因此，生成本實施例的曲線SRAF可包括於OPC中。另一方面，當晶片中的圖案形成於高密度區域及低密度區域中時，SRAF是為解決由OPC引起的偏差的問題而引入的輔助圖案，OPC是由於因光學特性引起的每一區中的不同繞射圖案而出現，且此SRAF不是實際形成於晶圓上的圖案。
對OPC製程的簡要說明如下。首先，準備用於OPC的基礎資料。接下來，生成包括光學OPC模型及用於光阻（photoresist，PR）的OPC模型的OPC模型。此後，獲得已藉由使用OPC模型的模擬製程被實行OPC的佈局影像或資料。然後，對上面已實行OPC的佈局影像（被稱為OPC佈局影像）實行光罩規則檢查（MRC）。此處，MRC可指在製造光罩時對圖案應維持的寬度或間隔的限制的檢查。舉例而言，當製造光罩時，可能存在無法使圖案的寬度小於設定的最小寬度或者無法使圖案之間的間隔小於設定的最小間隔的限制。該些限制可被稱為光罩製程限制。因此，實行或驗證MRC可指檢查是否觀察到針對光罩佈局的上述限制的製程。藉由MRC，可獲得最終的OPC佈局影像。可將最終的OPC佈局影像作為光罩下線（MTO）設計資料提供至光罩製造團隊，以用於稍後的光罩製造。
另一方面，由於圖案最近已被精細化，因此作為實行OPC以克服現有曼哈頓光罩形狀的MRC約束且改善光罩分佈及光罩誤差增強因數（mask error enhancement factor，MEEF）的結果，已引入曲線光罩形狀。SRAF亦需要曲線SRAF來充當針對曲線主要特徵進行最佳化的輔助特徵，且因此，需要生成滿足MRC的曲線SRAF。然而，使用傳統的SRAF生成技術及傳統的MRC驗證方法，在曲線SRAF的MRC驗證及MRC誤差的清除方面存在限制。
用於將主要特徵Fm的邊細分成分割邊Pe的規則可以各種方式進行定義。舉例而言，在圖2A中，可藉由以預定間隔對主要特徵Fm的邊進行劃分來生成分割邊Pe。黑點可與用於邊劃分的細分點對應。
參照圖1及圖2B，在細分成分割邊Pe之後，以將針對每一分割邊Pe生成SRAF的距離生成曼哈頓型位置多邊形PP1及PP2（S120）。儘管在圖2B中例示出兩種類型的位置多邊形PP1及PP2，但可對應於一個主要特徵Fm生成一種類型或者三或更多種類型的位置多邊形。
參照圖1及圖2C，在生成位置多邊形PP1及PP2之後，使位置多邊形PP1及PP2變圓以生成曲線軸線CA1及CA2（S130）。在圖2C中，可藉由在x軸方向上（例如，在主要特徵Fm的縱向軸線的方向上）使位置多邊形PP1及PP2二者變圓來生成曲線軸線CA1及CA2。作為詳細實例，可基於位置多邊形PP1及PP2的區段，藉由對曲線軸線CA1及CA2的線進行界定而生成曲線軸線CA1及CA2。舉例而言，藉由使區段的特定點滿足橢圓方程式，可生成曲線軸線CA1及CA2，使得曲線軸線CA1及CA2的線構成對應的橢圓。
參照圖1、圖2D及圖2E，在生成曲線軸線CA1及CA2之後，在曲線軸線CA1及CA2的線上生成曲線點CP1及CP2（S140）。可基於預定規則在曲線軸線CA1及CA2的線上不同地生成曲線點CP1及CP2。作為參照，圖2B中的位置多邊形PP1及PP2上的點以及圖2C中的曲線軸線CA1及CA2上的點可為與用於對主要特徵Fm中的邊進行劃分的細分點對應的點。因此，該些點不直接與曲線點CP1及CP2相關，但藉由對圖2C與圖2D進行比較可看出，一般而言，曲線軸線CA1及CA2上的點可被包括作為曲線點CP1及CP2的部份。曲線點CP1及CP2可多於圖2C所示曲線軸線CA1及CA2上的點。另一方面，如圖2E中所示，根據需要，可在曲線點CP1之間及曲線點CP2之間進一步生成附加曲線點CP1'及CP2'。
此後，針對曲線點中的每一者而在形狀方向上以半寬度距離生成形狀點（S150），且藉由對形狀點進行連接來生成曲線SRAF（S160）。結合對圖3至圖6B的說明來更詳細地闡述生成形狀點（S150）及生成曲線SRAF（S160）。在操作S160之後，對所生成的曲線SRAF實行MRC（S170）。將利用對圖7A至圖10E的說明更詳細地闡述實行MRC的操作（S170）。
根據本實施例，生成曲線SRAF的方法可藉由以下方式來生成曲線SRAF：將主要特徵的邊細分成分割邊；生成位置多邊形；藉由變圓處理而生成曲線軸線及曲線點；且然後基於曲線軸線及曲線點來生成形狀點。如此一來，在本實施例的生成曲線SRAF的方法中，藉由基於例如曲線點及形狀點等點來生成曲線SRAF，可容易地生成滿足MRC條件的曲線SRAF。另外，對所生成的曲線SRAF的MRC驗證可能非常容易。
作為參照，在現有的曲線SRAF生成方法的情形中，存在一個問題，即所述方法可能無法藉由僅利用來自主要特徵的隅角的角度及距離資訊而不慮及主要特徵的寬度及空間來生成曲線SRAF而靈活地對MRC條件作出響應。因此，使用逆微影技術（inverse lithography technology，ILT），現有的曲線SRAF生成方法僅用於最佳化期間的初始引導SRAF生成。作為參照，ILT技術是OPC中的一者。一般而言，OPC是藉由將圖案的邊分成小片且基於規則將小片向上、向下、向左及向右移動或者插入矩形形式的輔助特徵來實行，以對由繞射引起的畸變進行修正。另一方面，對自光光罩轉移至晶圓表面的影像進行計算可藉由以數學方式表達光學系統來獲得。此被稱為正向函數，且ILT是用於獲得此正向函數的反函數的技術。由於ILT需要大量的計算，因此已按照如下方式對ILT進行利用：即ILT在其中圖案為複雜的地方被局部使用，而非被應用於整個晶片。
圖3是示意性地示出圖1所示生成曲線SRAF的方法中的形成形狀點及生成曲線SRAF的操作的概念圖。已針對圖1至圖2E給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖3，圖3示出基於曲線點CP生成的曲線SRAF，且曲線點CP可包括位於兩個端部處的兩個尖端點CPt及位於所述兩個尖端點CPt之間的至少一個橋接點CPb。舉例而言，第一尖端點CPt可位於一系列曲線點CP的第一端部處，且第二尖端點CPt可位於一系列曲線點CP的第二端部處。曲線點CP可具有在一個方向上定義的識別（identification，ID）編號。舉例而言，自左上至右下，六個曲線點CP可被定義為id#1至id#6。另一方面，曲線點CP之間的虛線可對應於曲線軸線CA，且如上所述，可首先生成曲線軸線CA且可在曲線軸線CA上生成曲線點CP。
為了生成曲線SRAF，針對曲線點CP中的每一者而在形狀方向SD上以半寬度HW的距離生成形狀點（參見形狀點SPi(1)等，在圖4A中）。此處，形狀方向SD可端視曲線點CP的類型而被不同地界定。舉例而言，橋接點CPb的形狀方向SDb可被界定為對應的橋接點CPb的曲線軸線CA的法線方向。同時，尖端點CPt的形狀方向SDt可被界定為對應的尖端點CPt的徑向方向。另一方面，半寬度HW亦可端視曲線點CP的類型而變化。舉例而言，橋接點CPb的半寬度HWb可相對於對應的橋接點CPb的曲線軸線CA而在雙側上對稱。另外，橋接點CPb的半寬度HWb可為MRC所需的SRAF的參考寬度的1/2或小於所述參考寬度的1/2。另一方面，尖端點CPt的半寬度HWt可與自對應的尖端點CPt的半徑對應，且可小於或等於MRC所需的SRAF的參考寬度的1/2。
當針對曲線點CP來設定形狀方向及半寬度時，可生成形狀點。舉例而言，可在形狀方向上以半寬度的距離創建形狀點，如圖4A及類似圖中所示。當生成形狀點時，可藉由對相鄰形狀點進行連接來生成曲線SRFA的邊而生成曲線SRAF。曲線SRFA的邊可包括與橋接點CPb對應的SRFA橋接邊SRAFbe及與尖端點CPt對應的SRFA尖端邊SRAFte。
另一方面，曲線點間隔CAi可被界定為相鄰曲線點CP之間的距離。另外，可針對一個曲線點CP而對在曲線點CP的兩個側上連接至曲線點CP的曲線軸線CA的線之間的曲線軸線連接角度CCA進行界定。半寬度HWt及曲線點間隔CAi可用於MRC中曲線SRAF的長度驗證或面積驗證，此將在稍後進行闡述。另外，曲線軸線連接角度CCA可用於對MRC中曲線SRAF的曲線軸線連接角度進行驗證。
另一方面，曲線SRAF可被分類為線型及隔離型。線型曲線SRAF可包括多個曲線點CP且可在一個方向上具有伸長的形狀。圖3所示曲線SRAF是線型的，且因此，曲線點CP可被分類為線型。
另一方面，隔離型曲線SRAF可包括一個曲線點CP作為中心點且可具有圓形形狀。在隔離型的情形中，中心點的功能類似於線型中的尖端點。換言之，可在中心點的徑向方向上對形狀方向進行界定，且半寬度可與中心點處的半徑對應且可小於或等於MRC所需的SRAF的參考寬度的1/2。然而，在線型尖端的情形中，曲線SRAF的邊被形成為半圓形狀，但在隔離型中心點的情形中，曲線SRAF的邊可被形成為圓形形狀。
圖4A至圖6B是用於更詳細地闡釋圖1所示生成曲線SRAF的方法中的形成形狀點及生成曲線SRAF的操作的概念圖。已針對圖1至圖3給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖4A及圖4B，可藉由上述圖2A至圖2E所示製程而生成四個曲線點CPi、CPi+1、CPi+2及CPi+3。在形成曲線點CPi、CPi+1、CPi+2及CPi+3之後，針對曲線點CPi、CPi+1、CPi+2及CPi+3中的每一者而在形狀方向上以半寬度a i、a i+1、a i+2及a i+3的距離生成形狀點SPi、SPi+1、SPi+2及SPi+3。另一方面，與基於對稱概念的橋接點CPi+1及CPi+2中的每一者對應，可生成兩個形狀點。舉例而言，可針對第一橋接點CPi+1生成兩個形狀點SPi+1(u)及SPi+1(d)，且可針對第二橋接點CPi+2生成兩個形狀點SPi+2(u)及SPi+2(d)。另一方面，在尖端點CPi及CPi+3的情形中，可生成與半圓對應的多個形狀點。舉例而言，可針對第一尖端點CPi生成五個形狀點SPi(1)至SPi(5)，且可針對第二尖端點CPi+3生成五個形狀點SPi+3(1)至SPi+3(5)。在圖4A中，在尖端點CPi及CPi+3中的每一者處生成五個形狀點，但形狀點的數目並不限於5個。在生成形狀點SPi、SPi+1、SPi+2及SPi+3之後，相鄰的形狀點SPi、SPi+1、SPi+2及SPi+3連接至彼此，使得生成圖4B中所示的曲線SRAF SRAFi。圖4B所示曲線SRAF SRAFi可為例如線型。
參照圖5A及圖5B，可藉由上述圖2A至圖2E所示製程而生成三個曲線點CPj、CPj+1及CPj+2。在形成曲線點CPj、CPj+1及CPj+2之後，針對曲線點CPj、CPj+1及CPj+2中的每一者而在形狀方向上以半寬度a j、a j+1及a j+2的距離生成形狀點SPj、SPj+1及SPj+2，且相鄰的形狀點SPj、SPj+1及SPj+2連接至彼此，使得生成圖5B中所示的曲線SRAF SRAFj。舉例而言，可針對第一橋接點CPj+1生成兩個形狀點SPj+1(u)及SPj+1(d)。另外，在尖端點CPj及CPj+2的情形中，可生成與半圓對應的多個形狀點。舉例而言，可針對第一尖端點CPj生成五個形狀點SPj(1)至SPj(5)，且可針對第二尖端點CPj+2生成五個形狀點SPj+2(1)至SPj+2(5)。圖5B所示曲線SRAF SRAFj可為例如線型。
另一方面，對圖4B所示曲線SRAF SRAFi與圖5B所示曲線SRAF SRAFi進行比較，在圖4B所示曲線SRAF SRAFi的情形中，與曲線點CPi、CPi+1、CPi+2及CPi+3對應的半寬度a i、a i+1、a i+2及a i+3被設定為相同的大小，且因此，圖4B所示曲線SRAF SRAFi的寬度可為恆定的。相反，在圖5B所示曲線SRAF SRAFj的情形中，與曲線點CPj、CPj+1及CPj+2對應的半寬度a j、a j+1及a j+2可被設定為不同的大小。因此，圖5B所示曲線SRAF SRAFj的寬度可能不是恆定的。
參照圖6A及圖6B，可藉由上述圖2A至圖2E所示製程而生成一個曲線點CPk。曲線點CPk可為例如中心點。在形成曲線點CPk之後，可針對曲線點CPk在形狀方向上以半寬度a k的距離生成形狀點SPk(1)至SPk(8)。在圖6A中，生成八個形狀點SPk(1)至SPk(8)，但形狀點的數目並不限於八個。然後，藉由將相鄰的形狀點SPk(1)至SPk(8)連接至彼此而生成圖6B中所示的曲線SRAF SRAFk。舉例而言，圖6B所示曲線SRAF SRAFk可為例如隔離型。
圖7A及圖7B是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行MRC的操作中曲線SRAF的長度驗證的概念圖。已針對圖1至圖6B給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖7A及圖7B，圖7A所示曲線SRAF SRAFi是基於四個曲線點CPi、CPi+1、CPi+2及CPi+3而生成，且其長度可如方程式（1）中所計算。
方程式（ 1 ）：SRAFi（長度）= a i+ d i+ d i+1+ d i+2+ a i+3.........
其中a i及a i+3是與尖端點CPi及CPi+3對應的半寬度，且d i、d i+1及d i+2可意指兩個相鄰尖端點之間的曲線點間隔。
圖7B所示曲線SRAF SRAFl是基於六個曲線點CP l 、CP l +1、CP l +2、CP l +3、CP l +4及CP l +5而生成，且其長度可如方程式（2）中所計算。
方程式（ 2 ）：SRAFl（長度）= a l+ d l+ d l+1+ d l+2+ d l+3+ d l+4+ a l+5.........
其中a l及a l+5是與尖端點CP l 及CP l +5對應的半寬度，且d l、d l+1、d l+2、d l+3及d l+4可意指兩個相鄰尖端點之間的曲線點間隔。另一方面，儘管圖7B所示曲線SRAF SRAFl相較於圖7A所示曲線SRAF SRAFi具有曲線形狀，但獲得曲線SRAF的長度的方法可實質上相同。
畢竟，曲線SRAF的長度可被概括為與所述兩個尖端點中的每一者對應的半寬度與每對相鄰曲線點之間的曲線點間隔之和。在MRC驗證中，可藉由比較利用上述方法獲得的曲線SRAF的長度是否等於或小於MRC所需的SRAF的參考長度來對曲線SRAF的長度進行驗證。另外，僅針對線型，可藉由上述方法來對曲線SRAF的長度進行驗證，且針對隔離型，可不驗證曲線SRAF的長度。
圖8A及圖8B是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行MRC的操作中曲線SRAF的面積驗證的概念圖。已針對圖1至圖7B給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖8A及圖8B，圖8A所示曲線SRAF SRAFj是基於三個曲線點CPj、CPj+1及CPj+2而生成，且其面積可如方程式（3）中所計算。
方程式（ 3 ）：SRAFj（面積）= (π*a j 2)/2 + d j* (a j+ a j+1) + d j+1* (a j+1+ a j+2) + (π*a j+2 2)/2 .........
此處，a j及a j+2是與尖端點CPj及CPj+2對應的半寬度，且d j及d j+1可意指兩個相鄰尖端點之間的曲線點間隔。另一方面，在方程式（3）中，第一項可為與和左半圓對應的曲線SRAF部分SRAFj(1)對應的面積，第二項可為與和第二梯形對應的曲線SRAF部分SRAFj(2)對應的面積，第三項可為與和第三梯形對應的曲線SRAF部分SRAFj(3)對應的面積，且第四項可為與和右半圓對應的曲線SRAFSRAFj(4)對應的面積。
圖8B所示曲線SRAF SRAFk是基於一個曲線點CPk而生成，且其面積可被計算為π*a k 2。另一方面，圖8A所示曲線SRAF SRAFj可與線型對應，且圖8B所示曲線SRAF SRAFk可與隔離型對應。
畢竟，線型曲線SRAF的面積可被概括為半徑為與所述兩個尖端點中的每一者對應的半寬度的半圓的面積與兩個梯形的面積之和，所述兩個梯形具有兩個相鄰曲線點之間的曲線點間隔作為高度以及所述兩個曲線點中的每一者的半寬度的兩倍作為上部側及下部側。另外，隔離型曲線SRAF的面積可被概括為半徑為曲線點的半寬度的圓的面積。在MRC驗證中，可藉由比較利用上述方法獲得的曲線SRAF的面積是否等於或小於MRC所需的SRAF的參考面積來對曲線SRAF的面積進行驗證。
圖9A及圖9B是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行MRC的操作中曲線SRAF的曲線軸線連接角度驗證及曲線軸線修正的概念圖。已針對圖1至圖8B給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖9A，可藉由比較曲線SRAF的曲線軸線連接角度是否等於或大於MRC所需的SRAF的參考曲線軸線連接角度來對曲線SRAF的曲線軸線連接角度進行驗證。舉例而言，在圖9A所示所述七個曲線點CP之中的中心曲線點CPc的情形中，在曲線點CP的任一側上連接至曲線點CP的曲線軸線CA的線之間的曲線軸線連接角度φ0較對應於其他曲線點CP的曲線軸線連接角度相對小得多。因此，可對中心曲線點CPc的曲線軸線連接角度φ0實行MRC。在MRC中，若中心曲線點CPc的曲線軸線連接角度φ0小於MRC所需的SRAF的參考曲線軸線連接角度θ0，則確定出違反了MRC，且在此種情形中，可能需要對曲線軸線CA進行修正。
參照圖9B，可藉由移除圖9A所示所述七個曲線點CP之中的中心曲線點CPc且對其餘的曲線點CP進行連接而生成新曲線軸線CA'的線。新曲線軸線CA'的線上的曲線點CP的曲線軸線連接角度可大於MRC所需的SRAF的參考曲線軸線連接角度。舉例而言，在圖9B中，所述兩個中心曲線點CPc1及CPc2的曲線軸線連接角度φ1及φ2中的每一者可等於或大於參考曲線軸線連接角度θ0。基於其餘曲線點CP及新曲線軸線CA'的線，藉由圖3所示說明中闡述的製程生成曲線SRAF，可生成具有經自動驗證的曲線軸線連接角度的曲線SRAF。
圖10A至圖10E是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行MRC的操作中曲線SRAF的空間驗證的概念圖。已針對圖1至圖9B給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖10A及圖10B，曲線SRAF SRAFa或SRAFb與主要特徵Fm之間的空間a可被計算為藉由自曲線SRAF SRAFa的曲線點中的任一者與主要特徵Fm的邊Fme之間的最短距離Dm減去對應曲線點的半寬度a i而獲得的距離。舉例而言，空間a可藉由a = Dm - a i來計算。在MRC驗證中，可藉由判斷利用上述方法獲得的曲線SRAF的空間是否等於或大於MRC所需的SRAF的參考空間來對曲線SRAF的空間進行驗證。另一方面，圖10A示出曲線SRAF SRAFa的橋接點CPb與主要特徵Fm之間的空間a，且圖10B示出曲線SRAF SRAFb的尖端點CPt與主要特徵Fm之間的空間a。
參照圖10C至圖10E，兩個曲線SRAF SRAF1與SRAF2之間的空間b可被計算為藉由自曲線SRAF SRAF1的任一曲線點與曲線SRAF SRAF2的任一個曲線點之間的最短距離Dm減去曲線點中的每一者的半寬度a i及a j而獲得的距離。舉例而言，空間b可藉由b = Dm - a i- a j來計算。在MRC驗證中，可藉由判斷利用上述方法獲得的曲線SRAF的空間是否等於或大於MRC所需的SRAF的參考空間來對曲線SRAF的空間進行驗證。另一方面，圖10C示出曲線SRAF SRAF1的橋接點CPb1與曲線SRAF SRAF2的橋接點CPb2之間的空間b，圖10D示出曲線SRAF SRAF1的尖端點CPt1與曲線SRAF SRAF2的橋接點CPb2之間的空間b，且圖10E示出曲線SRAF SRAF1的尖端點CPt1與曲線SRAF SRAF2的尖端點CPt2之間的空間b。
圖11是示意性地示出根據本發明概念實例性實施例的曲線SRAF的MRC驗證方法的製程的流程圖，且圖12A至圖12C是用於闡釋圖11所示曲線SRAF的MRC驗證方法的概念圖。已針對圖1至圖10E給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖11及圖12A，在本實施例的驗證曲線SRAF的MRC的方法中，首先，提取曲線SRAF SRAFia（S210）。舉例而言，當已生成如圖12A中所示的曲線SRAF SRAFia時，可提取對應的曲線SRAF SRAFia的形狀資訊。另一方面，可藉由與生成圖1的曲線SRAF的方法不同的方法來生成曲線SRAF SRAFia。
參照圖11及圖12B，在提取曲線SRAF SRAFia之後，找出曲線SRAF SRAFia的邊的法線方向ND（S220）。舉例而言，如圖12A中所示，對曲線SRAF SRAFia的邊進行劃分，且針對邊中的每一者找出法線方向ND。另一方面，如圖12B中的雙箭頭所指示，可選擇法線方向，使得存在相對於法線方向彼此面對的邊對。
參照圖11及圖12C，基於法線方向而在其中半寬度HW在曲線點CP的兩個側上對稱的位置處生成曲線點CP（S230）。為了使半寬度HW對於曲線點CP中的每一者而言對稱，可選擇法線方向，使得存在彼此面對的邊對。
在生成曲線點CP之後，藉由將曲線點CP連接至彼此而生成曲線軸線CA（S240）。隨後，基於曲線點CP及曲線軸線CA來實行曲線SRAF的MRC（S250）。曲線點CP及曲線軸線CA可具有與藉由圖2A至圖2E所示製程獲得的曲線軸線及曲線點實質上相同的特性。因此，如參照圖7A至圖10E所述，曲線SRAF SRAFia的MRC驗證可包括實行曲線SRAF的寬度驗證、曲線SRAF的長度驗證、曲線SRAF的面積驗證、曲線SRAF的曲線軸線連接角度驗證以及曲線SRAF的空間驗證。另一方面，在上述生成曲線SRAF的方法中，由於在生成形狀點時應用了預設的半寬度，因此曲線SRAF的寬度的單獨驗證可能是不必要的。然而，在曲線SRAF SRAFia的情形中，可使用所生成的半寬度HW來實行曲線SRAF的寬度驗證。舉例而言，藉由判斷半寬度HW是否等於或小於MRC所需的SRAF的參考寬度的1/2，可實行曲線SRAF的寬度驗證。
圖13是示意性地示出根據本發明概念實例性實施例的包括生成曲線SRAF的方法的光罩製造方法的製程的流程圖。已針對圖1至圖12C給出的說明被簡要給出或被省略。
參照圖13，在包括本實施例的生成曲線SRAF的方法的光罩製造方法（下文中被簡稱為「光罩製造方法」）中，自細分成分割邊的操作（S310）至實行MRC的操作（S370），所述方法是依序實行的。自細分成分割邊的操作（S310）至實行MRC（S370）與圖1所示生成曲線SRAF的方法的說明相同。舉例而言，圖13所示操作S310至S370分別與圖1所示操作S110至S170對應。
在實行MRC之後，判斷是否存在缺陷（S375）。換言之，根據實行MRC的結果，判斷在所生成的曲線SRAF中是否存在違反MRC條件的任何違反。若存在缺陷（S375，是），則流程進行至操作S360，操作S360生成曲線SRAF以改變曲線SRAF的形狀來滿足MRC條件。舉例而言，改變曲線SRAF的長度、面積、曲線軸線連接角度、空間等以滿足MRC條件。此後，流程進行至再次實行MRC的操作（S370）。
若不存在缺陷（S375，否），則將包括主要特徵及曲線SRAF的佈局影像作為MTO設計資料傳輸至光罩生成團隊（S380）。一般而言，MTO可指藉由將利用OPC方法獲得的最終光罩資料移交至光罩生成團隊來請求光罩生成。MTO設計資料可具有在電子設計自動化（electronic design automation，EDA）軟體或類似項中使用的圖形資料格式。舉例而言，MTO設計資料可具有例如圖形資料系統II（graphic data system II，GDS2）及開放原圖系統交換標準（open artwork system interchange standard，OASIS）等資料格式。
此後，基於MTO設計資料來實行光罩資料準備（mask data preparation，MDP）（S390）。MDP可包括例如：（i）被稱為斷裂的格式轉換；（ii）包括用於機械讀取的條形碼、用於檢驗的標準光罩圖案、工作平台等的擴充；以及（iii）自動及手動驗證。此處，工作平台可意指生成與一系列指令相關的文本檔案，例如多個光罩檔案的佈置資訊、參考劑量以及曝光速度或方法。
在準備光罩資料之後，使用光罩資料（即電子束資料）來對光罩基板進行曝光（S395）。此處，曝光可能意指例如電子束寫入。此處，可藉由例如使用多束光罩寫入器（multi-beam mask writer，MBMW）的灰度寫入方法來實行電子束寫入。另外，可使用可變形狀束（variable shape beam，VSB）光罩寫入器來實行電子束寫入。
在曝光製程之後，可實行一系列製程來完成光罩。所述一系列製程可包括例如顯影、蝕刻及清潔。另外，用於製造光罩的所述一系列製程可包括量測製程、缺陷檢驗或缺陷修復製程。另外，薄膜施加製程可包括於所述一系列製程中。此處，當藉由最終清潔及檢驗來確認不存在污染物顆粒或化學污斑時，薄膜施加製程可指將薄膜貼合至光罩表面以保護光罩在光罩的交付及光罩的使用壽命期間免受後續污染的製程。
根據本實施例的製造光罩的方法可包括生成圖1所示曲線SRAR的上述方法。因此，可針對包括彎曲圖案的光罩來生成最佳OPC佈局影像，且基於最佳OPC佈局影像，可以高的可靠性來精確地製造包括與最佳OPC佈局影像對應的彎曲圖案的光罩。
儘管已參照本發明概念的實施例具體示出並闡述本發明概念，但應理解，可在不背離以下申請專利範圍的精神及範圍的條件下在本文中進行形式及細節上的各種改變。
a i、a i+1、a i+2、a i+3、a j、a j+1、a j+2、a k、HW、HWb、HWt：半寬度 CA、CA1、CA2：曲線軸線 CA'：新曲線軸線 CAi：曲線點間隔 CCA、φ0、φ1、φ2：曲線軸線連接角度 CP、CP1、CP2、CPk、CP l 、CP l+1 、CP l+2 、CP l+3 、CP l+4 、CP l+5 ：曲線點 CP1'、CP2'：附加曲線點 CPb、CPb1、CPb2：橋接點 CPc、CPc1、CPc2：中心曲線點 CPi、CPj：曲線點/第一尖端點/尖端點 CPi+1：曲線點/橋接點/第一橋接點 CPi+2：曲線點/橋接點/第二橋接點 CPi+3、CPj+2：曲線點/尖端點/第二尖端點 CPj+1：曲線點/第一橋接點 CPt：尖端點/第一尖端點 CPt1、CPt2：尖端點 Dm：最短距離 Fm：主要特徵 Fme：邊 id#1～id#6：識別編號 ND：法線方向 Pe：分割邊 PP1、PP2：位置多邊形 S110、S120、S130、S140、S150、S160、S170、S210、S220、S230、S240、S250、S310、S320、S330、S340、S350、S360、S370、S375、S380、S390、S395：操作 SDb、SDt：形狀方向 SPi(1)、SPi(2)、SPi(3)、SPi(4)、SPi(5)、SPi+1(d)、SPi+1(u)、SPi+2(d)、SPi+2(u)、SPi+3(1)、SPi+3(2)、SPi+3(3)、SPi+3(4)、SPi+3(5)、SPj(1)、SPj(2)、SPj(3)、SPj(4)、SPj(5)、SPj+1(d)、SPj+1(u)、SPj+2(1)、SPj+2(2)、SPj+2(3)、SPj+2(4)、SPj+2(5)、SPk(1)、SPk(2)、SPk(3)、SPk(4)、SPk(5)、SPk(6)、SPk(7)、SPk(8)：形狀點 SRAF1、SRAF2、SRAFa、SRAFb、SRAFi、SRAFia、SRAFj、SRAFk：曲線SRAF SRAFbe：SRFA橋接邊 SRAFj(1)、SRAFj(2)、SRAFj(3)、SRAFj(4)：曲線SRAF部分 SRAFte：SRFA尖端邊 a、b：空間 θ0：參考曲線軸線連接角度
結合附圖閱讀以下詳細說明，將更清楚地理解本發明概念的實施例，在附圖中： 圖1是示意性地示出根據本發明概念實例性實施例的生成曲線子解析度輔助特徵（SRAF）的方法的製程的流程圖。 圖2A至圖2E是示出在圖1所示生成曲線SRAF的方法中自將主要特徵的邊細分成分割邊至生成曲線點的製程的概念圖。 圖3是示意性地示出圖1所示生成曲線SRAF的方法中的形成形狀點及生成曲線SRAF的操作的概念圖。 圖4A至圖6B是用於更詳細地闡釋圖1所示生成曲線SRAF的方法中的形成形狀點及生成曲線SRAF的操作的概念圖。 圖7A及圖7B是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行MRC的操作中曲線SRAF的長度驗證的概念圖。 圖8A及圖8B是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行光罩規則檢查（MRC）的操作中曲線SRAF的面積驗證的概念圖。 圖9A及圖9B是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行MRC的操作中曲線SRAF的曲線軸連接角度驗證及曲線軸修正的概念圖。 圖10A至圖10E是用於闡釋在圖1所示生成曲線SRAF的方法中的實行MRC的操作中曲線SRAF的空間驗證的概念圖。 圖11是示意性地示出根據本發明概念實例性實施例的曲線SRAF的MRC驗證方法的製程的流程圖。 圖12A至圖12C是用於闡釋圖11所示曲線SRAF的MRC驗證方法的概念圖。 圖13是示意性地示出根據本發明概念實例性實施例的包括生成曲線SRAF的方法的光罩製造方法的製程的流程圖。
S110、S120、S130、S140、S150、S160、S170:操作

Claims (10)

  1. 一種生成曲線子解析度輔助特徵（SRAF）的方法，包括： 生成用於生成與主要特徵對應的曲線子解析度輔助特徵的曲線軸線； 在所述曲線軸線的線上生成曲線點；以及 基於所述曲線點生成所述曲線子解析度輔助特徵。
  2. 如請求項1所述的生成曲線子解析度輔助特徵的方法，其中生成所述曲線軸線的步驟包括： 將所述主要特徵的邊細分成分割邊； 以用於針對所述分割邊中的每一者生成所述曲線子解析度輔助特徵的距離生成曼哈頓型位置多邊形；以及 使所述曼哈頓型位置多邊形變圓， 其中所述曲線軸線的所述線是基於所述曼哈頓型位置多邊形的一區段來定義。
  3. 如請求項1所述的生成曲線子解析度輔助特徵的方法， 其中所述曲線點被分類為隔離型及線型， 其中所述隔離型包括一個中心點，且 其中所述線型包括位於所述曲線子解析度輔助特徵的端部處的兩個尖端點及位於所述兩個尖端點之間的至少一個橋接點，且在一個方向上具有識別編號。
  4. 如請求項3所述的生成曲線子解析度輔助特徵的方法，其中生成所述曲線子解析度輔助特徵的步驟包括： 相對於所述曲線點在形狀方向上以半寬度的距離生成形狀點；以及 將所述形狀點連接至彼此。
  5. 如請求項4所述的生成曲線子解析度輔助特徵的方法， 其中在所述線型的情形中，所述形狀方向相對於所述尖端點是徑向的，且相對於所述至少一個橋接點與和所述至少一個橋接點對應的所述曲線軸線正交，且 其中在所述隔離型的情形中，所述形狀方向相對於所述中心點是徑向的，且 其中生成所述形狀點的步驟包括： 生成與所述至少一個橋接點對應的至少一個形狀點；以及 生成與所述尖端點或所述中心點對應的多個形狀點。
  6. 一種驗證曲線子解析度輔助特徵（SRAF）的光罩規則檢查（MRC）的方法，包括： 提取曲線子解析度輔助特徵； 找出所述曲線子解析度輔助特徵的邊的法線方向； 基於所述法線方向在其中半寬度在曲線點的兩個側上對稱的位置處生成所述曲線點； 對所述曲線點進行連接以生成曲線軸線；以及 基於所述曲線點及所述曲線軸線來實行所述曲線子解析度輔助特徵的光罩規則檢查。
  7. 如請求項6所述的驗證曲線子解析度輔助特徵的光罩規則檢查的方法，其中實行所述光罩規則檢查的步驟包括實行所述曲線子解析度輔助特徵的寬度驗證、所述曲線子解析度輔助特徵的長度驗證、所述曲線子解析度輔助特徵的面積驗證、所述曲線子解析度輔助特徵的曲線軸線連接角度驗證以及所述曲線子解析度輔助特徵的空間驗證， 其中實行所述曲線子解析度輔助特徵的所述寬度驗證的步驟包括判斷所述半寬度是否小於或等於所述光罩規則檢查所需的子解析度輔助特徵的參考寬度的1/2， 其中實行所述曲線子解析度輔助特徵的所述長度驗證的步驟包括：針對線型判斷藉由將與兩個尖端點中的每一者對應的半寬度和曲線點中的兩個相鄰曲線點之間的曲線點間隔相加而獲得的長度是否等於或小於所述光罩規則檢查所需的子解析度輔助特徵的參考長度， 其中實行所述曲線子解析度輔助特徵的所述面積驗證的步驟包括：針對所述線型判斷半徑為與所述兩個尖端點中的每一者對應的半寬度的半圓的面積和兩個梯形的面積之和是否等於或小於所述光罩規則檢查所需的所述子解析度輔助特徵的參考面積，所述梯形具有曲線點中的兩個相鄰曲線點之間的曲線點間隔作為高度以及所述兩個曲線點中的每一者的所述半寬度的兩倍作為上部側及下部側， 其中實行所述曲線子解析度輔助特徵的所述曲線軸線連接角度驗證的步驟包括判斷曲線軸線連接角度是否等於或大於所述光罩規則檢查所需的所述子解析度輔助特徵的參考曲線軸線連接角度，且 其中實行所述曲線子解析度輔助特徵的所述空間驗證的步驟包括判斷所述曲線子解析度輔助特徵與主要特徵之間的第一空間以及兩個相鄰曲線子解析度輔助特徵之間的第二空間是否等於或大於所述光罩規則檢查所需的參考空間。
  8. 一種製造光罩的方法，包括： 將主要特徵的邊細分成分割邊； 以將針對所述分割邊中的每一者生成曲線子解析度輔助特徵（SRAF）的距離生成曼哈頓型位置多邊形； 藉由使所述曼哈頓型位置多邊形變圓而生成用於生成所述曲線子解析度輔助特徵的曲線軸線； 在所述曲線軸線的線上生成曲線點； 針對所述曲線點中的每一者而在形狀方向上以半寬度的距離生成形狀點； 對所述形狀點進行連接以生成所述曲線子解析度輔助特徵； 對所述曲線子解析度輔助特徵實行光罩規則檢查（MRC）； 判斷在實行所述光罩規則檢查時是否存在缺陷； 若不存在缺陷，則將包括所述主要特徵及所述曲線子解析度輔助特徵的佈局影像作為光罩下線（MTO）設計資料進行傳送； 基於所述光罩下線設計資料來準備光罩資料；以及 基於所述光罩資料針對光罩對基板進行曝光。
  9. 如請求項8所述的製造光罩的方法， 其中所述曲線點被分類為隔離型及線型， 其中所述隔離型包括一個中心點， 其中所述線型包括位於所述曲線子解析度輔助特徵的端部處的兩個尖端點以及位於所述兩個尖端點之間的至少一個橋接點，且在一個方向上具有識別編號， 其中曲線點間隔被定義為所述曲線點之中的兩個相鄰曲線點之間的距離，且 其中針對所述曲線點中的一者，曲線軸線連接角度被定義為將所述曲線點中的所述一者連接至兩個相鄰曲線點的所述曲線軸線的線之間的角度。
  10. 如請求項9所述的製造光罩的方法， 其中在所述線型的情形中，所述形狀方向相對於所述尖端點是徑向的，相對於所述至少一個橋接點與和所述至少一個橋接點對應的所述曲線軸線正交， 其中在所述隔離型的情形中，所述形狀方向相對於所述中心點是徑向的，且 其中所述半寬度小於所述光罩規則檢查所需的子解析度輔助特徵的參考寬度的1/2。
TW111138341A 2021-12-08 2022-10-11 生成曲線子解析度輔助特徵（ｓｒａｆ）的方法、驗證ｓｒａｆ的光罩規則檢查（ｍｒｃ）的方法以及製造光罩的方法 TW202328803A (zh)

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