TW202205342A - 電子偵測裝置及偵測系統 - Google Patents
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 31
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 66
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 41
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14603—Special geometry or disposition of pixel-elements, address-lines or gate-electrodes
- H01L27/14607—Geometry of the photosensitive area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1464—Back illuminated imager structures
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2441—Semiconductor detectors, e.g. diodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2446—Position sensitive detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24507—Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation
- H01J2237/24514—Beam diagnostics including control of the parameter or property diagnosed
- H01J2237/24521—Beam diameter
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24592—Inspection and quality control of devices
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- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
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Abstract
本發明揭示偵測器及偵測系統。根據某些實施例，一種偵測器包含一基板，該基板包含包括一第一感測元件及一第二感測元件之複數個感測元件，其中至少該第一感測元件以一三角形形狀形成。該偵測器可包括經組態以連接該第一感測元件與該第二感測元件之一切換區。亦可提供複數個區段，其包括一第一區段及一第二區段，該第一區段將第一複數個感測元件連接至一第一輸出，該第二區段將第二複數個感測元件連接至一第二輸出。可以一六邊形形狀提供該區段。
Description
本文中之描述涉及偵測器，且更確切地說涉及可適用於帶電粒子偵測之切換偵測器陣列。
偵測器可用於感測可實體觀測到之現象。舉例而言，電子顯微鏡可包含收集自樣本投影之帶電粒子且輸出偵測信號之偵測器。偵測信號可用以重建構檢測下之樣本結構的影像，且可用以例如展現樣本中之缺陷。
在一些應用中，區域偵測器可包含可偵測投影於其上之一或多個電子束的電子感測元件之像素化陣列。偵測器可包括主動區域，其中回應於被帶電粒子擊中而產生電流。在電子感測元件之像素化陣列中，可提供具有單獨主動區域之離散偵測元件的網格。主動區域可由隔離區域包圍，以將一個像素與相鄰之像素分離。
諸如第62/555,032號美國申請案中所論述之偵測器可具備感測元件之間的切換區。在此類偵測器中，遮蔽區域可減少且偵測性能可增強。舉例而言，可消除鄰近感測元件之側之間的隔離區域，使得多個感測元件在被電子光束點覆蓋時可合併。
然而，在一些偵測器中，切換區之數目可取決於感測元件之形狀。舉例而言，正方形形狀感測元件可經組態以與其四個側中之每一者上的鄰近感測元件連接。因此，四個切換區可圍繞各感測元件。
本發明之實施例提供用於提供偵測器之系統及方法。在一些實施例中，提供一種帶電粒子束系統。該帶電粒子束系統可包括經組態以偵測在該帶電粒子束系統中產生帶電粒子的偵測器。
在一些實施例中，提供一種偵測器，其包含基板，該基板包括複數個感測元件，該複數個感測元件包括第一感測元件、第二感測元件。該偵測器可包括經組態以連接該第一感測元件與該第二感測元件之一切換區。該第一感測元件可經組態以回應於該第一感測元件偵測到一光束而產生一第一信號，且該第二感測元件可經組態以回應於該第二感測元件偵測到該光束而產生一第二信號。至少該第一感測元件可以一三角形形狀形成。該三角形形狀可係一等邊三角形。
根據一些實施例，可達成一種配置，其減少了鄰近感測元件之間之開關的數目及用以控制開關所需之控制邏輯的數目。另外，感測元件之形狀可使感測元件之區段能夠以一對應形狀形成。具有特定形狀之一區段配置可減少設置於一電路晶粒中之區段的總數目。提供呈一三角形形狀之感測元件及呈一六邊形形狀之區段例如可改善偵測系統性能而不引起偵測系統之靈活性的損失。
在以下描述內容中將部分闡述所揭示實施例的額外目標及優點，且將部分自該描述內容顯而易見，或可藉由對該等實施例的實踐習得。所揭示實施例之目標及優點可藉由在本發明中所闡述之要素及組合來實現及獲得。然而，未必需要本發明之例示性實施例達成此類例示性目標及優點，且一些實施例可能不會達成所陳述目標及優點中之任一者。
應理解，前文一般描述及以下詳細描述兩者皆僅為例示性及解釋性的，且並不限定如所主張之所揭示實施例。
現在將詳細參考例示性實施例，在圖式中說明該等例示性實施例之實例。以下描述參考附圖，其中除非另外表示，否則不同圖式中之相同編號表示相同或類似元件。闡述於例示性實施例之以下描述中之實施並不表示符合本發明的所有實施方案。取而代之，其僅係符合關於如所附申請專利範圍中所敍述之主題之態樣的設備、系統及方法之實例。舉例而言，儘管在利用電子光束之系統中提供偵測器之內容背景中描述一些實施例，但本發明不限於此。可以相似方式應用其他類型之帶電粒子束。此外，偵測器可用於其他成像系統中，諸如光學成像、光偵測、x射線偵測等。
本發明之實施例可提供偵測器。該偵測器可具有陣列架構。該偵測器可用於偵測系統中，該偵測系統可適用於例如用於帶電粒子成像之帶電粒子系統中。帶電粒子系統可係用於成像及檢測樣本之掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope，SEM)工具。帶電粒子系統可用於例如缺陷偵測。
在一些實施例中，針對偵測器陣列中之感測元件(像素)選擇等邊三角形形狀。在偵測器陣列具有相同量之像素的條件下，使用三角形形狀而非矩形形狀可使鄰近像素之間的開關之數目減小25%。舉例而言，三角形具有3個邊而非4個邊，且因此，可提供三個開關而非4個開關以連接像素。減小開關之數目亦可使連接至開關之控制邏輯的量減小例如25%。無其他多邊形形狀具有更低數目個直邊。
在一些實施例中，三角形像素可經組態以與對應矩形像素具有相同面積。因此，三角形像素之邊可比矩形像素之邊長52%。此可係形成於兩個鄰近像素之間的切換區產生更寬之通道寬度。舉例而言，場可程式化偵測器可具備形成為鄰近像素之間的MOSFET之切換區。提供更寬之通道可減小MOSFET之導通電阻。此外，可在偵測系統中達成更高頻寬。
此外，三角形像素可形成具有形狀更接近電子光束點之形狀的群組。舉例而言，電子光束點可以圓或橢圓之形狀投影於偵測器之表面上。三角形像素之群組可更佳能夠貼合電子光束點之形狀且可以更高信雜比收集電子束電流。
在一些實施例中，針對偵測器陣列之主動區域而選擇六邊形形狀。
在一些實施例中，偵測器具備劃分成區段之複數個感測元件。第一區段可含有第一複數個感測元件，且第二區段可含有第二複數個感測元件，等等。該第一複數個感測元件與該第二複數個感測元件可係相互獨佔式的。可針對區段選擇六邊形形狀。區段可係均勻的。在區段形狀具有相同對角線尺寸之條件下，六邊形區段之面積可比矩形區段之面積大30%。結果，若偵測器陣列之主動區域保持相同，則可達成區段數目之例如30%的減小。因此，可使用六邊形區段來減小區段之數目及信號路徑之數目。
六邊形形狀可最大化一組像素之面積，而在群組內之形狀之間無任何間隔。
相比於非均勻區段及非均勻信號路徑，均勻區段及對應均勻信號路徑可更易於實施於積體電路中。此外，一些設計對於信號路徑可具有效能均勻性要求。
藉由在偵測器陣列中以等邊三角形與六邊形區段之形狀組合像素，可達成提高的電子束偵測性能。可類似地應用其他區段形狀。此外，可簡化電路晶粒。亦可簡化用於鄰近像素之間的開關元件之控制邏輯。另外，可在類比/數位轉換器(ADC)陣列之後設置簡化之數位多工器。另外，在電路晶粒中可能需要更少信號路徑，此可降低設計及實施難度。因此，可使設計之按比例擴大更容易。
現參看圖1，其說明例示性電子束檢測(electron beam inspection，EBI)系統100，該系統可包括符合本發明之實施例之偵測器。EBI系統100可用於成像。如圖1中所展示，EBI系統100包括主腔室101、裝載/鎖定腔室102、電子束工具104及裝備前端模組(equipment front end module，EFEM) 106。電子束工具104位於主腔室101內。EFEM 106包括第一裝載埠106a及第二裝載埠106b。EFEM 106可包括額外裝載埠。第一裝載埠106a及第二裝載埠106b收納含有待檢測之晶圓(例如，半導體晶圓或由其他材料製成之晶圓)或樣本的晶圓前開式單元匣(front opening unified pod，FOUP) (晶圓及樣本在本文中可被統稱為「晶圓」)。
EFEM 106中之一或多個機器人臂(未圖示)可將晶圓運送至裝載/鎖定腔室102。裝載/鎖定腔室102連接至裝載/鎖真空泵系統(未圖示)，該裝載/鎖真空泵系統移除裝載/鎖定腔室102中之氣體分子以達到低於大氣壓之第一壓力。在達到第一壓力之後，一或多個機器人臂(未圖示)可將晶圓自裝載/鎖定腔室102運送至主腔室101。主腔室101連接至主腔室真空泵系統(未圖示)，該主腔室真空泵系統移除主腔室101中之氣體分子以達到低於第一壓力之第二壓力。在達到第二壓力之後，晶圓經受電子束工具104之檢測。電子束工具104可係單光束系統或多光束系統。控制器109以電子方式連接至電子束工具104。控制器109可係經組態以執行對EBI系統100之各種控制的電腦。雖然控制器109在圖1中被展示為在包括主腔室101、裝載/鎖定腔室102及EFEM 106之結構之外，但應瞭解，控制器109可係該結構之部分。
現參看圖2，其說明包含以下各者之電子光束工具104 (在本文中亦被稱作設備104)：電子源202、槍孔隙204、聚光透鏡206、自電子源202發射之原電子光束210、源轉換單元212、原電子光束210之複數個細光束214、216及218、初級投影光學系統220、晶圓載物台(圖2中未展示)、多個二次電子光束236、238及240、二次光學系統242及電子偵測裝置244。初級投影光學系統220可包含光束分離器222、偏轉掃描單元226及物鏡228。電子偵測裝置244可包含偵測子區246、248及250。
電子源202、槍孔隙204、聚光透鏡206、源轉換單元212、光束分離器222、偏轉掃描單元226及物鏡228可與設備104之主光軸260對準。二次光學系統242及電子偵測裝置244可與設備104之副光軸252對準。
電子源202可包含陰極、提取器或陽極，其中原電子可自陰極發射且經提取或加速以形成具有交越(虛擬或真實) 208之原電子光束210。原電子束210可被可視化為自交叉208發射。槍孔隙204可阻擋原電子光束210之周邊電子以減小探測點270、272及274之尺寸。
源轉換單元212可包含影像形成元件陣列(圖2中未展示)及光束限制孔隙陣列(圖2中未展示)。影像形成元件陣列可包含微偏轉器或微透鏡陣列。影像形成元件陣列可與原電子光束210之複數個細光束214、216及218形成交越208之複數個平行影像(虛擬或真實)。光束限制孔隙陣列可限制複數個細光束214、216及218。
聚光透鏡206可聚焦原電子束210。可藉由調整聚光透鏡206之聚焦倍率或藉由改變光束限制孔隙陣列內之對應的光束限制孔隙之徑向尺寸來使源轉換單元212下游的細光束214、216及218之電流變化。物鏡228可將細光束214、216及218聚焦至晶圓230上以供檢測且可在晶圓230之表面上形成複數個探測點270、272及274。聚光透鏡206可係可經組態以使得其第一主平面之位置可移動的可移動聚光透鏡。可移動聚光透鏡可經組態以具磁性，此可使得離軸細光束216及218以旋轉角著陸於細光束限制孔隙上。旋轉角隨著可移動聚光透鏡之聚焦倍率及第一主平面的位置而改變。在一些實施例中，可移動聚光透鏡可係可移動反旋轉聚光透鏡，其涉及具有可移動第一主平面之反旋轉透鏡。可移動聚光透鏡進一步描述於以全文引用之方式併入本文中的國際申請案第PCT/EP2017/084429號中。
光束分離器222可係產生靜電偶極子場及磁偶極子場之韋恩濾波器類型(Wien filter type)的光束分離器。在一些實施例中，若應用該等光束分離器，則由靜電偶極子場對細光束214、216及218之電子施加的力可與由磁偶極子場對電子施加之力量值相等且方向相對。細光束214、216及218可因此以零偏轉角直接通過光束分離器222。然而，由光束分離器222產生之細光束214、216及218之總色散亦可係非零。光束分離器222可將二次電子光束236、238及240與細光束214、216及218分離，且朝向二次光學系統242導向二次電子光束236、238及240。
偏轉掃描單元226可使細光束214、216及218偏轉以使探測點270、272及274遍及晶圓230之表面區進行掃描。回應於細光束214、216及218入射於探測點270、272及274處，可自晶圓230發射二次電子光束236、238及240。二次電子光束236、238及240可包含具有能量之分佈的電子，包括二次電子及反向散射電子。二次光學系統242可將二次電子光束236、238及240聚焦至電子偵測裝置244之偵測子區域246、248及250上。偵測子區246、248及250可經組態以偵測對應的二次電子束236、238及240且產生用於重構晶圓230之表面區域的影像之對應信號。
現參看圖3，其說明可形成電子偵測裝置244之表面的感測器表面300之例示性結構。感測器表面300具有包含複數個感測元件之陣列結構，該複數個感測元件包括感測元件301、302、303等等，各感測元件能夠接收光束點之至少一部分。感測元件301、302、303可經組態以回應於接收到能量而產生電信號。儘管在圖3中展示一個陣列，但應瞭解，偵測器可包括多個陣列，諸如各次電子束一個陣列。
感測元件可包含例如PIN二極體、雪崩二極體、電子倍增管(EMT)等等及其組合。舉例而言，感測元件301、302、303可係電子感測元件。電子感測元件可產生與在感測器主動區域中接收到之電子相稱的電流信號。處理電路可將所產生電流信號轉換成電壓信號(表示接收到之電子光束點的強度)。處理系統可藉由例如求和由定位於感測器區域內之電子感測元件產生的電流之產生電子光束點之強度信號，使強度信號與入射於晶圓的原電子束之掃描路徑資料相關，並基於相關性建構晶圓之影像。
儘管上文將電子感測元件描述為自電子束接收電子，但在其他類型之偵測器的狀況下，感測器可經組態以回應於接收到其他類型之輻照而產生信號。舉例而言，偵測器可對具有特定電荷之帶電粒子起反應。又，偵測器可對通量、空間分佈、光譜或其他可量測屬性敏感。因此，偵測器之感測元件可經組態以回應於接收到某一類型或位準之能量，例如具有預定量之能量的電子或離子，而產生信號。
偵測器可具備一個或複數個基板，諸如晶粒。舉例而言，可存在感測器晶粒及電路晶粒。可在偵測器之厚度方向堆疊該等晶粒。舉例而言，偵測器可形成為具有在二維平面中成陣列的感測元件之大體上平面部件。感測器晶粒可包含感測元件(包括感測元件301、302、303)，且電路晶粒可包含信號處理電路系統。感測器晶粒與電路晶粒可在正交於感測元件陣列之平面之堆疊方向彼此堆疊在一起。
圖4說明圖3中所展示之區的放大部分。圖5展示沿著圖3及圖4中所指示之部分A的偵測器陣列之厚度方向之橫截面截取的感測器元件之例示性結構。
如圖5中所說明，感測元件301、302、303可經組態為PIN二極體裝置3000。PIN二極體裝置3000可包含金屬層3010作為頂部層。金屬層3010係用於接收入射於電子偵測裝置244上之電子的層。因此，金屬層3010經組態為偵測表面。舉例而言，金屬層3010之材料可係鋁。當鋁用於金屬層3010中時，氧化層可形成於表面之外部上以便保護電子偵測裝置244。PIN二極體裝置3000亦可包含金屬層3050作為底部層。舉例而言，金屬層3050之材料可係銅。金屬層3050可包含用於攜帶來自感測元件301、302、303中之每一者的感應電流之輸出線。
PIN二極體裝置3000可包括半導體裝置。舉例而言，構成PIN二極體裝置之半導體裝置可經製造為具有複數個層之基板。因此，感測元件301、302、303可在橫截面圖中相連。切換區3009可與感測元件成整體。另外，感測元件301、302、303及/或切換區3009可經組態為複數個離散半導體裝置。離散半導體裝置可經組態以直接彼此鄰近。因此，即使當感測元件經組態為離散時，亦可去除固定隔離區域且可縮減遮蔽區域。
在PIN二極體裝置3000之操作中，p+區3020鄰近於金屬層3010形成。p+區3020可係p型半導體層。本徵區3030鄰近於p+區3020形成。本徵區3030可係純質半導體層，且因此可係電荷載流子區。n+區3040鄰近於本徵區3030形成。N+區3040可係n型半導體層。電子偵測裝置244之感測器層可形成為金屬層3010、p+區3020、本徵區3030、n+區3040及金屬層3050之層。
PIN二極體裝置3000包含形成於兩個鄰近感測元件之間的切換區3009。如圖5中所展示，切換區3009形成於感測元件301與302之間，且另一切換區3009形成於感測元件302與303之間。開關可形成於切換區3009中。作為一實例，增強模式MOSFET 3001可在切換區3009處形成於PIN二極體裝置3000的感測器層中。MOSFET 3001可包含p+區3002、閘極3004及閘極氧化物3003。MOSFET 3001經組態為「正常打開」類型開關。在接通模式下，施加至閘極3004之電壓增加裝置之電導率。因此，在不啟動MOSFET 3001之情況下，感測元件302與303之間的開關係關閉的，且感測元件302與303藉此不藉由MOSFET 3001連接。藉由啟動MOSFET 3001，感測元件之間的開關係開啟的，且感測元件301與302藉由MOSFET 3001連接。舉例而言，PIN二極體裝置3000可組態有可在接通狀態3098及關斷狀態3099下操作之MOSFET。可經由閘極3004控制MOSFET 3001。
製造諸如MOSFET 3001之MOSFET的製程可包含例如蝕刻及材料沈積，以及其他技術。
在操作中，當電子入射於金屬層3010之頂部表面上時，本徵區3030充滿來自p+區3020之電荷載流子。如圖5中可見，當連接例如301與302之兩個鄰近感測元件時，將啟動在經輻照區中之金屬層3010下方的所有區域，包括切換區3009中之區域。因此，兩個鄰近感測元件可回應於入射電子而被分組在一起用於收集電流，同時可去除鄰近感測元件之間的遮蔽區域。無需提供隔離區域以在橫截面中分離鄰近感測元件，例如301與302。因此，可使感測元件301與302相連。
如在圖4之平面視圖所見，感測元件301與302之間的切換區3009A係用於感測之啟動區域。同時，主動感測元件302與非主動感測元件303之間的切換區3009B並非用於感測之主動區域。切換區3009可大體上橫跨各別感測元件之整個長度。舉例而言，感測元件可具有在第一方向X及第二方向Y上延伸之矩形形狀。矩形形狀感測元件可具有在該第一方向延伸之第一側及在第二方向延伸之第二側。切換區3009可延伸第一側之整個長度。另一切換區3009可延伸第二側之整個長度。另外，切換區可延伸短於第一或第二側之長度。切換區可直接鄰近於感測元件，使得主動區域可係相連的。
圖6展示切換區在何處大體上橫跨各別感測元件之完整長度的一實例。感測元件601具有在第一方向(X軸方向)及第二方向(Y軸方向)上延伸的正方形形狀。區610在第一方向大體上橫跨側之完整長度，且區620在第二方向大體上橫跨側之完整長度。
應瞭解，PIN二極體可以各種組態實現，該等組態使用p型及n型半導體之不同配置。
如圖4中所展示，可提供十字形區域325。區域325可係隔離區域，其將像素之拐角與在對角線方向彼此相對之像素隔離。可使用各種形狀替代十字。舉例而言，區域325可提供為正方形、多邊形、圓形等等。區域325亦可包含對角線區段，以便將具有儘可能小的面積之對角線像素分離。
圖7自與入射側相對之背側展示偵測器之表面的區段。為了清晰起見而省略一些組件，諸如閘極及晶體管之其他元件。表面可由金屬層3050構成。區域325可係十字形區域，如上文所論述。區域325可由係電絕緣體之材料形成。因此，可防止鄰近感測元件之間的短路。
圖8說明區域325提供為正方形形狀區域的視圖。舉例而言，當切換區大體上橫跨各別感測元件之側的全長時，可以正方形形狀提供區域325。
在上文所論述之實例中，感測元件提供為正方形或矩形像素。然而，在本發明之一些實施例中，感測元件可以三角形形狀提供。
圖9說明可形成電子偵測裝置244之表面之感測器表面400的例示性結構。感測器表面400具有包含複數個感測元件之陣列結構，該複數個感測元件包括感測元件401、402、403等等，各感測元件能夠接收光束點之至少一部分。
感測元件可包含例如PIN二極體、雪崩二極體、電子倍增管(EMT)等等及其組合。舉例而言，感測元件401、402、403可係電子感測元件。
如圖10A中所說明，感測元件401、402、403可經組態為PIN二極體裝置4000。PIN二極體裝置4000可包含金屬層4010作為頂部層。金屬層4010可係用於接收入射於電子偵測裝置244上之電子的層，且因此，金屬層4010可經組態為偵測表面。舉例而言，金屬層4010之材料可係鋁。PIN二極體裝置4000亦可包含金屬層4050作為底部層。舉例而言，金屬層4050之材料可係銅。金屬層4050可包含用於攜帶來自感測元件401、402、403中之每一者的感應電流之輸出線。
PIN二極體裝置4000可包括半導體裝置。舉例而言，構成PIN二極體裝置之半導體裝置可經製造為具有複數個層之基板。因此，感測元件401、402、403可在橫截面圖中相連。切換區4009可與感測元件成整體。另外，感測元件401、402、403及/或切換區4009可經組態為複數個離散半導體裝置。離散半導體裝置可經組態以直接彼此鄰近。因此，即使當感測元件經組態為離散時，亦可去除固定隔離區域且可縮減遮蔽區域。
PIN二極體裝置4000可類似於PIN二極體裝置3000而起作用，如上文所描述。因此，可提供p+區4020、本徵區4030及n+區4040。另外，PIN二極體裝置4000包含形成於兩個鄰近感測元件之間的切換區4009。
圖10A展示在圖9中指示之部分A之偵測器陣列的厚度方向沿著橫截面截取之感測器元件的例示性結構，且圖10B展示在圖9中指示之部分B之偵測器陣列的厚度方向沿著橫截面截取之感測器元件的例示性結構。如圖10A中所展示，歸因於感測元件之三角形形狀，切換區4009比其在圖10B中靠得更近。
如圖10A中所展示，切換區4009形成於感測元件401與402之間，且另一切換區4009形成於感測元件402與403之間。開關可形成於切換區4009中。作為一實例，增強模式MOSFET 4001可在切換區4009處形成於PIN二極體裝置4000的感測器層中。可經由閘極4105控制MOSFET 4001。
切換區4009可在水平方向形成於鄰近感測元件之間。舉例而言，切換區4009在垂直於Z方向(基板之厚度方向)之X方向處於感測元件401與感測元件402之間。
圖11展示多個三角形感測元件之放大圖。如圖11中所展示，當連接兩個鄰近感測元件，例如402與403時，將啟動經輻照區中之金屬層4010下的所有區域，包括切換區4009A中之區域。因此，兩個鄰近感測元件可回應於入射帶電粒子而被分組在一起用於收集電流，同時可去除鄰近感測元件之間的遮蔽區域。無需提供隔離區域以在橫截面圖中單獨例如402與403之鄰近感測元件的側。
感測元件402與403之間的切換區4009A係用於感測之主動區域。同時，主動感測元件403與非主動感測元件405之間的切換區4009B並非用於感測之主動區域。切換區4009可大體上橫跨各別感測元件之完整邊長。
相比於具有相同面積之正方形感測元件，三角形感測元件可在幾何學上經組態以使得三角形之邊比正方形之邊長達52%。舉例而言，可藉由給出A = s2
正方形感測元件之面積，其中s係邊長。可藉由
給出等邊三角形之面積，其中b係邊長。因此，當面積被設定為相等時，比b:s係1.52。當可使鄰近感測元件之間的直邊的長度更長時，可使諸如切換區4009之切換區的長度更長。因此，可使例如形成開關之MOSFET 4101的通道寬度更大，且可減小MOSFET之導通電阻。
在一些實施例中，切換區4009可延伸大體上感測元件之一側的整個長度。此外，切換區4009可延伸小於感測元件之側的整個長度。舉例而言，可提供係隔離區域之區域425。區域425可由係電絕緣體之材料形成。因此，可防止鄰近感測元件之間的短路。可提供區域425以確保鄰近切換區4009之閘極不會觸摸。因此，可使用區域425之各種形狀。
舉例而言，區域425可由六邊形形狀形成，如同圖11。在一些實施例中，區域425可形成星形形狀。舉例而言，區域425可包含具有預定厚度之類似於星號的複數個線，如圖12中所展示。預定厚度可基於諸如所要EM屏蔽位準、介質擊穿等等之參數。在一些實施例中，切換區4009可朝向頂點形成有楔形邊緣以使得可最小化區域425。
在一些實施例中，切換區域可安置於感測元件之主動區域中。在其他實施例中，切換區亦可形成於感測元件之主動區域外部。
在一些實施例中，舉例而言，感測器層可含有井、渠溝或其他結構，其中切換區形成於彼等結構中。圖13係具有內建式p井及n井的用於形成開關及其他主動及/或被動元件之感測元件800的橫截面圖。此類元件可連接至感測元件800或其他組件。感測元件800可形成感測器層805之可係偵測器陣列之感測器層的部分，而在圖13中未展示電路層及其他層。
感測元件800可包含二極體裝置，其尤其具有表面層801、p+區810、p磊晶區820、n-區830。表面層801可形成偵測器之接收入射電子的偵測表面。表面層801可係由例如鋁形成之金屬層。在與表面層801相對之側上，可提供電極850作為電荷收集器。電極850可經組態以輸出表示在感測元件800之經啟動區中接收到的電子量之電流信號。
開關元件819可由金屬氧化物半導體裝置形成。舉例而言，複數個CMOS裝置可形成於感測器層805之背側中。作為CMOS裝置之一實例，可提供深p井841、n井842及p井843。製造CMOS裝置之製程可包含例如蝕刻及圖案化，以及其他技術。
儘管僅展示一個感測元件800，但應理解，感測器層805可由複數個感測元件構成。該等感測元件在橫截面圖中可係相連的。
現關於符合本發明之態樣之區段配置而參看圖14及圖15。可提供複數個區段，諸如區段410、420及430。區段可經組態以將複數個感測元件中之一或多個感測元件彼此電連接。區段可經組態以輸出共同輸出。第一區段可將該複數個感測元件當中之第一複數個感測元件中之一或多個感測元件連接至輸出。第二區段可將第二複數個感測元件中之一或多個感測元件連接至輸出。舉例而言，如圖15中所展示，區段410可電連接至感測元件401、402及403且連接至第一輸出928。區段420可電連接至其他感測元件，且可連接至第二輸出929。該等區段可經由複數個佈線路徑419連接至感測元件。該等區段可經組態以將電信號輸出至信號處理電路系統。舉例而言，區段410可將電信號輸出至信號處理電路系統930。
信號處理電路系統930可包括用於處理所連接感測元件之輸出之一或多個信號處理電路系統。舉例而言，信號處理電路系統930可包含諸如跨阻抗放大器(TIA)或電荷轉移放大器(CTA)之前置放大器、諸如可變增益放大器(VGA)之後置放大器932，及諸如類比/數位轉換器(ADC)之資料轉換器933。可省略上述組件中之一或多者。另外，亦可提供其他電路系統以用於其他功能。舉例而言，可提供開關致動電路系統，其可控制用於將感測元件彼此連接之開關元件，或其他開關。此外，在一些實施例中，除了經發送至ADC以外或替代經發送至ADC，亦可提供可由類比路徑讀取的類比輸出線。
可提供諸如數位開關940之介面。數位開關940可連接第一輸出928與第二輸出929。數位開關940可包含多工器。舉例而言，多工器可經組態以接收第一數目個輸入且產生第二數目個輸出。第一數目及第二數目可對應於偵測器之參數，諸如感測元件區段之總數目，且可對應於設備104之參數，諸如自電子源202產生之光束(或細光束)之數目。數位開關940可經由資料線及位址信號與外部組件通信。數位開關940亦可控制資料讀取/寫入。數位開關940亦可經組態以控制開關元件之操控。數位開關940可經組態以經由複數個輸出路徑951、952、953等產生輸出信號。諸如中繼器等之其他組件可連接至數位開關940之輸出通道。因此，複數個區段可充當用於偵測器信號之單獨資料高速公路。
應理解，可在圖15之表示中之各個階段插入各種組件。此外，由包括感測元件401、402及403之複數個感測元件構成的感測器層可包含切換區，諸如開關元件411、412及413。開關元件411、412及413設置於鄰近感測元件之間且經組態以連接鄰近感測元件。舉例而言，開關元件411、412及413可對應於開關元件819或MOSFET 4101，如上文所論述。
可提供包含信號處理電路系統930及其他信號處理電路系統之電路晶粒。偵測器可包含感測器層、區段層及讀出層。此類層可提供為複數個離散層。然而，應瞭解，該等層無需提供為單獨基板。舉例而言，區段之佈線路徑可設置於包括複數個感測元件之感測器晶粒中，或可被設置於感測器晶粒外部。佈線路徑可圖案化於感測器層上或其他層中。另外，區段層可與讀出層組合。因此，在一些實施例中，電路晶粒可包括區段層、信號處理電路系統及讀出功能性。可組合或劃分各種層之結構及功能性。
此外，一或多個開關可設置於感測元件與相關聯於同區段的信號處理電路系統之間。可與區段之佈線路徑一致地提供開關，或可除了區段之佈線路徑以外亦提供開關。舉例而言，如圖15中所展示，與各佈線路徑419一致地提供開關4019。開關4019可配置於複數個感測元件與區段410、420與430之間。當提供此類開關時，非主動感測元件可被斷開連接以減小例如雜訊讀取，以及其他技術效應。
儘管圖14展示區段410、420及430，但可提供複數個區段以便完全覆蓋偵測器中之所有感測元件。亦即，可任意地重複區段配置。亦可使用各種區段形狀及尺寸。此外，與一個區段相關聯或含於一個區段中之感測元件的數目可變化。因此，儘管圖14展示與一個區段相關聯之6個感測元件，但本發明之實施例不限於此。舉例而言，區段可與數目呈6、24、68等之感測元件相關聯且可含有該等感測元件。圖16展示區段440含有24個感測元件之一實例。
區段可係均勻的以使得區段與彼此具有相同形狀及相同尺寸。各區段可具有對應的信號處理電路系統及信號路徑。一個區段之感測元件可與對應區段之信號處理電路系統及信號路徑相關聯。
用於判定區段之尺寸的準則可基於由EBI工具104產生之細光束的間距。舉例而言，在一些應用中，多光束設備可用以產生複數個細光束。可藉由包括例如如圖2中所展示之源轉換單元212之EBI工具104的結構判定細光束之間距。可基於多種參數而設定細光束之間距。在一些實施例中，可使用具有高密度之細光束的帶電粒子束系統。
因此，複數個光束或細光束可入射於偵測器表面上。細光束可經組態為投影至樣本上且隨後在偵測器上以諸如柵格圖案之陣列圖案形式被接收。柵格圖案可係任意形狀。舉例而言，柵格圖案可係正方形、矩形、圖案塊等。在正方形柵格圖案中，舉例而言，細光束可間隔開以便在第一(水平)方向及在第二(豎直)方向具有某一中心間距離。
如上文所論述，偵測器可具有複數個區段。用於判定區段尺寸之準則可係區段之對角線尺寸小於鄰近光束點之間的最小間距之長度。舉例而言，形成區段之規則六邊形的拐角間距離(D)可設定成小於正方形柵格圖案之拐角間距離。因此，在歸因於例如變化之對準、光束移位等之任何多種不同成像條件下，至多僅一個光束中心可落在一個區段中。以此方式可存在足夠的信號處理電路系統及信號路徑以適應投影於檢測器表面之區域上之光束的信號處理及讀出。
使用以上準則，不論光束點尺寸如何，一個光束點中心將容納於一個區段中。此外，在一些實施例中，即使區段配置並不與光束柵格對準(例如當柵格圖案相對於區段配置而旋轉時)，可避免兩個光束點之中心在一個區段中之情形。因此，與一個區段相關聯之感測元件可使其輸出信號經由各別區段而路由，該等各別區段可具有其自有信號處理電路系統及佈線路徑。針對光束點分組在一起之感測元件可接著使彼光束點之信號經由區段中之一者之一個信號處理電路系統而路由，群組中之該等感測元件與該等區段中之該一者相關聯。因此，用於光束點之信號路徑的長度可得以最小化。此外，可提高頻寬。
根據一些例示性實施例，使用三角形感測元件可允許達成以下例示性技術效應。舉例而言，可減小用於對像素進行分組之開關的數目及相關聯控制邏輯之量。像素之分組可包含連接由相同帶電粒子束點覆蓋之鄰近像素。開關，諸如設置於鄰近感測元件之間的切換區中之開關元件，可受控於相關聯控制電路系統中設置之一或多個電路。
此外，可實現更高偵測速度，從而得到偵測系統之更高產量。另外，可達成更高效之帶電粒子束偵測。舉例而言，相比於矩形形狀，六邊形區段及三角形感測元件可更能夠緊密地貼合帶電粒子束點之形狀，其可係圓形或橢圓形的。
藉由使用六邊形區段，可減小區段之數目及電路晶粒中之信號路徑的數目。舉例而言，圖17展示一比較實例，其中當矩形區段20與六邊形區段10兩者的對角線尺寸相同時，具備矩形區段20的偵測器可具有比六邊形區段10的面積更小的面積。以此方式，在一些實施例中，對於偵測器陣列之相同量的主動區域，或許有可能藉由提供六邊形區段來減小區段之數目且亦減小信號路徑之數目。此外，可簡化路由來自感測元件之輸出的多工系統。
應注意，在一些情形下，可在一個區段內含有自兩個或多於兩個不同光束點之啟動之感測元件。然而，運用例如感測元件合併，由同一光束點覆蓋之感測元件可合併使得其輸出被一起處理。舉例而言，含有光束點中心之區段可係用於處理與一個光束點相關聯之啟動之感測元件之全部信號的區段。因此，光束點之周邊上之感測元件可使用另一區段之佈線路徑，而非最初含有該區段的區段之佈線路徑。因此，與感測元件使用用於緊接在其下方堆疊之區段之佈線路徑相比，光束點之周邊上之感測元件實際上可使用稍微較長之佈線路徑。以此方式，偵測器陣列可保持靈活性。因此，在給定時間，與一個區段相關聯且藉此由該區段處理的感測元件之數目可小於、等於或大於在該區段之預定義尺寸內可含有之感測元件之數目。
舉例而言，偵測系統可因此防止靈活性的損失，同時提供設計簡單性、製造成本、偵測速度及信雜比之增強。
可使用以下條項來進一步描述實施例：
1. 一種偵測器，其包含：
一基板，其包含包括一第一感測元件及一第二感測元件之複數個感測元件；及
一切換區，其經組態以連接該第一感測元件與該第二感測元件，其中至少該第一感測元件以一三角形形狀形成。
2. 如條項1之偵測器，其中該第一感測元件經組態以回應於該第一感測元件偵測到一光束而產生一第一信號，且該第二感測元件經組態以回應於該第二感測元件偵測到該光束而產生一第二信號。
3. 如條項1及2中任一項之偵測器，其中該三角形形狀係一等邊三角形且該光束係一帶電粒子束。
4. 如條項1至3之偵測器，其中該複數個感測元件中之每一者以一三角形形狀形成。
5. 如條項1至4中任一項之偵測器，其中該切換區在垂直於該基板之一厚度方向的一水平方向設置於該第一感測元件與該第二感測元件之間。
6. 如條項1至5中任一項之偵測器，其進一步包含：
一感測器晶粒，其包括該基板；及
一電路晶粒，其包括一或多個電路。
7. 如條項6之偵測器，其中該一或多個電路經組態以控制該切換區。
8. 如條項6及7中任一項之偵測器，其中該一或多個電路包含經組態以處理該複數個感測元件之輸出的複數個電路系統。
9. 如條項1至8中任一項之偵測器，其中該第一感測元件與該第二感測元件在一橫截面中相連。
10. 如條項1至9中任一項之偵測器，其中該切換區與該第一感測元件及該第二感測元件成一體。
11. 如條項1至10中任一項之偵測器，其中該基板包含：
在一厚度方向，經組態為一偵測表面之一頂部金屬層、及一底部金屬層，
其中在一橫截面中，該頂部層與該底部層之間的一整個區域係一電荷載流子區。
12. 一種偵測器，其包含：
一基板，其包含具有一三角形形狀之複數個感測元件；及
複數個區段，其包括一第一區段及一第二區段，該第一區段將該複數個感測元件之一第一群組連接至一第一輸出，該第二區段將該複數個感測元件之一第二群組連接至一第二輸出。
13. 如條項12之偵測器，
其中該複數個區段具有一六邊形形狀。
14. 如條項12及13中任一項之偵測器，其進一步包含：
複數個電路系統，其經組態以處理該複數個感測元件之輸出，其中該複數個電路系統中之一第一電路系統連接至該第一區段且該複數個電路系統中之一第二電路系統連接至該第二區段。
15. 如條項14之偵測器，其進一步包含：
一開關，其設置於該複數個感測元件與該複數個電路系統中之每一者之間的一佈線路徑上。
16. 如條項12至15中任一項之偵測器，其進一步包含：
一感測器晶粒，其包括該基板；及
一電路晶粒，其包括經組態以處理該複數個感測元件之輸出之一或多個電路。
17. 如條項16之偵測器，其中該感測器晶粒及該電路晶粒堆疊在一起使得該複數個感測元件中之該第一群組鄰近於該第一區段且該複數個感測元件中之該第二群組鄰近於該第二區段。
18. 如條項12至17中任一項之偵測器，其進一步包含：
至少一個切換區，其經組態以連接該複數個感測元件中之兩者或多於兩者。
19. 如條項18之偵測器，其中該至少一個切換區包括設置於該複數個感測元件中之每一者之間的一切換區。
20. 如條項19之偵測器，其中在該基板之一橫截面圖中，該至少一個切換區係與該複數個感測元件中之該兩者或多於兩者成一體。
21. 如條項12至20中任一項之偵測器，其中該複數個感測元件在一橫截面中相連。
22. 一種偵測系統，其包含：
一偵測器陣列，其包括具有一三角形形狀之複數個感測元件；
複數個區段，其包括一第一區段及一第二區段，該第一區段將該複數個感測元件之一第一群組連接至一第一輸出，該第二區段將該複數個感測元件之一第二群組連接至一第二輸出；及
一介面。
23. 如條項22之偵測系統，其中該介面包括一數位開關。
24. 如條項22及23中之一者之偵測系統，其中該複數個區段包括一佈線路徑及信號處理電路系統中之一者。
25. 如條項22至24中任一項之偵測系統，其進一步包含：
複數個電路系統，其經組態以處理該複數個感測元件之輸出，其中該複數個電路系統中之一第一電路系統連接至該第一區段且該複數個電路系統中之一第二電路系統連接至該第二區段。
26. 如條項25之偵測系統，其進一步包含：
一開關，其設置於該複數個感測元件與該複數個電路系統中之每一者之間的一佈線路徑上。
27. 如條項22至26中任一項之偵測系統，其進一步包含：
一感測器晶粒，其包括該複數個感測元件；及
一電路晶粒，其包括經組態以處理該複數個感測元件之輸出之一或多個電路。
28. 如條項27之偵測系統，其中該感測器晶粒及該電路晶粒堆疊在一起使得該複數個感測元件中之該第一群組鄰近於該第一區段且該複數個感測元件中之該第二群組鄰近於該第二區段。
29. 如條項22至28中任一項之偵測系統，其進一步包含：
至少一個切換區，其經組態以連接該複數個感測元件中之兩者或多於兩者。
30. 如條項29之偵測系統，其中該至少一個切換區包括一開關，其在垂直於該偵測器陣列之一厚度方向的一水平方向設置於該複數個感測元件中之每一者之間。
應瞭解，本發明不限於上文所描述及在附圖中所說明之確切建構，且可在不背離本發明之範疇的情況下作出各種修改及改變。舉例而言，儘管一些例示性實施例論述六邊形形狀之區段，但可藉由諸如三角形、菱形及其他多邊形等等之形狀實施其他配置。區段可具有幾何學上相似於與其相關聯之感測元件之形狀的形狀。感測元件本身可以除正方形、矩形或三角形以外之形狀形成。
10:六邊形區段
20:矩形區段
100:電子束檢測(EBI)系統
101:主腔室
102:裝載/鎖定腔室
104:電子束工具/設備
106:裝備前端模組(EFEM)
106a:第一裝載埠
106b:第二裝載埠
109:控制器
202:電子源
204:槍孔隙
206:聚光透鏡
208:交越
210:原電子光束
212:源轉換單元
214:細光束
216:離軸細光束
218:離軸細光束
220:初級投影光學系統
222:光束分離器
226:偏轉掃描單元
228:物鏡
230:晶圓
236:二次電子光束
238:二次電子光束
240:二次電子光束
242:二次光學系統
244:電子偵測裝置
246:偵測子區
248:偵測子區
250:偵測子區
252:副光軸
260:主光軸
270:探測點
272:探測點
274:探測點
300:感測器表面
301:感測元件
302:感測元件
303:感測元件
325:十字形區域
400:感測器表面
401:感測元件
402:感測元件
403:感測元件
405:非主動感測元件
410:區段
411:開關元件
412:開關元件
413:開關元件
419:佈線路徑
420:區段
425:區域
430:區段
440:區段
601:感測元件
610:區
620:區
800:感測元件
801:表面層
805:感測器層
810:p+區
819:開關元件
820:p磊晶區
830:n-區
841:深p井
842:n井
843:p井
850:電極
928:第一輸出
929:第二輸出
930:信號處理電路系統
932:後置放大器
933:資料轉換器
940:數位開關
951:輸出路徑
952:輸出路徑
953:輸出路徑
3000:PIN二極體裝置
3001:增強模式MOSFET
3002:p+區
3003:閘極氧化物
3004:閘極
3009:切換區
3009A:切換區
3009B:切換區
3010:金屬層
3020:p+區
3030:本徵區
3040:n+區
3050:金屬層
3098:接通狀態
3099:關斷狀態
4000:PIN二極體裝置
4001:增強模式MOSFET
4009:切換區
4009A:切換區
4009B:切換區
4010:金屬層
4019:開關
4020:p+區
4030:本徵區
4040:n+區
4050:金屬層
4101:MOSFET
4105:閘極
A:部分
B:部分
D:拐角間距離
X:第一方向
Y:第二方向
Z:方向
本發明之上述及其他態樣自結合下圖進行的例示性實施例之描述將變得更顯而易見。
圖1係說明符合本發明之實施例之例示性電子束檢測(EBI)系統的示意圖。
圖2係說明符合本發明之實施例的例示性電子束工具之示意圖，該電子束工具可係圖1之例示性電子束檢測系統之部件。
圖3係符合本發明之實施例的偵測器之例示性結構的示意圖。
圖4係圖3之區段的放大圖。
圖5係說明符合本發明之實施例的偵測器之橫截面圖的圖式。
6圖係符合本發明之實施例之複數個感測元件的放大圖。
圖7係符合本發明之實施例的偵測器之背面的視圖。
圖8係符合本發明之實施例的偵測器之背面的另一視圖。
圖9係符合本發明之實施例的偵測器之例示性結構的示意性圖。
圖10A係說明符合本發明之實施例的沿部分A截取之圖9的偵測器之橫截面圖的圖式。
圖10B係說明符合本發明之實施例的沿部分B截取之圖9的偵測器之橫截面圖的圖式。
圖11係符合本發明之實施例的複數個感測元件的放大圖。
圖12係符合本發明之實施例的複數個感測元件的放大圖。
圖13係說明符合本發明之實施例的感測元件之橫截面圖的圖式。
圖14係符合本發明之實施例的偵測器之例示性結構的示意性圖。
圖15係表示符合本發明之實施例的偵測器之結構的圖式。
圖16係符合本發明之實施例的偵測器之例示性結構的示意性圖。
圖17係符合本發明之實施例的偵測器之例示性結構的示意性圖。
400:感測器表面
401:感測元件
402:感測元件
403:感測元件
A:部分
B:部分
X:方向
Y:方向
Claims (15)
- 一種電子偵測裝置，其包含： 一基板，其包含包括一第一感測元件及一第二感測元件之複數個感測元件；及 一切換區，其經組態以連接該第一感測元件與該第二感測元件，其中至少該第一感測元件以一三角形形狀形成。
- 如請求項1之電子偵測裝置，其中該第一感測元件經組態以回應於該第一感測元件偵測到一光束而產生一第一信號，且該第二感測元件經組態以回應於該第二感測元件偵測到該光束而產生一第二信號。
- 如請求項2之電子偵測裝置，其中該三角形形狀係一等邊三角形且該光束係一帶電粒子束。
- 如請求項1之電子偵測裝置，其中該複數個感測元件中之每一者以一三角形形狀形成。
- 如請求項1之電子偵測裝置，其中該切換區在垂直於該基板之一厚度方向的一水平方向設置於該第一感測元件與該第二感測元件之間。
- 如請求項1之電子偵測裝置，其進一步包含： 一感測器晶粒，其包括該基板；及 一電路晶粒，其包括一或多個電路。
- 如請求項6之電子偵測裝置，其中該一或多個電路經組態以控制該切換區。
- 如請求項6之電子偵測裝置，其中該一或多個電路包含經組態以處理該複數個感測元件之輸出的複數個電路系統。
- 如請求項1之電子偵測裝置，其中該第一感測元件與該第二感測元件在一橫截面中相連。
- 如請求項1之電子偵測裝置，其中該切換區與該第一感測元件及該第二感測元件成一體。
- 如請求項1之電子偵測裝置，其中該基板包含： 在一厚度方向，經組態為一偵測表面之一頂部金屬層，及一底部金屬層， 其中在一橫截面中，該頂部層與該底部層之間的一整個區域係一電荷載流子區。
- 一種偵測系統，其包含： 一偵測器陣列，其包括具有一三角形形狀之複數個感測元件； 複數個區段，其包括一第一區段及一第二區段，該第一區段將該複數個感測元件之一第一群組連接至一第一輸出，該第二區段將該複數個感測元件之一第二群組連接至一第二輸出； 一介面；及 一切換區，其經組態以連接該複數個感測元件之一第一感測元件與一第二感測元件。
- 如請求項12之偵測系統，其中該介面包括一數位開關。
- 如請求項12之偵測系統，其中該複數個區段包括一佈線路徑及信號處理電路系統中之一者。
- 如請求項12之偵測系統，其進一步包含： 複數個電路系統，其經組態以處理該複數個感測元件之輸出，其中該複數個電路系統中之一第一電路系統連接至該第一區段且該複數個電路系統中之一第二電路系統連接至該第二區段。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201862660765P | 2018-04-20 | 2018-04-20 | |
| US62/660,765 | 2018-04-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202205342A true TW202205342A (zh) | 2022-02-01 |
| TWI820450B TWI820450B (zh) | 2023-11-01 |
Family
ID=65904431
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW108111856A TWI735859B (zh) | 2018-04-20 | 2019-04-03 | 電子偵測裝置及偵測系統 |
| TW110125292A TWI820450B (zh) | 2018-04-20 | 2019-04-03 | 偵測器 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW108111856A TWI735859B (zh) | 2018-04-20 | 2019-04-03 | 電子偵測裝置及偵測系統 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11594395B2 (zh) |
| JP (1) | JP7083403B2 (zh) |
| KR (1) | KR102498662B1 (zh) |
| CN (1) | CN111989761A (zh) |
| IL (1) | IL278076A (zh) |
| TW (2) | TWI735859B (zh) |
| WO (1) | WO2019201544A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113892165A (zh) * | 2019-05-28 | 2022-01-04 | Asml荷兰有限公司 | 多带电粒子束设备和方法 |
| US20230170179A1 (en) * | 2020-05-01 | 2023-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Enhanced architecture for high-performance detection device |
| WO2022248296A2 (en) * | 2021-05-27 | 2022-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Manipulation of carrier transport behavior in detector |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03283673A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Shimadzu Corp | 半導体放射線検出素子アレイ |
| DE59006446D1 (de) * | 1990-10-12 | 1994-08-18 | Siemens Ag | Röntgendiagnostikanlage mit einem Röntgenbildverstärker und einem Detektor für die Bildhelligkeit auf dessen Ausgangsschirm. |
| US6137151A (en) | 1996-11-19 | 2000-10-24 | Xerox Corporation | Amorphous silicon sensor array with reduced number of address lines |
| US6510195B1 (en) | 2001-07-18 | 2003-01-21 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Solid state x-radiation detector modules and mosaics thereof, and an imaging method and apparatus employing the same |
| DE10236738B9 (de) * | 2002-08-09 | 2010-07-15 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopieverfahren |
| US7884438B2 (en) | 2005-07-29 | 2011-02-08 | Varian Medical Systems, Inc. | Megavoltage imaging with a photoconductor based sensor |
| JP2009534661A (ja) * | 2006-04-20 | 2009-09-24 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティー オブ カリフォルニア | マイクロ流体プラットフォームのラジオアイソトープ濃度数量化デバイス |
| DE102008018792A1 (de) | 2008-04-15 | 2009-10-22 | Andreas Ulbrich | Verbesserung des Auflösungsvermögens von Fotosensoren |
| GB0809037D0 (en) | 2008-05-19 | 2008-06-25 | Renishaw Plc | Video Probe |
| US8493547B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-07-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| JP5784448B2 (ja) | 2011-10-05 | 2015-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像撮影装置及び放射線画像撮影方法 |
| JP2013125861A (ja) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Sony Corp | 固体撮像素子および電子機器 |
| JP5497874B2 (ja) | 2011-12-22 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像検出器、放射線画像撮像装置、及び放射線画像撮像システム |
| JP5490084B2 (ja) * | 2011-12-22 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像検出器、放射線画像撮像装置、及び放射線画像撮像システム |
| US10007007B2 (en) * | 2015-09-08 | 2018-06-26 | Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. | Methods for making an X-ray detector |
| EP3214656B1 (en) | 2016-03-04 | 2019-01-09 | Nokia Technologies Oy | A quantum dot photodetector apparatus and associated methods |
| US11049897B2 (en) | 2016-10-27 | 2021-06-29 | Rigaku Corporation | Detector |
| TWI689742B (zh) * | 2018-12-06 | 2020-04-01 | 財團法人工業技術研究院 | 用以偵測光斑位置之方法及裝置 |
-
2019
- 2019-03-21 US US17/049,329 patent/US11594395B2/en active Active
- 2019-03-21 KR KR1020207029918A patent/KR102498662B1/ko active IP Right Grant
- 2019-03-21 WO PCT/EP2019/057126 patent/WO2019201544A1/en active Application Filing
- 2019-03-21 CN CN201980026865.6A patent/CN111989761A/zh active Pending
- 2019-03-21 JP JP2020553630A patent/JP7083403B2/ja active Active
- 2019-04-03 TW TW108111856A patent/TWI735859B/zh active
- 2019-04-03 TW TW110125292A patent/TWI820450B/zh active
-
2020
- 2020-10-15 IL IL278076A patent/IL278076A/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7083403B2 (ja) | 2022-06-10 |
| TWI820450B (zh) | 2023-11-01 |
| KR102498662B1 (ko) | 2023-02-10 |
| CN111989761A (zh) | 2020-11-24 |
| US20210043416A1 (en) | 2021-02-11 |
| TW201944447A (zh) | 2019-11-16 |
| KR20200130441A (ko) | 2020-11-18 |
| JP2021520029A (ja) | 2021-08-12 |
| WO2019201544A1 (en) | 2019-10-24 |
| TWI735859B (zh) | 2021-08-11 |
| IL278076A (en) | 2020-11-30 |
| US11594395B2 (en) | 2023-02-28 |
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