TW202223270A

TW202223270A - 流體控制機器

Info

Publication number: TW202223270A
Application number: TW110141866A
Authority: TW
Inventors: 辻野健吾; 丹野竜太郎; 芝田裕登; 原田章弘; 中田知宏; 篠原努
Original assignee: 日商富士金股份有限公司
Priority date: 2020-11-30
Filing date: 2021-11-10
Publication date: 2022-06-16
Also published as: WO2022113514A1; TWI795066B

Abstract

本發明提供一種小型而且可取得關於機器之內部動作之資料的流體控制機器。流體控制機器V係配置於流體的流路中，且可取得關於內部動作的資料，該流體控制機器V係具備：感測器罩帽44，係安裝有用以檢測流體控制機器內之動作的一個或複數個感測器M2；閥體1，係與感測器罩帽連結；隔膜42，係在閥體的內部中，被保持於感測器罩帽的下方；罩蓋部5，係覆蓋感測器罩帽的外周；及電路基板60，係電性連接於感測器，並且在罩蓋部的內側中配設成電路基板的厚度方向和流路方向為同方向。

Description

流體控制機器

本揭示係關於一種在機器內具備感測器，並且可將經由該感測器所檢測出的資料予以輸出的流體控制機器。

在要於半導體晶圓之表面形成薄膜的成膜處理中係要求薄膜的微細化，近年來已使用一種以原子級或分子級的厚度來形成薄膜的ALD(Atomic Layer Deposition，原子層沉積)的成膜方法。

然而，此種薄膜的微細化係對於流體控制機器要求比迄今為止更高頻率的開閉動作，而會有因為該負荷而容易引起流體之洩漏等的情形。因此，對於可容易偵測出流體控制機器中之流體之洩漏之技術的要求已日益升高。

關於此點，在專利文獻1中已提出一種閥裝置，其係具備適配器固定環，該適配器固定環係在推壓接觸隔膜(diaphragm)及隔膜之周緣部的推壓適配器(adapter)的狀態下固定於閥體(valve body)內。在專利文獻2中已提出一種流體控制機器，其係具有安裝有用以檢測流體控制機器內之動作之感測器的罩帽(bonnet)部，而在閥體中係設有使連接於感測器之通訊用的纜線導出至外側並且與形成有流路之基台部為相反側的一端呈開口且貫通形成的狹縫(slit)。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特許第6170635號公報

專利文獻2：日本國際公開第2020/012828號公報

本發明之目的之一為提供一種既小型又可取得機器之內部動作的流體控制機器。

為了達成上述目的，本發明之一型態的流體控制機器係配置於流體的流路中，且可取得關於內部動作的資料，該流體控制機器係具備：感測器罩帽，係安裝有用以檢測前述流體控制機器內之動作的一個或複數個感測器；閥體，係與前述感測器罩帽連結；隔膜，係在前述閥體的內部中，被保持於前述感測器罩帽的下方；罩蓋(cover)部，係覆蓋前述感測器罩帽的外周；及電路基板，係電性連接於前述感測器，並且在前述罩蓋部的內側中配設成電路基板的厚度方向和流路方向為同方向。

亦可設為前述電路基板係在前述罩蓋部的內側中配設於前述感測器罩帽的上游側或下游側。

亦可設為在前述閥體中，於同一直線上形成有供前述流體流入的流入口、供前述流體流出的流出口、及將前述流體控制機器固定於前述流路中的固定部。

亦可設為在前述罩蓋部的上部形成有連通前述罩蓋部的內側和外側的溝，且連接於前述電路基板的纜線係插入於前述溝且朝鉛直方向被導出。

亦可設為更具備：發光部，係依據前述隔膜的開閉而點亮熄滅；及軸桿(stem)，係滑動於前述感測器罩帽的內部，且依據滑動而開閉前述隔膜；前述發光部係連接於前述電路基板，並且隔著前述軸桿而配設在相對於前述電路基板相對向的位置。

亦可設為前述感測器罩帽的外周面係呈圓筒面的一部分切成平面的形狀，且供前述感測器連結的感測器安裝部係配設於前述平面。

亦可設為前述電路基板係至少具有中央部、和連接有前述感測器的第一端部，且前述中央部和前述第一端部係藉由具有可撓性的臂部而彼此連接。

依據本發明的流體控制機器，既小型，又可取得關於機器之內部動作的資料。

1:閥體

1b:底面

3:外殼

4:罩帽部

5:罩蓋部

12a:螺紋孔

14:貫通孔

31:軸桿

31a:切口部

31b:鍵槽

41:片材

42:隔膜

43:隔膜推壓部

44:感測器罩帽

44a:平面

44b:感測器安裝部

44c,44d:螺紋孔

44e:開口部

44f:頸縮部

44g:貫通孔

45:螺釘

51:第一罩蓋

51a,51b:側壁

51c:壁

52:第二罩蓋

60:電路基板

61:纜線

62:發光部

111a:第一流路

111b,112b,113b:保持部

112a:第二流路

113a:第三流路

200:流路塊

310:導入管

441,442:螺紋部

500:軌道構件

511:凸部

512:孔

513,523:嵌合部

514,524:基板收容部

515:開口部

514a,515a:溝

516,526:發光部收容部

517,527:凹部

517a:第一溝

517b:第二溝

521,522:孔

525:溝

M:磁性感測器部

M1:磁性體

M2:磁性感測器

圖1係顯示本發明之實施型態之流體控制機器的(a)外觀俯視圖、(b)前視圖、(c)右側視圖。

圖2係顯示本實施型態之流體控制機器之內部構造之從背面側觀看時的放大部分縱剖面圖。

圖3係顯示本實施型態之流體控制機器所具備之軸桿的前視圖。

圖4係從本實施型態之流體控制機器所具備之罩帽部之(a)正面側觀看時的立體圖、(b)從背面側觀看時的立體圖。

圖5係本實施型態之流體控制機器所具備之(a)第一罩蓋的立體圖、(b)第二罩蓋的立體圖。

圖6係顯示使用本實施型態之流體控制機器之流體控制裝置之一例的(a)前視圖、(b)右側視圖。

圖7係顯示使用相關技術之流體控制機器之流體控制裝置之一例的(a)前視圖、(b)右側視圖。

圖8係顯示本實施型態之流體控制機器所具備之電路基板的前視圖。

以下參照圖式來說明本發明之實施型態的流體控制機器。在各圖中，將流路方向設為y方向，正交於流路方向的方向亦即流體控制機器V的寬度方向設為x方向，鉛直方向設為z方向。

本實施型態之流體控制機器V係內建檢測流體控制機器V之內部動作的感測器，且執行藉由有線與其他終端等進行通訊之空氣作動式的直接隔膜閥(Direct Diaphragm Valve)。

另外，在此所稱的其他終端，除伺服器(server)等所謂的電腦(computer)外，還包含其他流體控制機器或流體控制裝置等機器或裝置。

首先參照圖6來說明適用本發明之流體控制裝置的一例。同圖所示的流體控制裝置係在基底板(base plate)BS上，設有沿著寬度方向(x方向)排列且朝長度方向(y方向)延伸的軌道構件500。另外，-x方向係顯示正面側、+x方向係顯示背面側、-y方向係顯示下游側、+y方向係顯示上游側的方向。在各軌道構件500中係隔著複數個流路塊(block)200而配置有各種流體機器V，且藉由複數個流路塊200，分別形成有供流體從上游側朝向下游側流通之未圖示的流路。

在此，所謂「流體機器」係使用於控制流體之流動之流體控制裝置上的機器，其具備劃定流體流路的本體，且具有在此本體的表面形成開口之至少兩個流路口的機器。具體而言，係包含開閉閥(兩方閥)、調節器(regulator)、測壓儀(pressure gauge)、開閉閥(三方閥)、質量流量控制器(Mass Flow Controller)等，惟不限定於此等。此外，導入管310係連接於上述之未圖示之流路之上游側的流路口。此流體控制裝置係在十二條軌道構件500上分別形成有朝+y方向流動的十二個流路，且各個流路之寬度方向(x方向)的長度為10mm以下，亦即各流體機器的寬度(大小)為10mm以下。

如圖1至圖4所示，本實施型態的流體控制機器V係可取得關於內部動作之資料的機器，主要具備有閥體1、外殼(casing)3、罩帽部4及罩蓋部5。

[閥體1]

閥體1係如圖1和圖2所示，為形成有流路的塊狀構件。閥體1係於yz平面俯視觀察時兩側成為階梯狀，且流路方向(y方向)的長度呈階段性地變窄。閥體1係劃定了在底面1b開口之流體的第一流路111a、第二流路112a、及第三流路113a。第一流路111a係配置在供流體控制機器V配設之流路的上游側，第三流路113a係配置在供流體控制機器V配設之流路的下游側。亦即，其為第一流路111a成為流入路，第三流路113a成為流出路，且底面1b中之第一流路111a的開口為流入口，第三流路113a的開口為流出口之例。此外，連結第一流路111a之開口和第三流路113a之開口的虛擬直線，係與供流體控制機器V配設之流路的方向相同。

在第一流路111a至第三流路113a之底面1b中之開口的周圍，係形成有保持未圖示之密封構件之凹狀的保持部111b、112b、113b。第一流路111a至第三流路113a係經由與底面1b側為相反側之開口所相通的閥室而彼此地連通著。

當要構成藉由複數個流體控制機器V而單元化的流體控制裝置時，閥體1的底面1b係固定於基板或歧管塊(manifold block)上。閥體1的上端係被罩蓋部5夾持且被連結。此外，在閥體1的上端，係朝鉛直方向形成有與感測器罩帽44連結的螺紋孔12a。

在閥體1的底面1b係以隔著螺紋孔12a之方式形成有兩個貫通孔14。貫通孔14係供固定構件例如緊固螺栓(bolt)插入，該固定構件係用以將閥體1固定於如圖6所示之流路塊200上者。亦即，兩個貫通孔14係固定部之例。兩個貫通孔14係在流路方向上沿著流路方向並設在隔膜42的上游側和下游側。換言之，閥體1之第一流路111a的開口(流入口)、第三流路111c的開口(流出口)、和兩個貫通孔14係形成於同一直線上。依據此構成，相較於貫通孔14形成在與通過閥體1之流入口和流出口之虛擬直線上為不同之位置上的構成，可減小正交於流體控制機器V之流路方向的方向亦即寬度方向的厚度。甚至，當如圖6所示使流體控制機器V朝寬度方向並列複數個而集聚來構成流體控制裝置的情形下，亦可使流體控制裝置小型化。

[外殼3]

如圖1、圖2所示，外殼3係整體為圓筒狀，且內建有未圖示的致動器。致動器雖可設為是例如以壓縮空氣使之驅動的活塞等，但亦可採用其他手動、壓電致動器、電磁致動器(solenoid actuator)等各種致動器。內建有致動器的外殼3，係可構成致動器的一部分，亦可與致動器為不同個體。外殼3係隔著感測器罩帽44而固定於閥體1上。

如圖3所示，在感測器罩帽44的內部係具有軸桿31，該軸桿31係藉由內建於外殼3的致動器朝上下方向(z方向)驅動。

軸桿31係具有兩處頸縮部之大致筒狀的構件。在兩處頸縮部之間，係形成有沿著半徑方向切口至大致中央的切口部31a。此切口部31a係形成為供安裝與磁性感測器M2相對向之磁性體M1的磁性體安裝部。安裝於切口部31a的磁性體M1係與軸桿31一同上下地滑動。

此外，在軸桿31中形成有沿著長度方向(z方向)的鍵槽31b。鍵槽31b係供螺釘45插入，該螺釘45係插入於感測器罩帽44的貫通孔44g。當軸桿31欲旋轉時，螺釘45與鍵槽31b的側壁即抵接，防止旋轉。鍵槽31b係形成於軸桿31相對於感測器罩帽44的滑動方向上，因此螺釘45係沿著該鍵槽31b而上下地滑動。亦即，依據此構成，軸桿31與感測器罩帽44中之彼此的旋轉受到限制。甚至，由於固定於軸桿31的磁性體M1、與固定於感測器罩帽44之磁性感測器M2之圓周方向的位置關係受到限制，因此可藉由磁性感測器M2確實地檢測出軸桿31的上下動作。

如圖2所示，在軸桿31的下端係連結有隔膜推壓部43。此外，在隔膜推壓部43的下方，係於閥體1的內部中保持有隔膜42。隔膜推壓部43係下面側呈朝下鼓起的凸面，且在其下面側抵接於隔膜42的中央部，與滑動的軸桿31連動而推壓隔膜42。

[罩帽部4]

罩帽部4係收容於罩蓋部5內，供軸桿31插入，並且保持磁性感測器M2的構件。

罩帽部4主要具備片材41、隔膜42、隔膜推壓部43、及感測器罩帽44。

環狀的片材41係設置在供第一流路111a至第三流路113a連通之位置的周緣。在片材41上係設有隔膜42，該隔膜42係藉由對片材41進行抵接、分離而使流體在第一流路111a至第三流路113a間流通或使流通遮斷。

隔膜42係由不銹鋼、Ni-Co系合金等金屬或氟系樹脂所構成，並且中心部鼓起成凸狀的球殼狀構件，且隔離了流路和致動器所動作的空間。此隔膜42係當供給作為驅動壓的空氣而從隔膜推壓部43所進行的推壓被釋放時，中央部會因為自身的恢復力或流路內的壓力而朝與片材41分離的方向位移而與片材41分離。結果，會使閥室開放，而形成第一流路111a至第三流路113a彼此連通的狀態。另一方面，當作為驅動壓之空氣的供給停止而隔膜42被隔膜推壓部43推壓時，隔膜42的中央部即朝抵接於片材41的方向位移而抵接於片材41。結果，會使閥室被遮斷，而形成第一流路111a至第三流路113a彼此被遮斷的狀態。

隔膜推壓部43係設於隔膜42的上方，且藉由感測器罩帽44支撐為可上下動作，並且與滑動的軸桿31連動地推壓隔膜42的中央部。

如圖4所示，感測器罩帽44係呈大致圓筒狀，且覆蓋閥室而收容於罩蓋部5內。在感測器罩帽44之長度方向上部(+z方向)，係於內側形成有螺紋部441，且供外殼3螺入。在感測器罩帽44的長度方向下部(-z方向)，係於外側形成有螺紋部442，其與閥體1的螺紋孔12a螺合。

如圖4(a)所示，感測器罩帽44之長度方向(z方向)的中央部亦即除螺紋部441、442外之部分的至少一部分，係圓筒面的一部分切成平面狀，且形成有平面44a。在平面44a中係形成有感測器安裝部44b、一對螺紋孔44c、44d、及開口部44e。感測器安裝部44b係貫通感測器罩帽44的孔，且其供磁性感測器M2嵌合。此磁性感測器M2係例如為大致長方體狀。此外，磁性感測器M2係與配設於軸桿31的磁性體M1相對向，而磁性感測器M2係可依據與磁性體M1的位置關係而檢測出隔膜42的開閉狀態(張開、推壓狀態)。另外，磁性體M1亦可為磁鐵。

另外，磁性感測器M2係感測器之例，亦可為其他種類的感測器。

依據感測器安裝部44b形成於切成平面狀而成之平面44a上的構成，在將磁性感測器M2配設於感測器罩帽44的外周面側之際，磁性感測器M2不會朝感測器罩帽44的半徑方向突出。由於感測器罩帽44係對於閥體1藉由螺入而固定，因此感測器罩帽44上之磁性感測器M2的位置，會在量產時的每個個體上產生參差不齊，無法固定。然而，依據上述的構成，感測器安裝部44b配置在哪一個位置，磁性感測器M2都不會朝寬度方向突出。亦即，可使流體控制機器V之寬度方向的厚度變薄，例如可使之為10mm左右。

在貫通孔44g的外周係配設有密封圈等密封材。依據感測器的安裝面成為平坦的平面44a的構成，相較於感測器的安裝面為圓筒面的構成，可防止感測器之電路基板的翹曲。

螺紋孔44c、44d係供固定用以保持磁性體M1之基板(後述的第一端部)的螺釘螺入。開口部44e係可供壓力感測器或音響感測器等其他感測器安裝的開口。

感測器罩帽44的圓筒面與螺紋部442之間係成為頸縮部44f，其供第一罩蓋51的嵌合部513嵌合。

[罩蓋部5]

如圖1、圖2和圖5所示，罩蓋部5主要具有第一罩蓋51、和第二罩蓋52。第一罩蓋51和第二罩蓋52係彼此連結，其覆蓋罩帽部4並且構成保持電路基板60的保持手段。

如圖5(a)所示，第一罩蓋51係正面和底面開口之大致長方體狀的構件。在第一罩蓋51的左右上端，係突出有一對凸部511，此凸部511係在組裝狀態下插入一對孔521，該一對孔521係貫穿設於第二罩蓋52(參照圖5(b))的上端。此外，在第一罩蓋51之後述的嵌合部513附近，係於與凸部511大致同一平面上設有一對孔512。孔512係突出有螺釘等嵌合構件(未圖示)，且該嵌合構件係連結於第二罩蓋52的一對孔522。如此，藉由凸部511、孔521、嵌合構件、和孔522，來連結第一罩蓋51和第二罩蓋52。

在第一罩蓋51之長度方向(z方向)中央下方，係形成有嵌合部513。嵌合部513係三方連結於第一罩蓋51的內壁，且在開放的端邊具有大致U字形切口的平板。此切口係對應感測器罩帽44之頸縮部44f的外周，且感測器罩帽44抵接於嵌合部513。

在第一罩蓋51之-x側的側壁51a係形成有基板收容部514。基板收容部514係由於側壁51a之一部分的壁厚變薄所形成的空隙。此外，基板收容部514的下端係形成有將內壁沿著長度方向(-z方向)切開而成的溝514a。基板收容部514係供電路基板60嵌入，且於罩蓋部5的內部收容電路基板60。此外，電路基板60係嵌合於溝514a，將其相對於第一罩蓋51的位置進行固定。此外，在基板收容部514的上端，於側壁51a中之y方向的至少一部分，亦形成有對應電路基板60之厚度的溝，且形成為可保持電路基板60。依據此構成，相較於電路基板配設在覆蓋感測器罩帽之外側之罩蓋部之更外側的構成，可使流體控制機器V構成為小型。

電路基板60係在第一罩蓋51的內側中，配設成供流體控制機器V配設之流路的流路方向和電路基板60的厚度方向為相同方向。亦即，電路基板60的平面和流路方向係彼此大致正交著。此外，電路基板60係配設於閥體1的上方，且比感測器罩帽44更上游側或下游側。

在此，在圖7所示之相關技術的流體控制裝置中，內建於流體控制機器V1之感測器的電路基板，係配設在覆蓋感測器罩帽之罩蓋的外側。此流體控制機器V1係外徑比本發明的流體控制機器V更大，且寬度亦更大。因此，當並設複數個該流體控制機器V1時，流體控制裝置會變大。

相對於此，本發明的流體控制機器V係電路基板60收容於罩蓋部5的內側，電路基板60不會朝流體控制機器V的寬度方向突出，因此即使朝寬度方向並設複數個流體控制機器V而構成流體控制裝置時，亦可使裝置為小型。

在相對向於側壁51a之-y側的側壁51b，係配設有切口為大致矩形的開口部515。此外，在開口部515中，係沿著形成開口部515的三端邊而形成有溝515a，而可嵌入平板狀的構件。藉由此溝515a，例如，可在開口部515配設其他感測器。

此外，在側壁51b中係形成有發光部收容部516。發光部收容部516係因為側壁51b之一部分的壁厚形成為較薄所形成的空隙。發光部收容部516的下端係形成有將內壁沿著長度方向(z方向)切開而成的溝516a。發光部收容部516係供收容發光元件。發光元件係例如為LED元件，其被保持在要對元件通電的電路基板(後述的第二端部)，且成為依據隔膜42的開閉(張開、推壓)而點亮熄滅的開閉顯示器。此發光元件的電路基板係嵌入於發光部收容部516，並且嵌合於溝516a。發光部收容部516係與基板收容部514相對向，而在組裝狀態下，收容於基板收容部514中的電路基板60和發光部62係隔著軸桿31和感測器罩帽44相對向。發光元件係在此電路基板上，配置成光束朝向上方延伸出。

在形成第一罩蓋51之上部的壁51c，係形成有切口成大致U字形的凹部517。凹部517係對應外殼3之外周面的形狀。在凹部517的內周面，係形成有朝向側壁51a切開而成的第一溝517a。第一溝517a係位於基板收容部514的上方，其供從收容於基板收容部514之電路基板60伸出的纜線61(參照圖1)插入。纜線61係例如為通訊用纜線。依據纜線61被第一溝517a朝上方引導，且朝流體控制機器V之高度方向(鉛直方向、+z方向)被導出的構成，纜線61不會朝流體控制機器V的側方伸出。換言之，纜線61係當使複數個流體控制機器V相對向於流路而並設的情形下，亦會被朝與並設方向為不同的方向導出。依據此構成，即使朝寬度方向(x方向)並設複數個流體控制機器V使之積體化，而構成如圖6所示的流體控制裝置時，在寬度方向上亦不需配線纜線61的空間，而可使流體控制裝置為小型。此外，由於纜線61不會彎曲地朝上方筆直地伸出，因此亦不易有纜線61的折彎等破損。

此外，在凹部517的內周面係形成有朝向側壁51b切開而成的第二溝517b。第二溝517b係形成於發光部收容部516的上方且為收容於發光部收容部516之發光元件的光程上，來自發光元件的光束係通過第二溝517b並朝罩蓋部5的外側發射。依據此構成，即可從上方確認流體控制機器V的動作狀況。

如圖5(b)所示，第二罩蓋52係對應第一罩蓋51之形狀之平板狀的構件。如前所述，第二罩蓋52係藉由孔521、521、522、522與第一罩蓋51連結，且與第一罩蓋51一同地形成上下開口的箱狀體。在第二罩蓋52之長度方向(z方向)中央部，係於與嵌合部513對應的位置上形成有嵌合部523，且與嵌合部513一同保持著感測器罩帽44。在xz平面俯視觀察時，於第二罩蓋52中形成有跨越上端面和左右端邊的肋部。圖中，在右端邊(+y側)的肋部，係於對應開口部515的位置配設有溝525。此外，在對應基板收容部514的位置配設有基板收容部524。在左端邊(-y側)的肋部，係於對應發光部收容部516的位置配設有發光部收容部526。在第二罩蓋52之上端邊的肋部，係形成有凹部527，且隨同第一罩蓋51的凹部一起沿著外殼3之外周面的一部分。

[電路基板60]

電路基板60係至少與磁性體M1和發光元件電性連接，且將經由磁性感測器M2所檢測出的資訊經由纜線61而輸出於外部。另外，電路基板60亦可除此之外或取而代之地具備實現無線通訊功能的電路，且藉由無線通訊將來自磁性感測器M2的檢測信號傳送至外部。

如圖8所示，電路基板60係具有：中央部，係被罩蓋部5保持；第一端部，係供連結磁性感測器M2並且被感測器罩帽44保持；及第二端部，係供連接發光部62並且被罩蓋部5保持。磁性感測器M2係與磁性體M1一併地構成磁性感測器部M。

在中央部係連接有纜線61。中央部、第一端部和第二端部係藉由一片軟性基板而一體地形成。

中央部和第一端部、及中央部和第二端部係藉由以寬度比第一端部或第二端部更窄之電路基板所構成的臂部分別連接，在各臂部中係配設有導通中央部、第一端部和第二端部的銅箔。臂部係從沿著中央部之長度方向(組裝狀態下的鉛直方向)的端邊，沿著感測器罩帽44的周方向伸出。另外，兩個臂部係可從彼此位於正反位置的端邊伸出，亦可從相同的端邊伸出。兩個臂部係可從長度方向不同的位置伸出。此外，亦可為第一端部和第二端部不經由中央部而直接連接的構成。臂部係為使中央部、第一端部和第二端部彼此導通的構成即可，亦可為纜線等以取代電路基板。

電路基板60係由具有可撓性的薄板所構成。亦即，臂部係在組裝狀態下於感測器罩帽44的周方向上具有可撓性。在此，由於感測器罩帽44和閥體1藉由螺入而固定，因此感測器罩帽44相對於罩蓋部5之周方向的位置，係依個體而參差不齊。亦即，在罩蓋部5中保持基板之基板收容部514、和在感測器罩帽44中保持第一端部之感測器安裝部44b的距離，會依個體而產生參差不齊。相對於此，依據藉由至少電路基板60的中央部和第一端部具有可撓性的臂部來連接的構成，即可使臂部適度地撓曲而進行組裝，藉此而吸收基板收容部514與感測器安裝部44b之距離的參差不齊。

此外，依據中央部和第二端部藉由具有可撓性的臂部而連接的構成，即可通過使該臂部沿著感測器罩帽44的外周而彎曲，從而將第二端部順暢地組裝於發光部收容部516。

依據此構成所組成的流體控制機器V，既小型，又取得該流體控制機器V的內部動作。

另外，在以上之本實施型態的流體控制機器V中，雖具備有磁性體M1和磁性感測器M2，但不限定於此，亦可設為具備有不同種類的感測器。藉由感測器所檢測出的各種資料係可為用以掌握閥的開閉動作、隔膜42的破損等所導致的洩漏、流體控制機器V的經年劣化或個體差等的資訊。