TW202200731A - 黏著片材 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種黏著片材,其係能夠可剝離地暫時固定被黏著體者,且於剝離時可無需高輸出之雷射光照射,於剝離後可無需洗淨被黏著體之步驟。
本發明之黏著片材係具備包含紫外線吸收劑及/或光聚合起始劑之黏著劑層者,且該黏著片材之波長355 nm之光透過率為60%以下,該黏著劑層係於照射300 mJ/cm2
之紫外線後,23℃下之壓入彈性模數成為25 MPa之層。
Description
本發明係關於一種黏著片材。
於加工以電子零件為代表之各種構件時,業界通常進行有如下操作:使用黏著片材將構件暫時固定於支持體上,於加工後將已加工之構件自支持體上剝離。例如,專利文獻1中記載有如下方法:於經由接著劑層及分離層將基板(被加工構件)暫時固定於支持體之狀態下進行加工,加工後藉由雷射光照射破壞分離層,將基板連同接著劑層自支持體上剝離,其後,自基板上去除接著劑層。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1:日本專利5875850號
[發明所欲解決之問題]
然而,上述方法需要自構件上去除接著劑層,並將構件之非接著面洗淨之步驟,而於生產成本方面存在問題。又,亦存在如下問題:於以高輸出照射雷射光之情形時會對構件造成損害。
本發明係為了解決上述先前課題而完成者,其目的在於提供一種黏著片材,其係能夠可剝離地暫時固定被黏著體者,且於剝離時可無需高輸出之雷射光照射,於剝離後可無需洗淨被黏著體之步驟。
[解決問題之技術手段]
本發明之黏著片材係具備包含紫外線吸收劑及/或光聚合起始劑之黏著劑層者,且該黏著片材之波長355 nm之光透過率為60%以下,該黏著劑層係於照射300 mJ/cm2
之紫外線後,23℃下之壓入彈性模數成為25 MPa以上之層。
於一實施方式中,上述黏著劑層含有活性能量線硬化型黏著劑。
於一實施方式中,構成上述紫外線吸收劑之化合物之分子量為1000以下。
於一實施方式中,將上述黏著片材貼合於不鏽鋼板,照射300 mJ/cm2
之紫外線後之23℃下之黏著力B為0.2 N/20 mm以下。
於一實施方式中,將上述黏著片材貼合於不鏽鋼板,照射300 mJ/cm2
之紫外線後之23℃下之黏著力B相對於剛將黏著片材貼合於不鏽鋼板後之23℃下之初始黏著力A的降低率為90%以上。
[發明之效果]
根據本發明,可提供一種黏著片材,其係能夠可剝離地暫時固定被黏著體者,且於剝離時可無需高輸出之雷射光照射,於剝離後可無需洗淨被黏著體之步驟。又,本發明之黏著片材除會因低輸出之雷射光而表現出剝離性以外,還可不伴隨黏著劑層之分解而表現出剝離性,因此可防止被黏著體之污染。
A. 黏著片材之概要
圖1(a)係本發明之一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。該實施方式之黏著片材100具備黏著劑層10。黏著劑層10包含紫外線吸收劑及/或光聚合起始劑。圖1(b)係本發明之一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。該實施方式之黏著片材200進而具備基材20,且於基材20之至少單側配置黏著劑層10。雖未圖示,但本發明之黏著片材亦可於黏著劑層之外側設置剝離襯墊,以在供於使用之前之期間保護黏著面。又,只要可獲得本發明之效果,則黏著片材亦可進而包含任意適當之其他層。於一實施方式中,本發明之黏著片材如圖1(a)所示,僅包含黏著劑層1層。於另一實施方式中,本發明之黏著片材如圖1(b)所示,包含基材及黏著劑層,且黏著劑層直接(即,不介隔其他層地)配置於基材。於本發明中,如下所述,因黏著劑層之黏著力降低及伴隨高彈性模數化之應變產生,而能夠良好地剝離被黏著體,因此能夠不設置用於自黏著片材分離被黏著體之除黏著劑層以外之層(所謂分離層)而構成黏著片材。
於本發明中,藉由使黏著劑層含有紫外線吸收劑或光聚合起始劑,能夠利用雷射光照射來剝離被黏著體。更詳細而言,藉由向黏著劑層照射雷射光,紫外線吸收劑或光聚合起始劑受到加熱而於黏著劑層產生應變,其結果為,照射到雷射光之部分表現出剝離性。根據本發明,以上述方式進行操作,而能夠於微小之範圍內使黏著劑層產生應變,因此即便於加工小型被黏著體時亦可良好地將該被黏著體剝離。若使用此種黏著片材,則可省略於剝離後進行之被黏著體之洗淨。又,於將需要剝離之小型被黏著體與無需剝離之小型被黏著體相鄰地暫時固定之情形時,亦可僅剝離需要剝離之小型被黏著體,且亦可防止小型被黏著體之不需要之脫離。
較佳為上述黏著劑層含有活性能量線硬化型黏著劑。包含活性能量線硬化型黏著劑之黏著片材中,黏著劑層整體之黏著力會因照射活性能量線而降低。對貼合有被黏著體之黏著片材之黏著劑層整體照射活性能量線,使黏著力降低後,如上所述般照射雷射光,藉此可防止剝離後之糊劑殘留。若使用此種黏著片材,則可省略於剝離後進行之被黏著體之洗淨。又,藉由形成包含活性能量線硬化型黏著劑之黏著劑層,可降低剝離時之雷射輸出。由於本發明之黏著片材會因低輸出之雷射光而表現出剝離性,故若使用該黏著片材,則可減少剝離時對被黏著體之損害,而防止該被黏著體之破損。又,由於利用輸出在不會使黏著劑層本身發生分解(熱分解)之程度的雷射光便可表現出剝離性,故可防止被黏著體被黏著劑層分解物污染。作為活性能量線,例如可例舉:伽馬射線、紫外線、可見光、紅外線(熱線)、射頻波、α射線、β射線、電子束、電漿流、電離輻射、粒子束等。較佳為紫外線。
本發明之黏著片材之波長355 nm之光透過率為60%以下。於本發明中,藉由降低該光透過率,可降低剝離時之雷射輸出。由於本發明之黏著片材會因低輸出之雷射光而表現出剝離性,故若使用該黏著片材,則可減少剝離時對被黏著體之損害,而防止該被黏著體之破損。本發明之黏著片材之波長355 nm之光透過率較佳為50%以下,更佳為40%以下,進而較佳為30%以下。若為此種範圍,則上述效果變得更顯著。再者,黏著片材之光透過率係黏著片材之厚度方向之光透過率,該光透過率係以黏著片材之構成層整層作為對象來測定。於本發明中,黏著片材之波長355 nm之光透過率可調整黏著劑層中所含之紫外線吸收劑的含有比率來加以控制。又,黏著片材之波長355 nm之光透過率亦可藉由構成黏著劑層之基礎聚合物、光聚合起始劑之構成來加以控制。例如可藉由黏著劑層中所含之光聚合起始劑之種類、量等,尤其是藉由光聚合起始劑與基礎聚合物之相溶性,而控制黏著片材之波長355 nm之光透過率。
本發明之黏著片材之可見光透過率較佳為50%以上,更佳為60%以上,進而較佳為70%以上。若為此種範圍,則可獲得於藉由雷射光照射剝離被黏著體時,能夠隔著黏著片材良好地視認作為剝離對象之被黏著體之黏著片材。黏著片材之可見光透過率越高越佳,其上限例如為95%(較佳為100%)。
本發明之黏著片材之霧度值較佳為70%以下,更佳為65%以下。若為此種範圍,則可獲得於藉由雷射光照射剝離被黏著體時,能夠隔著黏著片材良好地視認作為剝離對象之被黏著體之黏著片材。黏著片材之霧度值越低越佳,其下限例如為0.1%。
剛將本發明之黏著片材貼合於不鏽鋼板後之23℃下之初始黏著力A較佳為0.1 N/20 mm~15 N/20 mm,更佳為0.5 N/20 mm~10 N/20 mm。若為此種範圍,則可獲得能夠良好地保持被黏著體之黏著片材。黏著力係依據JIS Z 0237:2000進行測定。具體而言,藉由使2 kg之輥往返一次而將黏著片材貼合於不鏽鋼板(算術平均表面粗糙度Ra:50±25 nm),於23℃下放置30分鐘後,於剝離角度180°、剝離速度(拉伸速度)300 mm/min之條件下,將黏著片材剝離而進行測定。黏著劑層之黏著力會因活性能量線照射及雷射光照射而產生變化,但於本說明書中,所謂「初始黏著力」意指照射活性能量線及雷射光前之黏著力。
於一實施方式中,將黏著片材貼合於不鏽鋼板,照射300 mJ/cm2
之紫外線後之23℃下之黏著力B(亦稱為硬化後黏著力B)較佳為0.2 N/20 mm以下,更佳為0.01 N/20 mm~0.2 N/20 mm,更佳為0.02 N/20 mm~0.15 N/20 mm。若為此種範圍,則可獲得糊劑殘留較少之黏著片材。上述紫外線照射係使用例如紫外線照射裝置(日東精機公司製造,商品名「UM-810」),對黏著劑層照射高壓水銀燈之紫外線(特性波長:365 nm,累計光量:300 mJ/cm2
)而進行。
上述硬化後黏著力B相對於上述初始黏著力A之降低率較佳為90%以上,更佳為95%以上。若為此種範圍,則可獲得剝離性優異之黏著片材。再者,上述降低率(%)可藉由(初始黏著力A-硬化後黏著力B)/初始黏著力A×100之式而求出。
黏著片材之厚度較佳為1 μm~300 μm,更佳為5 μm~200 μm。
B. 黏著劑層
上述黏著劑層之厚度較佳為20 μm以下。若為此種範圍,則可獲得能夠進一步降低剝離時之雷射輸出而剝離表現性優異之黏著片材。黏著劑層之厚度更佳為10 μm以下,進而較佳為8 μm以下,更佳為1 μm~8 μm。若為此種範圍,則上述效果變得顯著。
上述黏著劑層較佳為於照射300 mJ/cm2
之紫外線後,23℃下之壓入彈性模數成為25 MPa以上之層。若具備於紫外線照射後可能具有此種壓入彈性模數之黏著劑層,則黏著劑層會因雷射光照射而產生應變,其結果為,可良好地剝離被黏著體。又,可防止剝離時被黏著體之污染。照射300 mJ/cm2
之紫外線後之黏著劑層之壓入彈性模數更佳為30 MPa以上,進而較佳為40 MPa以上,尤佳為50 MPa以上。照射300 mJ/cm2
之紫外線後之黏著劑層之壓入彈性模數之上限例如為500 MPa(較佳為300 MPa)。壓入彈性模數可藉由23℃下之單一壓入法,以壓入速度10 nm/s、壓入深度100 nm來進行測定。
如上所述,黏著劑層含有紫外線吸收劑及/或光聚合起始劑。較佳為上述黏著劑層含有活性能量線硬化型黏著劑。該活性能量線硬化型黏著劑可包含上述紫外線吸收劑及/或光聚合起始劑。
(紫外線吸收劑)
作為紫外線吸收劑,只要為吸收紫外線(例如波長355 nm)之化合物,則可使用任意適當之紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑,例如可例舉:苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、三𠯤系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等。其中,較佳為三𠯤系紫外線吸收劑或苯并三唑系紫外線吸收劑,尤佳為三𠯤系紫外線吸收劑。尤其於使用丙烯酸系黏著劑作為黏著劑A之情形時,從與該丙烯酸系黏著劑之基礎聚合物之相溶性較高之方面考慮,可較佳地使用三𠯤系紫外線吸收劑。三𠯤系紫外線吸收劑更佳為包含具有羥基之化合物,尤佳為包含羥基苯基三𠯤系化合物之紫外線吸收劑(羥基苯基三𠯤系紫外線吸收劑)。
作為羥基苯基三𠯤系紫外線吸收劑,例如可例舉:2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-羥基苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷氧基)甲基]環氧乙烷之反應產物(商品名「TINUVIN 400」,BASF公司製造)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基]-5-[3-(十二烷氧基)-2-羥基丙氧基]苯酚)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤與縮水甘油酸(2-乙基己基)酯之反應產物(商品名「TINUVIN 405」,BASF公司製造)、2,4-雙(2-羥基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 460」,BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[(己基)氧基]苯酚(商品名「TINUVIN 1577」,BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]苯酚(商品名「Adekastab LA-46」,ADEKA股份有限公司製造)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 479」,BASF公司製造)、BASF公司製造之商品名「TINUVIN 477」等。
作為苯并三唑系紫外線吸收劑(苯并三唑系化合物),例如可例舉:2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(商品名「TINUVIN PS」,BASF公司製造)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(商品名「TINUVIN 384-2」,BASF公司製造)、3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸辛酯及3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸2-乙基己酯之混合物(商品名「TINUVIN 109」,BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 900」,BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 928」,BASF製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯/聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 1130」,BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)對甲酚(商品名「TINUVIN P」,BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 234」,BASF公司製造)、2-[5-氯-2H-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 326」,BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二第三戊基苯酚(商品名「TINUVIN 328」,BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 329」,BASF公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚](商品名「TINUVIN 360」,BASF公司製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 213」,BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚(商品名「TINUVIN 571」,BASF公司製造)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(商品名「Sumisorb 250」,住友化學股份有限公司製造)、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑(商品名「SEESORB 703」,Shipro Kasei公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-甲基-6-(3,4,5,6-四氫苯鄰二醯亞胺基甲基)苯酚(商品名「SEESORB 706」,Shipro Kasei公司製造)、2-(4-苯甲醯氧基-2-羥基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑(Shipro Kasei公司製造之商品名「SEESORB 7012BA」)、2-第三丁基-6-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-4-甲基苯酚(商品名「KEMISORB 73」,Chemipro Kasei公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-第三辛基苯酚](商品名「Adekastab LA-31」,ADEKA股份有限公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)對纖維素(商品名「Adekastab LA-32」,ADEKA股份有限公司製造)、2-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-6-第三丁基-4-甲基苯酚(商品名「Adekastab LA-36」,ADEKA股份有限公司製造)等。
上述紫外線吸收劑亦可為染料或顏料。作為顏料,例如可例舉:偶氮系、酞菁系、蒽醌系、色澱系、苝系、紫環酮系、喹吖酮系、硫靛藍系、二㗁𠯤系(dioxazine)、異吲哚啉酮系、喹酞酮系等顏料。作為染料,可例舉:偶氮系、酞菁系、蒽醌系、羰基系、靛藍系、醌亞胺系、次甲基系、喹啉系、硝基系等染料。
構成上述紫外線吸收劑之化合物之分子量較佳為1000以下,更佳為800以下,進而較佳為600以下。具有上述範圍之分子量之紫外線吸收劑與基礎聚合物之相溶性優異,因此若使用該紫外線吸收劑,則於照射到雷射光時僅在雷射照射部位產生應變,故而能夠以非常低之雷射能量剝離。其結果為,可防止黏著劑層之熱分解。若形成此種黏著劑層,則可獲得不易污染被黏著體之黏著片材。構成紫外線吸收劑之化合物之分子量之下限例如為100。
上述紫外線吸收劑之最大吸收波長較佳為300 nm~450 nm,更佳為320 nm~400 nm,進而較佳為330 nm~380 nm。紫外線吸收劑之最大吸收波長與上述光聚合起始劑之最大吸收波長之差較佳為10 nm以上,更佳為25 nm以上。
相對於黏著劑層中之基礎聚合物100重量份,上述紫外線吸收劑之含有比率較佳為1重量份~50重量份,更佳為5重量份~20重量份。若為此種範圍,則可獲得於藉由照射活性能量線以使黏著劑層整體之黏著力良好地降低時,黏著劑層之硬化良好地進行,且藉由照射雷射光而表現出良好剝離性之黏著片材。
(光聚合起始劑)
作為光聚合起始劑,可使用任意適當之起始劑。作為光聚合起始劑,例如可例舉:4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、α-羥基-α,α'-二甲基苯乙酮、2-甲基-2-羥基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮等α-酮醇系化合物;甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎啉基丙烷-1等苯乙酮系化合物;安息香乙醚、安息香異丙醚、茴香偶姻甲醚等安息香醚系化合物;苯偶醯二甲基縮酮等縮酮系化合物;2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物;1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等光活性肟系化合物;二苯甲酮、苯甲醯苯甲酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮等二苯甲酮系化合物;9-氧硫𠮿、2-氯-9-氧硫𠮿、2-甲基-9-氧硫𠮿、2,4-二甲基-9-氧硫𠮿、異丙基-9-氧硫𠮿、2,4-二氯-9-氧硫𠮿、2,4-二乙基-9-氧硫𠮿、2,4-二異丙基-9-氧硫𠮿等9-氧硫𠮿系化合物;樟腦醌;鹵化酮;醯基氧化膦;醯基磷酸酯等。光聚合起始劑之使用量可設定為任意適當之量。
於一實施方式中,可使用於400 nm以下(較佳為380 nm以下、更佳為340 nm以下)之範圍內具有最大吸收波長之光聚合起始劑。若使用此種光聚合起始劑,則可獲得於藉由照射活性能量線來降低黏著劑層整體之黏著力時,黏著劑之硬化反應會較佳地發生,從而糊劑殘留尤其少之黏著片材。又,可獲得藉由照射雷射光而表現出良好剝離性之黏著片材。
相對於黏著劑層中之基礎聚合物100重量份,上述光聚合起始劑之含有比率較佳為1重量份~30重量份,更佳為2重量份~20重量份,進而較佳為3重量份~15重量份。若為此種範圍,則可獲得於藉由照射活性能量線以使黏著劑層整體之黏著力良好地降低時,黏著劑層之硬化良好地進行,且由雷射光照射所引起之黏著劑層之應變量較多,而顯示出良好剝離性之黏著片材。
作為上述光聚合起始劑,亦可使用市售品。例如,作為於400 nm以下之範圍內具有最大吸收波長之光聚合起始劑,可例舉:BASF公司製造之商品名「Irgacure 127」、「Irgacure 369」、「Irgacure 369E」、「Irgacure 379」、「Irgacure 379EG」、「Irgacure 819」、「Irgacure TOP」、「Irgacure 784」、「Irgacure OXE01」等。
(活性能量線硬化型黏著劑)
於一實施方式中,作為活性能量線硬化型黏著劑,可使用如下活性能量線硬化型黏著劑(A1),其包含作為母劑之基礎聚合物、及能夠與該基礎聚合物結合之活性能量線反應性化合物(單體或低聚物)。於另一實施方式中,可使用如下活性能量線硬化型黏著劑(A2),其包含活性能量線反應性聚合物作為基礎聚合物。較佳為上述基礎聚合物具有能夠與光聚合起始劑反應之官能基。作為該官能基,例如可例舉羥基、羧基等。
作為於上述黏著劑(A1)中所使用之基礎聚合物,例如可例舉:天然橡膠、聚異丁烯橡膠、苯乙烯-丁二烯橡膠、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物橡膠、再生橡膠、丁基橡膠、聚異丁烯橡膠、腈橡膠(NBR)等橡膠系聚合物;聚矽氧系聚合物;丙烯酸系聚合物等。該等聚合物可單獨使用或組合兩種以上使用。其中,較佳為丙烯酸系聚合物。
作為丙烯酸系聚合物,可例舉:(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸環烷基酯、(甲基)丙烯酸芳酯等含烴基之(甲基)丙烯酸酯之均聚物或共聚物;該含烴基之(甲基)丙烯酸酯與其他共聚性單體之共聚物等。作為(甲基)丙烯酸烷基酯,例如可例舉:(甲基)丙烯酸之甲酯、乙酯、丙酯、異丙酯、丁酯、異丁酯、第二丁酯、第三丁酯、戊酯、異戊酯、己酯、庚酯、辛酯、2-乙基己酯、異辛酯、壬酯、癸酯、異癸酯、十一烷基酯、十二烷基酯即月桂酯、十三烷基酯、十四烷基酯、十六烷基酯、十八烷基酯、及二十烷基酯。作為(甲基)丙烯酸環烷基酯,例如可例舉(甲基)丙烯酸之環戊酯及環己酯。作為(甲基)丙烯酸芳酯,例如可例舉(甲基)丙烯酸苯酯及(甲基)丙烯酸苄酯。相對於基礎聚合物100重量份,源自上述含烴基之(甲基)丙烯酸酯之結構單元之含有比率較佳為40重量份以上,更佳為60重量份以上。
作為上述其他共聚性單體,例如可例舉:含羧基之單體、酸酐單體、含羥基之單體、含縮水甘油基之單體、含磺酸基之單體、含磷酸基之單體、丙烯醯胺、及丙烯腈等含官能基之單體等。作為含羧基之單體,例如可例舉:丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、及丁烯酸。作為酸酐單體,例如可例舉順丁烯二酸酐及伊康酸酐。作為含羥基之單體,例如可例舉:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、及(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯。作為含縮水甘油基之單體,例如可例舉(甲基)丙烯酸縮水甘油酯及(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯。作為含磺酸基之單體,例如可例舉:苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、及(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸。作為含磷酸基之單體,例如可例舉磷酸2-羥基乙基丙烯醯酯。作為丙烯醯胺,例如可例舉N-丙烯醯基嗎啉。其等可單獨使用一種,亦可組合兩種以上而使用。相對於基礎聚合物100重量份,源自上述共聚性單體之結構單元之含有比率較佳為60重量份以下,更佳為40重量份以下。
丙烯酸系聚合物為了於其聚合物骨架中形成交聯結構,可包含源自多官能性單體之結構單元。作為多官能性單體,例如可例舉:己二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯(即,(甲基)丙烯酸聚縮水甘油酯)、(甲基)丙烯酸聚酯、及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。其等可單獨使用一種,亦可組合兩種以上使用。相對於基礎聚合物100重量份,源自上述多官能性單體之結構單元之含有比率較佳為40重量份以下,更佳為30重量份以下。
上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量較佳為10萬~300萬,更佳為20萬~200萬。重量平均分子量可藉由GPC(Gel Permeation Chromatography,凝膠滲透層析法)(溶劑:THF(Tetrahydrofuran,四氫呋喃))進行測定。
作為可用於上述黏著劑(A1)之上述活性能量線反應性化合物,例如可例舉具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、烯丙基、乙炔基等具有聚合性碳-碳多重鍵之官能基之光反應性單體或低聚物。作為該光反應性單體之具體例,可例舉:三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物;多官能(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯;環氧(甲基)丙烯酸酯;寡酯(甲基)丙烯酸酯等。又,亦可使用甲基丙烯醯基異氰酸酯、異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯(甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯)、異氰酸間異丙烯基-α,α-二甲基苄酯等單體。作為光反應性低聚物之具體例,可例舉上述單體之二~五聚物等。光反應性低聚物之分子量較佳為100~3000。
又,作為上述活性能量線反應性化合物,亦可使用環氧化丁二烯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯醯胺、乙烯基矽氧烷等單體;或包含此種單體之低聚物。
進而,作為上述活性能量線反應性化合物,亦可使用鎓鹽等有機鹽類與分子內具有複數個雜環之化合物之混合物。該混合物中之有機鹽會因照射活性能量線(例如紫外線、電子束)而發生裂解從而生成離子,該離子成為起始種,引起雜環之開環反應,而可形成3維網狀結構。作為上述有機鹽類,例如可例舉:錪鹽、鏻鹽、銻鹽、鋶鹽、硼酸鹽等。作為上述分子內具有複數個雜環之化合物中之雜環,可例舉:環氧乙烷、氧雜環丁烷、氧雜環戊烷、硫雜環丙烷、氮丙啶等。
於上述黏著劑(A1)中,相對於基礎聚合物100重量份,活性能量線反應性化合物之含有比率較佳為0.1重量份~500重量份,更佳為5重量份~300重量份,進而較佳為40重量份~150重量份。
作為上述黏著劑(A2)中所含之活性能量線反應性聚合物(基礎聚合物),例如可例舉具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、烯丙基、乙炔基等具有碳-碳多重鍵之官能基之聚合物。作為活性能量線反應性聚合物之具體例,可例舉:包含多官能(甲基)丙烯酸酯之聚合物;光陽離子聚合型聚合物;聚桂皮酸乙烯酯等含桂皮醯基之聚合物;經重氮化之胺基酚醛清漆樹脂;聚丙烯醯胺等。
於一實施方式中,可使用於上述丙烯酸系聚合物之側鏈、主鏈及/或主鏈末端導入活性能量線聚合性之碳-碳多重鍵而構成之活性能量線反應性聚合物。作為向丙烯酸系聚合物導入輻射聚合性之碳-碳雙鍵之方法,例如可例舉如下方法:使包含具有特定官能基(第1官能基)之單體之原料單體共聚而獲得丙烯酸系聚合物後,於維持碳-碳雙鍵之輻射聚合性之狀態下使如下化合物與丙烯酸系聚合物進行縮合反應或加成反應,該化合物具有可在與第1官能基之間產生反應而鍵結之特定官能基(第2官能基)、及輻射聚合性碳-碳雙鍵。
作為第1官能基與第2官能基之組合,例如可例舉:羧基與環氧基、環氧基與羧基、羧基與氮丙啶基、氮丙啶基與羧基、羥基與異氰酸基、異氰酸基與羥基。該等組合之中,從追蹤反應之容易性之觀點出發,較佳為羥基與異氰酸基之組合、或異氰酸基與羥基之組合。又,技術上製作反應性較高之具有異氰酸基之聚合物的難度較高,從丙烯酸系聚合物之製作或獲取之容易性之觀點出發,更佳為丙烯酸系聚合物側之上述第1官能基為羥基且上述第2官能基為異氰酸基之情形。於該情形時,作為兼有輻射聚合性碳-碳雙鍵、及作為第2官能基之異氰酸基的異氰酸酯化合物,例如可例舉:異氰酸甲基丙烯醯酯、異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯、及異氰酸間異丙烯基-α,α-二甲基苄酯。又,作為具有第1官能基之丙烯酸系聚合物,較佳為包含源自上述含羥基之單體之結構單元者,亦較佳為包含源自2-羥基乙基乙烯醚、4-羥基丁基乙烯醚、二乙二醇單乙烯醚等醚系化合物之結構單元者。
上述黏著劑(A2)亦可進而包含上述活性能量線反應性化合物(單體或低聚物)。
上述活性能量線硬化型黏著劑可包含紫外線吸收劑及/或光聚合起始劑。可使用之紫外線吸收劑及光聚合起始劑之詳細情況如上所述。
於一實施方式中,上述活性能量線硬化型黏著劑可包含光敏劑。
於一實施方式中,上述光敏劑可與上述光聚合起始劑併用。該光敏劑會將自身吸收光而獲得之能量傳遞至光聚合起始劑,藉此可由光聚合起始劑產生自由基,因此可利用光聚合起始劑本身無吸收峰之長波長側之光使聚合進行。因此,藉由含有光敏劑,能夠增大上述紫外線吸收劑之吸收波長、與可由光聚合起始劑產生自由基之波長的差。其結果為,可相互不影響地進行黏著劑層之光聚合與利用紫外線吸收劑之剝離。於一實施方式中,將作為光聚合起始劑之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(例如BASF公司製造,商品名「Irgacure 651」)與光敏劑併用。作為此種光敏劑,可例舉:川崎化成工業股份有限公司製造之商品名「UVS-581」、9,10-二乙氧基蒽(例如川崎化成工業公司製造,商品名「UVS1101」)等。
作為上述光敏劑之其他例,可例舉:9,10-二丁氧基蒽(例如川崎化成工業公司製造,商品名「UVS-1331」)、2-異丙基-9-氧硫𠮿、二苯甲酮、9-氧硫𠮿衍生物、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮等。作為9-氧硫𠮿衍生物,例如可例舉乙氧基羰基-9-氧硫𠮿、異丙基-9-氧硫𠮿等。
相對於基礎聚合物100重量份,上述光敏劑之含有比率較佳為0.01重量份~2重量份,更佳為0.5重量份~2重量份。
較佳為上述活性能量線硬化型黏著劑包含交聯劑。作為交聯劑,例如可例舉:異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑、脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、胺系交聯劑等。
相對於黏著劑之基礎聚合物100重量份,上述交聯劑之含有比率較佳為0.5重量份~10重量份,更佳為1重量份~8重量份。
於一實施方式中,可較佳地使用異氰酸酯系交聯劑。異氰酸酯系交聯劑在可與多種官能基反應之方面較佳。作為上述異氰酸酯系交聯劑之具體例,可例舉:伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類;伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類;2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯類;三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry公司製造,商品名「Coronate L」)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry公司製造,商品名「Coronate HL」)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(Nippon Polyurethane Industry公司製造,商品名「Coronate HX」)等異氰酸酯加成物等。較佳為使用具有3個以上異氰酸基之交聯劑。
活性能量線硬化型黏著劑可視需要進而包含任意適當之添加劑。作為添加劑,例如可例舉:活性能量線聚合促進劑、自由基捕捉劑、黏著賦予劑、塑化劑(例如偏苯三甲酸酯系塑化劑、均苯四甲酸酯系塑化劑等)、顏料、染料、填充劑、抗老化劑、導電材料、防靜電劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、剝離調整劑、軟化劑、界面活性劑、阻燃劑、抗氧化劑等。
C. 基材
上述基材可包含任意適當之樹脂。作為該樹脂,例如可例舉:聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丁烯系樹脂、聚甲基戊烯系樹脂等聚烯烴系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚酮系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、氟系樹脂、矽系樹脂、纖維素系樹脂、離子聚合物樹脂等。其中,較佳為聚烯烴系樹脂。
上述基材之厚度較佳為2 μm~300 μm,更佳為2 μm~100 μm,進而較佳為2 μm~50 μm。
基材之波長355 nm之光透過率較佳為70%以上,更佳為80%以上,進而較佳為90%以上,尤佳為95%以上。基材之全光線透過率之上限例如為98%(較佳為99%)。
D. 黏著片材之製造方法
上述黏著片材可藉由任意適當之方法來製造。黏著片材例如可於基材或剝離襯墊上塗敷上述黏著劑而獲得。作為塗敷方法,可採用棒式塗佈機塗敷、氣刀塗敷、凹版塗敷、反向凹版塗敷、逆輥塗敷、模唇塗敷、模頭塗敷、浸漬塗敷、平版印刷、軟版印刷、網版印刷等各種方法。又,還可另外採用在剝離襯墊上形成黏著劑層後,將其貼合於基材之方法等。
E. 黏著片材之使用方法
本發明之黏著片材於對任意適當之被加工構件(例如電子零件)進行加工時,可於暫時固定該被加工構件時使用。作為本發明之黏著片材之使用方法,例如可例舉如下方法:(i)將被加工構件貼合於被黏著片材以進行固定,(ii)對該被加工構件進行加工,(iii)對黏著片材之黏著劑層整體照射活性能量線(例如紫外線)以降低黏著片材之黏著力,(iv)對需要表現剝離性之部位照射雷射光,使被加工構件剝離而使用。根據該方法,能夠藉由自然掉落使被加工構件剝離。又,於暫時固定有複數個被加工構件之情形時,亦能夠僅剝離一部分被加工構件。若使用本發明之黏著片材,則可降低黏著力至會自然掉落之程度,因此即便被加工構件非常小(例如50 μm見方)之,亦能夠實現各自分開剝離。
[實施例]
以下,藉由實施例具體地說明本發明,但本發明並不受該等實施例限定。實施例中之試驗及評價方法如下所述。又,只要未特別註明,則「份」及「%」為重量基準。
(1)波長355 nm光透過率
將黏著片材之PET(Polyethylene Terephthalate,聚對苯二甲酸乙二酯)隔離膜剝離,並使用手壓輥貼合於大型載玻片(Matsunami Glass製造,商品名「S9111」),將另一面之PET隔離膜剝離後,於此狀態下進行測定。具體而言,使用分光光度計(商品名「分光光度計U-4100」,Hitachi High-Tech Science製造),對大型載玻片上之黏著片材測定黏著片材本身之波長355 nm之透過率。
(2)霧度值
使用霧度計(商品名「HAZE METER HM-150」,村上色彩技術研究所製造),以入射光相對於載玻片之面垂直地入射之方式安裝大型載玻片(Matsunami Glass製造,商品名「S9111」),並測定霧度值。其後,將黏著片材之PET隔離膜剝離,並使用手壓輥貼合於測定霧度值後之大型載玻片,將另一面之PET隔離膜剝離後,於此狀態下再次測定霧度值。自所獲得之霧度值減去僅載玻片之霧度值,而設為黏著片材之霧度值。
(3)壓入彈性模數
將黏著片材之PET隔離膜剝離,並使用手壓輥貼合於大型載玻片(Matsunami Glass製造,商品名「S9111」)。使用紫外線照射裝置(日東精機製造,商品名「UM-810」),自所獲得之樣品之載玻片面側對整個面照射高壓水銀燈之紫外線(特定波長:365 nm,累計光量:350 mJ/cm2
)。其後,將另一面之PET隔離膜剝離而使黏著劑層露出,使用Hysitron公司製造之TriboIndenter TI-950,測定壓入彈性模數。測定係藉由23℃下之單一壓入法,以壓入速度10 nm/s、壓入深度100 nm進行。
(4)黏著力
將黏著片材之PET隔離膜剝離,並貼合厚度25 μm之PET(Toray製造之LumirrorS10)。其後將另一面之PET隔離膜剝離,藉由使2 kg之輥往返一次而貼合於SUS304,藉由依據JIS Z 0237:2000之方法(剝離角度180°,剝離速度(拉伸速度)300 mm/min,測定溫度:23℃)測定黏著力,並設為初始黏著力。
藉由同樣之方法,將黏著片材貼合於SUS304後,使用紫外線照射裝置(日東精機製造,商品名「UM-810」),自黏著片材側對整個面照射高壓水銀燈之紫外線(特定波長:365 nm,累計光量:300 mJ/cm2
)後,同樣地測定黏著力,並設為硬化後黏著力。
黏著力之降低率係藉由降低率[%]=(初始黏著力-硬化後黏著力)/初始黏著力×100而算出。
(5)雷射剝離性
將黏著片材之PET隔離膜剝離,並使用手壓輥貼合於大型載玻片(Matsunami Glass製造,商品名「S9111」)。其後,將另一面之PET隔離膜剝離,將100 μm見方之矽晶片貼合於黏著面。
使用紫外線照射裝置(日東精機製造,商品名「UM-810」),自載玻片面側對整個面照射高壓水銀燈之紫外線(特定波長:365 nm,累計光量:350 mJ/cm2
)。
自大型載玻片側,以照射面積:80 μmφ、輸出0.2 W、0.1 W、0.05 W僅對目標構件位置照射(1 plus per chip)波長355 nm之雷射光,將自然掉落之情形評價為合格(○),將未自然掉落之情形評價為不合格(×)。
於自然掉落之情形時,使用雷射顯微鏡,自黏著劑層側觀察雷射照射部位,從而觀察黏著劑層表面之形態。表1中,黏著劑因雷射照射而分解,黏著劑層之一部分或全部消失者設為凹,將未觀察到變化者記載為平滑。於為黏著劑層之表面之情形時,可防止被黏著體污染。另一方面,黏著劑層之表面呈現凹狀之狀態係黏著劑層本身發生了熱分解之狀態,於此種狀態下,有被黏著體被污染之虞。
[製造例1]丙烯酸系聚合物I之製備
將丙烯酸2-甲氧基乙酯100重量份、丙烯醯基嗎啉27重量份、丙烯酸2-羥基乙酯22重量份加以混合而製備單體組合物。
繼而,向具備氮氣導入管、溫度計、攪拌機之反應容器中導入氮氣,於氮氣氣氛下添加甲苯500重量份、上述單體組合物149量份、及過氧化苯甲醯(BPO)0.3重量份,於60℃下攪拌5小時。其後,冷卻至室溫,添加異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯24重量份以進行反應,向共聚物中之丙烯酸2-羥基乙酯之側鏈末端OH基加成NCO基,獲得含有末端具有碳-碳雙鍵之丙烯酸系聚合物I之丙烯酸系聚合物溶液I。
[製造例2]丙烯酸系聚合物II之製備
將丙烯酸丁酯100重量份、丙烯酸乙酯78重量份、丙烯酸羥基乙酯40重量份加以混合而製備單體組合物。
繼而,向具備氮氣導入管、溫度計、攪拌機之反應容器中導入氮氣,於氮氣氣氛下添加甲苯507重量份、上述單體組合物218量份、及過氧化苯甲醯(BPO)1.2重量份,於60℃下攪拌5小時。其後,冷卻至室溫,添加異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯42.6重量份以進行反應,向共聚物中之丙烯酸2-羥基乙酯之側鏈末端OH基加成NCO基,獲得含有末端具有碳-碳雙鍵之丙烯酸系聚合物II之丙烯酸系聚合物溶液II。
[製造例3]丙烯酸系聚合物III之製備
將甲基丙烯酸月桂酯90重量份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯10重量份加以混合而製備單體組合物。
繼而,向具備氮氣導入管、溫度計、攪拌機之反應容器中導入氮氣,於氮氣氣氛下添加甲苯43重量份、上述單體組合物100重量份、及偶氮異丁基腈(AIBN)0.2重量份,於60℃下攪拌4小時。其後,冷卻至室溫,添加異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯9重量份以進行反應,向共聚物中之丙烯酸2-羥基乙酯之側鏈末端OH基加成NCO基,獲得含有末端具有碳-碳雙鍵之丙烯酸系聚合物III之丙烯酸系聚合物溶液III。
[製造例4]丙烯酸系聚合物IV之製備
將丙烯酸2-乙基己酯100重量份、丙烯醯基嗎啉25.5重量份、丙烯酸羥基乙酯18.5重量份混合而製備單體組合物。
繼而,向具備氮氣導入管、溫度計、攪拌機之反應容器中導入氮氣,於氮氣氣氛下添加甲苯60重量份、上述單體組合物144重量份、及過氧化苯甲醯(BPO)0.3重量份,於60℃下攪拌4小時。其後,冷卻至室溫,添加異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯12重量份以進行反應,向共聚物中之丙烯酸2-羥基乙酯之側鏈末端OH基加成NCO基,獲得含有末端具有碳-碳雙鍵之丙烯酸系聚合物IV之丙烯酸系聚合物溶液IV。
[製造例5]丙烯酸系聚合物V之製備
將丙烯酸乙酯70重量份、2-丙烯酸羥基乙酯30重量份、甲基丙烯酸甲酯丙烯酸酯5重量份、丙烯酸羥基乙酯4重量份加以混合而製備單體組合物。
繼而,向具備氮氣導入管、溫度計、攪拌機之反應容器中導入氮氣,於氮氣氣氛下,添加甲苯295重量份、上述單體組合物109重量份、及過氧化苯甲醯(BPO)0.2重量份,於60℃下攪拌4小時,獲得包含重量平均分子量50萬之丙烯酸系聚合物V之丙烯酸系聚合物溶液V。
[實施例1]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物I之丙烯酸系聚合物溶液I中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)3重量份、及光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份,獲得黏著劑(1)。
(黏著片材)
向PET隔離膜(厚度:38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(1),其後,於130℃下加熱2分鐘,形成厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥,於黏著劑層上貼合PET隔離膜,獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例2]
除了將光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)之添加量設為10重量份以外,以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例3]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物I之丙烯酸系聚合物溶液I中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)3重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份、及紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)5重量份,獲得黏著劑(3)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度:38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(3),其後,於130℃下加熱2分鐘,形成厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥,於黏著劑層上貼合PET隔離膜,獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例4]
除了將紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)之調配量設為20重量份以外,以與實施例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例5]
除了使用紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB71」,分子量:225.3)5重量份來代替紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)5重量份以外,以與實施例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例6]
使用光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 907」)3重量份來代替光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份,使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin 405」,分子量:583.8)5重量份來代替紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)5重量份,除此以外,以與實施例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例7]
使用光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 907」)10重量份來代替光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份,使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin 405」,分子量:583.8)5重量份來代替紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)5重量份,除此以外,以與實施例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例8]
使用光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 127」)3重量份來代替光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份,使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin 405」,分子量:583.8)5重量份來代替紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)5重量份,除此以外,以與實施例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例9]
使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin PS」,分子量:267.3)5重量份來代替紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)5重量份,除此以外,以與實施例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例10]
將交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)之調配量設為0.5重量份,使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin PS」,分子量:267.3)5重量份來代替紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造,商品名「KEMISORB111」,分子量:244.2)5重量份,除此以外,以與實施例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例11]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物II之丙烯酸系聚合物溶液II中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)3重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份、及紫外線吸收劑(BASF公司製造,商品名「Tinuvin PS」,分子量:267.3)5重量份,而獲得黏著劑(11)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度:38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(11),其後,於130℃下加熱2分鐘,形成厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥,於黏著劑層上貼合PET隔離膜,獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例12]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物III之丙烯酸系聚合物溶液III中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)5重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份、及紫外線吸收劑(BASF公司製造,商品名「Tinuvin PS」,分子量:267.3)5重量份,獲得黏著劑(12)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度:38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(12),其後,於130℃下加熱2分鐘,形成厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥,於黏著劑層上貼合PET隔離膜,獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例13]
除了使用交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate HX」)5重量份來代替交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)5重量份以外,以與實施例12同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例1]
除了不添加紫外線吸收劑以外,以與實施例12同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例2]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物I之丙烯酸系聚合物溶液I中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)5重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 651」)10重量份、及紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin 405」,分子量:583.8)5重量份,獲得黏著劑(C2)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度:38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(C2),其後,於130℃下加熱2分鐘,而形成厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥,於黏著劑層上貼合PET隔離膜,而獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例3]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物IV之丙烯酸系聚合物溶液IV中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)3重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造,商品名「Irgacure 369」)3重量份、及紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin 477」,分子量:583.8)5重量份,獲得黏著劑(C3)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度:38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(C3),其後,於130℃下加熱2分鐘,形成厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥,於黏著劑層上貼合PET隔離膜,獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例4]
除了使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin PS」,分子量:267.3)5重量份來代替紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin 477」,分子量:583.8)5重量份以外,以與比較例3同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例5]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物V之丙烯酸系聚合物溶液V中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司,商品名「Coronate L」)4重量份、及紫外線吸收劑(BASF Japan製造,商品名「Tinuvin 477」,分子量:583.8)20重量份,獲得黏著劑(C5)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度:38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(C5),其後,於130℃下加熱2分鐘,形成厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥,於黏著劑層上貼合PET隔離膜,獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之附隔離膜之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[表1]
黏著劑層之聚合物 | 交聯劑 | 光聚合起始劑 | UV吸收劑 | 黏著劑層厚度 | 355 nm透過率 | 霧度值 | 壓入彈性模數 | 黏著力 | 雷射剝離性 | ||||||||||||
種類 | 含量 (重量份) | 種類 | 含量 (重量份) | 種類 | 含量 (重量份) | % | % | MPa | 初始 [N/20 mm] | UV後 [N/20 mm] | 降低率 [%] | 0.2 W | 0.1 W | 0.05 W | |||||||
實施例1 | I | C/L | 3 | Irg369 | 3 | - | - | 5 μm | 52.9 | 0.3 | 70.3 | 4.5 | 0.03 | 99.4 | ○ | 平滑 | × | - | × | - | |
實施例2 | I | C/L | 3 | Irg369 | 10 | - | - | 5 μm | 42.3 | 0.3 | 42.5 | 4.3 | 0.16 | 96.3 | ○ | 平滑 | × | - | × | - | |
實施例3 | I | C/L | 3 | Irg369 | 3 | KEMISORB111 | 5 | 5 μm | 24.9 | 0.4 | 31.3 | 5.1 | 0.08 | 98.4 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | × | - | |
實施例4 | I | C/L | 3 | Irg369 | 3 | KEMISORB111 | 20 | 5 μm | 0.9 | 0.4 | 29.1 | 6.4 | 0.10 | 98.4 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | × | - | |
實施例5 | I | C/L | 3 | Irg369 | 3 | KEMISORB71 | 5 | 5 μm | 3.5 | 0.7 | 189.1 | 5.3 | 0.03 | 99.4 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | × | - | |
實施例6 | I | C/L | 3 | Irg907 | 3 | Tinuvin405 | 5 | 5 μm | 28.9 | 0.6 | 47.5 | 4.2 | 0.04 | 99.1 | ○ | 凹 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | |
實施例7 | I | C/L | 3 | Irg907 | 10 | Tinuvin405 | 5 | 5 μm | 14.97 | 0.7 | 104.9 | 4.3 | 0.03 | 99.2 | ○ | 凹 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | |
實施例8 | I | C/L | 3 | Irg127 | 3 | Tinuvin405 | 5 | 5 μm | 17.6 | 0.7 | 45.7 | 3.8 | 0.03 | 99.3 | ○ | 凹 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | |
實施例9 | I | C/L | 3 | Irg369 | 3 | TinuvinPS | 5 | 5 μm | 5.7 | 0.4 | 124.4 | 5.9 | 0.05 | 99.2 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | ○ | 平滑 | |
實施例10 | I | C/L | 0.5 | Irg369 | 3 | TinuvinPS | 5 | 5 μm | 1.6 | 0.6 | 55.4 | 7.8 | 0.03 | 99.6 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | × | - | |
實施例11 | II | C/L | 3 | Irg369 | 3 | TinuvinPS | 5 | 5 μm | 17.3 | 0.3 | 48.9 | 0.8 | 0.03 | 96.7 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | × | - | |
實施例12 | III | C/L | 5 | Irg369 | 3 | TinuvinPS | 5 | 5 μm | 11.0 | 0.7 | 84.1 | 2.2 | 0.04 | 98.3 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | × | - | |
實施例13 | III | C/HX | 5 | Irg369 | 3 | TinuvinPS | 5 | 5 μm | 4.8 | 0.6 | 32.0 | 0.9 | 0.06 | 92.6 | ○ | 凹 | ○ | 平滑 | × | - | |
比較例1 | III | C/L | 5 | Irg369 | 3 | - | - | 5 μm | 77.1 | 0.4 | 64.9 | 3.8 | 0.05 | 98.7 | × | - | |||||
比較例2 | I | C/L | 5 | Irg651 | 10 | Tinuvin405 | 5 | 5 μm | 17.9 | 0.7 | 4.6 | 4.6 | 0.08 | 98.2 | ○ | 凹 | ○ | 凹 | × | - | |
比較例3 | IV | C/L | 3 | Irg369 | 3 | Tinuvin477 | 5 | 5 μm | 6.1 | 0.5 | 19.8 | 3.6 | 0.12 | 96.7 | ○ | 凹 | ○ | 凹 | × | - | |
比較例4 | IV | C/L | 3 | Irg369 | 3 | TinuvinPS | 5 | 5 μm | 7.3 | 0.2 | 19.5 | 3.2 | 0.13 | 95.9 | ○ | 凹 | ○ | 凹 | × | - | |
比較例5 | V | C/L | 4 | - | - | Tinuvin477 | 20 | 5 μm | 0.2 | 0.4 | 8.2 | 3.6 | 3.6 | 0.0 | ○ | 凹 | × | - |
由表1可明確,於黏著片材之波長355 nm之光透過率為60%以下之情形時,藉由照射低輸出(0.2 W以下)之雷射光,可發揮出優異之剝離性。又,本發明之黏著片材藉由調整所照射之雷射光之強度,可不殘留凹凸(即,未伴有黏著劑層之分解)而表現出剝離性。
10:黏著劑層
20:基材
100:黏著片材
200:黏著片材
圖1(a)係本發明之一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。圖1(b)係本發明之另一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。
10:黏著劑層
20:基材
100:黏著片材
200:黏著片材
Claims (7)
- 一種黏著片材,其係具備包含紫外線吸收劑及/或光聚合起始劑之黏著劑層者,且 該黏著片材之波長355 nm之光透過率為60%以下, 該黏著劑層係於照射300 mJ/cm2 之紫外線後,23℃下之壓入彈性模數成為25 MPa以上之層。
- 如請求項1之黏著片材,其中上述黏著劑層含有活性能量線硬化型黏著劑。
- 如請求項1之黏著片材,其中構成上述紫外線吸收劑之化合物之分子量為1000以下。
- 如請求項2之黏著片材,其中構成上述紫外線吸收劑之化合物之分子量為1000以下。
- 如請求項1至4中任一項之黏著片材,其中將上述黏著片材貼合於不鏽鋼板,照射300 mJ/cm2 之紫外線後之23℃下之黏著力B為0.2 N/20 mm以下。
- 如請求項1至4中任一項之黏著片材,其中將上述黏著片材貼合於不鏽鋼板,照射300 mJ/cm2 之紫外線後之23℃下之黏著力B相對於剛將黏著片材貼合於不鏽鋼板後之23℃下之初始黏著力A的降低率為90%以上。
- 如請求項5之黏著片材,其中將上述黏著片材貼合於不鏽鋼板,照射300 mJ/cm2 之紫外線後之23℃下之黏著力B相對於剛將黏著片材貼合於不鏽鋼板後之23℃下之初始黏著力A的降低率為90%以上。
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