CN116923863A - 蒸镀掩模包装体和蒸镀掩模包装方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种蒸镀掩模包装体和蒸镀掩模包装方法。本公开的蒸镀掩模包装体具备承接部、盖部、第1缓冲片和第2缓冲片。承接部包含第1对置面和与蒸镀掩模的贯通孔重叠的第1凹部。盖部包含与承接部的第1对置面对置的第2对置面、和与贯通孔重叠的第2凹部,盖部隔着蒸镀掩模与承接部重叠。第1缓冲片位于第1对置面与蒸镀掩模之间,覆盖第1凹部。第2缓冲片位于第2对置面与蒸镀掩模之间,覆盖第2凹部。
Description
技术领域
本公开涉及蒸镀掩模包装体和蒸镀掩模包装方法。
背景技术
在智能手机或平板PC等电子设备中,市场要求高精细的显示装置。显示装置例如具有400ppi以上或800ppi以上等的像素密度。
作为这样的显示装置,具有响应性良好和/或对比度高的有机EL显示装置受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法,已知有将构成像素的材料蒸镀在基板上的方法。在该情况下,首先,准备蒸镀掩模装置,该蒸镀掩模装置具备包含贯通孔的蒸镀掩模和支承蒸镀掩模的框架。接着,在蒸镀装置内,在使蒸镀掩模与基板紧密贴合的状态下,蒸镀有机材料或无机材料等蒸镀材料。由此,蒸镀材料附着于基板而形成蒸镀层。蒸镀层构成有机EL显示装置的显示区域。
蒸镀掩模在运输时被包装。例如,已知有具备承接部和盖部的包装体。蒸镀掩模被夹持在承接部和盖部之间。然而,根据包装体的结构,蒸镀掩模有可能发生塑性变形。
专利文献1:日本特许第6904502号公报
专利文献2:国际公开第2018-061757号公报
发明内容
本公开的实施方式的目的在于,提供一种能够抑制蒸镀掩模的塑性变形的蒸镀掩模包装体和蒸镀掩模包装方法。
本公开的蒸镀掩模包装体是对形成有多个贯通孔的蒸镀掩模进行包装的包装体。蒸镀掩模包装体具备承接部、盖部、第1缓冲片和第2缓冲片。承接部包含第1对置面和位于第1对置面的第1凹部,该第1凹部与贯通孔重叠。盖部包含:第2对置面,其与承接部的第1对置面对置;以及第2凹部,其位于第2对置面,且与贯通孔重叠,盖部隔着蒸镀掩模与承接部重叠。第1缓冲片位于第1对置面与蒸镀掩模之间,覆盖第1凹部。第2缓冲片位于第2对置面与蒸镀掩模之间,覆盖第2凹部。
本公开的蒸镀掩模包装方法是对形成有多个贯通孔的蒸镀掩模进行包装的方法。蒸镀掩模包装方法具备准备工序、载置工序和夹持工序。在准备工序中,准备承接部和盖部,所述承接部包含第1对置面和位于第1对置面的第1凹部,所述盖部包含第2对置面和位于第2对置面的第2凹部。在载置工序中,以第1缓冲片覆盖第1凹部并且贯通孔与第1凹部重叠的方式,在第1对置面上隔着第1缓冲片载置蒸镀掩模。在夹持工序中,以第2缓冲片覆盖第2凹部并且贯通孔与第2凹部重叠的方式,隔着第2缓冲片将盖部载置于蒸镀掩模,从而蒸镀掩模被承接部和盖部夹持。
根据本公开,能够抑制蒸镀掩模的塑性变形。
附图说明
图1是示出本公开的一个实施方式的蒸镀装置的图。
图2是示出本公开的一个实施方式的蒸镀掩模包装体的立体图。
图3是图2所示的蒸镀掩模包装体的分解立体图。
图4是示出图2所示的包装外壳的侧视图。
图5是图2所示的蒸镀掩模包装体的剖视图,是与图3的A-A线所示的位置相当的局部剖视图。
图6是图2所示的蒸镀掩模包装体的剖视图,是与图3的B-B线所示的位置相当的剖视图。
图7是示出载置于图3所示的第1对置面上的缓冲片、插片和蒸镀掩模的俯视图。
图8是示出本公开的一个实施方式的蒸镀掩模包装方法的准备工序的剖视图。
图9是示出本公开的一个实施方式的蒸镀掩模包装方法的固定工序的剖视图。
图10是示出与图9连续的固定工序的剖视图。
图11是示出本公开的一个实施方式的蒸镀掩模包装方法的载置工序的剖视图。
图12是示出本公开的一个实施方式的蒸镀掩模包装方法的夹持工序的剖视图。
图13是示出本公开的一个实施方式的蒸镀掩模包装方法的捆扎工序的剖视图。
图14是示出图6所示的蒸镀掩模层叠体的变形例的剖视图。
具体实施方式
在本说明书和本附图中,只要没有特别的说明,“基板”、“基材”、“板”、“片”、“膜”等表示成为某结构的基础的物质的用语并不是仅基于称呼上的不同而相互区别的。
在本说明书和本附图中,只要没有特别的说明,则对于确定形状、几何学的条件以及它们的程度的例如“平行”、“正交”等用语、长度、角度的值等,不限于严格的意思,而是包含可以期待同样的功能的程度的范围进行解释。
在本说明书和本附图中,只要没有特别的说明,则包含如下情况:某部件或者某区域等的某结构处于其他部件或者其他区域等的其他结构的“上”或“下”、“上侧”或“下侧”、或者“上方”或“下方”的情况;某结构与其他结构直接接触的情况。进而,也包含在某结构与其他结构之间包含有其他结构的情况、即间接地相接的情况。另外,只要没有特别的说明,“上”、“上侧”、“上方”、或者“下”、“下侧”、“下方”这样的语句的上下方向也可以反转。
在本说明书和本附图中,只要没有特别的说明,则对相同部分或者具有相同功能的部分标注相同的附图标记或者类似的附图标记,且有时省略其重复的说明。另外,为了便于说明,附图的尺寸比率有时与实际的比率不同,有时从附图中省略结构的一部分。
在本说明书和本附图中,只要没有特别的说明,则也可以在不产生矛盾的范围内与其他实施方式、变形例组合。另外,其他实施方式彼此、其他实施方式与变形例也可以在不产生矛盾的范围内组合。另外,变形例彼此也可以在不产生矛盾的范围内进行组合。
在本说明书和本附图中,只要没有特别的说明,在关于制造方法等方法公开多个工序的情况下,也可以在公开的工序之间实施未公开的其他工序。另外,所公开的工序的顺序在不产生矛盾的范围内是任意的。
在本说明书和本附图中,只要没有特别的说明,由“~”这样的记号表述的数值范围包含置于“~”这样的符号的前后的数值。例如,由“34~38质量%”这样的表述限定的数值范围与由“34质量%以上且38质量%以下”这样的表述限定的数值范围相同。
在本说明书的一个实施方式中,列举与如下这样的蒸镀掩模或其制造方法相关的例子进行说明:它们在制造有机EL显示装置时为了将有机材料以期望的图案在基板上构图而使用。但是,并不限定于这样的应用,对于用于各种用途的蒸镀掩模,能够应用本实施方式。例如,为了制造如下装置,也可以使用本实施方式的掩模:该装置用于显示或投影用于表现虚拟现实(所谓的VR)或增强现实(所谓的AR)的图像或影像。
本公开的第1技术方案是一种蒸镀掩模包装体,其对形成有多个贯通孔的蒸镀掩模进行包装,其中,
所述蒸镀掩模包装体具备:
承接部,其包含第1对置面和位于所述第1对置面且与所述贯通孔重叠的第1凹部;
盖部,其包含与所述承接部的所述第1对置面对置的第2对置面、和位于所述第2对置面且与所述贯通孔重叠的第2凹部,所述盖部隔着所述蒸镀掩模与所述承接部重叠;
第1缓冲片,其位于所述第1对置面与所述蒸镀掩模之间,且覆盖所述第1凹部;以及
第2缓冲片,其位于所述第2对置面与所述蒸镀掩模之间,且覆盖所述第2凹部。
本公开的第2技术方案可以是,在上述第1技术方案的蒸镀掩模包装体中,该蒸镀掩模包装体具有多个插片,该多个插片位于所述蒸镀掩模与所述第1缓冲片之间,并且位于所述蒸镀掩模与所述第2缓冲片之间。
本公开的第3技术方案可以是,在上述的第1技术方案或上述的第2技术方案的蒸镀掩模包装体中,该蒸镀掩模包装体具备将所述第1缓冲片固定于所述第1对置面的第1固定部,在所述第1对置面的法线方向上观察时,所述第1固定部位于所述蒸镀掩模的外侧。
本公开的第4技术方案可以是,在上述第1技术方案至上述第3技术方案的各个技术方案的蒸镀掩模包装体中,该蒸镀掩模包装体具备将所述第2缓冲片固定于所述第2对置面的第2固定部,在所述第2对置面的法线方向上观察时,所述第2固定部位于所述蒸镀掩模的外侧。
本公开的第5技术方案可以是,在上述的第1技术方案至上述的第4技术方案的各个技术方案的蒸镀掩模包装体中,所述承接部和所述盖部经由铰链部连结。
本公开的第6技术方案可以是,在上述的第1技术方案至上述的第5技术方案的各个技术方案的蒸镀掩模包装体中,该蒸镀掩模包装体具备位于所述承接部与所述盖部之间的蒸镀掩模。
本公开的第7技术方案是一种蒸镀掩模包装方法,其是对形成有多个贯通孔的蒸镀掩模进行包装的蒸镀掩模包装方法,其中,
所述蒸镀掩模包装方法具备:
准备工序,准备承接部和盖部,所述承接部包含第1对置面和位于所述第1对置面的第1凹部,所述盖部包含第2对置面和位于所述第2对置面的第2凹部;
载置工序,以第1缓冲片覆盖所述第1凹部并且所述贯通孔与所述第1凹部重叠的方式,将所述蒸镀掩模隔着所述第1缓冲片载置于所述第1对置面;以及
夹持工序,以第2缓冲片覆盖所述第2凹部并且所述贯通孔与所述第2凹部重叠的方式,将所述盖部隔着所述第2缓冲片载置于所述蒸镀掩模,利用所述承接部和所述盖部夹持所述蒸镀掩模。
在下文中,将参照附图详细描述本公开的一个实施方式。此外,以下所示的实施方式是本公开的实施方式的一例,本公开并不限定于这些实施方式来解释。
如图1所示,蒸镀装置80可以具备蒸镀源(例如坩埚81)、加热器83和蒸镀掩模装置10。蒸镀装置80可以具备用于使蒸镀装置80的内部成为真空气氛的排气机构(未图示)。坩埚81设置在蒸镀装置80的内部,构成为收纳有机发光材料等蒸镀材料90。加热器83构成为对坩埚81进行加热。通过在真空气氛下加热坩埚81,蒸镀材料90蒸发。
蒸镀掩模装置10可以具备框架15和固定于框架15的蒸镀掩模20。框架15可以包含框架开口16。框架开口16在俯视时与蒸镀掩模20的形成有后述的贯通孔25的有效区域23重叠。蒸镀掩模20可以以拉伸的状态固定支承于框架15。在该情况下,能够抑制蒸镀掩模20挠曲。可以在框架15上固定多个蒸镀掩模20。“俯视”是指在蒸镀掩模20的厚度方向上进行观察的用语,例如是指在图1的上下方向上观察的用语。
蒸镀掩模装置10以与坩埚81对置的方式位于蒸镀装置80内。蒸镀掩模装置10可以位于坩埚81的上方。基板91可以位于与该蒸镀掩模装置10的蒸镀掩模20面对的位置。基板91是供蒸镀材料90附着的对象物。基板91可以位于蒸镀掩模20的上方。
如图1所示,蒸镀装置80可以具备配置于基板91的上方的磁铁85。通过设置磁铁85,由此,利用磁力将蒸镀掩模20向磁铁85所处的方向吸引,能够使蒸镀掩模20紧贴于基板91。可以在基板91与磁铁85之间夹设有在蒸镀时对基板91进行冷却的冷却板(未图示)。
在使蒸镀材料90蒸镀在基板91上的情况下,从坩埚81飞来的蒸镀材料通过框架开口16和各贯通孔25附着在基板91上。由此,与贯通孔25的图案相对应,蒸镀材料90以图案状附着于基板91。
接着,对蒸镀掩模20进行说明。蒸镀掩模20可以通过蚀刻处理或镀敷处理来制作。
如图2和图3所示,蒸镀掩模20可以以具有第1方向D1和与第1方向D1正交的第2方向D2的方式形成为矩形状。第1方向可以是蒸镀掩模20的长边方向。蒸镀掩模20可以包含位于第1方向D1上的两端部的长边方向端部21。蒸镀掩模20可以包含至少1个有效区域23。有效区域23可以位于2个长边方向端部21之间。如图3所示,蒸镀掩模20也可以包含1个有效区域23。但是,蒸镀掩模20也可以包含多个有效区域23。多个有效区域23可以在第1方向D1上排列,也可以在第2方向D2上排列。多个有效区域23也可以在第1方向D1和第2方向D2上排列。
1个有效区域23可以与有机EL显示装置的1个显示区域对应。或者,1个有效区域23也可以与多个显示区域对应。有效区域23例如在俯视时可以具有大致矩形状的轮廓,但也可以具有矩形以外的形状的轮廓。
如图1所示,蒸镀掩模20可以包含第1面20a、位于第1面20a的相反侧的第2面20b、以及多个贯通孔25。贯通孔25从蒸镀掩模的第1面20a向第2面20b延伸,并贯通蒸镀掩模20。
由多个贯通孔25构成的贯通孔组26可以位于有效区域23。1个有效区域23可以由1个贯通孔组26构成。有效区域23可以是贯通孔组26所占的区域。贯通孔组26可以在俯视时与框架15的框架开口16重叠。贯通孔组26作为意味着规则地排列的多个贯通孔25的集合体的用语来使用。构成1个贯通孔组26的外缘的贯通孔25是同样规则地排列的多个贯通孔25中的位于最外侧的贯通孔25。在1个贯通孔组26中的外缘的贯通孔25的外侧,可以不存在同样规则地排列而意图使蒸镀材料90通过的贯通孔25。作为规则的排列的例子,例如,贯通孔25可以并列排列。贯通孔组26可以与有效区域23同样地具有在俯视时呈大致矩形状的轮廓。
蒸镀掩模20具有从第1面20a到第2面20b的厚度T1(参照图5)。厚度T1例如可以为2μm以上,可以为5μm以上,可以为10μm以上,可以为15μm以上。通过将厚度T1设为2μm以上,能够确保蒸镀掩模20的机械强度。另外,厚度T1例如可以为20μm以下,可以为30μm以下,可以为40μm以下,可以为50μm以下。通过使厚度T1为50μm以下,能够抑制遮蔽的发生。遮蔽是指蒸镀材料90附着于贯通孔25的壁面、从而使得形成于基板91的蒸镀层的厚度的精度降低的现象。厚度T1的范围可以通过由2μm、5μm、10μm以及15μm构成的第1组和/或由20μm、30μm、40μm以及50μm构成的第2组来确定。厚度T1的范围可以通过上述第1组中包含的值中的任意1个与上述第2组中包含的值中的任意1个的组合来确定。厚度T1的范围可以通过上述第1组中包含的值中的任意2个的组合来确定。厚度T1的范围可以通过上述的第2组中包含的值中的任意2个的组合来确定。例如,可以为2μm以上且50μm以下,可以为2μm以上且40μm以下,可以为2μm以上且30μm以下,可以为2μm以上且20μm以下,可以为2μm以上且15μm以下,可以为2μm以上且10μm以下,可以为2μm以上且5μm以下,可以为5μm以上且50μm以下,可以为5μm以上且40μm以下,可以为5μm以上且30μm以下,可以为5μm以上且20μm以下,可以为5μm以上且15μm以下,可以为5μm以上且10μm以下,可以为10μm以上且50μm以下,可以为10μm以上且40μm以下,可以为10μm以上且30μm以下,可以为10μm以上且20μm以下,可以为10μm以上且15μm以下,可以为15μm以上且50μm以下,可以为15μm以上且40μm以下,可以为15μm以上且30μm以下。可以为20μm以下,可以为20μm以上且50μm以下,可以为20μm以上且40μm以下,可以为20μm以上且30μm以下,可以为30μm以上且50μm以下,可以为30μm以上且40μm以下,可以为40μm以上且50μm以下。
蒸镀掩模20例如可以由含镍的铁合金构成。铁合金除了镍以外还可以含有钴。例如,作为蒸镀掩模20的材料,能够使用镍和钴的含量合计为30质量%以上且54质量%以下、且钴的含量为0质量%以上且6质量%以下的铁合金。作为含镍的铁合金的具体例,可以列举出含有34质量%以上且38质量%以下的镍的因瓦合金材料、含有38质量%以上且54质量%以下的镍的低热膨胀Fe-Ni系镀覆合金等。作为包含镍和钴的铁合金的具体例,可以列举出除了30质量%以上且34质量%以下的镍以外还包含钴的超因瓦合金材料等。通过使用这样的铁合金,能够降低蒸镀掩模20的热膨胀系数。例如,在使用玻璃基板作为基板91的情况下,能够将蒸镀掩模20的热膨胀系数设为与玻璃基板同等的较低的值。由此,在蒸镀工序时,能够抑制如下情况:形成于基板91的发光层的形状精度和位置精度因蒸镀掩模20与基板91之间的热膨胀系数之差而降低。
作为构成蒸镀掩模20的材料,在也可以不将热膨胀系数设为与玻璃基板同等低的值的情况下,可以代替上述的铁合金,而是例如由单质的镍构成,或者由含钴的镍合金构成。在由含钴的镍合金构成的情况下,作为蒸镀掩模20的材料,能够使用钴的含量为8质量%以上且10质量%以下的镍合金。在通过镀敷处理来制造蒸镀掩模20的情况下,通过使用这样的镍或镍合金,能够使如下的镀敷液稳定,该镀敷液用于使形成蒸镀掩模20的镀敷覆膜析出。因此,能够使镀覆处理的管理变得容易,并且能够提高处理性。另外,能够使镀敷覆膜的成分均等,从而能够提高蒸镀掩模20的品质。
接着,对包装上述蒸镀掩模20的蒸镀掩模包装体30进行说明。蒸镀掩模包装体30构成为对具有形成有多个贯通孔25的贯通孔组26的蒸镀掩模20进行包装。
如图2和图3所示,蒸镀掩模包装体30可以具备承接部31、盖部32、第1缓冲片33、第1固定部34、第2缓冲片35、第2固定部36和蒸镀掩模层叠体50。蒸镀掩模层叠体50可以位于承接部31与盖部32之间。蒸镀掩模层叠体50可以包含上述的蒸镀掩模20。如图2所示,盖部32可以在包装了蒸镀掩模20的状态下位于承接部31的上方。
承接部31和盖部32可以被弹性带60捆扎。在图2所示的例子中,承接部31和盖部32被2个弹性带60捆扎,但只要能够抑制承接部31和盖部32发生偏移,则弹性带60的个数是任意的。
如图3和图4所示,承接部31可以包含第1对置面37a和第1凹部37b。第1凹部37b位于第1对置面37a,且以从第1对置面37a凹陷的方式形成。第1对置面37a可以在第1凹部37b以外的区域形成为平坦状。或者,只要能够将后述的第1缓冲片33固定为平坦状,则第1对置面37a在第1凹部37b以外的区域中也可以形成小的凹凸等,也可以不形成为平坦状。第1凹部37b可以以在法线方向N上观察时具有长边方向的方式形成为矩形状。第1凹部37b的长边方向可以沿着待包装的蒸镀掩模20的长边方向。第1凹部37b的长边方向可以沿着第1方向D1。法线方向N可以是在蒸镀掩模20被包装的状态下与第1对置面37a垂直的方向,也可以是与后述的第2对置面38a垂直的方向。法线方向N可以沿着蒸镀掩模20的厚度方向。
如图7所示,在第1方向D1上,第1凹部37b的尺寸L11可以比蒸镀掩模20的尺寸L2小。换言之,蒸镀掩模20可以相对于第1凹部37b在第1方向D1上的两侧向外侧延伸。蒸镀掩模20的长边方向端部21可以与第1对置面37a重叠。在蒸镀掩模20被包装的状态下,蒸镀掩模20的长边方向端部21可以被第1对置面37a和第2对置面38a夹持。在第1方向D1上,第1凹部37b的尺寸L11可以比有效区域23的尺寸L3大。
在第2方向D2上,第1凹部37b的尺寸W11可以比蒸镀掩模20的尺寸W2大。第1凹部37b可以相对于蒸镀掩模20在第2方向D2上的两侧向外侧延伸。这样,有效区域23的整体可以与第1凹部37b重叠。由此,在蒸镀掩模包装体30在运输中受到上下方向的力或冲击的情况下,能够使蒸镀掩模20的有效区域23向第1凹部37b内挠曲。因此,能够抑制有效区域23发生塑性变形。
如图5和图6所示,盖部32隔着第1缓冲片33、蒸镀掩模层叠体50和第2缓冲片35重叠于承接部31。盖部32可以包含第2对置面38a和第2凹部38b。第2对置面38a在蒸镀掩模20被包装的状态下与承接部31的第1对置面37a对置。第2凹部38b位于第2对置面38a,以从第2对置面38a凹陷的方式形成。第2对置面38a可以在第2凹部38b以外的区域形成为平坦状。或者,只要能够将后述的第2缓冲片35固定为平坦状,则第2对置面38a也可以在第2凹部38b以外的区域形成小的凹凸等,可以不形成为平坦状。第2凹部38b可以以在法线方向N上观察时具有长边方向的方式形成为矩形状。第2凹部38b的长边方向可以沿着待包装的蒸镀掩模20的长边方向。第2凹部38b的长边方向可以沿着第1方向D1。
如图7所示,在第1方向D1上,第2凹部38b的尺寸L12可以比蒸镀掩模20的尺寸L2小。换言之,蒸镀掩模20可以相对于第2凹部38b在第1方向D1上的两侧向外侧延伸。蒸镀掩模20的长边方向端部21可以与第2对置面38a重叠。在蒸镀掩模20被包装的状态下,蒸镀掩模20的长边方向端部21可以被第1对置面37a和第2对置面38a夹持。在第1方向D1上,第2凹部38b的尺寸L12可以大于有效区域23的尺寸L3。
在第2方向D2上,第2凹部38b的尺寸W12可以比蒸镀掩模20的尺寸W2大。第2凹部38b可以相对于蒸镀掩模20在第2方向D2上的两侧向外侧延伸。这样,有效区域23的整体可以与第2凹部38b重叠。由此,在蒸镀掩模包装体30在运输中受到上下方向的力或冲击的情况下,能够使蒸镀掩模20的有效区域23向第2凹部38b内挠曲。因此,能够抑制有效区域23发生塑性变形。
在法线方向N上观察时,第2凹部38b可以与第1凹部37b重叠。第2凹部38b可以与第1凹部37b一致。然而,并不限定于此,第2凹部38b也可以与第1凹部37b错开。
第2凹部38b的尺寸L12可以与第1凹部37b的尺寸L11相等。然而,不限于此,尺寸L12也可以与尺寸L11不同。例如,尺寸L12可以大于尺寸L11。在该情况下,第2凹部38b可以相对于第1凹部37b在第1方向D1上的两侧向外侧延伸。或者,例如,尺寸L12可以比尺寸L11小。在该情况下,第1凹部37b可以相对于第2凹部38b在第1方向D1上的两侧向外侧延伸。
第2凹部38b的尺寸W12可以与第1凹部37b的尺寸W11相等。然而,不限于此,尺寸W12也可以与尺寸W11不同。例如,尺寸W12可以大于尺寸W11。在该情况下,第2凹部38b可以相对于第1凹部37b在第2方向D2上的两侧向外侧延伸。或者,例如,尺寸W12也可以比尺寸W11小。在该情况下,第1凹部37b可以相对于第2凹部38b在第2方向D2上的两侧向外侧延伸。
如图3和图4所示,承接部31以及盖部32可以构成包装外壳40。包装外壳40可以包含将承接部31与盖部32连结的铰链部41。在该情况下,可以是,承接部31与盖部32经由铰链部41连结,盖部32能够相对于承接部31转动。包装外壳40可以是能够弯折。包装外壳40既可以如图3和图4所示那样能够展开,也可以如图2和图6所示那样能够弯折。
如图4所示,承接部31、盖部32以及铰链部41可以形成为一体。可以在承接部31与铰链部41之间形成承接部侧槽42。可以在铰链部41与盖部32之间形成有盖部侧槽43。这样,承接部31和盖部32可以是能够相对转动,包装外壳40可以是能够弯折。
包装外壳40可以由1个或多个瓦楞纸板44形成。例如,包装外壳40可以是将2个瓦楞纸板44重叠而形成。各个瓦楞纸板44包含2个衬板和夹设于衬板之间的具有波形状的横截面的中芯。在重叠多个瓦楞纸板44的情况下,可以以彼此相邻的瓦楞纸板44的中芯的波形状的脊部或谷部所延伸的方向正交的方式重叠瓦楞纸板44。在该情况下,能够提高包装外壳40的机械强度。瓦楞纸板44可以是塑料制。为了抑制静电产生,可以对瓦楞纸板44进行防静电涂布。例如,可以在瓦楞纸板44的两面形成防静电层。
在包装外壳40由2个瓦楞纸板44构成的情况下,承接部31的第1凹部37b可以由形成于一个瓦楞纸板44的第1开口部44a构成。在该情况下,第1开口部44a可以贯通该瓦楞纸板44。第1开口部44a形成于构成第1对置面37a的瓦楞纸板44。在另一个瓦楞纸板44上可以不形成第1开口部44a。
同样地,在包装外壳40由2个瓦楞纸板44构成的情况下,盖部32的第2凹部38b可以由形成于一个瓦楞纸板44的第2开口部44b构成。在该情况下,第2开口部44b可以贯通该瓦楞纸板44。第2开口部44b形成于构成第2对置面38a的瓦楞纸板44。在另一个瓦楞纸板44上可以不形成第2开口部44b。
如图5及图6所示,第1缓冲片33可以位于第1对置面37a。第1缓冲片33可以覆盖第1凹部37b。第1缓冲片33可以是这样的片:其用于在蒸镀掩模包装体30在运输中受到上下方向的力或冲击的情况下抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。第1缓冲片33可以具有能够吸收在蒸镀掩模20被包装的状态下对蒸镀掩模20施加的力或冲击的程度的挠性。第1缓冲片33可以具有能够支承蒸镀掩模层叠体50的程度的机械强度。
如图7所示,第1缓冲片33可以以在法线方向N上观察时沿着第1方向D1及第2方向D2的方式形成为矩形状。第1缓冲片33可以具有沿着第1方向D1的长边方向。
第1缓冲片33的材料是任意的。例如,第1缓冲片33可以由PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜构成。PET膜比较硬,难以形成褶皱。因此,能够有效地抑制蒸镀掩模20的塑性变形。
图5所示的第1缓冲片33的厚度T2是任意的。例如,厚度T2例如可以为0.05mm以上,可以为0.08mm以上,可以为0.10mm以上。通过将厚度T2设为0.05mm以上,能够吸收力或冲击,并且能够确保机械强度。厚度T2例如可以为0.15mm以下,可以为0.17mm以下,可以为0.20mm以下。通过将厚度T2设为0.20mm以下,能够抑制蒸镀掩模层叠体50变厚。厚度T2的范围可以通过由0.05mm、0.08mm以及0.10mm构成的第1组和/或由0.15mm、0.17mm以及0.20mm构成的第2组来确定。厚度T2的范围可以通过上述第1组中包含的值中的任意1个与上述第2组中包含的值中的任意1个的组合来确定。厚度T2的范围可以通过上述第1组中包含的值中的任意2个的组合来确定。厚度T2的范围可以通过上述的第2组中包含的值中的任意2个的组合来确定。例如,可以为0.05mm以上且0.20mm以下,可以为0.05mm以上且0.17mm以下,可以为0.05mm以上且0.15mm以下,可以为0.05mm以上且0.10mm以下,可以为0.05mm以上且0.08mm以下,可以为0.08mm以上且0.20mm以下,可以为0.08mm以上且0.17mm以下,可以为0.08mm以上且0.15mm以下,可以为0.08mm以上且0.10mm以下,可以为0.10mm以上且0.20mm以下,可以为0.10mm以上且0.17mm以下,可以为0.10mm以上且0.15mm以下,可以为0.15mm以上且0.20mm以下,可以为0.15mm以上且0.17mm以下,可以为0.17mm以上且0.20mm以下。
如图5-图7所示,在第1方向D1上,第1缓冲片33的尺寸L4可以比蒸镀掩模20的尺寸L2大。第1缓冲片33可以相对于蒸镀掩模20在第1方向D1上的两侧向外侧延伸。在第2方向D2上,第1缓冲片33的尺寸W3可以比蒸镀掩模20的尺寸W2大。第1缓冲片33可以相对于蒸镀掩模20在第2方向D2上的两侧向外侧延伸。这样,蒸镀掩模20的整体可以与第1缓冲片33重叠。由此,在蒸镀掩模包装体30在运输中受到上下方向的力或冲击的情况下,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。
为了抑制静电的产生,可以对第1缓冲片33进行防静电涂布。例如,可以在第1缓冲片33的两面形成防静电层。作为进行了防静电涂布的第1缓冲片33的例子,可列举出作为商品名Crispr(注册商标)销售的东洋纺株式会社制的聚酯系合成纸K2323-188-690mm。
如图5及图6所示,第1固定部34可以将第1缓冲片33固定于第1对置面37a。第1固定部34可以介于第1对置面37a与第1缓冲片33之间。
如图7所示,在法线方向N上观察时,第1固定部34可以位于蒸镀掩模20的外侧。第1固定部34可以位于第1缓冲片33的外缘的内侧。第1固定部34可以与第1缓冲片33重叠,可以不与蒸镀掩模20重叠。第1固定部34可以位于承接部31的第1凹部37b的外侧,可以位于盖部32的第2凹部38b的外侧。第1固定部34可以不与第2凹部38b重叠。
第1固定部34可以包含第1固定分割部件45和第2固定分割部件46。
更具体而言,如图3和图7所示,第1固定部34可以包含在第1方向D1上相对于蒸镀掩模20在两侧位于外侧的2个第1固定分割部件45。蒸镀掩模20可以位于2个第1固定分割部件45之间,第1固定分割部件45可以不与蒸镀掩模20重叠。第1固定分割部件45可以沿着第2方向D2细长地延伸。在该情况下,第1固定分割部件45可以形成为在俯视时以第2方向D2为长边方向的矩形状。第1固定分割部件45可以呈连续状延伸,也可以断续地形成。在该情况下,第1固定分割部件45在俯视时可以形成为以第2方向D2为长边方向的矩形状,也可以形成为正方形状、圆形状或椭圆形状等任意的形状。
第1固定部34可以包含在第2方向D2上相对于蒸镀掩模20在两侧位于外侧的2个第2固定分割部件46。蒸镀掩模20可以位于2个第2固定分割部件46之间,第2固定分割部件46可以不与蒸镀掩模20重叠。第2固定分割部件46可以沿着第1方向D1细长地延伸。在该情况下,第2固定分割部件46可以形成为在俯视时以第1方向D1为长边方向的矩形状。第2固定分割部件46可以呈连续状延伸,也可以断续地形成。在该情况下,第2固定分割部件46在俯视时可以形成为以第1方向D1为长边方向的矩形状,也可以形成为正方形状、圆形状或椭圆形状等任意的形状。
在图3和图7所示的例子中,第1固定分割部件45在第1方向D1上位于第2固定分割部件46的两侧,第1固定分割部件45在第2方向D2上延伸至第2固定分割部件46的后述的外侧缘。然而,也可以是,第2固定分割部件46在第2方向D2上位于第1固定分割部件45的两侧,且第2固定分割部件46在第1方向D1上延伸至第1固定分割部件45的后述的外侧缘。另外,可以在第1固定分割部件45与第2固定分割部件46之间形成间隙,或者也可以无间隙地连接。
第1固定分割部件45和第2固定分割部件46可以由双面胶带构成。双面胶带可以包含基材和位于基材的两面的粘合层。基材可以由任意的合成树脂制作。粘合层只要具有粘合性,则可以由任意的合成树脂制作。作为双面胶带的一例,可以列举出作为商品名Scotch(注册商标)销售的3M制的双面胶带665。然而,第1缓冲片33也可以通过粘接剂固定于第1对置面37。在该情况下,第1固定分割部件45及第2固定分割部件46可以通过使粘接剂固化而形成。
图5所示的第1固定分割部件45及第2固定分割部件46的厚度T3是任意的。例如,厚度T3例如可以为0.04mm以上,可以为0.06mm以上,可以为0.07mm以上。通过将厚度T3设为0.04mm以上,能够确保粘合力。厚度T3例如可以为0.09mm以下,可以为0.10mm以下,可以为1.20mm以下。通过将厚度T3设为1.20mm以下,能够抑制第1缓冲片33的变形,并且能够抑制第1固定分割部件45和第2固定分割部件46相互缓冲。厚度T3的范围可以通过由0.04mm、0.06mm以及0.07mm构成的第1组和/或由0.09mm、0.10mm以及1.20mm构成的第2组来确定。厚度T3的范围可以通过上述第1组中包含的值中的任意1个与上述第2组中包含的值中的任意1个的组合来确定。厚度T3的范围可以通过上述第1组中包含的值中的任意2个的组合来确定。厚度T3的范围可以通过上述第2组中包含的值中的任意2个的组合来确定。例如,可以为0.04mm以上且1.20mm以下,可以为0.04mm以上且0.10mm以下,可以为0.04mm以上且0.09mm以下,可以为0.04mm以上且0.07mm以下,可以为0.04mm以上且0.06mm以下,可以为0.06mm以上且1.20mm以下,可以为0.06mm以上且0.10mm以下,可以为0.06mm以上且0.09mm以下,可以为0.06mm以上且0.07mm以下,可以为0.07mm以上且1.20mm以下,可以为0.07mm以上且0.10mm以下,可以为0.07mm以上且0.09mm以下,可以为0.09mm以上且1.20mm以下,可以为0.09mm以上且0.10mm以下,可以为0.10mm以上且1.20mm以下。
如图5及图6所示,第2缓冲片35可以位于第2对置面38a。第2缓冲片35可以覆盖第2凹部38b。第2缓冲片35可以是这样的片:其用于在蒸镀掩模包装体30在运输中受到上下方向的力或冲击的情况下抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。第2缓冲片35的厚度可以与第1缓冲片33的厚度T2相等,或者也可以不同。第2缓冲片35可以与上述的第1缓冲片33同样地构成。因此,省略第2缓冲片35的详细说明。在图3所示的例子中,为了使附图清楚,省略了第2缓冲片35。
如图5及图6所示,第2固定部36可以将第2缓冲片35固定于第2对置面38a。第2固定部36可以介于第2对置面38a与第2缓冲片35之间。
如图7所示,在法线方向N上观察时,第2固定部36可以位于蒸镀掩模20的外侧。第2固定部36可以位于第2缓冲片35的外缘的内侧。第2固定部36可以与第2缓冲片35重叠,可以不与蒸镀掩模20重叠。第2固定部36可以位于承接部31的第1凹部37b的外侧,可以位于盖部32的第2凹部38b的外侧。第2固定部36可以不与第2凹部38b重叠。
第2固定部36可以包含第3固定分割部件47和第4固定分割部件48。
更具体而言,如图3和图7所示,第2固定部36可以包含在第1方向D1上相对于蒸镀掩模20在两侧位于外侧的2个第3固定分割部件47。蒸镀掩模20可以位于2个第3固定分割部件47之间,第3固定分割部件47可以不与蒸镀掩模20重叠。第3固定分割部件47可以沿着第2方向D2细长地延伸。在该情况下,第3固定分割部件47可以形成为在俯视时以第2方向D2为长边方向的矩形状。第3固定分割部件47可以呈连续状延伸,也可以断续地形成。在该情况下,第3固定分割部件47在俯视时可以形成为以第2方向D2为长边方向的矩形状,也可以形成为正方形状、圆形状或椭圆形状等任意的形状。第3固定分割部件47可以与第1固定分割部件45重叠,也可以不与第1固定分割部件45重叠。
第2固定部36可以包含在第2方向D2上相对于蒸镀掩模20在两侧位于外侧的2个第4固定分割部件48。蒸镀掩模20可以位于2个第4固定分割部件48之间,第4固定分割部件48可以不与蒸镀掩模20重叠。第4固定分割部件48可以沿着第1方向D1细长地延伸。在该情况下,第4固定分割部件48可以形成为在俯视时以第1方向D1为长边方向的矩形状。第4固定分割部件48可以呈连续状延伸,也可以断续地形成。在该情况下,第4固定分割部件48在俯视时可以形成为以第1方向D1为长边方向的矩形状,也可以形成为正方形状、圆形状或椭圆形状等任意的形状。第4固定分割部件48可以与第2固定分割部件46重叠,也可以不与第2固定分割部件46重叠。
在图3和图7所示的例子中,第3固定分割部件47在第1方向D1上位于第4固定分割部件48的两侧,第3固定分割部件47在第2方向D2上延伸至第4固定分割部件48的后述的外侧缘。然而,也可以是,第4固定分割部件48在第2方向D2上位于第3固定分割部件47的两侧,且第4固定分割部件48在第1方向D1上延伸至第3固定分割部件47的后述的外侧缘。另外,可以在第3固定分割部件47与第4固定分割部件48之间形成间隙,或者也可以无间隙地连接。
第3固定分割部件47和第4固定分割部件48可以与第1固定分割部件45和第2固定分割部件46同样地构成。例如,第3固定分割部件47和第4固定分割部件48可以与第1固定分割部件45和第2固定分割部件46同样地由双面胶带构成。第3固定分割部件47和第4固定分割部件48的厚度可以与上述的第1固定分割部件45和第2固定分割部件46的厚度T3相等,或者也可以不同。省略第3固定分割部件47及第4固定分割部件48的详细说明。
如图5及图6所示,蒸镀掩模层叠体50位于承接部31与盖部32之间。更具体而言,蒸镀掩模层叠体50位于第1缓冲片33与第2缓冲片35之间。在蒸镀掩模20被包装的状态下,蒸镀掩模层叠体50可以被承接部31和盖部32夹持。
蒸镀掩模层叠体50可以包含1个蒸镀掩模20和多个插片51。插片51可以位于蒸镀掩模20的第1面20a和第2面20b。蒸镀掩模20可以位于2个插片51之间,蒸镀掩模20可以被插片51夹持。蒸镀掩模20的第1面20a可以与承接部31的第1对置面37a对置。然而,第1面20a也可以与盖部32的第2对置面38a对置。
插片51可以位于蒸镀掩模20与第1缓冲片33之间。可以在蒸镀掩模20与第1缓冲片33之间夹设有1个或多个插片51。在本实施方式中,在蒸镀掩模20与第1缓冲片33之间夹设有2个插片51。在图3中,为了使附图清楚,省略了位于蒸镀掩模20与第1缓冲片33之间的插片51。
插片51可以位于蒸镀掩模20与第2缓冲片35之间。可以在蒸镀掩模20与第2缓冲片35之间夹设有1个或多个插片51。在本实施方式中,在蒸镀掩模20与第2缓冲片35之间夹设有2个插片51。
插片51是用于如下用途的片:其通过抑制蒸镀掩模20的贯通孔25与第1缓冲片33或第2缓冲片35相互卡挂,由此抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。因此,插片51的两面可以形成为平坦状。在插片51上可以不形成孔、凹凸等。与蒸镀掩模20相接的插片51可以不固定于蒸镀掩模20。与第1缓冲片33相接的插片51可以不固定于第1缓冲片33。与第2缓冲片35相接的插片51可以不固定于第2缓冲片35。
如图7所示,在法线方向N上观察时,插片51可以以沿着第1方向D1及第2方向D2的方式形成为矩形状。插片51可以具有沿着第1方向D1的长边方向。
插片51的材料是任意的。例如,插片51的材料可以是具有与蒸镀掩模20的热膨胀系数之差较小的热膨胀系数的材料。例如,插片51可以由42合金制作。42合金可以是含有42%的镍的铁合金。插片51只要能够抑制与蒸镀掩模20的贯通孔25卡挂的情况,则也可以由纸等包含纤维的材料制作,例如,可以由丙烯酸浸渍纸制作。插片51也可以由与蒸镀掩模20的材料相同的材料制作。
图5所示的插片51的厚度T4是任意的。例如,厚度T4例如可以为20μm以上,可以为70μm以上,可以为100μm以上。通过将厚度T4设为20μm以上,能够确保插片51的机械强度,能够抑制蒸镀掩模20的贯通孔25与其他部件卡挂。厚度T4例如可以为200μm以下,可以为250μm以下,可以为300μm以下。通过使厚度T4为300μm以下,能够抑制蒸镀掩模层叠体50变厚。厚度T4的范围可以通过由20μm、70μm以及100μm构成的第1组和/或由200μm、250μm以及300μm构成的第2组来确定。厚度T4的范围可以通过上述第1组中包含的值中的任意1个与上述第2组中包含的值中的任意1个的组合来确定。厚度T4的范围可以由上述第1组中包含的值中的任意2个的组合来确定。厚度T4的范围可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个的组合来确定。例如,可以为20μm以上且300μm以下,可以为20μm以上且250μm以下,可以为20μm以上且200μm以下,可以为20μm以上且100μm以下,可以为20μm以上且70μm以下,可以为70μm以上且300μm以下,可以为70μm以上且250μm以下,可以为70μm以上且200μm以下,可以为70μm以上且100μm以下,可以为100μm以上且300μm以下,可以为100μm以上且250μm以下,可以为100μm以上且200μm以下,可以为200μm以上且300μm以下,可以为200μm以上且250μm以下,可以为250μm以上且300μm以下。
如图7所示,在第1方向D1上,插片51的尺寸L5可以比蒸镀掩模20的尺寸L2大。插片51可以相对于蒸镀掩模20在第1方向D1上的两侧向外侧延伸。在第2方向D2上,插片51的尺寸W4可以比蒸镀掩模20的尺寸W2大。插片51可以相对于蒸镀掩模20在第2方向D2上的两侧向外侧延伸。这样,蒸镀掩模20的整体可以与插片51重叠。由此,能够抑制蒸镀掩模20与其他部件卡挂,能够抑制其发生塑性变形。
在第1方向D1上,插片51的尺寸L5可以比第1缓冲片33的尺寸L4小。换言之,第1缓冲片33可以相对于插片51在第1方向D1上的两侧向外侧延伸。在第2方向D2上,插片51的尺寸W4可以比第1缓冲片33的尺寸W3小。换言之,第1缓冲片33可以相对于插片51在第2方向D2上的两侧向外侧延伸。这样,插片51的整体可以与第1缓冲片33重叠。同样地,插片51的整体可以与第2缓冲片35重叠。
如图7所示,在法线方向N上观察时,插片51可以不与第1固定部34重叠。换言之,第1固定部34可以位于插片51的外侧。插片51可以位于2个第1固定分割部件45之间。插片51可以位于2个第2固定分割部件46之间。插片51可以不与第1固定分割部件45重叠,可以不与第2固定分割部件46重叠。
更具体而言,如图7所示,在第1方向D1上,2个第1固定分割部件45之间的尺寸L6可以大于插片51的尺寸L5。尺寸L6也被称为第1方向D1上的第1固定部34的内侧尺寸。更具体而言,尺寸L6可以是构成第1固定部34的2个第1固定分割部件45的内侧缘之间的尺寸。第1固定分割部件45的内侧缘可以是俯视时的、第1固定分割部件45的与插片51对置的缘。
在第1方向D1上,第1固定部34的尺寸L7可以比第1缓冲片33的尺寸L4小。尺寸L7也被称为第1方向D1上的第1固定部34的外侧尺寸。更具体而言,尺寸L7可以是构成第1固定部34的2个第1固定分割部件45的外侧缘之间的尺寸。第1固定分割部件45的外侧缘可以是俯视时的、第1固定分割部件45的与插片51相反的一侧的缘。
在第2方向D2上,2个第2固定分割部件46之间的尺寸W5可以大于插片51的尺寸W4。尺寸W5也被称为第2方向D2上的第1固定部34的内侧尺寸。尺寸W5可以比第1凹部37b的尺寸W11大,可以比第2凹部38b的尺寸W12大。更具体而言,尺寸W5可以是构成第1固定部34的2个第2固定分割部件46的内侧缘之间的尺寸。第2固定分割部件46的内侧缘可以是俯视时的第2固定分割部件46的与插片51对置的缘。
在第2方向D2上,第1固定部34的尺寸W6可以比第1缓冲片33的尺寸W3小。尺寸W6也被称为第2方向D2上的第1固定部34的外侧尺寸。更具体而言,尺寸W6可以是构成第1固定部34的2个第2固定分割部件46的外侧缘之间的尺寸。第2固定分割部件46的外侧缘可以是俯视时的第2固定分割部件46的与插片51相反的一侧的缘。
第1固定部34的尺寸L6与第1凹部37b的尺寸L11之差可以大于第1固定部34的尺寸W5与第1凹部37b的尺寸W11之差。在该情况下,能够使第1固定分割部件45与第1凹部37b在第1方向D1上的距离大于第2固定分割部件46与第1凹部37b之间在第2方向D2上的距离,从而能够使第1固定分割部件45远离第1凹部37b。在该情况下,能够抑制蒸镀掩模20的长边方向端部21与第1固定部34和第2固定部36重叠,从而能够确保用于使长边方向端部21与第1对置面37a重叠的空间。能够减小第1缓冲片33及第2缓冲片35在第2方向D2上的尺寸W3,能够减小承接部31及盖部32在第2方向D2上的尺寸。
第1固定部34的尺寸L6与第2凹部38b的尺寸L12之差可以大于第1固定部34的尺寸W5与第2凹部38b的尺寸W12之差。在该情况下,能够使第1固定分割部件45与第2凹部38b在第1方向D1上的距离大于第2固定分割部件46与第2凹部38b之间在第2方向D2上的距离,从而能够使第1固定分割部件45远离第2凹部38b。在该情况下,能够抑制蒸镀掩模20的长边方向端部21与第1固定部34和第2固定部36重叠,从而能够确保用于使长边方向端部21与第2对置面38a重叠的空间。能够减小第1缓冲片33及第2缓冲片35在第2方向D2上的尺寸W3,能够减小承接部31及盖部32在第2方向D2上的尺寸。
如图7所示,在法线方向N上观察时,插片51可以不与第2固定部36重叠。换言之,第2固定部36可以位于插片51的外侧。更具体而言,插片51可以位于2个第3固定分割部件47之间。插片51可以位于2个第4固定分割部件48之间。插片51可以不与第3固定分割部件47重叠,可以不与第4固定分割部件48重叠。
第2固定部36可以具有与上述的第1固定部34相同的平面形状。第2固定部36可以具有与上述的第1固定部34的内侧尺寸L6相同的内侧尺寸,可以具有与上述的第1固定部34的外侧尺寸L7相同的外侧尺寸。第3固定分割部件47可以在俯视时以与第1固定分割部件45一致的方式重叠。然而,第3固定分割部件47只要不与插片51及凹部37b、38b重叠,则在俯视时可以与第1固定分割部件45部分重叠,或者也可以不重叠。第2固定部36可以具有与上述的第1固定部34的内侧尺寸W5相同的内侧尺寸,可以具有与上述的第1固定部34的外侧尺寸W6相同的外侧尺寸。第4固定分割部件48可以在俯视观察时以与第2固定分割部件46一致的方式重叠。然而,第4固定分割部件48只要不与插片51及凹部37b、38b重叠,则在俯视时可以与第2固定分割部件46部分地重叠,或者也可以不重叠。
蒸镀掩模包装体30可以收纳于未图示的外装袋并被密封。可以在密封袋内收纳有干燥剂。在该情况下,能够使外装袋内的空气干燥,抑制蒸镀掩模20因水分而变质的情况。
接着,使用图8~图13对本实施方式的蒸镀掩模包装方法进行说明。蒸镀掩模包装方法是包装蒸镀掩模20的方法。蒸镀掩模包装方法可以具备准备工序、固定工序、载置工序、夹持工序以及捆扎工序。在图8~图13中,示出了沿着第2方向D2的截面。
作为准备工序,如图8所示,可以准备包含承接部31、盖部32和铰链部41的包装外壳40。
在准备工序之后,作为固定工序,可以将第1缓冲片33固定于第1对置面37a。第1缓冲片33可以通过第1固定部34固定于第1对置面37a。第1缓冲片33可以以覆盖第1凹部37b的方式固定。
例如,如图9所示,构成第1固定部34的第1固定分割部件45(参照图3和图5)被固定于第1对置面37a的所希望的位置。在第1固定分割部件45由双面胶带构成的情况下,第1固定分割部件45粘贴于第1对置面37a。同样地,构成第1固定部34的第2固定分割部件46被固定于第1对置面37a的所希望的位置。可以是,在法线方向N上观察时,第1固定分割部件45和第2固定分割部件46以在后述的夹持工序中位于蒸镀掩模20的外侧的方式被固定。第1固定分割部件45和第2固定分割部件46可以以在后述的夹持工序中位于插片51的外侧的方式固定。
之后,如图10所示,第1缓冲片33被载置于第1对置面37a的所希望的位置。由此,第1缓冲片33被粘贴于第1固定分割部件45和第2固定分割部件46,且第1缓冲片33被固定于第1对置面37a。
同样地,作为固定工序,可以将第2缓冲片35固定于第2对置面38a。第2缓冲片35可以通过第2固定部36固定于第2对置面38a。第2缓冲片35可以以覆盖第2凹部38b的方式被固定。
例如,如图9所示,构成第2固定部36的第3固定分割部件47(参照图3和图5)被固定于第2对置面38a的所希望的位置。在第3固定分割部件47由双面胶带构成的情况下,第3固定分割部件47被粘贴于第2对置面38a。同样地,构成第2固定部36的第4固定分割部件48被固定于第2对置面38a的所希望的位置。可以是,在法线方向N上观察时,第3固定分割部件47和第4固定分割部件48以在后述的夹持工序中位于蒸镀掩模20的外侧的方式被固定。第3固定分割部件47和第4固定分割部件48可以以在后述的夹持工序中位于插片51的外侧的方式被固定。
之后,如图10所示,将第2缓冲片35载置于第2对置面38a的所希望的位置。由此,第2缓冲片35被粘贴于第3固定分割部件47和第4固定分割部件48,且第2缓冲片35被固定于第2对置面38a。
在固定工序之后,作为载置工序,如图11所示,可以在第1缓冲片33上载置包含有蒸镀掩模20的蒸镀掩模层叠体50。
例如,首先,在第1缓冲片33上载置2个插片51。插片51被载置于第1缓冲片33的所希望的位置。插片51可以载置于在法线方向N上观察时不与第1固定部34重叠的位置。插片51可以载置于在后述的夹持工序中不与第2固定部36重叠的位置。
接着,在插片51上载置蒸镀掩模20。蒸镀掩模20被载置在插片51的期望的位置。蒸镀掩模20被载置于不与第1固定部34重叠的位置。在该情况下,在法线方向N上观察时,第1固定部34位于蒸镀掩模20的外侧。蒸镀掩模20被载置于在后述的夹持工序中不与第2固定部36重叠的位置。在该情况下,在法线方向N上观察时,第2固定部36位于蒸镀掩模20的外侧。
接着,在蒸镀掩模20上载置2个插片51。位于蒸镀掩模20的上方的插片51可以载置于与位于蒸镀掩模20的下方的插片51相同的位置。这样,包含有蒸镀掩模20和插片51的蒸镀掩模层叠体50被载置于第1缓冲片33上。
在载置工序之后,作为夹持工序,如图12所示,蒸镀掩模20可以被承接部31和盖部32夹持。通过将包装外壳40经由铰链部41折弯,由此盖部32与蒸镀掩模层叠体50重叠。在该情况下,盖部32的第2对置面38a与承接部31的第1对置面37a对置。固定于第2对置面38a的第2缓冲片35位于蒸镀掩模层叠体50与盖部32之间,且与位于蒸镀掩模层叠体50的最上方位置的插片51相接。在该情况下,在法线方向N上观察时,第2固定部36可以位于蒸镀掩模20的外侧。由此,蒸镀掩模20可以不与第2固定部36重叠。盖部32的第2凹部38b可以与蒸镀掩模20的有效区域23重叠。
在夹持工序之后,作为捆扎工序,如图13所示,利用弹性带60捆扎承接部31和盖部32。这样,蒸镀掩模20被包装,能够得到本实施方式的蒸镀掩模包装体30。蒸镀掩模包装体30可以收纳于未图示的外装袋中。
将如上述那样得到的蒸镀掩模包装体30被运输到目的地。在运输中,有时会对蒸镀掩模20施加上下方向的力或冲击。由于在承接部31的第1对置面37a形成有第1凹部37b,因此蒸镀掩模20能够向下方弹性地挠曲。因此,能够将施加于蒸镀掩模20的力或冲击吸收,从而能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。另一方面,由于在盖部32的第2对置面38a形成有第2凹部38b,因此蒸镀掩模20能够向上方弹性地挠曲。因此,能够将施加于蒸镀掩模20的力或冲击吸收,从而能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。
对于到达目的地后的蒸镀掩模包装体30,可以通过与上述的蒸镀掩模包装方法相反的步骤来开封。由此,能够取出蒸镀掩模20。在本实施方式中,蒸镀掩模20被插片51夹持,因此,在取出蒸镀掩模20时,能够抑制蒸镀掩模20与其他部件卡挂。因此,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形,并且能够提高蒸镀掩模20的开封效率。
这样,根据本实施方式,第1缓冲片33位于承接部31的第1对置面37a与蒸镀掩模20之间。第1缓冲片33覆盖第1凹部37b,在法线方向N上观察时,蒸镀掩模20的贯通孔25与第1凹部37b重叠。由此,在蒸镀掩模20受到上下方向的力或冲击的情况下,由于第1凹部37b的存在,蒸镀掩模20能够向下方弹性地挠曲。因此,能够吸收施加于蒸镀掩模20的力或冲击。另外,能够利用第1缓冲片33支承蒸镀掩模20的贯通孔25所处的区域。因此,在蒸镀掩模20受到上下方向的力或冲击的情况下,第1缓冲片33能够将力或冲击吸收。其结果是,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。
另外,根据本实施方式,第2缓冲片35位于盖部32的第2对置面38a与蒸镀掩模20之间。第2缓冲片35覆盖第2凹部38b,在法线方向N上观察时,蒸镀掩模20的贯通孔25与第2凹部38b重叠。由此,在蒸镀掩模20受到上下方向的力或冲击的情况下,由于第2凹部38b的存在,蒸镀掩模20能够向上方弹性地挠曲。因此,能够吸收施加于蒸镀掩模20的力或冲击。另外,能够利用第2缓冲片35支承蒸镀掩模20的贯通孔25所处的区域。因此,在蒸镀掩模20受到上下方向的力或冲击的情况下,第2缓冲片35能够将力或冲击吸收。其结果是,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。
另外,根据本实施方式,插片51位于蒸镀掩模20与第1缓冲片33之间,并且插片51位于蒸镀掩模20与第2缓冲片35之间。由此,通过抑制蒸镀掩模20与第1缓冲片33相互卡挂,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。同样地,通过抑制蒸镀掩模20与第2缓冲片35相互卡挂,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。因此,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。
另外,根据本实施方式,第1缓冲片33通过第1固定部34固定于第1对置面37a。在法线方向N上观察时,第1固定部34位于蒸镀掩模20的外侧。由此,能够抑制第1固定部34与蒸镀掩模20重叠。因此,即使在利用承接部31和盖部32夹持蒸镀掩模20的情况下,也能够抑制在蒸镀掩模20上残留第1固定部34的痕迹。其结果,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。
另外,根据本实施方式,在法线方向N上观察时,第1缓冲片33以沿着第1方向D1和与第1方向D1正交的第2方向D2的方式形成为矩形状。第1固定部34包含在第1方向D1上相对于蒸镀掩模20在两侧位于外侧的2个第1固定分割部件45。由此,能够抑制第1缓冲片33相对于第1对置面37a在第1方向D1上偏移。因此,在将蒸镀掩模20载置在第1缓冲片33上的情况下,能够抑制第1缓冲片33发生偏移,从而能够提高蒸镀掩模20的包装作业效率。例如,在第1方向D1沿着蒸镀掩模20的长边方向的情况下,能够有效地抑制第1缓冲片33偏移。
另外,根据本实施方式,第1固定部34包含在第2方向D2上相对于蒸镀掩模20在两侧位于外侧的2个第2固定分割部件46。由此,能够抑制第1缓冲片33相对于第1对置面37a在第2方向D2上偏移。因此,在将蒸镀掩模20载置在第1缓冲片33上的情况下,能够抑制第1缓冲片33偏移,从而能够提高蒸镀掩模20的包装作业效率。
另外,根据本实施方式,在法线方向N上观察时,第1固定部34位于插片51的外侧。由此,能够抑制插片51因第1固定部34的厚度而变形的情况。因此,能够抑制蒸镀掩模20因插片51而发生塑性变形。
另外,根据本实施方式,第2缓冲片35通过第2固定部36固定于第2对置面38a。在法线方向N上观察时,第2固定部36位于蒸镀掩模20的外侧。由此,能够抑制第2固定部36与蒸镀掩模20重叠。因此,即使在利用承接部31和盖部32夹持蒸镀掩模20的情况下,也能够抑制第2固定部36的痕迹残留于蒸镀掩模20。其结果,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。
另外,根据本实施方式,承接部31与盖部32经由铰链部41连结。由此,能够容易地使盖部32相对于承接部31转动。因此,在将蒸镀掩模20及插片51载置于承接部31的第1对置面37a之后,能够容易地将盖部32重叠于蒸镀掩模20。
能够对上述的实施方式施加各种变更。以下,根据需要参照附图对变形例进行说明。在以下的说明和以下的说明所使用的附图中,对于能够与上述的实施方式同样地构成的部分,使用与对上述的实施方式中的对应的部分使用的附图标记相同的附图标记,并省略重复的说明。另外,在上述的实施方式中得到的作用效果很明显也能够在变形例中得到的情况下,有时也省略其说明。
在上述的本实施方式中,对承接部31与盖部32经由铰链部41连结的例子进行了说明。但是,并不限定于此。例如,承接部31和盖部32也可以分体地形成。在该情况下,也能够利用弹性带60将承接部31和盖部32捆扎,并利用承接部31和盖部32夹持蒸镀掩模20。
在上述的本实施方式中,对第1固定部34包含2个第1固定分割部件45和2个第2固定分割部件46的例子进行了说明。但是,并不限定于此。例如,第1固定部34只要能够抑制第1缓冲片33偏移,则也可以包含合计3个固定分割部件45、46。例如,第1固定部34可以包含2个第1固定分割部件45和1个第2固定分割部件46。或者,第1固定部34可以包含1个第1固定分割部件45和2个第2固定分割部件46。例如,第1固定部34只要能够抑制第1缓冲片33偏移,则可以包含合计2个固定分割部件45、46。例如,第1固定部34可以包含2个第1固定分割部件45。或者,第1固定部34可以包含2个第2固定分割部件46。或者,第1固定部34可以包含1个第1固定分割部件45和1个第2固定分割部件46。第2固定部36也相同。
在上述的本实施方式中,对蒸镀掩模层叠体50包含1个蒸镀掩模20的例子进行了说明。但是,并不限定于此。例如,如图14所示,蒸镀掩模层叠体50也可以具备多个蒸镀掩模20。在该情况下,可以在相邻的2个蒸镀掩模20之间夹设有1个或多个插片51。在图14所示的例子中,在相邻的2个蒸镀掩模20之间夹设有2个插片51。这样,通过在相邻的2个蒸镀掩模20之间夹设有插片51,能够抑制蒸镀掩模20彼此卡挂。因此,能够抑制蒸镀掩模20发生塑性变形。例如,在相邻的2个蒸镀掩模20之间夹设有2个插片51的情况下,能够有效地抑制蒸镀掩模20彼此卡挂。
Claims (7)
1.一种蒸镀掩模包装体,其对形成有多个贯通孔的蒸镀掩模进行包装,其中,
所述蒸镀掩模包装体具备:
承接部,其包含第1对置面和位于所述第1对置面且与所述贯通孔重叠的第1凹部;
盖部,其包含与所述承接部的所述第1对置面对置的第2对置面、和位于所述第2对置面且与所述贯通孔重叠的第2凹部,所述盖部隔着所述蒸镀掩模与所述承接部重叠;
第1缓冲片,其位于所述第1对置面与所述蒸镀掩模之间,且覆盖所述第1凹部;以及
第2缓冲片,其位于所述第2对置面与所述蒸镀掩模之间,且覆盖所述第2凹部。
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模包装体,其中,
所述蒸镀掩模包装体具备多个插片,所述多个插片位于所述蒸镀掩模与所述第1缓冲片之间,且位于所述蒸镀掩模与所述第2缓冲片之间。
3.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模包装体,其中,
所述蒸镀掩模包装体具备将所述第1缓冲片固定于所述第1对置面的第1固定部,
在所述第1对置面的法线方向上观察时,所述第1固定部位于所述蒸镀掩模的外侧。
4.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模包装体,其中,
所述蒸镀掩模包装体具备将所述第2缓冲片固定于所述第2对置面的第2固定部,
在所述第2对置面的法线方向上观察时,所述第2固定部位于所述蒸镀掩模的外侧。
5.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模包装体,其中,
所述承接部与所述盖部经由铰链部连结。
6.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模包装体,其中,
所述蒸镀掩模包装体具备位于所述承接部与所述盖部之间的蒸镀掩模。
7.一种蒸镀掩模包装方法,其是对形成有多个贯通孔的蒸镀掩模进行包装的蒸镀掩模包装方法,其中,
所述蒸镀掩模包装方法具备:
准备工序,准备承接部和盖部,所述承接部包含第1对置面和位于所述第1对置面的第1凹部,所述盖部包含第2对置面和位于所述第2对置面的第2凹部;
载置工序,以第1缓冲片覆盖所述第1凹部并且所述贯通孔与所述第1凹部重叠的方式,将所述蒸镀掩模隔着所述第1缓冲片载置于所述第1对置面;以及
夹持工序,以第2缓冲片覆盖所述第2凹部并且所述贯通孔与所述第2凹部重叠的方式,将所述盖部隔着所述第2缓冲片载置于所述蒸镀掩模,利用所述承接部和所述盖部夹持所述蒸镀掩模。
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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