TW202325869A - 蒸鍍罩捆包體及蒸鍍罩捆包方法 - Google Patents

蒸鍍罩捆包體及蒸鍍罩捆包方法 Download PDF

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Abstract

本揭示之蒸鍍罩捆包體包含:承接部,其包含第1對向面;第1緩衝片材,其位於第1對向面;蓋部;及第1固定部。蓋部包含與承接部之第1對向面對向之第2對向面,與承接部隔著第1緩衝片材及蒸鍍罩而重疊。第1固定部將第1緩衝片材固定於第1對向面。在自第1對向面之法線方向觀察時,第1固定部位於蒸鍍罩之外側。

Description

蒸鍍罩捆包體及蒸鍍罩捆包方法
本揭示係關於一種蒸鍍罩捆包體及蒸鍍罩捆包方法。
在智慧型手機或平板PC等電子器件中,自市場要求高精細之顯示裝置。顯示裝置例如具有400 ppi以上或800 ppi以上等之像素密度。
作為如此之顯示裝置,具有良好之應答性、與或/及高對比度之有機EL顯示裝置受到關注。作為形成有機EL顯示裝置之像素之方法,已知一種使構成像素之材料蒸鍍於基板之方法。該情形下,首先,準備包含貫通孔之蒸鍍罩、及支持蒸鍍罩之框架。接著,在蒸鍍裝置內,在使蒸鍍罩密接於基板之狀態下,蒸鍍有機材料或無機材料等蒸鍍材料。藉此,蒸鍍材料附著於基板而形成蒸鍍層。蒸鍍層構成有機EL顯示裝置之顯示區域。
將蒸鍍罩在輸送時進行捆包。例如,已知一種包含承接部與蓋部之捆包體。蒸鍍罩夾持於承接部與蓋部之間。然而,根據捆包體之構成,蒸鍍罩有可能塑性變形。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]專利第6904502號公報 [專利文獻2]國際公開第2018-061757號公報
[發明所欲解決之課題]
本揭示之實施形態之目的在於提供一種可抑制蒸鍍罩之塑性變形之蒸鍍罩捆包體及蒸鍍罩捆包方法。 [解決課題之技術手段]
本揭示之蒸鍍罩捆包體係捆包形成有複數個貫通孔之蒸鍍罩之捆包體。蒸鍍罩捆包體包含:承接部,其包含第1對向面;第1緩衝片材,其位於第1對向面;蓋部;及第1固定部。蓋部包含與承接部之第1對向面對向之第2對向面,與承接部隔著第1緩衝片材及蒸鍍罩而重疊。第1固定部將第1緩衝片材固定於第1對向面。在自第1對向面之法線方向觀察時,第1固定部位於蒸鍍罩之外側。
本揭示之蒸鍍罩捆包方法係捆包形成有複數個貫通孔之蒸鍍罩之方法。蒸鍍罩捆包方法包含準備步驟、固定步驟、載置步驟、及夾持步驟。在準備步驟中,準備包含第1對向面之承接部、及包含第2對向面之蓋部。在固定步驟中,以第1固定部將第1緩衝片材固定於第1對向面。在載置步驟中,將蒸鍍罩載置於第1緩衝片材上。在夾持步驟中,以第2對向面與第1對向面對向之方式將蓋部重疊於蒸鍍罩,以承接部與蓋部夾持蒸鍍罩。在自第1對向面之法線方向觀察時,第1固定部位於蒸鍍罩之外側。 [發明之效果]
根據本揭示,可抑制蒸鍍罩之塑性變形。
在本說明書及本圖式中,若無特別說明,則「基板」、「基材」、「板」、「片材」或「膜」等意指成為某構成之基礎之物質之用語非為僅基於稱呼之不同,而相互區別者。
在本說明書及本圖式中,若無特別說明,則形狀或幾何學之條件以及特定該等之程度之例如「平行」或「正交」等之用語或長度、角度之值等,設為不受嚴格之意義束縛,而包含可期待相同之功能之程度之範圍而解釋。
在本說明書及本圖式中,若無特別說明,則某構件或某區域等之某構成包含設為在其他構件或其區域等其他構成之「上」或「下」、「上側」或「下側」、或者「上方」或「下方」之情形、某構成與其他構成直接相接之情形。進而,亦包含在某構成與其他構成之間含有別的構成之情形、即間接地接觸之情形。又,若無特別說明,則「上」、「上側」、「上方」、或「下」、「下側」、「下方」之語句之上下方向可反轉。
在本說明書及本圖式中,若無特別說明,則有對同一部分或具有具有相同之功能之部分賦予同一符號或類似之符號,且省略其重複之說明之情形。又,亦有為了便於說明圖式之尺寸比率而與實際之比率不同之情形、或將構成之一部分自圖式省略之情形。
在本說明書及本圖式中,若無特別說明,則可在不產生矛盾之範圍內,與其他實施形態或變化例組合。又,其他實施形態彼此、或其他實施形態與變化例亦可在不產生矛盾之範圍內組合。又,諸個變化例亦可在不產生矛盾之範圍內組合。
在本說明書及本圖式中,若無特別說明,則在製造方法等之方法中揭示複數個步驟之情形下,可在揭示之步驟之間實施未被揭示之其他步驟。又,揭示之步驟之順序在不產生矛盾之範圍內為任意。
在本說明書及本圖式中,若無特別說明,則藉由「~」符號表現之數值範圍包含置於「~」符號之前後之數值。例如,藉由「34~38質量%」之表現而區劃之數值範圍,與藉由「34質量%以上且38質量%以下」之表現而區劃之數值範圍相同。
在本說明書之一實施形態中,舉出與在製造有機EL顯示裝置時為了將有機材料以所期望之圖案在基板上圖案化而使用之蒸鍍罩或其製造方法相關之例進行說明。惟,並不限定於如此之適用,可對於使用於各種用途之蒸鍍罩,適用本實施形態。例如,為了製造用於顯示或投影用於表現虛擬實境即所謂VR或擴增實境即所謂AR之圖像或映像之裝置,亦可使用本實施形態之罩。
本揭示之第1態樣係 一種蒸鍍罩捆包體,其捆包形成有複數個貫通孔之蒸鍍罩,且包含: 承接部,其包含第1對向面; 第1緩衝片材,其位於前述第1對向面; 蓋部,其包含與前述承接部之前述第1對向面對向之第2對向面,與前述承接部隔著前述第1緩衝片材及前述蒸鍍罩而重疊;及 第1固定部,其將前述第1緩衝片材固定於前述第1對向面;且 在自前述第1對向面之法線方向觀察時,前述第1固定部位於前述蒸鍍罩之外側。
本揭示之第2態樣係如上述第1態樣之蒸鍍罩捆包體者,其中可行的是, 前述第1緩衝片材在自前述法線方向觀察時,以沿著第1方向、及與前述第1方向正交之第2方向之方式形成為矩形形狀, 前述第1固定部包含2個第1固定分割構件,其等相對於前述蒸鍍罩,在前述第1方向上之兩側位於外側。
本揭示之第3態樣係如上述第2態樣之蒸鍍罩捆包體者,其中可行的是, 前述第1固定部包含2個第2固定分割構件,其等相對於前述蒸鍍罩,在前述第2方向上之兩側位於外側。
本揭示之第4態樣係如上述第1態樣至上述第3態樣各者之蒸鍍罩捆包體者,其中可行的是, 包含夾層片材,其位於前述蒸鍍罩與前述第1緩衝片材之間,且 前述第1固定部在自前述法線方向觀察時,位於前述夾層片材之外側。
本揭示之第5態樣係如上述第1態樣至上述第4態樣各者之蒸鍍罩捆包體者,其中可行的是, 前述承接部與前述蓋部經由鉸鏈部連結。
本揭示之第6態樣係如上述第1態樣至上述第5態樣各者之蒸鍍罩捆包體者,其中可行的是, 包含第2緩衝片材,其位於前述第2對向面,且 前述蓋部與前述承接部隔著前述第1緩衝片材、前述蒸鍍罩及前述第2緩衝片材而重疊。
本揭示之第7態樣係如上述第6態樣之蒸鍍罩捆包體者,其中可行的是, 包含第2固定部,其將前述第2緩衝片材固定於前述第2對向面,且 在自前述法線方向觀察時,前述第2固定部位於前述蒸鍍罩之外側。
本揭示之第8態樣係如上述第1態樣至上述第7態樣各者之蒸鍍罩捆包體者,其中可行的是, 包含蒸鍍罩,其位於前述承接部與前述蓋部之間。
本揭示之第9態樣係 一種蒸鍍罩捆包方法,其係用於捆包形成有複數個貫通孔之蒸鍍罩者,且包含: 準備步驟,其準備包含第1對向面之承接部、及包含第2對向面之蓋部; 固定步驟,其以第1固定部將第1緩衝片材固定於前述第1對向面; 載置步驟,其將前述蒸鍍罩載置於前述第1緩衝片材上;及 夾持步驟,其以前述第2對向面與前述第1對向面對向之方式將前述蓋部重疊於前述蒸鍍罩,以前述承接部與前述蓋部夾持前述蒸鍍罩;且 在自前述第1對向面之法線方向觀察時,前述第1固定部位於前述蒸鍍罩之外側。
以下,對於本揭示之實施方式,一面參照圖式一面詳細地進行說明。再者,以下所示之實施形態係本揭示之實施形態之一例,本揭示並不只限定於該等實施形態而解釋。
如圖1所示般,蒸鍍裝置80可包含:蒸鍍源(例如坩堝81)、加熱器83、及蒸鍍罩裝置10。蒸鍍裝置80可包含用於將蒸鍍裝置80之內部設為真空環境之排氣機構(未圖示)。坩堝81設置於蒸鍍裝置80之內部,構成為收容有機發光材料等之蒸鍍材料90。加熱器83構成為加熱坩堝81。藉由在真空環境下加熱坩堝81,而蒸鍍材料90蒸發。
蒸鍍罩裝置10可包含:框架15;及蒸鍍罩20,其固定於框架15。框架15可包含框架開口16。框架開口16在俯視下與蒸鍍罩20之形成有後述之貫通孔25之有效區域23重疊。蒸鍍罩20亦可在被框架15牽拉之狀態下固定且被支持。該情形下,可抑制蒸鍍罩20撓曲。可在框架15固定有複數個蒸鍍罩20。「俯視」係意指自蒸鍍罩20之厚度方向觀察之用語,例如,設為意指自圖1之上下方向觀察之用語。
蒸鍍罩裝置10以與坩堝81對向之方式位於蒸鍍裝置80內。蒸鍍罩裝置10亦可位於坩堝81之上方。基板91可以與該蒸鍍罩裝置10之蒸鍍罩20對面之方式位在。基板91係使蒸鍍材料90附著之對象物。基板91可位於蒸鍍罩20之上方。基板91可保持於利用靜電之靜電卡盤84。該情形下,靜電卡盤84可位於基板91之上方。
如圖1所示般,蒸鍍裝置80可包含配置於靜電卡盤84之上方之磁鐵85。藉由設置磁鐵85,而利用磁力將蒸鍍罩20向磁鐵85位在之方向拉近,而可將蒸鍍罩20密接於基板91。可在靜電卡盤84與磁鐵85之間,介置蒸鍍時對基板91進行冷卻之冷卻板(未圖示)。
於使蒸鍍材料90蒸鍍於基板91時,自坩堝81飛來之蒸鍍材料穿過框架開口16及各貫通孔25附著於基板91。藉此,相應於貫通孔25之圖案,在基板91圖案狀地附著蒸鍍材料90。
接著,對於蒸鍍罩20進行說明。蒸鍍罩20可藉由蝕刻處理或鍍覆處理而製作。
如圖2及圖3所示般,蒸鍍罩20可以具有第1方向D1、及與第1方向D1正交之第2方向D2之方式形成為矩形形狀。第1方向可為蒸鍍罩20之長度方向。蒸鍍罩20可包含位於第1方向D之兩端部之長度方向端部21。蒸鍍罩20可包含至少1個有效區域23。有效區域23可位於2個長度方向端部21之間。如圖3所示般,蒸鍍罩20可包含1個有效區域23。然而,蒸鍍罩20可包含複數個有效區域23。複數個有效區域23可在第1方向D1上排列,亦可在第2方向D2上排列。複數個有效區域23亦可在第1方向D1及第2方向D2上排列。
1個有效區域23可對應於有機EL顯示裝置之1個顯示區域。或者,1個有效區域23可對應於複數個顯示區域。有效區域23例如在俯視下可具有大致矩形形狀之輪廓,亦可具有矩形以外之形狀之輪廓。
如圖1所示般,蒸鍍罩20可包含:第1面20a、位於與第1面20a為相反側之第2面20b、及複數個貫通孔25。貫通孔25自蒸鍍罩之第1面20a延伸至第2面20b,貫通蒸鍍罩20。
在有效區域23,可位在有由複數個貫通孔25構成之貫通孔群26。1個有效區域23可由1個貫通孔群26構成。有效區域23可為貫通孔群26所佔之區域。貫通孔群26可在俯視下與框架15之框架開口16重疊。貫通孔群26作為意指規則地排列之複數個貫通孔25之集合體之用語而使用。構成1個貫通孔群26之外緣之貫通孔25,係同樣規製地排列之複數個貫通孔25中之位於最外側之貫通孔25。在1個貫通孔群26中之外緣之貫通孔25之外側,可不存在同樣規則地排列且意圖通過蒸鍍材料90之通過之貫通孔25。作為規則之排列之例,例如貫通孔25可並列排列。貫通孔群26可與有效區域23同樣地,在俯視下具有大致矩形形狀之輪廓。
蒸鍍罩20具有自第1面20a至第2面20b之厚度T1(參照圖5)。厚度T1例如可為2 μm以上,亦可為5 μm以上,亦可為10 μm以上,亦可為15 μm以上。藉由將厚度T1設為2 μm以上,而可確保蒸鍍罩20之機械強度。又,厚度T1例如可為20 μm以下,亦可為30 μm以下,亦可為40 μm以下,亦可為50 μm以下。藉由將厚度T1設為50 μm以下,而可抑制產生陰影。陰影係指蒸鍍材料90附著於貫通孔25之壁面,而形成於基板91之蒸鍍層之厚度之精度下降之現象。厚度T1之範圍可根據包含2 μm、5 μm、10 μm及15 μm之第1群組、及/或包含20 μm、30 μm、40 μm及50 μm之第2群組決定。厚度T1之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之1個、與上述第2群組所含之值中之任意之1個之組合而決定。厚度T1之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。厚度T1之範圍可根據上述第2群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。例如,可為2 μm以上50 μm以下,亦可為2 μm以上40 μm以下,亦可為2 μm以上30 μm以下,亦可為2 μm以上20 μm以下,亦可為2 μm以上15 μm以下,亦可為2 μm以上10 μm以下,亦可為2 μm以上5 μm以下,亦可為5 μm以上50 μm以下,亦可為5 μm以上40 μm以下,亦可為5 μm以上30 μm以下,亦可為5 μm以上20 μm以下,亦可為5 μm以上15 μm以下,亦可為5 μm以上10 μm以下,亦可為10 μm以上50 μm以下,亦可為10 μm以上40 μm以下,亦可為10 μm以上30 μm以下,亦可為10 μm以上20 μm以下,亦可為10 μm以上15 μm以下,亦可為15 μm以上50 μm以下,亦可為15 μm以上40 μm以下,亦可為15 μm以上30 μm以下,亦可為15 μm以上20 μm以下,亦可為20 μm以上50 μm以下,亦可為20 μm以上40 μm以下,亦可為20 μm以上30 μm以下,亦可為30 μm以上50 μm以下,亦可為30 μm以上40 μm以下,亦可為40 μm以上50 μm以下。
蒸鍍罩20例如可由包含鎳之鐵合金構成。鐵合金可除了鎳以外進一步包含鈷。例如,作為蒸鍍罩20之材料,可使用鎳及鈷之含有量合計為30質量%以上且54質量%以下、且鈷之含有量為0質量%以上且6質量%以下之鐵合金。作為包含鎳之鐵合金之具體例,可舉出包含34質量%以上且38質量%以下之鎳之銦鋼材、包含38質量%以上且54質量%以下之鎳之低熱膨脹Fe-Ni系鍍覆合金等。作為包含鎳及鈷之鐵合金之具體例,可舉出除了30質量%以上且34質量%以下之鎳外進一步包含鈷之超銦鋼材等。藉由使用如此之鐵合金,可減小蒸鍍罩20之熱膨脹係數。例如,在作為基板91而使用玻璃基板時,可將蒸鍍罩20之熱膨脹係數設為與玻璃基板同等低之值。藉此,可抑制在蒸鍍步驟時,形成於基板91之發光層之形狀精度或位置精度起因於蒸鍍罩20與基板91之間之熱膨脹係數之差而降低。
作為構成蒸鍍罩20之材料,在可不將熱膨脹係數設為與玻璃基板同等低之情形下,例如可由單體之鎳取代上述之鐵合金構成,或可由包含鈷之鎳合金構成。在由包含鈷之鎳合金構成之情形下,作為蒸鍍罩20之材料,可使用鈷之含有量為8質量%以上且10質量%以下之鎳合金。在藉由鍍覆處理來製造蒸鍍罩20時,藉由使用如此之鎳或鎳合金,可令使形成蒸鍍罩20之鍍覆被膜析出之鍍覆液穩定。因此,容易進行鍍覆處理之管理且可提高操作性。又,可將鍍覆被膜之成分設為均等,而可提高蒸鍍罩20之品質。
接著,對於捆包上述之蒸鍍罩20之蒸鍍罩捆包體30進行說明。蒸鍍罩捆包體30構成為捆包具有形成有複數個貫通孔25之貫通孔群26之蒸鍍罩20。
如圖2及圖3所示般,蒸鍍罩捆包體30可包含:承接部31、蓋部32、第1緩衝片材33、第1固定部34、第2緩衝片材35、第2固定部36、及蒸鍍罩積層體50。蒸鍍罩積層體50可位於承接部31與蓋部32之間。蒸鍍罩積層體50可包含上述之蒸鍍罩20。如圖2所示般,蓋部32在捆包蒸鍍罩20之狀態下,可位於承接部31之上方。
承接部31與蓋部32可藉由彈性帶60捆紮。在圖2所示之例中,承接部31與蓋部32係由2條彈性帶60捆紮,但只要可抑制承接部31與蓋部32偏移,則彈性帶60之個數為任意。
如圖3及圖4所示般,承接部31可包含第1對向面37。第1對向面37可形成為平坦狀。或者,第1對向面37只要可將後述之第1緩衝片材33平坦狀固定,則可形成有小之凹凸等,亦可形成為平坦狀。可在第1對向面37,形成與蓋部32之後述之凹部39相同之凹部。
如圖5及圖6所示般,蓋部32與承接部31隔著第1緩衝片材33、蒸鍍罩積層體50及第2緩衝片材35重疊。蓋部32可包含第2對向面38、及凹部39。第2對向面38在捆包有蒸鍍罩20之狀態下,與承接部31之第1對向面37對向。凹部39位於第2對向面38,形成為自第2對向面38凹窪。第2對向面38可在凹部39以外之區域形成為平坦狀。或者,第2對向面38只要可在凹部39以外之區域,將後述之第2緩衝片材35平坦狀固定,則可形成有小之凹凸等,亦可形成為平坦狀。如圖3及圖7所示般,凹部39可在自法線方向N觀察時,以具有長度方向之方式形成為矩形形狀。凹部39之長度方向可沿著捆包之蒸鍍罩20之長度方向。凹部39之長度方向亦可沿著第1方向D1。法線方向N係在捆包有蒸鍍罩20之狀態下,與第1對向面37垂直之方向,亦可為與第2對向面38垂直之方向。法線方向N可沿著蒸鍍罩20之厚度方向。
如圖7所示般,在第1方向D1上,凹部39之尺寸L1可小於蒸鍍罩20之尺寸L2。換言之,蒸鍍罩20可相對於凹部39在第1方向D1之兩側延伸至外側。蒸鍍罩20之長度方向端部21可與第2對向面38重疊。在捆包有蒸鍍罩20之狀態下,蒸鍍罩20之長度方向端部21可被第1對向面37與第2對向面38夾持。
在第1方向D1上,凹部39之尺寸L1可大於有效區域23之尺寸L3。在第2方向D2上,凹部39之尺寸W1,可大於蒸鍍罩20之尺寸W2。凹部39可相對於蒸鍍罩20,在第2方向D2之兩側延伸至外側。如此般,有效區域23之整體可與凹部39重疊。藉此,於蒸鍍罩捆包體30在輸送中受到向上之力或碰撞時,可使蒸鍍罩20之有效區域23向凹部39內撓曲。因此,可抑制有效區域23塑性變形。
如圖3及圖4所示般,承接部31及蓋部32可構成捆包殼體40。捆包殼體40可包含連結承接部31與蓋部32之鉸鏈部41。該情形下,可行的是,承接部31與蓋部32經由鉸鏈部41連結,蓋部32相對於承接部31可旋動。捆包殼體40可能夠彎折。捆包殼體40可如圖3及圖4所示般能夠展開,亦可如圖2及圖6所示般能夠彎折。
如圖4所示般,承接部31、蓋部32及鉸鏈部41可一體地形成。可在承接部31與鉸鏈部41之間,形成承接部側槽42。可在鉸鏈部41與蓋部32之間形成蓋部側槽43。如此般,承接部31與蓋部32可相對地能夠旋動,捆包殼體40可能夠彎折。
捆包殼體40可藉由1個或複數個瓦楞紙板片材44形成。例如,捆包殼體40可將2個瓦楞紙板片材44重疊而形成。各個瓦楞紙板片材44包含:2個襯墊;及中芯,其介置於襯墊之間,具有波紋形狀之橫截面。在將複數個瓦楞紙板片材44重疊時,可以彼此相鄰之瓦楞紙板片材44之中芯之波紋形狀之脊或穀延伸之方向正交之方式重疊。該情形下,可提高捆包殼體40之機械強度。瓦楞紙板片材44可為塑膠製。
在捆包殼體40係由2個瓦楞紙板片材44構成時,蓋部32之凹部39可由形成於一者之瓦楞紙板片材44之開口部44a構成。該情形下,開口部44a可貫通該瓦楞紙板片材44。開口部44a形成於構成第2對向面38之瓦楞紙板片材44。在另一瓦楞紙板片材44,可不形成開口部44a。
如圖5及圖6所示般,第1緩衝片材33可位於第1對向面37。第1緩衝片材33可為用於在蒸鍍罩捆包體30在輸送中受到向下之力或碰撞時,抑制蒸鍍罩20塑性變形之片材。第1緩衝片材33可具有在捆包有蒸鍍罩20之狀態下可吸收施加於蒸鍍罩20之力或碰撞之程度之可撓曲性。第1緩衝片材33可具有可支持蒸鍍罩積層體50之程度之機械強度。
如圖7所示般,第1緩衝片材33可在自法線方向N觀察時,以沿著第1方向D1及第2方向D2之方式形成為矩形形狀。第1緩衝片材33可具有沿著第1方向D1之長度方向。
第1緩衝片材33之材料為任意。例如,第1緩衝片材33可由PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜構成。PET膜比較硬,而不易形成皺褶。因此,可有效果地抑制蒸鍍罩20之塑性變形。
圖5所示之第1緩衝片材33之厚度T2為任意。例如,厚度T2例如可為0.05 mm以上,亦可為0.08 mm以上,亦可為0.10 mm以上。藉由將厚度T2設為0.05 mm以上,而可吸收力或碰撞且可確保機械強度。厚度T2例如可為0.15 mm以下,亦可為0.17 mm以下,亦可為0.20 mm以下。藉由將厚度T2設為0.20 mm以下,而可抑制蒸鍍罩積層體50變厚。厚度T2之範圍可根據包含0.05 mm、0.08 mm及0.10 mm之第1群組、及/或包含0.15 mm、0.17 mm及0.20 mm之第2群組而決定。厚度T2之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之1個、與上述第2群組所含之值中之任意之1個之組合而決定。厚度T2之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。厚度T2之範圍可根據上述第2群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。例如,可為0.05 mm以上0.20 mm以下,亦可為0.05 mm以上0.17 mm以下,亦可為0.05 mm以上0.15 mm以下,亦可為0.05 mm以上0.10 mm以下,亦可為0.05 mm以上0.08 mm以下,亦可為0.08 mm以上0.20 mm以下,亦可為0.08 mm以上0.17 mm以下,亦可為0.08 mm以上0.15 mm以下,亦可為0.08 mm以上0.10 mm以下,亦可為0.10 mm以上0.20 mm以下,亦可為0.10 mm以上0.17 mm以下,亦可為0.10 mm以上0.15 mm以下,亦可為0.15 mm以上0.20 mm以下,亦可為0.15 mm以上0.17 mm以下,亦可為0.17 mm以上0.20 mm以下。
如圖5~圖7所示般,在第1方向D1上,第1緩衝片材33之尺寸L4可大於蒸鍍罩20之尺寸L2。第1緩衝片材33可相對於蒸鍍罩20,在第1方向D1之兩側延伸至外側。在第2方向D2上,第1緩衝片材33之尺寸W3可大於蒸鍍罩20之尺寸W2。第1緩衝片材33可相對於蒸鍍罩20,在第2方向D2之兩側延伸至外側。如此般,蒸鍍罩20之整體可與第1緩衝片材33重疊。藉此,在蒸鍍罩捆包體30在輸送中受到向下之力或碰撞時,可抑制蒸鍍罩20塑性變形。
第1緩衝片材33為了抑制產生靜電,而可進行防靜電塗佈。例如,可在第1緩衝片材33之兩面形成防靜電層。作為經防靜電塗佈之第1緩衝片材33之例,可舉出以商品名CRISPER(註冊商標)而銷售之東洋紡株式會社製之聚酯系合成紙K2323-188-690 mm。
如圖5及圖6所示般,第1固定部34可將第1緩衝片材33固定於第1對向面37。第1固定部34可介置於第1對向面37與第1緩衝片材33之間。
如圖7所示般,第1固定部34在自法線方向N觀察時,可位於蒸鍍罩20之外側。第1固定部34可位於第1緩衝片材33之外緣之內側。第1固定部34可與第1緩衝片材33重疊,亦可不與蒸鍍罩20重疊。第1固定部34可位於蓋部32之凹部39之外側。第1固定部34可不與凹部39重疊。
更具體而言,如圖3及圖7所示般,第1固定部34在第1方向D1上,可包含相對於蒸鍍罩20在兩側位於外側之2個第1固定分割構件45。蒸鍍罩20可位於2個第1固定分割構件45之間,第1固定分割構件45可不與蒸鍍罩20重疊。第1固定分割構件45可沿著第2方向D2細長地延伸。該情形下,第1固定分割構件45在俯視下可形成為以第2方向D2為長度方向之矩形形狀。第1固定分割構件45可連續狀地延伸,亦可斷續地形成。該情形下,第1固定分割構件45在俯視下,可形成為以第2方向D2為長度方向之矩形形狀,亦可形成為正方形形狀、圓形形狀或橢圓形狀等任意之形狀。
第1固定部34可在第2方向D2上,包含相對於蒸鍍罩20在兩側位於外側之2個第2固定分割構件46。蒸鍍罩20可位於2個第2固定分割構件46之間,第2固定分割構件46可不與蒸鍍罩20重疊。第2固定分割構件46可沿著第1方向D1細長地延伸。該情形下,第2固定分割構件46在俯視下可形成為以第1方向D1為長度方向之矩形形狀。第2固定分割構件46可連續狀地延伸,亦可斷續地形成。該情形下,第2固定分割構件46在俯視下,可形成為以第1方向D1為長度方向之矩形形狀,亦可形成為正方形形狀、圓形形狀或橢圓形狀等任意之形狀。
在圖3及圖7所示之例中,第1固定分割構件45在第1方向D1上,位於第2固定分割構件46之兩側,第1固定分割構件45在第2方向D2上,延伸至第2固定分割構件46之後述之外側緣。然而,可行的是,第2固定分割構件46在第2方向D2上位於第1固定分割構件45之兩側,第2固定分割構件46在第1方向D1上延伸至第1固定分割構件45之後述之外側緣。又,可在第1固定分割構件45與第2固定分割構件46之間形成有間隙,或亦可無間隙地連接。
第1固定分割構件45及第2固定分割構件46可由雙面膠帶構成。雙面膠帶可包含基材、及位於基材之兩面之黏著層。基材可由任意之合成樹脂製作。黏著層只要具有黏著性,則可由任意之合成樹脂製作。作為雙面膠帶之一例,可舉出以商品名Scotch(註冊商標)銷售之3M製雙面膠帶665。然而,第1緩衝片材33亦可藉由接著劑固定於第1對向面37。該情形下,第1固定分割構件45及第2固定分割構件46可藉由接著劑硬化而形成。
圖5所示之第1固定分割構件45及第2固定分割構件46之厚度T3為任意。例如,厚度T3例如可為0.04 mm以上,亦可為0.06 mm以上,亦可為0.07 mm以上。藉由將厚度T3設為0.04 mm以上,而可確保黏著力。厚度T3例如可為0.09 mm以下,亦可為0.10 mm以下,亦可為1.20 mm以下。藉由將厚度T3設為1.20 mm以下,而可抑制第1緩衝片材33之變形,且可抑制第1固定分割構件45及第2固定分割構件46相互緩衝。厚度T3之範圍可根據包含0.04 mm、0.06 mm及0.07 mm之第1群組、及/或包含0.09 mm、0.10 mm及1.20 mm之第2群組而決定。厚度T3之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之1個、與上述第2群組所含之值中之任意之1個之組合而決定。厚度T3之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。厚度T3之範圍可根據上述第2群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。例如,可為0.04 mm以上1.20 mm以下,亦可為0.04 mm以上0.10 mm以下,亦可為0.04 mm以上0.09 mm以下,亦可為0.04 mm以上0.07 mm以下,亦可為0.04 mm以上0.06 mm以下,亦可為0.06 mm以上1.20 mm以下,亦可為0.06 mm以上0.10 mm以下,亦可為0.06 mm以上0.09 mm以下,亦可為0.06 mm以上0.07 mm以下,亦可為0.07 mm以上1.20 mm以下,亦可為0.07 mm以上0.10 mm以下,亦可為0.07 mm以上0.09 mm以下,亦可為0.09 mm以上1.20 mm以下,亦可為0.09 mm以上0.10 mm以下,亦可為0.10 mm以上1.20 mm以下。
如圖5及圖6所示般,第2緩衝片材35可位於第2對向面38。第2緩衝片材35可為用於在蒸鍍罩捆包體30在輸送中受到向上之力或碰撞時,抑制蒸鍍罩20塑性變形之片材。第2緩衝片材35之厚度可與第1緩衝片材33之厚度T2相同。第2緩衝片材35可與上述第1緩衝片材33相同地構成。因此,省略第2緩衝片材35之詳細之說明。在圖3所示之例中,為了將圖式明瞭化,而省略第2緩衝片材35。
如圖5及圖6所示般,第2固定部36可將第2緩衝片材35固定於第2對向面38。第2固定部36可介置於第2對向面38與第2緩衝片材35之間。
如圖7所示般,第2固定部36在自法線方向N觀察時,可位於蒸鍍罩20之外側。第2固定部36可位於第2緩衝片材35之外緣之內側。第2固定部36可與第2緩衝片材35重疊,亦可不與蒸鍍罩20重疊。第2固定部36可位於蓋部32之凹部39之外側。第2固定部36可不與凹部39重疊。
更具體而言,如圖3及圖7所示般,第2固定部36在第1方向D1上,可包含相對於蒸鍍罩20在兩側位於外側之2個第3固定分割構件47。蒸鍍罩20可位於2個第3固定分割構件47之間,第3固定分割構件47可不與蒸鍍罩20重疊。第3固定分割構件47可沿著第2方向D2細長地延伸。該情形下,第3固定分割構件47在俯視下可形成為以第2方向D2為長度方向之矩形形狀。第3固定分割構件47可連續狀地延伸,亦可斷續地形成。該情形下,第3固定分割構件47在俯視下,可形成為以第2方向D2為長度方向之矩形形狀,亦可形成為正方形形狀、圓形形狀或橢圓形狀等任意之形狀。第3固定分割構件47可與第1固定分割構件45重疊,亦可不與第1固定分割構件45重疊。
第2固定部36在第2方向D2上,可包含相對於蒸鍍罩20在兩側位於外側之2個第4固定分割構件48。蒸鍍罩20可位於2個第4固定分割構件48之間,第4固定分割構件48可不與蒸鍍罩20重疊。第4固定分割構件48可沿著第1方向D1細長地延伸。該情形下,第4固定分割構件48在俯視下可形成為以第1方向D1為長度方向之矩形形狀。第4固定分割構件48可連續狀地延伸,亦可斷續地形成。該情形下,第4固定分割構件48在俯視下,可形成為以第1方向D1為長度方向之矩形形狀,亦可形成為正方形形狀、圓形形狀或橢圓形狀等任意之形狀。第4固定分割構件48可與第2固定分割構件46重疊,亦可不與第2固定分割構件46重疊。
在圖3及圖7所示之例中,第3固定分割構件47在第1方向D1上,位於第4固定分割構件48之兩側,第3固定分割構件47在第2方向D2上,延伸至第4固定分割構件48之後述之外側緣。然而,可行的是,第4固定分割構件48在第2方向D2上位於第3固定分割構件47之兩側,第4固定分割構件48在第1方向D1上延伸至第3固定分割構件47之後述之外側緣。又,可在第3固定分割構件47與第4固定分割構件48之間形成有間隙,或亦可無間隙地連接。
第3固定分割構件47及第4固定分割構件48可與第1固定分割構件45及第2固定分割構件46相同地構成。例如,第3固定分割構件47及第4固定分割構件48可與第1固定分割構件45及第2固定分割構件46相同地由雙面膠帶構成。第3固定分割構件47及第4固定分割構件48之厚度可與上述第1固定分割構件45及第2固定分割構件46之厚度T3相同。省略第3固定分割構件47及第4固定分割構件48之詳細之說明。
如圖5及圖6所示般,蒸鍍罩積層體50位於承接部31與蓋部32之間。更具體而言,蒸鍍罩積層體50位於第1緩衝片材33與第2緩衝片材35之間。在捆包有蒸鍍罩20之狀態下,蒸鍍罩積層體50可由承接部31與蓋部32夾持。
蒸鍍罩積層體50可包含1個蒸鍍罩20、及複數個夾層片材51。在蒸鍍罩20之第1面20a及第2面20b,可位在夾層片材51。蒸鍍罩20可位於2個夾層片材51之間,蒸鍍罩20可由夾層片材51夾持。蒸鍍罩20之第1面20a可與承接部31之第1對向面37對向。然而,第1面20a亦可與蓋部32之第2對向面38對向。
夾層片材51可位於蒸鍍罩20與第1緩衝片材33之間。可在蒸鍍罩20與第1緩衝片材33之間介置1個或複數個夾層片材51。在本實施形態中,在蒸鍍罩20與第1緩衝片材33之間介置2個夾層片材51。在圖3中,為了將圖式明瞭化,而省略位於蒸鍍罩20與第1緩衝片材33之間之夾層片材51。
夾層片材51可位於蒸鍍罩20與第2緩衝片材35之間。可在蒸鍍罩20與第2緩衝片材35之間介置1個或複數個夾層片材51。在本實施形態中,在蒸鍍罩20與第2緩衝片材35之間介置2個緩衝片材。
夾層片材51係用於抑制因蒸鍍罩20之貫通孔25、與第1緩衝片材33或第2緩衝片材35相互鉤絆而蒸鍍罩20塑性變形之片材。因此,夾層片材51之兩面可形成為平坦狀。夾層片材51可不形成有孔或凹凸等。與蒸鍍罩20接觸之夾層片材51可不固定於蒸鍍罩20。與第1緩衝片材33接觸之夾層片材51可不固定於第1緩衝片材33。與第2緩衝片材35接觸之夾層片材51可不固定於第2緩衝片材35。
如圖7所示般,夾層片材51在自法線方向N觀察時,可以沿著第1方向D1及第2方向D2之方式形成為矩形形狀。夾層片材51可具有沿著第1方向D1之長度方向。
夾層片材51之材料為任意。例如,夾層片材51之材料可為具有與蒸鍍罩20之熱膨脹係數之差為小之熱膨脹係數之材料。例如,夾層片材51可藉由42摻合物製作。42摻合物可為含有42%之鎳之鐵合金。夾層片材51只要可抑制鉤絆於蒸鍍罩20之貫通孔25,則可藉由紙等包含纖維之材料製作,例如可藉由丙烯酸含浸紙製作。夾層片材51可由與蒸鍍罩20之材料相同之材料製作。
圖5所示之夾層片材51之厚度T4為任意。例如,厚度T4例如可為20 μm以上,亦可為70 μm以上,亦可為100 μm以上。藉由將厚度T4設為20 μm以上,而可確保夾層片材51之機械強度,且可抑制蒸鍍罩20之貫通孔25鉤絆於其他構件。厚度T4例如可為200 μm以下,亦可為250 μm以下,亦可為300 μm以下。藉由將厚度T4設為300 μm以下,而可抑制蒸鍍罩積層體50變厚。厚度T4之範圍可根據包含20 μm、70 μm及100 μm之第1群組、及/或包含200 μm、250 μm及300 μm之第2群組而決定。厚度T4之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之1個、與上述第2群組所含之值中之任意之1個之組合而決定。厚度T4之範圍可根據上述第1群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。厚度T4之範圍範圍可根據上述第2群組所含之值中之任意之2個之組合而決定。例如,可為20 μm以上300 μm以下,亦可為20 μm以上250 μm以下,亦可為20 μm以上200 μm以下,亦可為20 μm以上100 μm以下,亦可為20 μm以上70 μm以下,亦可為70 μm以上300 μm以下,亦可為70 μm以上250 μm以下,亦可為70 μm以上200 μm以下,亦可為70 μm以上100 μm以下,亦可為100 μm以上300 μm以下,亦可為100 μm以上250 μm以下,亦可為100 μm以上200 μm以下,亦可為200 μm以上300 μm以下,亦可為200 μm以上250 μm以下,亦可為250 μm以上300 μm以下。
如圖7所示般,在第1方向D1上,夾層片材51之尺寸L5可大於蒸鍍罩20之尺寸L2。夾層片材51可相對於蒸鍍罩20,在第1方向D1上之兩側延伸至外側。在第2方向D2上,夾層片材51之尺寸W4可大於蒸鍍罩20之尺寸W2。夾層片材51可相對於蒸鍍罩20,在第2方向D2上之兩側延伸至外側。如此般,蒸鍍罩20之整體可與夾層片材51重疊。藉此,可抑制蒸鍍罩20鉤絆於其他構件,而可抑制塑性變形。
在第1方向D1上,夾層片材51之尺寸L5可小於第1緩衝片材33之尺寸L4。換言之,第1緩衝片材33可相對於夾層片材51在第1方向D1上之兩側延伸至外側。在第2方向D2上,夾層片材51之尺寸W4可小於第1緩衝片材33之尺寸W3。換言之,第1緩衝片材33可相對於夾層片材51,在第2方向D2上之兩側延伸至外側。如此般,夾層片材51之整體可與第1緩衝片材33重疊。同樣地,夾層片材51之整體可與第2緩衝片材35重疊。
如圖7所示般,在自法線方向N觀察時,夾層片材51可不與第1固定部34重疊。換言之,第1固定部34可位於夾層片材51之外側。夾層片材51可位於2個第1固定分割構件45之間。夾層片材51可位於2個第2固定分割構件46之間。夾層片材51可不與第1固定分割構件45重疊,亦可不與第2固定分割構件46重疊。
更具體而言,如圖7所示般,在第1方向D1上,2個第1固定分割構件45之間之尺寸L6可大於夾層片材51之尺寸L5。尺寸L6亦稱為第1方向D1上之第1固定部34之內側尺寸。尺寸L6亦可為2個第1固定分割構件45之內側緣之間之尺寸。第1固定分割構件45之內側緣在俯視下可為第1固定分割構件45之與夾層片材51對向之緣。
在第1方向D1上,第1固定部34之尺寸L7可小於第1緩衝片材33之尺寸L4。尺寸L7亦稱為第1方向D1上之第1固定部34之外側尺寸。尺寸L7亦可為2個第1固定分割構件45之外側緣之間之尺寸。第1固定分割構件45之外側緣在俯視下可為第1固定分割構件45之與夾層片材51相反側之緣。
在第2方向D2上,2個第2固定分割構件46之間之尺寸W5可大於夾層片材51之尺寸W4。尺寸W5亦稱為第2方向D2上之第1固定部34之內側尺寸。尺寸W5可大於凹部39之尺寸W1。尺寸W4可為2個第2固定分割構件46之內側緣之間之尺寸。第2固定分割構件46之內側緣在俯視下可為第2固定分割構件46之與夾層片材51對向之緣。
在第2方向D2上,第1固定部34之尺寸W6可小於第1緩衝片材33之尺寸W3。尺寸W6亦稱為第2方向D2上之第1固定部34之外側尺寸。尺寸W6亦可為2個第2固定分割構件46之外側緣之間之尺寸。第2固定分割構件46之外側緣在俯視下可為第2固定分割構件46之與夾層片材51相反側之緣。
第1固定部34之尺寸L6與凹部39之尺寸L1之差,可大於第1固定部34之尺寸W5與凹部39之尺寸W1之差。該情形下,可使第1固定分割構件45與凹部39之第1方向D1之距離大於第2固定分割構件46與凹部39之間之第2方向D2之距離,可使第1固定分割構件45離開凹部39。該情形下,可抑制蒸鍍罩20之長度方向端部21與第1固定部34及第2固定部36重疊,而可確保用於將長度方向端部21與第2對向面38重疊之空間。可減小第1緩衝片材33及第2緩衝片材35之第2方向D2之尺寸W3,且可減小承接部31及蓋部32之第2方向D2之尺寸。
如圖7所示般,在自法線方向N觀察時,夾層片材51可不與第2固定部36重疊。換言之,第2固定部36可位於夾層片材51之外側。更具體而言,夾層片材51可位於2個第3固定分割構件47之間。夾層片材51可位於2個第4固定分割構件48之間。夾層片材51可不與第3固定分割構件47重疊,亦可不與第4固定分割構件48重疊。
第2固定部36可具有與上述第1固定部34相同之平面形狀。第2固定部36可具有與上述第1固定部34之內側尺寸L6相同之內側尺寸,亦可具有與上述第1固定部34之外側尺寸L7相同之外側尺寸。第3固定分割構件47可在俯視下以與第1固定分割構件45一致之方式重疊。然而,第3固定分割構件47只要不與夾層片材51及凹部39重疊,則在俯視下可與第1固定分割構件45局部地重疊,或不重疊。第2固定部36可具有與上述第1固定部34之內側尺寸W5相同之內側尺寸,亦可具有與上述第1固定部34之外側尺寸W6相同之外側尺寸。第4固定分割構件48可在俯視下以與第2固定分割構件46一致之方式重疊。然而,第4固定分割構件48只要不與夾層片材51及凹部39重疊,則可在俯視下與第2固定分割構件46局部地重疊,或亦可不重疊。
蒸鍍罩捆包體30可收容於未圖示之外裝袋且被密封。在密封袋內可收容有乾燥劑。該情形下,使外裝袋內之空氣乾燥,而可抑制蒸鍍罩20因水分而變質。
接著,對於本實施形態之蒸鍍罩捆包方法使用圖8~圖13進行說明。蒸鍍罩捆包方法係捆包蒸鍍罩20之方法。蒸鍍罩捆包方法可包含準備步驟、固定步驟、載置步驟、夾持步驟、及捆紮步驟。在圖8~圖13中,顯示沿著第2方向D2之剖面。
作為準備步驟,如圖8所示般,可準備包含承接部31與蓋部32及鉸鏈部41之捆包殼體40。
在準備步驟之後,作為固定步驟,可將第1緩衝片材33固定於第1對向面37。第1緩衝片材33可藉由第1固定部34固定於第1對向面37。
例如,如圖9所示般,構成第1固定部34之第1固定分割構件45(參照圖3及圖5)固定於第1對向面37之所期望之位置。在第1固定分割構件45係由雙面膠帶構成之情形下,第1固定分割構件45貼附於第1對向面37。同樣地,構成第1固定部34之第2固定分割構件46固定於第1對向面37之所期望之位置。第1固定分割構件45及第2固定分割構件46在自法線方向N觀察時,可以在後述之夾持步驟中位於蒸鍍罩20之外側之方式固定。第1固定分割構件45及第2固定分割構件46可以在後述之夾持步驟中位於夾層片材51之外側之方式固定。
其後,如圖10所示般,第1緩衝片材33載置於第1對向面37之所期望之位置。藉此,第1緩衝片材33貼附於第1固定分割構件45及第2固定分割構件46,第1緩衝片材33固定於第1對向面37。
同樣地,作為固定步驟,可將第2緩衝片材35固定於第2對向面38。第2緩衝片材35可藉由第2固定部36固定於第2對向面38。
例如,如圖9所示般,構成第2固定部36之第3固定分割構件47(參照圖3及圖5)固定於第2對向面38之所期望之位置。在第3固定分割構件47係由雙面膠帶構成之情形下,第3固定分割構件47貼附於第2對向面38。同樣地,構成第2固定部36之第4固定分割構件48固定於第2對向面38之所期望之位置。第3固定分割構件47及第4固定分割構件48在自法線方向N觀察時,可以在後述之夾持步驟中位於蒸鍍罩20之外側之方式固定。第3固定分割構件47及第4固定分割構件48可以在後述之夾持步驟中位於夾層片材51之外側之方式固定。
其後,如圖10所示般,第2緩衝片材35載置於第2對向面38之所期望之位置。藉此,第2緩衝片材35貼附於第3固定分割構件47及第4固定分割構件48,第2緩衝片材35固定於第2對向面38。
在固定步驟之後,作為載置步驟,如圖11所示般,可在第1緩衝片材33上載置包含蒸鍍罩20之蒸鍍罩積層體50。
例如,首先,在第1緩衝片材33上載置2個夾層片材51。夾層片材51載置於第1緩衝片材33之所期望之位置。夾層片材51在自法線方向N觀察時,可載置於不與第1固定部34重疊之位置。夾層片材51可載置於在後述之夾持步驟中不與第2固定部36重疊之位置。
繼而,在夾層片材51上載置蒸鍍罩20。蒸鍍罩20載置於夾層片材51之所期望之位置。蒸鍍罩20載置於不與第1固定部34重疊之位置。該情形下,在自法線方向N觀察時,第1固定部34位於蒸鍍罩20之外側。蒸鍍罩20載置於在後述之夾持步驟中不與第2固定部36重疊之位置。該情形下,在自法線方向N觀察時,第2固定部36位於蒸鍍罩20之外側。
接著,在蒸鍍罩20上載置2個夾層片材51。位於蒸鍍罩20之上方之夾層片材51,可載置於與位於蒸鍍罩20之下方之夾層片材51相同之位置。如此般,包含蒸鍍罩20與夾層片材51之蒸鍍罩積層體50載置於第1緩衝片材33上。
在載置步驟之後,作為夾持步驟,如圖12所示般,蒸鍍罩20可由承接部31與蓋部32夾持。藉由將捆包殼體40經由鉸鏈部41彎折,而蓋部32與蒸鍍罩積層體50重疊。該情形下,蓋部32之第2對向面38與承接部31之第1對向面37對向。固定於第2對向面38之第2緩衝片材35位於蒸鍍罩積層體50與蓋部32之間,與位於蒸鍍罩積層體50之最上位置之夾層片材51接觸。該情形下,在自法線方向N觀察時,第2固定部36可位於蒸鍍罩20之外側。藉此,蒸鍍罩20可不與第2固定部36重疊。蓋部32之凹部39可與蒸鍍罩20之有效區域23重疊。
在夾持步驟之後,作為捆紮步驟,如圖13所示般,藉由彈性帶60捆紮承接部31與蓋部32。如此般,將蒸鍍罩20捆包,而獲得本實施形態之蒸鍍罩捆包體30。蒸鍍罩捆包體30可收容於未圖示之外裝袋內。
如上述般獲得之蒸鍍罩捆包體30被輸送至目的地。在輸送中,有向蒸鍍罩20施加上下方向之力或碰撞之情形。因在承接部31之第1對向面37形成有凹部39,故可抑制蒸鍍罩20向下方撓曲。因此,可抑制蒸鍍罩20塑性變形。另一方面,因在蓋部32之第2對向面38形成有凹部39,故蒸鍍罩20可向上方彈性撓曲。因此,可吸收施加於蒸鍍罩20之碰撞,而可抑制蒸鍍罩20塑性變形。
到達目的地之蒸鍍罩捆包體30,可藉由與上述之蒸鍍罩捆包方法相反之步序而開捆。藉此,可取出蒸鍍罩20。在本實施形態中,蒸鍍罩20係由夾層片材51夾持,故在取出蒸鍍罩20時,可抑制蒸鍍罩20鉤絆於其他構件。因此,可抑制蒸鍍罩20塑性變形,且可提高蒸鍍罩20之開捆作業效率。
如此般根據本實施形態,第1緩衝片材33位於承接部31之第1對向面37,蓋部32與承接部31隔著第1緩衝片材33及蒸鍍罩20而重疊。藉此,在蒸鍍罩20受到向下之力或碰撞時,第1緩衝片材33可吸收力或碰撞。藉此,可抑制蒸鍍罩20塑性變形。
又,根據本實施形態,第1緩衝片材33藉由第1固定部34固定於第1對向面37。在自法線方向N觀察時,第1固定部34位於蒸鍍罩20之外側。藉此,可抑制第1固定部34與蒸鍍罩20重疊。因此,即便在將蒸鍍罩20由承接部31與蓋部32夾持時,亦可抑制在蒸鍍罩20遺留第1固定部34之痕跡。其結果,可抑制蒸鍍罩20塑性變形。
又,根據本實施形態,第1緩衝片材33在自法線方向N觀察時,以沿著第1方向D1、及與第1方向D1正交之第2方向D2之方式形成為矩形形狀。第1固定部34包含在第1方向D1上相對於蒸鍍罩20在兩側位於外側之2個第1固定分割構件45。藉此,可抑制第1緩衝片材33相對於第1對向面37沿第1方向D1偏移。因此,在將蒸鍍罩20載置於第1緩衝片材33上時,可抑制第1緩衝片材33偏移,且可提高蒸鍍罩20之捆包作業效率。例如,在第1方向D1沿著蒸鍍罩20之長度方向之情形下,可有效果地抑制第1緩衝片材33偏移。
又,根據本實施形態,第1固定部34包含在第2方向D2上相對於蒸鍍罩20在兩側位於外側之2個第2固定分割構件46。藉此,可抑制第1緩衝片材33相對於第1對向面37沿第2方向D2偏移。因此,在將蒸鍍罩20載置於第1緩衝片材33上時,可抑制第1緩衝片材33偏移,且可提高蒸鍍罩20之捆包作業效率。
又,根據本實施形態,第1固定部34在自法線方向N觀察時,位於夾層片材51之外側。藉此,可抑制夾層片材51因第1固定部34之厚度而變形。因此,可抑制蒸鍍罩20因夾層片材51而塑性變形。
又,根據本實施形態,承接部31與蓋部32經由鉸鏈部41連結。藉此,可容易地將蓋部32相對於承接部31旋動。因此,於在將蒸鍍罩20及夾層片材51載置於承接部31之第1對向面37之後,可容易地將蓋部32與蒸鍍罩20重疊。
又,根據本實施形態,第2緩衝片材35位於蓋部32之第2對向面38,蓋部32與承接部31經由第1緩衝片材33、蒸鍍罩20及第2緩衝片材35而重疊。藉此,在蒸鍍罩20受到向上之力或碰撞時,第2緩衝片材35可吸收力或碰撞。藉此,可抑制蒸鍍罩20塑性變形。
又,根據本實施形態,第2緩衝片材35藉由第2固定部36固定於第2對向面38。在自法線方向N觀察時,第2固定部36位於蒸鍍罩20之外側。藉此,可抑制第2固定部36與蒸鍍罩20重疊。因此,即便在將蒸鍍罩20由承接部31與蓋部32夾持時,亦可抑制在蒸鍍罩20遺留第2固定部36之痕跡。其結果,可抑制蒸鍍罩20塑性變形。
可對於上述實施形態施加各種變更。以下,根據需要一面參照圖式,一面對於變化例進行說明。在以下之說明及以下之說明所使用之圖式中,對於可與上述實施形態相同地構成之部分,使用與對於上述實施形態中之對應之部分使用之符號相同之符號,且省略重複之說明。又,亦有如下情形:於明確在變化例中亦可獲得在上述實施形態中獲得之作用效果時,省略其說明。
在上述之本實施形態中,對於承接部31與蓋部32經由鉸鏈部41連結之例進行了說明。然而,並不限定於此。例如,承接部31與蓋部32亦可個別構體地形成。該情形下亦然,可藉由彈性帶60捆紮承接部31與蓋部32,且由承接部31與蓋部32夾持蒸鍍罩20。
在上述之本實施形態中,對於第1固定部34包含2個第1固定分割構件45、及2個第2固定分割構件46之例進行了說明。然而,並不限定於此。例如,第1固定部34只要可抑制第1緩衝片材33偏移,則可包含合計3個固定分割構件45、46。例如,第1固定部34可包含2個第1固定分割構件45、與1個第2固定分割構件46。或者,第1固定部34可包含1個第1固定分割構件45、與2個第2固定分割構件46。例如,第1固定部34只要可抑制第1緩衝片材33偏移,則可包含合計2個固定分割構件45、46。例如,第1固定部34可包含2個第1固定分割構件45。或者,第1固定部34可包含2個第2固定分割構件46。或者,第1固定部34可包含1個第1固定分割構件45、與1個第2固定分割構件46。對於第2固定部36亦相同。
在上述之本實施形態中,對於蒸鍍罩積層體50包含1個蒸鍍罩20之例進行了說明。然而,並不限定於此。例如,如圖14所示般,蒸鍍罩積層體50可包含複數個蒸鍍罩20。該情形下,可在相鄰之2個蒸鍍罩20之間介置1個或複數個夾層片材51。在圖14所示之例中,在相鄰之2個蒸鍍罩20之間介置2個夾層片材51。如此般,藉由在相鄰之2個蒸鍍罩20之間介置夾層片材51,而可抑制蒸鍍罩20彼此鉤絆。因此,可抑制蒸鍍罩20塑性變形。例如,於在相鄰之2個蒸鍍罩20之間介置2個夾層片材51時,可有效果地抑制蒸鍍罩20彼此鉤絆。
10:蒸鍍罩裝置 15:框架 16:框架開口 20:蒸鍍罩 20a:第1面 20b:第2面 21:長度方向端部 23:有效區域 25:貫通孔 26:貫通孔群 30:蒸鍍罩捆包體 31:承接部 32:蓋部 33:第1緩衝片材 34:第1固定部 35:第2緩衝片材 36:第2固定部 37:第1對向面 38:第2對向面 39:凹部 40:捆包殼體 41:鉸鏈部 42:承接部側槽 43:蓋部側槽 44:瓦楞紙板片材 44a:開口部 45:第1固定分割構件 46:第2固定分割構件 47:第3固定分割構件 48:第4固定分割構件 50:蒸鍍罩積層體 51:夾層片材 60:彈性帶 80:蒸鍍裝置 81:蒸鍍源(坩堝) 83:加熱器 84:靜電卡盤 85:磁鐵 90:蒸鍍材料 91:基板 A-A,B-B:線 D1:第1方向 D2:第2方向 L1,L2,L3,L4,L5,L6,L7,W1,W2,W3,W4,W5,W6:尺寸 N:法線方向 T1,T2,T3,T4:厚度
圖1係顯示本揭示之一實施形態之蒸鍍裝置之圖。 圖2係顯示本揭示之一實施形態之蒸鍍罩捆包體之立體圖。 圖3係圖2所示之蒸鍍罩捆包體之分解立體圖。 圖4係顯示圖2所示之捆包殼體之側視圖。 圖5係圖2所示之蒸鍍罩捆包體之剖視圖,係相當於圖3之A-A線所示之位置之局部剖視圖。 圖6係圖2所示之蒸鍍罩捆包體之剖視圖,係相當於圖3之B-B線所示之位置之剖視圖。 圖7係顯示載置於圖3所示之第1對向面之緩衝片材、夾層片材及蒸鍍罩之平面圖。 圖8係顯示本揭示之一實施形態之蒸鍍罩捆包方法之準備步驟之剖視圖。 圖9係顯示本揭示之一實施形態之蒸鍍罩捆包方法之固定步驟之剖視圖。 圖10係顯示繼圖9後之固定步驟之剖視圖。 圖11係顯示本揭示之一實施形態之蒸鍍罩捆包方法之載置步驟之剖視圖。 圖12係顯示本揭示之一實施形態之蒸鍍罩捆包方法之夾持步驟之剖視圖。 圖13係顯示本揭示之一實施形態之蒸鍍罩捆包方法之捆紮步驟之剖視圖。 圖14係顯示圖6所示之蒸鍍罩積層體之變化例之剖視圖。
20:蒸鍍罩
21:長度方向端部
23:有效區域
26:貫通孔群
30:蒸鍍罩捆包體
31:承接部
32:蓋部
33:第1緩衝片材
34:第1固定部
35:第2緩衝片材
36:第2固定部
37:第1對向面
38:第2對向面
39:凹部
40:捆包殼體
41:鉸鏈部
45:第1固定分割構件
46:第2固定分割構件
47:第3固定分割構件
48:第4固定分割構件
50:蒸鍍罩積層體
51:夾層片材
A-A,B-B:線
D1:第1方向
D2:第2方向
N:法線方向

Claims (9)

  1. 一種蒸鍍罩捆包體,其捆包形成有複數個貫通孔之蒸鍍罩,且包含: 承接部,其包含第1對向面; 第1緩衝片材,其位於前述第1對向面; 蓋部,其包含與前述承接部之前述第1對向面對向之第2對向面,與前述承接部隔著前述第1緩衝片材及前述蒸鍍罩而重疊;及 第1固定部,其將前述第1緩衝片材固定於前述第1對向面;且 在自前述第1對向面之法線方向觀察時,前述第1固定部位於前述蒸鍍罩之外側。
  2. 如請求項1之蒸鍍罩捆包體,其中前述第1緩衝片材在自前述法線方向觀察時,以沿著第1方向、及與前述第1方向正交之第2方向之方式形成為矩形形狀, 前述第1固定部包含2個第1固定分割構件,其等相對於前述蒸鍍罩,在前述第1方向上之兩側位於外側。
  3. 如請求項2之蒸鍍罩捆包體,其中前述第1固定部包含2個第2固定分割構件,其等相對於前述蒸鍍罩,在前述第2方向上之兩側位於外側。
  4. 如請求項1至3中任一項之蒸鍍罩捆包體,其包含夾層片材,其位於前述蒸鍍罩與前述第1緩衝片材之間,且 前述第1固定部在自前述法線方向觀察時,位於前述夾層片材之外側。
  5. 如請求項1至3中任一項之蒸鍍罩捆包體,其中前述承接部與前述蓋部經由鉸鏈部連結。
  6. 如請求項1至3中任一項之蒸鍍罩捆包體,其包含第2緩衝片材,其位於前述第2對向面,且 前述蓋部與前述承接部隔著前述第1緩衝片材、前述蒸鍍罩及前述第2緩衝片材而重疊。
  7. 如請求項6之蒸鍍罩捆包體,其包含第2固定部,其將前述第2緩衝片材固定於前述第2對向面,且 在自前述法線方向觀察時,前述第2固定部位於前述蒸鍍罩之外側。
  8. 如請求項1至3中任一項之蒸鍍罩捆包體,其包含位於前述承接部與前述蓋部之間之蒸鍍罩。
  9. 一種蒸鍍罩捆包方法,其係用於捆包形成有複數個貫通孔之蒸鍍罩者,且包含: 準備步驟,其準備包含第1對向面之承接部、及包含第2對向面之蓋部; 固定步驟,其以第1固定部將第1緩衝片材固定於前述第1對向面; 載置步驟,其將前述蒸鍍罩載置於前述第1緩衝片材上;及 夾持步驟,其以前述第2對向面與前述第1對向面對向之方式將前述蓋部重疊於前述蒸鍍罩,以前述承接部與前述蓋部夾持前述蒸鍍罩;且 在自前述第1對向面之法線方向觀察時,前述第1固定部位於前述蒸鍍罩之外側。
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