TW202237955A - 將牆面後製清水模施工系統之方法 - Google Patents
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Abstract
一種將牆面後製清水模施工系統之方法,其步驟包括:整備:對牆面的表面進行修補,使牆面平整;版線規畫:以一紅外線儀器在牆面上標示出至少一光束線及至少一光束眼孔,再於光束線上壓製至少二交錯的版線,並以版線使牆面上區隔出至少二區域;鑽孔:於牆面的各區域中,分別以第一圓形鑽孔工具於光束眼孔上鑽設至少一圓孔,再以一圓柱填補工具對圓孔之內壁壓整為平面;一次塗佈:對牆面及圓孔表面塗佈一底漆,塗佈後靜置乾燥,塗佈二中塗漆;壓花:以至少一壓花工具將至少一預定色彩顏料及紋路,壓印在牆面上,並靜置乾燥;及二次塗佈:於牆面及圓孔表面上塗佈二面塗漆,並靜置乾燥。本發明可將各種牆面加工成清水模牆面,亦可用於修復損壞的既有清水模牆面。
Description
本發明是有關於一種建物牆面的施工方法,特別是一種可以將牆面後製成清水模外觀之方法,亦可用於修復既有清水模牆面。
清水模工法是指鋼筋混凝土灌漿拆模後,不加過多的修飾,以混凝土質感直接作為建物的外表,展現出質樸自然的特色,是時下非常流行的牆面設計;但純正清水模工法對施工水平要求甚高,導致工期長、成本高等缺點,也需要各種重型器具如骨架、鋼絲網、模板及特製的固定元件等,也並不容易運用在舊建物上。
而清水模牆面的混凝土在積年累月的使用後亦會有發生缺損,若要以重新製作清水模的方式修繕,所費工期及成本亦會非常的高昂。
有鑑於此,本發明人乃潛心研思、設計組製,期能提供一種將牆面後製成清水模外觀的方法,並可用於修復既有的清水模牆面,即為本發明所欲研創之發明動機者。
本發明將牆面後製清水模施工系統之方法之主要目的,即在提供一種將牆面後製清水模施工系統之方法,並可用於修復既有的清水模牆面。
本發明之將牆面後製清水模施工系統之方法,其步驟包含整備:對牆面的表面進行修補,使牆面平整;版線規畫:以一紅外線儀器在牆面上標示出至少一光束線及至少一光束眼孔,再於光束線上壓製至少二交錯的版線,並以版線使牆面上區隔出至少二區域;鑽孔:於牆面的各區域中,分別以第一圓形鑽孔工具於光束眼孔上鑽設至少一圓孔,再以一圓柱填補工具對圓孔之內壁壓整為平面;一次塗佈:對牆面及圓孔表面塗佈一底漆,塗佈後靜置乾燥後,塗佈二中塗漆;壓花:以至少一壓花工具將至少一預定色彩顏料及紋路,壓印在牆面上,並靜置乾燥;及二次塗佈:於牆面及圓孔表面上塗佈二面塗漆,並靜置乾燥,使牆面呈現清水模樣貌。牆面亦可為一清水模牆面,讓本發明可用於修復損壞的清水模牆面。各漆面乾燥時間約1小時,若是使用噴塗方式上漆,靜置等待約半小時完成乾燥即可。
優選地,版線係圍繞成至少二個四邊形,且圓孔係位於四邊形內。
優選地,圓孔係鄰近於各四邊形的區域內的任一角落。
優選地,圓孔的深度為2~3公分,並於鑽孔後清除粉塵,並填補圓孔,使圓孔深度為1公分。
優選地,各中塗漆及各面塗漆之間間隔至少1小時,若是使用噴塗方式上漆,靜置等待約半小時完成乾燥即可施行下一道。
優選地,壓花工具之色彩及紋路為混凝土紋路、大理石紋路或花崗岩紋路之任一種以製造層次紋路,壓花步驟之後的乾燥時間可約為半小時。且壓花與二次塗佈之步驟順序可以交換。
優選地,最後的二次塗佈步驟或是壓花步驟後進一步包含有一清潔步驟,清潔牆面、版線及圓孔,並於清潔步驟之後塗佈一奈米抗汙層。
為了能夠更進一步瞭解本發明之特徵、特點和技術內容,請參閱以下有關本發明之詳細說明。
請參閱第一圖,本發明之將牆面後製清水模施工系統之方法之步驟包含整備10、版線規劃20、鑽孔30、一次塗佈40、壓花50、二次塗佈60及清潔70。
整備10:請參照第二圖至第四圖,為一舊建物的既有牆面11、11A,其表面斑駁、凹凸不平,既有牆面11為普通的平面牆壁,而既有牆面11A為已經有清水模加工的牆壁,先對既有牆面11、11A的表面進行修補,使既有牆面11、11A之表面被修復為平整的待後製牆面12,本發明之方法能夠同時運用在舊建築物的牆壁上及已經有清水模施工的牆壁上或是新施工的牆面。
版線規劃20:以一紅外線儀器(未繪製)在待後製牆面12上標示出至少一光束線(未繪製)及至少一光束眼孔(未繪製),再於光束線(未繪製)上壓製至少二交錯的版線21,並以版線21使待後製牆面12上區隔出至少二區域A、B。
於本發明的實施例中,在版線規劃20步驟後,第五圖中待後製牆面12上的版線21區隔出四個四邊形的區域A、B。
鑽孔30:於待後製牆面12表面的各區域A、B中,分別以第一圓形鑽孔工具31鑽設至少一圓孔22,再以一圓柱填補工具33對圓孔22之內壁壓整為平面。
請參照第六圖及第七圖,上述第一圓形鑽孔工具31係當既有牆面11的材質為三夾板或水泥板所使用,當既有牆面11的材質為水泥或塑鋼(RC)時,則使用第二圓形鑽孔工具32來鑽孔,其中既有牆面11也包括建築物的牆壁及柱體。
上述圓孔22業界俗稱蓮霧頭,且圓孔22係位於各四邊形的區域A、B內。
上述圓孔22係鄰近於各四邊形的區域A、B內的任一角落。
上述各圓孔22的深度為2~3公分,並於鑽孔30後清除粉塵,並如第八圖中以圓柱填補工具33填補各圓孔22,使各圓孔22深度為1公分。第一圓形鑽孔工具31及第二圓形鑽孔工具32的直徑可為38mm。
一次塗佈40:對待後製牆面12表面塗佈一底漆(未繪製),塗佈後靜置乾燥後,塗佈二中塗漆(未繪製)。
上述底漆可為Sikagard 551S Elastic Primer,先將底漆加入10% Thinner C,攪拌均勻,攪拌時間至少需20秒,使用滾塗或噴塗方式,將底漆均勻塗佈於待後製牆面12表面,底漆乾燥時間約1小時,若是使用噴塗方式施作底漆,靜置等待約半小時完成乾燥即可,乾燥時間可視施工環境當時溫度條件調整。
中塗漆可為Sikagard 550W/675W Elast Color,施作中塗漆前,先將中塗漆攪拌均勻,並且施工前須用保護膠帶將施作區塊周圍圍住,以免中塗漆在塗佈過程中汙損非施工區。其中Sikagard 550W通過台灣檢驗股份有限公司(SGS)依CNS1132檢驗方式進行的抗紫外線3000小時最高等級測試,耐候性佳。
可使用毛刷滾輪或無氣式噴槍系統施工,將中塗漆均勻塗佈在上過底漆的待後製牆面12表面,施作後須等待至少1小時乾燥方可施作下一度,等候時間可依施工時環境溫度狀況調整,前一中塗漆乾燥後即可施行下一中塗漆;若是使用噴塗方式施作各中塗漆,靜置等待約半小時完成乾燥即可。中塗漆需施作2度。
壓花50:以至少一壓花工具(未繪製)將至少一預定色彩顏料及紋路,壓印在待後製牆面12表面上,並靜置乾燥,乾燥時間可約為半小時並依施工時環境溫度狀況調整。上述所壓印出的色彩及紋路包括混凝土紋路、大理石紋路或花崗岩紋路之任一種(未繪製)以製造層次紋路,且於壓花50步驟後,靜置2~3小時方可抗雨淋,靜置14小時完全養護完成。
二次塗佈60:於待後製牆面12表面上塗佈二面塗漆(未繪製),並靜置乾燥。
面塗漆可為DIA Befresh Silicon Clear Mat,先將面塗漆攪拌均勻,使用毛刷滾輪或無氣式噴槍系統施工,將面塗漆均勻塗佈在上過中塗漆的待後製牆面12表面,施作後須等待至少1小時乾燥方可施作下一度,乾燥時間可視施工環境當時溫度條件調整。若是使用噴塗方式施作各面塗漆,靜置等待約半小時完成乾燥即可。面塗漆需施作2度。
本發明之實施例並追加一清潔70步驟:將待後製牆面12表面清潔,並塗佈一奈米抗汙層,即完成清水模施工,成為第九圖中的清水模牆面13。其中版線21為凹陷之形式,但並不以此為限,版線21也能為凸出之形式。
底漆需以Sika Thinner C清潔,中塗漆與面漆以清水清潔即可。同時,本發明有以下注意事項:施作時表面最低溫度攝氏8度,最大相對溼度75%,且不可低於露點並與防冰凍及下雨,施作時避免溫度上升及陽光直射。
如第十圖中所示,本發明中壓花50與二次塗佈60之步驟順序可以交換,而使本發明之步驟依序包含整備10、版線規劃20、鑽孔30、一次塗佈40、二次塗佈60及壓花50。此時若是增加清潔70步驟則是接在壓花50步驟之後。
惟以上所述者,僅為本發明之較佳實施例,當不能用以限定本發明可實施之範圍,凡習於本業之人士所明顯可作的變化與修飾,皆應視為不悖離本發明之實質內容。
10:整備
11:既有牆面
11A:既有牆面
12:待後製牆面
13:清水模牆面
20:版線規劃
21:版線
22:圓孔
30:鑽孔
31:第一圓形鑽孔工具
32:第二圓形鑽孔工具
33:圓柱填補工具
40:一次塗佈
50:壓花
60:二次塗佈
70:清潔
A:區域
B:區域
第一圖為本發明之步驟流程圖(一)。
第二圖為本發明之牆面之示意圖(一)。
第三圖為本發明之牆面之示意圖(二)。
第四圖為本發明之整備步驟之示意圖。
第五圖為本發明之版線步驟之示意圖。
第六圖為本發明之第一鑽孔工具之立體外觀圖。
第七圖為本發明之第二鑽孔工具之立體外觀圖。
第八圖為本發明之圓柱填補工具之使用示意圖。
第九圖為本發明之完工示意圖。
第十圖為本發明之步驟流程圖(二)。
無
10:整備
20:版線規劃
30:鑽孔
40:一次塗佈
50:壓花
60:二次塗佈
70:清潔
Claims (10)
- 一種將牆面後製清水模施工系統之方法,其步驟包含: 整備:對該牆面的表面進行修補,使該牆面平整; 版線規畫:以一紅外線儀器在該牆面上標示出至少一光束線及至少一光束眼孔,再於該光束線上壓製至少二交錯的版線,並以該版線使該牆面上區隔出至少二區域; 鑽孔:於該牆面的各該區域中,分別以第一圓形鑽孔工具於該光束眼孔上鑽設至少一圓孔,再以一圓柱填補工具對該圓孔之內壁壓整為平面; 一次塗佈:對該牆面及該圓孔表面塗佈一底漆,該底漆靜置乾燥後,塗佈二中塗漆並靜置乾燥; 壓花:以至少一壓花工具將至少一預定色彩顏料及紋路,壓印在該牆面上,並靜置乾燥;及 二次塗佈:於該牆面及該圓孔表面上塗佈二面塗漆,並靜置乾燥。
- 如請求項1所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該牆面為一清水模牆面。
- 如請求項1所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該版線係圍繞成至少二個四邊形,且該圓孔係位於該四邊形內,該圓孔係鄰近於各該四邊形的區域內的任一角落。
- 如請求項3所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該圓孔的深度為2~3公分,並於鑽孔後清除粉塵,並填補該圓孔,使該圓孔深度為1公分。
- 如請求項1所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該底漆乾燥時間為1小時,各該中塗漆乾燥時間為1小時,各該面塗漆乾燥時間為1小時。
- 如請求項1所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該二次塗佈步驟後進一步包含有一清潔步驟,並於該清潔步驟之後塗佈一奈米抗汙層。
- 如請求項1所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該壓花工具之色彩及紋路為混凝土紋路、大理石紋路或花崗岩紋路之任一種。
- 如請求項1所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該壓花步驟之後乾燥時間為半小時。
- 如請求項1所述之將牆面後製清水模施工系統之方法,其中該一次塗佈步驟及該二次塗佈步驟分別使用噴塗方式塗佈該底漆、各該中塗漆及各該面塗漆,該底漆乾燥時間為半小時,各該中塗漆乾燥時間為半小時,各該面塗漆乾燥時間為半小時。
- 一種將牆面後製清水模施工系統之方法,其步驟包含: 整備:對該牆面的表面進行修補,使該牆面平整; 版線規畫:以一紅外線儀器在該牆面上標示出至少一光束線及至少一光束眼孔,再於該光束線上壓製至少二交錯的版線,並以該版線使該牆面上區隔出至少二區域; 鑽孔:於該牆面的各該區域中,分別以第一圓形鑽孔工具於該光束眼孔上鑽設至少一圓孔,再以一圓柱填補工具對該圓孔之內壁壓整為平面; 一次塗佈:對該牆面及該圓孔表面塗佈一底漆,該底漆靜置乾燥後,塗佈二中塗漆並靜置乾燥; 二次塗佈:於該牆面及該圓孔表面上塗佈二面塗漆,並靜置乾燥;及 壓花:以至少一壓花工具將至少一預定色彩顏料及紋路,壓印在該牆面上,並靜置乾燥。
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