TW202248751A - Apparatus and method for manufacturing pattern substrate, computer-readable recording medium - Google Patents
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Abstract
Description
本發明是涉及一種能夠對準圖案的轉印裝置的發明。The present invention relates to a transfer device capable of aligning patterns.
最近,在顯示器製程以及半導體製程中,為了在基板(例如,顯示面板以及晶圓(Wafer)等)的表面形成圖案(例如,結構化的成型圖案以及用於蝕刻或者蒸鍍的掩模圖案等),利用奈米壓印(Nano Imprint Lithography)製程。Recently, in display manufacturing and semiconductor manufacturing, in order to form patterns (such as structured molding patterns and mask patterns for etching or evaporation) on the surface of substrates (such as display panels and wafers, etc.) ), using the Nano Imprint Lithography process.
奈米壓印製程由於可以替代現有的光刻(Photo Lithography)製程,因此是能夠經濟且有效地製造奈米結構物(nano-structure)的技術。具體地,奈米壓印製程是使用轉印裝置(Transfer Apparatus)將形成有奈米級(nano-scale)圖案的模具(Mold)和形成有樹脂(Resin)的基板彼此加壓,而將圖案轉印於樹脂的製程。在這種奈米壓印製程中使用的轉印裝置執行將模具按壓(press)於基板之後從基板分離模具的製程。Since the nanoimprint process can replace the existing photolithography (Photo Lithography) process, it is a technology that can economically and effectively manufacture nano-structures. Specifically, the nanoimprint process uses a transfer apparatus (Transfer Apparatus) to press a mold (Mold) formed with a nano-scale (nano-scale) pattern and a substrate formed with a resin (Resin) to each other, and the pattern The process of transferring to resin. A transfer apparatus used in such a nanoimprint process performs a process of detaching the mold from the substrate after pressing the mold on the substrate.
另一方面,在將模具的圖案轉印於基板的樹脂時,需要使得模具和基板位於預先確定的目標位置(target position)並彼此按壓。以往的轉印裝置通過位於模具和基板上側的拍攝部識別形成於模具的定位標記和形成於基板的定位鍵,來使模具和基板位於目標位置。然而,當模具為不透過性模具或者在不透過性基板的下側形成有定位鍵時,包含於以往的轉印裝置中的拍攝部無法識別形成於基板的定位鍵。換句而言,當以往的轉印裝置無法透過定位標記與定位鍵之間時,由於拍攝部無法識別形成於基板的定位鍵,存在無法將模具和基板移動到目標位置的問題。若模具和基板在沒有位於目標位置的情況下彼此按壓,則圖案不會轉印於樹脂的預先確定的目標位置,可能製造出性能不良的圖案基板。On the other hand, when transferring the pattern of the mold to the resin of the substrate, the mold and the substrate need to be positioned at a predetermined target position and pressed against each other. In a conventional transfer device, an imaging unit positioned above the mold and the substrate recognizes alignment marks formed on the mold and alignment keys formed on the substrate, thereby positioning the mold and the substrate at target positions. However, when the mold is an impermeable mold or alignment keys are formed on the lower side of the impermeable substrate, the imaging unit included in the conventional transfer device cannot recognize the alignment keys formed on the substrate. In other words, when the conventional transfer device cannot see through between the positioning mark and the positioning key, the imaging unit cannot recognize the positioning key formed on the substrate, so there is a problem that the mold and the substrate cannot be moved to the target position. If the mold and the substrate are pressed against each other without being located at the target position, the pattern will not be transferred to the predetermined target position of the resin, and a patterned substrate with poor performance may be produced.
因此,需要即使模具為不透過性模具、或者即使在不透過性基板的下側形成定位鍵,也能夠將模具和基板對齊到目標位置的裝置。Therefore, there is a need for an apparatus capable of aligning the mold and the substrate to target positions even if the mold is an impermeable mold or even if positioning keys are formed on the underside of the impermeable substrate.
本發明的實施例是著眼於上述那樣的背景而發明的,其目的在於提供即使模具為不透過性模具、或者即使在不透過性基板的下側形成定位鍵,也能通過拍攝部使得模具和基板位於目標位置(target position)的裝置。The embodiment of the present invention was invented in view of the above-mentioned background, and its object is to provide a mold that can be aligned with the imaging unit even if the mold is an impermeable mold, or even if a positioning key is formed on the lower side of an impermeable substrate. A device in which the substrate is positioned at a target position.
另外,本發明目的在於提供能夠在將模具的圖案轉印於基板的樹脂之前,對準水平位置以使得模具和基板位於預先確定的目標位置(target position)的裝置。Another object of the present invention is to provide a device capable of aligning the horizontal position so that the mold and the substrate are located at a predetermined target position before transferring the pattern of the mold to the resin of the substrate.
另外,本發明目的在於提供能夠將圖案準確地轉印於樹脂的預先確定的目標位置的裝置。Another object of the present invention is to provide a device capable of accurately transferring a pattern to a predetermined target position of resin.
根據本發明的一方面,可以提供能夠對準圖案的轉印裝置,包括:第一按壓單元,對形成有圖案以及定位標記的模具進行支承;第二按壓單元,對形成有樹脂以及定位鍵的基板進行支承;以及拍攝部,識別所述定位標記以及所述定位鍵,所述第二按壓單元包括:基板安放部,所述基板安放部具備用於支承所述基板的底面的支承區域,並形成有沿著上下方向延伸以使得一端部配置於所述支承區域的拍攝路徑,所述拍攝部包括:下拍攝部,通過所述基板安放部的所述拍攝路徑進行拍攝來識別所述定位標記和所述定位鍵中的任意一個以上。According to one aspect of the present invention, a transfer printing device capable of aligning patterns can be provided, including: a first pressing unit supporting a mold formed with patterns and positioning marks; a second pressing unit supporting the mold formed with resin and positioning keys; The substrate is supported; and the imaging part recognizes the positioning mark and the positioning key, and the second pressing unit includes: a substrate placement part, the substrate placement part has a support area for supporting the bottom surface of the substrate, and An imaging path is formed extending in the vertical direction such that one end portion is disposed in the support region, and the imaging unit includes a lower imaging portion for identifying the positioning mark by imaging through the imaging path of the board mounting portion. and any one or more of the positioning keys.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述拍攝部還包括:上拍攝部,當所述下拍攝部識別所述定位鍵以及所述定位標記中的任一個時,識別另一個。In addition, a transfer device capable of aligning patterns can be provided, the photographing part further includes: an upper photographing part, when the lower photographing part recognizes any one of the positioning key and the positioning mark, it recognizes the other .
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述第一按壓單元以及所述第二按壓單元中的任一個朝向另一個移動,所述第一按壓單元以及所述第二按壓單元中的一個以上基於由所述下拍攝部識別到的所述定位標記以及所述定位鍵中的任一個以上而移動並對準所述模具以及所述基板的水平位置,並且使得對準水平位置的所述模具和所述基板彼此按壓,從而彼此加壓而將所述圖案轉印於所述樹脂,所述下拍攝部構成為,調整水平位置、垂直位置以及角度中的一個以上,以使視場角朝向形成有所述定位標記以及所述定位鍵的位置。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, either one of the first pressing unit and the second pressing unit moves toward the other, and one of the first pressing unit and the second pressing unit One or more of the positioning marks and positioning keys recognized by the lower imaging part are used to move and align the horizontal positions of the mold and the substrate, and to align the horizontal positions The mold and the substrate press each other to press each other to transfer the pattern to the resin, and the lower imaging part is configured to adjust one or more of a horizontal position, a vertical position, and an angle so that it can be viewed The field angle faces the position where the positioning mark and the positioning key are formed.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述下拍攝部構成為具有識別所述定位標記的第一焦距以及識別所述定位鍵的第二焦距,並且焦距變更為所述第一焦距或者所述第二焦距。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, the lower imaging part is configured to have a first focal length for recognizing the positioning mark and a second focal length for recognizing the positioning key, and the focal length is changed to the first focal length. focal length or the second focal length.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述定位標記包括第一定位標記以及第二定位標記,所述定位鍵包括與所述第一定位標記相對應的第一定位鍵以及與所述第二定位標記相對應的第二定位鍵,所述下拍攝部包括:第一下拍攝部,用於識別所述第一定位標記以及所述第一定位鍵中的一個以上;以及第二下拍攝部,用於識別所述第二定位標記以及所述第二定位鍵中的一個以上。In addition, a transfer printing device capable of aligning patterns can be provided, the positioning marks include a first positioning mark and a second positioning mark, and the positioning keys include a first positioning key corresponding to the first positioning mark and a For the second positioning key corresponding to the second positioning mark, the lower photographing part includes: a first lower photographing part for identifying more than one of the first positioning mark and the first positioning key; The second shooting part is used to identify more than one of the second positioning mark and the second positioning key.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述第二按壓單元還包括:拍攝引導部,一側與所述拍攝路徑連通,與所述一側對立的另一側與所述下拍攝部連接;以及反射部,配置於所述拍攝路徑和所述拍攝引導部之間,所述拍攝引導部沿著與上下方向錯開的方向排列,所述下拍攝部通過所述反射部來識別所述定位鍵。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, the second pressing unit further includes: a photographing guide part, one side communicates with the photographing path, and the other side opposite to the one side communicates with the lower The photographing part is connected; and the reflection part is arranged between the photographing path and the photographing guide part, the photographing guide part is arranged along a direction staggered from the up and down direction, and the lower photographing part is identified by the reflector The positioning key.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述基板安放部包括:安放部本體,形成有所述拍攝路徑;遮擋窗,切斷氣體在所述拍攝路徑流動;以及遮擋部件,為了切斷氣體向所述遮擋窗和所述安放部本體之間流動而配置於所述遮擋窗和所述安放部本體之間。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, wherein the substrate mounting part includes: a mounting part body, on which the shooting path is formed; a shielding window, which cuts off the flow of gas in the shooting path; and a blocking member, for The shut-off gas flows between the shielding window and the housing part body, and is arranged between the shielding window and the housing part body.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述安放部本體包括:上安放部,具備所述支承區域;以及下安放部,支承所述上安放部,所述拍攝路徑包括:形成於所述上安放部的第一路徑部以及形成於所述下安放部的第二路徑部,所述一個以上的遮擋窗包括:第一遮擋窗,為了切斷氣體在所述第一路徑部的內部流動而配置於所述第一路徑部上;以及第二遮擋窗,與所述第一遮擋窗隔開,為了切斷氣體在所述第二路徑部的內部流動而配置於所述第二路徑部上,所述一個以上的遮擋部件包括:第一遮擋部件,位於所述第一遮擋窗和所述上安放部之間;以及第二遮擋部件,位於所述第二遮擋窗和所述下安放部之間。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, the placement part body includes: an upper placement part provided with the support area; and a lower placement part supporting the upper placement part, and the imaging path includes: In the first path portion of the upper placement portion and the second path portion formed in the lower placement portion, the one or more shielding windows include: a first shielding window for cutting off gas in the first path portion The internal flow of the gas is arranged on the first path portion; and the second shielding window is separated from the first shielding window and is arranged on the first path portion in order to cut off the gas flow inside the second path portion. On the second path part, the more than one shielding parts include: a first shielding part, located between the first shielding window and the upper placement part; and a second shielding part, located between the second shielding window and the upper placement part; Between the placement parts described below.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述能夠對準圖案的轉印裝置還包括:調位部,調整所述基板安放部的水平位置;以及升降部,使所述調位部升降,所述下拍攝部若所述基板安放部通過所述調位部以及所述升降部移動則一起移動。In addition, a transfer device capable of aligning patterns can be provided, and the transfer device capable of aligning patterns further includes: a position adjustment part, which adjusts the horizontal position of the substrate placement part; and a lifting part, which makes the position adjustment part The lower imaging part moves together when the substrate placement part moves through the position adjustment part and the lifting part.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述能夠對準圖案的轉印裝置還包括:控制部,執行用於所述第一按壓單元、所述第二按壓單元以及所述調位部的工作的控制。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning a pattern, the transfer device capable of aligning a pattern further comprising: a control unit configured to perform operations for the first pressing unit, the second pressing unit, and the adjustment Control of bit work.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述能夠對準圖案的轉印裝置包括:第一按壓單元,對形成有圖案的模具進行支承;以及第二按壓單元,對形成有樹脂的基板進行支承,所述第二按壓單元包括:基板安放部,支承所述基板;調位部,調整所述基板安放部的水平位置;以及波紋管,當其伸長時一端部接觸到所述第一按壓單元而能夠使所述基板的周圍的空間相對於外部密閉,所述調位部在所述波紋管的一端部接觸到所述第一按壓單元的接觸狀態下,調整所述基板安放部的水平位置。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning a pattern, the transfer device capable of aligning a pattern including: a first pressing unit supporting a mold formed with a pattern; and a second pressing unit supporting a mold formed with a resin The substrate is supported, and the second pressing unit includes: a substrate placement part, which supports the substrate; a position adjustment part, which adjusts the horizontal position of the substrate placement part; The space around the substrate can be sealed from the outside by the first pressing unit, and the position adjusting part adjusts the placement of the substrate in a state where one end of the corrugated tube is in contact with the first pressing unit. The horizontal position of the head.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述第二按壓單元還包括:波紋管移動部,被所述基板安放部的外面支承,並與所述波紋管連接而使所述波紋管伸長、收縮,所述波紋管移動部包括:升降氣缸,包括軸以及提供用於使所述軸移動的驅動力的氣缸致動器;塊,設置於所述軸的端部;以及波紋管連接部,支承所述塊以允許所述塊沿著水平方向移動,在所述波紋管連接部中形成有沿著水平方向延伸以安放所述塊的安放槽以及沿著上下方向延伸以與所述安放槽連通且以預定間隙圍繞所述軸的收納槽,當在所述接觸狀態下調整所述基板安放部的水平位置時,所述軸在所述收納槽中沿著水平方向移動。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, the second pressing unit further includes: a bellows moving part supported by the outer surface of the substrate placement part, and connected to the bellows so that the bellows The tube is extended and contracted, and the bellows moving part includes: a lifting cylinder including a shaft and a cylinder actuator providing a driving force for moving the shaft; a block provided at the end of the shaft; and a bellows A connection portion that supports the block to allow the block to move in the horizontal direction, and a seating groove extending in the horizontal direction to seat the block and extending in the up and down direction to communicate with the block is formed in the bellows connection portion. The accommodating groove communicates with the accommodating groove surrounding the shaft with a predetermined gap, and when the horizontal position of the substrate accommodating part is adjusted in the contact state, the arbor moves in the accommodating groove along the horizontal direction.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述波紋管在所述接觸狀態下被彈性變形以允許調整所述基板安放部的水平位置。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, the bellows being elastically deformed in the contact state to allow adjustment of the horizontal position of the substrate seating portion.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述第一按壓單元還包括:模具夾具,支承所述模具的邊緣部,當所述波紋管處於所述接觸狀態時,與所述波紋管的一端部接觸;夾鉗,支承所述模具夾具的邊緣,使所述模具夾具固定到所述第一按壓單元側;以及密閉部,下部與所述模具夾具的上部接觸,所述夾鉗包括,滑動部件,從下部支承所述模具夾具,所述模具夾具被插入到所述滑動部件以及所述密閉部之間而被所述夾鉗支承。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, the first pressing unit further includes: a mold jig supporting an edge portion of the mold, and when the bellows is in the contact state, it is in contact with the corrugated tube. one end of the tube is in contact; clamps supporting the edge of the mold jig to fix the mold jig to the first pressing unit side; It includes a sliding member supporting the mold jig from below, and the mold jig is inserted between the sliding member and the sealing portion and supported by the clamp.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述第一按壓單元還包括:模具夾具,支承所述模具的邊緣部,當處於所述接觸狀態時,與所述波紋管的一端部接觸,在所述模具夾具中提供有夾具密閉部件,在所述波紋管的一端部提供有波紋管密封部件,當處於所述接觸狀態時,所述夾具密閉部件和所述波紋管密封部件為了防止氣體流入到所述模具夾具和所述波紋管的一端部之間而彼此接觸,所述夾具密閉部件和所述波紋管密封部件具有彼此不同的形狀。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning a pattern, and the first pressing unit further includes: a mold clamp supporting an edge portion of the mold, and when in the contact state, is in contact with one end portion of the bellows contact, a jig sealing part is provided in the mold jig, and a bellows sealing part is provided at one end of the bellows, and when in the contact state, the jig sealing part and the bellows sealing part for To prevent gas from flowing between the mold jig and one end portion of the bellows to contact each other, the jig sealing member and the bellows sealing member have shapes different from each other.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述第一按壓單元包括:模具夾具,支承所述模具的邊緣部,當處於所述接觸狀態時,與所述波紋管的一端部接觸;UV透過窗,支承所述模具,並使UV透過;密閉部,呈環狀凸出且下方與所述模具夾具接觸而能夠將所述UV透過窗的周圍相對於外部密閉;以及第一排氣部,當所述密閉部將所述UV透過窗的周圍的空間相對於外部密閉時,用於將在密閉在所述密閉部的內部中的空間殘留的氣體排出到外部。In addition, there may be provided a transfer device capable of aligning a pattern, the first pressing unit includes: a mold jig supporting an edge portion of the mold, and being in contact with one end portion of the bellows when in the contact state The UV transmission window supports the mold and allows UV transmission; the sealing part protrudes in an annular shape and is in contact with the mold clamp below to seal the surrounding of the UV transmission window relative to the outside; and the first row The gas unit is configured to discharge gas remaining in the space sealed inside the sealing unit to the outside when the sealing unit seals the surrounding space of the UV transmission window from the outside.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述第二按壓單元還包括:第二排氣部,當所述波紋管將所述基板的周圍的空間相對於外部密閉時,用於將在密閉在所述波紋管的內部中的空間殘留的氣體排出到外部,所述第一排氣部以及所述第二排氣部工作以防止所述密閉部的內部的氣體壓力和所述波紋管內部的氣體壓力之差超出預定範圍。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning patterns, the second pressing unit further includes: a second exhaust part for sealing the surrounding space of the substrate from the outside by the bellows. The gas remaining in the space sealed inside the bellows is exhausted to the outside, and the first exhaust part and the second exhaust part work to prevent the gas pressure inside the sealed part and the The difference in gas pressure inside the bellows exceeds a predetermined range.
另外,可以提供一種能夠對準圖案的轉印裝置,所述能夠對準圖案的轉印裝置還包括:控制部,執行用於所述第一按壓單元、所述第二按壓單元以及所述調位部的工作的控制。In addition, it is possible to provide a transfer device capable of aligning a pattern, the transfer device capable of aligning a pattern further comprising: a control unit configured to perform operations for the first pressing unit, the second pressing unit, and the adjustment Control of bit work.
另外,可以提供一種製造圖案基板的方法,將形成有圖案以及定位標記的模具與形成有樹脂以及定位鍵的基板按壓而製造圖案基板,其中,所述製造圖案基板的方法包括下列步驟:拍攝步驟,拍攝部對在所述模具形成的定位標記以及在基板形成的定位鍵進行拍攝;第一調位步驟,調位部調整所述基板的水平位置;密閉步驟,波紋管將所述基板的周圍的空間相對於外部密閉,並將在所述基板的周圍的空間殘留的氣體排出到外部;第二調位步驟,在所述密閉步驟之後,所述調位部再次調整所述基板的水平位置;基板按壓步驟,將所述基板按壓到所述模具。In addition, a method for manufacturing a patterned substrate may be provided, wherein a mold formed with patterns and positioning marks is pressed against a substrate formed with resin and positioning keys to manufacture a patterned substrate, wherein the method for manufacturing a patterned substrate includes the following steps: a photographing step , the photographing part photographs the positioning marks formed on the mold and the positioning keys formed on the substrate; in the first adjustment step, the adjustment part adjusts the horizontal position of the substrate; in the sealing step, the bellows seals the substrate around The space is sealed relative to the outside, and the gas remaining in the space around the substrate is discharged to the outside; the second adjustment step, after the sealing step, the adjustment unit adjusts the horizontal position of the substrate again ; A substrate pressing step, pressing the substrate to the mold.
另外,可以提供一種製造圖案基板的方法,所述第一調位步驟以及所述第二調位步驟中的一個以上在所述基板按壓步驟之前執行多次,所述拍攝步驟是每次執行所述第一調位步驟以及所述第二調位步驟時執行。In addition, it is possible to provide a method for manufacturing a pattern substrate, wherein one or more of the first alignment step and the second alignment step are performed multiple times before the substrate pressing step, and the photographing step is executed each time. Execute when the first adjustment step and the second adjustment step are mentioned above.
另外,可以提供一種製造圖案基板的方法,還包括下列步驟:升降步驟,升降部使得所述調位部上升,執行多次所述升降步驟、所述拍攝步驟以及所述第一調位步驟,以當所述基板通過所述升降步驟上升了預定距離時,執行所述拍攝步驟以及所述第一調位步驟,並當所述基板通過所述升降步驟上升了大於預定距離時,再次執行所述拍攝步驟以及所述第一調位步驟。In addition, a method for manufacturing a pattern substrate may be provided, further comprising the following steps: a lifting step, the lifting part makes the positioning part rise, and the lifting step, the photographing step and the first positioning step are performed multiple times, When the substrate is raised by a predetermined distance through the lifting step, the photographing step and the first adjustment step are performed, and when the substrate is raised by a predetermined distance or more by the lifting step, the step of performing the first adjustment is performed again. The photographing step and the first positioning step are described above.
另外,可以提供一種製造圖案基板的方法,所述基板通過所述第二調位步驟移動的水平移動距離小於所述基板通過所述第一調位步驟移動的水平移動距離。In addition, there may be provided a method of manufacturing a pattern substrate whose horizontal movement distance moved by the second alignment step is smaller than the horizontal movement distance of the substrate moved by the first alignment step.
另外,一種電腦可讀取的記錄介質,儲存有用於執行將形成有圖案以及定位標記的模具與形成有樹脂以及定位鍵的基板按壓而製造圖案基板的方法的電腦程式,其中,所述電腦程式程式設計為執行如下步驟:儲存步驟,將由下拍攝部拍攝的所述定位鍵以及由上拍攝部拍攝的所述定位標記的圖像資訊儲存於所述電腦可讀取的記錄介質;運算步驟,基於儲存在所述電腦可讀取的記錄介質中的所述圖像資訊,運算所述定位標記以及所述定位鍵的位置資訊;以及輸出步驟,基於運算出的所述位置資訊,輸出調整所述模具或者所述基板的位置的動作命令,所述運算步驟獲得運算出的所述定位鍵的位置移動到運算出的所述定位標記的位置的路徑值,所述輸出步驟根據所獲得的路徑值,進一步輸出調整所述所述定位鍵的圖像資訊的中央位置的動作命令。In addition, a computer-readable recording medium stores a computer program for executing a method of manufacturing a patterned substrate by pressing a mold formed with a pattern and positioning marks on a substrate formed with resin and positioning keys, wherein the computer program The program is designed to perform the following steps: a storage step, storing the image information of the positioning key captured by the lower imaging unit and the positioning mark captured by the upper imaging unit in the computer-readable recording medium; the computing step, Based on the image information stored in the computer-readable recording medium, calculating the position information of the positioning mark and the positioning key; and an output step of outputting and adjusting the position information based on the calculated position information An action command for the position of the mold or the substrate, the calculation step obtains the calculated path value from the calculated position of the positioning key to the calculated position of the positioning mark, and the output step is based on the obtained path value value, and further output an action command for adjusting the central position of the image information of the positioning key.
發明效果Invention effect
根據本發明的實施例,具有能夠在將模具的圖案轉印於基板的樹脂之前對準水平位置以使得模具和基板位於預先確定的目標位置的效果。According to the embodiment of the present invention, there is an effect of being able to align the horizontal position so that the mold and the substrate are located at predetermined target positions before transferring the pattern of the mold to the resin of the substrate.
另外,具有能夠將圖案準確地轉印於樹脂的預先確定的目標位置的效果。In addition, there is an effect that the pattern can be accurately transferred to a predetermined target position of the resin.
另外,即使模具為不透過性模具或者在不透過性基板的下側形成有定位鍵,也具有通過拍攝部能夠使模具和基板位於目標位置(target position)的效果。In addition, even if the mold is an impermeable mold or positioning keys are formed under the impermeable substrate, there is an effect that the mold and the substrate can be positioned at the target position (target position) by the imaging unit.
以下,針對用於實現本發明的技術構思的具體實施例,參照附圖進行詳細說明。Hereinafter, specific embodiments for realizing the technical concept of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
並且,在說明本發明時,當判斷為針對相關公知結構或者功能的具體說明可能導致本發明的主旨模糊時,省略其詳細的說明。Moreover, when describing the present invention, when it is judged that specific descriptions for related known structures or functions may obscure the gist of the present invention, the detailed descriptions will be omitted.
另外,當提及某構成要件被其它構成要件“支承”、“流入”、“排出”、“固定”時,雖可以被其其它構成要件直接支承、流入、排出、固定,但應理解為也可以在中間存在其它構成要件。In addition, when it is mentioned that a constituent element is "supported", "inflowed", "discharged" and "fixed" by other constituent elements, although it may be directly supported, flowed in, discharged, or fixed by other constituent elements, it should be understood as There may be other constituent elements in between.
在本說明書中使用的用語只是用於說明特定的實施例,並不用作限定本發明的意圖。單數的表達包括複數的表達,除非在文脈上明確地不同表示。The terms used in this specification are for describing specific examples, and are not intended to limit the present invention. Expressions of the singular include expressions of the plural unless clearly indicated differently in context.
另外,如第一、第二等那樣包括序數的用語可能在對各種構成要件的說明中使用,但相應構成要件不限於這樣的用語。其用語僅用於將一個構成要件與其它構成要件區分的目的。In addition, terms including ordinal numbers such as first and second may be used in the description of various constituent elements, but the corresponding constituent elements are not limited to such terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one element from other elements.
在說明書中使用的“包括”的含義是將特定特性、區域、整數、步驟、動作、因素及/或成分具體化,並不排除其它特定特性、區域、整數、步驟、動作、因素、成分及/或組的存在或附加。The meaning of "comprising" used in the description is to specify specific characteristics, regions, integers, steps, actions, factors and/or components, and does not exclude other specific characteristics, regions, integers, steps, actions, factors, components and /or the existence or attachment of groups.
另外,預先明確,在本說明書中,上側、下側、底面等表達是以附圖中的圖示為基準所說明的,若相應物件的方向改變,則可以不同地表達。另一方面,在本說明書中,左右方向可以是圖1、圖4以及圖5的x軸方向(x1是右側,x2是左側)。另外,前後方向可以是圖1、圖6、圖7以及圖9的y軸方向(y1是前方側,y2是後方側),上下方向可以是圖1、圖4至圖7以及圖9的z軸方向(z1是上側,z2是下側)。另外,θ軸方向可以是以圖1的z軸方向作為中心軸進行旋轉的方向。另外,水平方向可以是x軸方向以及y軸方向中的一個或者組合。另外,水平位置可以是x軸方向以及y軸方向的虛擬的平面上的一位置。另外,垂直方向可以是z軸方向。另外,垂直位置可以是z軸方向的虛擬的直線上的一位置。In addition, it is clear in advance that in this specification, expressions such as upper side, lower side, and bottom surface are described based on the illustrations in the drawings, and may be expressed differently if the direction of the corresponding object is changed. On the other hand, in this specification, the left-right direction may be the x-axis direction in FIGS. 1 , 4 , and 5 (x1 is the right side, and x2 is the left side). In addition, the front-rear direction can be the y-axis direction in FIG. 1, FIG. 6, FIG. 7 and FIG. 9 (y1 is the front side, y2 is the rear side), and the up-down direction can be the z direction in FIG. Axis direction (z1 is the upper side, z2 is the lower side). In addition, the θ-axis direction may be a direction in which the z-axis direction in FIG. 1 is used as a center axis and rotates. In addition, the horizontal direction may be one or a combination of the x-axis direction and the y-axis direction. In addition, the horizontal position may be a position on a virtual plane in the x-axis direction and the y-axis direction. In addition, the vertical direction may be the z-axis direction. In addition, the vertical position may be a position on a virtual straight line in the z-axis direction.
以下,參照附圖,對根據本發明的一實施例的能夠對準圖案的轉印裝置1的具體結構進行說明。Hereinafter, a specific structure of a
以下,參照圖1、圖4以及圖5,根據本發明的一實施例的能夠對準圖案的轉印裝置1可以使得模具10和基板20彼此按壓(press),從而彼此加壓而將在模具10形成的圖案轉印於在基板20形成的樹脂。在此,將圖案轉印於樹脂的含義可以是將在模具10形成的圖案(未圖示)轉印於在基板20形成的樹脂的含義。另外,將模具10轉印於基板20的含義可以是將在模具10形成的圖案轉印於在基板20形成的樹脂的含義。Hereinafter, referring to FIG. 1 , FIG. 4 and FIG. 5 , the
另外,能夠對準圖案的轉印裝置1可以在將圖案轉印於樹脂之前對準模具10和基板20之間的相對的水平位置,以使得模具10和基板20位於目標位置(target position)。在此,模具10和基板20的目標位置可以意指,在當從上側觀察模具10以及基板20時,在將後述的定位標記11和後述的定位鍵21彼此匹配而配置的狀態下的模具10和基板20的水平位置。In addition, the
如此,能夠對準圖案的轉印裝置1具有在將模具10的圖案轉印於基板20的樹脂之前,對準水平位置以能夠使得模具10和基板20位於預先確定的目標位置的效果。另外,具有能夠將圖案準確地轉印於樹脂的預先確定的目標位置的效果。In this way, the pattern-
模具10可以被能夠對準圖案的轉印裝置1支承。另外,模具10可以是不透明材質的不透過性模具,但不限於此。另外,在模具10的一面可以形成要轉印於基板20的樹脂的圖案。The
參照圖2,在模具10可以形成有定位標記11,定位標記11成為用於進行對準以使得與基板20一起位於預先確定的目標位置的基準。例如,隨著模具10被後述的第一按壓單元100支承,圖案可以配置於模具10的下側以朝向下側。Referring to FIG. 2 , a
定位標記11可以形成於模具10的下側以及上側中的一個以上。The positioning marks 11 may be formed on one or more of the lower side and the upper side of the
另外,圖案可以形成於比定位標記11靠下側處。In addition, the pattern may be formed on the lower side than the
定位標記11可以在模具10中提供為多個。另外,定位標記11可以包括第一定位標記11a以及從第一定位標記11a隔開設置的第二定位標記11b。The
後述的拍攝部300隨著識別模具10的下側以及上側中的一種以上,能夠識別定位標記11。The
基板20可以被能夠對準圖案的轉印裝置1支承。另外,基板20可以是不透明材質的不透過性基板,但不限於此。例如,不透過性基板可以是矽晶片、金屬蒸鍍晶片等。另外,在基板20的一面可以形成要轉印圖案的樹脂。另外,樹脂可以在基板20的表面上進行塗覆來形成。The
參照圖3,在基板20中與形成有定位標記11的位置相對應的位置可以形成有定位鍵21,定位鍵21成為用於對準使得與模具10一起位於預先確定的目標位置的基準。例如,隨著基板20被後述的第二按壓單元200支承,樹脂配置於基板20的上側以朝向上側。Referring to FIG. 3 , a
定位鍵21可以形成於基板20的上側以及下側中的一種以上。另外,樹脂可以形成於比定位鍵21靠上側處。The positioning key 21 may be formed on one or more of the upper side and the lower side of the
定位鍵21可以在基板20形成為多個。另外,定位鍵21可以包括與第一定位標記11a相對應的第一定位鍵21a以及與第二定位標記11b相對應且與第一定位鍵21a隔開設置的第二定位鍵21b。The
後述的拍攝部300可以隨著識別基板20的上側以及下側中的一個以上來識別定位鍵21。The
定位標記11以及定位鍵21可以形成為彼此相對應的模樣。例如,定位標記11可以形成為十字架模樣。另外,當從上側觀察時,定位鍵21可以形成為形成定位標記11能夠位於內側的空間的排列有多個四邊形的形狀。The
定位標記11以及定位鍵21可以成為模具10和基板20是否位於目標位置的基準。例如,若定位標記11與定位鍵21的至少一部分重疊,或不與定位鍵21相鄰,則模具10和基板20可能不在目標位置。作為另一例,當定位標記11匹配地位於定位鍵21之間時,模具10和基板20可以在目標位置。The
參照圖4以及圖5,能夠對準圖案的轉印裝置1可以包括第一按壓單元100、第二按壓單元200、拍攝部300、UV照射部400、驅動部500以及控制部600。Referring to FIGS. 4 and 5 , the
以下是關於第一按壓單元100的說明。The following is a description about the first
第一按壓單元100可以支承模具10。另外,第二按壓單元200可以支承基板20。另外,第一按壓單元100以及第二按壓單元200中的任一個可以朝向另一個移動。換句而言,第一按壓單元100以及第二按壓單元200中的任一個可以向垂直方向移動。另外,第一按壓單元100以及第二按壓單元200中的一個以上可以基於定位標記11以及定位鍵21沿著水平方向移動而對準水平位置以使得模具10和基板20位於目標位置。另外,第一按壓單元100以及第二按壓單元200中的一個以上可以升降而使得對準水平位置的模具10和基板20彼此按壓,從而將圖案準確地轉印於樹脂的目標位置。The first
第一按壓單元100包括模具支承件110、UV透過窗120、密閉部130,第一排氣部140、密閉部密封部件150以及支承件移動部(未圖示)。The first
再參照圖6至圖9,模具支承件110可以為了支承模具10而提供。例如,模具10可以通過模具支承件110支承以使得圖案朝向下側。Referring again to FIGS. 6 to 9 , a
模具支承件110可以包括模具夾具111、夾鉗112、夾鉗移動器113以及移動器支承件114。The
模具夾具111可以支承模具10。另外,模具夾具111可以一部分開放形成為模具10的中心部朝向基板20暴露。在此,通過模具夾具111暴露的模具10的中心部可以意指在模具10形成有圖案的部分或者被後述的UV透過窗120支承的模具10的部分。另外,模具夾具111可以支承模具10的邊緣部。因此,模具夾具111可以通過使模具10的中心部暴露且支承模具10的邊緣,將模具10固定貼緊於模具夾具111。模具夾具111可以介於夾鉗112和密閉部130之間而被支承,並且可以滑動而從夾鉗112和密閉部130之間移除。The
在模具夾具111可以提供有夾具密閉部件111a。A
如圖8所示,夾具密閉部件111a可以配置於模具夾具111的底面而與配置於接觸到模具夾具111的後述的波紋管240的一端部的波紋管密封部件241接觸。另外,夾具密閉部件111a與波紋管密封部件241接觸而能夠防止氣體流入模具夾具111和波紋管240的一端部之間。另外,夾具密閉部件111a可以包括嵌入在模具夾具111的底面形成的槽中的平面環。As shown in FIG. 8 , the
參照圖10至圖13,針對夾鉗112,夾鉗移動器113以及移動器支承件114進行說明。圖10是對模具支承件110進行分解的分解立體圖。圖11是示出以模具夾具111能向夾鉗112和密閉部130之間的空間滑動的方式夾鉗112向下側移動的狀態。圖12是示出模具夾具111向夾鉗112和密閉部130之間的空間移動而安放於夾鉗112的狀態的立體圖。10 to 13 , the
圖13以及圖14是示出模具夾具111介於夾鉗112和密閉部130之間以使得模具夾具111的上面與密閉部130接觸的側面放大圖和主視圖。FIGS. 13 and 14 are enlarged side views and front views showing that the
夾鉗112可以支承模具夾具111的邊緣而將模具夾具111固定到第一按壓單元100側。The
夾鉗112可以包括支承模具夾具111的滑動部件112a以及支承滑動部件112a的夾鉗本體112b。The
滑動部件112a可以在與密閉部130以上下方向隔開預定距離的狀態下被夾鉗本體112b支承。因此,在滑動部件112a和密閉部130之間可以提供用於插入模具夾具111的空間。The
夾鉗移動器113可以使夾鉗112沿著上下方向移動。例如,夾鉗移動器113可以被移動器支承件114支承而使滑動部件112a以及夾鉗本體112b沿著上下方向移動。The
移動器支承件114可以被密閉部130支承而支承夾鉗移動器113。例如,移動器支承件114可以附著於密閉部130的側面而支承夾鉗移動器113。The
以下,對模具夾具111向夾鉗112和密閉部130之間滑動插入的過程進行說明。Hereinafter, a process in which the
首先,如圖11所示,夾鉗移動器113將夾鉗112沿著下側方向移動。若這樣的夾鉗112沿著下側方向移動,則夾鉗112和密閉部130之間的沿上下方向的距離會變大。First, as shown in FIG. 11 , the
在此狀態下,如圖12所示,模具夾具111從外部空間向夾鉗112和密閉部130之間的空間滑動而安放在滑動部件112a上。另外,為了將模具夾具111安放在夾鉗112上,滑動的方向可以是前後方向。In this state, as shown in FIG. 12 , the
之後,如圖13以及圖14所示,夾鉗112通過夾鉗移動器113沿著上側方向移動。若這樣的夾鉗112沿著上側方向移動,則模具夾具111可以介於夾鉗112和密閉部130之間而被固定使得通過夾鉗112的上側移動與密閉部130接觸。Thereafter, as shown in FIGS. 13 and 14 , the
如此,模具夾具111通過夾鉗112,其邊緣部被密閉部130加壓而固定,從而具有防止在夾鉗112和密閉部130之間任意移動的效果。In this way, the
另一方面,模具夾具111從夾鉗112和密閉部130之間移除的過程可以是與上述的模具夾具111滑動插入的過程相反的順序來進行。On the other hand, the process of removing the
再參照圖6至圖8,UV透過窗120可以構成為使得從UV照射部400照射的UV透過。另外,UV透過窗120的底面可以支承模具10。另外,UV透過窗120可以被密閉部130環繞以與外部切斷。Referring again to FIGS. 6 to 8 , the
密閉部130可以將UV透過窗120的周圍相對於外部進行密閉。換句而言,密閉部130提供為環繞UV透過窗120,從而可以將UV透過窗120與外部切斷。另外,密閉部130的下方可以與模具夾具111接觸。例如,密閉部130可以是一部分凸出成與模具夾具111接觸的環狀。The sealing
密閉部130可以提供為密閉部130的一部分和UV透過窗120隔開。因此,在密閉部130和UV透過窗120之間可以形成有預定的隔開空間S。另外,隔開空間S可以與第一排氣部140連通。另外,當密閉部130的下方接觸到模具夾具111的上方時,殘留在隔開空間S的內側中的氣體可以通過第一排氣部140排出到外部。另外,密閉部130的下方接觸到模具夾具111的上方而使得隔開空間S密閉。因此,隨著密閉部130接觸到模具夾具111的上方,能夠排出隔開空間S的空氣的同時防止空氣從外部流入,因此,隔開空間S可以形成為真空狀態。The sealing
如此,基於將隔開空間S形成為真空狀態,可以切斷空氣向基板20流入,因此具有能夠將UV透過窗120周圍相對於外部更有效地密封的效果。In this way, by forming the partitioned space S in a vacuum state, it is possible to block the inflow of air into the
第一排氣部140可以將UV透過窗120和密閉部130之間的氣體排出到外部。換句而言,當密閉部130將UV透過窗120的周圍的空間相對於外部密封時,第一排氣部140可以將在隔開空間S的內側中殘留的氣體排出到外部。另外,第一排氣部140可以包括在密閉部130的內周面暴露的噴嘴。The
密閉部密封部件150可以切斷氣體向模具夾具111和密閉部130之間流入。另外,密閉部密封部件150可以位於模具夾具111和密閉部130之間。另外,密閉部密封部件150可以包括嵌入在密閉部130的底面沿著上方凹入形成的槽中的彈性環。The sealing
支承件移動部(未圖示)可以使模具支承件110沿著水平方向移動而使得模具10的中心位置沿著水平方向移動。例如,當基板20具有比模具10相對大的面積時,支承件移動部可以使模具支承件110移動以使模具10從基板20的上側一位點移到另一位點,將模具10的圖案局部地依次轉印於具有比模具10大的面積的基板20。The support moving unit (not shown) can move the
以下是關於第二按壓單元200的說明。The following is a description about the second
參照圖4以及圖5,第二按壓單元200可以支承基板20並調整基板20的位置。換句而言,第二按壓單元200可以對準基板20的水平位置。Referring to FIGS. 4 and 5 , the second
第二按壓單元200可以使基板20朝向模具10靠近。換句而言,第二按壓單元200可以使基板20沿著垂直方向移動。The second
第二按壓單元200可以包括基板安放部210、調位部220、升降部230、波紋管240、第二排氣部250、波紋管移動部260、拍攝引導部280、反射部290。The second
再參照圖15,基板安放部210可以提供用於安放基板20的部分。另外,基板安放部210可以具備用於支承基板20的下方的支承區域。另外,在基板安放部210中可以形成沿著上下方向延伸的拍攝路徑210a以使得一端部配置於支承區域。Referring again to FIG. 15 , the
拍攝路徑210a可以包括第一路徑部210a-1和比第一路徑部210a-1靠下側的第二路徑部210a-2。另外,下拍攝部320可以通過拍攝路徑210a來識別後述的基板20的定位鍵21。The photographing
基板安放部210可以包括安放部本體211、遮擋窗213、遮擋部件214。The
安放部本體211可以支承基板20。另外,在安放部本體211中可以形成拍攝路徑210a。另外,安放部本體211可以通過圖5中示出的調位部220而被支承。The
安放部本體211可以包括上安放部211a和下安放部211b。The
上安放部211a配置於比下安放部211b靠上側而具備用於支承基板20的支承區域。另外,上安放部211a可以形成第一路徑部210a-1。另外,第一路徑部210a-1可以將上安放部211a沿著上下方向貫通。另外,第一路徑部210a-1的一端部可以設置於上安放部211a的支承區域。The upper mounting
下安放部211b可以支承上安放部211a。另外,在下安放部211b中可以形成有第二路徑部210a-2。另外,第二路徑部210a-2可以將下安放部211b沿著上下方向貫通。另外,第二路徑部210a-2可以與第一路徑部210a-1連接,並通過遮擋窗213與第一路徑部210a-1不連通。The
遮擋窗213可以切斷氣體在拍攝路徑210a流動。另外,遮擋窗213可以包括第一遮擋窗213a以及第二遮擋窗213b。The shielding
第一遮擋窗213a可以切斷第一路徑部210a-1內部的氣體向上安放部211a和下安放部211b之間流入。另外,第一遮擋窗213a可以配置於第一路徑部210a-1中。The
第二遮擋窗213b可以切斷第二路徑部210a-2內部的氣體向上安放部211a和下安放部211b之間流入。另外,第二遮擋窗213b可以從第一遮擋窗213a沿著上下方向隔開,並配置於第二路徑部210a-2中。換句而言,第一遮擋窗213a和第二遮擋窗213b可以彼此隔開配置。The
如此,基於將第一遮擋窗213a和第二遮擋窗213b彼此隔開配置,能夠防止彼此之間的破損,具有有助於保持安放部本體211的水平的效果。另外,由於第一遮擋窗213a和第二遮擋窗213b沒有接觸而彼此隔開,即使為了對準安放部本體211的水平而對相對於下安放部211b的上安放部211a的位置進行調整或隨安放部本體211的移動而晃動,具有防止第一遮擋窗213a以及第二遮擋窗213b中的一個以上因摩擦引起而磨損的效果。Thus, by arranging the
遮擋部件214可以切斷氣體向遮擋窗213和安放部本體211之間流動。另外,遮擋部件214可以配置於遮擋窗213和安放部本體211之間。另外,遮擋部件214的水平方向長度可以形成為大於拍攝路徑210a的水平方向長度。換句而言,以拍攝路徑210a的中心為基準,遮擋部件214的半徑可以形成為大於與遮擋部件214相鄰的部分的拍攝路徑210a的半徑。The
如此,具有如下效果:由於遮擋部件214形成為較大,不與拍攝路徑210a干涉,能夠大幅確保通過遮擋窗213的拍攝空間與拍攝路徑210a的寬度相同的水平的同時,可以密封遮擋部件214和安放部本體211之間。In this way, there is an effect that since the shielding
遮擋部件214可以包括第一遮擋部件214a以及第二遮擋部件214b。The shielding
第一遮擋部件214a可以防止氣體向第一遮擋窗213a和第一路徑部210a-1之間流入。另外,第一遮擋部件214a可以配置於第一遮擋窗213a和上安放部211a之間。另外,第一遮擋部件214a可以包括沿著第一遮擋窗213a的周長形成的彈性環。The
第二遮擋部件214b可以防止氣體向第二遮擋窗213b和第二路徑部210a-2之間流入。另外,第二遮擋部件214b可以配置於第二遮擋窗213b和下安放部211b之間。另外,第二遮擋部件214b可以包括沿著第二遮擋窗213b的周長形成的彈性環。The
參考圖4至圖7以及圖9,調位部220可以調整基板安放部210的水平位置。例如,調位部220可以使基板安放部210沿著前後左右方向(水平方向)移動,並可以使基板安放部210旋轉。因此,調位部220可以通過調整基板安放部210的位置,將模具10和基板20對準成位於目標位置。另外,當波紋管240的一端部的波紋管密封部件241接觸到第一按壓單元100的模具夾具111底面的夾具密閉部件111a的狀態即接觸狀態時,調位部220可以重新調整基板安放部210的水平位置。Referring to FIG. 4 to FIG. 7 and FIG. 9 , the
調位部220可以是定位台(Alignment stage)。例如,調位部220可以是通過獨立工作的多個模組形成移動工作(即,通過沿著x軸方向、y軸方向以及θ軸方向移動的各個模組的獨立工作形成x軸方向、y軸方向以及θ軸方向上的移動工作)的xyθ台。作為另一例,調位部220可以是通過協同工作的多個模組形成移動工作(即,通過沿著u軸、v軸以及w軸移動的各個模組的工作組合形成x方向、y方向以及θ方向上的移動工作)的uvw台。The
調位部220可以位於升降部230的上側而通過升降部230升降。The
調位部220可以包括第一調整部221、第二調整部222以及第三調整部223。The
第一調整部221、第二調整部222以及第三調整部223可以是沿著調整基板安放部210的水平位置的uvw台的u軸、v軸以及w軸移動的各個模組。另外,即使波紋管240的一端部接觸到第一按壓單元100的狀態下,第一調整部221、第二調整部222以及第三調整部223可以使基板安放部210沿著前後方向(y軸方向)移動,可以沿著左右方向(x軸方向),可以進行旋轉。The
如此,具有調位部220基於定位標記11以及定位鍵21調整基板安放部210的水平位置而能夠對準成模具10和基板20位於目標位置的效果。另外,當波紋管240為接觸狀態時,通過再次調整基板20的水平位置,具有能夠更精確地調節模具10和基板20之間的相對位置的效果。In this way, the
升降部230可以使基板安放部210升降。例如,升降部230可以使基板安放部210相對於底面垂直的方向移動。另外,升降部230可以使基板安放部210升降,從而將基板20朝向第一按壓單元100靠近或者與第一按壓單元100隔開。另外,升降部230可以使基板20朝向第一按壓單元100側移動,從而使基板20按壓到模具10。The lifting
波紋管240可以構成為將基板20的周圍的空間相對於外部密封。換句而言,波紋管240可以通過伸長而將基板20的周圍的空間相對於外部密封。The
波紋管240可以為了當按壓模具10和基板20時朝向第一按壓單元100伸縮而具有多個折疊部。另外,波紋管240可以設置成一端部可以朝向第一按壓單元100伸縮且另一端支承於基板安放部210。例如,波紋管240可以朝向第一按壓單元100伸長,此時,波紋管240的上端部可以與第一按壓單元100接觸。如此,當波紋管240為與第一按壓單元100接觸的狀態時,基板20可以與外部切斷。作為另一例,伸長的波紋管240可以再次收縮。如此,當波紋管240為朝向基板20收縮的狀態時,基板20可以向外部暴露。The
波紋管240可以在接觸狀態下彈性變形以允許調整基板安放部210的水平位置。The
如圖15所示,在波紋管240的一端部可以提供波紋管密封部件241。As shown in FIG. 15 , a
當波紋管240為接觸狀態時,為了防止氣體向模具夾具111和波紋管240的一端部之間流入,波紋管密封部件241可以接觸到夾具密閉部件111a。另外,波紋管密封部件241和夾具密閉部件111a可以形成為彼此不同的形狀,具有彼此不同的摩擦力。如此,由於波紋管密封部件241和夾具密閉部件111a形成為彼此不同的形狀且具有彼此不同的摩擦力,當波紋管240為接觸狀態時可以使基板安放部210水平移動,從而波紋管240的一端部也在模具夾具111中滑動。例如,波紋管密封部件241可以包括嵌入在波紋管240的一端部(例如,上端部)形成的槽中的O型環。When the bellows 240 is in contact, the
如此,具有當波紋管240為接觸狀態時通過調位部220而移動,從而波紋管密封部件241在接觸到夾具密閉部件111a的狀態下滑動而防止氣體流入的同時,防止波紋管240過度彈性變形的效果。In this way, when the
當波紋管240將基板20的周圍的空間相對於外部密閉時,第二排氣部250可以將在密閉在波紋管240內部中的空間殘留的氣體排出到外部。另外,第二排氣部250將在密閉在波紋管240的內部中的空間殘留的氣體排出到外部,從而可以將基板20的周圍的空間保持為真空狀態。另外,第二排氣部250可以包括在波紋管240的內側暴露的噴嘴。When the bellows 240 seals the space around the
第一排氣部140以及第二排氣部250可以進行防止密閉部130的內部的氣體壓力和波紋管240的內部的氣體壓力之差超出預定範圍的工作。The
如此,防止密閉部130的內部的氣體壓力和波紋管240的內部的氣體壓力之差超出預定範圍來防止向模具10的上側和下側施加的壓力之差超出預定範圍,因此最終具有防止模具10被彎曲的效果。In this way, the difference between the gas pressure inside the sealing
參照圖16至圖19,波紋管移動部260可以被基板安放部210的外面支承,並連接到波紋管240而使波紋管240伸長、收縮。換句而言,波紋管移動部260可以使波紋管240轉換成接觸狀態或收縮狀態。Referring to FIGS. 16 to 19 , the
波紋管移動部260可以包括升降氣缸261、塊262以及波紋管連接部263。The
升降氣缸261可以包括軸261a以及提供用於使軸261a沿著上下方向移動的驅動力的氣缸致動器261b。The
升降氣缸261可以被基板安放部210的外面支承。換句而言,升降氣缸261可以被下安放部211b的外面支承。The
塊262可以設置於軸261a的端部而與軸261a一起移動。The
波紋管連接部263可以支承塊262以允許塊262沿著水平方向移動。另外,在波紋管連接部263中可以形成沿著水平方向延伸以安放塊262的安放槽263a以及沿著上下方向延伸以與安放槽263a的下方連通且通過預定間隙來圍繞軸261a的收納槽263b。例如,收納槽263b的預定間隙可以是0.4mm以上且0.5mm以下。另外,當在波紋管240為接觸狀態下調整基板安放部210的水平位置時,軸261a可以在收納槽263b中沿著水平方向移動。換句而言,在接觸狀態下,基板安放部210通過調位部220水平移動到預定間隙以下。The
再參照圖15,拍攝引導部280的一側可以與拍攝路徑210a中的下拍攝路徑210-2連通,與一側對立的另一側與後述的下拍攝部320連接。另外,拍攝引導部280的至少一部分可以位於比基板安放部210靠下側處。另外,拍攝引導部280可以沿著與上下方向錯開的方向排列。例如,拍攝引導部280可以以相對於形成有拍攝路徑210a的方向垂直的方向形成。另外,後述的下拍攝部320可以通過拍攝引導部280和拍攝路徑210a來拍攝基板20的下側。Referring to FIG. 15 again, one side of the
拍攝引導部280可以在拍攝引導部280的內面包括反射部290,所述反射部290用於後述的下拍攝部320有效地識別基板20的下側。The
反射部290可以配置於拍攝引導部280和拍攝路徑210a之間而反射定位標記11的圖像,從而入射到後述的下拍攝部320。例如,反射部290可以是能夠反射光的反射鏡。作為更仔細的一例,反射部290可以使沿著拍攝路徑210a發出的光反射成沿著拍攝引導部280發出。如此,即使拍攝路徑210a和拍攝引導部280彼此錯開地配置,反射部290也可以反射定位鍵21的圖像以使後述的下拍攝部320識別定位鍵21。換句而言,後述的下拍攝部320可以通過反射部290來識別定位鍵21。The
以下是關於拍攝部300的說明。The following is a description of the
拍攝部300可以識別模具10的定位標記11和基板20的定位鍵21。例如,拍攝部300可以是拍攝定位標記11和定位鍵21的相機。另外,拍攝部300可以同時識別定位標記11和定位鍵21,或先識別定位標記11和定位鍵21中的任一個並基於此識別另一個。因此,可以通過拍攝部300識別定位標記11和定位鍵21的位置而確認定位標記11和定位鍵21之間相對目標位置的誤差。The
如此,拍攝部300識別第一定位標記11a和第一定位鍵21a之間的相對位置以及第二定位標記11b和第二定位鍵21b之間的相對位置,從而具有拍攝部300互補地識別位置而能夠更準確地識別模具10和基板20是否位於目標位置的效果。In this way, the photographing
拍攝部300構成為調整水平位置、垂直位置以及角度中的一個以上以使視場角朝向形成有定位標記11以及定位鍵21的位置。The
拍攝部300可以構成為具有識別定位標記11的第一焦距以及識別定位鍵21的第二焦距,並且焦距變更為第一焦距或者第二焦距。例如,拍攝部300的焦距可以構成為識別定位標記11後為了識別定位鍵21而從第一焦距變更為第二焦距。The
基於識別到拍攝部300的定位標記11以及定位鍵21,第一按壓單元100以及第二按壓單元200中的一個以上移動而能夠對準模具10以及基板20的水平位置。Based on the recognition of the positioning marks 11 and
拍攝部300可以包括上拍攝部310和下拍攝部320。The photographing
上拍攝部310可以識別定位標記11以及定位鍵21中的一種以上。例如,當模具10由不透明的材質形成而使光不能透過定位標記11和定位鍵21之間時,上拍攝部310可以識別模具10的定位標記11。作為另一例,當模具10由不透明的材質形成而使光透過定位標記11和定位鍵21之間時,上拍攝部310可以識別定位標記11以及定位鍵21全部。The
上拍攝部310可以為了識別定位標記11以及定位鍵21中的一個以上而在拍攝位置和非拍攝位置之間沿著水平方向移動。例如,上拍攝部310可以向用於識別定位標記11以及定位鍵21中的一個以上的拍攝位置移動。在此,如圖6所示,拍攝位置可以意指:上拍攝部310為了識別定位標記11以及定位鍵21而配置於模具10以及基板20的上側預定位置。作為另一例,上拍攝部310可以移動到不識別定位標記11以及定位鍵21的非拍攝位置。在此,如圖7所示,非拍攝位置可以意指:上拍攝部310為了不識別定位標記11以及定位鍵21而從拍攝位置即模具10以及基板20的上側預定位置沿著水平方向移動來配置。另外,非拍攝位置可以意指從拍攝位置沿著水平方向隔開配置。The
上拍攝部310可以形成為多個。另外,上拍攝部310可以包括第一上拍攝部以及第二上拍攝部。另外,第一上拍攝部可以識別第一定位標記11a以及第一定位鍵21a中的一個以上。另外,第二上拍攝部可以識別第二定位標記11b以及第二定位鍵21b中的一個以上。The
下拍攝部320可以為了識別定位標記11以及定位鍵21中的一個以上而通過基板安放部210的拍攝路徑210a進行拍攝。另外,當上拍攝部310識別定位標記11以及定位鍵21中的任一個時,下拍攝部320可以通過基板安放部210的拍攝路徑210a來識別另一個。例如,當基板20由不透明的材質形成而使光不能透過定位標記11和定位鍵21之間時,可以識別基板20的定位鍵21。作為另一例,當基板20由透明的材質形成而使光透過定位標記11和定位鍵21之間時,下拍攝部320可以通過拍攝路徑210a識別定位標記11以及定位鍵21全部。The
如圖5所示,下拍攝部320可以配置於比上拍攝部310靠下側而與第二按壓單元200連接。例如,下拍攝部320可以與基板安放部210的下側連接。因此,若基板安放部210通過調位部220以及升降部230移動時,則下拍攝部320可以一起移動。換句而言,若模具10水平移動或模具10垂直移動,則下拍攝部320可以一起移動。As shown in FIG. 5 , the
下拍攝部320可以形成為多個。另外,下拍攝部320可以包括第一下拍攝部以及第二下拍攝部。另外,第一下拍攝部可以識別第一定位標記11a以及第一定位鍵21a中的一個以上。另外,第二下拍攝部可以識別第二定位標記11b以及第二定位鍵21b中的一個以上。The lower photographing
在上文中,說明拍攝部300包括了上拍攝部310以及下拍攝部320,但本發明的構思並非限定於此,拍攝部300也可以僅包括上拍攝部310以及下拍攝部320中的任一個。例如,當僅包括上拍攝部310以及下拍攝部320中的任一個時,所包括的一個可以識別定位標記11以及定位鍵21全部。作為另一例,當包括上拍攝部310以及下拍攝部320全部時,可以是,上拍攝部310識別定位標記11以及定位鍵21中的任一個,下拍攝部320識別另一個。In the above, it is described that the
如此,即使模具10為不透過性模具或者在不透過性基板的下側形成有定位鍵21,也具有通過拍攝部300能夠使模具10和基板20位於目標位置(target position)的效果。In this way, even if the
以下是關於UV照射部400的說明。The following is a description of the
UV照射部400可以為了固化形成在基板20的樹脂而向樹脂照射UV。The
UV照射部400可以為了向樹脂照射UV而在照射位置和非照射位置之間沿著水平方向移動。例如,UV照射部400可以移動到用於向樹脂照射UV的照射位置。在此,如圖7所示,照射位置可以意指:UV照射部400為了向樹脂照射UV而配置於模具10以及基板20的上側預定位置。另外,照射位置可以意指:第二按壓單元200朝向第一按壓單元100上升的狀態。作為另一例,UV照射部400可以移動到用於不照射UV的非照射位置。在此,如圖6所示,非照射位置可以意指:UV照射部400為了不向樹脂照射UV而從照射位置即模具10以及基板20的上側預定位置隔開來配置。另外,非照射位置可以意指從照射位置沿著水平方向隔開配置。The
UV照射部400和上拍攝部310可以在水平方向上隔開設置。另外,UV照射部400和上拍攝部310可以位於第一按壓單元100的上側。The
以下是關於驅動部500的說明。The following is a description of the
再參照圖1、圖4、圖6、圖7、圖9以及圖18,驅動部500可以使上拍攝部310在拍攝位置和非拍攝位置之間沿著水平方向移動。另外,驅動部500可以使UV照射部400在照射位置和非照射位置之間沿著水平方向移動。1, FIG. 4, FIG. 6, FIG. 7, FIG. 9 and FIG. 18, the driving
驅動部500可以包括支承體510以及支承體致動器520。The driving
支承體510可以支承上拍攝部310以及UV照射部400。另外,支承體510可以構成為若支承體510水平移動則上拍攝部310以及UV照射部400一起水平移動。The
支承體致動器520可以通過使支承體510沿著水平方向移動,使得上拍攝部310以及UV照射部400一起沿著水平方向移動。例如,支承體致動器520可以使上拍攝部310移動到拍攝位置以使上拍攝部310識別定位標記11以及定位鍵21中的一個以上。在此情況下,支承體致動器520可以使UV照射部400移動到非照射位置。作為另一例,支承體致動器520可以使UV照射部400移動到拍攝位置以使UV照射部400向樹脂照射UV。在此情況下,支承體致動器520可以使上拍攝部310移動到非拍攝位置。The
支承體致動器520可以包括滾珠螺桿馬達,支承體510可以通過滾珠螺桿馬達的驅動沿著水平方向移動。另外,上拍攝部310可以通過支承體致動器520選擇性地移動到拍攝位置或UV照射部400通過支承體致動器520選擇性地移動到照射位置。另外,支承體致動器520可以選擇性地使上拍攝部310移動到拍攝位置或使UV照射部400移動到照射位置,因此上拍攝部310和UV照射部400可以彼此無干涉地在分別配置於模具10以及基板20的上側預定位置的狀態下工作。The supporting
以下是關於控制部600的說明。The following is a description of the
控制部600可以控制第一按壓單元100、第二按壓單元200、拍攝部300、UV照射部400以及驅動部500的工作。The
控制部600可以使得第一按壓單元100以及第二按壓單元200中的任一個朝向另一個移動而控制。換句而言,控制部600可以為了使模具10和基板20彼此靠近而驅動第一按壓單元100以及第二按壓單元200中的一個以上。例如,控制部600可以為了使基板20升降而控制第二按壓單元200的升降部230。The
控制部600可以控制拍攝部300以識別定位標記11以及定位鍵21。換句而言,控制部600可以通過控制上拍攝部310以及下拍攝部320中的一個以上,來控制成識別定位標記11以及定位鍵21。例如,當光透過定位標記11和定位鍵21之間時,上拍攝部310或下拍攝部320可以識別定位標記11以及定位鍵21全部,從而控制部600控制第一按壓單元100以及第二按壓單元200。作為另一例,當光不透過定位標記11和定位鍵21之間時,可以是,上拍攝部310識別定位標記11,下拍攝部320識別定位鍵21,從而控制第一按壓單元100和第二按壓單元200。The
控制部600可以控制調位部220以調整所述基板安放部210的水平位置。另外,控制部600可以為了調整基板20的水平位置而控制第一調整部221、第二調整部222以及第三調整部223中的一個以上。The
控制部600可以控制驅動部500以使得為了將UV照射於樹脂而UV照射部400位於照射位置,控制部600可以控制驅動部500以使拍攝部300移動到非拍攝位置。另外,控制部600可以為了使拍攝部300識別定位標記11以及定位鍵21而控制驅動部500以使上拍攝部310位於拍攝位置且UV照射部400移動到非照射位置。The
另一方面,當模具10通過調位部220水平移動時,控制部600能夠控制成使得拍攝部300連續識別定位標記11以及定位鍵21。例如,當基板安放部210水平移動時,上拍攝部310固定到模具10上側而連續識別定位標記11。作為另一例,下拍攝部320可以通過固定到基板安放部210的下側而與基板安放部210一起水平移動來連續識別定位鍵21。如此,在連續識別定位標記11和定位鍵21的期間,控制部600可以控制調位部220,從而使定位標記11以及定位鍵21迅速移動到目標位置。On the other hand, when the
控制部600可以控制升降部230、拍攝部300以及調位部220,以當基板20通過升降部230上升到預定距離時,拍攝部300識別定位標記11以及定位鍵21,調位部220調整基板安放部210的水平位置。另外,控制部600可以控制調位部220、升降部230以及拍攝部300,以當基板20通過升降部230上升了大於預定距離時,拍攝部300重新識別定位標記11以及定位鍵21,調位部220重新調整基板安放部210的水平位置。The
當波紋管240處於接觸狀態時,控制部600可以為了重新調整基板安放部210的水平位置而控制調位部220。另外,控制部600可以控制調位部220,以使當比第一次調整基板安放部210的水平位置,波紋管240處於接觸狀態時,在更小的移動範圍內調整基板安放部210的水平位置。換句而言,當波紋管240處於接觸狀態時,控制部600可以控制調位部220以使基板安放部210在微小的移動範圍內移動。另外,當波紋管240處於接觸狀態時基板安放部210能夠移動的範圍是收納槽263b的預定間隙以下,因此微小的移動範圍也可以是收納槽263b的預定間隙以下。例如,微小的移動範圍可以是0.5mm以下。When the bellows 240 is in contact, the
當波紋管240處於接觸狀態時,針對控制部600重新調整基板安放部210的水平位置的效果進行說明。即使調位部220通過調整基板安放部210的水平位置使得模具10和基板20配置於目標位置,當波紋管240的一端部接觸到第一按壓單元100時,基板安放部210的位置可以以預定範圍發生變化。When the
如此,當波紋管240處於接觸狀態時,控制部600通過再一次調整基板安放部210的水平位置,具有能夠精確地調整模具10和基板20的位置的效果。In this way, when the
若按壓模具10和基板20,控制部600可以控制驅動部500以使得UV照射部400為了向樹脂照射UV,UV照射部400位於照射位置,上拍攝部310移動到非拍攝位置。另外,控制部600可以控制UV照射部400以使得為了固化基板20的樹脂而UV照射部400向樹脂照射UV。When the
以下,參照圖20,對根據本發明的一實施例的將形成有圖案以及定位標記11的模具10與形成有樹脂以及定位鍵21的基板20按壓而製造圖案基板的方法(S10)進行說明。在此,所謂“圖案基板”定義為模具10的圖案轉印在基板20的樹脂中的基板20。Hereinafter, referring to FIG. 20 , a method ( S10 ) of manufacturing a pattern substrate by pressing the
製造圖案基板的方法(S10)可以生產轉印有圖案的基板20。另外,在製造圖案基板的方法(S10)中,可以將形成有圖案以及定位標記11的模具10與形成有樹脂以及定位鍵21的基板20按壓而將圖案轉印於樹脂。The method ( S10 ) of manufacturing a pattern substrate may produce a pattern-transferred
製造圖案基板的方法(S10)可以包括夾鉗固定步驟(S100)、移動步驟(S200)、升降步驟(S300)、拍攝步驟(S400)、第一調位步驟(S500)、密閉步驟(S600)、第二調位步驟(S700)、基板按壓步驟(S800)、固化步驟(S900)、密閉解除步驟(S1000)、下降步驟(S1100)以及夾鉗解除步驟(S1200)。The method (S10) for manufacturing a pattern substrate may include a clamp fixing step (S100), a moving step (S200), a lifting step (S300), a photographing step (S400), a first position adjustment step (S500), and a sealing step (S600) , a second position adjustment step (S700), a substrate pressing step (S800), a curing step (S900), a sealing releasing step (S1000), a lowering step (S1100), and a clamp releasing step (S1200).
在夾鉗固定步驟(S100)中,可以通過夾鉗112將模具夾具111固定於第一按壓單元100側。另外,在夾鉗112中可以固定支承模具夾具111,在模具夾具111中可以安放模具10。另外,夾鉗固定步驟(S100)可以在拍攝步驟(S400)之前執行。In the clamp fixing step ( S100 ), the
在移動步驟(S200)中,可以使模具10和上拍攝部310沿著水平方向移動。In the moving step ( S200 ), the
移動步驟(S200)可以包括模具水平移動步驟(S210)以及拍攝部移動步驟(S220)。The moving step (S200) may include a mold horizontal moving step (S210) and a photographing part moving step (S220).
在模具水平移動步驟(S210)中,可以使得用於支承模具10的模具支承件110的中心位置沿著水平方向移動。換句而言,在模具水平移動步驟(S210)中,可以通過使模具支承件110沿著水平方向移動,移動模具10以將模具10配置於基板20的上側預定位置。另外,模具水平移動步驟(S210)可以在拍攝步驟(S400)之前執行。In the mold horizontal moving step ( S210 ), the center position of the
在拍攝部移動步驟(S220)中,可以使上拍攝部310移動到用於識別定位標記11以及定位鍵21的拍攝位置。另外,在拍攝部移動步驟(S220)中,可以通過驅動部500使上拍攝部310沿著水平方向移動。另外,拍攝部移動步驟(S220)可以在拍攝步驟(S400)之前執行,可以與模具水平移動步驟(S210)同時或者單獨執行。In the photographing unit moving step ( S220 ), the upper photographing
在升降步驟(S300)中,可以通過升降部230使調位部220上升,使基板20朝向第一按壓單元100靠近。In the lifting step ( S300 ), the
在拍攝步驟(S400)中,拍攝部300可以拍攝在模具10形成的定位標記11以及在基板20形成的定位鍵21。另外,在拍攝步驟(S400)中,拍攝部300可以識別定位標記11以及定位鍵21,控制部600可以通過由拍攝部300拍攝的圖像來判斷模具10以及基板20是否位於目標位置。In the photographing step ( S400 ), the photographing
在第一調位步驟(S500)中,調位部220可以調整基板20的水平位置。另外,在第一調位步驟(S500)中,可以基於在拍攝步驟(S400)中識別到的定位標記11以及定位鍵21的位置,控制部600調整基板20的水平位置以使定位標記11位於定位鍵21之間。In the first position adjustment step ( S500 ), the
拍攝步驟(S400)以及第一調位步驟(S500)可以當在升降步驟(S300)中基板20上升了預定距離時執行。另外,拍攝步驟(S400)以及第一調位步驟(S500)可以當通過升降步驟(S300)而基板20上升了大於預定距離時再次執行。The photographing step ( S400 ) and the first positioning step ( S500 ) may be performed when the
在密閉步驟(S600)中,可以通過波紋管240將基板20的周圍的空間相對於外部密閉,並可以通過第二排氣部250將在基板20的周圍的空間殘留的氣體排出到外部。另外,在密閉步驟(S600)中,波紋管240可以提供通過波紋管移動部260伸長而接觸到模具夾具111的接觸狀態。另外,可以通過密閉部130將UV透過窗120的周圍的空間相對於外部密閉,並可以通過第一排氣部140將在UV透過窗120的周圍的空間殘留的氣體排出到外部。另外,密閉步驟(S600)可以在第一調位步驟(S500)之後以及第二調位步驟(S700)之前執行。In the sealing step ( S600 ), the space around the
在第二調位步驟(S700)中,在密閉步驟(S600)之後,調位部220可以重新調整基板20的水平位置。基板20通過第二調位步驟(S700)移動的水平移動距離可以是軸261a和圍繞其的收納槽263b之間的預定間隙以下。另外,基板20通過第二調位步驟(S700)移動的水平移動距離可以小於基板20通過第一調位步驟(S500)移動的水平移動距離。In the second positioning step ( S700 ), after the sealing step ( S600 ), the
第二調位步驟(S700)可以在基板按壓步驟(S800)之前多次執行,拍攝步驟(S400)可以每次執行第二調位步驟(S700)時執行。另外,調位部220可以通過第二調位步驟(S700)調整基板20的水平位置,波紋管240能夠在接觸狀態下彈性變形。The second positioning step ( S700 ) may be performed multiple times before the substrate pressing step ( S800 ), and the photographing step ( S400 ) may be performed each time the second positioning step ( S700 ) is performed. In addition, the
在基板按壓步驟(S800)中,可以通過升降部230使調位部220上升,將模具10與基板20按壓。此時,在模具10形成的圖案可以轉印於在基板20形成的樹脂。In the substrate pressing step ( S800 ), the
在固化步驟(S900)中,可以通過UV照射部400向基板20的樹脂照射UV,使樹脂固化。In the curing step ( S900 ), the resin of the
固化步驟(S900)可以包括UV照射部移動步驟(S910)以及UV照射步驟(S920)。The curing step ( S900 ) may include a UV irradiation part moving step ( S910 ) and a UV irradiation step ( S920 ).
在UV照射部移動步驟(S910)中,可以使UV照射部400移動到用於向樹脂照射UV的照射位置。另外,UV照射部移動步驟(S910)可以在基板按壓步驟(S800)之後執行。In the UV irradiation unit moving step ( S910 ), the
在UV照射步驟(S920)中,UV照射部400可以向樹脂照射UV。如此,在UV照射步驟(S920)中,可以通過向樹脂照射UV,使樹脂固化。In the UV irradiation step ( S920 ), the
在密閉解除步驟(S1000)中,可以使氣體流入基板20的周圍的空間,使基板20的周圍的空間向外部開放。另外,通過密閉解除步驟(S1000)波紋管240可以收縮。另外,可以使氣體流入UV透過窗120周圍的空間。另外,密閉解除步驟(S1000)可以在基板按壓步驟(S800)之後執行。In the sealing release step ( S1000 ), gas may flow into the space around the
在下降步驟(S1100)中,可以使得調位部220通過升降部230下降,使調位部220與第一按壓單元100隔開。In the descending step ( S1100 ), the
在夾鉗解除步驟(S1200)中,可以將夾鉗112從第一按壓單元100側解除固定。可以是,在夾鉗112中固定支承有模具夾具111,在模具夾具111中安放有模具10。In the clamp release step ( S1200 ), the
另一方面,在下降步驟(S1100)中,可以將基板20從模具10分離或不分離。例如,基板20可以與調位部220一起下降而將基板20從模具10分離。作為另一例,在將基板20與模具10按壓的狀態下,調位部220下降,在能夠對準圖案的轉印裝置1中,可以通過移送到另外分離裝置來執行使基板20從模具10的分離。此時,在夾鉗解除步驟(S1200)的模具夾具111中可以安放有模具10以及被模具10按壓的基板20。On the other hand, in the descending step ( S1100 ), the
另一方面,根據本發明的一實施例的製造圖案基板的方法(S10)可以以執行其的電腦程式形式實現而儲存在電腦可讀取的記錄介質中。電腦可讀取的記錄介質可以單獨或者組合包括程式命令、資料檔案、資料結構等。記錄在電腦可讀取的記錄介質中的程式命令可以是為了實施例而特意設計並構成的,或者是電腦軟體技術人員公知並可使用的。電腦可讀取的記錄介質的例子包括硬碟、軟碟以及磁帶之類磁性介質(magnetic media),CD-ROM、DVD之類光記錄介質(optical media),光磁軟碟(floptical disk)之類磁光介質(magneto-optical media),以及唯讀記憶體(ROM)、隨機存取記憶體(RAM)、快閃記憶體記憶體等之類特意構成為儲存程式命令並執行的硬體裝置。On the other hand, the method ( S10 ) for manufacturing a pattern substrate according to an embodiment of the present invention may be implemented in the form of a computer program executing the method and stored in a computer-readable recording medium. The computer-readable recording medium may include program commands, data files, data structures, etc. alone or in combination. The program commands recorded in the computer-readable recording medium may be specially designed and constructed for the embodiment, or known and usable by computer software technicians. Examples of computer-readable recording media include magnetic media such as hard disks, floppy disks, and magnetic tapes, optical media such as CD-ROMs and DVDs, and optical media such as floptical disks. Magneto-optical media (magneto-optical media), read-only memory (ROM), random access memory (RAM), flash memory, etc. are specially configured to store program commands and execute hardware devices .
例如,儲存在電腦可讀取的記錄介質中的電腦程式可以是程式設計為執行儲存步驟、運算步驟以及輸出步驟。For example, a computer program stored in a computer-readable recording medium may be programmed to execute the storing step, calculating step, and outputting step.
在儲存步驟中,由拍攝部300拍攝的定位標記11以及定位鍵21的圖像資訊可以儲存於電腦可讀取的記錄介質。In the storing step, the image information of the
在運算步驟中,可以基於儲存在電腦可讀取的記錄介質中的圖像資訊,運算定位標記11以及定位鍵21的位置資訊。例如,運算的位置資訊可以是與定位標記11和定位鍵21之間的目標位置有關的誤差值。In the calculation step, the position information of the
在輸出步驟中,可以基於運算出的位置資訊,輸出調整模具10或者基板20的位置的動作命令。另外,可以基於在輸出動作命令之前運算出的位置資訊預先判斷模具10和基板20是否位於目標位置,並可以基於判斷出的資訊確定是否輸出調整模具10或者基板20的位置的動作命令。在此,是否位於目標位置的判斷可以通過各種方式判斷。In the output step, an operation command for adjusting the position of the
另一方面,運算步驟可以運算出從下拍攝部320所拍攝的定位鍵21的圖像資訊中運算出的定位鍵21的位置移動到從上拍攝部310所拍攝的定位標記11的圖像資訊中運算出的定位標記11的位置的路徑值,輸出步驟可以將下拍攝部320所拍攝的定位鍵21的圖像資訊的中央位置,基於運算出的路徑值來輸出調整位置的動作命令。換句而言,下拍攝部320固定到基板安放部210下側而與基板安放部210一起水平移動,圖像資訊的中央位置和定位標記11的相對位置即使基板安放部210水平移動也不會發生變化。這樣的定位標記11的圖像資訊的中央位置可以是圖2所示的模具10的中央位置。另外,定位鍵21的圖像資訊的中央位置可以是圖3所示的基板20的中央位置。On the other hand, the calculation step can calculate the position of the positioning key 21 calculated from the image information of the positioning key 21 captured by the
以上,將本發明的實施例以具體實施方式進行了說明,但其只是例示,本發明不限於此,應解釋為具有基於本說明書中公開的技術構思的最廣的範圍。本領域中具有通常知識者可以將公開的實施方式進行組合/替換來實施未提出的形狀的圖案,但其仍不超出本發明的範圍。除此之外,本領域中具有通常知識者可以基於本說明書對公開的實施方式容易地進行變更或者變形,這種變更或者變形也顯而易見地屬於本發明的權利範圍。As mentioned above, although the Example of this invention was demonstrated as concrete implementation, it is only an illustration, and this invention is not limited to this, It should interpret as having the widest range based on the technical idea disclosed in this specification. Combinations/substitutions of the disclosed embodiments may be made by those skilled in the art to implement patterns of shapes not proposed, without departing from the scope of the present invention. In addition, those skilled in the art can easily make changes or modifications to the disclosed embodiments based on this specification, and such changes or modifications also obviously belong to the right scope of the present invention.
1:能夠對準圖案的轉印裝置 10:模具 11:定位標記 11a:第一定位標記 11b:第二定位標記 20:基板 21:定位鍵 21a:第一定位鍵 21b:第二定位鍵 100:第一按壓單元 110:模具支承件 111:模具夾具 111a:夾具密閉部件 112:夾鉗 112a:滑動部件 112b:夾鉗本體 113:夾鉗移動器 114:移動器支承件 120:UV透過窗 130:密閉部 140:第一排氣部 150:密閉部密封部件 200:第二按壓單元 210:基板安放部 210a:拍攝路徑 210a-1:第一路徑部 210a-2:第二路徑部 211:安放部本體 211a:上安放部 211b:下安放部 213:遮擋窗 213a:第一遮擋窗 213b:第二遮擋窗 214:遮擋部件 214a:第一遮擋部件 214b:第二遮擋部件 220:調位部 221:第一調整部 222:第二調整部 223:第三調整部 230:升降部 240:波紋管 241:波紋管密封部件 250:第二排氣部 260:波紋管移動部 261:升降氣缸 261a:軸 261b:氣缸致動器 262:塊 263:波紋管連接部 263a:安放槽 263b:收納槽 280:拍攝引導部 290:反射部 300:拍攝部 310:上拍攝部 320:下拍攝部 400:UV照射部 500:驅動部 510:支承體 520:支承體致動器 600:控制部 S:隔開空間 S10:製造圖案基板的方法 S100~S1200:步驟 1: Transfer printing device capable of aligning patterns 10: Mold 11: positioning mark 11a: First positioning mark 11b: Second positioning mark 20: Substrate 21: positioning key 21a: The first positioning key 21b: Second positioning key 100: the first pressing unit 110: Mold support 111: Die fixture 111a: clamp sealing part 112: Clamp 112a: sliding part 112b: clamp body 113: clamp mover 114: Mover support 120:UV through the window 130: Sealed part 140: The first exhaust part 150: sealing part sealing part 200: the second pressing unit 210: Substrate placement department 210a: Shooting path 210a-1: First Path Division 210a-2: Second Path Division 211: Place the body of the department 211a: upper installation part 211b: lower installation part 213: block window 213a: The first blocking window 213b: Second blocking window 214: Block parts 214a: the first shielding component 214b: the second shielding component 220: Position adjustment department 221: First Adjustment Department 222: Second Adjustment Department 223: The third adjustment department 230: Lifting Department 240: Bellows 241: Bellows sealing parts 250: Second exhaust part 260: bellows moving part 261:Lift cylinder 261a: Shaft 261b: Cylinder Actuator 262: block 263: Bellows connection 263a: placement slot 263b: storage slot 280: Shooting Guidance Department 290: Reflection Department 300: Photography Department 310: On the shooting department 320: Lower shooting department 400:UV irradiation department 500: drive unit 510: support body 520: Support body actuator 600: control department S: separated space S10: the method for manufacturing pattern substrate S100~S1200: Steps
圖1是根據本發明的一實施例的能夠對準圖案的轉印裝置的立體圖。 圖2是圖1的模具的平面圖。 圖3是圖1的基板的仰視圖。 圖4是沿著圖1的A-A'截取的截面圖。 圖5是當第二按壓單元沿著上側方向移動時沿圖1的A-A'截取的截面圖。 圖6是沿著圖1的B-B'截取的截面圖。 圖7是當圖1的拍攝部移動到非拍攝位置時沿B-B'截取的截面圖。 圖8是圖6的B的放大圖。 圖9是圖1的側面圖。 圖10是分解圖1的模具支承件的分解立體圖。 圖11是示出夾鉗沿著下側移動而插入模具夾具的立體圖。 圖12是示出模具夾具移動到夾鉗和密閉部之間的空間而安放於夾鉗的狀態的立體圖。 圖13是圖9的D的放大圖,示出模具夾具移動到夾鉗與密閉部之間的空間而安放於夾鉗的狀態的立體圖。 圖14是示出模具夾具介於夾鉗和密閉部之間以使模具夾具接觸到密閉部的主視圖。 圖15是圖4的C的放大圖。 圖16是圖9的E的放大圖。 圖17是沿圖16的X-X'截取的截面圖。 圖18是圖1的分解立體圖。 圖19是圖1的底面分解立體圖。 圖20是概要示出根據本發明的一實施例的製造圖案基板的方法的流程圖。 FIG. 1 is a perspective view of a transfer device capable of aligning patterns according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the mold of FIG. 1 . FIG. 3 is a bottom view of the substrate of FIG. 1 . FIG. 4 is a cross-sectional view taken along AA' of FIG. 1 . 5 is a cross-sectional view taken along AA' of FIG. 1 when the second pressing unit moves in an upper direction. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along BB' of FIG. 1 . FIG. 7 is a cross-sectional view taken along BB' when the photographing part of FIG. 1 is moved to a non-photographing position. FIG. 8 is an enlarged view of B in FIG. 6 . Fig. 9 is a side view of Fig. 1 . FIG. 10 is an exploded perspective view of the mold support of FIG. 1 . Fig. 11 is a perspective view showing the jaws moving along the underside to be inserted into the mold jig. Fig. 12 is a perspective view showing a state in which the mold jig is moved to the space between the tongs and the sealing part and set in the tongs. FIG. 13 is an enlarged view of D in FIG. 9 , and is a perspective view showing a state where the mold jig is moved to the space between the clamp and the sealing portion and placed in the clamp. Fig. 14 is a front view showing the mold jig interposed between the clamp and the sealing part so that the mold jig comes into contact with the sealing part. FIG. 15 is an enlarged view of C in FIG. 4 . FIG. 16 is an enlarged view of E in FIG. 9 . FIG. 17 is a cross-sectional view taken along XX' of FIG. 16 . Fig. 18 is an exploded perspective view of Fig. 1 . FIG. 19 is an exploded perspective view of the bottom surface of FIG. 1 . FIG. 20 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a pattern substrate according to an embodiment of the present invention.
100:第一按壓單元 100: the first pressing unit
120:UV透過窗 120:UV through the window
200:第二按壓單元 200: the second pressing unit
221:第一調整部 221: First Adjustment Department
222:第二調整部 222: Second Adjustment Department
223:第三調整部 223: The third adjustment department
230:升降部 230: Lifting Department
300:拍攝部 300: Photography department
400:UV照射部 400:UV irradiation department
500:驅動部 500: drive unit
600:控制部 600: control department
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