TW202145834A - 光照射裝置及具備該光照射裝置之曝光裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種能夠以簡便構成實施光配向處理的曝光裝置用之光照射裝置。光照射裝置10為由具有複數個LED16的光源12、用以接收來自光源12的光L並讓所透過的光L照射於工件X之偏光元件14所構成。又，各LED16的光軸CL係被設定成：相對於工件X而言具有第1角度θ1，而且設定為：各LED16所射出的光L之配光角的一半之第2角度θ2為小於第1角度θ1。另外，藉由改變輸入到LED16的電力來調整對於工件X或曝光面A的光之照度或積算光量。

Description

光照射裝置及具備該光照射裝置之曝光裝置

本發明是關於一種主要在製造液晶面板之際所使用的曝光用之光照射裝置、以及一種具備它之曝光裝置。

在使用液晶來做為TN方式的顯示面板之際，若只在2片玻璃基板之間封入液晶後，再對於被形成在該等玻璃板的內面之透明電極施加電壓時則也不能正常動作。這是因為液晶分子是處於一種紛亂的狀態。

為了使液晶能以正常的TN方式作動，則需要將液晶分子配向於一定方向，並且需要使液晶分子的立起方向成為一定。具體而言，將液晶分子配向成相對於玻璃基板而言約3°左右傾斜方向，這個傾斜角度稱為預傾斜角。

其次，在具有液晶的配向性能之一對玻璃基板之中，將其中一者的玻璃基板配置為：配向於X方向，將對面之其他的玻璃基板配置為：垂直於X方向之Y方向。（TN方式）

如此，在液晶面板之製造上是需要液晶配向處理的，自過往以來，即已對於玻璃基板的表面進行物理摩擦之摩擦處理（例如，專利文獻1）。此種摩擦處理係指一種藉由利用長毛布等對於被形成在玻璃基板上之有機高分子膜以指定方向進行摩擦，進而形成能夠使液晶分子配向於一定方向的膜之處理方法。

由於摩擦處理的普及、應答速度快速的TN方式已成為一般化了，因而能夠廉價量產性能安定的液晶面板，以致液晶監視器普及化已有用來做為個人電腦等之OA機器用的顯示監視器、遊戲機用之監視器的歷史背景。

但是，在摩擦方式上具有會發生均一性不足、TFT的靜電破壊之可能性；另外，還會有在進行摩擦時所產生的粉末碎屑附著之所謂信頼性之有關的問題。

除此以外，以摩擦方式能夠達成的預傾斜角，在如上述的以水平配向液晶模式所代表的TN方式中為3°左右，因而難以構成低電壓驅動、高速應答所對應之液晶模式的顯示面板。

為了因應此類的摩擦方式之問題，現在已有能夠實施光配向處理的曝光機的提案了，在此種的曝光機中，已試著使用長弧狀的水銀燈來做為光源。 ＜先前技術文獻＞ ＜專利文獻＞

＜專利文獻1＞　特開2007－17475號公報

＜發明所欲解決的課題＞

然而，即便是使用長弧狀水銀燈的曝光機也認為是有問題的。一般而言，在將曝光材料設定成為對特定波長帶域的光起反應之感光特性的情況，可以明白是由一看到來自水銀燈的光之分光特性時該光就會是多的水銀線之輝線來構成。

因此，在以水銀燈做為曝光用之光源的情況下，由於超出曝光材料的感光特性以外之波長的光變多了，所以可推測會有因該感光波長帶域以外的波長之光而將曝光材料過度曝光之虞。

無庸侈言，可以是利用選擇波長反射膜來切割出感光特性以外的波長之光線（短波側及長波側），然而狹帶域之截濾器(cut filter)（帶通濾波器(bandpass filter)）是有必要的，而且因為要求高的精度，結果就會導致裝置的成本提高。

又，因為由長弧狀水銀燈所射出的光會廣範圍擴散，所以就會難以控制來自用於實施光配向處理之重要的水銀燈之光的照射角，例如，雖然也檢討使用一種以百葉窗(louver)等來遮住多餘的光之手法，然而，在此種情況下，也會有所謂的由水銀燈所射出的光之利用效率降低之另外的問題。

另外，雖然也有一種是將經準直（平行化）的光相對於玻璃基板傾斜地照射的方法；然而，因為此種的手法之光學系統變複雜了，從而推斷會有所謂的導致裝置大型化高價化之問題。

本發明乃是有鑒於上述的問題而完成者，其目的係在於提供一種能夠以簡便構成來實施光配向處理的曝光裝置用之光照射裝置。 ＜用以解決課題之手段＞

根據本發明的一觀點，可以提供一種光照射裝置，其特徵在於： 具有複數個LED之光源；以及 用以接收來自前述光源的光並將所透過的前述光照射於工件之偏光元件；其中 相對於前述工件而言，前述各LED的光軸係具有第1角度； 由前述各LED所放射的前述光之配光角的一半之第2角度係設定為小於前述第1角度； 藉由改變輸入到前述LED的電力來調整對於前述工件或曝光面的光之照度或積算光量。

較佳者是： 前述光源為具備：配置有複數個前述LED的複數個LED模組； 複數個前述光源沿著前述工件的移動方向排列； 輸入到沿著前述工件的移動方向排列在一直線上之被配置於相異的前述光源的複數個前述LED模組所配置之複數個前述LED的電力為藉由一個驅動電源來調整。

較佳者是： 進一步具備：用於測定前述工件或前述曝光面的照度之計測器； 由經前述計測器測定之前述工件或前述曝光面的照度或積算光量之値計算出前述工件或前述曝光面之光不均勻度，並改變輸入到對應於前述不均勻度之位置的前述LED之電力來消除前述不均勻度。

較佳者是： 前述偏光元件在由前述光源所照射的光之照射方向為長的形狀。

較佳者是： 前述偏光元件為以複數個線格柵構成； 前述各線格柵係形成為梯形狀； 在與由前述光源所照射的光之照射方向呈垂直的方向上一個梯形之下邊與相鄰的梯形之上邊為排列成直線狀。

較佳者是： 前述偏光元件的數量為少於前述光源的數量。 ＜發明之效果＞

根據本發明有關的光照射裝置，藉由將複數個LED之光軸相對於工件而言只傾斜第1角度，並使相當於各LED所射出的光之配向角的一半之第2角度設定為小於該第1角度，以使得各LED所射出的光之全部皆是比從LED向著工件的垂線還更向著LED之光軸側。

因此，就能夠提供一種曝光裝置用之光照射裝置，其係能夠以簡便的構成來實施一種具有實效的照射角之光量多的光配向處理。

（光照射裝置10之構成） 以下，說明本發明所適用之實施形態有關的光照射裝置10。光照射裝置10是被組裝於主要為了在製造液晶面板之際的曝光用之曝光裝置來使用。如圖1所示，該光照射裝置10大致是具備光源12及偏光元件14。

光源12係一種向著載置有工件（曝光對象物）X的曝光面A來照射曝光用光L之構件；在本實施形態中係使用複數個LED16。此等的LED16由於是對於沿著曝光面A上一定方向移動的工件X進行掃描的方式來照射曝光用光L，所以該光源12係以在工件X的移動方向呈直交的方向上約略成直列地配置有複數個LED16的方式來形成。當然，可以是相對於工件X而移動光照射裝置10來照射曝光用光L；也可以是移動工件X及光照射裝置10之兩者。

又，構成光源12的各LED16係相對於工件X（即，相對於曝光面A）傾斜地配置以使得相對於工件X而言，彼等LED16之光軸CL成為具有第1角度θ1（即入射角θ1）。藉由在液晶面板上使用一種從斜向照射角度成分的變異量少之光所作成之配向膜，因而能夠呈現安定的預傾斜角(pre-tilt angle )與配向狀態，並且能夠實現任意的配向模式的液晶面板。

另外，也可以是如圖2所示，將複數個LED16整合在一個LED模組100，進而將複數個LED模組100排列配置於例如一方向上來構成光源12。

又，也可以是設置如圖3及圖4所示的角度調節機構110，其為能夠調節相對於偏光元件14之光源12全體的照射角度。所例示的角度調節機構110係構成為：使光源12之複數個LED模組100成為具有沿著排列方向延伸之轉動軸112，因而能夠藉由轉動轉動軸112來調節相對於偏光元件14之光源12全體的照射角度。

又，也可以是設置如圖5所示之寬度方向位置調節機構120，其為能夠調節：在複數個LED模組100所排列的方向之相對於光源12的偏光元件14之位置。藉此，能夠進行調節以減低自各LED模組100所放射的光之照度不均勻度。

又，各個LED模組100不是相對於偏光元件14以預定角度配置，而可以是準備如圖6及圖7所示之斷面為鋸齒狀的LED基座130，分別地將LED16配置在相對於偏光元件14而言具預定的角度之各齒所對應的傾斜面132。

返回到圖1，自各LED16所放射的光L之配光角的一半之第2角度θ2係設定為小於上述的第1角度θ1。

偏光元件14係只讓從光源12所照射的光之中於一方向振動的光成分透過而偏光的元件，在本實施形態中，可以使用線格柵偏光元件。線格柵偏光元件是一種在透明基板（玻璃基板）的一側之表面形成線格柵。在本實施形態中，線格柵之形成面18可以是偏光元件14中之光源12側的面；所謂的光源12可以是指相反側的面。又，偏光元件14為適合配設成平行於工件X（曝光面A）。

此種偏光元件14的變形例為如圖4所示，從接近光源12之側起按照順序配置：光學濾光片30、偏光元件14、遮蔽構件40；也可以是以光學濾光片30、偏光元件14、及遮蔽構件40來構成偏光元件群150。

光學濾光片30係被配設在光源12與偏光元件14之間，使光源12所射出的光L之中指定波長以上的光L選擇性地透過之構件，並在表面上形成波長選擇膜。又，光學濾光片30較佳者是與偏光元件14同樣是被配設成平行於工件X（曝光面A）。另外，光學濾光片30只是滿足以下所説明的條件之物即可，可以使用用以讓指定波長以上之光透過的長通濾光器(long pass filter)、或使用可讓指定波長範圍之光透過並且遮斷比它還長的長波長及比它還短的短波長之光的帶通濾波器。再者，光學濾光片30也可以是被配設成偏光元件14之光源12側的相反側。

遮蔽構件40係一種可讓來自光源12的光L透過之例如玻璃製的板材，在偏光元件14中之線柵的形成面18相向的位置中，被配設成約略平行於工件X。亦即，如圖所示，在偏光元件14中之線柵的形成面18為被形成在光源12側的相反側之情況下，遮蔽構件40也是被配設在偏光元件14中之光源12側的相反側。相反地，在偏光元件14中之線柵的形成面18被形成於光源12側的情況（未圖示）下，遮蔽構件40也是被配設於偏光元件14中之光源12側。

另外，遮蔽構件40之表面（兩面亦可）上可以是不進行抗反射膜等之抗反射處理；然而，較佳者是對於一側或兩側的表面進行抗反射膜等之抗反射處理。

又，遮蔽構件40與偏光元件14中之線柵的形成面18之間的空間S較佳為是密閉的。例如，設置有用以保持遮蔽構件40及偏光元件14的周緣之保持框架42；可考慮以該保持框架42來密閉遮蔽構件40と偏光元件14中之線柵的形成面18之間的空間S。

另外，上述所謂的「密閉」係指讓矽氧烷化合物等之微小固形物不會入侵到該空間S的程度之意；不需要是完全「密閉」的意思。

又，偏光元件14較佳者是所謂的「反射型式」的線柵。這是因為：只要是「反射型式」，即會因來自光源12的光L而加熱線柵，導致密閉的空間之溫度會非期望地上昇，因而致使線柵的形成面18等受到損傷之可能性降低。

另外，為了使被密閉的空間S冷卻之目的，可以藉由使用以遮蔽構件40、偏光元件14、或保持框架42構成的該空間S之構件強制空冷或水冷的方法來進行冷卻。

另外，也可以設置偏光元件群角度調節機構，其為能夠調節相對於工件X（曝光面A）或光源12之偏光元件群150全體的照射角度。此種的偏光元件群角度調節機構也可以是將光學濾光片30、偏光元件14、及遮蔽構件40加以整合來進行角度調節，也可以是分別地將光學濾光片30、偏光元件14、及遮蔽構件40個別進行角度調節。

更進一步而言，也可以是如圖8及圖9所示，將上述的光源12之角度調節機構110、偏光元件群角度調節機構加以整合而能夠相對於工件X（曝光面A）一起對光源12及偏光元件群150進行角度調節的全角度調節機構152。例示的全角度調節機構152為一種具有：在構成光源12的複數個LED模組100所排列的方向及與它同樣地沿著偏光元件群150延伸的方向上延伸之全體轉動軸154，藉由使全體轉動軸154轉動，能夠調節相對於工件X（曝光面A）之光源12及偏光元件群150全體的照射角度。

又，在偏光元件群150延伸的方向（複數個LED模組100所排列的方向）上，也可以設置：用以調節該偏光元件群150的位置之偏光元件群寬度方向位置調節機構。

又，也可以是設置將光源12的寬度方向位置調節機構120、及上述的偏光元件群寬度方向位置調節機構加以整合而成為用以在偏光元件群150的延伸方向（複數個LED模組100所排列的方向）調節光源12及偏光元件群150的位置之體寬度方向位置調節機構。

（本實施形態有關的光照射裝置10之效果） 根據本實施形態有關的光照射裝置10，藉由使複數個LED16的光軸CL相對於工件X而言只傾斜第1角度θ1，並將相當於自各LED16所放射的光L之配向角的一半之第2角度θ2設定成小於該第1角度θ1，藉以將自各LED16所放射的光L之全部就會成為向著：自LED16而比向著工件X的垂線還更向著LED16的光軸CL側。

因此，能夠提供一種曝光裝置用之光照射裝置10，其為能夠以簡便的構成實施使具有實效之照射角的光量為較多之光配向處理。

（變形例1） 如圖10及圖11所示，也可以是在光源12及偏光元件群150的寬度方向之兩端配設反射鏡160。因此，能夠防止工件X（曝光面A）中之光照射裝置10的寬度方向兩端部之照度降低。

（變形例2） 又，如圖12及圖13所示，也可以配設一種用以在光源12及偏光元件群150的寬度方向延伸之寬度方向反射鏡164，其為可以用來反射：被照射在相對於光源12延伸的方向（寬度方向）而言為約略垂直的方向上之光L的一部分，即不進入偏光元件群150的光L。

另外，也可以進一步將具備有變形例1有關的反射鏡160、及變形例2有關的寬度方向反射鏡164兩者之光照射裝置10。

（變形例3） 如圖14所示，也可以藉由將上述的光照射裝置10配置成複數個套組來構成光源單元170。

又，在構成光源單元170之際，較合適者為能夠分別地單獨地進行各光照射裝置10的角度調節。更進一步而言，即便是對於在各光照射裝置10所包含的各LED模組100及各偏光元件群150，較適合者也是能夠分別地單獨地進行角度調節。

又，也可以是以少於複數個LED模組100構成的光源12之數量的數個偏光元件群150來構成光源單元170。例如，在如圖15所示之光源單元170中，相對於使用5個光源12而言，可以只使用：1個偏光元件群150。如此，較合適者為藉由以少於光源12的數量之數個偏光元件群150來構成光源單元170，因為它能夠避免在光源12與偏光元件群150為一對一（光源12的數量為等同於偏光元件群150的數量）之情況下可能會發生之虞的自光源12所照射的光L之漸暈現象(vignetting)的點。

（變形例4） 以用來測定工件X（曝光面A）之照度的計測器所測定到的該工件X（曝光面A）之照度或積算光量為落在預定的規定値以外的情況下，較合適者為藉由改變輸入到各LED16的電力來調整該照度或積算光量。

（變形例5） 較合適者為：從以用來測定工件X（曝光面A）之照度的計測器所測定到的該工件X（曝光面A）之照度或積算光量的値來計算出：工件X（曝光面A）中之光L的不均勻度，藉由改變輸入到那對應於所發生之該不均勻度的位置上之LED16的電力，來消除該不均勻度。

又，在工件X（曝光面A）中之照度的不均勻度或積算光量的不均勻度為發生於偏光元件群150彼此的邊界、或、偏光元件群150之各構成要素（偏光元件14、光學濾光片30、遮蔽構件40）的邊界之情況下，較適合者是：藉由改變輸入到在該邊界相對應的位置上之LED16的電力來消除該不均勻度。

（變形例6） 在使工件X或至少一個光源12移動於一定方向而使得該工件X曝光的情況下，當在積算光量的不均勻度為發生在該移動方向的情況下，較適合者是：藉由改變輸入到在移動中所對應的LED16之電力來消除該光量不均勻度。

（變形例7） 也可以是藉由將各LED16連續點亮或連續關燈來調整上述的照度或積算光量。

或者，也可以是反復地進行各LED16之點亮及關燈來調整上述的照度或積算光量。

（變形例8） 較適合的是：將用來構成偏光元件群150的（線格柵）偏光元件14之形狀製作成：如圖16所示之在自各光源12所照射的光L之照射方向為長的形狀者。

（變形例9） 又，就構成偏光元件14之線格柵的形狀而論，也可以是如圖17所示，形成圓盤狀的晶圓(wafer)上形成線格柵，切割成長方形，並在與自各光源12所照射的光L之照射方向呈垂直的方向（各LED模組100的排列方向）上排列3個此種的長方形。

（變形例10） 又，構成偏光元件14之線格柵的形狀可以是如圖18所示，將線格柵形成為約略梯形，並在與自各光源12所照射的光L之照射方向呈垂直的方向（各LED模組100的排列方向）上，使一個略梯形的下邊與相鄰的略梯形的上邊配置成約略直線狀排列的方式。在此之上，藉由將線格柵形成為約略梯形來進行配置，則與變形例9的情況相比之下，雖然自各光源12所照射的光L之照射方向的照度不均勻度或積算光量不均勻度的範圍變廣了，但是因為該量、不均勻度之程度變小了，所以調整變容易了，因而較為合適。

（變形例11） 又，如圖2所示的光源12也可以是如圖19及圖20所示構成為：在沿著工件X的移動方向上排列複數個（在變形例11為3個）。在此種情況下，各光源12中之各一個LED模組100為分別配置成：排列在沿著工件X的移動方向之一直線上（圖19中之以一點鏈線所圍的LED模組100）。以下，將被配置於如此的排列在一直線上之相異的光源12之複數個LED模組100稱為「同一群的LED模組100」。另外，同一群的各LED模組100可以是在同一平面上，也可以是不在同一平面上。

另外，如圖21所示，分別供給到同一群的LED模組100之電力為由一個驅動電源180來供給。因此，能夠藉由一個驅動電源180來調整自同一群的LED模組100所放射的光量。另外，在圖21中，雖然是已例示：對於同一群的各LED模組100從一個驅動電源180並列地供給電力的例子，然而，也可以對它進行變更，改由一個驅動電源180直列串聯地對於同一群的各LED模組100供給電力。

此處，在對於驅動電源180的變形例進行説明時，可以是如圖22（a）所示，對於一個驅動電源180輸入一個調光信號；對於一個群的LED模組100輸出電力；也可以是如圖22（b）所示，輸入一個調光信號再對於複數個群（在此例中為2個）的LED模組100分别輸出電力。更進一步而言，也可以是如圖22（ｃ）所示，對於驅動電源180輸入複數（在此例中為2個）的調光信號，再對於複數個群（在此例中為2個）的LED模組100分別輸出電力。

另外，在此變形例有關的各LED模組100中，如圖23所示，排列配置在一直線上之5個LED16設為1套(set)的LED群，並將2套的LED群配置成為相互平行地排列。

在此，說明在使用配置有2套的LED群Y、Z之LED模組100的情況，經由驅動電源180來調整各LED16所放射的光量之方法。

如圖24所示，將用以計測照度之計測器190設置於曝光面A中之一方的LED群Y與另一方的LED群Z之中間位置所對應的位置。藉此，即可以計測器190來測定一方的LED群Y所放射的光及另一方的LED群Z所放射的光之量。

具體而言，設置在曝光面A之計測器190乃一邊在工件X的移動方向上移動，一邊測定同一群的LED模組100之每一個的積算光量（掃描測定）。當對於來自一個群有關的LED模組100的光量之測定完成時，使曝光面A中之計測器190的位置在光源12的寬度方向平移，以測定來自相鄰之群的LED模組100的光之積算光量。藉由按照此種順序依序進行，以測定全部之群的積算光量。不消說，當然可以是不移動計測器190，也可以是使光照射裝置10相對於計測器190移動，也可以是使雙方都移動。

基於利用計測器190所測定到的光量，從未圖示的控制裝置來對於驅動電源180輸入對應於成為最適當的光量之調光信號。從而，對於接收此種調光信號的驅動電源180輸出到對應的LED模組100之電力就可被調整了，最後就可以對於LED群Y及LED群Z所放射的光量進行調整。

如此，根據驅動電源180所進行的光量之調整就可以LED模組100單位來進行了。不消說，當然不限定於此等而已，也可以是不以LED模組100單位而可以是以各LED群單位，更進一步而言，也可以是以各LED16單位根據驅動電源180來進行光量之調整。

另外，較佳者為如圖25所示，從屬於不同的LED群Y、Z、自位於互相相鄰的位置之LED16的各個外端位置起相對於曝光面A垂直往下延伸的假想線（圖中之一點鏈線）與曝光面A相交的位置P1、P2間，可接收到來自兩LED16的光的方式，設定來自各LED16的光之配光角或曝光面A與LED16間之距離。

根據此例子，在如圖26所示之1個LED模組100使用3個LED群Y、Z、V的情況下，屬於位居兩端的LED群Y及LED群V之LED16的分別自外端位置起相對於曝光面A而垂直下延伸的假想線（圖中之一點鏈線）為與曝光面A相交的位置P1、P2間，能夠接收來自全部的（在此例中為3個）LED16之光。LED群的數量同樣地也可以是1個、或4個以上。

應當理解的是：此次所揭示的實施形態之全部觀點皆是用以例示，當然不是用來限制的。本發明的範圍不是上述説明而已，並且意圖包括：申請專利範圍所揭示者、與在申請專利範圍均等的意思及範圍內之全部的變更。

10:光照射裝置 12:光源 14:偏光元件 16:LED 18:線柵的形成面 30:光學濾光片 40:遮蔽構件 42:保持框架 100:LED模組 110:角度調節機構 112:轉動軸 120:寬度方向位置調節機構 130:LED基座 132:傾斜面 150:偏光元件群 152:全角度調節機構 154:全體轉動軸 160:反射鏡 164:寬度方向反射鏡 170:光源單元 180:驅動電源 190:計測器 X:工件（曝光對象物） A:曝光面 L:曝光用光 CL:（LED16之）光軸 θ1:第1角度 θ2:第2角度 S:（遮蔽構件40與線柵的形成面18之間的）空間 Y:一方的LED群 Z:他方的LED群 V:別的LED群

圖1：顯示本發明所可適用的光照射裝置10之圖。 圖2：顯示具備有以複數個LED模組100構成的光源12之光照射裝置10的正面圖。 圖3：顯示具備有角度調節機構110之光照射裝置10的斜視圖。 圖4：顯示具備有角度調節機構110之光照射裝置10的側面圖。 圖5：顯示具備有寬度方向位置調節機構120之光照射裝置10的正面圖。 圖6：顯示具備有鋸齒狀的LED基座130之光源12的斜視圖。 圖7：顯示具備有鋸齒狀的LED基座130之光源12的側面圖。 圖8：顯示具備有全角度調節機構152之光照射裝置10的斜視圖。 圖9：顯示具備有全角度調節機構152之光照射裝置10的側面圖。 圖10：顯示變形例1有關的光照射裝置10之正面圖。 圖11：顯示變形例1有關的光照射裝置10之側面圖。 圖12：顯示變形例2有關的光照射裝置10之正面圖。 圖13：顯示變形例2有關的光照射裝置10之側面圖。 圖14：顯示變形例3有關的光照射裝置10之斜視圖。 圖15：顯示變形例3有關的另一光照射裝置10之側面圖。 圖16：顯示變形例8有關的光照射裝置10之側面圖。 圖17：顯示變形例9有關的偏光元件14之平面圖。 圖18：顯示變形例10有關的偏光元件14之平面圖。 圖19：顯示變形例11有關的光照射裝置10之平面圖。 圖20：顯示變形例11有關的光照射裝置10之斜視圖。 圖21：顯示變形例11有關的光照射裝置10之平面圖。 圖22：顯示變形例11有關的驅動電源180之例子的圖。 圖23：顯示LED模組100之圖。 圖24：顯示變形例11有關的在LED群Y、Z與曝光面A的計測器190間之位置關係圖。 圖25：顯示關於變形例11的來自LED群Y、Z之光照射曝光面A的範圍之圖。 圖26：顯示關於變形例11的來自LED群Y、Z、V之光照射曝光面A的範圍之圖。

10:光照射裝置

12:光源

14:偏光元件

16:LED

18:線柵的形成面

30:光學濾光片

40:遮蔽構件

42:保持框架

150:偏光元件群

X:工件(曝光對象物)

A:曝光面

L:曝光用光

CL:(LED16之)光軸

θ1:第1角度

θ2:第2角度

S:(遮蔽構件40與線柵的形成面18之間的)空間

Claims (7)

1. 一種光照射裝置，其特徵為具備： 具有複數個LED的光源；以及 接受來自前述光源的光、並將所透過的前述光照射於工件的偏光元件； 前述各LED的光軸係具有相對於前述工件的第1角度； 由前述各LED所放射的前述光之配光角的一半之第2角度係設定成小於前述第1角度； 藉由改變輸入到前述LED的電力，來調整對於前述工件或曝光面的光之照度或積算光量。
2. 如請求項1所記載之光照射裝置，其中前述光源為進一步具備：配置有複數個前述LED的複數個LED模組； 複數個前述光源為沿著前述工件的移動方向排列； 輸入到沿著前述工件的移動方向排列成一直線上之被配置於相異的前述光源之複數個前述LED模組所配置的複數個前述LED之電力為經由一個驅動電源來調整。
3. 如請求項1所記載之光照射裝置，其係進一步具備用於測定前述工件或前述曝光面的照度之計測器； 從經由前述計測器測定到的前述工件或前述曝光面之照度或積算光量的値計算出前述工件或前述曝光面之光不均勻度，改變輸入到前述不均勻度所對應的位置之前述LED的電力來消除前述不均勻度。
4. 如請求項1所記載之光照射裝置，其中前述偏光元件在由前述光源所照射的光之照射方向上為長的形狀。
5. 如請求項1所記載之光照射裝置，其中前述偏光元件為以複數個線格柵(wire grid)所構成； 前述各線格柵為形成梯形狀； 在由前述光源所照射的光之照射方向呈垂直的方向上一個梯形的下邊與相鄰的梯形之上邊為排列成直線狀。
6. 如請求項1所記載之光照射裝置，其中前述偏光元件的數量為少於前述光源的數量。
7. 一種曝光裝置，其係具備有如請求項1所記載之光照射裝置。

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