TW202212875A - 附相位差層之偏光板之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種翹曲得到抑制之附相位差層之偏光板的簡便且有效率之製造方法。本發明之實施方式之附相位差層之偏光板的製造方法包括：於飽和水蒸氣量為10.2 g/m ³以下之環境下，將偏光板與相位差層一面捲筒搬送，一面介以活性能量線硬化型接著劑而積層，獲得附相位差層之偏光板；將附相位差層之偏光板一面捲筒搬送，一面於18℃～34℃及60%RH～90%RH之環境下進行加濕處理，使每單位體積之重量增加0.2%以上；及，將加濕處理後之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，並於捲筒狀態下存放6小時以上。附相位差層之偏光板之總厚度為80 μm以下，偏光板之厚度與相位差層之厚度之比(偏光板/相位差層)為5以上。

Description

附相位差層之偏光板之製造方法

本發明係關於一種附相位差層之偏光板之製造方法。

以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如，有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之圖像顯示裝置正在迅速普及。在圖像顯示裝置中，代表性的是使用偏光板及相位差板。在實際使用中，廣泛使用將偏光板與相位差板一體化而成之附相位差層之偏光板(例如專利文獻1)。近年來，對圖像顯示裝置之彎曲、折曲、摺疊、捲取之可能性進行了研究。作為此種圖像顯示裝置中使用之附相位差層之偏光板，需要一種薄型之附相位差層之偏光板。但是，薄型之附相位差層之偏光板存在容易產生翹曲之問題。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第3325560號公報

[發明所欲解決之問題]

本發明係為解決上述先前之課題而成者，其主要目的係提供一種翹曲得到抑制之附相位差層之偏光板的簡便且有效率之製造方法。 [解決問題之技術手段]

根據本發明之實施方式，提供一種附相位差層之偏光板之製造方法，上述附相位差層之偏光板具有：偏光板，其包括偏光元件與位於該偏光元件之至少一側之保護層；及相位差層。該製造方法包括：於飽和水蒸氣量為10.2 g/m ³以下之環境下，將偏光板與相位差層一面捲筒搬送，一面介以活性能量線硬化型接著劑而積層，獲得附相位差層之偏光板；將該附相位差層之偏光板一面捲筒搬送，一面於18℃～34℃及60%RH～90%RH之環境下進行加濕處理，使每單位體積之重量增加0.2%以上；及，將該加濕處理後之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，並於捲筒狀態下存放6小時以上。該附相位差層之偏光板之總厚度為80 μm以下，該偏光板之厚度與該相位差層之厚度之比(偏光板/相位差層)為5以上。 於一實施方式中，上述加濕處理之加濕時間為5分鐘以上。 於一實施方式中，上述偏光板與上述相位差層積層時之飽和水蒸氣量與上述加濕處理時之飽和水蒸氣量之差為1 g/m ³～28 g/m ³。 於一實施方式中，上述加濕處理中上述附相位差層之偏光板之每單位體積之重量增加為2.5%以下。 於一實施方式中，上述相位差層或上述偏光板之配置於與該相位差層之相反側的保護層之於40℃及92%RH下之透濕度為300 g/m ²・24h以上。 於一實施方式中，上述活性能量線硬化型接著劑硬化後之厚度為0.4 μm以上。 於一實施方式中，上述製造方法係於上述加濕處理中，以上述相位差層位於下側之方式搬送上述附相位差層之偏光板。 於一實施方式中，上述偏光板僅於上述偏光元件之與上述相位差層相反之側包含保護層。 於一實施方式中，上述相位差層係液晶化合物之配向固化層。 於一實施方式中，於上述附相位差層之偏光板中，上述偏光元件之厚度方向之中間點位於較該附相位差層之偏光板之厚度方向之中間點更靠相位差層側。 [發明之效果]

根據本發明之實施方式，附相位差層之偏光板之製造方法中，於特定飽和水蒸氣量之環境下將偏光板與相位差層積層而製作附相位差層之偏光板，對該附相位差層之偏光板進行特定加濕處理，並且將經加濕處理之附相位差層之偏光板存放特定之時間，藉此可簡便且有效率地製造翹曲得到抑制之附相位差層之偏光板。

以下，對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限定於該等實施方式。

(用語與記號之定義) 本說明書中之用語與記號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率最大之方向(即遲相軸方向)之折射率，「ny」為於面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率，「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」為於23℃下藉由波長為λ nm之光所測定之面內相位差。例如，「Re(550)」為於23℃下藉由波長為550 nm之光所測定之面內相位差。將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Re(λ)根據式：Re(λ)＝(nx－ny)×d求得。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」為於23℃下藉由波長為λ nm之光所測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」為於23℃下藉由波長為550 nm之光所測定之厚度方向之相位差。將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Rth(λ)根據式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d求得。 (4)Nz係數 Nz係數根據Nz＝Rth/Re求得。 (5)角度 本說明書中言及角度時，該角度包含相對於基準方向為順時針方向與逆時針方向兩者。因此，例如「45°」意為±45°。

A.藉由本發明之實施方式之製造方法所得之附相位差層之偏光板的結構之概略 圖1係表示藉由本發明之實施方式之製造方法所得之附相位差層之偏光板的一例之概略剖視圖。圖示例之附相位差層之偏光板100代表性的是從視認側依序具有偏光板10與相位差層20。圖示例中，偏光板10包括偏光元件11及位於偏光元件11兩側之保護層12與13。亦可根據目的省略保護層12與13中之一者。於一實施方式中，偏光板10僅於偏光元件11之視認側(相位差層20之相反側)具有保護層12。在實際使用中，於相位差層20之與偏光板10相反之側(即與視認側為相反側之最外層)設有黏著劑層(未圖示)，使附相位差層之偏光板能夠貼附於圖像顯示單元。進而，較佳為於附相位差層之偏光板投入使用前，黏著劑層之表面暫時黏有剝離膜(未圖示)。藉由暫時黏著剝離膜，可保護黏著劑層，並且能夠形成使附相位差層之偏光板之捲筒。

附相位差層之偏光板之總厚度(偏光板與相位差層之合計厚度)為80 μm以下，較佳為70 μm以下，更佳為60 μm以下。附相位差層之偏光板之總厚度例如可為25 μm以上。進而，附相位差層之偏光板中，偏光板之厚度與相位差層之厚度之比(偏光板/相位差層：以下，有時僅稱作「厚度比」)為5以上，較佳為5～16，更佳為5～14。即，應用於本發明之實施方式之製造方法的附相位差層之偏光板的總厚度較薄，且偏光板之厚度相對於總厚度之比率較大(相位差層之厚度之比率較小)。本發明者等發現，只有在附相位差層之偏光板中偏光板之厚度及厚度比為特定範圍之情形時，才會產生翹曲之問題。更詳細而言，於厚度比未達5(偏光板之厚度與相位差層之厚度之差不那麼大)之情形時，及偏光板之厚度過大之情形時，附相位差層之偏光板多數情況下不會產生翹曲之問題。本發明者等基於此種新見解對翹曲之抑制進行了鋭意研究，結果發現藉由本發明之實施方式之製造方法(後述)可抑制翹曲。如此，本發明之實施方式之製造方法係解決於總厚度為80 μm以下且偏光板之厚度與相位差層之厚度之比為5以上之附相位差層之偏光板中新發現之課題者。再者，此種附相位差層之偏光板中，偏光元件之厚度方向之中間點代表性的是位於較附相位差層之偏光板之厚度方向之中間點更靠相位差層側。又，至於偏光板之厚度與相位差層之厚度之比中的相位差層之厚度，當相位差層具有2層以上之積層結構之情形時，意指其合計厚度。

於一實施方式中，保護層12或相位差層20之任一者於40℃及92%RH下之透濕度較佳為300 g/m ²・24h以上，更佳為400 g/m ²・24h～1000 g/m ²・24h，進而較佳為400 g/m ²・24h～800 g/m ²・24h。只要保護層12或相位差層20之任一者為此種透濕度，則後述加濕處理之效果會變顯著。當相位差層20之透濕度為上述範圍之情形時，保護層12之透濕度較佳為300 g/m ²・24h以下，更佳為10 g/m ²・24h～150 g/m ²・24h，進而較佳為10 g/m ²・24h～30 g/m ²・24h。再者，於本實施方式中，多數情況下可省略保護層13。

相位差層20代表性的是液晶化合物之配向固化層(液晶配向固化層)。藉由使用液晶化合物，可使所得之相位差層之nx與ny之差明顯大於非液晶材料，因此可使用以得到所期望之面內相位差之相位差層的厚度明顯減小。因此，可實現附相位差層之偏光板之顯著之薄型化。其結果，可實現如上述之總厚度及厚度比。本說明書之「配向固化層」係指液晶化合物於層內特定方向配向，該配向狀態被固定之層。再者，「配向固化層」係包含如後所述之使液晶單體硬化而得之配向硬化層的概念。於相位差層20中，代表性的是棒狀之液晶化合物於排列於相位差層之遲相軸方向之狀態下配向(水平配向)。相位差層20如圖1所示可為單一層，亦可如圖2所示具有2層以上之積層結構。

相位差層介以活性能量線硬化型接著劑貼合於偏光板。當相位差層具有2層以上之積層結構之情形時，各個相位差層介以活性能量線硬化型接著劑而貼合。具有如上述之總厚度及厚度比之附相位差層之偏光板的翹曲主要起因於活性能量線硬化型接著劑硬化時之收縮。根據本發明之實施方式之製造方法(後述)，即便為具有如上述之總厚度及厚度比且使用活性能量線硬化型接著劑之附相位差層之偏光板，亦可良好地抑制翹曲。

附相位差層之偏光板亦可進而包含其他光學功能層。可設於附相位差層之偏光板的光學功能層之種類、特性、數量、組合、配置位置等可根據目的適當地進行設定。例如，附相位差層之偏光板亦可進而具有導電層或附導電層之各向同性基材(均未圖示)。導電層或附導電層之各向同性基材代表性的是設於相位差層20之外側(與偏光板10為相反側)。導電層或附導電層之各向同性基材代表性的是根據需要所設的任意層，亦可省略。再者，設置有導電層或附導電層之各向同性基材之情形時，附相位差層之偏光板可應用於所謂之內部觸控面板型輸入顯示裝置，該內部觸控面板型輸入顯示裝置於圖像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板之間組裝有觸控感測器。又，例如附相位差層之偏光板亦可進而包含其他之相位差層。其他相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可根據目的適當地進行設定。

以下，對本發明之實施方式之如上述之附相位差層之偏光板的製造方法進行說明，其次，對附相位差層之偏光板之構成元件進行說明。

B.附相位差層之偏光板之製造方法 本發明之實施方式之附相位差層之偏光板的製造方法包括：於飽和水蒸氣量為10.2 g/m ³以下之環境下，將偏光板與相位差層一面捲筒搬送，一面介以活性能量線硬化型接著劑而積層，獲得附相位差層之偏光板；一面捲筒搬送附相位差層之偏光板，一面於18℃～34℃及60%RH～90%RH之環境下對其進行加濕處理，以使每單位體積之重量增加0.2%以上；及，將加濕處理後之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，並於捲筒狀態下存放6小時以上。以下，依序對附相位差層之偏光板之製造方法的各步驟進行說明。

B-1.偏光板之製作 偏光板可藉由任意適當之方法而製作。具體而言，偏光板可包括由單層樹脂膜而製作之偏光元件，亦可包括使用兩層以上之積層體而製作之偏光元件。

B-1-1.使用由單層樹脂膜而得之偏光元件製作偏光板 由單層樹脂膜製造偏光元件之製造方法代表性的是包含對樹脂膜實施染色處理與延伸處理，該染色處理與延伸處理係利用碘或二色性染料等二色性物質者。作為樹脂膜，可例舉聚乙烯醇(PVA，Polyvinyl alcohol)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水高分子膜。該方法亦可進而包括不溶化處理、膨潤處理、交聯處理等。藉由於所得之偏光元件之至少一側積層保護層(保護膜)，可獲得偏光板。此種製造方法係業界周知慣用者，故省略詳細之說明。

B-1-2.使用由積層體而得之偏光元件製作偏光板 於偏光元件之製造中使用積層體之情形時，該積層體可為樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體，亦可為樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層之積層體。作為一例，對使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層之積層體之偏光元件的製造方法進行說明。該製造方法代表性的是包括：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸與染色，將PVA系樹脂層製成偏光元件。此種製造方法中，延伸代表性的是包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中而進行延伸。進而，延伸可進而根據需要包括於硼酸水溶液中之延伸之前，將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。可將所得之樹脂基材/偏光元件之積層體直接作為偏光板(即可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可於樹脂基材/偏光元件之積層體之偏光元件表面進而積層保護層而製成偏光板。或者，可從樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，於該剝離面根據目的積層任意適當之保護層而製成偏光板，亦可於保護層/偏光元件之積層體之偏光元件表面進而積層保護層而製成偏光板。此種偏光板之製造方法之詳細情況記載於例如日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號。該等公報之全部記載以參考之形式引用至本說明書中。

B-2.相位差層之形成 對相位差層為液晶配向固化層之情形時的形成方法進行簡單說明。液晶配向固化層可藉由如步驟而形成：對特定基材之表面實施配向處理，於該表面塗佈包含液晶化合物之塗佈液且使該液晶化合物配向於與上述配向處理對應之方向上，並且固定該配向狀態。作為配向處理，可採用任意適當之配向處理。具體而言，可例舉機械配向處理、物理配向處理、化學配向處理。作為機械配向處理之具體例，可例舉摩擦處理、延伸處理。作為物理配向處理之具體例，可例舉磁場配向處理、電場配向處理。作為化學配向處理之具體例，可例舉斜向蒸鍍法、光配向處理。各種配向處理之處理條件可根據目的而採用任意適當之條件。

液晶化合物之配向係根據液晶化合物之種類，藉由於顯示液晶相之溫度下進行處理而進行。藉由進行此種溫度處理，液晶化合物呈液晶狀態，該液晶化合物按照基材表面之配向處理方向進行配向。

作為配向狀態之固定，於一實施方式中，藉由將如上述般配向之液晶化合物冷卻而進行。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時，配向狀態之固定藉由對如上述般配向之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行。

液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細情況記載於日本專利特開2006-163343號公報。該公報之記載以參考之形式引用至本說明書中。

如上所述，於基材上形成液晶配向固化層。

B-3.附相位差層之偏光板之製作 藉由將上述所得之偏光板與相位差層積層，可獲得附相位差層之偏光板。如上所述，偏光板與相位差層之積層係一面捲筒搬送該等一面進行(即利用所謂之卷對卷法)。積層代表性的是可藉由轉印於基材上形成之液晶配向固化層而進行。於相位差層具有積層結構之情形時，可將各個相位差層依次積層(轉印)於偏光板上，亦可將相位差層之積層體積層(轉印)於偏光板上。轉印係介以活性能量線硬化型接著劑而進行。活性能量線硬化型接著劑硬化後之厚度較佳為0.4 μm以上，更佳為0.4 μm～3.0 μm，進而較佳為0.6 μm～1.5 μm。如上所述，具有特定之總厚度及厚度比之附相位差層之偏光板的翹曲主要起因於活性能量線硬化型接著劑硬化時之收縮，根據本發明之實施方式，即便是具有特定之總厚度及厚度比且使用活性能量線硬化型接著劑的附相位差層之偏光板，亦可良好地抑制翹曲。

於附相位差層之偏光板進而包含其他光學功能層(例如，導電層、其他相位差層)之情形時，該等光學功能層可藉由任意之適當之方法而積層或形成於特定配置位置。

附相位差層之偏光板之製作(積層)係於飽和水蒸氣量為10.2 g/m ³以下之環境下進行。積層時之飽和水蒸氣量較佳為6.0 g/m ³～10.0 g/m ³，更佳為8.0 g/m ³～9.5 g/m ³。藉由於飽和水蒸氣量為此種範圍之環境下進行積層，後述加濕處理之效果會變得顯著。積層時之此種飽和水蒸氣量例如可藉由於溫度為18℃～25℃之範圍內，根據溫度改變相對濕度而實現。作為飽和水蒸氣量，例如於溫度為18℃之情形時，可藉由將相對濕度設為65%RH以下而實現；又，例如於溫度為20℃之情形時，可藉由將相對濕度設為55%RH以下而實現；又，例如於溫度為23℃之情形時，可藉由將相對濕度設為45%RH以下而實現。再者，相對濕度之下限例如可為30%RH。

B-4.加濕處理 將上述所得之附相位差層之偏光板一面捲筒搬送一面進行加濕處理。加濕處理於18℃～34℃及60%RH～90%RH之環境下進行。加濕處理代表性的是於較上述積層時之飽和水蒸氣量更大之飽和水蒸氣量的環境下進行。更詳細而言，上述積層時之飽和水蒸氣量與加濕處理時之飽和水蒸氣量之差較佳為1.0 g/m ³～28 g/m ³，更佳為1.0 g/m ³～12 g/m ³，進而較佳為1.5 g/m ³～10 g/m ³，特佳為1.5 g/m ³～8 g/m ³。加濕處理中之飽和水蒸氣量較佳為10.5 g/m ³～30 g/m ³，更佳為11 g/m ³～20 g/m ³。作為加濕處理中之此種飽和水蒸氣量，例如於溫度為18℃之情形時，可藉由將相對濕度設為80%RH以上而實現；又，例如於溫度為20℃之情形時，可藉由將相對濕度設為60%RH以上而實現；又，例如於溫度為23℃之情形時，可藉由將相對濕度設為50%RH以上而實現。再者，相對濕度之上限例如可為100%RH。藉由於此種條件下進行加濕處理，可對附相位差層之偏光板賦予適當量之水分，並且能夠抑制如上述之具有特定厚度及厚度比之附相位差層之偏光板的翹曲。更詳細的情況如下所述。加濕處理中之溫度、濕度條件與附相位差層之偏光板製作時之溫度、濕度條件接近，並且不同於該條件。藉由於此種條件下進行加濕，可於不使附相位差層之偏光板收縮之情況下對附相位差層之偏光板賦予水分。即便於與製作時相同之溫度、濕度條件下捲筒搬送附相位差層之偏光板，也不會對附相位差層之偏光板賦予水分，無法獲得效果。雖然理論上並不清楚，但是藉由此種微小之條件差異，可獲得如上所述的意料之外之優異效果。另一方面，若對附相位差層之偏光板賦予之水分量過多，則存在相反方向之翹曲及/或面內與初始方向正交之方向的翹曲變大之情形。

進行加濕處理，使附相位差層之偏光板之每單位體積的重量增加0.2%以上。加濕處理中之附相位差層之偏光板之每單位體積的重量增加為0.2%～2.5%，更佳為0.3%～2.0%，進而較佳為0.3%～1.0%。由於加濕處理時之重量增加意味著附相位差層之偏光板吸收了水分，故藉由將重量增加量設為此種範圍，可使偏光元件吸收所期望之量之水分。其結果，可抑制附相位差層之偏光板之翹曲。

加濕處理時之加濕時間較佳為5分鐘以上，更佳為5分鐘～30分鐘，進而較佳為5分鐘～20分鐘，特佳為5分鐘～15分鐘。若加濕時間為5分鐘以上，則可實現上述所期望之重量增加量(水分吸收量)。由於即便加濕時間過度地延長，效果也不會改變，故加濕時間之上限可由所期望之重量增加量與製造效率之平衡決定。

於加濕處理之一實施方式中，以相位差層位於下側之方式搬送附相位差層之偏光板。若為此種結構，則可抑制起因於異物之外觀不良。

B-5.捲筒存放 將經加濕處理之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，並於捲筒狀態下存放。存放時間如上所述，為6小時以上，較佳為8小時以上，更佳為10小時以上，進而較佳為12小時以上。存放時間之上限例如可為24小時。藉由此種存放，可將藉由加濕處理而對附相位差層之偏光板賦予之水分良好地轉移至偏光元件。藉此，使偏光元件之含水率增大，其結果，可抑制附相位差層之偏光板之翹曲。

存放代表性的是可於室溫附近進行。存放之溫度較佳為30℃以下，更佳為20℃～30℃，進而較佳為23℃～27℃。若存放溫度太高，則存在藉由加濕處理而對附相位差層之偏光板賦予(被附相位差層之偏光板吸收)之水分蒸發至外部，無法良好地轉移至偏光元件之情形。

C.偏光板 C-1.偏光元件 如上述製造方法所示，偏光元件11代表性的是包含二色性物質(例如，碘)之樹脂膜。作為樹脂膜，如上所述，可例舉聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水高分子膜。

偏光元件之厚度較佳為15 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～12 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍，則可藉由如上述之加濕處理良好地吸收所期望之量之水分。

偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任意波長下均顯示吸收二色性。偏光元件之單質透過率例如可為41.5%～46.0%，較佳為42.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。

C-2.保護層 保護層12及保護層13分別由可作為偏光元件之保護層使用之任意適當之膜形成。作為該膜之主成分之材料的具體例，可例舉三乙醯纖維素(TAC，Triacetate Cellulose)等纖維素系樹脂，或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。較佳為保護層12及保護層13可分別包含TAC。若為此種結構，則本發明之實施方式可效果顯著。

藉由本發明之實施方式之製造方法所得之附相位差層之偏光板代表性的是配置於圖像顯示裝置之視認側，保護層12配置於該視認側。因此，可根據需要對保護層12實施硬塗處理、抗反射處理、抗沾黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者，亦可根據需要對保護層12實施改善經由偏光太陽鏡視認之情形時之視認性的處理(代表性的是賦予(橢)圓偏振光功能，賦予超高相位差)。藉由進行此種處理，即使於經由偏光太陽鏡等偏光透鏡視認顯示畫面之情形時，亦可實現優異之視認性。因此，附相位差層之偏光板亦可適用於室外使用之圖像顯示裝置。

保護層12之厚度較佳為5 μm～80 μm，更佳為10 μm～40 μm，進而較佳為15 μm～35 μm。再者，於實施表面處理之情形時，保護層12之厚度為包含表面處理層之厚度的厚度。

保護層13於一實施方式中較佳為光學各向同性。本說明書中所謂「光學各向同性」，係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm且厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。保護層13之厚度較佳為5 μm～80 μm，更佳為10 μm～40 μm，進而較佳為10 μm～30 μm。

D.相位差層 相位差層20如上所述，可為單一層，亦可具有2層以上之積層結構。

於相位差層20為單一層之情形時，相位差層於一實施方式中作為λ/4板發揮功能。具體而言，相位差層之Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為110 nm～160 nm。可調整相位差層之厚度，以得到λ/4板之所需之面內相位差。於相位差層為液晶配向固化層之情形時，其厚度例如可為1.0 μm～2.5 μm。本實施方式中，相位差層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為44°～46°。該實施方式中，附相位差層之偏光板於相位差層20與黏著劑層30之間可進而具有顯示nz＞nx＝ny之折射率特性之相位差層(未圖示)。於相位差層為單一層之情形時，相位差層較佳為顯示相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性。

相位差層於另一實施方式中可作為λ/2板發揮功能。具體而言，相位差層之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為230 nm～290 nm，進而較佳為230 nm～280 nm。可調整相位差層之厚度，以得到λ/2板之所需之面內相位差。於相位差層為液晶配向固化層之情形時，其厚度例如可為2.0 μm～4.0 μm。本實施方式中，相位差層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為12°～16°。

於相位差層20具有積層結構之情形時，相位差層代表性的是如圖2所示從偏光板側依序具有H層21與Q層22之2層結構。H層代表性的是可作為λ/2板發揮功能，Q層代表性的是可作為λ/4板發揮功能。具體而言，H層之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為220 nm～290 nm，進而較佳為230 nm～280 nm；Q層之Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為110 nm～150 nm。可調整H層之厚度，以得到λ/2板之所期望之面內相位差。於H層為液晶配向固化層之情形時，其厚度例如可為2.0 μm～4.0 μm。可調整Q層之厚度，以得到λ/4板之所期望之面內相位差。於Q層為液晶配向固化層之情形時，其厚度例如可為1.0 μm～2.5 μm。本實施方式中，H層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為12°～16°；Q層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為70°～80°，更佳為72°～78°，進而較佳為72°～76°。再者，H層及Q層之配置順序可顛倒，H層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度及Q層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度亦可顛倒。於相位差層具有積層結構之情形時，各個層(例如，H層及Q層)可顯示相位差值隨著測定光之波長變大之逆波長色散特性，亦可顯示相位差值隨著測定光之波長變小之正波長色散特性，亦可顯示相位差值幾乎不隨著測定光之波長而變化之平坦的波長色散特性。

相位差層(具有積層結構之情形時之各個層)代表性的是折射率特性顯示nx＞ny＝nz之關係。再者，「ny＝nz」不僅包含ny與nz完全相等之情形，亦包含實質上相等之情形。因此，於不損及本發明之效果之範圍內，可存在ny＞nz或ny＜nz之情形。相位差層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。

相位差層代表性的是如上所述之液晶配向固化層。作為液晶化合物，例如可例舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為此種液晶化合物，可使用例如液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制可為向液性或向熱性中的任一者。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可進行組合。

於液晶化合物為液晶單體之情形時，該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。藉由使液晶單體聚合或交聯(即硬化)，可固定液晶單體之配向狀態。使液晶單體配向後，例如若使液晶單體彼此聚合或交聯，則可藉此固定上述配向狀態。此處，雖然藉由聚合形成聚合物，藉由交聯形成三維網狀結構，但該等為非液晶性。因此，所形成之相位差層不會發生例如液晶性化合物特有之由於溫度變化引起之向液晶相、玻璃相、結晶相之轉移。其結果，相位差層成為不受溫度變化影響，穩定性極其優異之相位差層。

液晶單體顯示液晶性之溫度範圍根據其種類而不同。具體而言，該溫度範圍較佳為40℃～120℃，進而較佳為50℃～100℃，最佳為60℃～90℃。

作為上述液晶單體，可採用任意適當之液晶單體。例如可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可例舉BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，例如較佳為向列性液晶單體。 [實施例]

以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明並不限定於該等實施例。各特性之測定方法如下所述。再者，除非另有說明，實施例及比較例中之「份」及「%」為重量基準。 (1)厚度 10 μm以下之厚度係使用掃描式電子顯微鏡(日本電子公司製，製品名「JSM-7100F」)而測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(安利知公司製，製品名「KC-351C」)而測定。 (2)翹曲 將實施例及比較例中所得之附相位差層之偏光板分別於加濕處理前及加濕、存放後切割為140 mm×70 mm之尺寸。此時，以偏光元件之吸收軸方向為長邊方向進行切割。將切下之附相位差層之偏光板靜置於平面上時，將距該平面最高部分之高度作為翹曲量。 其次，以與上述同樣之方式測定將切下之附相位差層之偏光板於23℃及55%RH之環境下放置24小時後之翹曲量，並且根據放置前後之翹曲量之變化，按照下述基準進行評價。 ○：翹曲量之變化為±5 mm以下 ×：翹曲量之變化大於±5 mm 再者，翹曲於靜置面側突起之情形用「正(＋)」表示，於與靜置面相反之側突起之情形用「負(-)」表示。

[實施例1] 1.偏光板之製作 將厚度為30 μm之PVA系樹脂膜之長條捲筒，一面藉由輥延伸機向長度方向單軸延伸，使總延伸倍率為6.0倍，一面同時進行膨潤、染色、交聯及洗淨處理，最後實施乾燥處理，藉此製成厚度為12 μm之偏光元件。介以PVA系接著劑將HC-TAC膜作為視認側保護層貼合於所得之偏光元件之一面。再者，HC-TAC膜係於TAC膜(厚度25 μm)上形成有硬塗(HC)層(厚度7 μm)之膜，以TAC膜位於偏光元件側之方式進行貼合。進而，介以PVA系接著劑將TAC膜(厚度25 μm)貼合於偏光元件之另一面，獲得具有保護層(HC-TAC膜)/偏光元件/保護層(TAC膜)之結構的偏光板。

2.附相位差層之偏光板之製作 2-1.相位差層之製作 將顯示向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製：商品名「Paliocolor LC242」，由下述式表示)10 g、該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(BASF公司製：商品名「Irgacure 907」)3 g溶解於甲苯40 g，製備成液晶組合物(塗佈液)。 [化1]

使用磨擦布對聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面進行磨擦，實施配向處理。配向處理之方向為貼合於偏光板時從視認側看相對於偏光元件之吸收軸之方向成15°之方向。於該配向處理表面，用棒式塗佈機塗佈上述液晶塗佈液，於90℃下加熱乾燥2分鐘，藉此使液晶化合物配向。藉由使用金屬鹵素燈對如此形成之液晶層照射1 mJ/cm ²之光，使該液晶層硬化，於PET膜上形成液晶配向固化層A。液晶配向固化層A之厚度為2.0 μm，面內相位差Re(550)為270 nm。進而，液晶配向固化層A顯示nx＞ny＝nz之折射率特性。將液晶配向固化層A用作H層。 除了變更塗佈厚度，及將配向處理方向設為從視認側看相對於偏光元件之吸收軸之方向成75°之方向以外，以與上述同樣之方式於PET膜上形成液晶配向固化層B。液晶配向固化層B之厚度為1.0 μm，面內相位差Re(550)為140 nm。進而，液晶配向固化層B顯示nx＞ny＝nz之折射率特性。將液晶配向固化層B用作Q層。

2-2.附相位差層之偏光板之製作 將上述2-1.中所得之液晶配向固化層A(H層)及液晶配向固化層B(Q層)順次轉印於上述1.中所得之偏光板之TAC膜表面。此時，以偏光元件之吸收軸與配向固化層A之遲相軸所成之角度為15°，偏光元件之吸收軸與配向固化層B之遲相軸所成之角度為75°之方式進行轉印(貼合)。再者，各個轉印(貼合)係介以紫外線硬化型接著劑(厚度1.0 μm)而進行。如此，獲得具有保護層/接著劑/偏光元件/接著劑/保護層/接著劑層/相位差層(H層)/接著劑層/相位差層(Q層)之結構的附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為76 μm，厚度比為14。再者，轉印(貼合)係一面捲筒搬送一面進行。進而，轉印(貼合)係於飽和水蒸氣量為9.3 g/m ³之環境下(23℃及45%RH)進行。

3.加濕處理及捲筒存放 將上述2.中所得之附相位差層之偏光板一面捲筒搬送一面進行加濕處理。加濕處理於23℃及80%RH(飽和水蒸氣量為16.5 g/m ³)下進行10分鐘。將經加濕處理之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，將該捲筒於23℃及55%RH下存放12小時。分別對加濕處理前與捲筒存放後之附相位差層之偏光板進行上述(2)之評價。將結果示於表1。

[實施例2] 1.偏光板之製作 作為熱塑性樹脂基材，使用長條狀，Tg約75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)，於樹脂基材之單面進行電暈處理。 將於PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份者溶於水中，製備PVA水溶液(塗佈液)，該PVA系樹脂係將聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer」)以9：1混合而成者。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液且於60℃下乾燥，藉此形成厚度為13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 將所得之積層體於130℃之烘箱內沿縱向(長度方向)單軸延伸2.4倍(空中輔助延伸處理)。 其次，將積層體於液溫40℃之不溶化浴(相對於水100重量份，調配硼酸4重量份而得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 其次，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，以碘與碘化鉀為1：7之重量比調配而得之碘水溶液)中，一面調整濃度，使最終所得之偏光元件之單質透過率(Ts)成為所期望之值，一面將積層體浸漬60秒(染色處理)。 其次，將積層體於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀3重量份、硼酸5重量份而得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 其後，將積層體一面於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度為4重量%，碘化鉀濃度為5重量%)中浸漬，一面於周速不同之錕間沿縱向(長度方向)進行單軸延伸，使總延伸倍率為5.5倍(水中延伸處理)。 其後，將積層體於液溫20℃之洗淨浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀4重量份而得之水溶液)中浸漬(洗淨處理)。 其後，將積層體一面於保持在約90℃之烘箱中進行乾燥，一面與表面溫度保持為約75℃之SUS製之加熱輥接觸(乾燥收縮處理)。 如此，於樹脂基材上形成厚度約5 μm之偏光元件，獲得具有樹脂基材/偏光元件之結構的偏光板。

進而，介以紫外線硬化型接著劑將HC-COP膜作為視認側保護層貼合於所得之偏光元件之表面(與樹脂基材為相反側之面)。再者，HC-COP膜係於環烯烴系樹脂(COP)膜(厚度25 μm)上形成有HC層(厚度2 μm)之膜，以COP膜位於偏光元件側之方式貼合。其次，剝離樹脂基材而獲得具有HC-COP膜(視認側保護層)/偏光元件之結構的偏光板。

2.附相位差層之偏光板之製作 除使用上述1.中所得之偏光板以外，與實施例1同樣地獲得具有保護層/接著劑/偏光元件/接著劑層/相位差層(H層)/接著劑層/相位差層(Q層)之結構的附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為38 μm，厚度比為7。

3.加濕處理及捲筒存放 將上述2.中所得之附相位差層之偏光板一面捲筒搬送一面進行加濕處理。加濕處理係於23℃及60%RH(飽和水蒸氣量為12.4 g/m ³)下進行10分鐘。將經加濕處理之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，將該捲筒與實施例1同樣地存放。分別對加濕處理前與捲筒存放後之附相位差層之偏光板進行上述(2)之評價。將結果示於表1。

[實施例3] 除未設置相位差層(Q層)以外，與實施例2同樣地獲得具有保護層/接著劑/偏光元件/接著劑層/相位差層(H層)之結構的附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為36 μm，厚度比為13。對所得之附相位差層之偏光板進行與實施例2同樣之加濕處理，並於加濕處理後捲取為捲筒狀而與實施例1同樣地存放。分別對加濕處理前與捲筒存放後之附相位差層之偏光板進行上述(2)之評價。將結果示於表1。

[比較例1] 將與實施例2同樣之附相位差層之偏光板一面捲筒搬送一面進行加濕處理。加濕處理係於23℃及45%RH(飽和水蒸氣量為9.3 g/m ³)下進行10分鐘。將經加濕處理之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，將該捲筒與實施例1同樣地存放。分別對加濕處理前與捲筒存放後之附相位差層之偏光板進行上述(2)之評價。將結果示於表1。

[比較例2] 將與實施例2同樣之附相位差層之偏光板一面捲筒搬送一面進行加濕處理。加濕處理係於60℃及60%RH(飽和水蒸氣量為77.9 g/m ³)下進行10分鐘。將經加濕處理之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，將該捲筒與實施例1同樣地存放。分別對加濕處理前與捲筒存放後之附相位差層之偏光板進行上述(2)之評價。將結果示於表1。

[比較例3] 將與實施例2同樣之附相位差層之偏光板一面捲筒搬送一面進行加濕處理。加濕處理係於40℃及60%RH(飽和水蒸氣量為30.7 g/m ³)下進行10分鐘。將經加濕處理之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，將該捲筒與實施例1同樣地存放。分別對加濕處理前與捲筒存放後之附相位差層之偏光板進行上述(2)之評價。將結果示於表1。

[比較例4] 與實施例2同樣地製作附相位差層之偏光板，直接捲取為捲筒狀。將該捲筒與實施例2同樣地於23℃及60%RH下進行10分鐘之加濕處理後，與實施例1同樣地存放。分別對加濕處理前與捲筒存放後之附相位差層之偏光板進行上述(2)之評價。將結果示於表1。再者，表1中所謂「卷內」，係指從捲筒去除外周3周之部分(外周3周可廢棄)。由於加濕處理所產生之水分實質上全部被外周3周之部分吸收，因此捲筒內部之重量未變化。

[參考例1] 除使用厚度為60 μm之PVA系樹脂膜以外，與實施例1同樣地製成厚度為22 μm之偏光元件。於所得之偏光元件之一面貼合附HC層之TAC膜(厚度71 μm)。進而，於偏光元件之另一面貼合顯示逆波長色散依存性且Re(550)為140 nm之聚碳酸酯樹脂相位差膜(厚度58 μm)。此處，以相位差膜之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度為45°之方式貼合。如此，獲得附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為151 μm，厚度比為1.6。將該附相位差層之偏光板切割為140 mm×70 mm之尺寸，於平面上靜置時未觀察到翹曲。

[參考例2] 與參考例1同樣地製成厚度為22 μm之偏光元件。於所得之偏光元件之一面貼合附HC層之TAC膜(厚度為91 μm)，於另一面貼合TAC膜(厚度為80 μm)而獲得偏光板。除使用該偏光板以外，與實施例1同樣地獲得具有附HC層之TAC膜/偏光元件/TAC膜/接著劑層/相位差層(H層)/接著劑層/相位差層(Q層)之結構的附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為198 μm，厚度比為39。將該附相位差層之偏光板切割為140 mm×70 mm之尺寸，於平面上靜置時未觀察到翹曲。

[表1]

附相位差層之偏光板

積層

加濕處理

翹曲

總厚度(μm)

厚度比

溫度/濕度(℃/%RH)

水蒸氣量 (g/m 2)

溫度/濕度 (℃/%RH)

水蒸氣量 (g/m 2)

與積層之水蒸氣量之差 (g/m 2)

加濕時間(分鐘)

重量變化(%)

加濕前

存放後

量(mm)

經時變化

量(mm)

經時變化

實施例1

76

14

23/45

9.3

23/80

16.5

7.2

10

+0.4

-40(MD)

×

±10以內

○

實施例2

38

7

23/45

9.3

23/60

12.4

3.1

10

+0.4

-40(MD)

×

±20以內

○

實施例3

36

13

23/45

9.3

23/60

12.4

3.1

10

+0.5

-40(MD)

×

±20以內

○

比較例1

38

7

23/45

9.3

23/45

9.3

0

10

0

-40(MD)

×

-40(MD)

×

比較例2

38

7

23/45

9.3

60/60

77.9

68.7

10

+3.5

-20(MD)

×

+40(TD)

×

比較例3

38

7

23/45

9.3

40/60

30.7

21.5

10

+2.6

-30(MD)

×

+40(TD)

×

比較例4

38

7

23/45

9.3

23/60

12.4

3.1

10(捲筒)

0

-40(MD)

×

-40(MD) (卷內)

×

[評價] 如表1所示，可知根據本發明之實施例所得之附相位差層之偏光板進行了特定之加濕處理及捲筒存放，因此切割時之翹曲及翹曲之經時變化均得到顯著地抑制。進而，如參考例所示，可知此種翹曲係總厚度較薄且偏光板之厚度相對於總厚度之比率較大的附相位差層之偏光板所特有之課題。 [產業上之可利用性]

根據本發明之實施方式之製造方法所得之附相位差層之偏光板可用作圖像顯示裝置用之附相位差層之偏光板，尤其可適用於彎曲之圖像顯示裝置，或者能夠折曲、摺疊、或捲取之圖像顯示裝置(此種圖像顯示裝置代表性的是使用樹脂基板作為基板)。作為圖像顯示裝置，代表性的是可例舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置。

10:偏光板 11:偏光元件 12:保護層 13:保護層 20:相位差層 21:相位差層(H層) 22:相位差層(Q層) 100:附相位差層之偏光板 102:附相位差層之偏光板

圖1係表示藉由本發明之實施方式之製造方法所得之附相位差層之偏光板的一例之概略剖視圖。 圖2係表示藉由本發明之實施方式之製造方法所得之附相位差層之偏光板的另一例之概略剖視圖。

10:偏光板

11:偏光元件

12:保護層

13:保護層

20:相位差層

100:附相位差層之偏光板

Claims (10)

1. 一種附相位差層之偏光板之製造方法，該附相位差層之偏光板具有：偏光板，其包括偏光元件與位於該偏光元件之至少一側之保護層；及相位差層； 該製造方法包括：於飽和水蒸氣量為10.2 g/m ³以下之環境下，將偏光板與相位差層一面捲筒搬送，一面介以活性能量線硬化型接著劑而積層，獲得附相位差層之偏光板； 將該附相位差層之偏光板一面捲筒搬送，一面於18℃～34℃及60%RH～90%RH之環境下進行加濕處理，使每單位體積之重量增加0.2%以上；及， 將該加濕處理後之附相位差層之偏光板捲取為捲筒狀，並於捲筒狀態下存放6小時以上； 該附相位差層之偏光板之總厚度為80 μm以下，該偏光板之厚度與該相位差層之厚度之比(偏光板/相位差層)為5以上。
2. 如請求項1之附相位差層之偏光板之製造方法，其中上述加濕處理之加濕時間為5分鐘以上。
3. 如請求項1或2之附相位差層之偏光板之製造方法，其中上述偏光板與上述相位差層積層時之飽和水蒸氣量與上述加濕處理時之飽和水蒸氣量之差為1 g/m ³～28 g/m ³。
4. 如請求項1至3中任一項之附相位差層之偏光板之製造方法，其中上述加濕處理中上述附相位差層之偏光板之每單位體積之重量增加為2.5%以下。
5. 如請求項1至4中任一項之附相位差層之偏光板之製造方法，其中上述相位差層或上述偏光板之配置於與該相位差層之相反側的保護層之於40℃及92%RH下之透濕度為300 g/m ²・24h以上。
6. 如請求項1至5中任一項之附相位差層之偏光板之製造方法，其中上述活性能量線硬化型接著劑硬化後之厚度為0.4 μm以上。
7. 如請求項1至6中任一項之附相位差層之偏光板之製造方法，其中於上述加濕處理中，以上述相位差層位於下側之方式搬送上述附相位差層之偏光板。
8. 如請求項1至7中任一項之附相位差層之偏光板之製造方法，其中上述偏光板僅於上述偏光元件之與上述相位差層相反之側包含保護層。
9. 如請求項1至8中任一項之附相位差層之偏光板之製造方法，其中上述相位差層為液晶化合物之配向固化層。
10. 如請求項1至9中任一項之附相位差層之偏光板之製造方法，其中於上述附相位差層之偏光板中，上述偏光元件之厚度方向之中間點位於較該附相位差層之偏光板之厚度方向之中間點更靠相位差層側。

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