TW202314335A - 曝光裝置、曝光方法及平板顯示器之製造方法 - Google Patents

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水野恭志
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Abstract

曝光裝置具備：照明光學系統；空間光調變器，其由來自上述照明光學系統之光進行照明；投影光學系統，其將自上述空間光調變器出射之光照射於曝光對象；及平台，其載置上述曝光對象；且上述平台使上述曝光對象於既定之掃描方向移動，藉此由上述投影光學系統照射於上述曝光對象之光於上述曝光對象上進行掃描，上述空間光調變器具備複數個鏡，上述複數個鏡分別繞傾斜軸旋轉，上述傾斜軸沿與上述投影光學系統之光軸方向及上述掃描方向的兩方向正交之方向延伸，上述複數個鏡藉由調整各自之相對於上述掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向上述投影光學系統出射，上述曝光裝置具備：角度調整機構，其調整上述空間光調變器相對於上述掃描方向之傾斜角。

Description

曝光裝置、曝光方法及平板顯示器之製造方法
本發明係關於一種曝光裝置、曝光方法及平板顯示器之製造方法。 本申請案係基於2021年7月5日提出申請之日本專利特願2021-111806號而主張優先權，將其內容援用於此。
習知，作為經由光學系統向基板照射照明光之曝光裝置，已知有下述曝光裝置：使利用空間光調變器進行了調變之光通過投影光學系統，使由該光所得之像於塗佈於基板之抗蝕劑上成像而進行曝光（例如參照專利文獻1）。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2005-266779號公報
根據本發明之第1態樣，提供一種曝光裝置，其具備：照明光學系統；空間光調變器，其由來自上述照明光學系統之光進行照明；投影光學系統，其將自上述空間光調變器出射之光照射於曝光對象；及平台，其載置上述曝光對象；且上述平台使上述曝光對象於既定之掃描方向移動，藉此，由上述投影光學系統照射於上述曝光對象之光於上述曝光對象上進行掃描，上述空間光調變器具備複數個鏡，上述複數個鏡分別繞傾斜軸旋轉，上述傾斜軸沿與上述投影光學系統之光軸方向及上述掃描方向此兩方向正交之方向延伸，上述複數個鏡藉由調整各自之相對於上述掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向上述投影光學系統出射，上述曝光裝置具備：角度調整機構，其調整上述空間光調變器相對於上述掃描方向之傾斜角。
根據本發明之第2態樣，提供一種曝光裝置，其具備：照明光學系統；空間光調變器，其由來自上述照明光學系統之光進行照明；投影光學系統，其將自上述空間光調變器出射之光照射於曝光對象；及平台，其載置上述曝光對象；且上述平台使上述曝光對象於既定之掃描方向移動，藉此，由上述投影光學系統照射於上述曝光對象之光於上述曝光對象上進行掃描，上述空間光調變器具備複數個鏡，上述複數個鏡分別繞傾斜軸旋轉，上述傾斜軸沿與上述投影光學系統之光軸方向及上述掃描方向此兩方向正交之方向延伸，上述複數個鏡藉由調整各自之相對於上述掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向上述投影光學系統出射，上述空間光調變器相對於上述掃描方向傾斜。
根據本發明之第3態樣，提供一種曝光方法，其使用上述曝光裝置對上述曝光對象進行曝光，且其包含：第1步驟，其基於為了將上述複數個鏡中之至少一部分鏡設為開狀態而使上述至少一部分鏡繞上述傾斜軸旋轉時的上述至少一部分鏡之作為目標之傾斜角、與上述至少一部分鏡之實際之傾斜角之差量，使上述空間光調變器相對於上述掃描方向傾斜；及第2步驟，其於上述第1步驟之後，使用上述曝光裝置於上述曝光對象進行曝光。
根據本發明之第4態樣，提供一種平板顯示器之製造方法，其包含：藉由上述曝光方法對上述曝光對象進行曝光；及將經上述曝光之上述曝光對象進行顯影。
根據本發明之第5態樣，提供一種曝光裝置，其具備：照明光學系統；空間光調變器，其由來自上述照明光學系統之光進行照明；投影光學系統，其將自上述空間光調變器出射之光照射於曝光對象；及平台，其載置上述曝光對象；且上述照明光學系統與上述空間光調變器於上述掃描方向排列配置。
根據本發明之第6態樣，提供一種曝光裝置，其具備：平台，其使曝光對象於掃描方向移動；空間光調變器；照明光學系統，其自上述掃描方向對上述空間光調變器進行照明；及投影光學系統，其將經上述空間光調變器之鏡反射之光照射於上述曝光對象；且上述空間光調變器之上述鏡相對於上述掃描方向傾斜。
以下，參照圖式對本發明之實施形態加以說明。本發明之以下之詳細說明僅為例示性，並不進行限定。於圖式及以下之詳細說明全體中，使用相同或同樣之參照符號。
[曝光裝置之構成] 圖1係表示本實施形態之曝光裝置1之外觀構成之概要的圖。曝光裝置1係向曝光對象物照射調變光之裝置。於特定之實施形態中，曝光裝置1係步進掃描（step and scan）方式之投影曝光裝置、所謂掃描器，以液晶顯示裝置（平板顯示器，flat panel display）等所用之矩形（方型）之玻璃基板作為曝光對象物。作為曝光對象物之玻璃基板係至少一邊之長度或對角長為500 mm以上，亦可為平板顯示器用之基板。由曝光裝置1進行了曝光之曝光對象物（例如平板顯示器用之基板）藉由顯影而用於製品。 曝光裝置1之裝置本體例如與美國專利申請案公開第2008/0030702號說明書所揭示之裝置本體同樣地構成。曝光裝置1將基於投入之配方所決定之曝光圖案於曝光對象物進行曝光。
曝光裝置1具備底座11、防振台12、主柱（main column）13、平台14、光學平板15、照明模組16、投影模組17（投影光學系統）、光源單元18、光纖19及光調變部20（圖1中未圖示）。 以下，視需要使用三維正交座標系統進行說明：將與投影模組17之光軸方向平行之方向設為Z軸方向，將與Z軸正交之既定平面之方向設為X軸方向、Y軸方向，上述投影模組17將經光調變部20調變之光照射於曝光對象物。X軸方向與Y軸方向為相互正交（交叉）之方向。
底座11為曝光裝置1之基台，設置於防振台12之上。底座11於X軸方向及Y軸方向可移動地支撐載置曝光對象物之平台14。
平台14支撐曝光對象物，用於在掃描曝光中，相對於經由投影模組17投影之電路圖案之複數個部分像而將曝光對象物高精度地定位，將曝光對象物於六自由度方向（上述X軸、Y軸及Z軸方向及作為與各軸對應之旋轉方向的θx、θy及θz方向）驅動。再者，平台14於掃描曝光時於X軸方向移動，於變更曝光對象物上之曝光對象區域時於Y軸方向移動。再者，曝光對象物形成有複數個曝光對象區域。曝光裝置1可於一片曝光對象物上將複數個曝光對象區域分別曝光。平台14之構成並無特別限定，可使用美國專利申請案公開第2012/0057140號說明書等所揭示般之所謂粗微動構成之平台裝置，該粗微動構成之平台裝置包含支架型（gantry type）之二維粗動平台、及相對於該二維粗動平台受到微小驅動之微動平台。於該情形時，可藉由粗動平台使曝光對象物於水平面內之三自由度方向移動，且可藉由微動平台使曝光對象物於六自由度方向微動。
主柱13於平台14之上部（Z軸之正方向）支撐光學平板15。光學平板15支撐照明模組16、投影模組17及光調變部20。
圖2係表示本實施形態之照明模組16、投影模組17及光調變部20之構成之概要的圖。 照明模組16配置於光學平板15之上部，經由光纖19連接於光源單元18。於本實施形態之一例中，照明模組16中，包含第1照明模組16A、第2照明模組16B、第3照明模組16C及第4照明模組16D。以下之說明中，於不區分第1照明模組16A～第4照明模組16D之情形時，將其等總稱而記載為照明模組16。 第1照明模組16A～第4照明模組16D各自將經由光纖19之自光源單元18出射之光向第1光調變部20A、第2光調變部20B、第3光調變部20C及第4光調變部20D各自導光。照明模組16將光調變部20照明。第1照明模組16A與第1光調變部20A於掃描方向排列配置。第2照明模組16B與第2光調變部20B於掃描方向排列配置。第3照明模組16C與第3光調變部20C於掃描方向排列配置。第4照明模組16D與第4光調變部20D於掃描方向排列配置。
光調變部20將於下文中進一步詳述，基於應轉印至曝光對象物之電路圖案受到控制，對來自照明模組16之照明光進行調變。經光調變部20調變之調變光被導引至投影模組17。第1光調變部20A～第4光調變部20D配置於XY平面上內互不相同之位置。以下之說明中，於不區分第1光調變部20A～第4光調變部20D之情形時，將其等總稱而記載為光調變部20。
投影模組17配置於光學平板15之下部，將經空間光調變器201調變之調變光照射於平台14上所載置之曝光對象物。投影模組17使經光調變部20調變之光於曝光對象物上成像，對曝光對象物進行曝光。換言之，投影模組17將光調變部20上之圖案投影於曝光對象物。包含將光調變部20照明之照明光之光軸及投影模組17之光軸的平面與掃描方向（X軸方向）平行地設置。本實施形態之一例中，投影模組17中，包含與上述第1照明模組16A～第4照明模組16D及第1光調變部20A～第4光調變部20D對應之第1投影模組17A～第4投影模組17D。以下之說明中，於不區分第1投影模組17A～第4投影模組17D之情形時，將其等總稱而記載為投影模組17。
將由第1照明模組16A、第1光調變部20A及第1投影模組17A構成之單元稱為第1曝光模組。同樣地，將由第2照明模組16B、第2光調變部20B及第2投影模組17B構成之單元稱為第2曝光模組。各曝光模組設於XY平面上互不相同之位置，可於平台14所載置之曝光對象物之不同位置進行圖案曝光。平台14相對於曝光模組沿作為掃描方向之X軸方向相對移動，藉此可對曝光對象物之全面或曝光對象區域之全面進行掃描曝光。
再者，將照明模組16亦稱為照明系統。照明模組16（照明系統）將光調變部20之後述之空間光調變器201（空間光調變器件）照明。 又，投影模組17亦稱為投影部。投影模組17（投影部）可為將光調變部20上之圖案之像等倍地投影之等倍系統，亦可為放大系統或縮小系統。又，投影模組17較佳為由單一或兩種玻璃材料（尤其為石英或螢石）構成。
如圖1所示，光源單元18設有一對（光源單元18R、光源單元18L）。作為光源單元18，可採用：以干涉性高之雷射作為光源的光源單元、使用半導體雷射型之UV-LD（Ultraviolet-Laser Diode，紫外線-雷射二極體）般之光源的光源單元、及利用透鏡中繼（lens relay）式之延遲器（retarder）的光源單元。作為光源單元18所具備之光源18a，可列舉出射405 nm或365 nm等波長之燈或雷射二極體等。
曝光裝置1除了上述各部以外，還具備由干涉計或編碼器等構成之位置測量部（未圖示），測量平台14相對於光學平板15之相對位置。曝光裝置1除了上述各部以外，還具備測量平台14或平台14上之曝光對象物之Z軸方向之位置的AF（Auto Focus，自動對焦）部（未圖示）。進而，曝光裝置1具備對準部（未圖示），該對準部於對已在曝光對象物上經曝光之圖案重合其他圖案進行曝光時，測量各圖案之相對位置。AF部及/或對準部亦可為經由投影模組17進行測量之TTL（Through the lens，經由透鏡）之構成。
圖3係表示本實施形態之曝光模組之構成之概要的圖。以第1曝光模組為一例，對照明模組16、光調變部20及投影模組17之具體構成之一例加以說明。
照明模組16具備模組快門161及照明光學系統162。 模組快門161切換是否將自光纖19供給之脈波光向照明光學系統162導光。
照明光學系統162使自光纖19供給之脈波光經由準直透鏡、複眼透鏡、聚光透鏡等向光調變部20出射，藉此將光調變部20大致均勻地照明。複眼透鏡將入射於複眼透鏡之脈波光進行波面分割，聚光透鏡使經波面分割之光於光調變部上重疊。再者，照明光學系統162亦可具備積分棒（rod integrator）代替複眼透鏡。照明光學系統162與光調變部20於掃描方向排列配置。
光調變部20具備遮罩。遮罩為空間光調變器（SLM：Spatial Light Modulator）。
光調變部20具備空間光調變器201及偏離光吸收板202。空間光調變器201為數位鏡元件（數位微鏡元件，DMD：Digital Micromirror Device）。空間光調變器201可將照明光進行空間性且時間性調變。
圖4係表示本實施形態之空間光調變器201之構成之概要的圖。該圖中，使用Xm軸、Ym軸、Zm軸之三維正交座標系統進行說明。空間光調變器201具備排列於XmYm平面之複數個微鏡203（鏡）。微鏡203構成空間光調變器201之器件（像素）。空間光調變器201可繞Xm軸及繞Ym軸分別變更傾斜角。例如，空間光調變器201如圖5所示般藉由繞Ym軸傾斜而成為開狀態，且如圖6所示般藉由繞Xm軸傾斜而成為關狀態。
空間光調變器201針對每個微鏡203切換微鏡203之傾斜方向，藉此對每個器件控制將入射光反射之方向。作為一例，空間光調變器201之數位微鏡元件具有4 Mpixel左右之像素數，能以10 kHz左右之週期切換微鏡203之開狀態與關狀態。 空間光調變器201將複數個器件以既定時間間隔分別控制。於空間光調變器201為DMD之情形時，所謂器件，為微鏡203，所謂既定時間間隔，為切換微鏡203之開狀態與關狀態之週期（例如週期10 kHz）。
回到圖3，偏離光吸收板202將自空間光調變器201之經設為關狀態之器件出射（反射）的光（偏離光）吸收。自空間光調變器201之經設為開狀態之器件出射的光被導光至投影模組17。
投影模組17將自空間光調變器201之經設為開狀態之器件射出的光投影於曝光對象物上。投影模組17具備倍率調整部171及焦點調整部172。經空間光調變器201調變之光（調變光）入射於倍率調整部171。 倍率調整部171藉由將一部分透鏡於光軸方向驅動，而調整自空間光調變器201出射之調變光之焦點面163、即曝光對象物之表面的像之倍率。 焦點調整部172藉由將透鏡群總體於光軸方向驅動，而以自空間光調變器201出射之調變光於藉由上述AF部所測量之曝光對象物之表面成像之方式，調整成像位置、即焦點。 投影模組17僅將自空間光調變器201之經設為開狀態之器件射出的光之像投影於曝光對象物之表面。因此，投影模組17可將藉由空間光調變器201之開器件所形成之圖案之像，於曝光對象物之表面進行投影曝光。即，投影模組17使經空間調變之調變光形成於曝光對象物之表面。又，空間光調變器201如上文所述，能以既定之週期（頻率）切換微鏡203之開狀態與關狀態，故而投影模組17可將經時間調變之調變光形成於曝光對象物之表面。 即，曝光裝置1於任意之曝光位置使實質之光瞳之狀態變化而進行曝光。
[空間光調變器之微鏡之傾斜] 圖7至圖9係說明空間光調變器201之狀態與光強度之分布之關係的圖。該等各圖均包含上段、中段、下段之三個圖。各圖之上段係表示空間光調變器201中成為開狀態之微鏡203之位置的圖。各圖之中段及下段係表示像面之光強度之分布的圖。該等上段、中段及下段之圖以投影模組17之光軸為基準而調節紙面左右方向之位置。
如本實施形態般，DMD般之各微鏡203傾斜之空間光調變器201被視為閃耀繞射光柵（blazed diffractive grating）。如圖7之上段所示，於僅將DMD之一列微鏡203設為開之情形時，空間光調變器201與總體為一個鏡之情形同樣地反射光。於該情形時，光強度如圖7之中段及下段所示，由sinc 2函數決定。該sinc 2函數中，由微鏡203之傾斜角決定之正反射光成為波峰位置。
另一方面，於如圖8之上段所示般將DMD之所有微鏡203設為開之情形、或如圖9之上段所示般將DMD之一列隔一列之微鏡203設為開之情形（即，L/S（線與間隙）般之圖案）時，如圖8之中段及下段、或圖9之中段及下段分別所示，光強度變得離散。此時產生之繞射光之光強度於由微鏡203之間距p決定之繞射角之位置，局部提高。圖8及圖9所示般之離散之繞射光之光強度之分布係基於正反射之零次光、及微鏡203之間距p而決定。
此處，表示上述繞射光之光強度的sinc 2函數之波峰位置依存於微鏡203之傾斜角。而且，於各微鏡203之傾斜度相對於目標角假設偏移δ之情形時，反射光相對於目標角偏移2δ而入射於投影模組17。如此，於空間光調變器201之各微鏡203自身具有傾斜誤差之情形時，作為抵消該誤差之方法，可想到使照明模組16（入射光）傾斜之方策。然而，於微鏡203之傾斜誤差大之情形時，可調整照明系統之範圍有限。因此，視情形不同，例如有時產生複數個配置之照明模組16之各構成部品干涉而不並排等不良狀況。 為了消除此種不良狀況，本實施形態中，微鏡203自身於作為掃描方向之X軸方向傾斜，空間光調變器201自身亦於掃描方向傾斜。再者，微鏡203之傾斜誤差之測量例如可藉由下述方式進行：於搭載於曝光裝置1之前，向一個鏡照射光並觀測反射光之角度。
[光調變部之構成] 為了實現如上所述之本實施形態之構成，圖4至圖6所示之第1例之空間光調變器201A中，Xm軸與X軸大致成平行，Ym軸與Y軸大致成平行。藉此，開狀態之微鏡203（繞Ym軸傾斜之微鏡203）相對於作為掃描方向之X軸方向傾斜。再者，Xm軸與X軸大致成平行之情況中，包括Xm軸相對於X軸繞Zm軸旋轉±5度左右之情形。Ym軸與Y軸大致成平行之情況中，亦同樣地包括Ym軸相對於Y軸繞Zm軸旋轉±5度左右之情形。根據此種配置，可提高空間光調變器201A之解析度。然而，亦可為Xm軸與X軸完全平行，且Ym軸與Y軸完全平行。
此處，以下將Ym軸亦稱為第1傾斜軸T1。第1例之空間光調變器201A中，複數個微鏡203分別繞第1傾斜軸T1（Ym軸）旋轉，複數個微鏡203藉由調整各自之相對於掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向投影模組17出射。 再者，該第1例之空間光調變器201A中，複數個微鏡203於掃描方向以直線狀排列，且複數個微鏡203於第1傾斜軸T1方向亦排列。
另一方面，作為空間光調變器201，亦可代替圖4至圖6所示之第1例之空間光調變器201A，而採用圖10至圖12所示之第2例之空間光調變器201B。 第2例之空間光調變器201B中，微鏡203可繞沿微鏡203之對角線方向延伸之第1傾斜軸T1旋轉。而且，藉由微鏡203向繞第1傾斜軸T1之第1側（例如+側）旋轉，而微鏡203成為開狀態。藉由微鏡203向繞第1傾斜軸T1之第2側（例如-側）旋轉，而微鏡203成為關狀態。
於該情形時，第1傾斜軸T1與Y軸大致平行，藉此開狀態之微鏡203（繞第1傾斜軸T1傾斜之微鏡203）相對於作為掃描方向之X軸方向傾斜。再者，第1傾斜軸T1與Y軸大致平行之情況中，包括第1傾斜軸T1相對於Y軸繞Z軸旋轉±5度左右之情形。根據此種配置，可提高空間光調變器201B之解析度。然而，第1傾斜軸T1亦可與Y軸完全平行。 如以上之第2例之空間光調變器201B中，複數個微鏡203亦分別繞第1傾斜軸T1旋轉，複數個微鏡203藉由調整各自之相對於掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向投影模組17出射。而且，於該情形時，藉由複數個微鏡203分別繞第1傾斜軸T1旋轉，而切換開狀態與關狀態。
再者，該第2例之空間光調變器201B中，複數個微鏡於相對於掃描方向及第1傾斜軸T1方向此兩方向傾斜45°之兩個方向，分別以直線狀排列。換言之，第2例之空間光調變器201B之微鏡203相對於第1例之空間光調變器201A之微鏡203，繞Z軸大致旋轉45°而配置。再者，第2例之空間光調變器201B中，亦可謂微鏡203於掃描方向排列有複數個。 以下，於不區分第1例之空間光調變器201A與第2例之空間光調變器201B之情形時，將其等總稱而記載為空間光調變器201。
而且，本實施形態中，如圖3所示，光調變部20進而具備角度調整機構204。角度調整機構204調整空間光調變器201相對於掃描方向之傾斜角Δ。作為角度調整機構204，例如可列舉以下之構成。即，可列舉下述構成：角度調整機構204具備未圖示之空間光調變器201用之平台14，空間光調變器201用之平台14繞第2傾斜軸T2可旋轉地支撐空間光調變器201。第2傾斜軸T2於Y軸方向（第1傾斜軸T1方向）延伸。再者，空間光調變器201用之平台14例如亦可於X軸方向、Y軸方向及繞Z軸（θZ方向）可移動地支撐空間光調變器201。
如圖13所示，空間光調變器201相對於掃描方向傾斜。空間光調變器201相對於XY平面傾斜。空間光調變器201於自Y軸方向（第1傾斜軸T1方向）觀看曝光裝置1之曝光裝置1之側面視時，相對於掃描方向傾斜。
[空間光調變器之校正（校準）] 此處，如圖14所示，本實施形態中，光調變部20進而具備校正裝置50。校正裝置50校正空間光調變器201之傾斜角Δ。 校正裝置50具備裝置本體60及感測器70。 裝置本體60例如係由個人電腦、伺服器或產業用電腦等裝置實現。裝置本體60亦可由控制曝光裝置1總體的曝光裝置1之控制裝置兼任。
裝置本體60具備經匯流排連接之CPU等處理器與記憶體，執行程式。裝置本體60藉由執行程式而作為具備控制部61、通訊部62、輸入部63、記憶部64之裝置發揮功能。
更具體而言，裝置本體60中，處理器讀出記憶於記憶部64之程式，使讀出之程式記憶於記憶體。藉由處理器執行記憶於記憶體之程式，而裝置本體60作為具備控制部61、通訊部62、輸入部63、記憶部64之裝置發揮功能。
控制部61控制空間光調變器201之動作及角度調整機構204之動作。控制部61例如係由處理器及記憶體構成。控制部61作為第1控制部65、計算部66及第2控制部67發揮功能。 第1控制部65控制空間光調變器201之動作。第1控制部65將用以將微鏡203設為目標角之操作量發送至微鏡203，使微鏡203傾斜。上述目標角為將微鏡203設為開狀態時之微鏡203之傾斜角之目標。再者，第1控制部65控制之微鏡203之個數可為複數個微鏡203之一部分，亦可為複數個微鏡203全部。
計算部66算出微鏡203之目標角與微鏡203之實際之傾斜角之差量。微鏡203之實際之傾斜角為開狀態之微鏡203之實際之傾斜角。微鏡203之實際之傾斜角係由感測器70檢測。 第2控制部67控制角度調整機構204之動作。第2控制部67基於計算部66所算出之差量，控制角度調整機構204之動作。第2控制部67以補正微鏡203之實際之傾斜角相對於目標角之偏移（誤差）之方式，控制角度調整機構204使空間光調變器201傾斜。
再者，於第1控制部65控制複數個微鏡203之情形時，計算部66可針對每個微鏡203算出上述差量。另一方面，角度調整機構204為了使空間光調變器201總體傾斜，第2控制部67發送至角度調整機構204之操作量為一個即可。 因此，於第1控制部65控制複數個微鏡203之情形時，第2控制部67可使用計算部66所算出之複數個上述差量之代表值來控制角度調整機構204。作為上述代表值，例如可設為複數個上述差量之平均值，亦可設為複數個上述差量之中間值。
通訊部62係包含用以將裝置本體60連接於外部裝置之通訊介面而構成。通訊部62經由有線或無線與外部裝置通訊。外部裝置例如為空間光調變器201，為角度調整機構204，為感測器70。 輸入部63係包含滑鼠或鍵盤、觸控面板等輸入裝置而構成。輸入部63亦可構成為用以將這些輸入裝置連接於裝置本體60之介面。輸入部63受理對裝置本體60之各種資訊之輸入。於輸入部63，例如由操作員輸入校正之開始之指示。
記憶部64係使用磁性硬碟裝置或半導體記憶裝置等電腦可讀出之記憶媒體裝置構成。記憶部64記憶與校正裝置50有關之各種資訊。記憶部64例如記憶經由通訊部62或輸入部63輸入之資訊。記憶部64例如記憶藉由使控制部61執行處理而產生之各種資訊。記憶部64例如記憶感測器70所檢測之檢測結果。記憶部64例如記憶將微鏡203設為開狀態時之微鏡203之目標角。
感測器70檢測微鏡203之傾斜角。感測器70檢測第1控制部65控制之微鏡203之傾斜角。作為感測器70，可採用公知之構成。
如以上之校正裝置50實施曝光對象物之曝光前之校正。 於校正時，例如首先輸入部63自操作員受理開始校正之輸入。然後，第1控制部65將用以將微鏡203設為目標角之操作量發送至微鏡203，使微鏡203傾斜。此時，感測器70檢測微鏡203之實際之傾斜角。而且，計算部66基於記憶部64記憶之目標角及感測器70之檢測結果，算出微鏡203之目標角、與微鏡203之實際之傾斜角之差量。第2控制部67基於計算部66算出之上述差量來控制角度調整機構204。
再者，校正裝置50之各功能之全部或一部分亦可使用ASIC（Application Specific Integrated Circuit，特殊應用積體電路）、PLD（Programmable Logic Device，可程式邏輯元件）或FPGA（Field Programmable Gate Array，場可程式閘陣列）等硬體來實現。程式亦可記錄於電腦可讀取之記錄媒體。所謂電腦可讀取之記錄媒體，例如為可撓性碟、光磁碟、ROM（Rred Only Memory，唯讀記憶體）、CD-ROM（Compact Disc-Read Only Memory，唯讀光碟）等可移動媒體，內置於電腦系統之硬碟等記憶裝置。程式亦可經由電氣通訊回線發送。 然而，上述校正裝置50之一部分或全部亦可不存在。例如，亦可由曝光裝置1之操作員校正空間光調變器201之傾斜角Δ。
使用上述曝光裝置1之曝光方法中，實施校正（第1步驟）之後，使用曝光裝置1於曝光對象物進行曝光（第2步驟）。 再者，校正較佳為於實施複數次曝光之後重新實施。校正亦可每隔一定次數之曝光而定期實施。校正亦可每經過一定時間而定期實施。藉此，即便於產生微鏡203之經年變化，微鏡203之實際之傾斜角相對於目標角之差量（誤差）變化之情形時，亦適當補正該差量。
此處，如圖13所示，於掃描方向傾斜之空間光調變器201中，根據所謂沙姆（Scheimpflug）之關係，以滿足下述（1）式之方式成像。 tanΔ'＝β·tanΔ···（1） Δ：空間光調變器201之傾斜角 β：投影模組17之倍率 Δ'：像面之傾斜角
即，像面成為於掃描方向傾斜之狀態。於該情形時，投影模組17之像面以包含對平行於掃描方向之曝光對象物之表面的最佳焦點之方式，相對於掃描方向傾斜。若如此般像面傾斜，則有時像面之一部分相對於曝光對象物之表面散焦。然而，該像面之傾斜例如並非相對於Y軸方向之傾斜等，而是相對於掃描方向（X軸方向）之傾斜。因此，藉由掃描曝光將像以曝光寬幅平均化，緩和散焦之影響。
此處，本實施形態中，曝光裝置1具備複數個曝光模組。本實施形態中，該複數個曝光模組分別具備上述角度調整機構204或校正裝置50。 於該情形時，較佳為以複數個投影模組17之掃描方向之像面之平均位置大致一致之方式，調整各曝光模組之空間光調變器201之傾斜角Δ。又，亦可由一個投影模組17（例如第1投影模組17A）與另一個投影模組17（例如第2投影模組17B）進行接連曝光。進而，亦可利用一個投影模組17自身，使Y軸方向之位置不同而進行掃描曝光，藉此進行接連曝光。藉由如此般於掃描方向取平均像面，而可抑制急遽之對比度變化，可使接連曝光部之對比度變化亦平穩。
再者，上述曝光裝置1亦可為，可針對每個進行曝光之圖案調整空間光調變器201之傾斜角。上述曝光方法中，亦可針對每個進行曝光之圖案調整空間光調變器201之傾斜角。如以上之傾斜角之調整例如可由上述校正裝置50控制角度調整機構204實施，亦可由控制曝光裝置1總體的曝光裝置1之控制裝置控制角度調整機構204實施。藉此，可補正所謂遠心偏移。 圖7或圖8、圖9中記載有下述情形：由離散地產生sinc 2函數之頂點的繞射間距所得之梳形函數一致。然而，於實際產生微鏡203之角度偏移（誤差）之情形時，sinc 2函數之頂點之位置與梳形函數之位置以該角度偏移之程度偏移。由於該偏移而產生遠心偏移。角度調整機構204為了補正該偏移量而調整傾斜角度。進而，對於每個配方（每個曝光圖案）而言，自空間光調變器201出射之繞射光之方向不同，故而對於每個曝光圖案而言，該偏移量亦改變。即，對於由圖7般之孤立鏡產生之角度偏移、與由圖9般之L/S產生之角度偏移而言，其偏移量產生差。如此，偏移量視曝光圖案而不同，故而曝光裝置1可對每個圖案變更空間光調變器201之傾斜角之調整量。換言之，較佳為可針對每個配方設定、調整空間光調變器201之傾斜角，以補正對重要之曝光圖案的遠心偏移。
[模擬] 圖16～圖18係表示對空間光調變器201之傾斜與光學空間像之關係進行模擬之結果的圖。
圖16～圖18係表示下述三個情形之模擬結果的圖：（1）不使空間光調變器201傾斜之情形；（2）如圖15所示，以像面以相當於投影模組17之焦點深度DOF（Depth of Focus）之程度傾斜之方式，使空間光調變器201傾斜之情形；（3）以像面以相當於1.5倍之DOF之程度傾斜之方式，使空間光調變器201傾斜之情形。 進而，模擬係於上述（1）～（3）之各情形時，針對將散焦設為＜1＞0、＜2＞相當於DOF、＜3＞相當於1.5倍之DOF的三個情形實施。 即，模擬係總體對9個情形實施。
模擬之前提條件如下。 ·投影模組17之數值孔徑：NA＝0.243 ·照明光學系統162之數值孔徑/投影模組17之數值孔徑：σ＝0.7 ·光之波長：λ＝405 nm ·線與間隙圖案：1 μm L/S（k＝0.6） ·空間光調變器201之各微鏡203之尺寸（一邊之長度）：5 μm ·沿掃描方向之曝光寬幅：10 mm ·投影模組17之投影倍率：1/5 ·投影模組17之焦點深度：DOF＝±3.43 μm
上述（2）之情形時，若將微鏡203之尺寸、光學倍率等設為如上述前提條件般，則於DMD上成為相當於約1度之傾斜角之模擬。即，於該情形時，像面之傾斜角Δ'成為3.43 mrad，空間光調變器201之傾斜角Δ成為像面之傾斜角Δ'之5倍之17.15 mrad。17.15 mrad為約0.98°。
圖16表示上述（1）之結果。圖17表示上述（2）之結果。圖18表示上述（3）之結果。各圖表中，將散焦不同之情形（上述＜1＞～＜3＞各情形）表示為實線（＜1＞）、虛線（＜2＞）、一點鏈線（＜3＞）。
由該等結果得知，相當於DOF以上之散焦亦不導致對比度降低而進行成像。又得知，空間光調變器201之傾斜角Δ越大，像變化越明顯變小。 此處，通常於藉由掃描曝光形成大畫面之情形之接連曝光中，於其接連部分之像之對比度變化大之情形時，大多情況下明顯作為不均而辨識。相對於此，根據本實施形態之曝光裝置1，相較於通常之曝光，可減小進行複數個曝光模組之接連曝光之情形、或進行單一曝光模組之接連曝光之情形的像之對比度變化。因此，對於上述不均而言，成為大的優點。
再者，援用與上述實施形態所引用之曝光裝置等有關之所有美國專利申請案公開說明書及美國專利說明書之揭示，作為本說明書之記載之一部分。
如以上所說明，本發明之照明裝置、曝光裝置適於在微影步驟中向物體照射照明光進行曝光。又，本發明之平板顯示器製造方法適於生產平板顯示器。
再者，感測器70例如亦可為照度感測器。此種構成之情形時，亦可於照度感測器上具有針孔。於以正確角度具有微鏡203之情形時，照度取正常值。然而，若微鏡203之傾斜角偏移，則來自微鏡203之反射光之一部分由針孔遣回（不通過針孔），檢測之照度降低。可根據該降低情況算出微鏡203之目標角與實際之傾斜角之差量。於採用此種照度感測器作為感測器70之情形時，作為感測器70之設置場所，例如可列舉平台14。
圖19係表示設於校正用基準部CU之光學測量部之概略構成的圖，上述校正用基準部CU附設於曝光裝置1之基板固持器上之端部。圖19中，設來自空間光調變器201之反射光（成像光束）Sa通過投影單元PLU（17）之像面側之透鏡群G4、G5，於最佳焦點面（最良成像面）IPo成像，反射光Sa之主光線La與光軸AXa成平行。第1光學測量部係由下述部分構成：石英板320，其安裝於校正用基準部CU之上面；成像系統322（物鏡322a及透鏡群322b），其將自投影單元PLU經由石英板320投影之由空間光調變器201所得之圖案像放大成像；反射鏡324；及攝像器件326，其利用CCD（Charge Coupled Device，電荷耦合元件）或CMOS（Complementary Metal Oxide Semiconductor，互補金屬氧化物半導體），拍攝經放大之圖案像。再者，石英板320之表面與攝像器件326之攝像面成為共軛關係。
第2光學測量部係由下述部分構成：針孔板340，其安裝於校正用基準部CU之上面；物鏡342，其將自投影單元PLU投影之來自空間光調變器201之反射光（成像光束）Sa經由針孔板340入射，形成投影單元PLU之光瞳Ep之像（光瞳Ep內之成像光束或光源像之強度分布）；及攝像器件344，其利用CCD或CMOS，拍攝光瞳Ep之像。即，第2光學測量部之攝像器件344之攝像面與投影單元PLU之光瞳Ep之位置成為共軛之關係。
基板固持器（校正用基準部CU）可藉由平台14於XY面內二維移動，故而於欲測量之任一投影單元PLU之正下方，配置第1光學測量部之石英板320或第2光學測量部之針孔板340，利用空間光調變器201生成與測量用之各種測試圖案對應之反射光Sa。由第1光學測量部進行之測量中，以石英板320之表面相對於最佳焦點面IPo於+Z方向及-Z方向分別以一定量散焦之方式，使基板固持器（校正用基準部CU）、或者投影單元PLU總體或透鏡群G4、G5上下移動。
繼而，可基於+Z方向散焦時與-Z方向散焦時分別藉由攝像器件326拍攝之測試圖案之像之橫移量、及散焦量（±Z之微動範圍），算出微鏡203之目標角與實際之傾斜角之差量。第1光學測量部之攝像器件326經由投影單元PLU拍攝空間光調變器201之鏡面，故而可用於確認空間光調變器201之多數個微鏡203中成為動作不良之微鏡203。又，於由第2光學測量部進行之測量中，藉由攝像器件344來測量於測試圖案之投影時形成於投影單元PLU之光瞳Ep的成像光束（Sa）於光瞳Ep內之強度分布之偏心等。於該情形時，可基於光瞳Ep內之強度分布之偏心量及投影單元PLU之像面側之焦點距離等，算出微鏡203之目標角與實際之傾斜角之差量。又，僅將空間光調變器201之多數個微鏡203中特定之單一之微鏡203設為開狀態，藉由第2光學測量部之攝像器件344測量形成於光瞳Ep之強度分布之重心與光軸AXa之位置關係。於該位置關係產生偏移之情形時，得知特定之開狀態之微鏡203a之傾斜角度θd與規格上之值（例如17.5°）相比具有誤差。 雖然需要測量時間，但藉由如此般將空間光調變器201之所有微鏡203逐一設為開狀態並利用攝像器件344進行測量，而亦可求出各微鏡203之傾斜角度θd之誤差（驅動誤差）。
以上，參照圖式對本發明之一實施形態進行了詳細說明，但具體構成不限於上述內容，可於不偏離本發明主旨之範圍內進行各種設計變更等。
於一實施形態中，曝光裝置（1）具備：照明光學系統（16、162）；空間光調變器（201），其由來自上述照明光學系統（16、162）之光進行照明；投影光學系統（17），其將自上述空間光調變器（201）出射之光照射於曝光對象；及平台（14），其載置上述曝光對象。上述平台（14）使上述曝光對象於既定之掃描方向移動，藉此，由上述投影光學系統（17）照射於上述曝光對象之光於上述曝光對象上進行掃描。上述空間光調變器（201）具備複數個鏡（203）。上述複數個鏡（203）分別繞傾斜軸旋轉，上述傾斜軸沿與上述投影光學系統（17）之光軸方向及上述掃描方向此兩方向正交之方向延伸，上述複數個鏡（203）藉由調整各自之相對於上述掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向上述投影光學系統（17）出射，上述曝光裝置（1）具備：角度調整機構（204），其調整上述空間光調變器（201）相對於上述掃描方向之傾斜角。
於一例中，曝光裝置（1）進而具備：校正裝置（50），其校正上述空間光調變器（201）之傾斜角。上述校正裝置（50）具備：記憶部（64），其記憶將上述複數個鏡（203）中之至少一部分鏡設為開狀態時的上述至少一部分鏡之目標角；第1控制部（65），其將用於將上述至少一部分鏡設為上述目標角之操作量發送至上述至少一部分鏡，使上述至少一部分鏡傾斜；感測器（70），其檢測上述至少一部分鏡之傾斜角；計算部（66），其基於上述記憶部（64）記憶之上述目標角及上述感測器之檢測結果，算出上述至少一部分鏡之上述目標角、與上述至少一部分鏡之實際之傾斜角之差量；及第2控制部（67），基於上述計算部（66）算出之上述差量控制上述角度調整機構（204）。
於一實施形態中，曝光裝置（1）具備：照明光學系統（16、162）；空間光調變器（201），其由來自上述照明光學系統（16、162）之光進行照明；投影光學系統（17），其將自上述空間光調變器（201）出射之光照射於曝光對象；及平台（14），其載置上述曝光對象。上述平台（14）使上述曝光對象於既定之掃描方向移動，藉此，由上述投影光學系統（17）照射於上述曝光對象之光於上述曝光對象上進行掃描。上述空間光調變器（201）具備複數個鏡（203）。上述複數個鏡（203）分別繞傾斜軸旋轉，上述傾斜軸沿與上述投影光學系統（17）之光軸方向及上述掃描方向此兩方向正交之方向延伸，上述複數個鏡（203）藉由調整各自之相對於上述掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向上述投影光學系統（17）出射。上述空間光調變器（201）相對於上述掃描方向傾斜。
於一例中，上述投影光學系統（17）之像面以包含對上述曝光對象之表面的最佳焦點之方式，相對於上述掃描方向傾斜。
於一例中，可針對每個進行曝光之配方調整上述空間光調變器（201）之傾斜角。
於一實施形態中，曝光方法使用上述曝光裝置（1）對上述曝光對象進行曝光。曝光方法包含：第1步驟，其基於為了將上述複數個鏡（203）中之至少一部分鏡設為開狀態而使上述至少一部分鏡繞上述傾斜軸旋轉時的上述至少一部分鏡之作為目標之傾斜角、與上述至少一部分鏡之實際之傾斜角之差量，使上述空間光調變器（201）相對於上述掃描方向傾斜；及第2步驟，其於上述第1步驟之後，使用上述曝光裝置（1）於上述曝光對象進行曝光。
於一例中，實施複數次上述第2步驟之後，重新實施上述第1步驟。
於一實施形態中，平板顯示器之製造方法包含：藉由上述曝光方法對上述曝光對象進行曝光；及將經上述曝光之上述曝光對象進行顯影。
於一實施形態中，曝光裝置（1）一邊使曝光對象於掃描方向移動一邊對上述曝光對象進行曝光。曝光裝置（1）具備：照明光學系統（16、162）；空間光調變器（201），其由來自上述照明光學系統（16、162）之光進行照明；投影光學系統（17），其將自上述空間光調變器（201）出射之光照射於曝光對象；及平台（14），其載置上述曝光對象並於上述掃描方向移動。上述照明光學系統（16、162）與上述空間光調變器（201）於掃描方向排列配置。
於一實施形態中，曝光裝置（1）具備：平台（14），其使曝光對象於掃描方向移動；空間光調變器（201）；照明光學系統（16、162），其將上述空間光調變器（201）照明；及投影光學系統（17），其將經上述空間光調變器（201）之鏡（203）反射之光照射於上述曝光對象；且包含將上述空間光調變器（201）照明之照明光之光軸及上述投影光學系統（17）之光軸的平面與上述掃描方向平行地設置。
於一例中，上述空間光調變器（201）之上述鏡（203）相對於上述掃描方向傾斜。
1:曝光裝置 11:底座 12:防振台 13:主柱 14:平台 15:光學平板 16:照明模組 16A:第1照明模組 16B:第2照明模組 16C:第3照明模組 16D:第4照明模組 17:投影模組（投影光學系統） 17A:第1投影模組 17B:第2投影模組 17C:第3投影模組 17D:第4投影模組 18、18L、18R:光源單元 18a:光源 19:光纖 20:光調變部 20A:第1光調變部 20B:第2光調變部 20C:第3光調變部 20D:第4光調變部 50:校正裝置 61:控制部 62:通訊部 63:輸入部 64:記憶部 65:第1控制部 66:計算部 67:第2控制部 70:感測器 161:模組快門 162:照明光學系統 163:焦點面 171:倍率調整部 172:焦點調整部 201、201A、201B:空間光調變器 202:偏離光吸收板 203:微鏡（鏡） 204:角度調整機構 320:石英板 322:成像系統 322a、342:物鏡 322b、G4、G5:透鏡群 324:反射鏡 326、344:攝像器件 340:針孔板 AXa:光軸 CU:校正用基準部 Ep:光瞳 IPo:最佳焦點面（最良成像面） La:主光線 p:間距 PLU:投影單元 Sa:反射光 T1:第1傾斜軸 T2:第2傾斜軸 Δ:傾斜角 Δ':像面之傾斜角
[圖1]係表示本實施形態之曝光裝置之外觀構成之概要的圖。 [圖2]係表示本實施形態之照明模組及投影模組之構成之概要的圖。 [圖3]係表示本實施形態之照明模組之構成之概要的圖。 [圖4]係表示本實施形態之第1例之光調變部之構成之概要的圖。 [圖5]係表示本實施形態之第1例之光調變部之構成之概要的圖，且係表示紙面中央之鏡之開狀態的圖。 [圖6]係表示本實施形態之第1例之光調變部之構成之概要的圖，且係表示紙面中央之鏡之關狀態的圖。 [圖7]係說明本實施形態之空間光調變器之複數個鏡中之一列成為開狀態之情形時的光強度之分布的圖。 [圖8]係說明本實施形態之空間光調變器之複數個鏡之所有列成為開狀態之情形時的光強度之分布的圖。 [圖9]係說明本實施形態之空間光調變器之複數個鏡於掃描方向一列隔一列成為開狀態之情形時的光強度之分布的圖。 [圖10]係表示本實施形態之第2例之光調變部之構成之概要的圖，且係表示紙面中央之鏡之開狀態的圖。 [圖11]係表示本實施形態之第2例之光調變部之構成之概要的圖，且係表示紙面中央之鏡之關狀態的圖。 [圖12]係表示本實施形態之第2例之光調變部之構成之概要的側面圖，且係表示紙面中央之鏡之開狀態且紙面兩端側之鏡之關狀態的圖。 [圖13]係表示本實施形態之空間光調變器之傾斜與投影模組之像面之傾斜之關係的圖。 [圖14]係表示本實施形態之校正裝置之概略的功能方塊圖。 [圖15]係說明模擬之概略的圖。 [圖16]係表示不使空間光調變器傾斜之情形時的模擬之結果的圖表。 [圖17]係表示使空間光調變器以相當於DOF之程度傾斜之情形時的模擬之結果的圖表。 [圖18]係表示使空間光調變器以相當於1.5倍之DOF之程度傾斜之情形時的模擬之結果的圖表。 [圖19]係表示設於校正用基準部CU之光學測量部之概略構成的圖，上述校正用基準部CU附設於曝光裝置之基板固持器之端部。
16:照明模組
17:投影模組(投影光學系統)
19:光纖
20:光調變部
161:模組快門
162:照明光學系統
163:焦點面
171:倍率調整部
172:焦點調整部
201:空間光調變器
202:偏離光吸收板
204:角度調整機構
T2:第2傾斜軸

Claims (11)

  1. 一種曝光裝置，其具備： 照明光學系統； 空間光調變器，其由來自上述照明光學系統之光進行照明； 投影光學系統，其將自上述空間光調變器出射之光照射於曝光對象；及 平台，其載置上述曝光對象；且 上述平台使上述曝光對象於既定之掃描方向移動，藉此，由上述投影光學系統照射於上述曝光對象之光於上述曝光對象上進行掃描； 上述空間光調變器具備複數個鏡； 上述複數個鏡分別繞傾斜軸旋轉，上述傾斜軸沿與上述投影光學系統之光軸方向及上述掃描方向此兩方向正交之方向延伸，上述複數個鏡藉由調整各自之相對於上述掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向上述投影光學系統出射； 上述曝光裝置具備：角度調整機構，其調整上述空間光調變器相對於上述掃描方向之傾斜角。
  2. 如請求項1之曝光裝置，其進而具備： 校正裝置，其校正上述空間光調變器之傾斜角； 上述校正裝置具備： 記憶部，其記憶將上述複數個鏡中之至少一部分鏡設為開狀態時的上述至少一部分鏡之目標角； 第1控制部，其將用以將上述至少一部分鏡設為上述目標角之操作量發送至上述至少一部分鏡，使上述至少一部分鏡傾斜； 感測器，其檢測上述至少一部分鏡之傾斜角； 計算部，其基於上述記憶部記憶之上述目標角及上述感測器之檢測結果，算出上述至少一部分鏡之上述目標角、與上述至少一部分鏡之實際之傾斜角之差量；及 第2控制部，其基於上述計算部算出之上述差量來控制上述角度調整機構。
  3. 一種曝光裝置，其具備： 照明光學系統； 空間光調變器，其由來自上述照明光學系統之光進行照明； 投影光學系統，其將自上述空間光調變器出射之光照射於曝光對象；及 平台，其載置上述曝光對象；且 上述平台使上述曝光對象於既定之掃描方向移動，藉此，由上述投影光學系統照射於上述曝光對象之光於上述曝光對象上進行掃描； 上述空間光調變器具備複數個鏡； 上述複數個鏡分別繞傾斜軸旋轉，上述傾斜軸沿與上述投影光學系統之光軸方向及上述掃描方向此兩方向正交之方向延伸，上述複數個鏡藉由調整各自之相對於上述掃描方向之傾斜成為開狀態，而使光向上述投影光學系統出射； 上述空間光調變器相對於上述掃描方向傾斜。
  4. 如請求項1至3中任一項之曝光裝置，其中， 上述投影光學系統之像面以包含對上述曝光對象之表面的最佳焦點之方式，相對於上述掃描方向傾斜。
  5. 如請求項1至4中任一項之曝光裝置，其中， 能夠針對每個進行曝光之配方調整上述空間光調變器之傾斜角。
  6. 一種曝光方法，其使用請求項1至5中任一項之曝光裝置對上述曝光對象進行曝光，且其包含： 第1步驟，其基於為了將上述複數個鏡中之至少一部分鏡設為開狀態而使上述至少一部分鏡繞上述傾斜軸旋轉時的上述至少一部分鏡之作為目標之傾斜角、與上述至少一部分鏡之實際之傾斜角之差量，使上述空間光調變器相對於上述掃描方向傾斜；及 第2步驟，其於上述第1步驟之後，使用上述曝光裝置於上述曝光對象進行曝光。
  7. 如請求項6之曝光方法，其中， 於實施複數次上述第2步驟之後，重新實施上述第1步驟。
  8. 一種平板顯示器之製造方法，其包含： 藉由請求項6或7之曝光方法對上述曝光對象進行曝光；及 將經上述曝光之上述曝光對象進行顯影。
  9. 一種曝光裝置，其一邊使曝光對象於掃描方向移動一邊對上述曝光對象進行曝光，且其具備： 照明光學系統； 空間光調變器，其由來自上述照明光學系統之光進行照明； 投影光學系統，其將自上述空間光調變器出射之光照射於曝光對象；及 平台，其載置上述曝光對象並於上述掃描方向移動；且 上述照明光學系統與上述空間光調變器於掃描方向排列配置。
  10. 一種曝光裝置，其具備： 平台，其使曝光對象於掃描方向移動； 空間光調變器； 照明光學系統，其對上述空間光調變器進行照明；及 投影光學系統，其將經上述空間光調變器之鏡反射之光照射於上述曝光對象；且 包含將上述空間光調變器進行照明之照明光之光軸及上述投影光學系統之光軸的平面與上述掃描方向平行地設置。
  11. 如請求項10之曝光裝置，其中， 上述空間光調變器之上述鏡相對於上述掃描方向傾斜。
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