TW202300462A - 液體回收系統、液體供給系統及壓力調整方法 - Google Patents
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Abstract
超純水供給系統10具備：在垂直方向上設置於比使用點30下方側之純水槽16；讓超純水從使用點30回到純水槽16之回水管道32；設置於回水管道32之第一位置H1，並調整比第一位置H1上游側之第一壓力之第一壓力調整閥40；及設置於比回水管道32之第一位置H1下游側且於垂直方向上之下側的第二位置H2，並調整比第一位置H1下游側且比第二位置H2上游側之第二壓力之第二壓力調整閥42。
Description
本揭露關於一種液體回收系統、液體供給系統及壓力調整方法。
在超純水製造系統中，有提出將製造後之超純水供給至使用點，並且將在使用場所(以下稱作使用點)未使用之超純水回流至純水槽之技術。在日本特開2019-162569號公報中，使超純水回流至純水槽，並且在從使用點使純水返回至槽的回水管道設有壓力調整機構。接著，基於回水管道之流量及回水壓力，控制壓力調節閥等之壓力調整機構，抑制使用點之壓力從期望之壓力偏離的情況。
一般而言，各種製造工廠之設施之純水、或超純水製造裝置等很多情況設置於工廠之下階層。另一方面，使用超純水等之製造設備等很多情況設置於工廠的上階層。因此，製造後之純水、或者超純水等以幫浦施加壓力，供給至上層部的使用點。尤其是，近年半導體製造或液晶製造工廠的情況，由於工廠本身的規模大型化，工廠本身高層化者也較多，在該情況，純水製造裝置等與使用點之高低差會變得更大。
又，於使用點設置有各種生產設備，必須以最佳的壓力供給超純水至該設備。相同地，在使用場所(使用點)未使用之純水、或者超純水等係回流至超純水製造裝置等，這時的高低差亦變大。
如上所述，使用點位於比超純水製造裝置內之純水槽高之位置，使用點與槽位置之高低差較大的情況時，管道之上游側與下游側之壓力差變大，有壓力調整較難的情形。又，將設置於使用點正後之壓力調整閥等與槽連接之管道會產生負壓，管道會變形，而從凸緣部分等之管道之接頭氣體會穿透至管道內。又，在機能水之情況，因負壓會產生氣泡，作為機能水的功能會降低，且有因氣泡引起幫浦之故障或動作不良的疑慮。在如超純水製造裝置之必須長時間繼續通水之裝置的情形，由於繼續通水而引起上述問題的可能性會變大。
本揭露考量上述事實，提供一種可簡單地調整使用點之壓力，並且可抑制氣體混進流入至槽之液體的技術。
[為解決課題之手段]
第一態樣之液體回收系統包含：槽，其在垂直方向上設置於比使用液體之使用點下方側，並儲存該液體；管道，其連接該使用點與該槽，並讓該液體從該使用點回到該槽；第一壓力調整部，其設置於該管道之第一位置，並調整比該第一位置上游側之第一壓力；及第二壓力調整部，其設置於比該管道之該第一位置下游側且於垂直方向上之下側的第二位置，並調整比該第一位置下游側且比該第二位置上游側之第二壓力。
在第一態樣之液體回收系統中，槽在垂直方向上設置於比使用點下方側，並在讓液體從使用點回到槽之管道設有第一壓力調整部及第二壓力調整部。第一壓力調整部設置於管道之第一位置，並調整比第一位置上游側之第一壓力。第二壓力調整部設置於比管道之第一位置下游側且於垂直方向上之下側的第二位置，並調整比第一位置下游側且比第二位置上游側之第二壓力。
藉此，經由設置第一壓力調整部及第二壓力調整部，與壓力調整部只有一個的情況相比，可階段地控制因管道之高低差而來之壓力差。換言之，設定第一位置為容易進行使用點之壓力調整的位置，而可輕易地調整比要求預設壓力之第一位置上游側之使用點之壓力。
又，經由設定第二位置為比第一位置低的位置，可使從第二壓力調整部至下游側之管道之槽的高低差較小，而可抑制高低差引起之壓力差使得管道內因負壓作用而造成之管道變形、或管道內之氣體流入。
第二態樣之液體回收系統，該第一位置設定為比該管道之垂直方向上之中央部上側，該第二位置設定為比該中央部下側。
若藉由第二態樣之液體回收系統，經由將第一壓力調整部設置於靠近使用點之位置，變為較容易調整使用點之壓力為適當的壓力，並且經由將第二壓力調整部設置於靠近槽的位置，可使從第二位置至槽之管道內之高低差較小，而可降低高低差引起之管道內之壓力差，並可抑制於管道因負壓作用引起之管道變形、或管道內之異物流入。
又，該第二位置與該槽之水位之高低差較佳為4 m以內。
第三態樣之液體回收系統，該第二位置在垂直方向上設定為與該槽之水位相同高度、或者比該槽之水位低的高度。
若藉由第三態樣之液體回收系統，由於比第二位置下游側之管道之壓力會變為槽之水面之壓力以上，而可抑制於管道因負壓作用引起之管道變形、或管道內之異物流入。
第四態樣之液體回收系統，該第二位置設定在下游側之壓力為固定正壓之高度。
若藉由第四態樣之液體回收系統，可抑制比第二位置下游側之管道內壓力變為負壓，而可抑制於管道因負壓作用引起之管道變形、或管道內之異物流入。
第五態樣之液體回收系統，該第一壓力調整部以該第一壓力成為預設之上游壓力之方式來調整該第一壓力。
若藉由第五態樣之液體回收系統，可維持第一壓力為預設之上游壓力。
第六態樣之液體回收系統，該第二壓力調整部以該第二壓力成為預設之中間壓力之方式來調整該第二壓力。
若藉由第六態樣之液體回收系統，可維持第二壓力為預設之中間壓力。
第七態樣之液體回收系統，該第二壓力調整部以該第二壓力與大氣壓之差為預設值之方式來調整該第二壓力。
若藉由第七態樣之液體回收系統，可維持第二壓力與大氣壓之差為預設值。
第八態樣之液體回收系統包含：如態樣1~7任一者所述的液體回收系統；處理部，其處理儲存於該槽之該液體；及使用供給路徑，其將於該處理部處理後之該液體供給至該使用點。
若藉由第八態樣之液體回收系統，將從使用點回收之液體經由處理部再供給至使用點，而可使其循環。
第九態樣之液體回收系統，更包含：一次處理部，其一次處理原水；及一次供給路徑，其將於該一次處理部處理後之一次處理液供給至該槽。
若藉由第九態樣之液體回收系統，可將以一次處理部處理後之原水、及從使用點回流之液體，從槽經由處理部供給至使用點。
第十態樣之壓力調整方法，其係調整管道之壓力，該管道連接使用液體之使用點與在垂直方向上設置於比該使用點下方側並儲存該液體之槽，且讓該液體從該使用點回到該槽，及將該管道之第一位置之第一壓力調整至預設之上游壓力，同時將比該管道之該第一位置下游側且於垂直方向上之下游側的第二位置之第二壓力調整至預設之中間壓力。
在第十態樣之壓力調整方法中，藉由像這樣在第一位置及第二位置調整壓力，與壓力調整在一個地方進行的情況相比，可階段地控制因管道之高低差而來的壓力差。設定第一位置為容易進行使用點之壓力調整的位置，而可輕易地調整比要求預設壓力之第一位置上游側之使用點之壓力。又，經由設定第二位置為比第一位置低的位置，可使從第二位置至下游側之管道之槽的高低差較小，而可抑制高低差引起之壓力差使得管道內因負壓作用而造成之管道變形、或管道內之異物流入。
[發明之功效]
本案可簡單地調整使用點之壓力，並且可抑制氣體混進流入至槽之液體。
[第一實施態樣]
以下，參照圖面說明本發明有關於液體回收系統、液體供給系統、及壓力調整方法之第一實施態樣。本實施態樣說明作為液體供給、回收超純水之例。
本實施態樣之超純水供給系統10係具有前處理裝置12、一次純水裝置14、純水槽16、二次純水裝置20、使用點30。再者，二次純水裝置20係具有熱交換器21、紫外線照射裝置23、膜除氣裝置25、非再生型離子交換裝置(精煉塔(polisher))27、超濾(UF)膜28。
前處理裝置12被供給原水。前處理裝置12對於被供給之原水，利用凝聚沉澱法、或砂過濾法、膜過濾法等來去除原水的混濁，得到去除懸浮物質及有機物之一部分的前處理水。作為原水，可列舉工業用水、自來水、地下水、河川水等。
在一次純水裝置14中，對於以前處理裝置12處理原水所得之前處理水，再進行清淨化處理，從前處理水將不純物去除，得到一次純水。具體來說，可具有進行不純物離子之去除之除礦質裝置、進行無機離子、有機物、微粒子等之去除之逆滲透膜裝置、進行溶氧(DO)等之溶解氣體之除去之真空除氣裝置或膜除氣裝置、去除殘存之離子等之再生型混床式除礦質裝置或電氣再生式除礦質裝置等各種裝置。
於一次純水裝置14得到之一次純水被輸送至純水槽16。純水槽16為將於一次純水裝置14得到之一次純水暫時地儲存的容器。作為純水槽16，若沒有從容器而來的成分溶解或產生鏽蝕等，可穩定地儲存一次純水，其材質或形狀等非限制性。例如，較佳可使用纖維強化塑膠(Fiber Reinforced Plastics，FRP)、聚乙烯、SUS304、S316、及將該些作鐵氟龍(Teflon 註冊商標)襯墊等之材質。又，純水槽16之上部為了防止碳酸氣體、氧氣等之不純物氣體的吸收，較佳為以純氮清洗。
純水槽16如下述，循環回收製造後之超純水中在使用點30未使用之超純水時，與上述一次純水混合儲存。以下亦將儲存於純水槽16之一次純水與從使用點回流之超純水之混合水稱為「一次純水」。儲存於純水槽16之一次純水之相對於地上G之水位以H0表示。純水槽16藉由第一送出管道18與二次純水裝置20連接。在第一送出管道18設有第一幫浦P1，經由第一幫浦P1從純水槽16送出一次純水至二次純水裝置20。
前處理裝置12、一次純水裝置14及純水槽16係配置在超純水供給系統10之設置場所中相對低的位置，例如配置於工廠建築之一樓或地下室等。
二次純水裝置20配置於在垂直方向上比純水槽16高的位置。二次純水裝置20亦有設置於與純水槽16相同位置的情況。在二次純水裝置20之熱交換器21中，經由對於一次純水的熱交換(加熱或冷卻)，進行透過一次純水之熱交換的溫度調整。作為熱交換器20，例如可列舉板式熱交換器，具體的構造並非限制性。
於熱交換器21溫度調整後之一次純水被輸送至紫外線照射裝置23。在紫外線照射裝置23中，經由對於一次純水照射紫外線，進行一次純水中的有機物之分解或活菌之消滅處理(殺菌)等。作為紫外線照射裝置23，例如若為具備可照射185 nm附近之波長或254 nm附近之波長之紫外線燈者，可確實進行一次純水中之有機物之分解或殺菌。作為使用之紫外線燈非限制性，低壓水銀燈因容易操作的點因此較佳。又，作為紫外線照射裝置可列舉流通型或浸漬型，流通型因處理效率的點因此較佳。
膜除氣裝置25係利用使水分不透過及使氣體透過之氣體分離膜，除去一次純水中之氣體，特別是溶氧，的裝置。膜除氣裝置25處理後的一次純水會變為溶氧濃度較低的狀態。
經過膜除氣裝置25而降低溶氧濃度之一次純水，被輸送至非再生型離子交換裝置27。
非再生型離子交換裝置27係除去在紫外線照射裝置23產生之有機酸等之不純物離子之裝置。例如，於圓筒型之密閉容器充填非再生型離子交換樹脂之構造。
經由非再生型離子交換裝置27除去不純物離子之一次純水被輸送至超濾(UF)裝置28。
超濾(UF)裝置28係除去微粒子製造超純水之裝置，配置於二次純水裝置20之末端。
再者，在上述二次純水裝置20中，例如可設置提供以Pt或Pd金屬為載體之觸媒樹脂、或以亞硫酸基、亞硫酸氫基、亞硝酸基等為載體之還原性樹脂之氧化劑除去裝置。
二次純水裝置20藉由第二送出管道29與使用場所(使用點)30連接。經由二次純水裝置20得到之超純水經過第二送出管道29送出至使用點30。
在使用點30，使用被供給之超純水。使用點30設置與二次純水裝置20略相同高度、或者設置於在垂直方向上比二次純水裝置20高的位置。被供給之超純水中，未使用之超純水係經過下述之回水管道32被循環回收至純水槽16，與一次純水一起儲存在純水槽16內。
純水槽16與使用點30以回水管道32連接。於回水管道32之第一位置H1設有第一壓力調整閥40。第一位置H1係設置在垂直方向上比回水管道32之高低差之中間位置高的位置，較佳為設定於二次純水裝置20之設置高度以上、使用點30之設置高度以下的位置。
再者，回水管道32為了形成較長之流路，以凸緣等之連接部件連接、或者焊接、熔接、黏合複數之管道來構成。
作為管道之材料並無特別限定， 可使用PVDF(聚偏二氟乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、SUS304、SU316等之不鏽鋼等，液體為超純水之情況較佳為使用PVDF。
再者，使用點30之最高位置與純水槽16之水面H0之高低差為5 m以上時，壓力調整閥為1個的情況，有氣體混入至回水管道32、或回水管道32之變形的可能性，高低差為10 m以上，更甚者，30 m以上時，這個可能性會變更大。
在比回水管道32之使用點30下游側且比第一壓力調整閥40上游側，設有第一壓力檢測器41。第一壓力檢測器41測定使用點30之出口之壓力。以第一壓力檢測器41測定之回水管道32內壓力為第一壓力PR1，該測定值訊號為第一壓力訊號PRS1。第一壓力訊號PRS1被送出至下述之壓力控制部50。
在回水管道32之第二位置H2設有第二壓力調整閥42。第二位置H2在垂直方向上，配置於純水槽16之水位H0以下之高度。如圖2所示，純水槽16之水位係相對於地上G之高度在Hmin~Hmax之間變動。在本實施態樣中，第二位置H2配置於比水位Hmin低的位置。
在比回水管道32之第一位置H1下游側且比第二壓力調整閥42上游側，設有第二壓力檢測器43。第二壓力檢測器43測定回水管道32內之壓力。以第二壓力檢測器43測定之回水管道32內壓力為第二壓力PR2，該測定值訊號為第二壓力訊號PRS2。第二壓力訊號PRS2被送出至下述之壓力控制部50。又，比第二壓力調整閥42下游側之回水管道32內之壓力為第三壓力PR3。
超純水供給系統10具備如圖3所示之壓力控制部50。壓力控制部50具備CPU 50A、ROM 50B、RAM 50C、儲存器50D、I/F 50E及連接其等之資料匯流排或控制匯流排等之匯流排50F。在儲存器50D中，記憶有上游壓力PRA及中間壓力PRB。上游壓力PRA設定在為了將使用點30之壓力維持在期望之壓力所需的第一壓力PR1之值。中間壓力PRB係在比回水管道32之第一壓力調整閥40下游側不會變為負壓之程度下，設定為上游壓力PRA以下。
在I/F 50E連接有第一壓力檢測器41、第一壓力調整閥40、第二壓力檢測器43、第二壓力調整閥42。壓力控制部50從第一壓力檢測器41、第二壓力檢測器43被輸入第一壓力訊號PRS1、第二壓力訊號PRS2。壓力控制部50基於輸入之第一壓力訊號PRS1、第二壓力訊號PRS2，來控制第一壓力調整閥40、第二壓力調整閥42。
接著，說明本實施態樣之超純水供給系統10中之回水管道32之壓力調整。
壓力控制部50基於輸入之第一壓力訊號PRS1，以讓第一壓力PR1成為上游壓力PRA的方式，輸出用於調整第一壓力調整閥40之開度之訊號至第一壓力調整閥40。換言之，以讓第一壓力PR1成為上游壓力PRA的方式，回饋控制第一壓力調整閥40之開度。
又，壓力控制部50基於輸入之第二壓力訊號PRS2，以讓第二壓力PR2成為中間壓力PRB的方式，輸出用於調整第二壓力調整閥42之開度之訊號至第二壓力調整閥42。換言之，以讓第二壓力PR2成為中間壓力PRB的方式，回饋控制第二壓力調整閥42之開度。
藉此，於第一壓力調整閥40讓第一壓力PR1成為上游壓力PRA的方式，於第二壓力調整閥42讓第二壓力PR2成為中間壓力PRB的方式，經由調整回水管道32之壓力，而可階段地控制因管道之高低差產生的壓力差。換言之，與壓力調整閥為一個的情形相比，可使第一壓力PR1與第二壓力PR2之壓力差、第二壓力PR2與第三壓力PR3之壓力差變小。因此，可抑制比第二位置H2下游側之回水管道32內負壓作用所引起之回水管道32之變形、或從連接部分異物流入回水管道32內。
又，由於第二位置H2設定於純水槽16之水位以下之較低高度，第三壓力PR3會成為與水位H0之壓力相同。因此，可抑制比第二位置H2下游側之回水管道32內負壓作用所引起之回水管道32之變形、或從連接部分氣體流入回水管道32內。
再者，在本實施態樣中，雖將第二位置H2設定於純水槽16之水位H0以下之較低高度，第二位置H2不必要為水位H0以下，亦可將第二位置H2設於第三壓力PR3成為固定正壓的位置。又，如圖4A所示，亦可將第二位置H2在垂直方向上設於比回水管道32之高低差之中間位置M下側(較低位置)，如圖4B所示，亦可設於與純水槽16之水位H0之高低差DH為4 m以內之位置。在這些情況亦可降低比第二位置H2下游側之回水管道32之高低差所引起之管道內之壓力差，而可抑制於回水管道32負壓作用所引起之管道之變形、或氣體流入回水管道32內。再者，第二位置H2設定於純水槽16之水位H0以下之較低高度時，由於第三壓力PR3成為與純水槽16內之壓力相等因此較佳。
[第一實施態樣]
接著，說明有關本發明之第二實施態樣，在本實施態樣中，與第一實施態樣相同的部分利用相同的符號，並省略其詳細說明。
如圖5所示，在本實施態樣中，相對於第二壓力調整閥42，改用機械式壓力調整閥46。其他構成係與第一實施態樣相同。
機械式壓力調整閥46將第二壓力PR2與大氣壓之壓差以成為預設之壓差值PRC的方式做調整。作為機械式壓力調整閥46，可使用彈簧式等之自力式壓力調節閥、或電力式、空氣式等之他力式壓力調節閥。
藉此，經由利用機械式壓力調整閥46將第二壓力PR2與大氣壓之壓差以成為預設之壓差值PRC的方式做調整，與第一實施態樣相同的，可階段地控制因回水管道32之高低差而來之壓力差。換言之，與壓力調整部只有一個的情況相比，可使第一壓力PR1與第二壓力PR2之壓力差、第二壓力PR2與第三壓力PR3之壓力差變小。因此，可簡單地調整要求預設之壓力之使用點30的壓力。
再者，在本實施態樣中，可將第二位置H2設定於純水槽16之水位以下之較低高度，亦可設於第三壓力PR3成為固定正壓的位置。又，可將第二位置H2在垂直方向上設於比回水管道32之高低差之中間位置M下側(較低位置)，亦可設於與純水槽16之水位H0之高低差DH為9 m以內之位置。在這些情況亦可降低比第二位置H2下游側之回水管道32之高低差所引起之管道內之壓力差，而可抑制於回水管道32負壓作用所引起之管道之變形、或異物流入回水管道32內。
又，在上述第一、第二實施態樣中，說明了有關於回收、供給超純水之實施例，但本發明亦可用於回收、供給其他液體之系統。例如，亦可利用於溶解如氫氣或臭氧、碳酸之特定物質的機能水、或於原水等施加除氣處理除氣水、加熱純水或超純水所製造之加熱純水或加熱超純水、通常之純水、製藥/醫藥品製造中精製水或注射用水。
再者，當液體例如為40℃以上之高溫時，因例如凸緣等連接部之墊圈會變軟，由於容易發生問題，利用本發明會變為有效的對策。
又，在半導體或液晶工廠中之純水/超純水之製造場合，因流量大(例如，50 m
3/h以上、100 m
3/h以上)，凸緣等連接部之較大，由於較易產生本案作為問題之課題，利用本發明會變為有效的對策。
[實施例]
為了確認本實施態樣之超純水供給系統10之功效，利用以下條件測定實施例1~3與比較例中回水管道32內之超純水之溶氧(DO)濃度。在比較例中，未設置第二壓力調整閥42。
回水管道32高低差40 m (使用點30~純水槽16之水位H0)；
第一壓力調整閥40與使用點30無高低差；
第二壓力調整閥42與水位H0無高低差(實施例1)、高低差3 m(實施例2)、高低差5 m(實施例3)；
在第一壓力調整閥40中，將上游壓力PRA設定為0.2942 MPa來調整第一壓力PR1；
在第二壓力調整閥42中，將上游壓力PRA設定為0.2942 MPa來調整第一壓力PR1；
流量100 m
3/h；
水溫25℃；
測定器：MOCA-3600，Orbisphere公司製。
[表1]
比較例相比於實施例1~3，在純水槽16之前的溶氧濃度較高，確認到為將近10000倍的數值。這個可以考量為由於從第一壓力調整閥40起於下游側壓力差變大，回水管道32會變形，凸緣部分等之連接部分會產生微小之縫隙，從該縫隙外部氣體會混入，而使得空氣混入超純水。
| DO(溶氧濃度) (第一壓力調整閥上游側) | DO(溶氧濃度) (純水槽之前) | |
| 實施例1 | 0.4 µg/L | 0.4 µg/L |
| 實施例2 | 0.4 µg/L | 0.7 µg/L |
| 實施例3 | 0.4 µg/L | 1.0 µg/L |
| 比較例 | 0.6 µg/L | 4~6 mg/L |
又，比較例相比於實施例1~3，在第一壓力調整閥40之上游側亦為溶氧濃度較高。這個可以考量為因純水槽16內之一次純水之溶氧濃度較高，即使以二次純水裝置20之膜除氣裝置25除去氧氣，仍有些許氧氣殘留。
綜上所述，在實施例1~3中，可確認到維持比比較例低之溶氧量。
以上概述了數個實施例的部件、使得在本發明所屬技術領域中具有通常知識者可以更理解本發明實施例的概念。在本發明所屬技術領域中具有通常知識者應該理解、可以使用本發明實施例作為基礎、來設計或修改其他製程和結構、以實現與在此所介紹的實施例相同的目的及/或達到相同的好處。在本發明所屬技術領域中具有通常知識者也應該理解、這些等效的結構並不背離本發明的精神和範圍、並且在不背離本發明的精神和範圍的情況下、在此可以做出各種改變、取代和其他選擇。因此、本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定為準。
12:前處理裝置
14:一次純水處理裝置
16:純水槽
18:第一送出管道
20:二次純水處理裝置
21:熱交換器
23:紫外線照射裝置
25:膜除氣裝置
27:非再生型離子交換裝置(精煉樹脂)
28:超濾膜(UF)
29:第二送出管道
30:使用點
32:回水管道
40:第一壓力調整閥
41:第一壓力檢測器
42:第二壓力調整閥
43:第二壓力檢測器
H1:第一位置
H2:第二位置
M:中間位置
在以下附圖以及說明中闡述了本說明書中所描述之主題之一或多個實施例的細節。從說明、附圖和申請專利範圍，本說明書之主題的其他特徵、態樣與優點將顯得明瞭，其中：
[圖1]為表示第一實施態樣之超純水供給系統之構成圖。
[圖2]為第一實施態樣之純水槽附近之構成圖。
[圖3]為有關於第一實施態樣之壓力調整部之關聯之控制系統之方塊圖。
[圖4A]為表示第一實施態樣之超純水供給系統之變化態樣之構成圖。
[圖4B]為表示第一實施態樣之超純水供給系統之其他變化態樣之構成圖。
[圖5]為表示第二實施態樣之超純水供給系統之構成圖。
12:前處理裝置
14:一次純水處理裝置
16:純水槽
18:第一送出管道
20:二次純水處理裝置
21:熱交換器
23:紫外線照射裝置
25:膜除氣裝置
27:非再生型離子交換裝置(精煉樹脂)
28:超濾膜(UF)
29:第二送出管道
30:使用點
32:回水管道
40:第一壓力調整閥
41:第一壓力檢測器
42:第二壓力調整閥
43:第二壓力檢測器
H1:第一位置
H2:第二位置
M:中間位置
Claims (10)
- 一種液體回收系統，其包含： 槽，其在垂直方向上設置於比使用液體之使用點下方側，並儲存該液體； 管道，其連接該使用點與該槽，並讓該液體從該使用點回到該槽； 第一壓力調整部，其設置於該管道之第一位置，並調整比該第一位置上游側之第一壓力；及 第二壓力調整部，其設置於比該管道之該第一位置下游側且於垂直方向上之下側的第二位置，並調整比該第一位置下游側且比該第二位置上游側之第二壓力。
- 如請求項1所述的液體回收系統，其中該第一位置設定為比該管道之垂直方向上之中央部上側， 該第二位置設定為比該中央部下側。
- 如請求項1或請求項2所述的液體回收系統，其中該第二位置在垂直方向上設定為與該槽之水位相同高度、或者比該槽之水位低的高度。
- 如請求項1或請求項2所述的液體回收系統，其中該第二位置設定在下游側之壓力為固定正壓之高度。
- 如請求項1或請求項2所述的液體回收系統，其中該第一壓力調整部以該第一壓力成為預設之上游壓力之方式來調整該第一壓力。
- 如請求項1或請求項2所述的液體回收系統，其中該第二壓力調整部以該第二壓力成為預設之中間壓力之方式來調整該第二壓力。
- 如請求項1或請求項2所述的液體回收系統，其中該第二壓力調整部以該第二壓力與大氣壓之差為預設值之方式來調整該第二壓力。
- 一種液體供給系統，其包含： 如請求項1~7任一項所述的液體回收系統； 處理部，其處理儲存於該槽之該液體；及 使用供給路徑，其將於該處理部處理後之該液體供給至該使用點。
- 如請求項8所述的液體供給系統，更包含： 一次處理部，其一次處理原水；及 一次供給路徑，其將於該一次處理部處理後之一次處理液供給至該槽。
- 一種壓力調整方法，其係調整管道之壓力，該管道連接使用液體之使用點與在垂直方向上設置於比該使用點下方側並儲存該液體之槽，且讓該液體從該使用點回到該槽，及 將該管道之第一位置之第一壓力調整至預設之上游壓力，同時將比該管道之該第一位置下游側且於垂直方向上之下游側的第二位置之第二壓力調整至預設之中間壓力。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021-100415 | 2021-06-16 | ||
| JP2021100415A JP7124175B1 (ja) | 2021-06-16 | 2021-06-16 | 液体回収システム、液体供給システム、及び圧力調整方法 |
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