TW202308937A - 製造氫的裝置及製造氫的方法 - Google Patents
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Abstract
本發明係一種製造氫的裝置(1),其具備:具備有含有觸媒(121)的填料(12)的反應器(10),供給含有烴化合物的氣體的氣體供給部(20),及對觸媒(121)照射微波的微波照射部(30)。氣體供給部(20)係以使填料(12)流動化的流速供給氣體。根據本製造氫的裝置(1),烴化合物會被熱分解從而得到氫及碳凝集體。
Description
本發明係關於製造氫的裝置及製造氫的方法。此外,本發明關於製造具有同樣構成的碳凝集體的裝置及製造碳凝集體的方法。
以往,氫係藉由石油資源的熱化學分解或電分解而製造,主要係藉由蒸氣重組反應而製造。然而,由於該方法需要大量的水蒸氣而能量損失多,且由於在製造過程中會產生副產物的二氧化碳(CO2)或一氧化碳(CO),因此從降低環境負荷的觀點而言存在問題。
因此,就製造減少環境負荷的氫的方法而言,期望一種無CO2的製造氫的技術。無CO2的製造氫的技術目前大致分為下述(i)至(iii)的三種。(i)化石燃料重組+CCS(二氧化碳捕獲及儲存,Carbon dioxide Capture and Storage)、(ii)水電解過程、(iii)烴化合物的熱分解。
本案發明係關於上述(iii)的技術。上述(iii)的技術係以甲烷等烴化合物為原料,並使用特定的觸媒,將烴化合物直接分解為氫及固體碳的技術。
在專利文獻1及專利文獻2中揭示上述(iii)的技術。在專利文獻1及專利文獻2中揭示了一種製造氫的裝置,在藉由照射微波而活化的觸媒的存在下,使含氫化合物(例如甲烷)的熱分解進行而生成氫。
此外,上述(iii)的技術亦能夠解釋為分解烴以獲得固體碳的技術。在專利文獻3中揭示了一種製造石墨烯的裝置,係在藉由照射微波而活化的觸媒的存在下,以碳化合物(例如甲烷)作為基材使反應進行而獲得石墨烯。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2015-20929號公報
[專利文獻2]日本特開2015-44702號公報
[專利文獻3]日本特開2015-221733號公報
在專利文獻1及專利文獻2所述的以往技術中,採用固定床反應過程。在這些技術中,隨著反應而在觸媒表面上析出固體碳,由於觸媒在短時間內失活,相對於觸媒量的生成效率差,而有難以連續運作的問題。
藉由專利文獻3中所述的技術而得到的石墨烯在鎳粒子的周圍形成,且含有鎳粒子的粒徑為200nm左右。考慮到將甲烷等碳化合物熱
分解而得到的碳材料應用於電極用途等時,若能得到粒徑更大(例如微米級)的碳材料,則在工業上將極為有用。
本發明的一態樣之目的係提供一種對環境友善且經濟效益佳之製造氫的裝置。此外本發明的一態樣之目的係提供一種工業上有用的碳凝集體。
為了解決上述課題,本發明的一態樣之製造氫的裝置係具備:具備有含有烴熱分解用的觸媒的填料的反應器,及將含有烴化合物的氣體供給至前述反應器內的氣體供給部,及對前述觸媒照射微波的微波照射部。前述氣體供給部以使前述填料流動化的流速供給前述氣體,在藉由前述微波而活化的前述觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解,從而生成氫。
本發明的一態樣之製造氫的方法係使用上述製造氫的裝置而製造氫。
本發明的一態樣之製造碳凝集體的裝置係具備:具備有含有烴熱分解用的觸媒的填料的反應器,將含有烴化合物的氣體供給至前述反應器的氣體供給部,及對前述觸媒照射微波的微波照射部。前述氣體供給部以使前述填料會流動的流速供給前述氣體,在藉由前述微波而活化的前述觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解,從而生成碳凝集體。
本發明的一態樣之製造碳凝集體的方法係使用上述製造碳凝集體的裝置而製造碳凝集體。
根據本發明的一態樣,能夠提供對環境友善且經濟效益佳之製造氫的裝置。此外根據本發明的一態樣,能夠提供工業上有用的碳凝集體。
1,1A,1B:製造氫的裝置
10,10A,10B:反應器
12,12A,14B:填料
13:過濾器
22A,22B:熱交換器
20,20A,20B:氣體供給裝置(氣體供給部)
23:氫化反應器
24:脫硫反應器
30,30A:微波照射裝置(微波照射部)
31A:電源部
32A:控制部
33A:微波照射構件
40:旋風器(分離部)
50:PSA純化器
60:冷卻裝置
70A:反射溫度計
91:氣相層析儀
110A,110B:外殼
101,101A,101B:氣體導入部
102:排出部
102A,102B:排出部
103:觸媒導入部
121:觸媒
201:流量計
G1:含有烴化合物的氣體(氣體)
L1至L17:路徑
圖1係示意性地呈示本發明的實施型態之製造氫的裝置的構成之概略圖。
圖2係呈示本實施型態的製造氫的方法的一例之流程圖。
圖3係用於實施例的試驗之製造氫的裝置的主要部分之概略圖。
圖4係包含用於實施例的試驗之製造氫的裝置的反應器之擴大圖及周邊機器之概略圖。
圖5係用於比較例的試驗之製造氫的裝置的主要部分之概略圖。
圖6係用掃描式電子顯微鏡拍攝在實施例中得到的碳凝集體之圖像。
圖7係用掃描式電子顯微鏡拍攝在比較例中得到的固體碳之圖像。
以下係對本發明之製造氫的裝置的例示性實施型態詳加說明。本發明的實施型態不限於以下所示的具體例。
[實施型態]
圖1係示意性地呈示本發明的一實施型態之製造氫的裝置的構成之概略圖。如圖1所示,製造氫的裝置1具備:反應器10,氣體供給裝置20(氣
體供給部),微波照射裝置30(微波照射部),及旋風器40(分離部)。製造氫的裝置1還可以具備熱交換器22A,22B、氫化反應器23、脫硫反應器24、PSA純化器50(變壓吸附方式的純化器;Pressure Swing Adsorption)、冷卻裝置60。製造氫的裝置1具備上述構成要素及各路徑L1至L17等而大致構成。
本發明之製造氫的裝置1為:在藉由微波活化的觸媒121的存在下,烴化合物被熱分解從而生成氫,而得到作為副產物的碳凝集體的裝置。另外,製造氫的裝置1的構成亦可以作為以碳凝集體為主要生成物,氫為副產物之製造碳凝集體的裝置使用。此外,使用製造氫的裝置1的本發明之製造氫的方法,亦可與上述同樣地解釋為製造碳凝集體的方法。
在本發明中,使用烴化合物作為原料。就本發明中的烴化合物而言,可以使用甲烷、乙烷、丁烷、己烷、乙烯、丙烯、乙炔等,但較佳為使用甲烷。
在本發明中所用的觸媒121係烴熱分解用的觸媒。就觸媒121而言,只要能夠分解烴的觸媒就沒有特別限定,例如可以使用鎳(Ni)、碳化鉬(Mo2C)、沸石(可舉例如HZSM-5沸石、絲光沸石、鎂鹼沸石、β型、Y型等的合成沸石,較佳為HZSM-5沸石)、鐵(Fe)、鈷(Co)等。此外,亦可混合這些觸媒中1種以上之物作為觸媒121。觸媒121中含有的觸媒可以任意選擇,但較佳為含有HZSM-5沸石。藉由使觸媒121含有HZSM-5沸石,能夠提高所生成的氫的選擇性。
反應器10的內部所導入的填料12除了觸媒121之外,亦可以含有承熱器(susceptor)成分。承熱器成分係一種可以藉由吸收微波並自
發熱來被加熱的物質。就承熱器成分而言,例如可以使用碳化矽(SiC)、碳(C)等。由於填料12含有承熱器成分,藉由微波的照射,能夠更提高觸媒121的加熱效果。另外,填料12中的觸媒121與承熱器成分的混合比例可以任意設定,例如可為重量比70:30。
反應器10係具備有含有觸媒121的填料12的流動層反應器。在反應器10的底部設有導入含有烴化合物的氣體(稱為氣體G1)之氣體導入部101。此外,在反應器10的上部,設有用以排出含有所生成的氫氣(H2)、未反應的烴化合物、及烴化合物經熱分解而生成的固體碳的固氣混合物之排出部102。在本發明所得到的固體碳係含有碳凝集體。而且,在反應器10中,設有為了補充因含在上述固氣混合物而減少的觸媒121而導入觸媒121之觸媒導入部103。在反應器10內部設有用以降低填料12堵塞氣體導入部101的可能性且支撐填料12之過濾器13。過濾器13沒有特別限定,例如可以使用石英玻璃過濾器等。
反應器10的形狀、大小等只要能夠對內部的觸媒121進行微波的照射,且在觸媒121的存在下能夠在內部使氫化合物進行熱分解,就沒有特別限定。
此外,反應器10可具備反射溫度計(未圖示)。可以使用該反射溫度計測定藉由微波照射而被加熱後的觸媒121的溫度(表面溫度)。該反射溫度計可以使用公知物。可以根據藉由該反射溫度計測定的表面溫度來控制微波的輸出。
微波照射裝置30係對反應器10內部的觸媒121微波照射裝置。微波照射裝置30可以採用單模式或多模式的任一種。
氣體供給裝置20係用以對反應器10供給含有烴化合物的氣體(氣體G1)的裝置。氣體供給裝置20例如具備流量計及控制裝置,能夠經由氣體導入部101以使反應器10內的填料流動化的流速向反應器10內供給氣體G1。
熱交換器22A及熱交換器22B係分別為多管式熱交換器。熱交換器22A及熱交換器22B主要以被供應至反應器10的氣體的預熱及從反應器10排出的氣體的冷卻為目的而設置。熱交換器22A及熱交換器22B可以使用公知者。
氫化反應器23及脫硫反應器24係用以將供給至反應器10的氣體G1進行氫化脫硫的裝置。氫化反應器23及脫硫反應器24,可以使用在以往的氫製造工廠等一般使用的裝置。
旋風器40係用以將從反應器10的排出部102排出的含有H2、未反應的烴化合物、及/或固體碳的固氣混合物分離成固體成分及氣體成分的裝置。旋風器40可配置於反應器10的下游。
PSA純化器50係用以從由反應器10排出的含有H2及未反應的烴化合物的氣體中分離H2的裝置。就PSA純化器50而言,可以使用一般使用之公知裝置。
冷卻裝置60係用以冷卻藉由旋風器40分離之含有碳凝集體的固體成分的裝置。
本發明之製造氫的裝置1係環境友善的無CO2技術。此外,製造氫的裝置1藉由具有上述構成,而能夠連續運行。而且,能夠隨著H2
一同獲得工業上有用的碳凝集體。由於這些碳凝集體可利用於電極等,因此不會浪費碳資源,經濟利益亦佳。
(製造氫的方法)
圖2係呈示本實施型態的製造氫的方法的一例之流程圖。本實施型態之製造氫的方法係例如按照圖2所示的流程圖而實行。另外,圖2所示的流程圖係為一例,惟不限於此。以下係對本實施型態之製造氫的方法中的各步驟詳加說明。
(氫化脫硫步驟S1)
氫化脫硫步驟S1係降低作為原料供給的氣體G1中含有硫的不純物成分的步驟。若在氣體G1中混入硫成分,由於會對觸媒造成不良影響,因此藉由氫化反應器23及脫硫反應器24而減少氣體G1中的硫成分。氣體G1亦可以在氫化反應器23之前藉由熱交換器22A預熱。作為原料供給的氣體G1的氫化脫硫步驟S1在圖1中,藉由路徑L1-熱交換器22A-路徑L2-氫化脫硫反應器23-路徑L3-脫硫反應器24-路徑L4表示。氫化脫硫步驟S1不是必須的步驟,但藉由包含氫化脫硫步驟S1,能夠延長觸媒壽命。
(氣體供給步驟S2)
氣體供給步驟S2係對反應器10供給氣體G1的步驟。在氣體供給步驟中,氣體供給裝置20係以使反應器10內的填料12流動化的流速供給氣體G1。使填料12流動化所需的流速(最小流動化速度umf)可以使用例如下式(1)來計算。式(1)中,Remf[-]為粒子雷諾數,dp[m]為粒徑,ρf[kg/m3]為氣體密度,μ[Pa‧s]為氣體黏度。藉由氣體供給裝置20之氣體G1的供給能夠在製造氫的裝置1的運作中連續實施。
(微波照射步驟S3)
微波照射步驟S3係對氣體供給步驟S2中氣體G1的供給而有流動狀態的觸媒121照射微波的步驟。在微波照射步驟S3中,微波照射裝置30以多模式或單模式對觸媒121照射微波,藉由加熱使觸媒121活化。藉此,與活化的觸媒121接觸的氣體G1中所含的烴化合物進行熱分解。
從微波照射裝置30照射的微波的輸出及頻率只要能夠活化觸媒121且使烴化合物熱分解,則沒有特別限定,本領域者可以適當設定。此外,微波的輸出及頻率係可被控制成使藉由反射溫度計測定的觸媒121的表面溫度維持在適合熱分解反應的反應溫度。
觸媒121藉由微波的照射,加熱至例如500至600℃。該表面溫度可以例如藉由反應器10具備的反射溫度計(未圖示)測定。當反應器10內的填料12含有承熱器成分時,承熱器成分吸收由微波照射裝置30放射的微波,並藉由自加熱向周圍釋放熱。藉此,藉由微波可以提高觸媒121的加熱效率。
(滯留時間控制步驟S4)
滯留時間控制步驟S4係為了控制作為固體碳而可得到的碳凝集體的粒徑,而調節反應器10內的氣體G1的滯留時間的步驟。
在滯留時間控制步驟S4中,藉由例如調節反應器10內的流動層的高度來調節滯留時間。例如藉由增高流動層的高度,可以延長滯留時間。或者,可以藉由改變從觸媒導入部103導入觸媒的速度來調整滯留時間。
在微波照射步驟S3中,烴化合物在被加熱後的觸媒表面分解成氫及碳,碳原子在觸媒表面作為碳析出,而形成例如碳奈米洋蔥(CNO)。CNO係多個石墨烯以同心球殼狀閉合的結構的碳奈米洋蔥。例如,當使用Ni作為觸媒121時,可以形成內包鎳的碳奈米洋蔥((Ni-CNO)。由於反應器10係流動層反應器,因此生成的CNO可以在滯留於反應器10內時形成凝集體。
認為反應器10中CNO的凝集可以用與流動層造粒過程相同的機制來理解。亦即在一般的流動層造粒過程中,在粒子表面分佈具有附著力的材料,以其作為黏合劑而發生粒子生長。在反應器10內的反應中,由於一般認為觸媒表面析出的碳原子本身會作為黏合劑而發揮功能,因此一般認為反應器內的滯留時間越長,凝集粒徑亦越大。因此,一般認為可以藉由控制滯留時間來控制CNO凝集體的粒徑。
在本實施型態中得到的碳凝集體的一例之內包鎳的碳奈米洋蔥((Ni-CNO)是被期待應用於各種電極用途的材料。在關於電極技術中,為了提高電極的性能,提高在充填Ni化合物的固體粒子時的充填率極為重要。已知為了提高充填率,例如以有序單位將不同粒徑的粒子以適當的比例混合者理論上為有效者。
奈米級的微細Ni-CNO粒子可以藉由以往的技術而容易獲得。本案發明係藉由在反應器10內使CNO作為CNO凝集體而生長,可以獲得成長到微米級的CNO凝集體。這種CNO凝集體期待作為電極材料的用途,並被認為可在工業上使用。
用本實施型態得到的碳凝集體的平均粒徑為1μm以上。碳凝集體的平均粒徑例如可以藉由實施對以電子顯微鏡拍攝的電子顯微鏡圖像
二值化的前處理來測定粒徑,並藉由算出多個此碳凝集體的粒徑的平均值而求得。
(分離步驟S5)
分離步驟S5係將從反應器10排出的固氣混合物分離成固體及氣體的步驟。含有藉由在反應器10內的反應而生成的H2、未反應的烴化合物、及因凝集進行而體積密度降低的碳凝集體的混合物,係從設置在反應器10上部的排出部102中排出。排出的混合物可被導入旋風器40並分離成固體成分及氣體成分。另外,從反應器10排出的碳凝集體可以含有觸媒121及/或承熱器成分。
另外,在本實施型態中,使用旋風器40作為用以固氣分離的裝置,但分離步驟S5中所使用的分離裝置(或分離構件)只要能分離固體及氣體即可。例如,可使用袋過濾器、陶瓷過濾器、篩網等的其他公知的分離手段分離固體及氣體。
藉由旋風器40分離的含有H2及烴化合物的氣體成分的至少一部分係通過熱交換器22A及熱交換器22B,藉由PSA純化器50分離成H2及含有未反應的烴化合物的氣體成分。藉由PSA純化器50分離的H2可以經由圖1所示的路徑L11排出,並回收或在系統外利用。藉由PSA純化器50分離的含有未反應的烴化合物的氣體成分可以藉由熱交換器22B預熱,作為原料之氣體G1的一部分再供給至反應器10。用以向反應器10再供給的路徑在圖1中,以路徑L13-熱交換器22B-路徑L8表示。
另外,也可以將藉由旋風器40分離出的含有H2及烴化合物的氣體成分的至少一部分作為用於氫化脫硫步驟S1中使用的H2源而利用。為了在氫化脫硫步驟S1中使用生成的H2的路徑在如圖1中,以路徑
L7-熱交換器22B-熱交換器22A-路徑L2表示。藉此,所生成的H2可以在系統中有效利用。
而且,由於藉由旋風器40分離的含有H2及烴化合物的氣體成分的至少一部分含有未反應的烴化合物,因此作為原料之氣體G1的一部分可以再供給到反應器10。用以向反應器10再供給的路徑在圖1中,以路徑L7-熱交換器22B-路徑L8表示。藉此,可以提高烴化合物的轉化率。
藉由旋風器40分離的固體成分經由路徑L14回收,並供給至冷卻裝置60。供給至冷卻裝置60的固體成分被冷卻,含有觸媒121及/或承熱器成分的固體碳可以經由路徑L15回收。伴隨固體碳的製程氣體(例如未反應的甲烷、不能完全被PSA分離的氫氣、伴隨觸媒的惰性氮氣等)可以經由路徑16排出到系統外。
(實施型態彙整)
(1)本案發明的態樣1之製造氫的裝置係具備:具備有含有烴化合物熱分解用的觸媒的填料的反應器,將含有烴化合物的氣體供給至前述反應器內的氣體供給部,及對前述觸媒照射微波的微波照射部,前述氣體供給部以使前述填料流動化的流速供給前述氣體,在藉由前述微波而活化的前述觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解,從而生成氫。
(2)本案發明的態樣2之製造氫的裝置係在上述態樣1中,前述氣體由前述反應器的下部供給。
(3)本案發明的態樣3之製造氫的裝置係在上述態樣1或2中,在前述反應器的上部或前述反應器的下游,具備分離部,前述分離部係將含有前述觸媒的固體與含有前述氫及/或前述烴化合物的氣體分離。
(4)本案發明的態樣4之製造氫的裝置係在上述態樣1至3的任一項中,前述觸媒含有HZSM-5沸石。
(5)本案發明的態樣5之製造氫的裝置係在上述態樣1至4的任一項中,前述烴化合物為甲烷。
(6)本案發明的態樣6之製造氫的裝置係在上述態樣1至5的任一項中,在藉由前述微波而活化的前述觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解從而生成氫時,係生成碳凝集體。
(7)本案發明的態樣7之製造氫的裝置係在上述態樣6中,前述碳凝集體為碳奈米洋蔥凝聚體。
(8)本案發明的態樣8之製造氫的裝置係在上述態樣6或7中,前述碳凝集體的平均粒徑為1μm以上。
(9)本案發明的態樣9之製造氫的方法係使用上述態樣1至8中任一項之製造氫的裝置而製造氫。
(10)本案發明的態樣10之製造碳凝集體的裝置係具備:具備有含有烴熱分解用的觸媒的填料的反應器,將含有烴化合物的氣體供給至前述反應器的氣體供給部,及對前述觸媒照射微波的微波照射部,前述氣體供給部係以使前述填料會流動的流速供給前述氣體,在藉由前述微波而活化的前述觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解,從而生成碳凝集體。
(11)本案發明的態樣11之製造碳凝集體的裝置係使用上述態樣10之製造碳凝集體的裝置而製造碳凝集體。
(12)本案發明的態樣12之製造碳凝集體的裝置係在上述態樣11中,包含:為了控制前述碳凝集體的粒徑,而控制在前述反應器中之前述氣體的滯留時間之滯留時間控制步驟。
本發明不限於上述各實施型態,在請求項所示的範圍內能夠有各種變更,在不同實施型態中適當組合各個揭示之技術手段而得到的實施型態亦包含於本發明的技術範圍內。
[實證試驗]
以下,說明用以實證使用上述實施型態之製造氫的裝置1之製造氫的方法之效果的實驗室規模試驗。
(對於製造氫的裝置1A)
圖3係用於本發明實施例的試驗之製造氫的裝置1A的主要部之概略圖。圖4係同時表示製造氫的裝置1A的反應器10之擴大圖及用於試驗的周邊機器所示之示意圖。如圖3所示,製造氫的裝置1A具備反應器10A,氣體供給裝置20A(氣體供給部),微波照射裝置30A(微波照射部),及反射溫度計70A。
反應器10A被收納於外殼110A內。在外殼110A中,設有用以從外殼110A外部的路徑向反應器10A供給原料氣體的氣體導入部101A。從氣體供給裝置20A所供給的原料氣體藉由氣體導入部101A從反應器10A的下部向反應器10A內供給。亦即,反應器10A係流動層反應器。此外,在外殼110A中,設有用以從反應器10A向外殼110A外部的路徑排出反應後之氣體的排出部102A。
如圖4所示,反應器10A係在用以收納填料12A之外徑30mm(內徑26mm)且高度200mm的石英玻璃管內,藉由將兩個延長用的玻璃管以磨口連接而構成。在反應器10A的下部配置孔徑40至100μm的石英玻璃過濾器,在該過濾器上充填填料12A。反應器10A的上部充填有石英棉,僅在反應器10A內的反應產生的氣體及/或未反應的氣體成分從排出部102A排出。
微波照射裝置30A具備微波照射構件33A、電源部31A及控制部32A。從微波照射構件33A所照射的微波的輸出及頻率能夠藉由控制部32A控制。微波照射構件33A由磁控管構成,但只要是藉由從電源部31A供給的微波激發電流而激發,且能夠放射微波的構件,則不限於磁控管。
(對於製造氫的裝置1B)
圖5係用於比較例的試驗之製造氫的裝置1B的主要部之概略圖。製造氫的裝置1A的反應器10A係作為流動層反應器而構成,但製造氫的裝置1B的反應器10B為固定床反應器。從氣體供給裝置20A供給的原料經由氣體導入部101B,從反應器10B的上部向反應器10B內供給。已通過固定床的氣體從反應器10B的下部排出,並經由排出部102B向外殼110B外的路徑排出。
反應器10B的外形與反應器10A相同。在反應器10B內,如圖5所示,從反應器10B的下部積層觸媒121(高度1cm)、SiC(作為承熱器成分)(高度1.25cm)、觸媒121(高度1.5cm)、SiC(高度1.25cm)及觸媒121(高度1cm),形成固定床。在此各層之間中配有作為分隔的石英棉。將填充於反應器10B內的觸媒121及SiC構成的填料稱為填料14B。對於製造氫的裝置1B,除了上述各點以外,與製造氫的裝置1A相同。
表1係呈示實施例及比較例的試驗條件及結果。
另外,作為具備微波照射裝置30A、反射溫度計70A及外殼110A的反應裝置,係使用多模式微波反應裝置(四國計測工業股份有限公司μ Reactor Ex)。該裝置的振盪頻率為2.45GHz。
(實施例)
首先,將HZSM-5沸石(HZSM-5)、碳化鉬(Mo2C)及鎳粉(Ni)物理混合,而得到觸媒121。以含有觸媒121及承熱器的填料12A的總重量(19.6g)為100,各混合成分的重量比為Mo2C:Ni:HZSM-5=1:20:47。接著,作為承熱器成分,以填料12A的總重量為100,將SiC以29%的比率添加,並藉由物理混合以獲得第1填料。
以填料12A的總重量為100,將3%比率的SiC作為第2填料充填至反應器10A中,並在上方積層前述第1填料。前述第1填料及前述第2填料合稱為填料12A。充填有填料12A的反應器10A設置在上述反應裝置內。隨著CH4以600ml/min從氣體供給裝置20A經由氣體導入部101A導入,以多模式對反應器10A內的觸媒121照射微波,使反應進行。CH4的流速可以藉由流量計201測定(參照圖4)。反應溫度係使用反射溫度計70A測定觸媒121的表面溫度。控制微波的輸出(400至1000W)使反應溫度為600℃。從排出部102A排出的反應生成物(氣體)的成分量藉由如圖4所示連接的氣相層析儀91在線上定量。根據定量結果算出氫產率,結果為1%/秒以上。另外,氫產率以每單位時間的反應速度r算出。反應速度r可以藉由反應率除以反應時間求得。U/Umf係CH4的流速除以上述最小流動化速度而得的值,為穩定流動化的指標。本實施例的U/Umf為3.96,可知形成穩定的流動層。
圖6係用掃描式電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)拍攝用於在實施型態得到的碳凝集體的圖像。在實施例中,可以得到粒徑約50μm的凝集型Ni-CNO作為固體碳。
(比較例)
首先,將HZSM-5沸石(HZSM-5)、碳化鉬(Mo2C)和鎳粉(Ni)物理混合,作為觸媒121。混合後的觸媒121及SiC如上述(對於製造氫的裝置1B)欄中所說明積層,作為藉由填料14B構成的固定床。以含有觸媒121及承熱器的填料14B的總重量(17.7g)為100,各成分的重量比率為Mo2C:Ni:HZSM-5:SiC=2:20:48:30。
充填有填料14B的反應器10B設置於上述反應裝置內。隨著CH4以50ml/分鐘從氣體供給裝置20A經由氣體導入部101B導入,以多模式對反應器10B內的觸媒121照射微波,使反應進行。反應溫度係使用反射溫度計70A測定觸媒121的表面溫度,控制微波的輸出(400至1000W)使其為600℃。從排出部102B排出的反應生成物的成分量藉由氣相層析儀在線上定量,而求得氫產率,結果為1%/秒以上。
圖7係用SEM拍攝在比較例得到的固體碳的圖像。在比較例中,作為固體碳,可以得到粒徑約200nm的Ni-CNO。
由上述實證試驗,可證實根據本發明的製造氫的方法,能夠在維持氫產率的同時,獲得工業上有用的具有大粒徑的碳凝集體。
1:製造氫的裝置
10:反應器
12:填料
13:過濾器
20:氣體供給裝置(氣體供給部)
22A,22B:熱交換器
23:氫化反應器
24:脫硫反應器
30:微波照射裝置(微波照射部)
40:旋風器(分離部)
50:PSA純化器
60:冷卻裝置
101:氣體導入部
102:排出部
103:觸媒導入部
121:觸媒
G1:含有烴化合物的氣體
L1至L17:路徑
Claims (12)
- 一種製造氫的裝置,具備:具備有含有烴熱分解用的觸媒的填料的反應器;及將含有烴化合物的氣體供給至前述反應器內的氣體供給部;及對前述觸媒照射微波的微波照射部,前述氣體供給部係以使前述填料流動化的流速供給前述氣體,在藉由前述微波而活化的觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解,從而生成氫。
- 如請求項1所述之製造氫的裝置,其中,前述氣體由前述反應器的下部供給。
- 如請求項1所述之製造氫的裝置,其中,在前述反應器的上部或前述反應器的下游具備分離部,前述分離部係將含有前述觸媒的固體與含有前述氫及/或前述烴化合物的氣體分離。
- 如請求項1所述之製造氫的裝置,其中,前述觸媒含有HZSM-5沸石。
- 如請求項1所述之製造氫的裝置,其中,前述烴化合物為甲烷。
- 如請求項1所述之製造氫的裝置,其中,在藉由前述微波而活化的前述觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解從而生成氫時,係生成碳凝集體。
- 如請求項6所述之製造氫的裝置,其中,前述碳凝集體為碳奈米洋蔥凝集體。
- 如請求項6所述之製造氫的裝置,前述碳凝集體的平均粒徑為1μm以上。
- 一種製造氫的方法,係使用如請求項1至8中任一項所述之製造氫的裝置而製造氫。
- 一種製造碳凝集體的裝置,係具備:具備有含有烴熱分解用的觸媒的填料的反應器;及將含有烴化合物的氣體供給至前述反應器的氣體供給部;及對前述觸媒照射微波的微波照射部,前述氣體供給部係以使前述填料會流動的流速供給前述氣體,在藉由前述微波而活化的前述觸媒的存在下,前述烴化合物被熱分解,從而生成碳凝集體。
- 一種碳凝集體的製造方法,其係使用如請求項10所述之製造碳凝集體的裝置而製造碳凝集體。
- 如請求項11所述之碳凝集體的製造方法,其包含:為了控制前述碳凝集體的粒徑,而控制在前述反應器中之前述氣體的滯留時間之滯留時間控制步驟。
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