TW202231476A - 附表面保護膜之積層體的製造方法及積層體 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種附表面保護膜之積層體的製造方法、及使用於該製造方法之積層體，其中該附表面保護膜的積層體係依序具備表面保護膜、偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層，並可減輕捲曲。

本發明係提供一種附表面保護膜之積層體的製造方法、及使用於該製造方法之積層體，其中該附表面保護膜之積層體的製造方法係包含下列步驟：

貼合步驟，係在積層體之偏光片保護層側以可剝離的方式貼合表面保護膜，而獲得貼合有表面保護膜之積層體，其中該積層體係依序具備偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層；及

按壓步驟，係使貼合有表面保護膜之積層體朝向一方向，插入於一對之按壓輥間，並藉由通過按壓輥間而進行按壓；

其中，偏光片保護層之與偏光片為相反側的表面之鉛筆硬度為3B或者比3B更軟。

Description

附表面保護膜之積層體的製造方法及積層體

本發明係關於一種附表面保護膜的積層體之製造方法、及可使用於該製造方法之積層體。

就在液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等顯示裝置中所使用的光學構件而言，已知有在由聚乙烯醇系樹脂所構成的偏光片隔著接著劑積層保護膜而成的偏光板、或者使偏光片與在基材上形成有包含聚合性液晶化合物之硬化物的相位差層之相位差膜積層而成的光學膜等(專利文獻1及2)。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2004-245925號公報

[專利文獻2]日本特開2015-191142號公報

上述之偏光板或光學膜係在端部產生捲曲之情形較多，即使在產生了捲曲之偏光板或光學膜上，更貼合有例如表面保護膜時，仍然會產生捲曲。

本發明之目的在於提供一種附表面保護膜的積層體之製造方法、及使用於該製造方法之積層體，其中該附表面保護膜的積層體係依序具備表面保護膜、偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層；且可減輕捲曲。

本發明係提供一種以下之附表面保護膜的積層體之製造方法及積層體。

[11一種附表面保護膜的積層體之製造方法，係製造具備表面保護膜與積層體之附表面保護膜的積層體，

前述積層體係依序具備偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層；

前述製造方法係包含下列步驟：

貼合步驟，係在前述積層體之前述偏光片保護層側以可剝離的方式貼合前述表面保護膜，而獲得貼合有表面保護膜之積層體；及

按壓步驟，係使前述貼合有表面保護膜之積層體朝向一方向，並插入於一對之按壓輥間，藉由通過前述按壓輥間而進行按壓；其中，

前述偏光片保護層之與前述偏光片為相反側的表面之鉛筆硬度為3B或者比3B更軟。

[2]如[1]所述之附表面保護膜的積層體之製造方法，其中，前述一對之按壓輥的表面硬度為60°以上90°以下。

[3]如[1]或[2]所述之附表面保護膜的積層體之製造方法，其中，在前述按壓步驟中，對前述貼合有表面保護膜之積層體賦予的壓力為0.5MPa以上1.0MPa以下。

[4]如[1]至[3]中任一項所述之附表面保護膜的積層體之製造方法，其中，在前述按壓步驟中，前述貼合有表面保護膜之積層體的張力為0N/m以上30N/m以下。

[5]一種積層體，係依序具備偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層；

前述偏光片保護層係在與前述偏光片為相反側具有硬塗層，

前述硬塗層之表面的鉛筆硬度為3B或者比3B更軟。

[6]如[5]所述之積層體，其中，前述積層體之厚度為70μm以下。

[7]如[5]或[6]所述之積層體，其中，前述偏光片之硬塗層側的任意層為紫外線吸收性者。

[8]如[5]至[7]中任一項所述之積層體，其中，前述偏光片之硬塗層側的任意層在波長410nm之吸光度為0.5以上。

[9]如[5]至[8]中任一項所述之積層體，其中，前述偏光片係包含二色性色素及聚乙烯醇系樹脂膜。

[10]如[5]至[9]中任一項所述之積層體，其中，前述液晶硬化層係從前述第2接著劑層側起依序包含第1液晶硬化相位差層、第3接著劑層、及第2液晶硬化相位差層。

[11]一種附表面保護膜的積層體，係包含[5]至[10]中任一項所述之積層體、及被積層於前述偏光片保護層之硬塗層側的表面保護膜。

[12]一種圓偏光板，係包含[5]至[10]中任一項所述之積層體。

[13]一種可撓性圖像顯示裝置用積層體，係包含[5]至[10]中任一項所述之積層體、及前面板或觸控感測器。

若依據本發明，可提供一種附表面保護膜的積層體之製造方法、及使用於該製造方法之積層體，其中該附表面保護膜的積層體係依序具備表面保護膜、偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層；並可減輕捲曲。

1,2,3,4,5,10,120:積層體

6:可撓性圖像顯示裝置用積層體

7:原料積層體

8:基準面

11:表面保護膜

12,13:按壓輥

14:附表面保護膜的積層體

15:玻璃板

16:支撐台

100:硬塗層

101,107:偏光片保護層

102:第1接著劑層

103:偏光片

104:第2接著劑層

105:液晶硬化層

106:第4接著劑層

112:第3接著劑層

111:第1液晶硬化層(第1液晶硬化相位差層)

113:第2液晶硬化層(第2液晶硬化相位差層)

114:表面保護膜

115:黏著劑層

116:分離膜

121:前面板

122:黏著劑層

123:觸控面板

圖1係示意性表示本發明之積層體的製造方法之一例的側面圖。

圖2係表示積層體之層構成的一例之概略剖面圖。

圖3係表示積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。

圖4係表示積層體之層構成的再另一例之概略剖面圖。

圖5係表示積層體之層構成的其他一例之概略剖面圖。

圖6係表示積層體之層構成的再其他一例之概略剖面圖。

圖7係表示可撓性圖像顯示裝置用積層體之層構成的一例之概略剖面圖。

圖8係示意性表示積層體之捲曲評估方法的概略圖。

以下，一邊參照圖式，一邊說明本發明之實施型態，但本發明並不限定於以下之實施型態。在以下之全部的圖式中，為了容易理解而適當地調整縮尺來表示各構成要素，圖式所示之各構成要素的縮尺與實際之構成要素的縮尺係未必一致。

<積層體之製造方法>

有關本發明之一態樣的附表面保護膜的積層體之製造方法，係製造具備表面保護膜與積層體之附表面保護膜的積層體，其中積層體係依序具備偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層，並且該製造方法包含下列步驟：貼合步驟，係在積層體之偏光片保護層側以可剝離的方式貼合表面保護膜而獲得貼合有表面保護膜之積層體；及按壓步驟，係使貼合有表面保護膜之積層體朝向一方向，並插入於一對之按壓輥間，藉由通過按壓輥間而進行按壓。偏光片保護層之與偏光片為相反側的表面之鉛筆硬度為3B或者比3B更軟。

以下，一邊參照圖式，一邊說明有關附表面保護膜的積層體之製造方法。圖1所示之附表面保護膜的積層體14的製造方法係包含下列步驟：貼合步驟，係在積層體10之偏光片保護層(未於圖中表示)側以可剝離的方式貼合表面保護膜11而獲得貼合有表面保護膜之積層體；及按壓步 驟，係使貼合有表面保護膜之積層體朝向一方向，並插入於一對之按壓輥12、13間，藉由通過按壓輥12、13間而進行按壓。

[積層體]

積層體10係依序具備偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層。偏光片保護層較佳係在與偏光片為相反側之表面具有硬塗層。關於積層體10、偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層、液晶硬化層及硬塗層，係適用後述之本發明的另一態樣的積層體中所述之說明。

積層體10可為長條狀，亦可為片狀。片狀之積層體可藉由從長條狀之積層體進行裁切而獲得。積層體10為片狀時，積層體10之俯視形狀例如可為方形形狀，較佳係具有長邊與短邊之方形形狀，更佳係長方形。積層體10之俯視形狀為長方形時，長邊之長度例如可為10mm以上1400mm以下，較佳係50mm以上600mm以下。短邊之長度例如為5mm以上800mm以下，較佳係30mm以上500mm以下，更佳係50mm以上300mm以下。

積層體10之厚度係依照對積層體10所要求的功能及積層體10之用途等而異，故並無特別限定，但例如可為70μm以下，較佳係60μm以下，更佳係50μm以下。積層體10通常為10μm以上，例如可為20μm以上。

積層體10可使用於圖像顯示裝置。圖像顯示裝置可為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等之任一者。積層體10可配置於圖像顯示裝置 之前面側(辨識側)，亦可配置於背面側。積層體10被配置於圖像顯示裝置之前面側時，可配置成使表面保護膜11側為在最外面。

積層體10例如可為具有抗反射性能之積層體。具有抗反射性能之積層體例如可列舉圓偏光板。在圖像顯示裝置中，藉由在圖像顯示裝置之前面側設有具有抗反射性能之積層體，可抑制因外來光之反射所造成的辨識性之降低。

[鉛筆硬度]

在積層體10中，偏光片保護層之與偏光片為相反側之表面的鉛筆硬度為3B或者比3B更軟。鉛筆硬度可依據在後述之實施例的欄中說明之方法而測定。

藉由使偏光片保護層具有上述鉛筆硬度，可降低按壓步驟後之附表面保護膜的積層體之捲曲。在偏光片隔著接著劑而積層有保護膜之直線偏光板係因偏光片之收縮、貼合時之張力均衡等而在最終製品中產生捲曲的情形較多。又，在相位差層中之聚合性液晶化合物的硬化物一般係藉由紫外線硬化而得到的情形較多，因為在基材剝離後起因於聚合性液晶化合物之紫外線硬化的收縮應力，而有時大幅影響到成為最終製品之後的捲曲。依據本發明人，發現在依序具備表面保護膜、偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層之附表面保護膜的積層體中，將偏光片保護層之與偏光片為相反側之表面(亦即偏光片保護層之欲貼合表面保護膜之側的表面)之鉛筆硬度設為上述範圍，並施以後述之貼合步驟及按壓步驟而製造，藉此可在減輕附表面保護膜的積層體之捲曲的同時製造。

在積層體10產生的捲曲可為正捲曲，亦可為逆捲曲。在本說明書中，正捲曲係指積層體10之偏光片保護層側成為凹狀之狀態，逆捲曲係指積層體10之液晶硬化層側成為凹狀之狀態。若依據本發明之製造方法，即使為產生正捲曲及逆捲曲之任一捲曲的積層體，亦可製造捲曲經減輕之附表面保護膜的積層體。

又，在積層體10產生的捲曲可為以積層體10之與偏光片的吸收軸方向平行的方向之端部抬起的方式產生之捲曲(以下，亦稱為與吸收軸方向平行之方向的捲曲)，亦可為以積層體10之與偏光片的穿透軸方向平行之方向的端部抬起之方式產生的捲曲(以下，亦稱為與穿透軸方向平行的方向之捲曲)。若依據本發明之製造方法，即使為產生吸收軸方向之捲曲及穿透軸方向之捲曲的任一捲曲之積層體，亦可製造捲曲經減輕之附表面保護膜的積層體。

[表面保護膜]

表面保護膜11例如由基材膜與積層在該基材膜上之黏著劑(pressure-sensitive adhesive)層所構成的表面保護膜11係用以保護積層體之膜，尤其保護積層體之表面，以免與其他物體接觸等而被刮傷。表面保護膜11係藉由隔著黏著劑層被貼合於積層體而變得可剝離，例如，在已於圖像顯示元件或其他光學構件貼合積層體之後，連同表面保護膜11所具有的黏著劑層一起被剝離去除。構成基材膜之樹脂例如可為：如聚乙烯等聚乙烯系樹脂、如聚丙烯等聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等熱塑性樹脂。其中，較佳係聚酯系樹脂。黏著劑層可由丙烯酸系黏著劑、環氧系黏著劑、 胺基甲酸酯系黏著劑及聚矽氧系黏著劑等構成。又，亦可由聚丙烯系樹脂及聚乙烯系樹脂等具有自黏著性的樹脂層構成。

又，本說明書中所謂的「(甲基)丙烯酸系樹脂」係表示選自由丙烯酸系樹脂及甲基丙烯酸系樹脂所組成之群組中的至少一種。其他之附有「(甲基)」之用語亦為相同。

表面保護膜11之厚度並無特別限定，但較佳係例如設為20μm以上200μm以下之範圍。若基材之厚度為20μm以上，則有變得容易對積層體10賦予強度之傾向。

[貼合步驟]

在貼合步驟中，可在積層體10之偏光片保護層側以可剝離的方式貼合表面保護膜11而獲得貼合有表面保護膜之積層體。如圖1所示，可藉由於設置在支撐台16上之玻璃板15上所配置之表面保護膜11重疊積層體10以進行貼合。可藉由驅動與積層體10接觸之按壓輥12，而一邊按壓貼合有表面保護膜11之積層體10，一邊連續進行輸送。

貼合表面保護膜11之前的積層體10之張力(以下，亦稱為積層體10之貼合前張力)例如可為50N/m以上110N/m以下，較佳係60N/m以上100N/m以下。積層體10之貼合前張力係指與使積層體10通過按壓輥12、13之方向平行的方向之張力。

貼合於積層體10之前的表面保護膜11之張力(以下，亦稱為表面保護膜11之貼合前張力)例如可為0N/m以上20N/m以下，較佳係0N/m以上10N/m以下。表面保護膜11之貼合前張力係指與使表面保護膜11通過按壓輥12、13間之方向平行的方向之張力。

積層體10當產生與後述之吸收軸方向平行的方向之捲曲時，能以使在圖1中箭號所示之方向(從厚度方向觀看表面保護膜11時相對於按壓輥12、13之寬度方向為垂直的方向)成為偏光片之吸收軸方向的方式貼合偏光片與表面保護膜11。又，積層體10當產生與穿透軸方向平行的方向之捲曲時，能以使在圖1中箭號所示之方向成為偏光片之穿透軸方向的方式貼合表面保護膜11。

為了提高密著性，可對於貼合面之一面或兩面，例如施予電暈處理等表面活性化處理。

[按壓步驟]

在按壓步驟中，使貼合有表面保護膜11之積層體10朝向一方向，並插入於一對之按壓輥12、13間，藉由通過前述按壓輥12、13間而進行按壓。關於貼合有表面保護膜11之積層體10，可使偏光片之吸收軸方向或穿透軸方向朝向相對於按壓輥12及13之寬度方向為垂直的方向並插入於按壓輥12、13間，較佳係使偏光片之吸收軸方向朝向相對於按壓輥12及13之寬度方向為垂直的方向並插入於按壓輥12、13間。

按壓輥12及13之表面硬度例如可為60°以上90°以下，較佳係65°以上80°以下。按壓輥12及13之硬度可藉由在後述之實施例的欄中說明之方法進行測定。

形成按壓輥12及13之材質可互相相異，亦可為相同，可列舉例如橡膠、金屬、合金、彈性金屬及此等之組合等。按壓輥12及13之「與表面保護膜及積層體相接之表面的材質」與「其表面之內部的材質」可為相異，按壓輥12及13之表面的材質可為互相相異，亦可為相同。

上述橡膠例如可為NBR(腈橡膠)、泰坦(TITAN)、胺基甲酸酯(urethane)及聚矽氧、EPDM(乙烯-丙烯-二烯橡膠)等，較佳係NBR、泰坦及胺基甲酸酯，更佳為NBR。

上述金屬可列舉例如鐵及鋁等。又，上述合金可列舉例如SUS304(包含18%之Cr與8%之Ni的不鏽鋼)等不鏽鋼等。將按壓輥之材質設為金屬及/或合金時，較佳係以耐蝕性或耐擦傷性之提升作為目的而施予鉻鍍敷、鎳鍍敷、DLC(類鑽石碳)等之表面處理。表面處理可為單層，亦可為複數層積層。

上述彈性金屬係意指橡膠或油等之彈性體表面以厚度0.2mm以上2mm以下之金屬層被覆而成的構造者。彈性金屬之最表面的金屬層可使用鎳、不鏽鋼等。對於彈性金屬之最表面的金屬層，較佳係亦以耐蝕性或耐擦傷性之提升作為目的而施予鉻鍍敷、鎳鍍敷、DLC(類鑽石碳)等之表面處理。

按壓輥12及13之直徑例如可為50mm以上90mm以下，較佳係55mm以上85mm以下，更佳係60mm以上80mm以下。

藉由按壓輥12及13，而對貼合有表面保護膜11之積層體1賦予的壓力(夾持壓)例如為0.4MPa以上1.2MPa以下，較佳係0.6MPa以上1.0MPa以下。

貼合有表面保護膜11之積層體10的張力(以下，亦稱為貼合後張力)例如可為0N/m以上20N/m以下，較佳係0N/m以上10N/m以下。貼合後張力係指與使貼合有表面保護膜11之積層體10通過按壓輥間之方向平行的方向之張力。

[附表面保護膜的積層體]

附表面保護膜的積層體14可使用於圖像顯示裝置。將附表面保護膜的積層體14使用於圖像顯示裝置時，表面保護膜11可被剝離去除。

附表面保護膜的積層體14當以表面保護膜11側作為外側而貼合於圖像顯示裝置之前面側時，從容易降低貼合於圖像顯示裝置時之貼合失誤或氣泡產生之觀點而言，以完全不產生捲曲或產生正捲曲之狀態為較佳，產生捲曲時，其捲曲量係以小者為較佳。又，附表面保護膜的積層體14當以硬化液晶層側作為外側而使用於圖像顯示裝置之背面側時，從容易降低貼合於圖像顯示裝置時之貼合失誤或氣泡產生的觀點而言，以完全不產生捲曲或產生逆捲曲之狀態為較佳，產生捲曲時，其捲曲量係以小者為較佳。

<積層體>

圖2係表示有關本發明之另一態樣的積層體之層構成的一例之概略剖面圖。圖2所示的積層體1係依序具備偏光片保護層101、第1接著劑層102、偏光片103、第2接著劑層104、及液晶硬化層105，偏光片保護層101係在與偏光片103為相反側具有硬塗層100。偏光片保護層101與偏光片103隔著第1接著劑層102貼合而成者亦稱為直線偏光板。

積層體1可為長條狀，亦可為片狀。片狀之積層體可藉由從長條狀之積層體進行裁切而獲得。積層體1為片狀時，積層體1之俯視形狀例如可為方形形狀，較佳係具有長邊與短邊之方形形狀，更佳係長方形。積層體1之俯視形狀為長方形時，長邊之長度例如可為10mm以上1400mm 以下，較佳係50mm以上600mm以下。短邊之長度例如為5mm以上800mm以下，較佳係30mm以上500mm以下，更佳係50mm以上300mm以下。

積層體1之厚度係依照對積層體1所要求的功能及積層體1之用途等而異，故並無特別限定，但例如可為70μm以下，較佳係60μm以下，更佳係50μm以下。積層體1通常為10μm以上，例如可為20μm以上。

積層體1可產生捲曲，可為正捲曲，亦可為逆捲曲。又，關於在積層體1產生之捲曲，當矩形之偏光板時，4邊之中2邊為吸收軸方向，其餘2邊係與吸收軸正交的方向時，可為以積層體1之與偏光片103的吸收軸方向平行之方向的端部抬起之方式產生的捲曲(以下，亦稱為與吸收軸方向平行的方向之捲曲)，亦可為以積層體1之與偏光片103的穿透軸方向平行之方向的端部抬起之方式產生的捲曲(以下，亦稱為與穿透軸方向平行的方向之捲曲)。

積層體1可使用於圖像顯示裝置。圖像顯示裝置可為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等之任一者。積層體1可配置於圖像顯示裝置之前面側(辨識側)，亦可配置於背面側。積層體1被配置於圖像顯示裝置之前面側時，可配置成使硬塗層100側為最外面。

積層體1係例如可為具有抗反射性能之積層體。具有抗反射性能之積層體可列舉例如圓偏光板。在圖像顯示裝置中，藉由在圖像顯示裝置之前面側設有具有抗反射性能之積層體，可抑制因外來光之反射所造成的辨識性之降低。

積層體1之硬塗層100側之任意層可為紫外線吸收性者，例如硬塗層100、偏光片保護層101及第1接著劑層102之中至少一層可為紫外線吸收性者。

積層體1之硬塗層100側之任意層在波長410nm之吸光度可為0.5以上，例如硬塗層100、偏光片保護層101及第1接著劑層102之中至少一層在波長410nm之吸光度可為0.5以上。

[硬塗層]

硬塗層100係形成於偏光片保護層101之與偏光片103為相反側。硬塗層可具有提高偏光片保護層101之硬度及刮傷性的功能。硬塗層亦可具有如紫外線吸收性、防眩性、抗反射性、光擴散性、抗靜電性、防汚性、導電性等功能。

硬塗層100之表面的鉛筆硬度係3B或者比3B更軟。藉由使偏光片保護層具有上述鉛筆硬度，而有在製成附表面保護膜的積層體時之捲曲容易降低之傾向。鉛筆硬度可依據後述之實施例的欄中記載之測定方法而測定。

硬塗層100可為包含硬塗層形成用組成物之硬化物的層，其中該硬塗層形成用組成物係包含活性能量線硬化型樹脂。活性能量線硬化型樹脂可列舉例如丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。

關於硬塗層形成用組成物之硬化物，例如可在屬於熱塑性樹脂膜之偏光片保護層101上，塗佈硬塗層形成用組成物並使其硬化而獲得。又，亦可使用市售之具備硬塗層的熱塑性樹脂膜。硬塗層形成用組成物例 如可為熱硬化性組成物、陽離子硬化性組成物、自由基硬化性組成物等。硬塗層形成用組成物例如可包含聚合性單體、聚合起始劑、添加劑、溶劑等。添加劑可列舉例如塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料或染料等著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱安定劑、光安定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、滑劑、界面活性劑、無機系微粒子、有機系微粒子、或此等之混合物等。

硬塗層100之厚度係例如可為0.1μm以上10μm以下，較佳係1μm以上5μm以下。

[偏光片保護層]

偏光片保護層101係用以保護偏光片103(尤其偏光片103之表面)的層，可在偏光片103之單側或兩側，僅隔著第1接著劑層102配置或直接配置。偏光片保護層101係隔著第1接著劑層102而與偏光片103牢固地積層。通常，偏光片保護層101與偏光片103係以不會互相剝離的方式隔著第1接著劑層102而一體化。積層體1在單側具有偏光片保護層101時，偏光片保護層101係能以硬塗層100在與偏光片為相反側之方式配置。偏光片保護層101係例如可由熱塑性樹脂膜形成。偏光片保護層101可隔著第1接著劑層102而貼合於偏光片103。

熱塑性樹脂膜係例如可為具有透光性(較佳係光學上透明)的熱塑性樹脂膜，其例子可列舉：鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚甲基戊烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂； 乙烯-乙酸乙烯酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醚醯亞胺系樹脂；聚(甲基)丙烯酸甲酯樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；聚偏二氯乙烯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙烯醇縮乙醛系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂等。熱塑性樹脂可單獨使用或混合2種以上而使用。其中，從強度或透光性之觀點而言，較佳係三乙醯基纖維素系樹脂膜、環狀聚烯烴系樹脂膜及(甲基)丙烯酸系樹脂膜。

熱塑性樹脂膜之厚度例如可為30μm以下，從薄型化之觀點而言，較佳係25μm以下，又，通常為1μm以上，較佳係5μm以上，更佳係15μm以上。熱塑性樹脂膜可具有相位差，亦可不具有相位差。

[第1接著劑層]

第1接著劑層102係具有貼合偏光片保護層101與偏光片103之功能。使用於第1接著劑層102之接著劑可列舉：紫外線硬化性接著劑等活性能量線硬化性接著劑、或聚乙烯醇系樹脂之水溶液或在聚乙烯醇系樹脂之水溶液中調配有交聯劑之水溶液、胺基甲酸酯系乳化液接著劑等水系接著劑。紫外線硬化型接著劑可為自由基聚合性之(甲基)丙烯酸系化合物與光自由基聚合起始劑之混合物、或陽離子聚合性之環氧化合物與光陽離子聚合起始劑之混合物等。又，亦可併用陽離子聚合性之環氧化合物與自由基聚合性之(甲基)丙烯酸系化合物，且併用光陽離子聚合起始劑與光自由基聚合起始劑作為起始劑。第1接著劑層102之厚度例如可為0.1μm以上5μm以下。

使用活性能量線硬化性接著劑時，在貼合後，藉由照射活性能量線而使接著劑硬化。活性能量線之光源並無特別限定，但較佳係在波長400nm以下具有發光分布之活性能量線(紫外線)，具體而言，較佳係使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、捕蟲器用螢光燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。

為了提升偏光片保護層101與偏光片103之接著性，在偏光片保護層101與偏光片103的貼合之前，可在各自之貼合面施予電暈處理、火焰處理、電漿處理、紫外線照射處理、底漆塗佈處理、皂化處理等表面處理。

[偏光片]

偏光片103可為具有下列性質的偏光片，該性質為：吸收具有與其吸收軸平行的振動面之直線偏光，並使具有與吸收軸正交(與穿透軸平行)的振動面之直線偏光穿透。偏光片103可更具有後述之基材及定向膜之一者或兩者。

偏光片103可列舉：吸附有二色性色素之延伸膜或延伸層、或者塗佈二色性色素並使其硬化而成之膜。就二色性色素而言，具體而言，係使用碘或二色性有機染料。在二色性有機染料係包含由C.I.DIRECT RED 39等雙偶氮化合物所構成的二色性直接染料、由參偶氮、肆偶氮等化合物所構成的二色性直接染料。

[吸附有二色性色素之延伸膜或者延伸層之偏光片]

說明有關屬於吸附有二色性色素之延伸膜(以下，有時亦省略而稱為「延伸膜」)之偏光片。吸附有二色性色素之延伸膜通常係可經過下列步驟 而製造：使聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；藉由使聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色，而吸附該二色性色素之步驟；以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜的步驟；以及在以硼酸水溶液進行處理後進行水洗之步驟。屬於吸附有二色性色素的延伸膜之偏光片的厚度例如可為2μm以上40μm以下。

聚乙烯醇系樹脂係藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化而得到。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了可使用屬於乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，尚可使用乙酸乙烯酯與可和乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物。可和乙酸乙烯酯共聚合之其他單體可列舉例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85莫耳%以上100莫耳%以下，較佳係98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改性，例如，亦可使用經醛類改性之聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛。聚乙烯醇系樹脂之聚合度通常為1000以上10000以下，較佳係1500以上5000以下。

如此之聚乙烯醇系樹脂製造而成的膜係被使用來作為延伸膜之胚膜。製造聚乙烯醇系樹脂膜之方法並無特別限定，可由公知之方法進行製膜。聚乙烯醇系胚膜之膜厚例如可為10μm以上150μm以下。

聚乙烯醇系樹脂膜之單軸延伸可在以二色性色素進行染色之前、與染色同時、或在染色之後進行。在染色之後進行單軸延伸時，該單軸延伸可在硼酸處理之前進行，亦可在硼酸處理中進行。又，亦可在此等之複數個階段進行單軸延伸。當單軸延伸時，可在周速相異的輥間在單軸進行延伸，亦可使用熱輥而在單軸進行延伸。又，單軸延伸可為在大氣中 進行延伸之乾式延伸，亦可為使用溶劑並在使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為3倍以上8倍以下左右。

聚乙烯醇系樹脂膜之以二色性色素進行的染色例如藉由在含有二色性色素之水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜之方法而進行。就二色性色素而言，具體而言，可使用碘或二色性之有機染料。在二色性有機染料係包含由C.I.DIRECT RED 39等雙偶氮化合物所構成的二色性直接染料、由參偶氮、肆偶氮等化合物所構成的二色性直接染料。聚乙烯醇系樹脂膜較佳係在染色處理之前預先施予浸漬於水之處理。

使用碘作為二色性色素時，通常係採用在含有碘及碘化鉀之水溶液中，浸漬聚乙烯醇系樹脂膜並進行染色之方法。在該水溶液中之碘的含量係相對於每100質量份的水，通常為0.01質量份以上1質量份以下。又，碘化鉀之含量係相對於每100質量份的水，通常為0.5質量份以上20質量份以下。使用於染色之水溶液的溫度通常為20℃以上40℃以下。又，於該水溶液之浸漬時間(染色時間)通常為20秒以上1,800秒以下。

另一方面，使用二色性之有機染料作為二色性色素時，通常採用在含有水溶性二色性染料之水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜並進行染色之方法。在該水溶液中之二色性有機染料的含量係相對於每100質量份的水，通常為1×10^-4質量份以上10質量份以下，較佳係1×10^-3質量份以上1質量份以下，更佳係1×10^-3質量份以上1×10^-2質量份以下。該水溶液可含有如硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。使用於染色之二色性染料水溶液的溫度通常為20℃以上80℃以下。又，於該水溶液之浸漬時間(染色時間)通常為10秒以上1,800秒以下。

以二色性色素進行染色後之硼酸處理通常係可藉由使經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液之方法來進行。在該硼酸水溶液中之硼酸的含量係相對於每100質量份的水，通常為2質量份以上15質量份以下，較佳係5質量份以上12質量份以下。使用碘作為二色性色素時，該硼酸水溶液係以含有碘化鉀為較佳，該情形之碘化鉀的含量係相對於每100質量份的水，通常為0.1質量份以上15質量份以下，較佳係5質量份以上12質量份以下。於硼酸水溶液之浸漬時間通常為60秒以上1,200秒以下，較佳係150秒以上600秒以下，更佳係200秒以上400秒以下。硼酸處理之溫度通常為50℃以上，較佳係50℃以上85℃以下，更佳係60℃以上80℃以下。

硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常係經水洗處理。水洗處理例如可藉由使經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水中之方法來進行。在水洗處理中之水的溫度通常為5℃以上40℃以下。又，浸漬時間通常為1秒以上120秒以下。

在水洗後施予乾燥處理，可獲得吸附有二色性色素之延伸膜。乾燥處理係例如可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器來進行。乾燥處理之溫度通常為30℃以上100℃以下，較佳係50℃以上80℃以下。乾燥處理之時間通常為60秒以上600秒以下，較佳係120秒以上600秒以下。藉由乾燥處理，吸附有二色性色素之延伸膜的水分率係降低至實用程度為止。該水分率通常為5質量%以上20質量%以下，較佳係8質量%以上15質量%以下。若水分率低於5質量%，吸附有二色性色素之延伸膜的可撓性會喪失，吸附有二色性色素之延伸膜在其乾燥後有時會損傷、或破裂。又， 若水分率高於20質量%，有可能吸附有二色性色素之延伸膜的熱安定性會變差。

其次，說明有關屬於吸附有二色性色素之延伸層(以下，有時亦省略而稱為「延伸層」)的偏光片。吸附有二色性色素之延伸層通常可經過下列步驟來製造：將含有上述聚乙烯醇系樹脂之塗佈液塗佈於基材上而獲得積層膜之步驟；使所得到之積層膜進行單軸延伸之步驟；使經單軸延伸之積層膜的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素進行染色，並使其吸附之步驟；以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之膜的步驟；以及在以硼酸水溶液進行處理後實施水洗之步驟。

基材之例係適用偏光片保護層101之說明中所例示的熱塑性樹脂膜。可從延伸層剝離去除基材，亦可將基材作為偏光片保護層101。基材之厚度例如可為5μm以上200μm以下。將基材組入於積層體1時，基材之厚度係以30μm以下為較佳。

[屬於塗佈二色性色素並硬化而成之膜的偏光片]

塗佈二色性色素並硬化而成之膜可列舉例如包含硬化物之膜，其中該硬化物為使包含具有液晶性之二色性色素的組成物、或包含二色性色素與液晶化合物之組成物塗佈於基材並硬化而成者。

基材之例係適用後述之偏光片保護層101的說明中所例示之熱塑性樹脂膜。可從塗佈二色性色素並硬化而成的膜剝離去除基材，或者，亦可使用基材作為偏光片保護層101。基材之厚度例如可為5μm以上200μm以下。將基材組入於積層體1時，基材之厚度係以30μm以下為較佳。基材可於至少一表面具有硬塗層、抗反射層或抗靜電層。硬塗層、抗 反射層及抗靜電層係可僅形成於基材之未形成上述硬化物之側的表面，或可僅形成於基材之形成上述硬化物之側的表面。

塗佈二色性色素並硬化而成的膜係以薄者為較佳，但若太薄，強度會降低，有加工性變差之傾向。該膜之厚度通常為20μm以下，較佳係5μm以下，更佳係0.5μm以上3μm以下。

塗佈二色性色素並硬化而成的膜，具體而言，可列舉日本特開2013-37353號公報或日本特開2013-33249號公報等記載者。

[定向膜]

定向膜可配置於「上述基材」與「包含具有液晶性之二色性色素的組成物、或包含二色性色素與液晶化合物的組成物之硬化物的層」之間。定向膜係具有定向限制力，該定向限制力係使形成於其上之液晶層在所希望之方向液晶定向。定向膜可列舉以定向性聚合物所形成的定向性聚合物層、以光定向聚合物所形成的光定向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或複數個溝(groove)的溝定向膜。定向膜之厚度例如可為10nm以上500nm以下，以10nm以上200nm以下為較佳。

關於定向性聚合物層，可將使定向性聚合物溶解於溶劑中而成之組成物塗佈於基材並去除溶劑，並依需要而進行摩擦處理而形成。此時，在以定向性聚合物所形成的定向性聚合物層中，可藉由定向性聚合物之表面狀態或摩擦條件而任意地調整定向限制力。

光定向性聚合物層可藉由將包含具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑之組成物塗佈於基材，並照射偏光而形成。此時，在光定向性 聚合物層中，可藉由對於光定向性聚合物之偏光照射條件等而任意地調整定向限制力。

溝定向膜可藉由例如下列方法而形成：在感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖案形狀之狹縫的曝光用掩罩而進行曝光、顯像等以形成凹凸圖案之方法；於在表面具有溝之板狀的原盤形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化的層，使該層轉印至基材並進行硬化之方法；在基材形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化的層，在該層藉由壓抵具有凹凸之輥狀的原盤等以形成凹凸並硬化的方法等。

[第2接著劑層]

第2接著劑層104係具有貼合偏光片103與液晶硬化層105之功能。第2接著劑層104通常係可為由感壓式黏著劑(以下，亦稱為黏著劑)所形成的黏著劑層。

第2接著劑層104之厚度例如可為1μm以上50μm以下之範圍，較佳係2μm以上45μm以下，更佳係3μm以上30μm以下，再更佳係5μm以上20μm以下。

黏著劑層可由以如(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯基醚系等樹脂作為主成分之黏著劑組成物構成。其中，從透明性、耐候性、耐熱性及貯存彈性模數之觀點而言，較佳係以(甲基)丙烯酸系樹脂作為基質聚合物(base polymer)之黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。

可使用於黏著劑組成物之(甲基)丙烯酸系樹脂(基質聚合物)係例如可適合使用以如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯 酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的1種或2種以上作為單體之聚合物或共聚物。基質聚合物係以使極性單體共聚合為較佳。極性單體可列舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。

黏著劑組成物可為僅包含上述基質聚合物者，但通常係更含有交聯劑。交聯劑可例示：屬於2價以上之金屬離子，且會在與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；屬於多胺化合物，且會在與羧基之間形成醯胺鍵者；屬於聚環氧化合物或多元醇，且會在與羧基之間形成酯鍵者；屬於聚異氰酸酯化合物，且會在與羧基之間形成醯胺鍵者。其中，以聚異氰酸酯化合物為較佳。

黏著劑層之形成可藉由例如下列方式來進行：在甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑中使黏著劑組成物溶解或分散而調製黏著劑液，將該黏著劑液直接塗敷於積層體之對象面而形成黏著劑層的方式；或在經施予離型處理之分離膜上預先使黏著劑層形成片狀，再將其移動附著於偏光片103或液晶硬化層105的對象面之方式等。

分離膜可為由聚乙烯等聚乙烯系樹脂、聚丙烯等聚丙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂等所構成的膜。其中，以聚對苯二甲酸乙二酯之延伸膜為較佳。

黏著劑層可包含任意成分，例如由玻璃纖維、玻璃珠粒、樹脂珠粒、金屬粉或其他無機粉末所構成的填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑等。

抗靜電劑可列舉例如離子性化合物、導電性微粒子、導電性高分子等，但以使用離子性化合物為較佳。

構成離子性化合物之陽離子成分可為無機陽離子，亦可為有機陽離子。

有機陽離子可列舉吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子等，無機陽離子可列舉鋰離子、鉀離子等。

另一方面，構成離子性化合物之陰離子成分可為無機陰離子，亦可為有機陰離子，但從獲得抗靜電性能優異之離子性化合物而言，以包含氟原子之陰離子成分為較佳。包含氟原子之陰離子成分可列舉六氟磷酸根陰離子[(PF₆ ^-)]、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF₃SO₂)₂N^-]陰離子、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO₂)₂N^-]陰離子等。

為了提高偏光片103與液晶硬化層105之接著性，在偏光片103與液晶硬化層105的貼合之前，可對各自之貼合面施予電暈處理、火焰處理、電漿處理、紫外線照射處理、底漆塗佈處理、皂化處理等表面處理。

[液晶硬化層]

液晶硬化層105係隔著第2接著劑層104而積層於偏光片103之與偏光片保護層101為相反側。液晶硬化層105可為具有相位差層之功能的液晶硬化相位差層。液晶硬化相位差層可列舉例如具有如λ/4層或λ/2層 等正A層、及正C層等之功能的液晶硬化層。液晶硬化層105可更包含後述之定向層或基材。

液晶硬化層105為藉由聚合性液晶化合物進行聚合而硬化而成之硬化物的層。液晶硬化層105可為聚合性液晶化合物在經液晶定向的狀態下互相聚合而成者。聚合性液晶化合物可在面內進行定向，亦可垂直地進行定向。聚合性液晶化合物在面內進行定向時，液晶硬化層105係成為顯示面內相位差的正A層。聚合性液晶化合物垂直地進行定向時，成為在厚度方向顯示相位差之正C層。

聚合性液晶化合物係具有聚合性基的化合物，且係可成為液晶狀態之化合物。藉由聚合性液晶化合物之聚合性基彼此進行反應並且聚合性液晶化合物進行聚合，而聚合性液晶化合物會硬化。

有關聚合性液晶化合物之種類並無特別限定，但從其形狀，可分類成棒狀型(棒狀液晶化合物)與圓盤狀型(圓盤狀液晶化合物、碟型液晶化合物)。再者，分別有低分子型與高分子型。又，所謂高分子，一般係指聚合度為100以上者(高分子物理.相轉移動力學、土井正男著、2頁、岩波書店、1992)。在本發明中亦可使用任意聚合性液晶化合物。再者，可使用2種以上之棒狀液晶化合物、或2種以上之圓盤狀液晶化合物、或棒狀液晶化合物與圓盤狀液晶化合物之混合物。棒狀液晶化合物例如可適合使用日本特表平11-513019號公報之請求項1所記載者。圓盤狀液晶化合物例如可適合使用日本特開2007-108732號公報之段落[0020]至[0067]、或日本特開2010-244038號公報之段落[0013]至[0108]所記載者。

聚合性液晶化合物可併用2種以上。此時，至少1種在分子內具有2個以上之聚合性基。亦即，前述聚合性液晶化合物硬化而成的層較佳係具有聚合性基之液晶化合物藉由聚合而被固定所形成的層。此時，在成為層之後係已經不需要顯示液晶性。

聚合性液晶化合物係具有可進行聚合反應之聚合性基。聚合性基較佳係例如聚合性乙烯性不飽和基或環聚合性基等可進行加成聚合反應的官能基。更具體而言，聚合性基可列舉例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。其中，以(甲基)丙烯醯基為較佳。又，所謂(甲基)丙烯醯基係包含甲基丙烯醯基及丙烯醯基之兩者的概念。

聚合性液晶化合物所具有的液晶性可為熱致性液晶，亦可為溶致性液晶，若將熱致性液晶以秩序度分類，可為向列型液晶，亦可為層列型液晶。

液晶硬化層105可藉由使包含聚合性液晶化合物之組成物(以下，亦稱為液晶硬化層形成用組成物)例如塗敷於定向層上，並照射活性能量線而形成。在液晶硬化層形成用組成物中可包含上述之聚合性液晶化合物以外的成分。例如，在液晶硬化層形成用組成物中較佳係包含聚合起始劑。所使用之聚合起始劑係依照聚合反應之形式而選擇例如熱聚合起始劑或光聚合起始劑。例如，光聚合起始劑可列舉α-羰基化合物、醯偶姻醚、α-烴取代芳香族醯偶姻化合物、多核醌化合物、三芳基咪唑二聚體與對-胺基苯基酮之組合等。相對於前述塗敷液中之全部固體成分，聚合起始劑之使用量係以0.01質量%以上20質量%以下為較佳，以0.5質量%以上5質 量%以下為更佳。又，所謂硬化物，係指所形成的層單獨仍可不變形、流動，而獨立存在的狀態。

又，在液晶硬化層形成用組成物中，從塗敷膜之均勻性及膜的強度之觀點而言，可包含聚合性單體。聚合性單體可列舉自由基聚合性或陽離子聚合性之化合物。其中，以多官能性自由基聚合性單體為較佳。

又，聚合性單體較佳係可與上述之聚合性液晶化合物進行共聚合者。相對於聚合性液晶化合物之全部質量，聚合性單體之使用量係以1質量%以上50質量%以下為較佳，以2質量%以上30質量%以下為更佳。

又，從塗敷膜之均勻性及膜的強度之觀點而言，在液晶硬化層形成用組成物中可包含界面活性劑。界面活性劑可列舉以往公知之化合物。其中，尤其，以氟系化合物為較佳。

又，在液晶硬化層形成用組成物中可包含溶劑，較佳係使用有機溶劑。有機溶劑可列舉例如醯胺(例如，N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如，二甲基亞碸)、雜環化合物(例如，吡啶)、烴(例如，苯、己烷)、烷基鹵化物(例如，氯仿、二氯甲烷)、酯(例如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如，丙酮、甲基乙基酮)、醚(例如，四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。其中，以烷基鹵化物、酮為較佳。又，亦可併用2種以上之有機溶劑。

又，在液晶硬化層形成用組成物中可包含：偏光片界面側垂直定向劑、空氣界面側垂直定向劑等垂直定向促進劑、以及偏光片界面側水平定向劑、空氣界面側水平定向劑等水平定向促進劑等各種定向劑。再 者，在液晶硬化層形成用組成物中，除了可包含上述成分以外，亦可包含密著改良劑、塑化劑、聚合物等。

上述活性能量線係包含紫外線、可見光、電子束、X射線，較佳係紫外線。前述活性能量線之光源可列舉例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射、會發出波長範圍380至440nm之光的LED光源、捕蟲器用螢光燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。

關於紫外線之照射強度，在紫外線B波(波長區域280nm以上310nm以下)之情形，通常為100mW/cm²以上3,000mW/cm²以下。紫外線照射強度較佳係在對陽離子聚合起始劑或自由基聚合起始劑之活性化為有效的波長區域之強度。照射紫外線之時間通常為0.1秒以上10分鐘以下，較佳係0.1秒以上5分鐘以下，更佳係0.1秒以上3分鐘以下，再更佳係0.1秒以上1分鐘以下。

紫外線可1次照射或分成複數次而進行照射。雖然亦依使用之聚合起始劑而定，但在波長365nm之累積光量係以設為700mJ/cm²以上為較佳，以1,100mJ/cm²以上為更佳，以1,300mJ/cm²以上為再更佳。設為上述累積光量係在提高構成液晶硬化層105之聚合性液晶化合物的聚合率，並提高耐熱性上為有利。在波長365nm之累積光量係以設為2,000mJ/cm²以下為較佳，以1,800mJ/cm²以下為更佳。設為上述累積光量有招致液晶硬化層105的著色之虞。

液晶硬化層105之厚度係以0.5μm以上為較佳。又，液晶硬化層105之厚度係以10μm以下為較佳，以5μm以下為更佳。又，上述之 上限值及下限值係可任意地組合。若液晶硬化層105之厚度為前述下限值以上，則可獲得充分的耐久性。若液晶硬化層105之厚度為前述上限值以下，則可有助於積層體1之薄層化。為了獲得會賦予λ/4之相位差的層、會賦予λ/2之相位差的層、或正C層之所希望的面內相位差值、及厚度方向之相位差值，可調整液晶硬化層105之厚度。

液晶硬化層105可為積層有分別具有各別相異的相位差特性之複數個液晶硬化相位差層者。液晶硬化層105包含複數個液晶硬化相位差層時，液晶硬化相位差層可為2層或3層以上。各別之液晶硬化相位差層可使用接著劑層而積層，亦可在已經形成的液晶硬化相位差層之表面塗敷含有聚合性液晶化合物的組成物並使其硬化。

液晶硬化相位差層係從第2接著劑層104側起依序由第1液晶硬化相位差層、第3接著劑層、及第2液晶硬化相位差層所構成時，第1液晶硬化相位差層及第2液晶硬化相位差層之任一者可為λ/4層，較佳係第1液晶硬化相位差層為λ/4層，第2液晶硬化相位差層為λ/2層或正C層。

液晶硬化相位差層係從第2接著劑層104側起依序由第1液晶硬化相位差層、第3接著劑層、及第2液晶硬化相位差層所構成時，第1液晶硬化相位差層及第2液晶硬化相位差層之任一者可為λ/2層，較佳係第1液晶硬化相位差層為λ/2層，第2液晶硬化相位差層為λ/4層。

液晶硬化相位差層係從第2接著劑層104側起依序由第1液晶硬化相位差層、第3接著劑層、及第2液晶硬化相位差層所構成時，第1液晶硬化相位差層及第2液晶硬化相位差層之任一者可為正C層，較佳係第1液 晶硬化相位差層為λ/4層或正C層，第2液晶硬化相位差層為正C層或λ/4層。

液晶硬化層105可包含接著劑層、基材及/或當形成液晶硬化層105時用以使聚合性液晶化合物定向之定向層。液晶硬化層105具有基材時，基材通常係當液晶硬化層105貼合於直線偏光板時被去除。

接著劑可列舉：紫外線硬化性接著劑等活性能量線硬化性接著劑、或聚乙烯醇系樹脂之水溶液或者在聚乙烯醇系樹脂之水溶液中調配交聯劑而成之水溶液、胺基甲酸酯系乳化液接著劑等水系接著劑。液晶硬化層105包含2層以上之接著劑層時，接著劑可為相同種類，亦可為不同種類。接著劑層之厚度例如可為0.1μm以上15μm以下。

液晶硬化層105為積層有複數個液晶硬化相位差層者時，液晶硬化層105之厚度例如可為0.1μm以上50μm以下，較佳係1μm以上30μm以下，更佳係0.5μm以上15μm以下。

[基材]

包含聚合性液晶化合物之硬化物的層係例如可形成於已設置在基材之定向層上。基材可為具有支撐定向層之功能並形成為長條之基材。該基材係作為離型性支撐體發揮功能，並可支撐轉印用之液晶硬化層或定向層。再者，以其表面具有可剝離的程度之接著力者為較佳。基材可列舉具有透光性(較佳係光學上透明)的熱塑性樹脂膜。熱塑性樹脂膜可列舉上述之偏光片保護層的說明中所例示者。

基材可施予各種之防止沾黏處理。防止沾黏處理可列舉例如易接著處理、摻混填充劑等之處理、壓紋加工(滾紋(knurling)處理)等。藉 由對於基材施予如此的防止沾黏處理，可有效地防止捲取基材時之基材彼此間的黏貼(所謂的沾黏)，並有容易提高生產性之傾向。

[定向層]

包含聚合性液晶化合物之硬化物的層係隔著定向層而形成於基材上。亦即，以基材、定向層之順序積層，並且包含聚合性液晶化合物之硬化物的層係積層於前述定向層上。

又，定向層係不限於垂直定向層，而可為使聚合性液晶化合物之分子軸水平定向的定向層，亦可為使聚合性液晶化合物之分子軸傾斜定向的定向層。定向層較佳係具有不因後述之包含聚合性液晶化合物的組成物之塗敷等而溶解的耐溶劑性，並具有在用以去除溶劑或定向液晶化合物之加熱處理中之耐熱性者。定向層可列舉：包含定向性聚合物之定向層、光定向膜及在表面形成有凹凸圖案或複數個溝並定向的溝定向層。定向層之厚度通常為10nm以上10000nm以下之範圍。

又，定向層係具有支撐液晶硬化層105的功能，並可發揮離型性支撐體的功能。可為可支撐轉印用之液晶硬化層並且其表面具有可剝離的程度之接著力者。

使用於定向層的樹脂可使用聚合性化合物經聚合而成的樹脂。聚合性化合物係具有聚合性基之化合物，且通常係不成為液晶狀態的非液晶性之聚合性非液晶性化合物。藉由聚合性化合物之聚合性基彼此反應並且聚合性化合物進行聚合，而成為樹脂。如此的樹脂只要為在液晶硬化層105之形成階段利用來作為用以使聚合性液晶化合物定向的定向層且不被包含於液晶硬化層105者，只要為使用來作為公知之定向層的材料的 樹脂，並無特別限定，可使用使以往公知之單官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯系單體在聚合起始劑下硬化而成的硬化物等。具體而言，(甲基)丙烯酸酯系單體可例示例如：丙烯酸2-乙基己基酯、丙烯酸環己基酯、二乙二醇單2-乙基己基醚丙烯酸酯、二乙二醇單苯基醚丙烯酸酯、四乙二醇單苯基醚丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酸月桂基酯、甲基丙烯酸月桂基酯、丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸異莰酯、丙烯酸2-苯氧基乙基酯、丙烯酸四氫呋喃甲酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸四氫呋喃甲酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸、胺基甲酸酯丙烯酸酯等。又，樹脂可為此等中之1種，亦可為2種以上之混合物。

定向層係在形成液晶硬化層105之後，在與直線偏光板等積層之步驟的前後，可與基材一起剝離去除。

又，就提升與基材之剝離性及對液晶硬化層105賦予膜強度之目的而言，可在液晶硬化層105中含有定向層。液晶硬化層105含有定向層時，較佳係作為使用於定向層之樹脂而使用使單官能或2官能之(甲基)丙烯酸酯系單體、醯亞胺系單體或者乙烯基醚系單體硬化而成的硬化物等。

單官能之(甲基)丙烯酸酯系單體可列舉：碳數4至16之(甲基)丙烯酸烷基酯、碳數2至14之(甲基)丙烯酸β羧基烷基酯、碳數2至14之(甲基)丙烯酸烷基化苯基酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸異莰酯等，

2官能之(甲基)丙烯酸酯系單體可列舉：1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯；1,3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯；1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；聚乙二醇二丙烯酸酯；雙酚A之雙(丙烯醯氧基乙基)醚；乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯；丙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及3-甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。

又，使醯亞胺系單體硬化而成的醯亞胺系樹脂可列舉聚醯胺、聚醯亞胺等。又，醯亞胺系樹脂可為此等中之1種，亦可為2種以上之混合物。

又，就形成定向層之樹脂而言，可包含單官能或2官能之(甲基)丙烯酸酯系單體、醯亞胺系單體及乙烯基醚系單體以外之單體，但單官能或2官能之(甲基)丙烯酸酯系單體、醯亞胺系單體及乙烯基醚系單體之含有比率，在總單體中可為50質量%以上，以55質量%以上為較佳，以60質量%以上為更佳。

在液晶硬化層105中包含定向層時，定向層之厚度通常為10nm以上10000nm以下之範圍，液晶硬化層105之定向性相對於膜面為面內定向時，定向層之厚度係以10nm以上1000nm以下為較佳，液晶硬化層105之定向性相對於膜面為垂直定向時，以100nm以上10000nm以下為較佳。若定向層之厚度為上述範圍內，則可賦予基材之剝離性提升及適度的膜強度。

[附表面保護膜的積層體]

附表面保護膜的積層體包含積層體1、積層於偏光片保護層101之硬塗層100側的表面保護膜。

表面保護膜係例如在於圖像顯示元件或其他光學構件貼合偏光板之後，連同其所具有的黏著劑層一起被剝離去除。

表面保護膜係例如由基材膜與積層於基材膜上之黏著劑層所構成。有關黏著劑層係適用有關上述之貼合層的說明。構成基材膜之樹脂係例如可為如聚乙烯等聚乙烯系樹脂、如聚丙烯等聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等熱塑性樹脂。較佳係聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂。

表面保護膜之厚度並無特別限定，但例如以設為20μm以上200μm以下之範圍為較佳。若基材之厚度為20μm以上，則有變得容易對積層體1賦予強度之傾向。

[附黏著劑層之積層體]

積層體1可在液晶硬化層105側之最外面配置黏著劑層。黏著劑層可為用以在積層體1貼合觸控感測面板或圖像顯示元件等之層。黏著劑層通常係由黏著劑所構成。構成黏著劑層之黏著劑係無特別限制，可使用以往公知之黏著劑，可使用具有丙烯酸系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚乙烯基醚系聚合物等基質聚合物的黏著劑。又，可為活性能量線硬化型黏著劑、熱硬化型黏著劑等。黏著劑層可具有分離膜。

[積層體之層構成]

圖3係表示積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。圖3所示的積層體2係具備：硬塗層100、偏光片保護層101、第1接著劑層102、偏光片 103、第2接著劑層104、第1液晶硬化相位差層111、第3接著劑層112、及第2液晶硬化相位差層113。

圖4係表示積層體之層構成的再另一例之概略剖面圖。圖4所示的積層體3係具備：表面保護膜114、硬塗層100、偏光片保護層101、第1接著劑層102、偏光片103、第2接著劑層104、第1液晶硬化相位差層111、第3接著劑層112、及第2液晶硬化相位差層113。

圖5係表示積層體之層構成的其他之例的概略剖面圖。圖5所示之積層體4係具備：硬塗層100、偏光片保護層101、第1接著劑層102、偏光片103、第2接著劑層104、第1液晶硬化相位差層111、第3接著劑層112、第2液晶硬化相位差層113、黏著劑層115、及分離膜116。

圖6係表示積層體之層構成的再其他之例的概略剖面圖。圖6所示之積層體5係具備：表面保護膜114、硬塗層100、偏光片保護層101、第1接著劑層102、偏光片103、第4接著劑層106、偏光片保護層107、第2接著劑層104、第1液晶硬化相位差層111、第3接著劑層112、第2液晶硬化相位差層113、黏著劑層115、及分離膜116。

[積層體之製造方法]

積層體1例如可藉由使具備硬塗層100之偏光片保護層101、與偏光片103隔著第1接著劑層102貼合而製作直線偏光板，並使直線偏光板與液晶硬化層105隔著第2接著劑層104貼合來製造。進行貼合時，為了提高密著性，較佳係對於貼合面之一面或兩面實施例如電暈處理等表面活性化處理。

使用於第2接著劑層104之黏著劑層係能以黏著片之形式準備。黏著片例如可藉由在甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑中使黏著劑組成物溶解或分散而調製黏著劑液，使黏著劑液於經施予離型處理之剝離膜上而使由黏著劑所構成的層預先形成為片狀，在該黏著劑層上再貼合另一剝離膜的方式等來製作。可藉由將已剝離其中一剝離膜的黏著片貼合於其中一層，然後，剝離另一剝離膜，並貼合另一層的方法而貼合各層。

將黏著劑液塗敷於剝離膜上之方法係只要採用使用了模具塗佈機、缺角輪塗佈機(comma coater)、反向輥塗佈機、凹版塗佈機、桿塗佈機、線棒塗佈機、刮刀塗佈機、氣動刮刀塗佈機等的通常之塗敷技術即可。

剝離膜較佳係由塑膠膜與剝離層所構成。塑膠膜可列舉聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、及聚萘二甲酸乙二酯膜等聚酯膜、或聚丙烯膜等聚烯烴膜。又，剝離層係例如可由剝離層形成用組成物形成。構成剝離層形成用組成物之主要成分(樹脂)並無特別限定，但可列舉聚矽氧樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸樹脂、及長鏈烷基樹脂等。

<圖像顯示裝置>

本發明之積層體係可使用於圖像顯示裝置。所謂圖像顯示裝置係指具有圖像顯示面板之裝置，且含有發光元件或發光裝置作為發光源。圖像顯示裝置可列舉例如液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸控面板顯示裝置等。積層體可配置於圖像顯示面板之辨識側。積層體可隔著貼合層而積層於圖像顯示裝置上。

<可撓性圖像顯示裝置用積層體>

積層體1可為可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中該可撓性圖像顯示裝置用積層體係具備：於積層體1之辨識側的後述之前面板、及於積層體1之前面板側或相反側的後述之觸控面板。可撓性圖像顯示裝置係由可撓性圖像顯示裝置用積層體、及有機EL顯示面板所構成，且相對於有機EL顯示面板在辨識側配置可撓性圖像顯示裝置用積層體，並可彎曲地構成。可撓性圖像顯示裝置用積層體可包含積層體1、及前面板及觸控面板之任一者或兩者，其等之積層順序雖為任意，但較佳係從辨識側起依序積層前面板(window)、積層體1、觸控面板，或依序積層前面板、觸控面板、積層體1。若積層體1存在於觸控面板之辨識側，則觸控面板之圖案變得不易被辨識且顯示圖像之辨識性變佳，故為較佳。各別之構件可使用接著劑或黏著劑等而積層。又，可具備在前面板、積層體1及觸控面板之任意層的至少一面所形成的遮光圖案。

[前面板]

在積層體1之辨識側可配置前面板。前面板可隔著接著層而積層於積層體1。接著層可列舉例如前述之黏著劑層或接著劑層。

前面板可列舉玻璃、在樹脂膜之至少一面含有硬塗層而成者等。玻璃係例如可使用高穿透玻璃、或強化玻璃。尤其在使用薄的透明面材時，以經施予化學強化的玻璃為較佳。玻璃之厚度例如可設為20μm以上5mm以下。

在樹脂膜之至少一面含有硬塗層而成的前面板不會像已知的玻璃般地硬直，而可具有可撓性的特性。硬塗層之厚度並無特別限定，例如可為5μm以上100μm以下。

樹脂膜可為由具有如降莰烯或多環降莰烯系單體等包含環烯烴的單體之單元的環烯烴系衍生物、纖維素(二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素、乙醯基纖維素丁酸酯、異丁基酯纖維素、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚環烯烴、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚丙烯酸、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚胺基甲酸酯、環氧樹脂等高分子所形成的膜。樹脂膜可使用未延伸、單軸或二軸延伸膜。此等高分子可分別單獨使用或混合2種以上而使用。樹脂膜較佳係透明性及耐熱性優異的聚醯胺醯亞胺膜或聚醯亞胺膜、單軸或二軸延伸聚酯膜、透明性及耐熱性優異並且可對應膜之大型化的環烯烴系衍生物膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜及無透明性與光學上異向性的三乙醯基纖維素及異丁基酯纖維素膜。樹脂膜之厚度為5μm以上200μm以下，較佳係可為20μm以上100μm以下。

[遮光圖案]

遮光圖案(遮光屏(bezel))可形成於前面板之顯示元件側。遮光圖案可隱藏顯示裝置之各配線，以免被使用者辨識。遮光圖案之顏色及/或材質並無特別限制，可由具有黑色、白色、金色等各種顏色的樹脂物質形成。在一實施型態中，遮光圖案之厚度可為2μm以上50μm以下，較佳係可為4μm以上30μm以下，更佳係可為6μm以上15μm以下之範圍。又，為了 抑制因遮光圖案與顯示部之間的高低差所導致的氣泡混入及境界部之辨識，可對遮光圖案賦予形狀。

[觸控面板]

觸控面板係被使用來作為輸入手段。就觸控面板所具有的觸控感測器而言，已提出電阻膜方式、表面彈性波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電容量方式等各種的樣式，任一方式皆可。其中，以靜電容量方式為較佳。區分為靜電容量方式觸控感測器之活性區域及位於前述活性區域之外廓部的非活性區域。活性區域係對應於在顯示面板中顯示畫面的區域(顯示部)之區域且係偵測使用者之觸控的區域，非活性區域係對應於在顯示裝置中未顯示畫面的區域(非顯示部)之區域。觸控面板可包含：具有可撓性的特性之基板；形成在前述基板之活性區域的偵測圖案；形成於前述基板之非活性區域且用以使前述偵測圖案隔著墊部而與外部之驅動電路連接之各感測線。具有可撓性的特性之基板可使用與前面板之透明基板相同的材料。

一邊參照圖7，一邊說明有關可撓性圖像顯示裝置用積層體之層構成。圖7所示的可撓性圖像顯示裝置用積層體6係具備：積層體120、在積層體120之辨識側隔著黏著劑層122之前面板121、及在積層體120之與辨識側為相反側隔著黏著劑層115之觸控面板123。積層體120係具備：硬塗層100、偏光片保護層101、第1接著劑層102、偏光片103、第2接著劑層104、第1液晶硬化相位差層111、第3接著劑層112、第2液晶硬化相位差層113、及黏著劑層115。

[實施例]

以下，藉由實施例更詳細說明本發明。例中之「%」及「份」係只要無特別記載，即為質量%及質量份。

[鉛筆硬度之測定]

依據JIS K 5600-5-4：1999「塗料一般試驗方法-第5部：塗膜之機械性質-第4節：刮痕硬度(鉛筆法)」所規定的鉛筆硬度試驗，使具有硬塗層的偏光片保護層之硬塗層側朝上而放置在玻璃板上並進行測定。又，鉛筆硬度5B係比鉛筆硬度3B更柔軟，鉛筆硬度2B係比鉛筆硬度3B更硬。

[按壓輥之硬度]

使用JIS K 6253所規定的A型硬度計(Durometer)硬度試驗機(ASKER公司製之橡膠硬度計「Type-A」)，測定在溫度23℃、相對濕度50%下之硬度〔°〕。

[層之厚度]

對於液晶硬化層係使用接觸式膜厚測定裝置(NIKON股份有限公司製「MS-5C」)而測定。

〔實施例1〕

(原料積層體之製作)

準備使碘吸附定向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之直線偏光片(厚度8μm)。在該直線偏光片之一面，隔著屬於水系接著劑之第1接著劑層，貼合形成有鉛筆硬度為5B之硬塗(HC)層的環狀烯烴系樹脂(COP)膜(厚度25μm)(以下，有時稱為「HC(A)-COP膜」)之COP膜側(與HC層側為相反側)。在直線偏光片之另一面，隔著水系接著劑，貼合作為偏光片保護層之三乙醯基纖維素(TAC)膜(厚度20μm)。藉此，獲得直線偏光板。直線偏 光板為依序積層有HC(A)-COP膜(HC層、COP膜)、直線偏光片及TAC膜者。HC(A)-COP膜係具有410nm吸光度為0.9之穿透特性者。

其次，準備相位差層，該相位差層係依序積層有屬於包含聚合性液晶化合物的硬化物之液晶硬化層的λ/4板(厚度2μm)、由紫外線硬化性接著劑之硬化物所構成的第3接著劑層(厚度2μm)、及屬於包含聚合性液晶化合物的硬化物之液晶硬化層的正C板(厚度3μm)。藉由屬於黏著劑層之第2接著劑層(厚度15μm)而貼合直線偏光板之TAC膜與相位差層之λ/4板。繼而，準備附剝離膜的黏著劑層，該附剝離膜的黏著劑層為在剝離膜(厚度38μm)上形成有使用丙烯酸系黏著劑所形成的黏著劑層(厚度25μm)者。在被貼合於直線偏光板之相位差層的正C板側，貼合附剝離膜的黏著劑層之黏著劑層，裁切成長邊之長度為100mm、短邊之長度為100mm之長方形而獲得原料積層體。原料積層體為依序積層有直線偏光板(HC(A)-COP膜、第1接著劑層、直線偏光片、及TAC膜)、屬於黏著劑層之第2接著劑層、相位差層(λ/4板、第3接著劑層、正C板)、及附剝離膜的黏著劑層(黏著劑層、剝離膜)者。在原料積層體中，從直線偏光板(HC(A)-COP膜、直線偏光片、TAC膜)起至附剝離膜的黏著劑層(黏著劑層、剝離膜)為止之積層部分的厚度為138μm。

(原料積層體之捲曲量之測定)

一邊參照圖8，一邊說明有關原料積層體之捲曲量的測定方法。將原料積層體放置於已設定為爐內溫度80℃的烘箱中，以在實施例及比較例中捲曲量成為同程度的方式調整。使凹側之面朝上而將原料積層體7放置在基準面8(水平的台)上。以此狀態對於原料積層體7之4個角a、b、c、d 分別測定自基準面8起之高度，以其等4個高度的平均之形式求出捲曲量〔mm〕。原料積層體7之HC(A)-COP膜側成為凹狀之狀態為具有正捲曲的狀態，原料積層體7之HC(A)-COP膜側成為凸狀的狀態為具有逆捲曲之狀態。在表1中，捲曲量之值為正的值時係表示正捲曲，負的值時係表示逆捲曲。捲曲係產生在與直線偏光片之吸收軸方向(圖8中，箭號A方向)平行的端部。將結果表示於表1中。

(附表面保護膜的積層體之製作)

在如上述方式測定捲曲量後之原料積層體的HC(A)-COP膜側之HC表面，貼合已在聚酯系樹脂膜(厚度38μm)上形成有丙烯酸系黏著劑層(厚度15μm)的表面保護膜(厚度53μm)之丙烯酸系黏著劑層側，並插入於一對之按壓輥間，通過按壓輥。藉此，獲得附表面保護膜的積層體。一對之按壓輥係使用由NBR(腈橡膠)所構成者〔硬度70°、輥徑70mm〕。又，藉由按壓輥而對貼合有表面保護膜之積層體所施予的壓力(夾持壓)為0.8MPa。此時，在原料積層體之吸收軸方向的貼合前張力為80N/m，表面保護膜之貼合前張力為0N/m至10N/m。又，對於貼合後之張力係調整成0N/m至10N/m。

(附表面保護膜的積層體之捲曲量的測定)

對於所得到的附表面保護膜的積層體，依據以下之方法而測定捲曲量。使凹側之面朝上而將附表面保護膜的積層體放置於基準面(水平的台)上。與原料積層體之捲曲量的測定同樣地，對於附表面保護膜的積層體之4個角分別測定自基準面起之高度，以其等4個高度的平均之形式求出捲曲量〔mm〕。附表面保護膜的積層體之表面保護膜側成為凹狀之狀態為具有正 捲曲的狀態，附表面保護膜的積層體之表面保護膜側成為凸狀的狀態為具有逆捲曲之狀態。在表1中，捲曲量之值為正的值時係表示正捲曲，負的值時係表示逆捲曲。將結果表示於表1中。捲曲係產生在與直線偏光片之吸收軸方向平行的端部。

〔實施例2〕

(原料積層體之製作)

準備使碘吸附定向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之直線偏光片(厚度8μm)。在該直線偏光片之一面，隔著屬於水系接著劑之第1接著劑層，貼合形成有鉛筆硬度為5B之硬塗(HC)層的環狀烯烴系樹脂(COP)膜(厚度25μm)(以下，有時稱為「HC(A)-COP膜」)之COP膜側(與HC層側為相反側)。藉此，獲得直線偏光板。該直線偏光板為依序積層有HC(A)-COP膜(HC層、COP膜)、直線偏光層者。HC(A)-COP膜係具有410nm吸光度為0.9之穿透特性者。

其次，準備相位差層，該相位差層係依序積層有屬於包含聚合性液晶化合物的硬化物之液晶硬化層的λ/4板(厚度2μm)、由紫外線硬化性接著劑之硬化物所構成的第3接著劑層(厚度2μm)、及屬於聚合性液晶化合物的硬化物層之正C板(厚度3μm)。藉由屬於黏著劑層之第2接著劑層(厚度5μm)而貼合直線偏光板之直線偏光片與相位差層之λ/4板。繼而，準備附剝離膜的黏著劑層，該附剝離膜的黏著劑層為在剝離膜(厚度38μm)上形成有使用丙烯酸系黏著劑所形成的黏著劑層(厚度15μm)者。在被貼合於直線偏光板之相位差層的正C板側，貼合附剝離膜的黏著劑層之黏著劑層，裁切成長邊之長度為100mm、短邊之長度為100mm的長方形 而獲得原料積層體。原料積層體係依序積層有直線偏光板(HC(A)-COP膜、第1接著劑層及直線偏光片)、屬於黏著劑層之第2接著劑層、相位差層(λ/4板、第3接著劑層、正C板)、及附剝離膜的黏著劑層(黏著劑層、剝離膜)者。在原料積層體中，從直線偏光板(HC(A)-COP膜、直線偏光片、TAC膜)起至附剝離膜的黏著劑層(黏著劑層、剝離膜)為止之積層部分的厚度為98μm。對於所得到的原料積層體，以與實施例1同樣的方式，進行原料積層體之捲曲量的測定，然後，製作附表面保護膜的光學積層體而進行捲曲量之測定。將結果表示於表1中。

〔比較例1〕

(原料積層體之製作)

準備使碘吸附定向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之直線偏光片(厚度8μm)。在該直線偏光片之一面，隔著屬於水系接著劑之第1接著劑層，貼合形成有鉛筆硬度為2B之硬塗(HC)層的環狀烯烴系樹脂(COP)膜(厚度25μm)(以下，有時稱為「HC(B)-COP膜」)之COP膜側(與HC層側為相反側)。在直線偏光片之另一面，隔著水系接著劑，貼合作為偏光片保護層之三乙醯基纖維素(TAC)膜(厚度20μm)。藉此，獲得直線偏光板。直線偏光板係依序積層有HC(B)-COP膜(HC層、COP膜)、第1接著劑層、直線偏光片、及TAC膜者。HC(B)-COP膜係具有410nm吸光度為0.1之穿透特性者。

其次，準備相位差層，該相位差層係依序積層有屬於聚合性液晶化合物的硬化物層之λ/4板(厚度2μm)、由紫外線硬化性接著劑之硬化物所構成的第3接著劑層(厚度2μm)、及屬於聚合性液晶化合物的硬化 物層之正C板(厚度3μm)。藉由屬於黏著劑層之第2接著劑層(厚度15μm)而貼合附表面保護膜的偏光板之TAC膜、與相位差層之λ/4板。繼而，準備附剝離膜的黏著劑層，該附剝離膜的黏著劑層為在剝離膜(厚度38μm)上形成有使用丙烯酸系黏著劑所形成的黏著劑層(厚度25μm)者。在被貼合於直線偏光板之相位差層的正C板側，貼合附剝離膜的黏著劑層之黏著劑層，裁切成長邊之長度為100mm、短邊之長度為100mm的長方形而獲得原料積層體。原料積層體係依序積層有直線偏光板(HC(B)-COP膜、第1接著劑層、直線偏光片及TAC膜)、屬於黏著劑層之第2接著劑層、相位差層(λ/4板、第3接著劑層、正C板)、及附剝離膜的黏著劑層(黏著劑層、剝離膜)者。在原料積層體中，從直線偏光板(HC(B)-COP膜、直線偏光層、TAC膜)起至附剝離膜的黏著劑層(黏著劑層、剝離膜)為止之積層部分的厚度為138μm。對於所得到的原料積層體，以與實施例1同樣的方式，進行原料積層體之捲曲量的測定，然後，製作附表面保護膜的光學積層體而進行捲曲量之測定。將結果表示於表1中。

[表1]

Claims (13)

1. 一種附表面保護膜的積層體之製造方法，係製造具備表面保護膜與積層體之附表面保護膜的積層體，

   前述積層體係依序具備偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層；

   前述製造方法係包含下列步驟：

   貼合步驟，係在前述積層體之前述偏光片保護層側以可剝離的方式貼合前述表面保護膜，而獲得貼合有表面保護膜之積層體；及

   按壓步驟，係使前述貼合有表面保護膜之積層體朝向一方向，並插入於一對之按壓輥間，藉由通過前述按壓輥間而進行按壓；其中，

   前述偏光片保護層之與前述偏光片為相反側的表面之鉛筆硬度為3B或者比3B更軟。
2. 如請求項1所述之附表面保護膜的積層體之製造方法，其中，前述一對之按壓輥的表面硬度為60°以上90°以下。
3. 如請求項1或2所述之附表面保護膜的積層體之製造方法，其中，在前述按壓步驟中，對前述貼合有表面保護膜之積層體賦予的壓力為0.5MPa以上1.0MPa以下。
4. 如請求項1至3中任一項所述之附表面保護膜的積層體之製造方法，其中，在前述按壓步驟中，前述貼合有表面保護膜之積層體的張力為0N/m以上30N/m以下。
5. 一種積層體，係依序具備偏光片保護層、第1接著劑層、偏光片、第2接著劑層及液晶硬化層；

   前述偏光片保護層係在與前述偏光片為相反側具有硬塗層，

   前述硬塗層之表面的鉛筆硬度為3B或者比3B更軟。
6. 如請求項5所述之積層體，其中，前述積層體之厚度為70μm以下。
7. 如請求項5或6所述之積層體，其中，前述偏光片之硬塗層側的任意層為紫外線吸收性者。
8. 如請求項5至7中任一項所述之積層體，其中，前述偏光片之硬塗層側的任意層在波長410nm之吸光度為0.5以上。
9. 如請求項5至8中任一項所述之積層體，其中，前述偏光片係包含二色性色素及聚乙烯醇系樹脂膜。
10. 如請求項5至9中任一項所述之積層體，其中，前述液晶硬化層係從前述第2接著劑層側起依序包含第1液晶硬化相位差層、第3接著劑層、及第2液晶硬化相位差層。
11. 一種附表面保護膜的積層體，係包含請求項5至10中任一項所述之積層體、及被積層於前述偏光片保護層之硬塗層側的表面保護膜。
12. 一種圓偏光板，係包含請求項5至10中任一項所述之積層體。
13. 一種可撓性圖像顯示裝置用積層體，係包含請求項5至10中任一項所述之積層體、及前面板或觸控感測器。

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