TW202304657A - 中介墊、研磨系統及從中介墊的下表面去除研磨殘屑的方法 - Google Patents
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Abstract
所提出的解決方案揭露了中介墊、襯墊和研磨件的導管配置。本導管配置中介墊、襯墊和研磨件。本導管配置能夠將空氣可控地傳送到中介墊、襯墊和研磨件的表面上以及從中抽出空氣和碎屑。所提出的解決方案是適用於研磨系統的中介墊。所提出的解決方案是包括中介墊的研磨系統。所提出的解決方案適用於研磨設備的襯墊。所提出的解決方案包括襯墊的研磨系統。所提出的解決方案適用於研磨系統的研磨件。所提出的解決方案包括研磨件的研磨系統 。所提出的解決方案進一步涉及使用研磨系統來提取研磨殘屑的方法。
Description
發明領域
待提出的解決方案涉及在以研磨設備研磨工件的期間抽出殘屑。
本解決方案涉及適用於研磨系統的中介墊。本解決方案涉及包括中介墊的研磨系統。本解決方案涉及適用於研磨設備的襯墊。本解決方案涉及包括襯墊的研磨系統。本解決方案涉及適用於研磨系統的研磨件。本解決方案涉及包括研磨件的研磨系統。本解決方案進一步涉及使用研磨系統來抽出研磨殘屑的方法。
發明背景
研磨是在眾多的情境中進行的,如汽車修理和油漆工作、建築的建造和修理、以及傢俱製造和修理之類的。在所有這些情況下,研磨產生的殘屑應該從要研磨過程中有效率且可控制地提取出,因為剩餘的殘屑對研磨的效率和結果產生負面影響,且如果擴散,則構成健康危害和妨擾。在一些研磨的應用中,透過使用在研磨物品和研磨設備的襯墊之間的中介墊可以改善使用者控制、成本效率和/或成果表面的品質。
發明概要
所提出的解決方案是適用於研磨系統的中介墊。所提出的解決方案是包括中介墊的研磨系統。所提出的解決方案是適用於研磨設備的襯墊。所提出的解決方案是包括襯墊的研磨系統。所提出的解決方案是適用於研磨系統的研磨件。所提出的解決方案是包括研磨件的研磨系統。所提出的解決方案進一步涉及使用研磨系統來抽出研磨殘屑的方法。
所提出的解決方案揭露了中介墊、襯墊和研磨件的導管配置。這樣的中介墊、襯墊和研磨件適用於研磨系統,其包括能產生吸入壓力或能附著到吸入壓力來源的研磨設備,其目的為用吸入壓力將研磨殘屑從研磨過程中取出。
當上述導管配置是在一個中介墊上實施,該等導管配置可改善將研磨殘屑從中介墊和研磨件的輸出。
這樣的中介墊可適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備。這樣的中介墊可包括上表面層,其包括適用於附著上表面層至研磨設備襯墊的附著件,該中介墊可包括下表面層,其包括適用於附著下表面層至研磨件的附著件,該中介墊可包括可選地一或多個單層或多層疊的中介層,其位在上表面層和下表面層之間並附著至上表面層和下表面層,該中介墊可包括面向研磨件的下表面、面向襯墊的上表面、外側壁、至少一個中間導管,其以一個孔終結在下表面上且適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,以及至少一個周邊導管,其從外側壁延伸並以一個孔終結在下表面上且適於將傳入的空氣輸送到下表面並且被中介墊的完整部分與中間導管相隔開。
當上述導管配置是在一個襯墊上實施,該等導管配置可適用於從襯墊和研磨件抽出研磨殘屑,以及若研磨系統包括中介墊,從中介墊抽出研磨殘屑。
這樣的襯墊可適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備。這樣的襯墊可包括主體,其包括適用於附著主體至研磨設備的附著件,該襯墊可包括可附著至主體上的下表面層,其包括適用於附著下表面層至研磨件的附著件,該襯墊可包括面向研磨件的下表面,該襯墊可包括外側壁、至少一個中間導管,其以一個孔終結在下表面上且適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,以及至少一個周邊導管,其從外側壁延伸並以一個孔終結在下表面上且適於將傳入的空氣輸送到下表面並且被襯墊的完整部分與中間導管相隔開。
當上述導管配置是在一個研磨件上實施,該等導管配置可適用於從研磨件和被研磨的工件之間的介面抽出研磨殘屑,和/或從研磨件和襯墊或中介墊的介面抽出研磨殘屑。
這樣的研磨件可適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備。這樣的研磨件可包括上表面層,其包括適用於附著上表面層至研磨設備襯墊或中介墊的附著件,該研磨件可包括面向襯墊或中介墊的上表面,該研磨件可包括帶下表面的下表面層,該下表面層包括研磨材料,使得該下表面可被用來研磨工件,該研磨件可包括可選地單層或多層疊的中介層,其可以另外是多孔的和/或包含多層,該研磨件可包括外側壁、至少一個周邊導管,其從外側壁延伸至下表面並且被研磨件的完整部分與任何其它可能的導管相隔開。有利地,下表面層可包括具有小開口的開放式網眼,該網眼被研磨顆粒塗覆。
所公開的用於抽出研磨碎屑的導管裝置和相關方法提供了如下優點:當接上提供吸入壓力的研磨設備時,能有利地引導在中介墊、襯墊和/或研磨件的表面上的空氣和殘屑流,使得表面被均勻地沖刷。這種有利的空氣引導包括可控制地將進入的空氣也引入到所述表面的中間區域,從而實現包括其中間區域的所述表面的均勻沖刷。根據本發明揭露的導管配置,周邊導管在不將空氣和/或碎屑傳送到系統中的另一部件中的任何導管中的意義上來說是盲管,且可迫使空氣和/或碎屑在到達最附近的連接有吸入壓力的抽取導管之前,越過所述表面。
這種強迫空氣和/或殘骸越過上述表面的情況,可實現比使用已知的襯墊、中介墊和研磨件更能均勻沖刷上述表面。亦即,當使用已知的襯墊、中介墊和研磨件時,所述表面的中間區域的沖刷會比中央區域和周邊區域的沖刷較不完全。
這樣的均勻沖刷所述表面有利於消除或減少殘留在所述表面上的研磨殘屑。這是有益的,因為研磨過程中殘留的殘屑,亦即殘留在研磨件和中介墊或襯墊之間的介面和/或在研磨件和被研磨的工件之間的介面,可能會對研磨效率和所產生的表面質量產生不利影響,甚至會堵塞研磨件。此外,在研磨件和所附著研磨系統部件(即中介墊或襯墊)之間夾有的任何殘屑,可能會逐漸損壞附著件直至最終失效。例如,石膏灰泥粉塵可能會逐漸研磨襯墊或中介墊上黏扣帶(hook-and-loop fastening)系統的鉤子,以至於必須更換襯墊或中介墊。這種更換增加了研磨的成本,在更換期間中斷了工作,並且需要保存更換的庫存。此外,研磨件、中介墊和/或襯墊上累積的殘屑增加了積累有殘屑的系統部件的重量,導致不平衡的研磨系統,及折衷的用戶控制、研磨效率和表面質量。
本發明揭露的中介墊可用來做為研磨系統的一部分,該研磨系統包括研磨設備、襯墊和所揭露的中介墊。為了研磨一工件,所公開的中介墊可以附著到研磨件上,該研磨件優選為多孔的,並且最優選為包括具有小開口的開放式網眼的研磨網,所述網眼被磨料顆粒塗佈。襯墊和/或研磨件可以是不包括本發明公開的導管配置的類型。
本發明揭露的襯墊可用來做為研磨系統的一部分,該研磨系統包括研磨設備和所揭露的襯墊。為了研磨一工件,所公開的襯墊可以附著到研磨件上,該研磨件優選為多孔的,並且最優選為包括具有小開口的開放式網眼的研磨網,所述網眼被磨料顆粒塗佈。研磨件可以是不包括本發明公開的導管配置的類型。
本發明揭露的研磨件可用來做為研磨系統的一部分,該研磨系統包括研磨設備和襯墊,以及可選的中介墊。為了研磨一工件,所公開的研磨件可以附著到襯墊上,或該研磨件可附著到一附著至襯墊的中介墊上。襯墊和/或中介墊可以是不包括本發明公開的導管配置的類型。
一包括所公開中介墊、所公開襯墊或所公開研磨件的研磨系統,可用於汽車修理和油漆工作、建築物的建造修理以及家具的製造修理等。
較佳實施例之詳細說明
在所有研磨中,無論是研磨離散的工件還是更大的表面如牆壁或天花板,都會產生研磨殘屑。此殘屑包括從被研磨的表面磨下的材料以及從研磨件如砂紙或砂磨網脫落的磨料顆粒。為了研磨的生產力,需要從研磨表面磨下大量研磨材料並且因此會有大量且恆定量的研磨碎屑。
碎屑的抽出和運送通常用基於吸力的系統來實現,使得在襯墊和研磨件上存在孔,通過該等孔將研磨碎屑從研磨過程中吸走。然而,對於均勻多孔的研磨件如研磨網,其特徵在於在研磨件的整個表面上分佈有大量的孔,如果附著區域保持不均勻沖刷,則碎屑可能積聚在襯墊或中介墊上。如圖
10 b所示,增加更多的抽吸孔不會導致均勻的沖刷,其沒有將進入的空氣受控地引導通過位於下表面上的導管和/或終止於下表面上的孔到待沖刷的表面上,如圖
10 a所示。
下文將描述一種解決方案,以新穎的、能實施在襯墊、中介墊和研磨件的導管配置,使得均勻抽出研磨殘屑能夠實現。導管配置可以依襯墊、中間墊和研磨物品的特定實施例而不同,但它們具有相同的導向原理,特別是關於可控地將進入的空氣引入所指產品的中間區域。
中介墊
圖
3中示出了根據一個實施例的中介墊
100。當用做為研磨工件的研磨系統的一部分時,中介墊
100可具有數個有利地引導空氣流的導管
110 a-
110 c。如圖
10 a所示,這種所欲的空氣流均勻地沖刷中介墊
100的表面以抽出研磨碎片,使得在中介墊
100的表面上保留極少的研磨殘屑,從而產生了有益效果,即中介墊
100的壽命增加並且研磨過程不受系統中累積的碎屑損害。已知,當空氣流從中介墊
100的表面流出時,空氣流捕獲研磨殘屑並將捕獲的研磨殘屑從中介墊
100的表面輸送走。
圖
4中示出了根據一個實施例的中介墊
100的結構,其附著在襯墊
10和研磨件
300之間。
根據圖
4所示的實施例,中介墊
100可以包括上表面層
130,下表面層
150和中介層
140。在另一個實施例中,中介墊
100可以包括上表面層
130和下表面層
150,並且不包括中介層。在又一個實施例中,中介墊
100可以包括上表面層
130,下表面層
150和中介層
140,使得中介層
140包括兩個或更多個層疊,所述層疊可以例如是不同材料。
中介墊
100具有包圍上表面層
130,下表面層
150和中介層
140(如果有的話)的外側壁
120。在圖
4所示的實施例中,外側壁
120具有壁表面,該壁表面可以處於基本垂直於上表面層
130和下表面層
150的平面上。在其他實施例中,外側壁
120可以是傾斜的,使得中介墊
100的周邊在下表面
160處比在上表面
170處更大,反之亦然。
上表面層
130可以包括用於將中介墊
100附接到襯墊的附著件,且下表面層
150可以包括用於將中介墊
100附接到研磨件的附著件。這樣的附著件可以實現機械或黏合劑附接。優選地,這樣的附接能夠移除和重新附接。根據一個優選實施例,附著件可以包括黏扣帶,並具有便於再次附接的能力。在此優選實施例中,中介墊
100的上表面層
130可以包括黏扣帶的鉤,並且襯墊
10的下表面層可以包括黏扣帶的環,反之亦然,和/或中介墊
100的下表面層
150可以包括黏扣帶的鉤,並且研磨件
300的上表面層可以包括黏扣帶的環,反之亦然。
在另一個實施例中,附著件可以是基於壓敏黏合劑,即PSA。在這樣的實施例中,中介墊
100的上表面層
130可以包括壓敏黏合劑並且襯墊
10的下表面層可以包括適合於壓敏黏合的平坦表面,或者反之亦然,和/或下部表面層中介墊
100的下表面層
150可以包括壓敏黏合劑,且研磨件
300的上表面層可以包括適合於壓敏黏合的平坦表面,反之亦然。
在圖
4中所示的具體實施方式包括中介層
140,並且在包括具多個層的中介層
140的這樣的實施方式中,可以根據應用選擇中介層
140的厚度和材料。涉及中介層
140的特點的設計選擇的例子可包括吸收機械振動、吸收聲音、重量、可回收性、成本、可製造性、可塑性以及對中介墊
100的其他層的可附接性。這樣的選擇可能會影響研磨系統的可控性以及研磨表面的質量。
在包括中介層
140且在圖
4中示出的具體實施例中,中介層
140可以包括的材料的示例包括軟質材料,例如泡沫聚丙烯、泡沫聚乙烯、泡沫丙烯腈丁二烯苯乙烯、泡沫聚氨酯、泡沫聚醯胺、泡沫乙烯乙酸乙烯酯或類似材料,和硬質材料,例如聚丙烯、聚乙烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯、聚氨酯、聚醯胺、鋁或類似材料。
中介墊
100包括中央區域、周邊區域和中間區域,中央區域指的是中介墊
100在其中心處和其附近的部分,周邊區域指的是中介墊
100在其外側壁
120處和其附近的部分,中間區域指的是中介墊
100的位於中央和周邊區域之間的部分。中央區域,周邊區域和中間區域在
S
X ,
S
Y 平面上定義。
根據圖
3所示的圓形中介墊
100實施例,中央區域可以從中介墊
100的中心朝其外側壁
120徑向延伸至不超過中介墊
100半徑5%、或10%、或15%、或20%、或25%、或30%、或35%的距離,且周邊區域可從中介墊
100的外側壁
120向其中心徑向延伸到中介墊
100.半徑的至少10%、或15%、或20%、或25%、或30%或35%的距離。
根據圖
3所示的特定實施例,中央區域可以從中介墊
100的中心朝其外側壁
120徑向延伸至中介墊
100半徑20%的距離,且周邊區域可從中介墊
100的外側壁
120向其中心徑向延伸到中介墊
100.半徑的20%的距離。
在
S
X ,
S
Y 平面上具有不同形狀的中介墊
100(例如中介墊
100是矩形或三角形)的其他實施例中,可以類似地,通過將半徑的概念替換成中介墊
100的中心與外側壁
120上的任何給定點(例如相對於中介墊
100的中心的最近點)之間的距離,來定義中央區域、中間區域和周邊區域。
中介墊
100可以包括多個導管
110 a-
110 c,其可以在下表面
160上的孔終止。這樣的導管可以包括位於或至少源自中央區域的一或多個中央導管
110 a,位於中間區域中的一或多個中間導管
110 b,和/或源自周邊區域並延伸到中間區域的一或多個周邊
110 c。這樣的導管
110 a-
110 c可以被中介墊
100的完整部分圍繞,使得沒有導管
110 a-
110 c延伸到另一個導管
110 a-
110 c中。中央導管
110 a和一或多個周邊導管
110 c可以不連接到吸入壓力源,例如不連接到一或多個中間導管
110 b。
中介墊的完整部分是指不含一或多個導管
110 a-
110 c的中介墊
100的一部分,因此阻止空氣流動,以致比起通過中介墊
100的完整部分,空氣將基本上更自由地沿著導管
110 a-
110 c流動。導管
110 a-
110 c通過中介墊
100的完整部分彼此分開的目的,是為了能夠通過導管
110 a-
110 c控制空氣的輸送,使得可以利用未接有吸入壓力的導管的空氣流動過中介墊
100的表面到接有吸入壓力的導管,來引起表面沖刷。如果空氣流從一個導管
110 a-
110 c直接洩漏到另一個導管中,則這種受控的空氣傳輸將受到干擾。
由於一或多個周邊導管
110 c可延伸到中介墊
100的中間區域中,所以一或多個周邊導管
110 c可延伸到一個距離處,該距離大於外側壁
120上周邊導管
110 c的起點與中介墊
100中心之間的距離的10%、或15%、或20%、或25%或30,與前文關於周邊區域範圍的描述內容相一致。
將適於連接到研磨系統中吸入壓力的中間導管
110 b與不適於連接到研磨系統中吸入壓力的導管
110 a,
110 c相隔開所帶來的技術效果是,能夠控制空氣從環境壓力流動到低壓(即吸入壓力),以便在中介墊
100的整個表面上引起均勻的空氣流動。在圖
3所示的實施例中,中間導管
110 b可以適於連接到研磨系統中的吸入壓力,並且中央導管
110 a和周邊導管
110 c可以不適於連接到吸入壓力。
周邊導管
110 c可以穿過中介墊
100的外側壁
120。周邊導管
110 c可以是細長的,使得周邊導管
110 c可以從中介墊
100的周邊區域延伸到其中間區域,使得最靠近中介墊
100中心的周邊導管
110 c端部,比起距離中介墊
100中心最遠的中間導管
110 b,更接近中介墊
100的中心。周邊導管
110 c可以同向或朝向中央導管
110 a和/或中央區域延伸。
如圖
1和圖
2所示,如果適當地用做為研磨系統的一部分,中央導管
110 a和周邊導管
110 c可以用於將進入的空氣引入到中介墊
100的下表面
160上,並且中間導管
110 b可用於將空氣和殘屑從所述表面輸送走。
圖3示出了具體實施例的導管
110 a-
110 c的構造。在這個實施例中,有至少一個位於中央區域的中央導管
110 a;多個位於中間區域中的中間導管
110 b,使得中間導管
110 b沿著與中介墊
100的中心同心的三個同心圓佈置,每個同心圓具有數個中間導管
110 b,例如8個中間導管
110 b ,優選地具有相等的間距;以及數個周邊導管
110 c,例如8個周邊導管
110 c,優選具有相等的間距,該周邊導管
110 c穿過中介墊
100的外側壁
120。中央導管
110 a和/或中間導管
110 b在中介墊
100的下表面
160上可以是圓形的。
周邊導管
110 c可以是細長的,使得周邊導管
110 c朝向中介墊
100的中心延伸並進入其中間區域,使得周邊導管
110 c的端部朝向中介墊
100的中心延伸至大於中介墊
100的半徑的一半處。
圖
11 a至圖
11 f示出了不同導管構造的例子,其可以用於中介墊
100的其他實施例中,或可以採用特定的導管幾何形狀到設導管
110 a-
110 c的中介墊
100中。根據圖
11 a所示的示例配置,可以存在多個具有曲率的細長周邊導管。根據圖
11 b所示的例子,可以存在多個具有分支的細長周邊導管。根據圖
11 c所示的示例,可以存在不止一種類型的細長周邊管道,使得可以存在多個分支周邊管道和多個非分支周邊管道。根據圖
11 d中所示的示例,可以存在分支中央導管
,並且可以存在多個細長周邊導管,使得細長周邊導管中的其中一些從中介墊
100的周邊區域以一個非朝向中介墊
100中心的方向延伸到其中間區域。根據圖
11 e所示的例子,可以存在多個具有分支的細長中間導管。根據圖
11 f所示的例子,可以存在多個具有角度的細長周邊導管。儘管圖
11 a至圖
11 f示出了圓形中介墊
100上的不同導管配置的示例,但是所示出的幾何原理也可以在不同形狀的中介墊
100上實施,例如矩形或三角形。
在圖
3所示的具體實施例中,導管
110 a-
110 c可以在
S
Z 軸上延伸穿過中介墊
100的整個厚度。也就是說,在該實施例中,導管
110 a-
110 c可以從中介墊
100的上表面
170延伸到其下表面
160。
在基於圖
3和圖
4所示者的實施例中,導管
110 a-
110 c可從中介墊
100的上表面
170延伸穿過其上表面層
130、中介層
140和下表面層
150,並且最終到達中介墊
100的下表面
160。在該實施例中,中央導管
110 a和中間導管
110 b是
5 a中所示的類型,即延伸穿過中介墊
100整個厚度的孔,並且周邊導管
110 c是圖
5 f中所示的類型,即延伸穿過中介墊
100的整個厚度並且如圖
3和圖
11 a至
11 f所示的狹縫。
圖
5 b、
5 c、
5 d和
5 e示出了可用於基於圖
4中所示的層結構的中介墊
100的其他實施例中的導管類型,即包括中介層
140的這類實施例。在具有或不具有中間層
140的中介墊
100的實施例中可採用圖
5 a和圖
5 f中所示的導管類型。
圖
5 b示出了周邊導管
110 c的實例,該周邊導管源自並穿過中介墊
100的外側壁
120並且在
S
X 、
S
Y 平面上拉伸,該周邊導管在中介墊
100下表面
160上具有相同拉伸長的孔,並且在
S
Z 軸上延伸穿過下表面層
150,部分地穿過中介層
140而不進入上表面層
130。該導管類型例如是中介墊
100的下表面
160上的凹槽,該凹槽朝向研磨件
300打開。優選地,凹槽在外側壁
120處具有開口端以及至少一個相對的封閉端。該導管類型可以被修改為使得它在
S
Z 軸上完全延伸穿過中介層
140而不是部分地延伸,在這種情況下,該導管類型可以用於不包括中介層
140的中介墊
100的實施例中。
圖
5 d示出了周邊導管
110 c和/或中央導管
110 a的示例,該等導管源自並穿過中介墊
100的外側壁
120,在中介層
140內行進並且可以被配置為在所欲位置穿刺下表面
160,包括中介墊
100的中心。這可以實現在選擇中介墊
100的下表面
160上輸送空氣的位置上的自由,包括有利地使用中介墊
100與襯墊
10和/或不具有中央空氣導管的研磨設備。用作周邊導管
110 c的這種導管類型包括例如在下表面
160上的凹槽,該凹槽朝向研磨件
300打開。在這種情況下,周邊導管
110 c優選地包括具有至少兩個封閉端的凹槽和在外側壁
120上的孔口。換言之,在該優選情況下,周邊導管
110 c在下表面
160上具有細長的孔。該導管類型可以被修改,使其在
S
Z 軸上完全延伸穿過中介層
140而不是部分地延伸。
圖
5 c和
5 e示出中央導管
110 a和/或中間導管中間導管
110 b,其具有在上表面層
130和下表面層
150中在
S
X ,
S
Y 平面上橫向偏移的孔口。這使得能夠有利地在中介墊
100的下表面
160上配置導管,其不同於上表面
170上和襯墊
10中的導管配置。該導管類型可以被修改,使其在
S
Z 軸上完全延伸穿過中介層
140而不是部分地延伸。
在中介墊
100中,每組導管,即中央導管
110 a、中間導管
110 b和/或周邊導管
110 c可採用如上所述的不同類型的導管。此外,每個所述一組導管可以在該組內使用不同類型的導管,使得在一組導管內可以使用多於一個如上所述並在圖
5 a至圖
5 f中示出的導管類型。
在中介墊
100中,每組導管,即中央導管
110 a、中間導管
110 b和/或周邊導管
110 c可以使用不同於另一組導管的導管類型。
根據圖
3和圖
4所示的具體實施例的中介墊
100,即包括中介層
140和從上表面
170延伸到下表面
160的導管
110 a-
110 c的實施例,可以例如通過沖孔成型(punching)來製造。這種沖孔成型可以用合適的沖頭和模具,和包括上表面層
130、中介層
140和下表面層
150的片材來進行。這些層可以在沖孔成型之前黏附地彼此附接。或者,這些層可以分開沖孔成型並且在沖孔成型之後例如黏合地彼此附接。
不具有中介層
140但根據圖
3和
4所示的所述特定實施例的中介墊
100可類似地通過沖孔成來製造。這種沖孔成型可以用合適的沖頭和模具,和包括上表面層
130和下表面層150的片材來進行。這些層可以在沖孔成型之前黏附地彼此附接。或者,這些層可以分開沖孔成型並且在沖孔成型之後例如黏合地彼此附接。
包括圖
5 b、
5 c、
5 d和/或
5 e中所示類型的導管的中介墊
100的實施例的製造可以例如通過加成製造(例如利用三維印刷)中間層140、從合適的材料片中沖孔成型出上表面層
130和下表面層
150,並最終將所有層
140、
130和
150彼此黏附在一起。
如上所述的中介墊
100可以用於包括研磨設備
1和襯墊
10和中介墊
100的研磨系統中,如圖1實施例所示。如上所述,中介墊
100可以是包括中介層
140的類型,或者也可以是不包括中介層
140的類型,也如上所述。在用這種研磨系統研磨一工件期間,研磨件
300可附接至中介墊
100。研磨件
300較好是多孔的,最好是包含開放式網眼的研磨網,該網眼塗有磨粒並包括多個開口。在研磨過程中,研磨設備
1可以旋轉和/或擺動襯墊
10。這種旋轉和/或擺動可以由研磨設備
1的電源(例如電動或氣動馬達)引起。
研磨件
300、襯墊
10和中介墊
100可以在
S
X 、
S
Y 平面上具有任何形狀,例如矩形、三角形,或者如果是旋轉的則優選為圓形。有利地,襯墊
10、中介墊
100和研磨件
300基本上具有相同的形狀。襯墊
10和研磨件
300可以例如是常規的已知類型,或者它們可以結合本發明公開的用於襯墊
200和研磨件
400的解決方案的原理。
在圖
2中以橫截面圖示了研磨系統的實施例,其中中介墊
100是根據圖
3中所示的具體實施例。在這個研磨系統實施例中,中介墊
10的中間導管
110 a和
110 b分別與襯墊
10的中間導管
11 a和
11 b對齊。此外,襯墊
10的中間導管
11 b與研磨設備
1的導管
2對齊。研磨設備
1的導管
2可連接到或適於連接到可包括殘屑收集容器
4的吸入壓力來源
3。
一般應該理解的是,對於要對準的導管,導管不一定必須在幾何上完美地對準,使得例如它們的孔將彼此完美匹配而沒有任何幾何偏移或面積差異,或者導管將需要密封耦合到彼此。相反地,當導管構成功能性空氣和/或碎屑的輸送路徑時,亦即可將空氣和/或碎屑從一個導管輸送到另一導管時,即應理解為對準。
研磨系統的操作過程中,襯墊
10的中央導管
11 a可以將進入的空氣通過中介墊
100的中央導管
110 a傳送到中介墊
100的下表面
160上。在
S
X ,
S
Y 平面上從中介墊
100的中間區域延伸到其周邊區域並穿過其外側壁
120的周邊導管
110 c(在圖
2中的截面中不可見)可以在因襯墊
10上沒有與周邊導管
110 c對齊的對應孔或導管的意義上來說是盲管。因此,周邊導管
110 c不與吸入壓力連接。
根據圖
2所示的實施例,在研磨期間,可以從中介墊
100的下表面
160,即從中介墊
100和容納其附接元件的研磨件
300之間的空間抽吸研磨碎屑,壓力通過中介墊
100的中間導管
110 b,然後通過襯墊
10的中間導管
11 b進入研磨設備
1的導管
2。所提取的研磨殘屑可被傳送到殘屑收集容器
4中。被吸入壓力吸至中介墊
100的下表面
160上的替換空氣可以源自中介墊
100的中央導管
110 a、周邊導管
110 c和外側壁
120。由於周邊導管
110 c可以如上所述是盲管,通過這些導管的進入空氣可能在到達最靠近吸入壓力連接的中間導管
110 b之前被迫越過中介墊
100的下表面
160,由此提供大體上延伸到中介墊
100的中間區域中的表面沖刷。圖
10 a示出了根據該實施例的中介墊
100的下表面
160上的空氣流動。
此外,如果研磨件
300是多孔的,例如包括開放式網眼的研磨網,該網眼上塗覆有磨粒並且包括多個開口,則在研磨期間,研磨殘屑可以從研磨件
300移動到中介墊
100的下表面
160上,並且研磨件
300的下表面可以以與中介墊
100的下表面
160類似的方式被沖刷。
在中介墊
100的其他實施例中,例如根據圖
11 a至圖
11 f所示的示例,導管
110 a-
110 c可以以不同的配置在
S
X ,
S
Y 平面上。額外的導管配置可以例如通過組合圖
11 a至
11 f中所示的導管類型來設計。不同的這種配置可以被設計來管理不同應用中的進入和離開空氣流,包括不同形狀的襯墊
10、中介墊
100和研磨件
300,使得中介墊
100的下表面
160可以被空氣均勻地沖刷,以均勻地抽出中介墊
100整個表面上的研磨殘屑,如根據圖10a中的一個實施例所示。
在中介墊
100的另外其他實施例中,一或多個中央導管
110 a可以連接到吸入壓力並且由此用作空氣和殘屑抽出導管,而不是將進入的空氣輸送到中介墊
100的下表面
160上。在這樣的實施例中,根據上面已經描述的內容,一或多個中央導管
110 a因此可以起類似於中間導管
110 b的作用。如上所述,這些實施例可以另行遵守上述解決方案的原理。因此,在這樣的實施例中,進入的空氣可以通過中介墊
100的周邊導管
110 c及外側壁
120上起始,並且在到達最近的吸入壓力連接的中央或中間導管
110 b,
110 a之前被迫越過中介墊
100的下表面
160,由此提供基本上延伸到中介墊
100的中間和中央區域的表面沖刷。
襯墊
圖
7中示出了根據一個實施例的襯墊
200。當用做為研磨工件的研磨系統的一部分時,襯墊
200可具有數個有利地引導空氣流和殘屑的導管
210 a-
210 c。這種所欲的空氣流和殘屑均勻地沖刷襯墊
200的表面,使得在襯墊
200的表面上保留極少的研磨殘屑,從而產生了有益效果,即襯墊
200的壽命增加並且研磨過程不受系統中累積的碎屑損害。已知,當空氣流從襯墊
200的表面流出時,空氣流捕獲研磨殘屑並將捕獲的研磨殘屑從襯墊
200的表面輸送走。
圖
8中示出了根據一個實施例的襯墊
200的結構,其附著至研磨件
300。
根據圖
8所示的實施例,襯墊
200可以包括主體
230,下表面層
240和下表面
250。在另一個實施例中,襯墊
200可以包括下表面層
240和主體
230,該主體
230可以包括兩層或更多層疊,所述層疊可以例如是不同材料。
襯墊
200具有包圍主體
230和下表面層
240的外側壁
220。在圖
8所示的具體實施例中,外側壁
220具有壁表面,該壁表面處於基本垂直於主體
230和下表面層
240的平面上。在其他實施例中,外側壁
220可以是傾斜的,使得襯墊
220的周邊在下表面
250處比在主體
220上部處更大,或反之亦然。
下表面層
240可以包括附著件以將襯墊
200附接到研磨件
300上。這樣的附著件可以實現機械或黏合劑附接。優選地,這樣的附接能夠移除和重新附接。根據一個優選實施例,附著件可以包括黏扣帶,並具有便於再次附接的能力。在該優選實施例中,襯墊
200的下表面層
240可以包括鉤,並且研磨件
300的上表面可以包括環,或反之亦然。
在另一個實施例中,附著件可以是基於壓敏黏合劑,即PSA。在這樣的實施例中,研磨件
300的上表面可以包括壓敏黏合劑,並且襯墊
200的下表面層
240可以包括適合於壓敏黏合的均勻表面,或反之亦然。
襯墊的主體
230可以包括附著件以將襯墊
200附接到研磨設備
1上。這樣的附著件可以實現機械附接並且可以有利地實現移除和再附接。這樣的附著件可以包括已知的例如一個或多個螺栓、一個或多個螺母和/或一個或多個螺釘,其中研磨設備
1具有用於連接到主體
230的附著件的合適元件。
在圖
8所示的具體實施例中,襯墊
200除了包括下表面層
240外,還包括主體
230,可根據應用進行選擇主體
230的厚度和材料。這同樣適用於其中主體
230包括多個層的襯墊
200的實施例。
涉及主體
230的特點的設計選擇的例子可包括吸收機械振動、吸收聲音、重量、可回收性、成本、可製造性、可塑性以及對下表面層
240的可附接性。這樣的選擇可能會影響研磨系統的可控性以及研磨表面的質量。
在圖
8所示的具體實施例中,主體
230可以包括的材料的示例包括軟質材料,例如泡沫聚丙烯、泡沫聚乙烯、泡沫丙烯腈丁二烯苯乙烯、泡沫聚氨酯、泡沫聚醯胺、泡沫乙烯乙酸乙烯酯或類似材料,和硬質材料,例如聚丙烯、聚乙烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯、聚氨酯、聚醯胺、鋁或類似材料。
襯墊
200包括中央區域、周邊區域和中間區域,中央區域指的是襯墊
200在其中心處和其附近的部分,周邊區域指的是襯墊
200在其外側壁
220處和其附近的部分,中間區域指的是襯墊
200的位於中央和周邊區域之間的部分。中央區域,周邊區域和中間區域在
S
X ,
S
Y 平面上定義。
根據圖
7所示的圓形襯墊
200實施例,中央區域可以從襯墊
200的中心朝其外側壁
220徑向延伸至不超過襯墊
200半徑5%、或10%、或15%、或20%、或25%、或30%、或35%的距離,且周邊區域可從襯墊
200的外側壁
220向其中心徑向延伸到襯墊
200.半徑的至少10%、或15%、或20%、或25%、或30%或35%的距離。
根據圖
7所示的特定實施例,中央區域可以從襯墊
200的中心朝其外側壁
220徑向延伸至襯墊
200半徑20%的距離,且周邊區域可從襯墊
200的外側壁
220向其中心徑向延伸到襯墊
200.半徑的20%的距離。
在
S
X ,
S
Y 平面上具有不同形狀的襯墊
200(例如襯墊
200是矩形或三角形)的其他實施例中,可以類似地,通過將半徑的概念替換成襯墊
200的中心與外側壁
220上的任何給定點(例如相對於襯墊
200的中心的最近點)之間的距離,來定義中央區域、中間區域和周邊區域。
襯墊
200可以包括多個導管
210 a-
210 c,其可以在下表面
250上的孔終止。這樣的導管可以包括位於或至少源自中央區域的至少一個中央導管
210 a,位於中間區域中的一或多個中間導管
210 b,和/或源自周邊區域並延伸到中間區域的一或多個周邊導管
210 c。這樣的導管
210 a-
210 c可以被襯墊
200的完整部分圍繞,使得沒有導管
210 a-
210 c延伸到另一個導管
210 a-
210 c中。中央導管
210 a和一或多個周邊導管
210 c可以不連接到吸入壓力源,例如不連接到一或多個中間導管
210 b。
襯墊的完整部分是指不含一或多個導管
210 a-
210 c的襯墊
200的一部分,因此阻止空氣流動,以致比起通過襯墊
200的完整部分,空氣將基本上更自由地沿著導管
210 a-
210 c流動。導管
210 a-
210 c通過襯墊
200的完整部分彼此分開的目的,是為了能夠通過導管
210 a-
210 c控制空氣的輸送,使得可以利用未接有吸入壓力的導管的空氣流動過襯墊
200的下表面
250到接有吸入壓力的導管,來引起表面沖刷。如果空氣流從一個導管
210 a-
210 c直接洩漏到另一個導管中,則這種受控的空氣傳輸將受到干擾。
由於一或多個周邊導管
210 c可延伸到襯墊
200的中間區域中,所以一或多個周邊導管
210 c可延伸到一個距離處,該距離大於外側壁
220上周邊導管
210 c的起點與襯墊
200中心之間的距離的10%、或15%、或20%、或25%或30,與前文關於周邊區域範圍的描述內容相一致。
將適於連接到研磨系統中吸入壓力的中間導管
210 b與不適於連接到研磨系統中吸入壓力的導管
210 a,
210 c相隔開所帶來的技術效果是,能夠控制空氣從環境壓力流動到低壓(即吸入壓力),以便在襯墊
200的整個表面上引起均勻的空氣流動。在圖
7所示的實施例中,中間導管
210 b可以適於連接到研磨系統中的吸入壓力,並且中央導管
210 a和周邊導管
210 c可以不適於連接到吸入壓力。
周邊導管
210 c可以穿過襯墊
200的外側壁
220。周邊導管
210 c可以是細長的,使得周邊導管
210 c可以從襯墊
200的周邊區域延伸到其中間區域,使得最靠近襯墊
200中心的周邊導管
210 c端部,比起距離襯墊
200中心最遠的中間導管
210 b,更接近襯墊
200的中心。周邊導管
210 c可以同向或朝向中央導管
210 a和/或中央區域延伸。
如圖
6和圖
12所示,如果適當地用做為研磨系統的一部分,中央導管
210 a和周邊導管
210 c可以用於將進入的空氣引入到襯墊
200的下表面
250上,並且中間導管
210 b可用於將空氣和殘屑從所述表面輸送走。
圖
7示出了具體實施例的導管
210 a-
210 c的構造。在這個實施例中,有至少一個位於中央區域的中央導管
210 a;多個位於中間區域中的中間導管
210 b,使得中間導管
210 b沿著與襯墊
200的中心同心的三個同心圓佈置,每個同心圓具有數個中間導管
210 b,例如8個中間導管
210 b,優選地具有相等的間距;以及數個周邊導管
210 c,例如8個周邊導管
210 c,優選具有相等的間距,該周邊導管
210 c穿過襯墊
200的外側壁
220。中央導管
210 a和/或中間導管
210b在襯墊
200的下表面
250上可以是圓形的。
周邊導管
210 c可以是細長的,使得周邊導管
210 c朝向襯墊
200的中心延伸並進入其中間區域,使得周邊導管
210 c的端部朝向襯墊
200的中心延伸至大於襯墊
200的半徑的一半處。
圖
11 a至圖
11 f示出了不同導管構造的例子,其可以用於襯墊
200的其他實施例中,或可以採用特定的導管幾何形狀到設導管
210 a-
210 c的襯墊
200中。根據圖
11 a所示的示例配置,可以存在多個具有曲率的細長周邊導管。根據圖
11 b所示的例子,可以存在多個具有分支的細長周邊導管。根據圖
11 c所示的示例,可以存在不止一種類型的細長周邊管道,使得可以存在多個分支周邊管道和多個非分支周邊管道。根據圖
11 d中所示的示例,可以存在分支中央導管
,並且可以存在多個細長周邊導管,使得細長周邊導管中的其中一些從襯墊
200的周邊區域以一個非朝向襯墊
200中心的方向延伸到其中間區域。根據圖
11 e所示的例子,可以存在多個具有分支的細長中間導管。根據圖
11 f所示的例子,可以存在多個具有角度的細長周邊導管。儘管圖
11 a至圖
11 f示出了圓形襯墊
200上的不同導管配置的示例,但是所示出的幾何原理也可以在不同形狀的襯墊
200上實施,例如矩形或三角形。
在圖
7所示的具體實施例中,中央導管
210 a和中間導管
210 b可以在
S
Z 軸上延伸穿過襯墊
200的整個厚度。也就是說,在該實施例中,中央導管
210 a和中間導管
210 b可以從襯墊
200的上表面
260延伸到其下表面
250。在相同的具體實施例中,周邊導管
210 c可以在
S
Z 軸上延伸穿過襯墊
200的下表面層
240並且部分但不是完全穿過主體
230。也就是說,在該實施例中,周邊導管
210 c可以在下表面
250和外側壁
220上具有孔,但不在上表面
260上。
根據該特定實施例,中央導管
210 a和/或中間導管
210 b可以是圖
9 a中所示的導管類型,即延伸穿過襯墊
200的整個厚度的孔,並且周邊導管可以是如圖
9 b所示的,即在襯墊
200的下表面
250上的凹槽,該凹槽朝向研磨件
300打開,如圖
7所示。優選地,如圖
7所示,凹槽在外側壁
220處具有開口端以及至少一個相對的封閉端。
如圖
7的橫截面
A-
A所示,延伸穿過襯墊
200的整個厚度的中間導管
210 b可以是分支的,使得中間導管
210 b在上表面
260上的孔口數量比在下表面
250上少,或反之亦然。
圖
9 d示出了中央導管
210 a的示例,其源自並穿過襯墊
200的外側壁
220,在主體
230內行進並且可以被配置為在所欲位置穿刺下表面層
240和下表面
250,包括襯墊
200的中心。該導管類型可以用做為下表面
250上具有伸長孔的周邊導管
210 c,伸長指的是該孔的長度比表面的寬度大至少10%或25%或100%或200%。在這種情況下,周邊導管
210 c包括在下表面
250上的凹槽,其具有兩個封閉端和在外側壁
220上的孔口,該凹槽朝向研磨件
300打開。換句話說,在這種情況下,周邊導管
210 c類似於如圖
9 b和圖
7所示的凹槽,不同之處在於,凹槽本身在外側壁
220處不打開。
圖
9 c和
9 e示出中央導管
210 a和中間導管中間導管
210 b,其具有在主體
230和下表面層
240中在
S
X ,
S
Y 平面上橫向偏移的孔口。這使得能夠有利地在襯墊
200的下表面
240上配置導管,其不同於研磨設備
1上的導管配置。圖
7中的橫截面
A-
A圖示了此例的中間導管
210 b。
圖
9 c、
9d和
9 e示出了可用於基於圖
8中所示的層結構的襯墊
200的其他實施例中的導管類型。在主體
230包括兩個或更多個層的實施例中可以採用如圖
9 a至
9 e所示的相同的導管類型原理。
在襯墊
200中,每組導管,即中央導管
210 a、中間導管
210 b和/或周邊導管
210 c可採用如上所述的不同類型的導管。此外,每個所述一組導管可以在該組內使用不同類型的導管,使得在一組導管內可以使用多於一個如上所述並在圖
9 a至圖
9 e中示出的導管類型。
根據圖
7和圖
8中所示的具體實施例的襯墊
200,即具有圖
9 a所示類型的中央導管
210 a和中間導管
210 b以及圖
9 b所示類型的周邊導管
210 c的實施例,可以例如通過以下方法製造:用合適的塑料(諸如聚丙烯)模製主體
230,將中央導管
210 a和中間導管
210 b鑽入主體
230中,將周邊導管
230 c研磨到主體
230中,從合適的材料如黏扣帶面料沖孔成型出具中央導管
210 a、中間導管
210 b和周邊導管
210 c孔口的下表面層
240,並且將主體
230和下表面層
240黏附在一起。
包括圖
9 c、
9 d和/或
9 e中所示類型的導管的襯墊
200可以通過以下方法製造:例如通過加成製造,例如利用適用於三維印刷的材料如尼龍、聚醯胺或ABS來三維印刷包括導管
210的主體
230,從合適的材料片如黏扣帶面料中沖孔成型出上具中央導管
210 a、中間導管
210 b和周邊導管
210 c孔口的下表面層
240,並且將主體
230和下表面層
240黏附在一起。
如上所述的襯墊
200可以用於包括研磨設備
1和襯墊
200的研磨系統中,如圖
6實施例所示。在用這種研磨系統研磨一工件期間,研磨件
300可附接至襯墊
200。研磨件
300較好是多孔的,最好是包含開放式網眼的研磨網,該網眼塗有磨粒並包括多個開口。在研磨過程中,研磨設備
1可以旋轉和/或擺動襯墊
10。這種旋轉和/或擺動可以由研磨設備
1的電源(例如電動或氣動馬達)引起。
研磨件
300和襯墊
200可以在
S
X 、
S
Y 平面上具有任何形狀,例如矩形、三角形,或者如果是旋轉的則優選為圓形。有利地,襯墊
200和研磨件
300基本上具有相同的形狀。研磨件
300可以例如是常規的已知類型,或者可以結合本發明公開的用於研磨件
400的解決方案的原理。如果研磨件
300包括中央導管、中間導管和/或周邊導管,則根據上述空氣輸送原理,全部或部分的這些管道可以與襯墊的中央、中間和/或周邊導管
210 a-
210 c對齊。
一般應該理解的是,對於要對準的導管,導管不一定必須在幾何上完美地對準,使得例如它們的孔將彼此完美匹配而沒有任何幾何偏移或面積差異,或者導管將需要密封耦合到彼此。相反地,當導管構成功能性空氣和/或碎屑的輸送路徑時,亦即可將空氣和/或碎屑從一個導管輸送到另一導管時,即應理解為對準。
研磨系統的一個實施例在圖
12中以截面圖示出,其中襯墊
200包括圖
9 a中描繪的中央導管
210 a和多個導管類型的中間導管
210 b,並且進一步包括多個圖
9 b中描繪的導管類型的外圍導管周邊導管
210 c(在圖
12的橫截面中不可見)。在此實施例中,襯墊
200的中間導管
210 b與可以通過研磨設備
1的導管
2連接至吸入壓力。研磨設備
1的導管
2可連接到或適於連接到可包括殘屑收集容器
4的吸入壓力來源
3。
在根據該實施例的研磨系統的操作期間,襯墊
200的中央導管
210 a可以將進入的空氣傳送到襯墊
200的下表面
250上。在
S
X ,
S
Y 平面上從襯墊
200的中間區域延伸到其周邊區域並穿過其外側壁
220的周邊導管
210 c(在圖
12中的截面中不可見),如圖
7實施例所示,可以在以下的意義上來說是盲管,即周邊導管
210 c不與中間導管
210 b、中央導管
210 a或研磨設備
1中的導管
2連接,使得任何通過周邊導管
210 c的空氣都能夠進入中間導管
210 b、中央導管
210 a或研磨設備
1中的導管
2,而不是先行經襯墊
200的下表面
250的一部分。
在該實施例中,在研磨過程中,可以從襯墊
200的下表面
250,也就是從襯墊
200和容納其附著件的研磨件
300之間的空間,以吸入壓力通過襯墊
200的中間導管
210 b進入研磨設備
1的導管
2,來抽出研磨殘屑。所提取的研磨殘屑可被傳送到殘屑收集容器
4中。被吸入壓力吸至襯墊
200的下表面
250上的替換空氣可以源自襯墊
200的中央導管
210 a、周邊導管
210 c和外側壁
220。因此,周邊導管
210 c不與吸入壓力連接。由於周邊導管
210 c可以如上所述是盲管,通過這些導管的進入空氣可能在到達最靠近吸入壓力連接的中間導管
210 b之前被迫越過襯墊
200的下表面
250,由此提供大體上延伸到襯墊
200的中間區域中的表面沖刷。圖
10 a示出了根據該實施例的襯墊
200的下表面
250上的空氣流動。
此外,如果研磨件
300是多孔的,例如包括開放式網眼的研磨網,該網眼上塗覆有磨粒並且包括多個開口,則在研磨期間,研磨殘屑可以從研磨件
300移動到襯墊
200的下表面
250上,並且研磨件
300的下表面可以以與襯墊
200的下表面
250類似的方式被沖刷。
在襯墊
200的其他實施例中,例如根據圖
11 a至圖
11 f所示的示例,導管
210 a-
210 c可以以不同的配置在
S
X ,
S
Y 平面上。額外的導管配置可以例如通過組合圖
11 a至
11 f中所示的導管類型來設計。不同的這種配置可以被設計來管理不同應用中的進入和離開空氣流,包括不同形狀的襯墊
200和研磨件
300,使得襯墊
200的下表面
250可以被空氣均勻地沖刷,以均勻地抽出襯墊
200整個表面上的研磨殘屑,如根據圖
10 a中的一個實施例所示。
在襯墊
200的另外其他實施例中,一或多個中央導管
210 a可以連接到吸入壓力並且由此用作空氣和殘屑抽出導管,而不是將進入的空氣輸送到襯墊
200的下表面
250上。在這樣的實施例中,根據上面已經描述的內容,一或多個中央導管
210 a因此可以起類似於中間導管
210 b的作用。如上所述,這些實施例可以另行遵守上述解決方案的原理。因此,在這樣的實施例中,進入的空氣可以通過襯墊
200的周邊導管
210 c及外側壁
220上起始,並且在到達最近的吸入壓力連接的中央或中間導管
210 b,
210 a之前被迫越過襯墊
200的下表面
250,由此提供基本上延伸到襯墊
200的中間和中央區域的表面沖刷。
研磨件
圖
13 a中示出了根據一個實施例的研磨件
400。圖
13 b中示出了根據另一個實施例的研磨件
400。圖
13 c中示出了根據又另一個實施例的研磨件
400。
當用做為研磨工件的研磨系統的一部分時,研磨件
400可具有數個有利地引導空氣流的導管
410 a-
410 c。這種所欲的空氣流均勻地沖刷研磨件
400的一或多個表面並均勻地抽出殘屑,使得在研磨件
400的一或多個表面上保留極少的研磨殘屑,從而產生了有益效果,即研磨件
400的壽命增加並且研磨過程不受系統中和/或在被研磨的工件的表面上累積的碎屑損害。已知,當空氣流從研磨件
400的表面流出時,空氣流捕獲研磨殘屑並將捕獲的研磨殘屑從研磨件
400的表面輸送走。
圖
14中示出了根據一個實施例的研磨件
400的結構,其附著至襯墊
10或中介墊
20。中間墊
20適於附接至襯墊
10。襯墊
10和/或中介墊
20可以是傳統已知類型,因而不包括本解決方案公開的導管配置。例如,襯墊
10可以包括多個中間導管,例如圓形,以及中央導管,例如圓形,但沒有周邊導管。相應地,例如,中介墊
20可以包括多個中間導管,例如圓形,以及中央導管,例如圓形,但沒有周邊導管。
根據圖
14所示的實施例,研磨件
400可以包括上表面層
430,中介層
440和下表面層
450。在另一個實施例中,研磨件
400可以包括上表面層
430和下表面層
450,並且不包括中介層。在又一個實施例中,研磨件
400可以包括上表面層
430,下表面層
450和中介層
440,使得中介層
440包括兩個或更多個層疊,所述層疊可以例如是不同材料。所有這些結構實施例都可以應用於圖
13 a- 13 c所示的研磨件
400的實施例中。
研磨件
400具有包圍上表面層
430,下表面層
450和中介層
440(如果有的話)的外側壁
420。在圖
14所示的實施例中,外側壁
420具有壁表面,該壁表面可以處於基本垂直於上表面層
430和下表面層
450的平面上。在其他實施例中,外側壁
420可以是傾斜的,使得研磨件
400的周邊在下表面
460處比在上表面
470處更大,或反之亦然。
上表面層
430可以包括用於將研磨件
400附接到襯墊
10或中介墊
20的附著件。這樣的附著件可以實現機械或黏合劑附接。優選地,這樣的附接能夠移除和重新附接。根據一個優選實施例,附著件可以包括黏扣帶,並具有便於再次附接的能力。在該優選實施例中,研磨件
400的上表面層
430可以包括鉤,並且襯墊
10或中介墊
20的下表面層可以包括環,或反之亦然。
在另一個實施例中,附著件可以是基於壓敏黏合劑,即PSA。在這樣的實施例中,研磨件
400的上表面層
430可以包括壓敏黏合劑,並且襯墊
10或中介墊
20的下表面層可以包括適合於壓敏黏合的均勻表面,或反之亦然。
在圖
14中所示的實施方式包括中介層
440,並且在包括具多個層的中介層
440的這樣的實施方式中,可以根據應用選擇中介層
440的厚度和材料。涉及中介層
440的特點的設計選擇的例子可包括吸收機械振動、吸收聲音、重量、可回收性、成本、可製造性、可塑性以及對研磨件
400的其他層的可附接性。這樣的選擇可能會影響研磨系統的可控性以及研磨表面的質量。
在包括中介層
440且在圖
14中示出的實施例中,中介層
440可以包括的材料的示例包括軟質材料,例如泡沫聚丙烯、泡沫聚乙烯、泡沫丙烯腈丁二烯苯乙烯、泡沫聚氨酯、泡沫聚醯胺、泡沫乙烯乙酸乙烯酯或類似材料,和硬質材料,例如聚丙烯、聚乙烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯、聚氨酯、聚醯胺、鋁或類似材料。
下表面層
450可以包括含有磨料顆粒的研磨材料,使得下表面
460可以用於研磨一工件。
根據優選實施例,下表面層
450可以包括開放網眼,該網眼可以塗覆有包含研磨顆粒的研磨材料,並且該網眼可以包括多個開口。在這樣的優選實施例中,中介層
440可以是可以允許空氣和研磨殘屑穿過中介層
440的多孔材料。在這樣的優選實施例的變化例中,研磨件
400不包括中介層
440,在該情況下,下表面層
450可以附著到上表面層
430。這樣一種優選的結構實施例,其中結構下表面層
450包括塗覆有含磨料顆粒的研磨材料並且包括多孔中介層
440(包括所述其不含中介層
440的變化例)的開放網格,可以有利地結合圖
13 b所示的研磨件
400的實施例。如果有的話,開放網眼的多個小開口以及中介層
440中的孔隙涉及的益處是,因為它們可以帶來通常由中間導管
410 b帶來的空氣和殘屑抽取功能和/或通常由中央導管
410 a帶來的空氣輸送功能,該等導管在圖
13 a的實施例中示出。
根據另一個實施例,下表面層
450可以包括鄰接樹脂的磨粒。在這樣的實施例中,表面層
450可以進一步包括例如紙、紙板、聚合物膜或織物的背襯材料,而與樹脂鄰接的磨粒附著到該背襯材料上。這樣的結構實施例可以有利地與圖
13 a中所示的研磨件
400的實施例結合,因為與樹脂相鄰的磨料顆粒的非多孔性,特別是在無孔背襯材料上,通常會產生如下需要,即通常由中間導管
410 b帶來的空氣和殘屑抽取功能和/或通常由中央導管
410 a帶來的空氣輸送功能,該等導管在圖
13 a的實施例中示出。
研磨件
400包括中央區域、周邊區域和中間區域,中央區域指的是研磨件
400在其中心處和其附近的部分,周邊區域指的是研磨件
400在其外側壁
420處和其附近的部分,中間區域指的是研磨件
400的位於中央和周邊區域之間的部分。中央區域,周邊區域和中間區域在
S
X ,
S
Y 平面上定義。
根據圖
13 a- 13 c所示的研磨件
400實施例,中央區域可以從研磨件
400的中心朝其外側壁
420徑向延伸至不超過研磨件
400半徑5%、或10%、或15%、或20%、或25%、或30%、或35%的距離,且周邊區域可從研磨件
400的外側壁
420向其中心徑向延伸到研磨件
400.半徑的至少10%、或15%、或20%、或25%、或30%或35%的距離。
根據圖
13 a- 13 c所示的特定實施例,中央區域可以從研磨件
400的中心朝其外側壁
420徑向延伸至研磨件
400半徑20%的距離,且周邊區域可從研磨件
400的外側壁
420向其中心徑向延伸到研磨件
400.半徑的20%的距離。
在
S
X ,
S
Y 平面上具有不同形狀的研磨件
400(例如研磨件
400是矩形或三角形)的其他實施例中,可以類似地,通過將半徑的概念替換成研磨件
400的中心與外側壁
420上的任何給定點(例如相對於研磨件
400的中心的最近點)之間的距離,來定義中央區域、中間區域和周邊區域。
研磨件
400可以包括多個導管
410 a-
410 c,其可以在下表面
460上的孔終止。導管
410 a-
410 c非指多孔材料內的任何微小開口,例如在一些實施例中研磨件
400的下表面層
450中的開放式網眼或其他地方,或者在一些實施例中,研磨件
400的中介層
440或上表面層
430中的多孔材料。
這樣的導管可以包括位於或至少源自中央區域的一或多個中央導管
410 a,位於中間區域中的一或多個中間導管
410 b,和/或源自周邊區域並延伸到中間區域的一或多個周邊
410 c。這樣的導管
410 a-
410 c可以被研磨件
400的完整部分圍繞,使得沒有導管
410 a-
410 c延伸到另一個導管
410 a-
410 c中。一或多個中央導管
410 a和一或多個周邊導管
410 c可以不連接到吸入壓力源,例如不連接到一或多個中間導管
410 b。
研磨件
400的完整部分是指不含一或多個導管
410 a-
410 c的研磨件
400的一部分,因此阻止空氣流動,以致比起通過研磨件
400的完整部分,空氣將基本上更自由地沿著導管
410 a-
410 c流動。導管
410 a-
410 c通過研磨件
400的完整部分彼此分開的目的,是為了能夠通過導管
410 a-
410 c控制空氣的輸送,使得可以利用未接有吸入壓力的導管的空氣流動過研磨件
400的表面到接有吸入壓力的導管,來引起表面沖刷。如果空氣流從一個導管
410 a-
410 c直接洩漏到另一個導管中,則這種受控的空氣傳輸將受到干擾。
由於一或多個周邊導管
410 c可延伸到研磨件
400的中間區域中,所以一或多個周邊導管
410 c可延伸到一個距離處,該距離大於外側壁
420上周邊導管
410 c的起點與研磨件
400中心之間的距離的10%、或15%、或20%、或25%或30,與前文關於周邊區域範圍的描述內容相一致。
將適於連接到研磨系統中吸入壓力的中間導管
410 b與不適於連接到研磨系統中吸入壓力的導管
410 a,
410 c相隔開所帶來的技術效果是,能夠控制空氣從環境壓力流動到低壓(即吸入壓力),以便在研磨表面
460的整個表面上引起均勻的空氣流動。在圖
13 a所示的實施例中,中間導管
410 b可以適於連接到研磨系統中的吸入壓力,並且中央導管
410 a和周邊導管
410 c可以不適於連接到吸入壓力。
周邊導管
410 c可以穿過研磨件
400的外側壁
420。周邊導管
410 c可以是細長的,使得周邊導管
410 c可以從研磨件
400的周邊區域延伸到其中間區域。
在包括一個或多個中間導管
410 b和一個或多個周邊導管
410 c並且可以另外包括一個或多個中央導管
410 a的研磨件
400的實施例中,周邊導管
410 c可以是細長的,使得最靠近研磨件
400中心的周邊導管
410 c的端部,比起距離研磨件
400中心最遠的中間導管
410 b,更接近研磨件
400的中心。周邊導管
410 c可以同向或朝向中央導管
410 a和/或中央區域延伸。
圖
13 b示出研磨件
400的一個實施例,其包括多個細長周邊導管
410 c並且不具有中央導管也沒有中間導管。在該實施例中,這樣的導管構造可以有利地與研磨件
400的結構相結合,據此研磨件
400可以包括類似於上述示例的上表面層
430,該示例可以包括允許重新附接的附著件,如前所述的基於黏扣帶的附接;類似於上述實施例的下表面層
450,其可以包括開放網眼,該網眼可以塗覆有研磨顆粒並且包括多個小開口;以及可以允許空氣和研磨殘屑穿過中介層
440的多孔材料的中介層
440。在這樣的具體優選實施例的變化例中,研磨件
400可以不包括類似如前所述示例的中介層
440,在該情況下,下表面層
450可以附著到上表面層
430。
在圖
13 b的具體實施例中,存在多個周邊導管
410 c,例如8個周邊導管
410 c,優選具有相等的間距,該等周邊導管
410 c穿過研磨件
400的外側壁
420。周邊導管
410 c可以是細長的,使得周邊導管
410 c朝向研磨件
400的中心延伸並進入其中間區域,使得周邊導管
410 c的端部朝向研磨件
400的中心延伸至大於研磨件
400的半徑的一半處。
圖
13 a示出研磨件
400的一個實施例,其包括多個細長周邊導管
410 c、中央導管
410 a以及多個中間導管
410 b。中央導管
410 a和中間導管
410 b可以是圓形的。在一具體實施例中,這樣的導管構造可以有利地與研磨件
400的結構相結合,據此研磨件
400可以包括類似於上述示例的上表面層
430,該示例可以包括允許重新附接的附著件,如前所述的基於黏扣帶的附接;以及中介層
440;以及下表面層
450,其可以包括與樹脂鄰接的磨粒,且該下表面層
450可以進一步包括例如紙、紙板、聚合物膜或織物的背襯材料,而與樹脂鄰接的磨粒附著到該背襯材料上。
在圖
13 a的具體實施例中,有至少一個位於中央區域的中央導管
410 a;多個位於中間區域中的中間導管
410 b,使得中間導管
410 b沿著與研磨件
400的中心同心的三個同心圓佈置,每個同心圓具有數個中間導管
400 b,例如8個中間導管
400 b,優選地具有相等的間距;以及數個周邊導管
410 c,例如8個周邊導管
410 c,優選具有相等的間距,該等周邊導管
410 c穿過研磨件
400的外側壁
420,且周邊導管
410 c可以是細長的,使得周邊導管
410 c朝向研磨件
400的中心延伸並進入其中間區域,使得周邊導管
410 c的端部朝向研磨件
400的中心延伸至大於研磨件
400的半徑的一半處。
圖
13 c示出了作為圖
13 a中所示的實施例的變型的研磨件
400的實施例。造成變化的差異在於,在圖圖
13 a所示的實施例中,周邊導管
410 c可以是沿著
S
Z 軸延伸穿過研磨件
400的整個厚度的狹縫,而在圖
13 c中所示的實施例中,周邊導管
410 c可以是不延伸穿過研磨件
400的整個厚度的凹槽,而例如延伸穿過或部分穿過下表面層
450。
如果適當地用作研磨系統的一部分,如根據示例的圖
18和圖
16所示,則周邊導管
410 c可用於將進入的空氣引入研磨件
400的下表面
460和/或上表面
470。
在包括一個或多個中央導管
410 a的實施例中,一個或多個中央導管
410 a可以用於將進入的空氣引入研磨件
400的下表面
460和/或上表面
470。相應地,在包括一個或多個中間導管
410 b的實施例中,中間導管
410 b可用於將空氣和殘屑從所述一個或多個表面傳送走。
在沒有中央導管
410 a和中間導管
410 b的實施例中,且其中下表面層
450可含開放網眼(該網眼可以塗覆有磨粒並且包括多個小開口),空氣和殘屑可以通過螺紋之間的孔(即小開口)從下表面
460輸送走,且空氣和殘屑可以通過襯墊
10或中介墊
20上的導管從上表面
470輸送走。
圖
11 a至圖
11 f示出了可用於包括多個周邊導管
410 c、中央導管
410 a和多個中間導管
410 b的研磨件
400的這種實施例中的不同導管構造的示例,或可以採用特定的導管幾何形狀到設
410 a-
410 c的研磨件
400中。根據圖
11 a所示的示例配置,可以存在多個具有曲率的細長周邊導管。根據圖
11 b所示的例子,可以存在多個具有分支的細長周邊導管。根據圖
11 c所示的示例,可以存在不止一種類型的細長周邊管道,使得可以存在多個分支周邊管道和多個非分支周邊管道。根據圖
11 d中所示的示例,可以存在分支中央導管
,並且可以存在多個細長周邊導管,使得細長周邊導管中的其中一些從研磨件
400的周邊區域以一個非朝向研磨件
400中心的方向延伸到其中間區域。根據圖
11 e所示的例子,可以存在多個具有分支的細長中間導管。根據圖
11 f所示的例子,可以存在多個具有角度的細長周邊導管。儘管圖
11 a至圖
11 f示出了圓形研磨件
400上的不同導管配置的示例,但是所示出的幾何原理也可以在不同形狀的研磨件
400上實施,例如矩形或三角形。
圖
17 a至
17 e示出了研磨件
400的不同導管構造的示例,其包括與上述的周邊導管
410 c類似的多個周邊導管,並且沒有中央導管和中間導管。根據圖
17 a所示的示例,可以存在多個具有曲率的細長周邊導管。根據圖
17 b所示的例子,可以存在多個具有分支的細長周邊導管。根據圖
17 c所示的示例,可以存在不止一種類型的細長周邊管道,使得可以存在多個分支周邊管道和多個非分支周邊管道。根據圖
17 d中所示的示例,可以存在多個細長周邊導管,使得細長周邊導管中的其中一些從研磨件
400的周邊區域以一個非朝向研磨件
400中心的方向延伸到其中間區域。根據圖
17 e所示的例子,可以存在多個具有角度的細長周邊導管。儘管圖
17 a至圖
17 e示出了圓形研磨件
400上的不同導管配置的示例,但是所示出的幾何原理也可以在不同形狀的研磨件
400上實施,例如矩形或三角形。
在圖
13 a和圖
13 b所示的具體實施例中,導管
410 a-
410 c可以在
S
Z 軸上延伸穿過研磨件
400的整個厚度。也就是說,在這些實施例中,導管
410 a-
410 c可以從研磨墊
400的上表面
470延伸到其下表面
460。因此,在上述特定優選實施例中,導管
410 a-
410 c可以在
S
Z 軸上延伸穿過研磨件
400的整個厚度。
在根據圖
13 a的實施例中,其中導管
410 a-
410 c在
S
Z 軸上延伸穿過研磨件
400的整個厚度,並且其中研磨件
400包括中介層
440、中央導管
410 a和中間導管
410 b,可以是圖
15 a中橫截面中所示的類型,即延伸穿過研磨件
400的整個厚度的孔,並且周邊導管
410 c可以是圖
15 c中的橫截面所示的類型。
在根據圖
13 b的實施例中,其中導管
410 a-
410 c在
S
Z 軸上延伸穿過研磨件
400的整個厚度,並且其中研磨件
400包括中介層
440,周邊導管
410 c可以是圖
15 c的橫截面所示的類型。周邊導管
410 c的這種導管類型例如是延伸穿過研磨件
400的整個厚度的狹縫。優選地,狹縫在外側壁
420處具有開口端以及至少一個相對的封閉端。
圖
15 b示出根據實施例的周邊導管
410 c,其中周邊導管
410 c在
S
Z 軸上延伸穿過下表面層
450和中介層
440但不穿過上表面層
430。周邊導管
410 c這種導管類型是例如在研磨件
400的下表面
460上的凹槽,該凹槽朝向工件打開。優選地,凹槽在外側壁
420處具有開口端以及至少一個相對的封閉端。
圖
15 d示出根據實施例的周邊導管
410 c,其中周邊導管
410 c在
S
Z 軸上延伸穿過下表面層
450,但不穿過上表面層
430也不穿過中介層
440。周邊導管
410 c這種導管類型是例如在研磨件
400的下表面
460上的凹槽,該凹槽朝向工件打開。優選地,凹槽在外側壁
420處具有開口端以及至少一個相對的封閉端。在示範實施例中,這樣的凹槽可以通過在構成凹槽的區域中的下表面
460上不存在磨粒而形成。因此,在這樣的實施例中,與包括磨粒的圍繞凹槽的下表面
460上的區域相比,不包含磨粒的凹槽在下表面
460上是凹陷的。
圖
15 a、圖
15 c和圖
15 d的導管類型的原理也可以用於不具中間層
440的研磨件
400實施例中,即,其中下表面層
450附著到上表面層
430。
根據圖
13 a和圖
13 b中所示研磨件
400的實施例,即包括延伸穿過研磨件
400的整個厚度(即從上表面470到下表面460)的導管
410 a-
410 c的實施例,可以例如通過沖孔成型來製造。
包括圖
15 d所示類型的一或多個周邊導管
410 c的研磨件
400可以通過以下所述製造:首先製造沒有這些外圍導管
410 c的研磨件
400,例如通過如上所述的沖孔成型,然後製造這些周邊導管
410 c,例如通過鑄印,或通過除了在周邊導管
410 c的區域之外,加成印刷到下表面
460上。
對於根據圖
13 a和圖
13 b並且包括如圖
14中所示的中介層
440的研磨件
400的具體實施例,這種沖孔成型可以用合適的沖頭和模具,和包括上表面層
430、中介層
440和下表面層
450的片材來進行。這些層可以在沖孔成型之前黏附地彼此附接。或者,這些層可以分開沖孔成型並且在沖孔成型之後例如黏合地彼此附接。
在不包括中介層
440但除此之外與所述具體實施例的研磨件
400一致的示例中,可以用合適的沖頭和模具和包括上表面層
430和下表面層
450的片材來進行這種沖孔成型。這些層可以在沖孔成型之前黏附地彼此附接。或者,這些層可以分開沖孔成型並且在沖孔成型之後例如黏合地彼此附接。
這種基於沖孔成型的製造可以適用於上述磨研磨件
400的特定優選實施例。
如上所述的研磨
400可以用於包括研磨設備
1和襯墊
10和研磨
400的研磨系統中,如圖
18實施例所示。在研磨一工件期間,研磨設備
1可旋轉和/或擺動襯墊
10,從而也旋轉和/或擺動研磨件
400。這種旋轉和/或擺動可以由研磨設備
1的電源(例如電動或氣動馬達)引起。
根據另一實施例,如上所述的研磨件
400可以用於包括研磨設備
1、襯墊
10、中介墊
20和研磨件
400的研磨系統中。在研磨一工件期間,研磨設備
1可旋轉和/或擺動襯墊
10,從而也旋轉和/或擺動中介墊
20以及研磨件
400。這種旋轉和/或擺動可以由研磨設備
1的電源(例如電動或氣動馬達)引起。
研磨件
400、襯墊
10和中介墊
20,若有,可以在
S
X 、
S
Y 平面上具有任何形狀,例如矩形、三角形,或者如果是旋轉的則優選為圓形。有利的是,研磨件
400和襯墊
10以及中介墊
20(如果有的話)基本上具有相同的形狀。襯墊
10和中介墊
20可以例如是常規的已知類型,或者它們可以結合本發明公開的用於襯墊
200和中介墊
100的解決方案的原理。
在圖
16中以橫截面圖示了研磨系統的實施例,其中研磨件
400是根據圖
13中所示的具體實施例。在這個實施例中,研磨件
400的中央和中間導管
410 a和
410 b分別與襯墊
10的中央和中間導管
11 a和
11 b對齊。此外,襯墊
10的中間導管
11 b與研磨設備
1的導管
2連接。研磨設備
1的導管
2可連接到或適於連接到可包括殘屑收集容器
4的吸入壓力來源
3。
一般應該理解的是,對於要對準的導管,導管不一定必須在幾何上完美地對準,使得例如它們的孔將彼此完美匹配而沒有任何幾何偏移或面積差異,或者導管將需要密封耦合到彼此。相反地,當導管構成功能性空氣和/或碎屑的輸送路徑時,亦即可將空氣和/或碎屑從一個導管輸送到另一導管時,即應理解為對準。
研磨系統的操作過程中,與圖
10 a所示的相一致,襯墊
10的中央導管
11 a可以將進入的空氣通過研磨件
400的中央導管
410 a傳送到研磨墊
400的下表面
460上。在研磨件
400和襯墊
10之間的附著件為黏扣帶類型的實施例中,在研磨系統的操作期間,襯墊
10的中央導管
11 a可額外地將進入的空氣輸送通過研磨件
400的中央導管
410 a進入研磨件
400和襯墊
10之間的界面,該界面容納用於將研磨件
400附接至襯墊
10的附著件。如圖
13 a-
13 c所示,在
S
X ,
S
Y 平面上從研磨件
400的中間區域延伸到其周邊區域並穿過其外側壁
420的延伸的周邊導管
410 c(在圖
16中的截面中不可見)可以在因襯墊
10上沒有與周邊導管
410 c對齊的對應孔或導管的意義上來說是盲管。
在研磨系統的該實施例中,在研磨過程中,研磨碎屑可以從研磨件
400的下表面
460以吸入壓力抽出,其中吸入壓力通過研磨件
400的中間導管
410 b,然後通過研襯墊
10的中間導管
11 b進入研磨設備
1的導管
2中。所提取的研磨殘屑可被傳送到殘屑收集容器
4中。在研磨件
400和襯墊
10之間的附著件為黏扣帶類型的實施例中,可以從研磨件
400和襯墊
10之間的界面類似地提取碎屑,所述界面容納該等附著件。
被吸入壓力吸至研磨件
400的下表面
460上的替換空氣可以源自研磨件
400的中央導管
410 a、周邊導管
410 c和外側壁
420。因此,周邊導管
410 c不與吸入壓力連接。由於周邊導管
410 c可以如上所述是盲管,通過這些導管的進入空氣可能在到達最靠近吸入壓力連接的中間導管
410 b之前被迫越過研磨件
400的下表面
460,由此提供大體上延伸到研磨件
400的中間區域中的表面沖刷。圖
10 a示出了根據該實施例的研磨件
400的下表面
460上的空氣流動。
在包括中央導管
410 a、多個中間導管
410 b和多個周邊導管
410 c的研磨件
400的其他實施例中,導管
410 a-
410 c可以以不同的配置在
S
X ,
S
Y 平面上,例如根據圖
11 a至
11 f所示的示例。額外的導管配置可以例如通過組合圖
11 a至
11 f中所示的導管類型來設計。不同的這種配置可以被設計來管理不同應用中的進入和離開空氣流,包括不同形狀的襯墊
10和研磨件
400,使得研磨件
400的下表面
460以及研磨件
400和襯墊
10之間的介面可以被空氣均勻地沖刷,以均勻地抽出研磨件
400整個表面上的研磨殘屑,如根據圖
10 a中的一個實施例所示。
在研磨件
400的其他實施例中,其中該研磨件包括多個周邊導管
410 c但不包括中央導管
410 a也不包括中間導管
410 b,且其中下表面層
450可包括塗覆有研磨顆粒的開放式網眼,且其中中介層
440(如果有的話)可以是多孔材料,例如上文所述的優選具體實施例,研磨件
400可以不包括與襯墊
10的中央和/或中間導管
11 a和
11 b對準的導管,而襯墊
10的中間導管
11 b與研磨裝置的導管
2對齊。
在這些實施例中,在研磨系統的操作期間,襯墊
10的中央導管
11 a可將進入的空氣通過研磨件
400的下表面層
450中的開放式網眼中的小開口並通過多孔中介層
440的孔(若有)到研磨件
400的下表面
460上。在研磨件
400和襯墊
10之間的附著件額外地為黏扣帶類型的實施例中,在研磨系統的操作期間,襯墊
10的中央導管
11 a可額外地將進入的空氣輸送進入研磨件
400和襯墊
10之間的界面,該界面容納用於將研磨件
400附接至襯墊
10的附著件。如圖
13 b所示,在
S
X ,
S
Y 平面上從研磨件
400的中間區域延伸到其周邊區域並穿過其外側壁
420的延伸的周邊導管
410 c可以在因襯墊
10上沒有對應孔或導管的意義上來說是盲管。
在這樣的研磨系統實施例中,在研磨過程中,研磨碎屑可以從研磨件
400的下表面
460以吸入壓力抽出,其中吸入壓力通過研磨件
400的下表面層
450中的開放式網眼中的小開口並通過多孔中介層
440的孔(若有),然後通過研襯墊
10的中間導管
11 b進入導管
2中。所提取的研磨殘屑可被傳送到殘屑收集容器
4中。在研磨件
400和襯墊
10之間的附著件額外地為黏扣帶類型的實施例中,可以通過中間導管
11 b從研磨件
400和襯墊
10之間的界面提取碎屑,所述界面容納該等附著件。
在這樣的實施例中,被吸入壓力吸至研磨件
400的下表面
460上的替換空氣可以源自研磨件
400的中央導管
410 a、周邊導管
410 c和外側壁
420。因此,周邊導管
410 c不與吸入壓力連接。由於周邊導管
410 c可以是盲管,通過這些導管的進入空氣可能在進入多個小開口之前被迫越過研磨件
400的下表面
460的一部分,由此提供大體上延伸到研磨件
400的中間區域中的表面沖刷。此外,由於周邊導管
410 c可以是盲管,通過這些導管的進入空氣可能在進入襯墊
10的中間導管
11 b之前被迫越過研磨件
400的上表面
470的一部分,由此提供研磨件
400和襯墊
10之間介面的沖刷,其大體上延伸到研磨件
400和襯墊
10的中間區域。
在包括多個多個周邊導管
410 c但沒有中央導管
410 a也沒有中間導管
410 b的研磨件
400的其他實施例中,導管
410 c可以以不同的配置在
S
X ,
S
Y 平面上,例如根據圖
17 a至
17 e所示的示例。額外的導管配置可以例如通過組合圖
17 a至
17 e中所示的導管類型來設計。不同的這種配置可以被設計來管理不同應用中的進入和離開空氣流,包括不同形狀的襯墊
10和研磨件
400,使得研磨件
400的下表面
460以及研磨件
400和襯墊
10之間的介面可以被空氣均勻地沖刷,以均勻地抽出研磨件
400整個表面上的研磨殘屑。
在另外可以包括附接在襯墊
10和研磨件
400之間的中介墊
20的研磨系統的實施例中,研磨系統運行過程中空氣和殘屑的流動可遵循與上述相同的原理,因為在這樣的實施例中,中介墊
20可以包括一或多個中央導管和/或一或多個中間導管,其可以對應於並且能夠與襯墊
10的一或多個中央導管
11 a以及中間導管
11 b對準。換句話說,在這樣的實施例中,中介墊
20上的導管圖案可以基本上匹配襯墊
10上的導管圖案。
在包括一個或多個中央導管
410 a的研磨件墊
400的實施例中,一些系統實施例中的一個或多個中央導管
410 a可以連接到吸入壓力並且因此可用為抽取空氣和碎屑的導管,而不是輸送進入的空氣到研磨件
400的上表面
470和下表面
460上。如上所述,這些實施例可以另行遵守上述解決方案的原理。因此,在這樣的實施例中,進入的空氣可以通過研磨件
400的周邊導管
410 c及外側壁
420上起始,並且在到達最近的吸入壓力連接的導管之前被迫越過研磨件
400的上表面
470和下表面
460,由此提供基本上延伸到研磨件
400的中間和中央區域的表面沖刷。
以下描述實施本發明的示例。
示例1:一種中介墊,適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備,該中介墊包括:
具有上表面的上表面層,其包括適用於附著上表面層至研磨設備的襯墊的附著件;
具有下表面的下表面層,其包括適用於附著下表面層至研磨件的附著件;
位在上表面層和下表面層之間的中介層,該中介層附著至上表面層和下表面層且包括單層或多層疊;
外側壁,其包圍上表面層、下表面層和中介層;
至少一個中間導管,其適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,該至少一個中間導管以一個孔終結在下表面上;以及
至少一個周邊導管,其適於將進入的空氣輸送到下表面,該至少一個周邊導管從外側壁延伸並以一個孔終結在下表面上,並且被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管隔開。
示例2:如示例1的中介墊,其中中介墊進一步包括至少一個中央導管,該至少一個中央導管:
以一個孔終結在下表面上,且適於將進入的空氣輸送到下表面或從下表面輸送走空氣和研磨殘屑;且
被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管及該至少一個周邊導管隔開。
示例3:如示例1或2的中介墊,其中上表面層及/或下表面層上的附著件能再次附著。
示例4:如示例3的中介墊,其中上表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
示例5:如示例3或4的中介墊,其中下表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
示例6:如示例1至5中任一者的中介墊,其中該至少一個中央導管及/或中間導管是延伸通過中介墊的上表面層,中介層和下表面層的孔。
示例7:如示例1至6中任一者的中介墊,其中該至少一個周邊導管是下表面上的凹槽或狹縫,該凹槽或狹縫在外側壁有開口端。
示例8:如示例1至7中任一者的中介墊,其中周邊導管中的至少一個朝向中介墊的中心延伸經過中間導管中的至少一個,或延伸至一個距離處,該距離大於在外側壁的周邊導管的起點與中介墊的中心之間的距離的10%。
示例9:如示例1至8中任一者的中介墊,其中該中介墊具有一個圓形的形狀。
示例10:如示例9的中介墊,其中該中介墊進一步包括多個中間導管,其沿著至少一個與中介墊的中心同心的同心圓排列。
示例11:如示例1至10中任一者的中介墊,其中中間導管中的至少一個或周邊導管中的至少一個在中介墊的下表面上具有長孔。
示例12:如示例1至11中任一者的中介墊,其中該中介層包括
軟質材料,例如泡沫聚丙烯、泡沫聚乙烯、泡沫丙烯腈丁二烯苯乙烯、泡沫聚氨酯、泡沫聚醯胺、泡沫乙烯乙酸乙烯酯或類似材料;或是
硬質材料,例如聚丙烯、聚乙烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯、聚氨酯、聚醯胺、鋁或類似材料。
示例13:一種中介墊,適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備,該中介墊包括:
具有上表面的上表面層,其包括適用於附著上表面層至研磨設備的襯墊的附著件;
具有下表面的下表面層,其包括適用於附著下表面層至研磨物件的附著件;
外側壁,其包圍上表面層和下表面層;
至少一個中間導管,其適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,該至少一個中間導管以一個孔終結在下表面上;以及
至少一個周邊導管,其適於將進入的空氣輸送到下表面,該至少一個周邊導管從外側壁延伸並以一個孔終結在下表面上,並且被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管隔開。
示例14:如示例13的中介墊,其中中介墊進一步包括至少一個中央導管,該至少一個中央導管:
以一個孔終結在下表面上,且適於將進入的空氣輸送到下表面或適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑;且
被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管及該至少一個周邊導管隔開。
示例15:如示例13或14的中介墊,其中上表面層及/或下表面層上的附著件能再次附著。
示例16:如示例15的中介墊,其中上表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
示例17:如示例15或16的中介墊,其中下表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
示例18:如示例14至17中任一者的中介墊,其中該至少一個中央導管及/或中間導管是延伸通過中介墊的上表面層和下表面層的孔。
示例19:如示例13至18中任一者的中介墊,其中該至少一個周邊導管是下表面上的凹槽或狹縫,該凹槽或狹縫在外側壁有開口端。
示例20:如示例13至19中任一者的中介墊,其中至少一個周邊導管朝向中介墊的中心延伸經過中間導管中的至少一個,或延伸至一個距離處,該距離大於在外側壁的周邊導管的起點與中介墊的中心之間的距離的10%。
示例21:如示例13至20中任一者的中介墊,其中該中介墊具有一個圓形的形狀。
示例22:如示例21的中介墊,其中有多個中間導管沿著至少一個與中介墊的中心同心的同心圓排列。
示例23:如示例13至22中任一者的中介墊,其中中間導管中的至少一個在中介墊的下表面上具有長孔。
示例24:一種研磨系統,包括:
如示例1至12,或13至23中任一者的中介墊;
適於提供吸入的研磨設備;及
可附著至研磨設備的襯墊,該襯墊包括至少一個用於輸送吸入壓力並且能夠與中介墊的中間導管中的至少一個對準的中間導管,以吸入空氣和研磨殘屑。
示例25:一種使用如示例24的研磨系統來從中介墊的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送通過襯墊的中間導管進入中介墊的中間導管;
進入的空氣由於吸入壓力而流動到中介墊的下表面上,該空氣流通過一個或多個中央導管,若有,且通過周邊導管,及中介墊的外側壁上;以及
所述進入的空氣在被吸入壓力拉進中介墊的中間導管內以前,流過中介墊的下表面和研磨件之間的中介墊的完整部分。
示例26:一種使用如示例24的研磨系統來從中介墊的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送通過襯墊的一個或多個中央導管進入中介墊的一個或多個中央導管,若有,且通過襯墊的中間導管進入中介墊的中間導管;
進入的空氣由於吸入壓力而流動到中介墊的下表面上,該空氣流通過周邊導管,並流過中介墊的外側壁;以及
所述進入的空氣在被吸入壓力拉進一個或多個中央導管,若有,及被拉進中介墊的中間導管內以前,流過中介墊的下表面和研磨件之間的中介墊的完整部分。
示例27:一種襯墊,其適用於一種適於提供吸入壓力的研磨設備,該襯墊包括:
主體,其包括適於附著主體至研磨設備的附著件;
具有下表面的下表面層,該下表面層附著至主體上且包括適用於附著下表面層至研磨件的附著件;
外側壁,其包圍主體和下表面層;
至少一個中間導管,其適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,該至少一個中間導管以一個孔終結在下表面上;以及
至少一個周邊導管,其適於將進入的空氣輸送到下表面,該至少一個周邊導管從外側壁延伸並以一個孔終結在下表面上,並且被襯墊的完整部分與該至少一個中間導管隔開。
示例28:如示例27的襯墊,其中襯墊進一步包括至少一個中央導管,該至少一個中央導管:
以一個孔終結在下表面上,且適於將進入的空氣輸送到下表面或從下表面輸送走空氣和研磨殘屑;且
被襯墊的完整部分與該至少一個中間導管及該至少一個周邊導管隔開。
示例29:如示例27或28的襯墊,其中主體和/或下表面層上的附著件能再次附著。
示例30:如示例27至29中任一項的襯墊,其中該至少一個中央導管和/或至少一個中間導管是延伸通過襯墊的主體和下表面層的孔。
示例31:如示例27至30中任一項的襯墊,其中該至少一個周邊導管是下表面上的凹槽,該凹槽在外側壁有開口端。
示例32:如示例27至30中任一項的襯墊,其中該至少一個周邊導管包括在下表面上具至少兩個封閉端的凹槽以及在外側壁上的孔。
示例33:如示例27至32中任一項的襯墊,其中至少一個周邊導管朝向襯墊中心延伸經過中間導管中的至少一個,或延伸至一個距離處,該距離大於在外側壁的周邊導管起點與襯墊中心之間的距離的25%。
示例34:如示例27至33中任一項的襯墊,其中該襯墊具有一個圓形的形狀。
示例35:如示例34的襯墊,其中該襯墊進一步包括多個中間導管,其沿著至少一個與襯墊的中心同心的同心圓排列。
示例36:如示例27至35中任一項的襯墊,其中中間導管中的至少一個或周邊導管中的至少一個在襯墊的下表面上具有長孔。
示例37:一種研磨系統,包括:
如示例27至36中任一項的襯墊;
可附著至襯墊的研磨設備,該研磨設備適於提供吸入壓力且包括至少一個能夠與襯墊的中間導管中的至少一個連接,以吸入空氣和研磨殘屑。
示例38:一種使用如示例37的研磨系統來從襯墊的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的中間導管中;
進入的空氣由於吸入壓力而流動到襯墊的下表面上,該空氣劉通過一個或多個中央導管,若有,並通過周邊導管,並流過襯墊的外側壁;以及
所述進入的空氣在被吸入壓力拉進襯墊的中間導管內以前,流過襯墊下表面和研磨件之間的襯墊的完整部分。
示例39:一種使用如示例37的研磨系統來從襯墊的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的一個或多個中央導管,若有,及襯墊的中間導管;
進入的空氣由於吸入壓力而通過周邊導管及襯墊外側壁流動到襯墊的上表面和下表面上;以及
所述進入的空氣在被吸入壓力拉進襯墊的一個或多個中央導管,若有,及襯墊的中間導管以前,流過襯墊下表面和研磨件之間的中介墊的完整部分。
示例40:一種研磨件,適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備,該研磨件包括:
帶上表面的上表面層,其包括附著件,其適用於附著上表面層至研磨設備的襯墊或至中介墊,該中介墊可附著至研磨設備的襯墊;
帶下表面的下表面層,該下表面層包括研磨材料,使得該下表面可被用來研磨工件;
外側壁,其包圍上表面層和下表面層;以及
至少一個周邊導管,其適於將進入的空氣輸送到下表面,該至少一個周邊導管從外側壁延伸到下表面。
示例41:如示例40的研磨件,其中該至少一個周邊導管是狹縫或凹槽,其在外側壁有開口端。
示例42:如示例40或41的研磨件,其中該至少一個周邊導管是凹槽,該凹槽
是由研磨件下表面上構成凹槽區域中不存在研磨顆粒處形成的,且
在外側壁具有開口端。
示例43:如示例40至42中任一項的研磨件,其中至少一個周邊導管朝向研磨件中心延伸至一個距離處,該距離大於在外側壁的周邊導管起點與研磨件中心之間的距離的25%。
示例44:如示例40至43中任一項的研磨件,該研磨件進一步包括:
至少一個中間導管,其適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,該至少一個中間導管從上表面延伸到下表面,並且被研磨件的完整部分與該至少一個周邊導管隔開。
示例45:如示例40至44中任一項的研磨件,該研磨件進一步包括至少一個中央導管,其適於將空氣輸送至下表面上或從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,該至少一個中央導管從上表面延伸到下表面且被研磨件的完整部分與至少一個中間導管,若有,隔開,且該至少一個中央導管被研磨件的完整部分與至少一個周邊導管隔開。
示例46:如示例44或45的研磨件,其中該至少一個中間導管和/或該至少一個中央導管是從研磨件上表面延伸到下表面的孔。
示例47:如示例40至46中任一項的研磨件,其中周邊導管中的至少一個朝向研磨件中心延伸至一個距離處,該距離大於在外側壁的至少一個周邊導管起點與研磨件中心之間的距離的10%。
示例48:如示例40至47中任一項的研磨件,其中該研磨件具有一個圓形的形狀。
示例49:如示例48的研磨件,其中該研磨件進一步包括多個中間導管,其沿著至少一個與研磨件的中心同心的同心圓排列。
示例50:如示例44至49中任一項的研磨件,其中中間導管中的至少一個,若有,在研磨件的下表面上具有長孔。
示例51:如示例40至50中任一項的研磨件,其中該下表面層包括具有小開口的開放式網眼,該網眼被研磨顆粒塗覆。
示例52:如示例40至51中任一項的研磨件,其中上表面層上的附著件能再次附著。
示例53:如示例40至52中任一項的研磨件,其中該研磨件進一步包括中介層,其位在上表面層和下表面層之間並附著至上表面層和下表面層。
示例54:一種研磨系統,包括:
如示例40至53中任一項的研磨件;
可附著至研磨件上的襯墊,該襯墊包括至少一個用來輸送吸入壓力的中間導管,該至少一個中間導管延伸至襯墊和研磨件上表面之間的介面;以及
研磨設備,該研磨設備適用於提供吸入壓力並可附著至襯墊,且包括至少一個導管,其可連接至襯墊中間導管中的至少一個,以吸入空氣和研磨殘屑。
示例55:一種使用如示例54的研磨系統來從襯墊和研磨件之間的介面去除研磨殘屑及從研磨件的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的中間導管;
進入的空氣由於吸入壓力而通過周邊導管及研磨件外側壁流動到研磨件的上表面和下表面上;以及
所述進入的空氣在進入襯墊的中間導管內以前,流過研磨件的完整部分。
示例56:一種研磨系統,包括:
如示例40至53中任一項的研磨件;
可附著至研磨件上的中介墊,該中介墊包括至少一個用來輸送吸入壓力的中間導管,該至少一個中間導管延伸至中介墊和研磨件上表面之間的介面;以及
可附著至中介墊上的襯墊,該襯墊包括至少一個用來輸送吸入壓力的中間導管,該至少一個中間導管能夠與中介墊的中間導管中的至少一個對準;以及
適用於提供吸入壓力的研磨設備,該研磨設備可附著至襯墊且包括至少一個導管,該導管可連接至襯墊中間導管中的至少一個,以吸入空氣和研磨殘屑。
示例57:一種使用如示例56的研磨系統來從中介墊和研磨件之間的介面去除研磨殘屑及從研磨件的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的中間導管至中介墊的中間導管;
進入的空氣由於吸入壓力而通過周邊導管及研磨件外側壁流動到研磨件的上表面和下表面上;以及
所述進入的空氣在進入中介墊的中間導管及襯墊的中間導管內以前,流過研磨件的完整部分。
示例58:一種研磨系統,包括:
如示例44至53中任一項的研磨件;
可附著至研磨件上的襯墊,該襯墊包括至少一個用來輸送吸入壓力的中間導管,該至少一個中間導管能夠與研磨件的中間導管中的至少一個對準;以及
適用於提供吸入壓力的研磨設備,該研磨設備可附著至襯墊,且包括至少一個導管,該導管可對準至襯墊中間導管中的至少一個,以吸入空氣和研磨殘屑。
示例59:一種使用如示例58的研磨系統來從襯墊和研磨件之間的介面去除研磨殘屑及從研磨件的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的中間導管和至研磨件的中間導管;
進入的空氣由於吸入壓力而通過周邊導管及研磨件外側壁流動到研磨件的上表面和下表面上;以及
所述進入的空氣在進入研磨件的中間導管及襯墊的中間導管內以前,流過研磨件的完整部分。
示例60:一種使用如示例58的研磨系統來從襯墊和研磨件之間的介面去除研磨殘屑及從研磨件的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的中間導管和中央導管並至中介墊的中間導管和中央導管;
進入的空氣由於吸入壓力而通過周邊導管及研磨件外側壁流動到研磨件的上表面和下表面上;以及
所述進入的空氣在進入研磨件的中間導管和中央導管及襯墊的中間導管和中央導管內以前,流過研磨件的完整部分。
示例61:一種研磨系統,包括:
如示例44至53中任一項的研磨件;
可附著至研磨件上的中介墊,該中介墊包括至少一個用來輸送吸入壓力的中間導管,該至少一個中間導管能夠與研磨件的中間導管中的至少一個對準;
可附著至中介墊的襯墊,該襯墊包括至少一個中間導管,其能夠與中介墊的中間導管中的至少一個對準;及
適用於提供吸入壓力的研磨設備,該研磨設備可附著至襯墊,且包括至少一個導管,其可連接至襯墊中間導管中的至少一個,以吸入空氣和研磨殘屑。
示例62:一種使用如示例61的研磨系統來從中介墊和研磨件之間的介面去除研磨殘屑及從研磨件的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的中間導管,並至中介墊的中間導管,且至研磨件的中間導管;
進入的空氣由於吸入壓力而通過周邊導管及研磨件外側壁流動到研磨件的上表面和下表面上;以及
所述進入的空氣在進入襯墊的中間導管以前,進入中介墊的中間導管以前,及進入研磨件的中間導管以前,流過研磨件的完整部分。
示例63:一種使用如示例61的研磨系統來從中介墊和研磨件之間的介面去除研磨殘屑及從研磨件的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括:
將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送至襯墊的中間導管和中央導管,並至中介墊的中間導管和中央導管,且至研磨件的中間導管和中央導管;
進入的空氣由於吸入壓力而通過周邊導管及研磨件外側壁流動到研磨件的上表面和下表面上;以及
所述進入的空氣在進入研磨件的中間導管和中央導管以前,進入中介墊的中間導管和中央導管以前,及進入襯墊的中間導管和中央導管以前,流過研磨件的完整部分。
所公開的解決方案不限於上面解釋的示例和實施例,並且這些示例和實施例不應被解釋為限制。這些示例和實施例也可以以有用的組合應用。本解決方案在由本說明書支持的所附申請專利範圍中定義。
SX ,SY ,SZ :正交方向
1:研磨設備
2:導管
3:吸入壓力來源
4:殘屑收集容器
10:襯墊
11 a 、 110 a 、 210 a 、 410 a:中央導管
11 b 、 110 b 、 210 b 、 410 b:中間導管
12 、120 、220 、310 、420:外側壁
20 、100:中介墊
110 c 、 210 c 、 410 c:周邊導管
130 、430:上表面層
140:中介層
150 、240 、450:下表面層
160 、250 、460:下表面
170 、260 、470:上表面
200:襯墊
230:主體
300 、400:研磨件
440:中間層
附圖僅圖示了所提出的解決方案的示例實施例,而不被視為限制其使用的範圍。這些附圖並沒有特別的尺度。此外,附圖中的任何導管都只是示意性地示出,因此導管的精確形狀和輪廓可以在遵守其所示的一般原理下改變。
圖1 圖示了研磨設備
1,配有襯墊
10、中介墊
20 、100和研磨件
300 、400。
圖2 圖示了具導管
2的研磨設備
1的橫截面圖,該設備
1配有襯墊
10、中介墊
100和研磨件
300。
圖3 圖示了中介墊
100的示範實施例。
圖4 圖示了附著至襯墊
10和研磨件
300的中介墊
100的層結構。
圖5a到5f圖示了中介墊
100中不同示例類型的導管
110 a-c,以中介墊的局部橫截面描繪,其連接至襯墊
10和研磨件
300。
圖6 圖示了研磨設備
1,配有襯墊
200和研磨件
300。
圖7 示出了襯墊
200的示範實施例的底部視圖及橫截面視圖。
圖8 圖示了連接至研磨件
300的襯墊
200的層結構。
圖9a到9e圖示了附著至研磨件
300的襯墊
200中不同示例類型的導管
210 a-c。
圖10a 圖示了依據示範實施例,中介墊
100和襯墊
200下表面上空氣流動的方向。
圖10b 圖示了依據傳統已知解決方案,中介墊
20或襯墊
10下表面上空氣流動的方向。
圖11a到11f圖示了依據示範實施例,在中介墊和/或襯墊和/或研磨件中不同示例的導管配置的底視圖。
圖12 圖示了具導管
2的研磨設備
1的橫截面圖,該設備
1配有襯墊
200和研磨件
300 。圖13a 圖示了研磨件400的示範實施例的底視圖。
圖13b 圖示了研磨件
400的示範實施例的底視圖。
圖13c 圖示了研磨件
400的示範實施例的底視圖。
圖14 圖示了附著至襯墊
10或中介墊
20的研磨件
400的層結構。
圖15a到15d圖示了研磨件
400中不同示例類型的導管導管
410 a-c,以研磨件的局部橫截面描繪,其連接至襯墊
10或中介墊
20。
圖16 圖示了具導管
2的研磨設備
1的橫截面圖,該設備
1配有襯墊
10和研磨件
400 。圖17a到17e圖示了依據示範實施例的不具中央導管也不具中間導管的研磨件中,不同示例的周邊導管配置。
圖18 圖示了研磨設備
1,配有襯墊
10和研磨件
400。
S X ,S Y ,S Z :正交方向
100:中介墊
110 a:中央導管
110 b:中間導管
110 c:周邊導管
120:外側壁
Claims (26)
- 一種中介墊,適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備,該中介墊包括: 具有上表面的上表面層,其包括適用於附著上表面層至研磨設備襯墊的附著件; 具有下表面的下表面層,其包括適用於附著下表面層至研磨件的附著件; 位在上表面層和下表面層之間的中介層,其附著至上表面層和下表面層且包括單層或多層疊; 外側壁,其包圍上表面層、下表面層和中介層; 至少一個中間導管,其適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,該至少一個中間導管以一個孔終結在下表面上;以及 至少一個周邊導管,其適於將進入的空氣輸送到下表面,該至少一個周邊導管從外側壁延伸並以一個孔終結在下表面上,並且被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管隔開。
- 如請求項1的中介墊,其中中介墊進一步包括至少一個中央導管,該至少一個中央導管: 以一個孔終結在下表面上,且適於將進入的空氣輸送到下表面或從下表面輸送走空氣和研磨殘屑;且 被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管及該至少一個周邊導管隔開。
- 如請求項1或2的中介墊,其中上表面層和/或下表面層上的附著件能再次附著。
- 如請求項3的中介墊,其中上表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
- 如請求項3或4的中介墊,其中下表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
- 如請求項1至5中任一項的中介墊,其中該至少一個中央導管和/或中間導管是延伸通過中介墊的上表面層,中介層和下表面層的孔。
- 如請求項1至6中任一項的中介墊,其中該至少一個周邊導管是下表面上的凹槽或狹縫,該凹槽或狹縫在外側壁有開口端。
- 如請求項1至7中任一項的中介墊,其中周邊導管中的至少一個朝向中介墊中心延伸經過中間導管中的至少一個,或延伸至一個距離處,該距離大於在外側壁的周邊導管起點與中介墊中心之間的距離的10%。
- 如請求項1至8中任一項的中介墊,其中該中介墊具有一個圓形的形狀。
- 如請求項9的中介墊,其中該中介墊進一步包括多個中間導管,其沿著至少一個與中介墊的中心同心的同心圓排列。
- 如請求項1至10中任一項的中介墊,其中中間導管中的至少一個或周邊導管中的至少一個在中介墊的下表面上具有長孔。
- 如請求項1至11中任一項的中介墊,其中該中介層包括 軟質材料,例如泡沫聚丙烯,泡沫聚乙烯,泡沫丙烯腈丁二烯苯乙烯,泡沫聚氨酯,泡沫聚醯胺,泡沫乙烯乙酸乙烯酯或類似材料;或是 硬質材料,例如聚丙烯,聚乙烯,丙烯腈丁二烯苯乙烯,聚氨酯,聚醯胺,鋁或類似材料。
- 一種中介墊,適用於研磨系統,其包括用於提供吸入壓力的研磨設備,該中介墊包括: 具有上表面的上表面層,其包括適用於附著上表面層至研磨設備襯墊的附著件; 具有下表面的下表面層,其包括適用於附著下表面層至研磨物件的附著件; 外側壁,其包圍上表面層和下表面層; 至少一個中間導管,其適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑,該至少一個中間導管以一個孔終結在下表面上;以及 至少一個周邊導管,其適於將進入的空氣輸送到下表面,該至少一個周邊導管從外側壁延伸並以一個孔終結在下表面上,並且被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管隔開。
- 如請求項13的中介墊,其中中介墊進一步包括至少一個中央導管,該至少一個中央導管: 以一個孔終結在下表面上,且適於將進入的空氣輸送到下表面或適於從下表面輸送走空氣和研磨殘屑;且 被中介墊的完整部分與該至少一個中間導管及該至少一個周邊導管隔開。
- 如請求項13或14的中介墊,其中上表面層和/或下表面層上的附著件能再次附著。
- 如請求項15的中介墊,其中上表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
- 如請求項15或16的中介墊,其中下表面層上的附著件是基於黏扣帶,或機械緊固件,或壓敏黏合。
- 如請求項14至17中任一項的中介墊,其中該至少一個中央導管和/或中間導管是延伸通過中介墊的上表面層和下表面層的孔。
- 如請求項13至18中任一項的中介墊,其中該至少一個周邊導管是下表面上的凹槽或狹縫,該凹槽或狹縫在外側壁有開口端。
- 如請求項13至19中任一項的中介墊,其中至少一個周邊導管朝向中介墊中心延伸經過中間導管中的至少一個,或延伸至一個距離處,該距離大於在外側壁的周邊導管起點與中介墊中心之間的距離的10%。
- 如請求項13至20中任一項的中介墊,其中該中介墊具有一個圓形的形狀。
- 如請求項21的中介墊,其中有多個中間導管沿著至少一個與中介墊的中心同心的同心圓排列。
- 如請求項13至22中任一項的中介墊,其中中間導管中的至少一個在中介墊的下表面上具有長孔。
- 一種研磨系統,包括: 如請求項1至12,或13至23中任一項的中介墊; 適於提供吸入的研磨設備;及 可附著至研磨設備的襯墊,該襯墊包括至少一個用於輸送吸入壓力的中間導管,並且能夠與中介墊的中間導管中的至少一個對準,以吸入空氣和研磨殘屑。
- 一種使用如請求項24的研磨系統來從中介墊的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括: 將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送通過襯墊的中間導管至中介墊的中間導管; 進入的空氣由於吸入壓力而流動到中介墊的下表面上,該空氣流通過一個或多個中央導管,若有,且通過周邊導管,及中介墊的外側壁上;以及 所述進入的空氣在被吸入壓力拉進中介墊的中間導管內以前,流過中介墊下表面和研磨件之間的中介墊的完整部分。
- 一種使用如請求項24的研磨系統來從中介墊的下表面去除研磨殘屑的方法,該方法包括: 將研磨設備的導管內的吸入壓力輸送通過襯墊的一個或多個中央導管至中介墊的一個或多個中央導管,若有,且通過襯墊的中間導管至中介墊的中間導管; 進入的空氣由於吸入壓力而流動到中介墊的下表面上,該空氣流通過周邊導管,並流過中介墊的外側壁;以及 所述進入的空氣在被吸入壓力拉進一個或多個中央導管,若有,及被拉進中介墊的中間導管內以前,流過中介墊下表面和研磨件之間的中介墊的完整部分。
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Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111993207B (zh) * | 2020-08-27 | 2021-12-10 | 江苏金泰新减速机有限公司 | 一种数控磨床磨削机 |
CN113084618B (zh) * | 2021-03-01 | 2022-05-10 | 吾尚良品环境服务(上海)有限公司 | 一种环保型石材养护打磨机用的环保型打磨头 |
USD1021595S1 (en) * | 2022-08-31 | 2024-04-09 | Smart, Llc | Polishing pad |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2478074A (en) * | 1948-04-14 | 1949-08-02 | Clarke Sanding Machine Company | Sanding machine |
JPS526195A (en) | 1975-07-05 | 1977-01-18 | Hideo Nakazawa | Polishing paper suck-on polishing machine |
CA1027761A (en) * | 1975-11-26 | 1978-03-14 | Miksa Marton | Vacuum sander |
US4058936A (en) * | 1976-01-20 | 1977-11-22 | Miksa Marton | Vacuum sander |
US4287685A (en) * | 1978-12-08 | 1981-09-08 | Miksa Marton | Pad assembly for vacuum rotary sander |
US4839995A (en) * | 1988-05-02 | 1989-06-20 | Hutchins Manufacturing Company | Abrading tool |
US5283988A (en) * | 1989-12-12 | 1994-02-08 | Brown Geoffrey P | Manual vacuum sander |
US5309682A (en) | 1990-03-28 | 1994-05-10 | Robert Bosch Gmbh | Hand held power tool with working disc |
US5105585A (en) * | 1991-04-26 | 1992-04-21 | The United States Of America As Represented By The Department Of Health And Human Services | Dust emissions control mechanism for hand sanders |
JPH07237131A (ja) | 1994-03-01 | 1995-09-12 | Hiroaki Yasuda | 研磨材装着用パッド |
US5582541A (en) * | 1995-08-24 | 1996-12-10 | Hutchins Manufacturing Company | Abrading tool with water feed and removal system |
US6007415A (en) | 1995-12-08 | 1999-12-28 | Norton Company | Sanding disks |
US20030143926A1 (en) * | 2002-01-30 | 2003-07-31 | Raffi Piliguian | Grinding or polishing arrangement |
ITMI20031971A1 (it) * | 2003-10-13 | 2005-04-14 | Luca Lavazza | Sistema combinato di disco abrasivo e relativo supporto o platorello rotante per l'aspirazione radiale diretta delle polveri prodotte |
CN2701589Y (zh) * | 2004-04-06 | 2005-05-25 | 陈信宇 | 改进结构的研磨盘 |
WO2007031815A1 (en) | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Pasquale Catalfamo | Abrasive body |
KR200433114Y1 (ko) * | 2006-09-29 | 2006-12-11 | 젠-펜 창 | 그라인딩 디스크구조 |
TWM329497U (en) | 2007-10-11 | 2008-04-01 | Storm Pneumtic Tool Co Ltd | Grinding disc having improved structure |
TWM331408U (en) | 2007-11-20 | 2008-05-01 | Eino Entpr Co | Grinding disc |
US20100323594A1 (en) * | 2008-02-12 | 2010-12-23 | Sun Yung-Yung | Grinding disc structure |
ITMI20080222U1 (it) * | 2008-07-15 | 2010-01-16 | Valentini Guido | "platorello per la lavorazione di superfici con canali di aspirazione curvi" |
WO2012020275A1 (en) * | 2010-08-10 | 2012-02-16 | Miksa Marton | Sanding apparatus |
US10099343B2 (en) * | 2010-11-15 | 2018-10-16 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive disc with universal hole pattern |
US9649738B2 (en) | 2012-11-29 | 2017-05-16 | Oy Kwh Mirka Ab | Arrangement and method for grinding spherical products |
JP2015071217A (ja) | 2013-10-04 | 2015-04-16 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 研磨ディスクを支持するためのパッド |
PT107454A (pt) * | 2014-02-06 | 2015-08-06 | Indasa Indústria De Abrasivos S A | Prato com rasgos para discos de lixagem multifuros |
EP3028811B1 (en) * | 2014-12-05 | 2017-03-01 | Guido Valentini | Backing pad for a hand guided polishing or sanding tool and hand guided polishing or sanding tool with such a backing pad |
FI127766B (fi) * | 2017-09-01 | 2019-02-15 | Mirka Ltd | Hiomakone, joka käsittää karalaakerin jäähdytysjärjestelyn, ja menetelmä hiomakoneen karalaakerin jäähdyttämiseksi |
FI20175800A1 (en) * | 2017-09-08 | 2019-03-09 | Mirka Ltd | Underfloor arrangement for abrasive system, and abrasive system |
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