TW202248681A - 偏光板 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種耐損傷性優異，並且在加熱耐久試驗後，即使於常溫常濕環境下長期間保管，相位差膜中之龜裂的產生亦受到抑制之偏光板。偏光板係具備：於聚乙烯醇系樹脂膜中吸附配向有雙色性色素之偏光膜、於基材膜上設置有硬塗層之保護膜、以及於溫度23℃時之拉伸彈性模數為3000MPa以下之相位差膜。於偏光膜的第1面側積層有2層以上的保護膜。於偏光膜之與第1面側為相反的一側之第2面側積層有相位差膜。

Description

偏光板
本發明係有關於偏光板，並且有關於具備偏光板之顯示裝置。
液晶顯示裝置(LCD：Liquid Crystal Display)不僅是液晶電視，亦被廣泛地使用在個人電腦、行動電話等可攜式用途、車用導航等車載用途等。通常，液晶顯示裝置係於液晶單元的兩側具有以黏著劑(Pressure-sensitive Adhesive)貼合了偏光板之液晶面板構件，並藉由液晶面板構件來控制來自背光構件的光而進行顯示。此外，有機EL顯示裝置近年來亦與液晶顯示裝置相同，開始被廣泛地使用在電視、行動電話等可攜式用途、車用導航等車載用途等。於液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置中，為了賦予視角的擴大或外部光的抗反射等功能，有時會使用相位差膜。
偏光板之作為構成液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置之光學元件而被裝載於車內之機會正逐漸在增加。使用在車載用的顯示裝置之偏光板與使用在電視及行動電話等可攜式用途之偏光板相比，暴露在高溫環境下之情況較多，因而要求更高溫下的特性變化小者(高溫耐久性)。
於車載用顯示裝置被使用在車用導航等之情形時，需具備觸控面板功能。近年來，使用外嵌式(On-Cell)及內嵌式(In-Cell)的顯示裝置作為具有觸 控面板功能之顯示裝置之情形係逐漸增加。於此等類型的顯示裝置中，由於在觀看側的最表面上配置有偏光板，所以除了高溫耐久性之外，亦要求抗損傷功能(耐損傷性)。
於專利文獻1中，係記載一種為了擴大視角而包含由環狀烯烴系樹脂膜所構成之相位差膜之偏光板。此外，於專利文獻2中，係記載一種可使用採用了環狀烯烴系樹脂之膜，作為發揮構成偏光板之λ/4板的功能之相位差膜的內容。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特許第5383594號公報
[專利文獻2]日本特開2014-194483號公報
如由上述環狀烯烴系樹脂膜所構成之相位差膜般，於組裝於偏光板之相位差膜中，即使在加熱耐久試驗後未確認到龜裂(裂開)，之後進一步於常溫常濕環境下長期間保管時，有時亦會確認到龜裂。
本發明之目的在於提供一種耐損傷性優異，並且在加熱耐久試驗後，即使於常溫常濕環境下長期間保管，相位差膜中之龜裂的產生亦受到抑制之偏光板。
本發明係提供下列偏光板。
[1]一種偏光板，係具備：
於聚乙烯醇系樹脂膜中吸附配向有雙色性色素之偏光膜、
於基材膜上設置有硬塗層之保護膜、以及
於溫度23℃時之拉伸彈性模數為3000MPa以下之相位差膜；
於前述偏光膜的第1面側積層有2層以上的前述保護膜，
於前述偏光膜之與前述第1面側為相反的一側之第2面側積層有前述相位差膜。
[2]如[1]所述之偏光板，其中於積層於前述第1面側之2層以上的前述保護膜中，至少一層保護膜於溫度40℃、相對濕度90%時之透濕度為200g/m2．day以上。
[3]如[1]或[2]所述之偏光板，其中於積層於前述第1面側之2層以上的前述保護膜中，積層於最接近前述偏光膜側之保護膜於溫度40℃、相對濕度90%時之透濕度為200g/m2．day以上。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光板，其中於積層於前述第1面側之2層以上的前述保護膜中，至少一層保護膜的前述基材膜為纖維素系樹脂膜。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之偏光板，其中前述相位差膜為環狀烯烴系樹脂膜。
[6]如[1]至[5]中任一項所述之偏光板，其中前述相位差膜於波長550nm時之面內相位差值為80nm以上。
[7]如[1]至[6]中任一項所述之偏光板，其中於前述相位差膜之與前述偏光膜側為相反的一側更具有黏著劑層。
[8]一種顯示裝置，係具有如[7]所述之偏光板以及顯示元件，
其中，前述偏光板係隔著前述黏著劑層而積層於顯示元件。
根據本發明，可提供一種耐損傷性優異，並且在加熱耐久試驗後，即使於常溫常濕環境下長期間保管，相位差膜中之龜裂的產生亦受到抑制之偏光板。
1:偏光板
11:偏光膜
11a:第1面
11b:第2面
12,13:保護膜
21:相位差膜
31至33:貼合層
35:黏著劑層
圖1為顯示有關本發明的一實施型態之偏光板之概略剖面圖。
以下係參照圖面來說明偏光板及顯示裝置的較佳實施型態。
(偏光板)
圖1為顯示有關本發明的一實施型態之偏光板之概略剖面圖。偏光板1係具備：於聚乙烯醇系樹脂膜(以下有時稱為「PVA系樹脂膜」)中吸附配向有雙色性色素之偏光膜11，於基材膜上設置有硬塗層(以下有時稱為「HC層」)之保護膜12、13，以及於溫度23℃時之拉伸彈性模數為3000MPa以下之相位差膜21。如圖1所示，於偏光板1中，於偏光膜11的第1面11a側積層有2層以上的保護膜12、13，於偏光膜11之與第1面11a側為相反的一側之第2面11b側，積層有相位差膜21。
如上述般，偏光板1係於偏光膜11的第1面11a側積層有2層以上之含有HC層之保護膜12、13。藉此可提升偏光板1的保護膜12、13側之表面的鉛筆硬度，所以可對偏光板1賦予優異的耐損傷性。
偏光板1在進行以溫度105℃保持500小時之加熱耐久試驗後，即使於溫度23℃、相對濕度55%的常溫常濕環境下保持約1個月，亦可抑制於相位差膜21中產生龜裂(裂開)之情況。此理由係推測如下。於加熱耐久試驗後冷卻偏光板1並在常溫常濕環境下保持時，大氣中的水分(水蒸氣)容易進入於偏光板內。進入於偏光板之水分係成為引起包含PVA系樹脂膜之偏光膜的尺寸變化之原因。當伴隨著偏光膜的尺寸變化所產生之力作用於相位差膜時，有時會於相位差膜中產生龜裂(裂開)。另一方面，由於偏光板1在偏光膜11的第1面11a側積層有2層以上的保護膜12、13，所以可降低水分往偏光板1內之進入量，且可進一步抑制偏光膜11的尺寸變化。因此推測為可降低作用於在偏光膜11的第2面11b側所設置之相位差膜21之力，而抑制於相位差膜21中產生龜裂之情況。
如圖1所示，構成偏光板1之各膜可隔著貼合層31至33來積層。貼合層31至33為使用接著劑或黏著劑之層。用以貼合保護膜12與保護膜13之貼合層31較佳為使用黏著劑之層。用以貼合保護膜13與偏光膜11之貼合層32以及用以貼合偏光膜11與相位差膜21之貼合層33較佳皆為使用接著劑之層。
偏光板1可更具有：抗靜電層、另與相位差膜21不同之其他相位差層、另與保護膜12、13不同之用以保護偏光膜11的表面之其他保護層等功能層。
偏光板1可使用作為構成顯示裝置之光學元件。因此，偏光板1亦可具有用以將偏光板1貼合於顯示裝置的顯示元件等之黏著劑層35(圖1)。偏光板1可更具有：被覆並保護黏著劑層35，且可從黏著劑層35剝離之剝離膜。
(顯示裝置)
顯示裝置可包含：偏光板1，以及液晶單元或有機電致發光(EL)元件等顯示元件。於顯示裝置中，偏光板1係可以偏光膜11的第2面11b側成為顯示元件側之方式來配置。偏光板1可隔著圖1所示之黏著劑層35而積層於顯示元件，在不具有黏著劑層35之情形時，只需隔著黏著劑或接著劑來積層於顯示元件即可。顯示裝置可列舉液晶顯示裝置、有機EL裝置等。
以下係詳細地說明構成偏光板1之膜及層。
(偏光膜)
偏光膜11為具有下列性質之吸收型的偏光膜：吸收具有平行於該吸收軸之振動面的直線偏光，並且讓具有正交於吸收軸(與穿透軸平行)之振動面的直線偏光穿透。偏光膜11係適合使用將雙色性色素吸附配向於經單軸拉伸之PVA系樹脂膜的膜。
偏光膜11的厚度通常為50μm以下，較佳為5μm以上30μm以下，尤佳為5μm以上25μm以下，更佳為5μm以上20μm以下。藉由將偏光膜11的厚度設成為此等範圍，可防止偏光膜11於製造時之斷裂或裂開等並維持處理性，並且可同時達成高光學特性。藉由將偏光膜的厚度設成為20μm以下，可進一步抑制處在高溫環境下時之觀看性的降低。
偏光膜11可藉由包含例如下列工序之方法來製造：拉伸PVA系樹脂膜之工序；以雙色性色素來染色PVA系樹脂膜而藉此使雙色性色素吸附之工序；以硼酸水溶液等交聯液來處理吸附有雙色性色素之PVA系樹脂膜之工序；以及在以交聯液進行處理之工序後進行水洗之工序。
PVA系樹脂膜可使用聚乙烯醇系樹脂(以下有時稱為「PVA系樹脂」)經製膜者。PVA系樹脂可列舉聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化者。聚乙酸乙烯 酯系樹脂除了作為乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，可列舉乙酸乙烯酯及可與其共聚合之其他單體之共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體可列舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、以及具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。於本說明書中所謂「(甲基)丙烯酸」，意指選自丙烯酸及甲基丙烯酸之至少一者。「(甲基)丙烯醯基」、「(甲基)丙烯酸酯」等亦同。
PVA系樹脂的皂化度通常為85mol%以上100mol%以下，較佳為98mol%以上。PVA系樹脂可經改質，例如亦可使用經醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。PVA系樹脂的平均聚合度通常為1000以上10000以下，較佳為1500以上5000以下。PVA系樹脂的平均聚合度可依據JIS K 6726來求取。
將PVA系樹脂製膜之方法並無特別限定，可採用一般所知的方法。於製造偏光膜時使用在胚材膜之PVA系樹脂膜的厚度並無特別限制。例如為了將偏光膜的厚度形成為25μm以下，作為胚材膜之PVA系樹脂膜的厚度較佳為40μm以上75μm以下，尤佳為45μm以下。
PVA系樹脂膜的拉伸較佳為單軸拉伸。單軸拉伸可在雙色性色素的染色前、與染色同時或是染色後進行。於染色後進行單軸拉伸之情形時，此單軸拉伸可在交聯處理前或交聯處理中進行。此外，亦可於此等複數個階段中進行單軸拉伸。於單軸拉伸時，可在周速不同的輥間進行單軸拉伸或是使用熱輥來進行單軸拉伸。單軸拉伸可為在大氣中進行拉伸之乾式拉伸，亦可為在使用溶劑或水以使PVA系樹脂膜膨潤之狀態下進行拉伸之濕式拉伸。拉伸倍率通常為3至8倍。
以雙色性色素來染色PVA系樹脂膜之方法，可採用例如將PVA系樹脂膜浸漬在含有雙色性色素之水溶液之方法。雙色性色素係使用碘或雙色性有機染料。PVA系樹脂膜較佳係在染色處理前，預先施以浸漬在水之處理。
由雙色性色素所進行之染色之後的交聯處理，通常係採用將染色後之PVA系樹脂膜浸漬在含硼酸水溶液之方法。在使用碘作為雙色性色素之情形時，此含硼酸水溶液較佳係含有碘化鉀。
(保護膜)
保護膜12、13具有基材膜以及HC層。保護膜12、13較佳係以直接接觸於基材膜之方式形成有HC層。
HC層較佳係設置在基材膜的單面，惟亦可設置在雙面。
積層於偏光膜11的第1面11a側之保護膜12、13(以下有時將積層於第1面11a側之2層以上的保護膜總稱為「保護膜群」)較佳為5層以下，尤佳為3層以下，最佳為2層。於保護膜群包含6層以上的保護膜時，會變得難以調整偏光板1的捲曲(翹曲)。如圖1所示，構成保護膜群之保護膜12、13較佳係隔著貼合層31來積層，上述貼合層31的雙面尤佳係直接接觸於構成保護膜群之保護膜12、13。構成保護膜群之保護膜12、13於偏光板1中，較佳皆為基材膜配置在偏光膜11側，HC層配置在偏光板1的表面側(與偏光膜11側為相反的一側)者。
保護膜的厚度並無特別限定，通常為1μm以上100μm以下，從強度或處理性之觀點來看，較佳為5μm以上60μm以下，尤佳為10μm以上55μm以下，更佳為15μm以上50μm以下。
構成保護膜群之保護膜12、13中，該基材膜及HC層之材料及厚度中的一方或兩者可為相同，基材膜及HC層之材料及厚度中的兩者亦可互為不同。
保護膜群中的至少一層保護膜於溫度40℃、相對濕度90%時之透濕度較佳為200g/m2．day以上，尤佳為300g/m2．day以上，上限值通常為5000g/m2．day以下，較佳為2000g/m2．day以下，尤佳為1000g/m2．day以下。於偏光板1中，只要保護膜群中之1層以上的保護膜具有上述範圍的透濕度即可。藉由將保護膜的透濕度設成為上述範圍，可藉由後述加熱耐久試驗來抑制偏光膜11進行多烯化而著色之情況。
保護膜群中積層於最接近偏光膜側之保護膜12較佳係具有上述範圍的透濕度。於製造偏光板1之情形時，如後述般在使用水系接著劑等貼合劑(接著劑或黏著劑)將保護膜12貼合於偏光膜11後，有時會藉由乾燥處理來形成貼合層32，接著貼合保護膜13。在此情形時，藉由將保護膜群中積層於最接近偏光膜11側之保護膜12的透濕度設成為上述範圍，容易藉由乾燥處理來去除貼合劑所含有之水分。
保護膜群中積層於最接近偏光膜11側之保護膜12若具有上述範圍的透濕度，則保護膜群所包含之保護膜12以外之其他保護膜13的透濕度就無特別限定。其他保護膜13的透濕度亦可小於保護膜12的透濕度。其他保護膜13於溫度40℃、相對濕度90%時之透濕度並無特別限定，較佳為1000g/m2．day以下，尤佳為500g/m2．day以下。該保護膜13的上述透濕度較佳係超過20g/m2．day，尤佳為30g/m2．day以上。藉由將其他保護膜13之透濕度的上限值設成為上述範圍，可抑制水分往加熱耐久試驗後的偏光板1之進入速度。其結果容易確 保用於偏光膜11的應力緩和之時間，而能夠抑制於相位差膜21中產生龜裂之情況。藉由將其他保護膜13之透濕度的下限值設成為上述範圍，可藉由加熱耐久試驗來抑制偏光膜11進行多烯化而著色之情況。保護膜12、13的透濕度可藉由後述實施例所記載之方法來測定。
上述中，係已說明保護膜12的上述透濕度為200g/m2．day以上，其他保護膜13的上述透濕度為1000g/m2．day以下之情形，惟在將此透濕度的關係構成為相反時，亦可藉由加熱耐久試驗來抑制偏光膜11進行多烯化而著色之情況。
構成保護膜12、13之基材膜並無特別限定，較佳是由透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮蔽性等優異之樹脂材料所構成。此樹脂材料可列舉例如由(甲基)丙烯酸甲酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、環狀烯烴系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯腈/丁二烯/苯乙烯系樹脂、丙烯腈/苯乙烯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、改質聚苯醚系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂及聚醯亞胺系樹脂等所構成之1種或2種以上。此等樹脂可在進行任意適當的聚合物改質後使用。聚合物改質可列舉例如共聚合、交聯、分子末端改質、立體規則性控制、以及包含伴隨著不同種類聚合物彼此的反應之情形之混合等改質。
保護膜群中之至少一層保護膜的基材膜，較佳為使用纖維素系樹脂作為樹脂材料所形成之纖維素系樹脂膜。構成保護膜群之所有保護膜的基材膜尤佳為纖維素系樹脂膜。
纖維素系樹脂可為纖維素的羥基中之氫原子的一部分或全部經乙醯基、丙醯基及/或丁醯基所取代之纖維素的有機酸酯或混合有機酸酯。可列舉例如由纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、彼等的混合酯等所構成者。當中較佳為三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、纖維素乙酸丙酸酯、纖維素乙酸丁酸酯等。
於構成基材膜之樹脂材料中，在不損及透明性之範圍內，可調配適當的添加劑。添加物可列舉例如：抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、平滑劑、造核劑、防霧劑、抗結塊劑、相位差降低劑、穩定劑、加工輔助劑、塑化劑、耐衝撃輔助劑、消光劑、抗菌劑、防霉劑等。此等添加劑可使用1種以上，亦可併用複數種。
基材膜的厚度並無特別限定，可設成為例如1μm以上，亦可為3μm以上、可為10μm以上、亦可為30μm以上，此外，通常為90μm以下，可為70μm以下、可為60μm以下、亦可為50μm以下。基材膜通常為1層構造，惟亦可具有2層以上的多層構造。
構成保護膜12、13之HC層並無特別限定，較佳為形成於基材膜上之紫外線硬化型樹脂的硬化物層。紫外線硬化型樹脂可列舉例如：(甲基)丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提升表面硬度，HC層可含有添加物。添加物並無特別限定，可列舉例如無機系微粒子、有機系微粒子或此等之混合物。
HC層的厚度較佳為10μm以下，尤佳為8μm以下，通常為0.1μm以上，亦可為1μm以上或是4μm以上。HC層的厚度超過10μm時，保護膜12、13的捲曲(翹曲)變大，變得難以調整偏光板1的捲曲。
保護膜12、13在藉由以JIS K 5600-5-4：1999「塗料一般試驗方法-第5部：塗膜的機械性質-第4節：刮痕硬度(鉛筆法)」所規定之鉛筆硬度試驗(將形成有HC層之基材膜放置在玻璃板上並對HC層側進行測定之情形時)來進行測試時，較佳為H以上，尤佳為2H以上，亦可為3H以上或是4H以上。
HC層例如可藉由將含有紫外線硬化型樹脂以及視需要之添加物等之HC層的形成用組成物(以下有時稱為「HC層形成用組成物」)塗佈於基材膜上，並藉由紫外線照射將此進行硬化而形成。
(相位差膜)
相位差膜21為具有相位差之膜，通常是將樹脂膜進行拉伸後之拉伸膜。相位差膜21較佳係具有單層構造。相位差膜21於溫度23℃時之拉伸彈性模數為3000MPa以下，亦可為2800MPa以下，通常為1000MPa以上，亦可為2000MPa以上。拉伸彈性模數可藉由後述實施例所記載之方法來測定。
具有上述拉伸彈性模數之相位差膜21可列舉例如使用烯烴系樹脂所形成之烯烴系樹脂膜。烯烴系樹脂可列舉：主要地含有從乙烯及丙烯等鏈狀脂肪族烯烴、或是降莰烯(Norbornene)或其取代物(以下有時將此等總稱為「降莰烯系單體」)等脂環式烯烴所衍生之構成單元之樹脂。所謂主要地含有構成單元，意指以樹脂所含有之構成單元的物質量基準計之比率為50%以上者。烯烴系樹脂亦可為使用2種以上的單體之共聚物。
相位差膜21較佳為由主要地含有從脂環式烯烴所衍生之構成單元之樹脂的環狀烯烴系樹脂所形成之環狀烯烴系樹脂膜。構成環狀烯烴系樹脂之脂環式烯烴的典型例可列舉降莰烯系單體等。所謂降莰烯，為降莰烷(Norbornane)的1個碳-碳鍵成為雙鍵之化合物，根據IUPAC命名法，係被命名 為雙環[2,2,1]庚-2-烯者。降莰烯之取代物的例子在以降莰烯的雙鍵位置為1,2-位時，可列舉3-取代物、4-取代物及4,5-二取代物等，且更可列舉二環戊二烯或二甲醇八氫萘等。
環狀烯烴系樹脂可於該構成單元中具有或不具有降莰烷環。形成於構成單元中不具有降莰烷環之環狀烯烴系樹脂之降莰烯系單體，例如為藉由開環而成為5員環者，具代表性者可列舉降莰烯、二環戊二烯、1-或4-甲基降莰烯以及4-苯基降莰烯等。於環狀烯烴系樹脂為共聚物之情形時，該分子的排列配置狀態並無特別限定，可為無規共聚物、嵌段共聚物或是接枝共聚物。
環狀烯烴系樹脂之更具體的例子可列舉例如：降莰烯系單體的開環聚合物、降莰烯系單體與其他單體之開環共聚物、對彼等進行順丁烯二酸加成或環戊二烯加成等之聚合物改質物、以及此等經氫化之聚合物或共聚物；降莰烯系單體的加成聚合物、以及降莰烯系單體與其他單體之加成共聚物等。於形成為共聚物之情形時的其他單體可列舉α-烯烴類、環烯類及非共軛二烯類等。此外，環狀烯烴系樹脂亦可為使用了降莰烯系單體及其他脂環式烯烴的1種或2種以上之共聚物。此等當中，環狀烯烴系樹脂較佳為使用了降莰烯系單體之開環聚合物或是對開環共聚物進行氫化後之樹脂。
使用了上述降莰烯系單體之環狀烯烴系樹脂的市售品，皆以商品名稱表示時可列舉：由Zeon Japan股份有限公司所販售之「Zeonex」、「Zeonor」；由JSR股份有限公司所販售之「Arton」等。此等環狀烯烴系樹脂的膜或其拉伸膜亦可取得市售品，例如皆以商品名稱表示時可列舉：Optes股份有限公司的「Zeonor Film」、JSR股份有限公司的「Arton Film」、以及積水化學工業股份有限公司的「Esushina」等。
相位差膜21亦可使用：由含有2種以上的烯烴系樹脂之混合樹脂所構成之膜，由烯烴系樹脂與其他熱塑性樹脂之混合樹脂所構成之膜。例如，含有2種以上的烯烴系樹脂之混合樹脂可列舉上述環狀烯烴系樹脂與鏈狀脂肪族烯烴系樹脂之混合物。於使用烯烴系樹脂與其他熱塑性樹脂之混合樹脂之情形時，其他熱塑性樹脂可因應目的來適當地選擇合適者。其他熱塑性樹脂的具體例可列舉：聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚合樹脂、丙烯腈/苯乙烯共聚合樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、改質聚苯醚系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚芳酯系樹脂、液晶性樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂以及聚四氟乙烯系樹脂等。此等熱塑性樹脂可分別單獨使用或組合2種以上而使用。此外，上述熱塑性樹脂可在進行任意適當的聚合物改質後使用。聚合物改質的例子可列舉例如共聚合、交聯、分子末端改質及立體規則性賦予等。
於使用烯烴系樹脂與其他熱塑性樹脂之混合樹脂之情形時，其他熱塑性樹脂的含量相對於樹脂整體通常約為50重量%以下，較佳約為40重量%以下。藉由將其他熱塑性樹脂的含量設成為此範圍內，光彈性係數的絕對值較小，可得到顯現良好的波長分散特性且耐久性或機械強度、透明性優異之相位差膜21。
相位差膜21亦可視需要含有殘存溶劑、穩定劑、塑化劑、抗老化劑、抗靜電劑及紫外線吸收劑等其他成分。此外，為了降低表面粗糙度，亦可含有平整劑。
相位差膜21較佳係具有面內相位差值，於波長550nm時之面內相位差值較佳為80nm以上，亦可為90nm以上或是100nm以上，此外，亦可為300nm以下或是200nm以下。相位差膜21較佳為拉伸膜。
一般而言，相位差膜21的面內相位差值愈高，相位差膜21的分子配向愈一致，所以在受到外力時會有容易產生龜裂之傾向。如上述般，偏光板1係具有於偏光膜11的第1面11a上積層有2層以上的保護膜12、13之構造。因此，於加熱耐久試驗後，即使在常溫常濕環境下長期間保持上述含有具有高面內相位差值之相位差膜21之偏光板1，亦可抑制偏光膜11的尺寸變化並降低伴隨於此之作用於相位差膜21之力，所以可抑制於相位差膜21中產生龜裂之情況。
相位差膜21的面內相位差值可藉由後述實施例所記載之方法來測定。相位差膜21於波長λ[nm]時之面內相位差值Re(λ)，意指於溫度23℃時之相位差膜21的面內相位差值，並藉由下述式(i)來求取。
Re(λ)=(nx-ny)×d (i)
式(i)中，
nx為面內的折射率成為最大之方向(亦即慢軸方向)上的折射率，
ny為於面內與慢軸呈正交之方向上的折射率，
d為相位差膜21的厚度[nm]。
相位差膜21於厚度方向上的相位差值可為0(零)，亦可於厚度方向上具有相位差值。相位差膜21於波長550nm時之厚度方向上的相位差值可為例如10nm以上，可為20nm以上，亦可為40nm以上，此外，可為100nm以下，可為80nm以下，亦可為60nm以下。相位差膜21於厚度方向上的相位差值可藉 由後述實施例所記載之方法來測定。相位差膜21於波長λ[nm]時之厚度方向上的相位差值Rth(λ)，意指於溫度23℃時之相位差膜21於厚度方向上的相位差值，並藉由下述式(ii)來求取。
Rth(λ)=[{(nx+ny)/2}-nz]×d (ii)
式(ii)中，
nx為面內的折射率成為最大之方向(亦即慢軸方向)上的折射率，
ny為於面內與慢軸呈正交之方向上的折射率，
nz為厚度方向上的折射率，
d為相位差膜21的厚度[nm]。
相位差膜21的厚度並無特別限制，較佳為15μm以上80μm以下，尤佳為18μm以上45μm以下，最佳為20μm以上30μm以下。於相位差膜的厚度未達15μm時，難以進行膜的處理，並且會有難以顯現預定的相位差值之傾向。另一方面，於相位差膜的厚度超過80μm時，加工性變差，此外，會有透明性降低或所得到之偏光板1的重量增大之傾向。
相位差膜21亦可藉由採用使用了上述樹脂所形成之樹脂膜並將此進行拉伸而得到者。樹脂膜例如可藉由澆鑄法或熔融擠壓法等，從含有上述烯烴系樹脂之溶液中進行製膜而得到。於使用2種以上的混合樹脂來進行製膜之情形時，該製膜方法並無特別限定，可列舉例如：以預定的比率將樹脂成分連同溶劑進行攪拌混合，然後使用所得到之均一溶液並藉由澆鑄法來製作膜之方法；以及以預定的比率將樹脂成分進行熔融混合，並藉由熔融擠壓法來製作膜之方法等。
樹脂膜的拉伸處理可列舉一般所知的縱向單軸拉伸或拉幅橫向單軸拉伸、同步雙軸拉伸、逐次雙軸拉伸等。拉伸處理除了以得到期望的相位差值之方式來適當地調整拉伸倍率與拉伸速度之外，亦可適當地選擇拉伸時的預熱溫度、拉伸溫度、熱定型溫度、冷卻溫度等各種溫度及其模式。
於相位差膜21為上述環狀烯烴系樹脂膜之情形時，例如可使用上述環狀烯烴系樹脂並形成為預先施以拉伸處理後之膜狀物，然後將具有預定的收縮率之收縮性膜貼合於此並進行加熱收縮而得到。藉此可得到均一性高且具有較大的相位差值之相位差膜21。
(功能層)
偏光板1亦可具有1層以上之抗靜電層、另與相位差膜21不同之其他相位差層、另與保護膜12、13不同之用以保護偏光膜11的表面之其他保護層等功能層。
抗靜電層為用以抑制偏光板1帶靜電之層。抗靜電層通常含有離子性化合物等抗靜電劑，可為例如含有抗靜電劑及樹脂之層。抗靜電層例如於偏光板1中，可設置在偏光膜11與相位差膜21之間或偏光膜11與保護膜12之間、或是相位差膜21之與偏光膜11為相反的一側等。抗靜電層較佳係隔著貼合層而積層於此等膜。
其他相位差層為具有面內相位差值或厚度方向上的相位差值之層。其他相位差層可構成為例如於波長550nm時具有厚度方向上的相位差值之相位差層，可構成為例如正C板等。正C板係被使用例如在將偏光板1使用於IPS模式的液晶顯示裝置等之情形。其他相位差層可設置在例如偏光膜11與相位差膜21之間、或是相位差膜21之與偏光膜11側為相反的一側。其他相位差 層可為樹脂膜經拉伸之拉伸膜，亦可為聚合性液晶化合物的硬化物層。其他相位差層可隔著貼合層而積層於偏光膜11及相位差膜21。於其他相位差層為硬化物層之情形時，亦可藉由將塗佈於偏光膜11或相位差膜21之聚合性液晶化合物進行聚合硬化，以直接接觸於此等膜之方式來設置。
其他保護層為用以被覆保護偏光膜11的第1面11a或第2面11b之層。其他保護層較佳係設置在偏光膜11的第2面11b側，且隔著貼合層而設置在偏光膜11與相位差膜21之間。在此情形時，設置在偏光膜11與其他保護層之間之貼合層較佳係以分別接觸於偏光膜11及其他保護層之方式而設置，設置在其他保護層與相位差膜21之間之貼合層較佳係以分別接觸於其他保護層及相位差膜21之方式而設置。其他保護層可列舉：使用於構成保護膜12、13之基材膜中所說明之樹脂材料所形成之膜。其他保護層較佳係不具有相位差，可列舉例如不具有相位差之纖維素系樹脂膜或是不具有相位差之環狀烯烴系樹脂膜。
(貼合層)
用以貼合構成偏光板1之各膜及各層之貼合層31至33，可列舉使用一般所知的接著劑所形成之層或是使用一般所知的黏著劑所形成之層。
接著劑為感壓型接著劑(黏著劑)以外的接著劑，可列舉例如水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑，較佳為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。使用接著劑所形成之貼合層的厚度可為例如0.01μm以上，可為0.1μm以上，可為0.5μm以上，亦可為1μm以上，此外，可為例如20μm以下，可為15μm以下，可為10μm以下，亦可為5μm以下。
水系接著劑可列舉：由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑、以及水系雙液型胺基甲酸酯系乳化液接著劑等。當中係適合使用由聚乙烯醇系 樹脂水溶液所構成之水系接著劑。聚乙烯醇系樹脂除了將作為乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯進行皂化處理所得到之乙烯醇均聚物之外，可使用：將乙酸乙烯酯及可與其共聚合之其他單體之共聚物進行皂化處理所得到之聚乙烯醇系共聚物、或是彼等的羥基經部分地改質後之改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑可含有：醛化合物(乙二醛(Glyoxal)等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
於使用水系接著劑作為接著劑之情形時，在與貼合對象的膜積層後，較佳係實施用以去除水系接著劑中所含有之水之乾燥工序。於乾燥工序後，可設置例如以20至45℃的溫度進行熟化之熟化工序。
所謂活性能量線硬化性接著劑，為含有藉由紫外線、可見光、電子束、X射線般之活性能量線的照射而硬化之硬化性化合物的接著劑，較佳為紫外線硬化性接著劑。硬化性化合物可為陽離子聚合性的硬化性化合物或自由基聚合性的硬化性化合物。陽離子聚合性的硬化性化合物可列舉例如：環氧系化合物(於分子內具有1個或2個以上的環氧基之化合物)、氧呾(Oxetane)系化合物(於分子內具有1個或2個以上的氧呾環之化合物)、或是此等之組合。自由基聚合性的硬化性化合物可列舉例如：(甲基)丙烯酸系化合物(於分子內具有1個或2個以上的(甲基)丙烯醯氧基之化合物)、具有自由基聚合性的雙鍵之其他乙烯系化合物、或是此等之組合。亦可併用陽離子聚合性的硬化性化合物與自由基聚合性的硬化性化合物。活性能量線硬化性接著劑通常更含有：用以使上述硬化性化合物的硬化反應開始進行之陽離子聚合起始劑及/或自由基聚合起始劑。
黏著劑為藉由將其本身貼著於被黏著體而顯現接著性者，被稱為所謂感壓型接著劑。黏著劑可藉由以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、 酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系般之樹脂作為主成分之黏著劑組成物來構成。當中較適合為以透明性、耐候性、耐熱性等優異之(甲基)丙烯酸系樹脂作為基礎聚合物之黏著劑組成物。黏著劑可為活性能量線硬化型或熱硬化型。使用黏著劑所形成之貼合層的厚度通常為3μm以上30μm以下，較佳為3μm以上25μm以下。
黏著劑組成物所含有之(甲基)丙烯酸系樹脂(基礎聚合物)係適合使用：例如以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯般之(甲基)丙烯酸酯的1種或2種以上作為單體之聚合物或共聚物。較佳係將極性單體共聚合於基礎聚合物。極性單體可列舉例如：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯般之具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。
黏著劑組成物可為僅含有上述基礎聚合物者，惟通常更含有交聯劑。交聯劑可例示：為2價以上的金屬離子且在與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；為多胺化合物且在與羧基之間形成醯胺鍵者；為聚環氧化合物或多元醇且在與羧基之間形成酯鍵者；為聚異氰酸酯化合物且在與羧基之間形成醯胺鍵者。當中較佳為聚異氰酸酯化合物。
(黏著劑層)
偏光板1可具有用以將偏光板1貼合於顯示裝置的顯示元件等之黏著劑層35。黏著劑層35較佳係設置在，偏光板1的相位差膜21之與偏光膜11側為相反的一側。黏著劑層35可使用黏著劑來形成。黏著劑可列舉上述用以形成貼合 層之黏著劑。黏著劑層35的厚度並無特別限定，通常為3μm以上50μm以下，較佳為5μm以上40μm以下，亦可為10μm以上30μm以下。
(剝離膜)
偏光板1亦可具有相對於黏著劑層35可剝離之剝離膜。剝離膜係用以被覆保護黏著劑層35的表面或是用以支撐黏著劑層35而使用。剝離膜可列舉對基材樹脂膜之黏著劑層35側的表面施以聚矽氧處理等脫模處理後之膜。構成基材樹脂膜之樹脂材料可列舉：使用於上述基材膜中所說明之樹脂材料所形成之膜。基材樹脂膜可為1層構造，亦可為2層以上的多層構造。
(偏光板的製造方法)
偏光板1的製造方法並無特別限定，可使用一般所知的方法。例如使用水系接著劑將保護膜12積層於偏光膜11的第1面11a，並使用水系接著劑將相位差膜21積層於偏光膜11的第2面11b，然後經過去除水系接著劑中的水之乾燥工序，而製作保護膜12/貼合層32/偏光膜11/貼合層33/相位差膜21的積層體。此時在使用保護膜12與相位差膜21之厚度的差為30μm以下者時，容易抑制積層體所產生之捲曲而容易得到平坦的積層體。然後隔著貼合層31將保護膜13積層於上述積層體的保護膜12側，藉此可得到偏光板1。於偏光板1在偏光膜11的第1面11a側具有3層以上的保護膜之情形時，可更設置積層保護膜之工序。如上述般在使用保護膜12與相位差膜21之厚度的差為30μm以下之積層體之情形時，亦容易抑制偏光板1所產生之捲曲而容易得到平坦的偏光板1。
為了提高構成偏光板1之膜及層(保護膜12、13、偏光膜11、相位差膜21、功能層等)與貼合層之接著性，可對此等膜及層的貼合面施以表面活化處理。表面活化處理可列舉：電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理 等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性線處理(紫外線處理、電子束處理等)般之乾式處理；使用水或丙酮等溶劑之超音波處理、皂化處理、定錨塗覆處理般之濕式處理。此等表面活化處理可單獨進行或是組合2種以上而進行。
[實施例]
以下係表示實施例及比較例來更具體地說明本發明，惟本發明並不限定於此等例。
[厚度的測定]
構成偏光板之各膜及各層的厚度係使用Nikon股份有限公司製的數位測微儀之MH-15M來進行測定。
[透濕度的測定]
保護膜的透濕度係依據JIS K 7129：2008附屬書B，於溫度40℃、相對濕度90%的環境中進行測定。
[相位差值的測定]
相位差膜及其他相位差層的相位差值係使用相位差測定裝置KOBRA-WPR(王子計測機器股份有限公司製)來進行測定。
[拉伸彈性模數的測定]
從相位差膜中切出分別平行於慢軸及快軸之寬度15mm×長度150mm的試驗片。接著藉由拉伸試驗機(島津製作所股份有限公司製AUTOGRAPH(註冊商標)AG-1S試驗機)的上下夾具，以夾具的間隔成為100mm之方式來夾持上述試驗片的長邊方向兩端。於23℃的環境下以拉伸速度50mm/分來拉動，並製作應力-應變曲線。根據應力-應變曲線，算出於23℃時在平行於慢軸及快軸之方向上 的拉伸彈性模數。於如此地算出之平行於慢軸及快軸之方向上的拉伸彈性模數中，將數值較大者設成為相位差膜於23℃時之拉伸彈性模數之值。
[存儲彈性模數的測定]
黏著劑層A及黏著劑層B的存儲彈性模數G'係依循下列[I]至[III]的步驟來進行測定。
[I]從各黏著劑層中取出重量分別為25±1mg的2個試樣，將各試樣成形為大致呈圓形狀。
[II]將已成形之大致呈圓形狀的2個試樣分別貼著於I型固定具(jig，亦稱為治具)的上下表面，上下表面皆以L型固定具夾持而構成為測定試樣。測定試樣的構成為L型固定具/黏著劑層A或黏著劑層B/I型固定具/黏著劑層/L型固定具。
[III]使用ITK股份有限公司製的動態黏彈性測定裝置「DVA-220」，於溫度23℃、頻率1Hz、初期應變1N的條件下對測定試樣的存儲彈性模數G'進行測定。
[鉛筆硬度的測定]
以使保護膜的基材膜側與玻璃板相對向之方式將保護膜配置於玻璃板。對於保護膜的HC層側，係進行由JIS K 5600-5-4：1999「塗料一般試驗方法-第5部：塗膜的機械性質-第4節：刮痕硬度(鉛筆法)」所規定之鉛筆硬度試驗，並測定保護膜的鉛筆硬度。
〈偏光膜的製作〉
準備由平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上的PVA系樹脂所構成之厚度40μm的PVA系樹脂膜。以乾式方式將此PVA系樹脂膜進行單軸拉伸至 約5倍，然後於保持張緊狀態浸漬在溫度60℃的純水1分鐘。之後將PVA系樹脂膜浸漬在碘/碘化鉀/水的重量比為0.05/5/100之溫度28℃的水溶液60秒。然後將PVA系樹脂膜浸漬在碘化鉀/硼酸/水的重量比為8.5/8.5/100之溫度72度的水溶液300秒。接著在以溫度26℃的純水洗淨20秒後，以溫度65℃進行乾燥。
如此，係得到於PVA系樹脂膜中吸附配向有作為雙色性色素的碘之厚度15μm的偏光膜。
〈保護膜(1)的製作〉
混合下列所示之成分以調製HC層形成用組成物。
PET30 97.0質量份
Irgacure 907 3.0質量份
MEK 81.8質量份
在此，PET30為新戊四醇四丙烯酸酯與新戊四醇三丙烯酸酯之混合物(日本化藥股份有限公司製)。
Irgacure 907為光聚合起始劑(BASF公司製)。
MEK為丁酮。
將捲繞為輥狀之基材膜(醯化纖維素膜TD40、Fujifilm股份有限公司製、寬度1,340mm、膜厚40μm)捲出，並藉由使用了狹縫壓模之壓模塗佈法，以運送速度30/分的條件塗佈HC層形成用組成物，接著於60℃乾燥150秒而形成塗佈層。然後在氮氣沖洗下，於氧濃度約0.1%的條件下，使用輸出160W/cm的空冷金屬鹵化物燈(Eye Graphics股份有限公司製)照射照度400mW/cm2、照射量120mJ/cm2的紫外線以使塗佈層硬化，而形成HC層。以HC層的膜厚成為7μm之方式來調整塗佈層的塗佈厚度。如此，係得到於基材膜的單面具有HC 層之保護膜(1)並將此捲取。保護膜(1)的透濕度為250g/m2．day。保護膜(1)的鉛筆硬度為2H。
〈保護膜(2)的製作〉
除了以HC層的膜厚成為5μm之方式來調整塗佈層的厚度之外，其他藉由與保護膜(1)的製作為相同之步驟而得到保護膜(2)。保護膜(2)的透濕度為350g/m2．day。保護膜(2)的鉛筆硬度為3H。
〈保護膜(3)的製作〉
除了以HC層的膜厚成為3μm之方式來調整塗佈層的厚度之外，其他藉由與保護膜(1)的製作為相同之步驟而得到保護膜(3)。保護膜(3)的透濕度為500g/m2．day。保護膜(3)的鉛筆硬度為3H。
〈包含相位差膜及其他相位差層之相位差積層體的製作〉
依循日本國際公開第2018/207798號之段落[0106]至[0109]的記載來製作相位差膜及其他相位差層。具體而言，對未拉伸環烯烴聚合物膜(JSR股份有限公司製、商品名稱「Arton Film」)進行單軸拉伸而得到厚度24μm的相位差膜。測定所得到之相位差膜於溫度23℃時之拉伸彈性模數，結果為2742MPa。此外，相位差膜於波長550nm時之面內相位差值Re(550)為110nm，於波長550nm時之厚度方向上的相位差值Rth(550)為55nm。
接著將具有棒狀液晶性化合物之組成物塗佈於上述所得到之相位差膜的單面來形成其他相位差層，藉此得到相位差積層體。其他相位差層於波長550nm時之面內相位差值Re(550)為0nm，於波長550nm時之厚度方向上的相位差值Rth(550)為-100nm。
〈聚乙烯醇系接著劑(PVA系接著劑)的調製〉
將含有乙醯乙醯基之改質PVA系樹脂(Mitsubishi Chemical股份有限公司製：Gohsenx Z-410)50g溶解於950g的純水，於溫度90℃進行2小時的加熱後，冷卻至常溫而得到聚乙烯醇溶液。接著以各化合物分別成為下述濃度之方式來調配聚乙烯醇溶液、順丁烯二酸、乙二醛、純水，而調製PVA系接著劑。
聚乙烯醇濃度 3.0重量%
順丁烯二酸濃度 0.01重量%
乙二醛濃度 0.15重量%
〈黏著劑層A及黏著劑層B的準備〉
係準備市售之厚度5μm的片狀丙烯酸系黏著劑(於溫度23℃時之存儲彈性模數：0.06MPa)作為黏著劑層A。
係準備市售之厚度25μm的片狀丙烯酸系黏著劑(於溫度23℃時之存儲彈性模數：0.06MPa)作為黏著劑層B。
[實施例1]
將上述所得到之保護膜(1)浸漬於保持在溫度55℃之1.5mol/L的NaOH水溶液(皂化液)2分鐘後，進行水洗。將水洗後的保護膜(1)浸漬於保持在溫度25℃之0.05mol/L的硫酸水溶液30秒後，進一步在流水下通過30秒以使保護膜(1)成為中性的狀態。對此保護膜(1)重複實施3次藉由空氣刀之排水後，滯留於溫度70℃的乾燥區15秒以進行乾燥。藉此得到已對HC層及基材膜進行皂化處理(表面活化處理)之皂化處理完成的保護膜(1)。
隔著上述所調製之PVA系接著劑來積層皂化處理完成的保護膜(1)(以下有時稱為「第1保護膜(1)」)、偏光膜以及相位差積層體，而得到積層體(1)。於積層體(1)中，偏光膜的吸收軸與相位差膜的慢軸平行。此外，於積層體 (1)中，相位差積層體的其他相位差層側係相對向於偏光膜，第1保護膜(1)的基材膜側係相對向於偏光膜。相位差積層體與偏光膜之接著力以及偏光膜與第1保護膜(1)之接著力於實用上為充足。
接著隔著黏著劑層A，藉由與上述為相同之步驟將進行皂化處理後之皂化處理完成的保護膜(1)(以下有時稱為「第2保護膜(1)」)積層於上述所得到之積層體(1)的第1保護膜(1)側。第2保護膜(1)係以基材膜側作為與黏著劑層(A)之貼合面。此外，對積層體(1)的相位差積層體側進行電暈處理，對黏著劑層B的表面進行電暈處理，並將積層體(1)的電暈處理面與黏著劑層(B)的電暈處理面進行積層。藉此得到偏光板(1)。於偏光板(1)中，第1保護膜(1)及第2保護膜(1)皆配置在與偏光膜為相同之表面側，第1保護膜(1)配置在相對接近於偏光膜之位置，第2保護膜(1)配置在相對遠離偏光膜之位置。
[實施例2]
除了使用進行了與對保護膜(1)所進行之皂化處理為相同的皂化處理後之皂化處理完成的保護膜(2)，來取代第1保護膜(1)及第2保護膜(1)之外，其他藉由與實施例1中所製作之偏光板(1)的製作步驟為相同之步驟而得到偏光板(2)。
[實施例3]
除了使用進行了與對保護膜(1)所進行之皂化處理為相同的皂化處理後之皂化處理完成的保護膜(3)，來取代第1保護膜(1)及第2保護膜(1)之外，其他藉由與實施例1中所製作之偏光板(1)的製作步驟為相同之步驟而得到偏光板(3)。
[比較例1]
除了使用進行了與對保護膜(1)所進行之皂化處理為相同的皂化處理後之皂化處理完成的基材膜(醯化纖維素膜TD40、Fujifilm股份有限公司製、寬度 1,340mm、膜厚40μm)，來取代第2保護膜(1)之外，其他藉由與實施例1中所製作之偏光板(1)的製作步驟為相同之步驟而得到比較偏光板(C1)。
[比較例2]
係得到藉由與實施例1為相同之步驟所製作之積層體(1)，並將此使用作為比較偏光板(C2)。
[比較例3]
除了使用進行了與對保護膜(1)所進行之皂化處理為相同的皂化處理後之皂化處理完成的基材膜(醯化纖維素膜TD40、Fujifilm股份有限公司製、寬度1,340mm、膜厚40μm)，來取代第1保護膜(1)之外，其他藉由與實施例1中所製作之偏光板(1)的製作步驟為相同之步驟而得到比較偏光板(C3)。
[龜裂產生的評估]
對於實施例中所得到之偏光板以及比較例中所得到之比較偏光板的各偏光板，藉由下列步驟來製作評估用樣本並進行龜裂產生的評估。將偏光板或比較偏光板裁切為200mm×200mm的大小，並隔著黏著劑層B貼合於厚度0.7mm、300mm×300mm大小之無鹼玻璃，而製作評估用樣本。
將所製作之評估用樣本在溫度105℃的加熱環境下保持500小時後，冷卻至溫度23℃(常溫)。然後於溫度23℃、相對濕度55%的常溫常濕環境下保持30日後，觀察偏光板或比較偏光板的相位差膜並確認是否產生龜裂。然後對於在此時點下未觀察到龜裂的產生之評估用樣本，進一步於7日後(從常溫常濕環境下的保持開始為37日後)觀察相位差膜，並確認是否產生龜裂。將結果表示於表1。
[表1]
Figure 111108390-A0202-12-0029-1
1:偏光板
11:偏光膜
11a:第1面
11b:第2面
12,13:保護膜
21:相位差膜
31至33:貼合層
35:黏著劑層

Claims (8)

  1. 一種偏光板，係具備：
    於聚乙烯醇系樹脂膜中吸附配向有雙色性色素之偏光膜、
    於基材膜上設置有硬塗層之保護膜、以及
    於溫度23℃時之拉伸彈性模數為3000MPa以下之相位差膜；
    其中，於前述偏光膜的第1面側積層有2層以上的前述保護膜，
    於前述偏光膜之與前述第1面側為相反的一側之第2面側積層有前述相位差膜。
  2. 如請求項1所述之偏光板，其中於積層於前述第1面側之2層以上的前述保護膜中，至少一層保護膜於溫度40℃、相對濕度90%時之透濕度為200g/m2．day以上。
  3. 如請求項1或2所述之偏光板，其中於積層於前述第1面側之2層以上的前述保護膜中，積層於最接近前述偏光膜側之保護膜於溫度40℃、相對濕度90%時之透濕度為200g/m2．day以上。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之偏光板，其中於積層於前述第1面側之2層以上的前述保護膜中，至少一層保護膜的前述基材膜為纖維素系樹脂膜。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之偏光板，其中前述相位差膜為環狀烯烴系樹脂膜。
  6. 如請求項1至5中任一項所述之偏光板，其中前述相位差膜於波長550nm時之面內相位差值為80nm以上。
  7. 如請求項1至6中任一項所述之偏光板，該偏光板係於前述相位差膜之與前述偏光膜側為相反的一側更具有黏著劑層。
  8. 一種顯示裝置，係具有如請求項7所述之偏光板以及顯示元件，
    其中，前述偏光板係隔著前述黏著劑層而積層於顯示元件。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100601920B1 (ko) 2004-01-09 2006-07-14 주식회사 엘지화학 음의 이축성 위상차 필름과 +ｃ-플레이트를 이용한 시야각보상필름을 포함하는 면상 스위칭 액정 표시장치
JP2005345958A (ja) * 2004-06-07 2005-12-15 Nitto Denko Corp 液晶パネル、偏光板および液晶表示装置
JP5755674B2 (ja) 2013-03-29 2015-07-29 日東電工株式会社 位相差フィルムの製造方法および円偏光板の製造方法
JP6267886B2 (ja) * 2013-07-22 2018-01-24 富士フイルム株式会社 液晶表示装置
JPWO2017047408A1 (ja) * 2015-09-18 2018-07-05 住友化学株式会社 複合偏光板及びそれを用いた液晶パネル
JP6323477B2 (ja) * 2016-02-29 2018-05-16 住友化学株式会社 偏光板のセットおよび液晶パネル

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