TW202219664A - 去除材料後組件載體結構的自動品質測試 - Google Patents

Abstract

用於執行組件載體結構(102)之品質測試的設備(100)，其中該設備(100)包含操作單元(104)，組態用以至少沿著該設備(100)的入口(106)與出口(108)之間的部分來操作該組件載體結構(102)；識別單元(110)，組態用以識別接受該品質測試的該組件載體結構(102)；材料去除單元(112)，組態用以去除該組件載體結構(102)的材料，以暴露接受該品質測試之該組件載體結構(102)的內部；決定單元(114)，組態用以在所述材料去除之後決定該組件載體結構(102)之至少一個預界定的測試目標(116)；以及評估單元(118)，組態用以評估該組件載體結構(102)之該所決定的至少一個測試目標(116)的特徵，以評估該組件載體結構(102)的該品質。

Description

去除材料後組件載體結構的自動品質測試

本發明有關用於執行組件載體結構之品質測試的設備，藉由自動化設備來執行組件載體結構之品質測試的方法，電腦可讀取媒體，及程式元件。

在裝備有一或多個電子組件之組件載體的產品功能不斷增長及該等電子組件之漸增的小型化以及將被安裝在諸如印刷電路板之組件載體上的電子組件數目不斷增加的情況中，正在使用具有多個電子組件之越來越強大的類似陣列的組件或封裝，它們具有複數個接點或連接，在該等接點之間的間隔越來越小。同時，組件載體應係機械性穩健的和電性可靠的，以便即使在嚴峻的條件下也能操作。 橫剖面係一種用以表徵材料，執行失敗分析及暴露諸如印刷電路板(PCB)之組件載體的內部結構的技術。橫剖面涉及將PCB的目標部分安裝在灌封材料中，以便在隨後的研磨和拋光處理中獲得支撐並保護PCB。所安裝的PCB係使用逐漸變細的介質來仔細地研磨和拋光，用以達到感興趣的目標檢查平面。然後，以此方式所製備的PCB可以由使用者檢查，例如在光學顯微鏡或掃描電子顯微鏡(SEM)下。平面研磨係另一種用以暴露組件載體的內部以供使用者檢查之用的技術。 製備和測試組件載體、經平面研磨之組件載體、及相關之實體的橫剖面在傳統上係由工程師手動地執行。此適用於不同類型的微剖面，諸如橫剖面和扁平剖面。惟，此在品質測試方面涉及大量的工作和受限的精確度，且就有關產業規模上之產量的嚴格要求可係關鍵性的。

本發明之目的在於以高可靠度、高產量、及合理的努力來評估組件載體結構的品質。 為了要實現上述目的，提供了依據申請專利範圍獨立項之用於執行組件載體結構之品質測試的設備，藉由自動化設備來執行組件載體結構之品質測試的方法，電腦可讀取媒體，及程式元件。 依據本發明之示例性實施例，提供了用於執行組件載體結構之品質測試的設備，其中該設備包含操作單元，組態用以至少沿著該設備的入口與出口之間的部分來操作該組件載體結構；識別單元，組態用以識別接受(或經受)該品質測試的該組件載體結構；材料去除單元，組態用以去除該組件載體結構的材料，以暴露接受(或經受)該品質測試之該組件載體結構的內部；決定單元，組態用以在所述材料去除之後決定該組件載體結構之至少一個預界定的測試目標；以及評估單元，組態用以評估該組件載體結構之該所決定的至少一個測試目標的特徵(例如，至少一個屬性)，以評估該組件載體結構的該品質。 依據本發明之另一個示例性實施例，提供了藉由自動化設備來執行組件載體結構之品質測試的方法，其中該方法包含至少沿著該設備的入口與出口之間的部分來操作該組件載體結構；識別接受(或經受)該品質測試的該組件載體結構；去除該組件載體結構的材料，以暴露接受(或經受)該品質測試之該組件載體結構的內部；在所述材料去除之後決定該組件載體結構之至少一個預界定的測試目標；以及評估該組件載體結構之該所決定的至少一個測試目標的特徵(例如，至少一個屬性)，以評估該組件載體結構的該品質。 依據本發明之仍另一個示例性實施例，提供了程式元件(例如，以源碼或以可執行碼的軟體例程)，該程式元件在由處理器(諸如微處理器或CPU)所執行時適合於控制及/或執行具有上述特徵的方法。 依據本發明之又另一個示例性實施例，提供了電腦可讀取媒體(例如，CD、DVD、USB隨身碟、SD卡、磁片或硬碟、或任何其他的(尤其係較小的)儲存媒體)，其中儲存電腦程式，該電腦程式在由處理器(諸如微處理器或CPU)所執行時適合於控制及/或執行具有上述特徵的方法。 可依據本發明之實施例來執行的資料處理可以藉由電腦程式來實現，也就是說，藉由軟體，或藉由使用一或多個特殊的電子最佳化電路，亦即，以硬體，或以混合形式，也就是說，藉軟體組件和硬體組件。 在本申請案的上下文中，“組件載體”的術語可以特別地表示能在其上及/或其中容納一或多個組件以提供機械支撐及/或電性連接及/或光學連接及/或熱連通性的任何支撐結構。換言之，組件載體可被組構為用於組件的機械及/或電子載體。特別地，組件載體可係印刷電路板、組織插入件、及IC(積體電路)基板的其中一者。組件載體亦可係組合上述不同類型之組件載體的混合板。 在本申請案的上下文中，“組件載體結構”的術語可以特別地表示在製造組件載體期間及/或之後所處置和處理的薄片，例如面板、陣列、或組件載體本身。因此，組件載體結構可以特別地表示包括多個連接的組件載體預製件的面板，包括多個連接的組件載體預製件的陣列(諸如四分之一面板)，組件載體的預製件(亦即，尚未製造完成的組件載體)，或製造完成的組件載體(諸如印刷電路板(PCB)或積體電路(IC)基板)。然而，組件載體結構也可能係試樣。 在本申請案的上下文中，“試樣”(或測試試樣)的術語可以特別地表示組件載體主體(諸如像印刷電路板一樣的主體)，其可用以測試組件載體(特別係印刷電路板)製造處理的品質。測試試樣可以製造在與組件載體(諸如印刷電路板)相同的面板上，例如在該面板的邊緣處或甚至形成該等組件載體的一部分或在組件載體之間的區域。然後，試樣可以在品質測試方面被檢查，以確保例如合適的層對齊、電性連接、等等。也可以將試樣予以橫剖面以檢查內部結構。試樣可以被設計包括與使用型組件載體之該等者相同之尺寸和結構的導電跡線及垂直貫穿連接(諸如通孔)。例如，試樣可係條型板(例如，具有23×3.5平方厘米的尺寸；在包括多個單獨可用試樣部分之試樣的模組化組態中，該等試樣部分亦可具有明顯更小的尺寸，諸如例如3×1平方厘米)。描述性地說，試樣的結構特徵應該做為同一面板之相對應組件載體(諸如PCB)之結構特徵的鏡像和指紋。從描述上來講，鏡像功能對支援檢查的內容做成複製，以及指紋功能顯示唯一性並顯示結構特徵在製造期間經受之處理的個別特徵。 在本申請案的上下文中，“品質測試”的術語可以特別地表示藉由分析其一或多個預界定之測試目標的特徵來評估組件載體結構的品質。在該品質測試中，可以測試該組件載體結構的一或多個該等特性特徵是否滿足一或多個品質準則。該等品質準則可以包括一或多個定性品質準則(諸如做為定性錯誤圖案或失敗情境的層結構之脫層的存在或不存在)及/或一或多個定量品質準則(諸如與預界定範圍之可接受厚度相關之圖案化銅層的厚度)。用於組件載體結構的可決定之品質缺陷的實例係在鑽孔、毛髮內含物、阻焊效應、要分離的導電跡線之間的短路等方面的人工製品。例如，可執行組件載體結構的品質測試以檢查組件載體結構是否符合產業規範(例如，IPC 6012、IPC-A-600、IPC-2221、等等)。 在本申請案的上下文中，“預界定之測試目標”的術語可以特別地表示由材料去除所暴露之組件載體結構內部中的結構特徵，其已被預界定為用以評估組件載體結構之品質的特徵項目。例如，測試目標可係包括至少一個導電層結構(例如，圖案化的銅箔和/或銅填充的雷射通孔)及/或至少一個電性絕緣層結構(例如，包括諸如環氧樹脂之樹脂和選項的諸如玻璃纖維之增強顆粒的片材)之組件載體結構的(特別係疊層的)層堆疊中的鑽孔或層結構。尤其，組件載體結構之至少一個測試目標的特徵或屬性可以包括以下的一個或多個：鑽孔的直徑(諸如雷射鑽孔或機械鑽孔，其可以或不可以填充有諸如銅的導電材料)，相鄰鑽孔之間的距離，層結構的厚度(特別係圖案化之銅箔或層的厚度)，層結構的平面性(例如，藉由層結構與純平面組態的偏差來測量)，層結構的脫層(亦即，其已至少部分地從一組完整之例如疊層的層結構分離的層結構)，等等。 依據本發明之示例性實施例，提供了測試組件載體結構(諸如印刷電路板或試樣)之品質的完全自動化系統，該系統可以實質地決定組件載體結構的品質而無需使用者干預。特別地，可以以自動化方式來執行創建、測量和分析例如，研磨及拋光的組件載體結構。此可允許確保品質測試之足夠準確的執行，同時在製造處理期間的任何階段在組件載體結構的品質測試方面實現產業規模上的高產量。為此目的，機器人操作單元可以在品質測試的某些或所有階段之間操作組件載體結構。將被測試的組件載體結構可以接受識別以用於可追溯性，並且用以致能將品質測試的結果指定給特定的組件載體結構。此外，所識別的組件載體結構可以經受機器控制的材料去除(例如，但未受限於磨料去除)處理，以到達感興趣的目標檢查平面。因此，可以完成材料去除以暴露組件載體結構的內部，從而獲得對被檢查之至少一個測試目標(特別係鑽孔)的接達。同樣地，以完全自動化的方式，然後可以從經研磨處理的組件載體結構來決定一或多個測試目標。評估單元然後可以評估此決定的結果以導出品質測試的結果。非常有利地，就組件載體結構的有效性評估而言，所提及的處理都不需要任何使用者干預。此不僅減少了在組件載體結構之品質測試方面的人力資源工作，而且使品質測試更加客觀，因而更有意義且更快。 在下文中，將解釋該方法、設備、電腦可讀取媒體，及程式元件之進一步的示例性實施例。 在實施例中，操作單元包括至少一個機器人，特別係多軸機器人。例如，線性機器人、關節臂機器人、及/或六軸機器人或六足架之至少一個可以被實施為機器人。六軸機器人或六足架可以表示具有裝備以感測器並且較佳地適用以在全自動設備單元內操作組件載體結構的六個軸的機器人。六足架可以在緊密封裝中提供六個自由度的運動。與絕對測量感測器、軟體、及運動控制器相結合，六足架可以使複雜的運動曲線可執行。依據本發明之示例性實施例，六足架可以用於材料去除處理(特別係研磨處理)，因為該六足架可係機械穩定的且同時可係非常精確地適應於六個軸中。因此，藉由該六足架所支援的目標準備可以變得高度精確且同時更加穩健以防止可能的未對齊(該等可以被相對容易地校正)。惟，線性機器人及/或關節臂機器人可用以在自動化設備的個別工作站之間操作組件載體結構。 在實施例中，操作單元包括入口操作子單元，該入口操作子單元係組態用以沿著設備的子部分而在入口之後操作組件載體結構，特別的係在該入口與材料去除單元之間操作該組件載體結構。此外，該操作單元可以包括出口操作子單元，該出口操作子單元係組態用以沿著延伸到出口之設備的子部分來操作組件載體結構，特別的係在材料去除單元與該出口之間操作該組件載體結構。例如，第一機器人可以配置在入口側，而第二機器人則可以配置在設備的出口側。在第一機器人與第二機器人之間的介面可係材料去除單元。 在實施例中，識別單元係組態用以根據對組件載體結構上及/或該組件載體結構中之識別符的偵測來識別該組件載體結構。例如，該識別符可係QR碼、條碼、字母數字碼、或任何其他光學可讀取碼。替代地，該識別符可係與組件載體結構連接的無線轉發器，例如RFID標籤或NFC標籤。該轉發器可以藉由設備之相對應的讀取器裝置來讀出。 在實施例中，識別單元係組態用以藉由將所偵測的識別符與資料庫中的相關識別資訊進行匹配來識別組件載體結構。例如，可以將從組件載體結構的識別符所導出或所檢索的碼與資料庫中的資料集比較，用以獲得關於組件載體結構之更詳細的識別資訊。 在實施例中，識別單元係組態用以特別地從資料庫檢索品質測試相關資訊及/或指示將對所識別之組件載體結構執行的品質測試的指令。在此較佳實施例中，識別符還對要在識別之後執行的組件載體結構特定品質測試的描述進行編碼。因此，從識別符所導出的品質測試相關資訊可以供應給設備的處理器或控制單元，用以相對應地控制品質測試。 在實施例中，決定單元係組態用以處理在所述材料去除之後所偵測出之至少一個預界定的測試目標的至少一個影像。特別地，決定單元可以根據組件載體結構之暴露表面平面的顯微相片(具體地，諸如研磨表面圖案或拋光切割影像的顯微相片)來決定一或多個測試目標。在本申請案的上下文中，“去除材料以暴露平面”的術語可以特別地表示在組件載體結構之水平、垂直、或對角線方向中的材料去除。因此，暴露平面可以具有任何取向(特別係水平、垂直、或對角線的)。例如，偵測單元(諸如相機)可以在研磨之後並且較佳地在拋光之後擷取組件載體結構之暴露表面的影像。根據此影像，然後可以在所述影像處識別一或多個預界定之用於組件載體結構的品質之特別有意義的目標(例如，藉由自動影像辨識)。 在實施例中，設備包括入口容納單元，該入口容納單元係設置在入口處，且被組態用於在測試之前特別地以堆疊的方式來容納複數個組件載體結構，其中操作單元係組態用以從該入口容納單元透過該入口來轉移將被測試的組件載體結構，特別地轉移到識別單元。因此，在品質測試的上下文中，使用者必須要做的就是在入口容納單元(例如，料匣)處堆疊將被品質測試的組件載體結構。然後，可以藉由設備而以自給自足的方式來執行品質測試的所有結果。 在實施例中，設備包括出口容納單元，該出口容納單元係設置在出口處，且被組態用於在測試之後特別地以堆疊的方式來容納複數個組件載體結構，其中操作單元係組態用以透過該出口來將已測試的組件載體結構轉移到該出口容納單元。因此，在品質測試結束時，可以以堆疊的方式在出口容納單元(例如，另一個料匣)處收集所處理的組件載體結構。之後，使用者可以再次接達該等經過品質測試的樣品。 在實施例中，設備包括去除材料量化單元，該去除材料量化單元係組態用以量化所去除的材料量。藉由收集從組件載體結構所去除的材料(例如，藉由研磨)，可以獲得關於材料去除處理之進度的資訊，從而允許當所欲的測試目標或先前隱藏的感興趣平面已經暴露時，較佳地當已到達鑽孔的中心時，停止材料去除處理。 附加地或替代地，亦可以實施決定材料去除處理的其他概念。實例係偵測組件載體結構之外緣由於材料去除的改變位置，偵測影響到從該處去除材料的組件載體結構之材料去除單元或工具的改變位置，偵測指示材料去除單元在組件載體結構上之影響的感測器資料(例如，接觸壓力及/或旋轉速度)，偵測在犧牲結構上及/或在組件載體結構的測試目標上所感測出之由於材料去除之感測器資料的改變，等等。 在實施例中，設備包括單個化(或分離)單元，該單個化單元係組態用以在將組件載體結構供應到材料去除單元之前從較大的主體，特別係從面板，使組件載體結構單個化。特別地，該組件載體結構(尤其係試樣)的單個化可以藉由銑削或雷射切割來完成。 在實施例中，設備包括熱應力暴露單元，該熱應力暴露單元係組態用以在將組件載體結構供應到決定單元之前將組件載體結構暴露於熱應力。在正常使用期間，可以使組件載體經受熱應力，例如在正常操作期間藉由熱循環。為了要在現實條件下測試組件載體結構的品質並考慮在正常使用期間發生的熱應力，在決定至少一個測試目標之前，可以模擬該熱應力或者可以使組件載體結構經受該熱應力，並在此基礎上評估組件載體結構的品質。 在實施例中，熱應力暴露單元係組態用以將組件載體結構暴露於熱應力浴，特別地係用以使組件載體結構漂浮在熱應力浴上，更特別地係用以使組件載體結構漂浮在熔融焊料上。因此，可以使組件載體結構經受可流動焊料材料的浴，用於以現實的方式來對組件載體結構施加熱應力。非常有利地，該熱應力測試可易於自動化。 在實施例中，設備包括至少一個清潔單元，該至少一個清潔單元係組態用以在材料去除之後及在決定之前清潔組件載體結構，特別係以超音波浴(亦即，暴露於超音波促進清潔的清潔或淋洗浴)。例如，清潔可以在材料去除(較佳地藉由研磨)之後並且在偵測由材料去除所暴露之組件載體結構的表面的影像之前執行。在每個研磨階段之後的此種清潔處理可以增進影像的品質，並因此提高在所述影像上決定一或多個測試目標的可靠度和準確性。如果所欲或需要時，可以在清潔之後和在光學分析之前藉由蝕刻單元來執行額外的蝕刻處理，以進一步增加可從影像導出的資訊量，從而增加了可識別的測試目標量。尤其，銅晶體結構和電鍍結構可以藉由蝕刻而變得可見。 在實施例中，設備包括對齊單元，該對齊單元係組態用以在影像偵測之前及/或在材料去除之前對齊組件載體結構，特別係根據組件載體結構的至少一個對齊特徵來對齊組件載體結構。較佳地，所述對齊單元包括多軸機器人，最佳係六足架，以供獲得優異的對齊準確性之用。為了要確保組件載體結構的暴露表面(顯示至少一個測試目標)相對於擷取暴露表面之影像的相機的合適取向，設備可以自動地決定組件載體之一或多個對齊標記的位置，並且可以在擷取影像之前調整組件載體結構的位置和/或取向。附加地或替代地，在材料去除以暴露所述表面之前或期間，可以執行此種對齊處理。此增進了品質測試的準確性。 在實施例中，設備包括偵測單元，該偵測單元係組態用以在所述材料去除之後偵測組件載體結構的內部的影像資料。在此上下文中，由偵測單元(例如，包括相機)所成像之組件載體結構的先前內部平面可以由先前的材料去除階段所暴露。然後，影像偵測的結果可以被轉遞到決定單元以供決定測試目標之用。 在實施例中，決定單元係組態用以根據所偵測之組件載體結構的第一影像而以粗略方式來決定至少一個預界定的測試目標，以及根據在偵測該第一影像之後所偵測之組件載體結構的第二影像而以精細方式來決定至少一個預界定的測試目標。較佳地，該第二影像可以在蝕刻組件載體結構的表面之後被擷取。因此，決定單元可以在兩個或更多個階段中操作，用以進一步增強所決定之品質資訊的準確性。粗略決定之後可係精細決定。在不同階段的決定之間，可以附加地處理組件載體結構的所分析表面(特別地，藉由蝕刻及/或額外的研磨及/或拋光)，用以增進一或多個測試目標之決定的可靠度。 在實施例中，決定單元係組態用以藉由迭代地重複包括材料去除、影像偵測、和可選的影像評估之序列來決定至少一個預界定的測試目標。例如，在重複一次或多次所述序列之前，可以使組件載體結構接受研磨、影像偵測、測試目標的決定、和可選的影像評估的序列。非常有利地，正在分析的組件載體結構可以接受兩次或兩次以上之藉由材料去除單元、偵測單元、及決定單元、和/或評估單元之迭代重複的處理。當測試目標的決定及/或評估指出可以或應該進一步增進品質測試的分辨率或可靠度時，可以從組件載體結構去除額外的材料以修正暴露的表面(在實施例中，也可能進行另外的拋光)。藉由採取此措施，對應於組件載體結構之暴露表面的橫剖面平面可以被空間地偏移及/或傾斜。之後，可以執行額外的拋光處理。其次，組件載體結構之相對應處理的暴露表面可以經受藉由偵測單元來擷取額外的影像，且然後，額外獲得的影像可以藉由決定單元及評估單元來進一步處理。迭代地，可以根據由偵測單元所擷取之組件載體結構的暴露表面的影像來識別一或多個問題。可以調整材料去除單元的研磨處理以試圖除掉所述一或多個問題(例如，在品質測試方面達到與產業標準的符合性)，且可以藉由偵測單元來偵測並藉由決定單元及評估單元來分析重複材料去除的結果。藉由此迭代方法，可以高精確地執行完全自動化的品質測試。 在實施例中，材料去除單元係組態用以藉由研磨來去除組件載體結構的材料。特別地，研磨可以表示可使用砂輪(或另一種研磨體)做為材料去除或切削工具的磨料加工處理。每一粒磨料都可作用為微觀的單點切削刃，並從組件載體結構剪下微小的尖端。然而，在其他實施例中，可以藉由除了研磨之外的其他方法，例如藉由雷射處理或任何種類的切削來完成從組件載體結構的材料去除。 在實施例中，材料去除單元係組態用以藉由由橫剖面研磨和平面研磨所組成的群組中之一種來去除組件載體結構的材料。關於橫剖面研磨，可以創建組件載體結構的橫剖面，其允許在切穿板狀組件載體結構的平面處進行分析。橫剖面研磨係一種破壞性技術，它切削掉或研磨掉組件載體結構的一部分，用以暴露感興趣的內部平面以供分析之用。在所獲得的橫剖面中，可以評估鑽孔的品質，可以評估通孔中的電鍍品質和厚度，也可以分析其他的測試目標。做為用於該等其他測試目標的實例，可以使組件載體結構的材料中的空隙成為可接達的，此指出了疊層處理的品質。關於平面研磨或表面研磨，此技術可用以在組件載體結構的平面表面上產生平滑的飾面。平面研磨可以表示為磨料加工處理，其中覆蓋有粗糙顆粒的旋轉輪(或任何其他主體)從組件載體結構的主表面切削碎屑，從而接達組件載體結構之內部層的主表面。 在實施例中，設備包括拋光單元，其係組態用以在去除材料之後拋光組件載體結構的暴露平面。拋光可以表示藉由摩擦或使用化學作用來產生平滑表面的處理，從而降低表面的粗糙度。與研磨相比，拋光並不會從組件載體結構的表面去除明顯數量的材料，而只是藉由使表面變平來增強平面性。拋光可使用多個階段，從較粗糙的磨料開始，其中每個後續階段可以使用較細的磨料。 在實施例中，設備包括封裝單元，該封裝單元係組態用以將組件載體結構封裝在封裝膠中，以致使該組件載體結構在封裝膠中經受偵測及/或決定。例如，組件載體結構可以被嵌入於樹脂基體中，用以在處理及/或偵測期間簡化其操作。此封裝處理可係自動化的並且也可以用作用以保護組件載體結構的應力緩衝器。 在另一個較佳實施例中，決定單元係組態用以根據未封裝的組件載體結構來決定至少一個預界定的測試目標。相對應地，方法可以包括根據未封裝的組件載體結構來偵測影像及/或決定至少一個預界定的測試目標。非常有利地，自動化設備在光學檢查之前不一定需要組件載體結構(諸如試樣)的封裝。省略封裝及檢查未封裝的組件載體結構可以顯著地簡化和加速自動化品質測試。 在實施例中，評估單元係組態用以根據所決定的至少一個測試目標的特性來評估組件載體結構的品質。例如，每個測試目標之參數的所欲特性範圍可係預界定的(例如，儲存在資料庫中)。對於所分析之組件載體結構的每個測試目標和相對應的特性(例如，鑽孔的直徑)，可以藉由評估單元來評估各個測試目標是否符合所欲預界定特性的要求。 在實施例中，評估單元係組態用以藉由將組件載體結構分類為複數個品質等級之一來評估品質，特別係以由“通過”、“失敗”、及“需要進一步分析”所組成之一群組之等級中的一個等級來評估品質。將組件載體結構分類為“通過”意指的是組件載體結構之所分析的一或多個測試目標指示該組件載體結構的品質合乎要求，且該組件載體結構(特別係指定的組件載體)可以進行所打算的用途。將組件載體結構分類為“失敗”意指的是組件載體結構之所分析的一或多個測試目標指示該組件載體結構的品質不足，且該組件載體結構(特別係指定的組件載體)被視為廢品或有缺陷的產品。如果評估總結的是根據可用資料無法得出足夠可靠的結論，則設備可以輸出對應的指示並且可以例如提議或執行附加的自動分析或者可以提議以人類使用者為基的評估。將每個測試的組件載體結構分類為多個預界定群組之一可以簡化品質測試的自動執行。例如，可以考慮IPC-6012D(版本：2015年9月)之第3.6章“結構完整性”中所提及的一或多個準則以評估缺陷。 更具體而言，評估單元可以被組態用以藉由將組件載體結構的每個測試目標分類為複數個品質等級之一來評估品質，特別係以由“通過”、“失敗”、及“需要進一步分析”所組成之一群組之等級中的一個等級來評估品質。有利地，將被檢查的測試目標的每個特徵、屬性、或參數都可以以此方式來分類。最終的決定可以以前段所述來做成，但是有關個別的特徵、屬性、或參數的判斷可以構成該品質決定的基礎。在不太關鍵的參數僅有稍微偏差的情況中，可以決定可以以“通過”來評估組件載體結構。做為用於該決定之基礎的準則可以由使用者或由指示品質的規格所預界定。 在實施例中，評估單元包括人工智慧模組，該人工智慧模組係組態用以使用人工智慧，特別係機器學習，更特別地係神經網路來執行該評估。在本申請案的上下文中，“人工智慧”的術語可以特別地表示諸如神經網路、自學習或自適應系統、模糊邏輯、等等的工具。人工智慧可以在電子硬體和軟體資源的基礎上獨立於人類而操作。相應地，人工智慧模組可係包括人工智慧功能的實體個體或虛擬個體。人工智慧可以特別地表示演算法和/或統計模型的實施，處理器(諸如電腦系統)可以使用該等演算法和/或統計模型來執行特定的任務，而無需使用顯式指令、依賴圖案、等等。特別地，人工智慧演算法可以根據輸入資料(其亦可被表示為訓練資料)來建構數學模型，以便在沒有明確編程以執行任務的情況下做成預測或決定。在實施例中，藉由人工智慧模組的處理包括藉由深度學習的處理。深度學習可以特別地表示根據具有表達學習的人工神經網路的機器學習方法。深度學習可係有監督的、半監督的、或沒有監督的。可以依據本發明之示例性實施例來實施之深度學習架構的實例係深度神經網路、深度信念網路、循環神經網路、和卷積神經網路。深度學習演算法在自動執行之品質測試中的實施方式，特別係在關於組件載體結構的品質之預定測試目標的解釋方面，可以增進品質測試的可靠度、性能、和準確性。在實施例中，藉由人工智慧模組的處理包括藉由神經網路的處理。該神經網路可係計算系統，其可以藉由考慮實例來學習以執行任務，通常無需以任務特定的規則來編程。神經網路可以以一組稱作人工神經元的連接節點為基礎。在該等神經元之間的每個連接都可以向其他神經元傳送信號。接收信號的人工神經元然後對它進行處理，並可以向與其連接的神經元傳送信號。在學習的期間，連接之權重可以不斷地調整。藉由輸入分析中的組件載體結構之先前決定的測試目標，神經網路可以有助於評估該組件載體結構的品質。 在實施例中，設備係組態用以執行品質測試，無需人為干預。相應地，方法可以包括在沒有人為干預的情況下執行品質測試。此避免了人為錯誤並增加了產量。 在實施例中，組件載體結構包括至少一個電性絕緣層結構和至少一個導電層結構的堆疊。例如，組件載體可係所提及之電性絕緣層結構和導電層結構的疊層，特別係藉由施加機械壓力及/或熱能來形成。所提及的堆疊可以提供板狀組件載體，其能夠為進一步的組件提供大的安裝表面且仍係非常薄和緊密的。 在實施例中，組件載體結構係成形為板狀。此有助於緊密的設計，其中組件載體仍然提供用以在其上安裝組件之大的基礎。此外，特別係做為嵌入式電子組件之實例的裸晶粒，可以方便地嵌入到諸如印刷電路板的薄板內。 在實施例中，組件載體結構係組態為由印刷電路板、基板(特別係IC基板)、及插入件所組成的群組中的一種。 在本申請案的上下文中，“印刷電路板”(PCB)之術語可以特別地表示板狀組件載體，其係藉由疊層多個導電層結構和多個電性絕緣層結構來形成，例如藉由施加壓力及/或供應熱能。做為用於PCB技術的較佳材料，導電層結構係由銅所做成，而電性絕緣層結構則可包括樹脂及/或玻璃纖維、所謂預浸體或FR4材料。各種導電層結構可以藉由形成穿過疊層的貫穿孔，例如藉由雷射鑽孔或機械鑽孔，並且藉由以導電材料(特別係銅)來填充它們，從而形成通孔或其他貫穿孔連接，而以所欲的方式來彼此連接。(例如部分地)填充的孔可以連接整個堆疊(延伸穿過若干層或整個堆疊的貫穿孔)，或填充的孔連接至少兩個導電層，稱作通孔。類似地，可以透過堆疊的各個層來形成光學互連以便接收電光電路板(EOCB)。除了可被嵌入於印刷電路板中的一或多個組件之外，印刷電路板通常被組構用以在板狀印刷電路板的一或兩個相對表面上容納一或多個組件。它們可以藉由焊接來連接到個別的主表面。PCB的電介質部分可以由帶有增強纖維(諸如玻璃纖維)或其他增強顆粒(諸如增強球體，特別係玻璃球體)的樹脂所組成。 在本申請案的上下文中，“基板”之術語可以特別地表示小組件載體。與PCB相比，基板係相對較小的組件載體，一或多個組件可被安裝於其上，且可以扮演一或多個晶片與另一個PCB之間的連接介質。例如，基板可以具有與要安裝在其上之組件(特別係電子組件)實質相同的尺寸(例如，在晶片尺寸封裝(CSP)的情況下)。更具體地，基板可以被理解為用於電性連接或電性網路的載體以及可與印刷電路板(PCB)相比的組件載體，但是具有相當高的橫向及/或垂直設置之連接的密度。橫向連接係例如導電路徑，而垂直連接則可係例如鑽孔。該等橫向及/或垂直連接係設置在基板內，並可用以提供封裝的組件或未封裝的組件(諸如裸晶粒)，特別係IC晶片，與印刷電路板或中間件印刷電路板的電性、熱、及/或機械連接。因此，“基板”之術語還包括“IC基板”。基板的電介質部分可以由帶有增強顆粒(諸如增強球體，特別係玻璃球體)的樹脂所組成。 基板或插入件可包括或由至少一層玻璃、矽(Si)、及/或可光成像或可乾蝕刻的有機材料如環氧基積層材料(諸如環氧基積層膜)或聚合物化合物(其可包括或可不包括光敏及/或熱敏分子)如聚醯亞胺或聚苯并

唑所組成。 在實施例中，至少一個電性絕緣層結構包括由樹脂或聚合物所組成之群組中的至少一種，諸如環氧樹脂、氰酸酯樹脂、苯並環丁烯樹脂、雙馬來聚亞胺三嗪樹脂、聚苯衍生物(例如，以聚苯醚PPE為基)、聚醯亞胺(PI)、聚醯胺(PA)、液晶聚合物(LCP)、聚四氟乙烯(PTFE)、及/或它們的組合。也可以使用諸如網、纖維、球體、或其他種類之填料顆粒的增強結構，例如由玻璃(多層玻璃)所製成以形成複合材料。半固化樹脂與增強劑相結合，例如以上述樹脂浸漬的纖維係稱作預浸體。該等預浸體通常以其特性來命名，例如FR4或FR5，其描述了它們的阻燃特性。雖然對於剛性PCB通常偏好預浸體，尤其係FR4，但是也可以使用其他材料，特別係環氧樹脂基材料(諸如積層膜)或可光成像的電介質材料。對於高頻率應用而言，諸如聚四氟乙烯、液晶聚合物、及/或氰酸酯樹脂的高頻材料可係較佳的。除了該等聚合物之外，低溫共燒陶質物(LTCC)或其他低的、極低的、或超低的DK材料(其中DK可意指電介質常數的實部)可以做為電性絕緣結構來應用於組件載體中。 在實施例中，至少一個導電層結構包括由銅、鋁、鎳、銀、金、鈀、及鎢所組成之群組中的至少一種。雖然銅通常係較佳的，但其他材料或其塗層型式亦係可能的，尤其是分別塗覆有諸如石墨烯或聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)(PEDOT)的超導電材料或導電聚合物。 可被嵌入於堆疊中的至少一個組件可選自由非導電嵌體、導電嵌體(諸如金屬嵌體，較佳地包括銅或鋁)、傳熱單元(例如，熱管)、光導元件(例如，光波導或光導體連接)、電子組件、或其組合所組成的群組。嵌體可係例如具有或不具有絕緣材料塗層(IMS嵌體)的金屬塊，其可被嵌入或表面安裝以供促進散熱的目的之用。合適的材料係依據其導熱係數來界定，導熱係數至少應為2 W/mk(瓦/米・度)。該等材料通常基於，但不受限於金屬、金屬氧化物、及/或陶質物，例如銅、氧化鋁(

)、或氮化鋁(AlN)。為了要增加熱交換能力，也經常使用具有增加表面面積的其他幾何形狀。此外，組件可係主動電子組件(至少實施一個p-n接面)、諸如電阻、電感、或電容器的被動電子組件、電子晶片、儲存裝置(例如，DRAM或另一資料記憶體)、濾波器、積體電路(諸如可場編程閘陣列(FPGA)、可編程陣列邏輯(PAL)、同屬陣列邏輯(GAL)、及複雜可編程邏輯裝置(CPLD))、信號處理組件、功率管理組件(諸如場效電晶體(FET)、金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET)、互補型金屬氧化物半導體(CMOS)、接面型場效電晶體(JFET)、或絕緣閘極場效電晶體(IGFET)，均基於半導體材料，例如碳化矽(SiC)、砷化鎵(GaAs)、氮化鎵(GaN)、氧化鎵(

)、砷化銦鎵(InGaAs)、和/或任何其他合適的無機化合物)、光電子介面元件、發光二極體、光電耦合器、電壓轉換器(例如，DC/DC轉換器或AC/DC轉換器)、密碼組件、發射器及/或接收器、機電換能器、感測器、致動器、微機電系統(MEMS)、微處理器、電容器、電阻、電感、電池、開關、相機、天線、邏輯晶片、及能量收集單元。然而，可將其他組件嵌入到組件載體中。例如，磁性元件可用作組件。該磁性元件可係永磁元件(諸如鐵磁元件、反鐵磁元件、多鐵性元件、或亞鐵磁元件，例如鐵氧體磁芯)或者可以係順磁元件。然而，組件亦可係IC基板、插入件、或另外的組件載體，例如以板中板的組態。組件可以表面安裝在組件載體上和/或可被嵌入於其內部中。此外，也可以使用其他的組件，特別係產生和發射電磁輻射及/或對來自環境所傳播的電磁輻射靈敏的該等組件做為組件。 在實施例中，組件載體係疊層型組件載體。在該實施例中，組件載體係藉由施加壓力和/或熱量來堆疊及連接在一起的多層結構的複合物。 在處理組件載體的內層結構之後，可以以一或多個其他的電性絕緣層結構和/或導電層結構來對稱地或非對稱地覆蓋(特別係藉由疊層)所處理的層結構之一或兩個相對的主表面。換言之，可以繼續積層直到獲得所欲數量的層。 在完成電性絕緣層結構和導電層結構之堆疊的形成之後，可以對所獲得的層結構或組件載體進行表面處理。 特別地，就表面處理而言，可以將電性絕緣阻焊劑施加到層結構或組件載體的一或兩個相對的主表面上。例如，可以在整個主表面上形成諸如阻焊劑，並隨後圖案化阻焊劑層，以便暴露一或多個導電表面部分，該導電表面部分將用以將組件載體耦接到電子周邊。仍覆蓋有阻焊劑的組件載體的表面部分可以有效地防止氧化或腐蝕，尤其是包含銅的表面部分。 就表面處理而言，可以選擇性地對組件載體之暴露的導電表面部分施加表面飾面。該表面飾面可係在組件載體之表面上之暴露的導電層結構(諸如焊墊、導電軌跡、等等，特別地包括銅或由銅所組成)上的導電覆蓋材料。如果該等暴露的導電層結構未受到保護，則暴露的導電組件載體材料(特別係銅)可能氧化，而使組件載體不太可靠。然後，可以形成表面飾面，例如做為表面安裝組件與組件載體之間的介面。表面飾面具有保護暴露的導電層結構(特別係銅電路)及致能與一或多個組件的連接處理(例如，藉由焊接)的功能。用於表面飾面之合適材料的實例係有機可焊性防腐劑(OSP)、化學鍍鎳浸金(ENIG)、金(特別係硬金)、化學錫、鎳金、鎳鈀、化學鍍鎳浸鈀浸金(ENIPIG)、等等。 本發明之以上所界定的觀點和進一步的觀點將從下文中所描述之實施例的實例變得明顯，並且將參照該等實施例的實例來加以解釋。

在圖式中的圖示係示意性的。在不同的圖式中，相似或相同的元件係配置以相同的參考符號。 在參照圖式之前，將更詳細地描述示例性實施例，將根據已開發出之本發明的示例性實施例來總結一些基本的考慮。 依據本發明之示例性實施例，諸如試樣之組件載體結構的品質測試之執行的完全自動化成為可能。特別地，藉由使用標準化的組件載體結構樣品和自動化的測量/檢查技術，該自動化系統可以將所有單個的處理組合在完全自動化品質測試單元中。結果，在目標準備方面可以獲得高的產量和高的準確性。藉由實施人工智慧的元件，可以使組件載體結構樣品的自動測量和目視檢查成為可能。非常有利地，可以使組件載體結構的無偏差評估成為可能。藉由該自動化設備，可以實現實驗室檢查之增進的能力和容量。此外，還可以實現提高的自動化層次、可重複性、和產量。尤其，用以在組件載體結構上執行品質測試的自動化系統可以致能組件載體結構之高速度和高準確性檢查，特別係符合依據IPC-2221B第12.1章(版本：2012年11月)的一致性測試試樣。 對組件載體結構的橫剖面有影響之變量的實例(請參閱下文之各個變量的更詳細討論)係用於材料去除的研磨體、對齊(例如，使用操作臂)、在研磨及/或拋光期間所施加的壓力、在研磨及/或拋光期間的旋轉速度、特別係從組件載體結構的材料去除的控制(更具體地，材料去除進度控制)、清潔(組件載體結構及/或研磨體)以避免攜帶、加熱或冷卻、以及熱及機械負載。 關於研磨，可調參數係磨料介質的顆粒大小、接觸壓力、和轉速。顆粒也可以為研磨機來調整。組件載體結構之橫剖面表面的拋光可以使用金剛石懸浮液來執行(其中旋轉可係同步的或往復的)。可選地，組件載體結構的浸漬及/或填充可以防止銅孔的塗抹。 關於用於材料去除之所使用的研磨體，有利的是，材料去除處理不會產生過多的熱量，用以保持組件載體結構之疊層的完好無損。較佳地，材料去除處理可以在明顯低於組件載體材料的樹脂材料之玻璃化變遷溫度Tg(例如，在攝氏標度或凱式標度上比Tg低至少10%)的溫度下來執行。例如，水可以用作冷卻及/或清潔介質。 用以去除組件載體結構的材料，研磨可係較佳的。然而，材料去除也可以藉由(例如，線)切割、線腐蝕、電漿處理、雷射處理、噴砂、水噴流、銑削、鋸切、澆口剪處理、離子束處理、及/或沖壓來完成。 較佳地，顆粒大小可以(特別係在材料去除結束時)足夠細以支援隨後的拋光。顆粒大小可以根據所使用的拋光懸浮液來選擇。例如，3微米(μm)顆粒可能只適用於一定程度的研磨。 為了要抑制組件載體結構之研磨及/或拋光表面的平面性變化，避免過熱及過冷可係有利的 。此外，熱負載和機械負載應保持低。 當設計操作單元的操作臂時，組件載體結構的滑動及或轉動應保持盡可能地低。此有利的邊界條件可以影響最大轉速的選擇。 接下來，將解說研磨處理的實施例。有利地，可以執行迭代研磨控制處理。研磨盤(或板)可以水平或垂直地設置，或者如果需要或期望時(鑒於所實施的研磨類型)，以特殊的角度來設置。 關於材料去除之進度的控制，可以使用相機來監控研磨進度。例如，可以將該相機設置在研磨體上及/或研磨體中。此可促進組件載體結構之所處理的表面的平面性和/或對齊。進度控制亦可以藉由電性測量來完成，例如藉由接觸在某個材料去除進度狀態下被部分或全部去除的銅結構，此可藉由電性信號的改變來偵測。另外替代地，進度控制可以根據一或多個機械止動件(例如，具有足夠硬的表面，較佳地係金剛石表面)，當材料去除處理達到預界定的進度時，研磨體緊靠著該止動件。研磨體上的電阻測量也可以用作進度控制。在其他實施例中，可以在進度控制方面測量漸進進給。例如，關於貫穿孔，打開該孔的瞬間可以導致顯著的壓降。當到達微通孔時，在壓力上的影響可係相反的，亦即，可以偵測出壓力增加或電阻增加。研磨金屬通孔材料而不是較軟的樹脂材料可能會增加壓力。如果在微通孔處測量電性信號且該微通孔的導電材料被去除時，電阻可能增加，此亦可係可偵測的。在進度控制之又一實施例中，可以偵測出目標達到時之例如水的變色。此外，電阻測量(例如，在研磨期間所去除的犧牲結構)也可以用於進度控制。在關於進度控制之再一實施例中，可以使用聲音偵測、以摩擦計為基的偵測、壓在研磨盤上的銷(可選地與擋光板組合)、等等。一旦偵測到鑽孔的中心，則研磨可能會停止。 較佳地，可以在測試目標處或接近測試目標下測量進度。仍關於研磨處理的進度控制，硬停係可能的。無論如何，迭代研磨處理亦係可能的。 在實施例中，可以測量研磨體與組件載體結構之間的接觸壓力。例如，此可以藉由壓力調整器(例如，根據力來調整)而以自動方式來完成。在材料去除期間，壓力可以保持恆定或可以變化。較少數量的研磨體可以與時間、壓力、旋轉進行平衡。亦可以根據產量、品質目標、樣品厚度來施加可變壓力。最大壓力可以以不損壞組件載體結構的方式來調整，特別係在諸如鑽孔的測試目標處或周圍。特別地，可以根據應該如何研磨組件載體(例如，沿層研磨、對層研磨、等等)來選擇接觸壓力。應注意的是，切割準備既不會增強也不會減少組件載體結構中的品質問題。 關於旋轉速度和類型，僅在低於預界定之最大值的範圍內產生熱量可係有利的。旋轉方向可係同步的或可係相反的。夾持或操作裝置(諸如夾緊裝置、操作夾具、六足架、等等)可以快速擺動。 在旋轉方面可以被調整的參數係旋轉時間、接觸壓力、旋轉類型、組件載體結構的材料、顆粒、等等。 關於在以自動方式執行品質測試的處理期間之組件載體結構的對齊或定向，相機可以決定組件載體結構在第一次研磨之前是否被正確地定位。如有必要時，可以校正組件載體結構的位置以確保適當的對齊(例如，根據與較佳地未鍍銅的外部參考孔的比較；例如，可以在光處理中鑽孔或蝕刻該等參考孔)。或者，可以執行機械對齊處理(例如，使用對齊銷)。 對齊的目的可係目標平面與研磨介質應該平行地取向。此可藉由相對應地影響介質、研磨體、轉動一個或甚至所有所涉及之組件、等等來實現。 仍然關於對齊，相機影像可以擷取要觀察的參考點和目標點。此資料可以界定目標平面(軟體支援地、機械地、等等)並可以使目標平面平行於研磨介質。在對齊控制的進一步過程中，限制因素可係六足架/研磨速度/最大力的組合，以致使對齊保持，此對應於整個系統的機械穩定性。 現在關於組件載體結構的清潔，一實施例可以在研磨期間清潔組件載體結構。在迭代方法中，每個新的研磨階段(例如，在粗研磨之後的細研磨)可以藉由清潔階段來進行。清潔可以確保不會發生顆粒的攜帶。例如，在清潔方面，顆粒可以被吹走、吸走、蒸發、燃燒、剝離、刷洗、淋洗、等等。例如，可以在研磨處理期間執行連續清潔。可以實施抽吸、淋洗(較佳地，浴或水槽)、剝離、吹走、超音波浴(搖出)、或其他的清潔單元。有利地，非常小的裂紋可以藉由清潔來淋洗掉。在清潔之後，有利的是，剩餘顆粒的最大尺寸應等於或小於下一個處理中之用於研磨的顆粒尺寸。 關於試樣設計，它可係標準化的，或可偏差。任何偏差都可以與使用者協調。例如，試樣型組件載體結構可以配置有一或多個對準孔、磨損感測器、等等。 就評估組件載體結構的品質而言，用於品質準則或特徵的實例係銳邊(較佳地90度)、接近零的半徑、低於預界定之臨限值的公差(例如，10%或較佳地小於10%，公差不超過7%)。組件載體結構的另一個品質特徵在於它在放大100倍的影像中應該較佳地係無刮痕的。此外，組件載體結構應係沒有間隙(特別係在樣品與嵌入劑之間，更特別係在導電層與嵌入劑之間，尤其係在銅與嵌入劑之間)。嵌入時樹脂可能會收縮(快固化嵌入劑則體積損失大，慢固化嵌入劑則體積損失小)，但收縮不應過大。 第1圖圖示出依據本發明示例性實施例之執行組件載體結構102的品質測試之方法的流程圖170。用以描述第1圖的參考符號涉及第2圖或第3圖的實施例。較佳地，所提及的組件載體結構102可係形成面板之一部分的試樣，並且用以測試組件載體(諸如印刷電路板(PCB)或積體電路(IC)基板)。然而，組件載體結構102可替代地係包括多個連接的組件載體預製件，組件載體的預製件，或製造完成的組件載體的面板或陣列(諸如四分之一面板)。 有利地，流程圖170的方法可以對應於由自動化設備100所執行之組件載體結構102的品質測試。較佳地，該方法可以包括在邏輯上對應於該設備100的輸入172的入口106與在邏輯上對應於該設備100的輸出190的出口108之間執行品質測試，而無需人為干預。換言之，設備100的入口106對應於方法的輸入172，而設備100的出口108對應於方法的輸出190。更具體地，提供了用於組件載體結構102之橫剖面準備和目視檢查以及測量的自動化處理。較佳地，無需手動操作，且整個處理可係自動化的。為此目的，測試試樣型組件載體結構102可以被組態用於自動操作及用於機器可讀取序列化。 如參考符號172所指示的，組件載體結構102可以被輸入到設備100內。 請參閱方塊174，可以將試樣當作組件載體結構102來插入到設備100內，並且以此可以由機器人120完全自動地操作。更具體地，試樣可係例如依據IPC-2221所建構或設計的組件載體結構102。組件載體結構102可以提供可追溯性資訊到設備100。為此目的，可以使用設備100來執行的方法可以包括自動識別將接受品質測試的組件載體結構102。例如，可以在列表中登錄試樣型組件載體結構102。多個試樣可分類。為可追溯性之目的，可以在指定給個別組件載體結構102的資料集中指定諸如批號、面板號、陣列號、x/y資訊、橫剖面號、報告號、請求識別符、等等的資訊。例如，該等資料集可以儲存在資料庫128中。 請參閱方塊176，仍然可以與面板或其類似物的其餘部分整體地連接之組件載體結構102可以被單個化或被分離，例如藉由從諸如面板之較大的主體160銑削或切割出組件載體結構102。為此目的，可以在較大的主體160中搜尋組件載體結構102的界定位置並將它切割出。結果，可以獲得分離的組件載體結構102之形式的測試樣品。例如，可以依據最小的電鍍貫穿孔或對應於使用者界定來完成組件載體結構102的切割。 請參閱方塊178，然後可以使組件載體結構102經受熱應力，例如藉由執行浮焊測試。例如，可以將組件載體結構102液浸在熔融焊料中，用以使組件載體結構102經受熱應力。做為浮焊測試的替代例，也可以執行替代的熱應力方法，例如回流模擬。 請參閱方塊180，組件載體結構102可以或可以不經受封裝處理以在之後的品質測試期間簡化操作及/或緩衝應力。雖然組件載體結構的傳統手動品質測試在評估品質之前可能需要封裝，但是依據涉及組件載體結構102的全自動品質測試之本發明的示例性實施例，可以省略該嵌入。如果可選地執行，則封裝處理可以將組件載體結構102放入至諸如樹脂的嵌入材料內，以用於進一步的製備。然而，在其他實施例中，可以有利地跳過該嵌入(如參考符號192所示)，因為依據本發明之示例性實施例的自動操作也可以在沒有此種封裝的情況下實現。 請參閱方塊182，然後可以去除組件載體結構102的材料，用以暴露出將經受品質測試之組件載體結構102的內部。更具體地，可以創建組件載體結構102的微剖面(特別係橫剖面)。為此目的，組件載體結構102可以被研磨並隨後地拋光直至界定的位置(較佳地，到通孔或鑽孔或圖案的中心)。例如，可以執行不同階段的砂紙處理和拋光。用於研磨，例如可以使用具有不同顆粒的砂紙(例如，使用以下的一種或多種顆粒：60，180，1200，2000)。 請參閱方塊184，然後該方法可以包括在該材料去除之後，決定組件載體結構102的一或多個預界定的測試目標116(諸如電鍍通孔及其特性)。此外，該方法可以包括評估組件載體結構102之該一或多個測試目標116的特徵或屬性，用以評估組件載體結構102的品質。當跳過方塊180時，該方法可以包括根據未封裝的組件載體結構102，否則根據封裝的組件載體結構102來決定至少一個預界定的測試目標116。特別地，組件載體結構102之橫剖面的目視分析可以較佳地以自動化方式來執行。例如，可以執行x/y尺寸測量(例如，檢查積層、銅厚度，等等)。尤其，目視檢查可以包括對某些缺陷的分析。在上述檢查期間，可以考慮以下一個或多個測試目標116及指定的特徵：多層積層；電鍍貫穿孔特性(如壁特性、地特徵)；表面粗糙度的品質(例如，表面粗糙度可以對應於Ra標度及/或對應於Rz標度來決定)。在粗糙度方面，粗糙度值Rz可以用作組件載體結構102之暴露表面(特別係橫剖面)處是否存在刮痕的準則，而粗糙度值Ra則可以用作材料去除處理(特別係研磨處理)之品質的準則。例如，品質準則可在於由研磨及/或拋光所暴露的組件載體結構102之表面的粗糙度不應大於在前一材料去除階段中所使用之研磨盤和/或拋光膏的粗糙度。如果不滿足此準則，則可以斷定的是，人工製品已由較早的材料去除階段所引入。例如，可獲得至少1微米(μm)的測量分辨率。例如，品質測試可以依據IPC-6012、IPC-A-600、等等來執行。 請參閱方塊186，該方法可以包括創建及儲存具有預界定之特性的報告。該報告可以總結品質測試及其結論。此可確保品質測試的適當文件。 請參閱方塊188，然後該方法可以包括存檔所分析的組件載體結構102和品質測試。特別地，此可涉及樣品儲存、電子文件的儲存、等等。 如參考符號190所指示的，然後組件載體結構102可以從設備100輸出。 第2圖示意地圖示出依據本發明示例性實施例之用以執行組件載體結構102(此處實施為試樣)的品質測試之設備100。如設備100的圓周外殼131所示，品質測試可以在封閉單元內以自動化方式來執行。 在第2圖的左上側，圖示出平面片狀主體160的平面視圖，其可係用於以批量程序來製造複數個組件載體(諸如印刷電路板)的面板。例如，所示的面板具有18×24平方英寸或更大的尺寸。面板的中央主區域可被細分為多個陣列161(在所示實施例中的四個四分之一面板)，每個陣列包括多個PCB。在圍繞組件載體的框架163中，可以形成一或多個測試試樣做為組件載體結構102。有利地，可以預見至少一個水平延伸的組件載體結構102和至少一個垂直延伸的組件載體結構102，以便可執行品質測試用以識別兩個垂直方向中之潛在的結構缺陷。 現在請更詳細地參閱設備100，入口容納單元136係設置在所述設備100的入口106處，並且被組態用於在測試之前以堆疊的方式來容納複數個組件載體結構102。因此，在與面板型主體160分離之後，試樣型組件載體結構102可以被插入到入口容納單元136內。或者，可以在料匣型入口容納單元136中堆疊較大的主體160，每個主體160包括至少一個組件載體結構102。 機器人操作單元104係組態用以沿著設備100的入口106與出口108之間的各個部分來操作組件載體結構102(可選地仍然連接在主體160內)。特別地，操作單元104係組態用以從入口容納單元136透過入口106將要測試的組件載體結構102(或整個主體160)抓取及轉移到下述的識別單元110。更具體地，操作單元104包括入口操作子單元122，該入口操作子單元122係組態用以在入口106與下述的材料去除單元112之間操作組件載體結構102。有利地，操作單元104包括一或多個機器人120，其可包括一或多個六足架、一或多個線性機器人、一或多個關節臂機器人、等等。六軸機器人或六足架(在第2圖中以參考符號120示意地圖示出)可以具有裝備以感測器並且適用以在完全自動化設備100內操作組件載體結構102的軸。有利地，六足架可以用於由材料去除單元112所執行的材料去除處理(特別係研磨處理)，因為該六足架可係機械穩定的並且同時可係非常精確地適應於六個軸中。請參閱第3圖，六軸機器人或六足架可以在橫剖面站127中用以操作材料去除單元112及/或用以操作對齊單元154。因此，藉由材料去除之組件載體結構102的準備可以變得高度精確和穩健來防止可能的未對齊。此外，入口操作子單元122的及/或在操作單元104之出口操作子單元124處的線性機器人及/或關節臂機器人(未顯示)可用以在自動化設備100的個別工作站之間操作組件載體結構102。 如前所述，操作單元104的入口操作子單元122將組件載體結構102轉遞給識別單元110。後者係組態用以識別將被執行品質測試的組件載體結構102。此可以確保可追溯性。更具體地，識別單元110係組態用以根據對可以實體地連接到組件載體結構102或可以形成組件載體結構102之不可分割部分的識別符126的偵測來識別組件載體結構102。例如，該識別符126可係可以由識別單元110的光學讀取器所讀出的QR碼、條碼、或字母數字編碼。識別符126也可係諸如RFID(射頻識別)標籤或NFC(近場通訊)標籤的轉發器。在該等實施例中，識別單元110可以包括無線讀取器，該無線讀取器係組態用以無線地讀取轉發器型識別符126以供檢索識別資訊之用。為了要根據其識別符126來識別組件載體結構102及/或為了要檢索所指定給所識別之組件載體結構102的附加資料(例如，特定的品質測試指令)，識別單元110可以存取相對應的資料庫128。特別地，識別單元110可以被組態用以藉由將所偵測的識別符126與儲存在該資料庫128中之所指定的資料集中的相關識別資訊進行匹配以識別組件載體結構102。例如，該資料集可以使從識別符126可讀取的識別碼與關於組件載體結構102的進一步資訊，例如有關其製造歷史的資訊(諸如批號、製造日期、製造時間、等等)相關聯。識別單元110還可以被組態用以從資料庫128檢索品質測試相關資訊，該資訊指示將對所識別的組件載體結構102所執行的品質測試。該品質測試相關資訊可以界定應該對所識別之組件載體結構102執行的品質測試。可以針對不同類型的組件載體結構102執行不同的品質測試。 在其中在通過入口106將組件載體結構102引入到設備100內之前，該組件載體結構102尚未與較大的主體160分離的實施例中，可以配置單個化單元148(諸如銑床或雷射切割機)且可以將其組態用以從面板型主體160使組件載體結構102單個化。例如，單個化可以藉由銑削或雷射切割來完成。 之後，所處理的組件載體結構102可以藉由操作單元104來傳遞到熱應力暴露單元150，該熱應力暴露單元150係組態用以將組件載體結構102暴露於熱應力。較佳地，熱應力暴露單元150係組態用以使組件載體結構102漂浮在熱應力浴上，該熱應力浴可以包括熔融焊料。從而，可以使組件載體結構102經受熱應力。 然後，組件載體結構102可以藉由操作單元104之上述的機器人或另一個機器人120來轉遞到材料去除單元112。後者係組態用以去除組件載體結構102的材料以暴露接受或經受品質測試之組件載體結構102的內部。特別地，材料去除單元112可被組態用以藉由研磨，較佳地橫剖面研磨(或替代地平面研磨)，來去除組件載體結構102的材料。 為了要增進材料去除的精確度，可以藉由對齊單元154來對齊組件載體結構102，該對齊單元154例如可以被組態用以根據其所擷取的影像來決定組件載體結構102的對齊標誌(例如，鑽孔)。所述的對齊可以在藉由材料去除單元112研磨之前執行。對齊單元154係指定給材料去除單元112且可被組態用以在材料去除處理之前對齊組件載體結構102。因此，由對齊單元154所執行的對齊係較佳地在由材料去除單元112所執行的材料去除處理之前執行。於是，該對齊可以形成材料去除處理，特別係研磨處理的一部分。 可選地，可以配置去除材料量化單元142且可以將其組態用以量化在研磨期間從組件載體結構102所去除材料的量。藉由決定所研磨材料的量，可以使研磨進度且因此研磨處理的精確控制成為可能。 在研磨之後，組件載體結構102可以被供應到拋光單元140，該拋光單元140係組態用以在材料去除之後將組件載體結構102的暴露表面拋光。不是從組件載體結構102來去除大量額外的材料(其係在研磨期間發生)，而是拋光可以降低表面粗糙度並且可以在不去除過多材料的情況下增進表面品質。拋光的表面可以提供更多或更多有關用作以下將被分析的目標特徵之一或多個測試目標116的精確資訊。 僅可選地，然後可以(或替代地已經在藉由材料去除單元112來去除材料之前)將組件載體結構102供應到封裝單元144，該封裝單元144係組態用以將組件載體結構102封裝在封裝膠146中，以致使組件載體結構102隨後在封裝膠146中被偵測。該封裝膠146可係用作應力緩衝器並在隨後的分析期間(及/或之前的期間)簡化組件載體結構102之操作的樹脂。 然而，可係替代地且甚至係較佳地省略該封裝，因為全自動品質測試設備100也能夠在沒有封裝的情況下執行組件載體結構102的品質測試。因此，即使沒有封裝的組件載體結構102也可以經受後續的處理。 之後，(封裝的或未封裝的)組件載體結構102可以例如，藉由操作單元104的另一個機器人120來轉遞到清潔單元152，該清潔單元152係組態用以清潔組件載體結構102。例如，組件載體結構102可以以超音波浴來淋洗。 另一個對齊單元154可以被組態用以在偵測及決定其上的測試目標116之前對齊該組件載體結構102。為此目的，可以偵測組件載體結構102的一或多個對齊特徵(諸如貫穿孔，例如設置在轉角中)，並用以空間地對齊該組件載體結構102。 然後，對齊的組件載體結構102可以被成像。為此目的，可以配置偵測單元162並將其組態用以偵測組件載體結構102的(同時藉由材料去除所暴露的)內部的影像資料。 該影像資料可以被傳送到決定單元114。後者可被組態用以決定組件載體結構102之一或多個預界定的測試目標116。測試目標116可係組件載體結構102之成像的橫剖面中之可見的預界定特徵，並且可以關於在品質評估方面之特定有意義的特徵。組件載體結構102之測試目標116的適當特徵或屬性可係鑽孔158的直徑D(特別是雷射鑽孔或機械鑽孔，其可由電鍍銅所填充)，該等相鄰鑽孔158之間的距離L，導電層結構130(諸如圖案化銅層)及/或電性絕緣層結構132(諸如一片預浸體)的厚度d，該層結構130及/或132的平面性，以及該層結構130及/或132的脫層程度(請參閱參考符號133)。所提及的測試目標116係在第2圖中分別以頂視圖165和以側視圖167示出。然而，另一個測試目標116(例如，在平面研磨的情境中)可係一條銅線或複數條銅線以及其間的空間。 有利地，決定單元114係組態用以處理影像資料以供決定或辨識預界定的測試目標116之用。更具體地，決定單元114可以被組態用以首先根據組件載體結構102之所偵測的第一影像而以粗略方式來決定預界定的測試目標116。而且，決定單元114可以被組態用以其次根據在偵測第一影像之後且在蝕刻組件載體結構102的表面之後的組件載體結構102之所偵測的第二影像而以精細方式來決定預界定的測試目標116。在替代的實施例中，決定單元114也可以進行一次性操作，其中決定單元114根據單個影像來決定測試目標116。做為用於決定的基礎，決定單元114還可以存取資料庫128，例如存取將被考慮用於決定的測試目標116。 非常有利地且如回饋迴路169所示地，決定單元114可以被組態用以藉由迭代地重複包括材料去除(可選地包括拋光及/或清潔及/或蝕刻)、影像偵測、和影像分析的序列來決定預界定的測試目標116。藉由該迭代方法(當達到足夠的準確性時可以終止)，可以顯著地增進品質測試的可靠度。 如第2圖中進一步所示地，配置了評估單元118，該評估單元118係組態用以評估組件載體結構102之所決定的測試目標116，以評估組件載體結構102的品質。有利地，評估單元118可以被組態用以根據所決定之測試目標116的特性來評估組件載體結構102的品質。更具體地，評估單元118可以被組態用以藉由將組件載體結構102分類為複數個品質等級之一來評估品質。非常合適的可係將各個組件載體結構102(及/或指定之較大的主體160)自動分類為由“通過”(指示組件載體結構102及/或較大的主體160已通過品質測試)、“失敗”(指示組件載體結構102及/或較大的主體160未通過品質測試)、及“需要進一步分析”(指示組件載體結構102及/或較大的主體160需要額外的品質分析，因為評估單元118還不能夠以有意義的方式來決定品質)所組成之一群組之等級中的一個等級。在後者的情況中，還可以將組件載體結構102傳遞給人類操作員以供人工分析之用。所描述的通訊和使用者影響可以藉由與控制單元或處理器156通訊地耦接的輸入/輸出單元135在使用者與設備100之間交換。 尤其，評估單元118可以被組態用以藉由將每個測試目標116單獨地或較佳地將組件載體結構102的每個測試目標116的每個屬性或特徵單獨地分類為複數個品質等級的一個，特別地以由“通過”、“失敗”、及“需要進一步分析”所組成之一群組之等級中的一個等級來評估品質。只有非關鍵參數的輕微偏差仍可允許將組件載體結構102分類為“通過”。可以根據特定缺陷的類型及/或根據特定缺陷的強度來將缺陷分類為關鍵或非關鍵的。該品質測試可以包括多個準則，該等準則可以被單獨地判斷，用以在品質和性能上致能優勝劣敗的決定。 為了要支援其評估任務，評估單元118可以包括人工智慧模組134，該人工智慧模組134係組態用以使用人工智慧來執行評估，例如使用神經網路。用以訓練人工智慧模組134的訓練資料等也可以儲存在資料庫128中。 藉由蝕刻組件載體結構102的所暴露表面之可選的蝕刻處理，在組件載體結構102之被分析的所暴露表面上之諸如顆粒邊界和電鍍線的額外特徵可變成可見的。此甚至可以使得藉由評估單元118來對測試目標116之特徵的評估更為準確。 在所述的評估之後，可以將所分析的組件載體結構102傳送到設備100外面。為此目的，操作單元104係配置有出口操作子單元124，該出口操作子單元124係組態用以例如，在材料去除單元112與出口108之間藉至少一個額外的機器人120來操作組件載體結構102。如圖所示，設備100包括設置在出口108處的出口容納單元138(例如，也係料匣型的)，並且將其組態用於在測試之後以堆疊的方式來容納複數個組件載體結構102。操作單元104可以被組態用以透過出口108來轉移所測試的組件載體結構102到出口容納單元138。此可以例如，藉由另一機器人120來完成。 如參考符號156所示，設備100可以包括一或多個處理器或可被視為控制單元之處理器的部件，用以在組件載體結構102的品質測試期間控制設備100和其上述之組成物的操作。 非常有利地，設備100可以被組態用以在入口106與出口108之間執行品質測試而無需人為干預。僅可選地，使用者可以經由輸入/輸出單元135來接達。設備100的自動化特點可以加速品質測試並且可以使品質測試更為準確，同時在品質測試方面減少了所需的人力資源。此外，產量可以增加。 第3圖圖示出依據本發明示例性實施例之用以執行組件載體結構102的品質測試之設備100的細節。第3圖圖示出顯示第2圖設備100之元件的具體實施例。 輸入區段125涉及設備100的入口106與材料去除之間的一部分。橫剖面站127對應於設備100的後續部分，在該部分處係藉由研磨和隨後的拋光而以全自動方式來創建組件載體結構102的橫剖面。輸出區段129涉及設備100的橫剖面站127與出口108之間的一部分。 第4圖圖示出依據本發明示例性實施例之執行組件載體結構102的品質測試之方法的處理流程200。 處理流程200的區段202涉及依據示例性實施例之方法的試樣相關特徵。如參考符號204所示，可以對試樣(或任何其他組件載體結構102)編碼，例如用以致能對其之識別(如在識別單元110方面參照第2圖所描述的)。如參考符號206所示，試樣也可以被乾燥。請參閱參考符號208，可以執行二維標記。當依據區段202來組態時，可以在無需嵌入於封裝膠中的情況下執行試樣的橫剖面。 現在請參閱處理流程200的準備區段210和分析區段212，可以在起始方塊214與終止方塊216之間處理藉由試樣輸入單元218從料匣(例如，具有500件大小的料匣)所取出的試樣。 在準備區段210中，樣品或試樣(做為組件載體結構102)係從面板型較大的主體160切下或銑削出，請參閱方塊220。請參閱方塊222，然後可以使組件載體結構經受熱應力(例如，藉由使組件載體結構102漂浮在熔融焊料的浴上)。之後，組件載體結構102可以經受材料去除處理，然後係表面粗糙度降低處理。在相對應的方塊224中，組件載體結構102可以因此被研磨和拋光。 此後，組件載體結構102可以繼續進行區段212中的分析。在此情況中，可以執行組件載體結構102的光學分析，特別係藉由對後者進行成像(比較方塊226)。在隨後的方塊228中，組件載體結構102可以接受可選的蝕刻處理。如果不執行蝕刻，則組件載體結構102可以前進到樣品輸出和存檔方塊232，並且可以完成處理。如果執行蝕刻，則組件載體結構102可以在方塊230中進行微蝕刻，且然後可以返回到方塊226以進行額外的光學分析。 第5圖圖示出依據本發明示例性實施例之用以執行組件載體結構102的品質測試之設備100的自動化單元250。 組件載體結構102係使用試樣料匣來插入到自動化單元250內，請參閱起始方塊214及試樣輸入單元218。然後，組件載體結構102可以藉由構成操作單元104之入口操作子單元122的第一機器人來操作，而前進到由方塊220所示的切下站。之後，使組件載體結構102經受應力測試，比較方塊222。在此之後，組件載體結構102可以接受研磨(且較佳係拋光)處理，如再次由方塊224所示。 此後，組件載體結構102的操作可以藉由構成操作單元104之出口操作子單元124的第二機器人來完成。換言之，組件載體結構102可以從入口操作子單元122移交給出口操作子單元124，其中材料去除單元112構成所述子單元122，124之間的介面。 之後，組件載體結構102可以經受清潔(請參閱清潔單元152)、蝕刻(請參閱方塊230)、和光學分析(比較方塊226)。如果需要或所欲時，研磨、拋光、清潔、蝕刻、和/或光學分析的序列可以迭代地重複一次或多次。 最後，組件載體結構102可以藉由輸出抽櫃從單元250輸出(請參閱方塊232)。 應注意的是，術語“包括”並未排除其他的元件或步驟且“一”或“一個”也沒有排除複數個。此外，可以將與不同實施例相關聯所述的元件組合在一起。 此外，應注意的是，在申請專利範圍中的參考符號不應被解釋為限制該等申請專利範圍的範疇。 本發明的實施方式並未受限於圖式中所示的和上文所述的較佳實施例。相反地，即使在基本不同之實施例的情況中，使用所示的解決方案和依據本發明的原理之多種變化例亦係可能的。

100:自動化設備 102:組件載體結構 104:機器人操作單元 106:入口 108:出口 110:識別單元 112:材料去除單元 114:決定單元 116:測試目標 118:評估單元 120:機器人 122:入口操作子單元 124:出口操作子單元 125:輸入區段 126:識別符 127:橫剖面站 128:資料庫 129:輸出區段 130:導電層結構 131:圓周外殼 132:電性絕緣層結構 133:脫層程度 134:人工智慧模組 135:輸入/輸出單元 136:入口容納單元 138:出口容納單元 140:拋光單元 142:去除材料量化單元 144:封裝單元 146:封裝膠 148:單個化單元 150:熱應力暴露單元 152:清潔單元 154:對齊單元 156:處理器 158:鑽孔 160:較大的主體 161:陣列 162:決定單元 163:框架 165:頂視圖 167:側視圖 169:回饋迴路 170:流程圖 172:輸入 190:輸出 200:處理流程 210:準備區段 212:分析區段 218:試樣輸入單元 232:樣品輸出和存檔區塊 250:自動化單元

[第1圖]圖示出依據本發明示例性實施例之執行組件載體結構的品質測試之方法的流程圖。 [第2圖]示意地圖示出依據本發明示例性實施例之用以執行組件載體結構的品質測試之設備。 [第3圖]圖示出依據本發明示例性實施例之用以執行組件載體結構的品質測試之設備的細節。 [第4圖]圖示出依據本發明示例性實施例之執行組件載體結構的品質測試之方法的處理流程。 [第5圖]圖示出依據本發明示例性實施例之用以執行組件載體結構的品質測試之設備的自動化單元。

100:自動化設備

102:組件載體結構

104:機器人操作單元

106:入口

108:出口

110:識別單元

112:材料去除單元

114:決定單元

116:測試目標

118:評估單元

120:機器人

122:入口操作子單元

124:出口操作子單元

126:識別符

128:資料庫

130:導電層結構

131:圓周外殼

132:電性絕緣層結構

133:脫層程度

134:人工智慧模組

135:輸入/輸出單元

136:入口容納單元

138:出口容納單元

140:拋光單元

142:去除材料量化單元

144:封裝單元

146:封裝膠

148:單個化單元

150:熱應力暴露單元

152:清潔單元

154:對齊單元

156:處理器

158:鑽孔

160:較大的主體

161:陣列

162:決定單元

163:框架

165:頂視圖

167:側視圖

169:回饋迴路

Claims (34)

1. 一種用於執行組件載體結構(102)之品質測試的設備(100)，其中該設備(100)包含： 操作單元(104)，組態用以至少沿著該設備(100)的入口(106)與出口(108)之間的部分來操作該組件載體結構(102)； 識別單元(110)，組態用以識別接受該品質測試的該組件載體結構(102)； 材料去除單元(112)，組態用以去除該組件載體結構(102)的材料，以暴露接受該品質測試之該組件載體結構(102)的內部； 決定單元(114)，組態用以在所述材料去除之後決定該組件載體結構(102)之至少一個預界定的測試目標(116)；以及 評估單元(118)，組態用以評估該組件載體結構(102)之該所決定的至少一個測試目標(116)的特徵，以評估該組件載體結構(102)的該品質。
2. 如請求項1之設備(100)，其中該操作單元(104)包括至少一個機器人(120)。
3. 如請求項2之設備(100)，其中該至少一個機器人(120)包括多軸機器人。
4. 如請求項1之設備(100)，其中該操作單元(104)包括入口操作子單元(122)，該入口操作子單元(122)係組態用以沿著該設備(100)的子部分而在該入口(106)之後操作該組件載體結構(102)。
5. 如請求項4之設備(100)，其中該入口操作子單元(122)係組態用以在該入口(106)與該材料去除單元(112)之間操作該組件載體結構(102)。
6. 如請求項1之設備(100)，其中該操作單元(104)包括出口操作子單元(124)，該出口操作子單元(124)係組態用以沿著延伸到該出口(108)之該設備(100)的子部分來操作該組件載體結構(102)。
7. 如請求項6之設備(100)，其中該出口操作子單元(124)係組態用以在該材料去除單元(112)與該出口(108)之間操作該組件載體結構(102)。
8. 如請求項1之設備(100)，其中該識別單元(110)係組態用以根據對該組件載體結構(102)上及/或該組件載體結構(102)中之識別符(126)的偵測來識別該組件載體結構(102)。
9. 如請求項8之設備(100)，其中該識別單元(110)係組態用以藉由將所偵測的該識別符(126)與資料庫(128)中的相關識別資訊進行匹配來識別該組件載體結構(102)。
10. 如請求項1之設備(100)，包括以下特徵之至少一個： 其中該識別單元(110)係組態用以檢索品質測試相關資訊及/或指示將對所識別之該組件載體結構(102)執行的該品質測試的指令； 其中該材料去除單元(112)係組態用以藉由研磨來去除該組件載體結構(102)的材料； 其中該材料去除單元(112)係組態用以藉由由橫剖面研磨和平面研磨所組成的群組中之一種來去除該組件載體結構(102)的材料； 其中該決定單元(114)係組態用以處理在所述材料去除之後所偵測出之該至少一個預界定的測試目標(116)的至少一個影像； 其中該組件載體結構(102)的該至少一個測試目標(116)包括由至少一個鑽孔(158)和至少一個層結構(130，132)所組成之群組中的至少一個； 其中該組件載體結構(102)的該至少一個測試目標(116)的該特徵包括由以下所組成之群組中的至少一個：鑽孔(158)的直徑(D)，相鄰鑽孔(158)之間的距離(L)，導電層結構(130)之導電跡線的寬度，導電層結構(130)的相鄰導電跡線之間的距離，層結構(130，132)的厚度(d)，層結構(130，132)的平面性，層結構(130，132)的脫層，及印刷電路板型組件載體結構(102)的任何特徵； 其中該評估單元(118)係組態用以藉由將該組件載體結構(102)分類為複數個預界定的品質等級之一來評估該品質； 其中該評估單元(118)包括人工智慧模組(134)，該人工智慧模組(134)係組態用以使用人工智慧來執行該評估。
11. 如請求項10之設備(100)， 其中該識別單元(110)係組態用以從資料庫(128)檢索品質測試相關資訊及/或指示將對所識別之該組件載體結構(102)執行的該品質測試的指令。
12. 如請求項10之設備(100)， 其中該評估單元(118)係組態用以藉由將該組件載體結構(102)分類為由“通過”、“失敗”、及“需要進一步分析”所組成之一群組之品質等級中的一個品質等級來評估該品質。
13. 如請求項10之設備(100)， 其中該人工智慧模組(134)係組態用以使用機器學習來執行該評估。
14. 如請求項13之設備(100)， 其中該人工智慧模組(134)係組態用以使用神經網路來執行該評估。
15. 如請求項1之設備(100)， 其中該設備(100)包括入口容納單元(136)，該入口容納單元(136)係設置在該入口(106)處，且被組態用於在測試之前容納複數個組件載體結構(102)； 其中該操作單元(104)係組態用以從該入口容納單元(136)透過該入口(106)來轉移將被測試的組件載體結構(102)。
16. 如請求項15之設備(100)， 其中該入口容納單元(136)係組態用於在測試之前以堆疊的方式來容納該複數個組件載體結構(102)。
17. 如請求項15之設備(100)， 其中該操作單元(104)係組態用以將要測試的組件載體結構(102)轉移到該識別單元(110)。
18. 如請求項1之設備(100)， 其中該設備(100)包括出口容納單元(138)，該出口容納單元(138)係設置在該出口(108)處，且被組態用於在測試之後容納複數個組件載體結構(102)； 其中該操作單元(104)係組態用以透過該出口(108)來將已測試的組件載體結構(102)轉移到該出口容納單元(138)。
19. 如請求項18之設備(100)， 其中該出口容納單元(138)係組態用於在測試之後以堆疊的方式來容納該複數個組件載體結構(102)。
20. 如請求項1之設備(100)，包括以下特徵之至少一個： 包括拋光單元(140)，該拋光單元(140)係組態用以在去除材料之後拋光該組件載體結構(102)的暴露平面； 包括去除材料量化單元(142)，該去除材料量化單元(142)係組態用以量化藉由該材料去除單元(112)從該組件載體結構(102)所去除的材料量； 包括封裝單元(144)，該封裝單元(144)係組態用以將該組件載體結構(102)封裝在封裝膠(146)中，以致使該組件載體結構(102)在該封裝膠(146)中經受該決定； 其中該決定單元(114)係組態用以根據未封裝的組件載體結構(102)來決定該至少一個預界定的測試目標(116)； 包括單個化單元(148)，該單個化單元(148)係組態用以在將該組件載體結構(102)供應到該材料去除單元(112)之前從較大的主體(160)使該組件載體結構(102)單個化； 包括熱應力暴露單元(150)，該熱應力暴露單元(150)係組態用以在將該組件載體結構(102)供應到該決定單元(114)之前將該組件載體結構(102)暴露於熱應力； 包括清潔單元(152)，該清潔單元(152)係組態用以在該材料去除之後及在該決定之前清潔該組件載體結構(102)； 包括對齊單元(154)，該對齊單元(154)係組態用以在該決定之前及/或在該材料去除之前對齊該組件載體結構(102)； 其中該決定單元(114)係組態用以根據所偵測之該組件載體結構(102)的第一影像而以粗略方式來決定該至少一個預界定的測試目標(116)，及根據在偵測該第一影像之後所偵測之該組件載體結構(102)的第二影像而以精細方式來決定該至少一個預界定的測試目標(116)。
21. 如請求項20之設備(100)， 其中該單個化單元(148)係組態用以在將該組件載體結構(102)供應到該材料去除單元(112)之前從面板使該組件載體結構(102)單個化。
22. 如請求項20之設備(100)， 其中該熱應力暴露單元(150)係組態用以將該組件載體結構(102)暴露於熱應力浴。
23. 如請求項22之設備(100)， 其中該熱應力暴露單元(150)係組態用以使該組件載體結構(102)漂浮在熱應力浴上。
24. 如請求項23之設備(100)， 其中該熱應力暴露單元(150)係組態用以使該組件載體結構(102)漂浮在熔融焊料上。
25. 如請求項20之設備(100)， 其中該清潔單元(152)係組態用以在該材料去除之後及在該決定之前在超音波浴中清潔該組件載體結構(102)。
26. 如請求項20之設備(100)， 其中該對齊單元(154)包括多軸機器人。
27. 如請求項20之設備(100)， 其中該對齊單元(154)係組態用以在該決定之前及/或該材料去除之前根據該組件載體結構(102)的至少一個對齊特徵來對齊該組件載體結構(102)。
28. 如請求項20之設備(100)，其中該組件載體結構(102)之所偵測的該第二影像係在偵測該第一影像之後且在蝕刻該組件載體結構(102)的表面之後偵測。
29. 如請求項1之設備(100)，包括以下特徵之至少一個： 包括偵測單元(162)，該偵測單元(162)係組態用以在所述材料去除之後偵測該組件載體結構(102)的內部的影像資料； 其中該決定單元(114)係組態用以藉由迭代地重複包括材料去除、影像偵測、和可選的影像評估之序列來決定該至少一個預界定的測試目標(116)； 其中該設備(100)係組態用以在該入口(106)與該出口(108)之間執行該品質測試而無需人為干預。
30. 一種藉由自動化設備(100)來執行組件載體結構(102)之品質測試的方法，其中該方法包含： 至少沿著該設備(100)的入口(106)與出口(108)之間的部分來操作該組件載體結構(102)； 識別接受該品質測試的該組件載體結構(102)； 去除該組件載體結構(102)的材料，以暴露接受該品質測試之該組件載體結構(102)的內部； 在所述材料去除之後決定該組件載體結構(102)之至少一個預界定的測試目標(116)；以及 評估該組件載體結構(102)之該所決定的至少一個測試目標(116)的特徵，以評估該組件載體結構(102)的該品質。
31. 如請求項30之方法，包括以下特徵之至少一個： 其中該組件載體結構(102)包括由以下所組成之群組中的一個：包括多個連接的組件載體預製件的面板，包括多個連接的組件載體預製件的陣列，組件載體的預製件，試樣，及組件載體； 其中該方法包括根據未封裝的組件載體結構(102)來決定該至少一個預界定的測試目標(116)； 其中該方法包括在該入口(106)與該出口(108)之間執行該品質測試而無需人為干預。
32. 如請求項31之方法， 其中該組件載體包括印刷電路板和積體電路基板之一。
33. 一種電腦可讀取媒體，其中儲存藉由自動化設備(100)來執行組件載體結構(102)之品質測試的電腦程式，該電腦程式在由一個或複數個處理器(156)所執行時適合於執行及/或控制如請求項30之方法。
34. 一種藉由自動化設備(100)來執行組件載體結構(102)之品質測試的程式元件，該程式元件在由一個或複數個處理器(156)所執行時適合於執行及/或控制如請求項30之方法。

Images