TW202144816A - 透鏡光柵的製作方法 - Google Patents

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lens
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刁鴻浩
玲溪 黃
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大陸商北京芯海視界三維科技有限公司
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Abstract

本申請涉及光學技術領域，公開了一種透鏡光柵的製作方法，包括：製作基底層；在基底層的一面形成至少兩個透鏡；在至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部；在至少兩個透鏡表面形成抗反射層；該方法能夠有效解決雜散光降低3D圖像質量的技術問題。

Description

透鏡光柵的製作方法
本申請主張在2020年05月22日提交中國知識産權局、申請號為202010440094.X、發明名稱為“透鏡光柵的製作方法”的中國專利申請的優先權，其全部內容通過引用結合在本申請中。
本申請涉及光學技術領域，例如涉及一種透鏡光柵的製作方法。
目前，透鏡光柵廣泛應用於3D顯示器中，基於透鏡光柵的3D顯示器不需要借助眼鏡即可獲得3D觀看效果。
透鏡光柵的基本結構包括光柵本體以及平坦化層，其中光柵本體的一面形成有至少兩個透鏡，平坦化層設置於該至少兩個透鏡上，光柵本體的折射率高於平坦化層的折射率，在實現本公開實施例的過程中，發現相關技術中至少存在如下問題：
由於製作工藝的精度限制，透鏡表面不會絕對光滑，尤其是在兩個透鏡的交界處，極易形成畸變的溝槽，當子像素的光線經過畸變區域時，透射光線無法控制，會成為雜散光，降低了該區域投射的圖像質量。
為了對披露的實施例的一些方面有基本的理解，下面給出了簡單的概括。該概括不是泛泛評述，也不是要確定關鍵／重要組成元素或描繪這些實施例的保護範圍，而是作為後面的詳細說明的序言。
本公開實施例提供了一種透鏡光柵的製作方法，以解決雜散光降低3D圖像質量的技術問題。
在一些實施例中，提供一種透鏡光柵的製作方法，包括：
製作基底層；
在基底層的一面形成至少兩個透鏡；
在至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部；
在至少兩個透鏡表面形成抗反射層。
在一些實施例中，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層，可以包括：
在至少兩個透鏡表面，沉積抗反射材料，形成抗反射層。
在一些實施例中，形成的遮光部的高度可以為消除至少兩個透鏡中的相鄰透鏡的交界處的雜散光。
在一些實施例中，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層之後，還可以包括：
在抗反射層表面形成覆蓋層。
在一些實施例中，
製作基底層，可以包括：採用具有第一折射率的材料製作基底層；
形成覆蓋層，可以包括：採用具有第二折射率的材料形成覆蓋層；
第一折射率大於第二折射率。
在一些實施例中，在抗反射層表面形成覆蓋層，可以包括：
在抗反射層表面，塗覆具有第二折射率的材料，形成覆蓋層。
在一些實施例中，形成的至少兩個透鏡可以包括凹透鏡和凸透鏡中的至少一種。
在一些實施例中，形成的至少兩個透鏡可以包括柱狀透鏡和球面透鏡中的至少一種。
一種透鏡光柵的製作方法，包括：
製作基底層；
在基底層的一面形成至少兩個透鏡；
在至少兩個透鏡表面形成抗反射層；
在抗反射層表面，至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部。
在一些實施例中，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層，可以包括：
在至少兩個透鏡表面，沉積抗反射材料，形成抗反射層。
在一些實施例中，形成的遮光部的高度為消除至少兩個透鏡中的相鄰透鏡交界處的雜散光。
在一些實施例中，在抗反射層表面，至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部之後，還可以包括：
在抗反射層以及遮光部表面，形成覆蓋層。
在一些實施例中，
製作基底層，可以包括：採用具有第一折射率的材料製作基底層，
形成覆蓋層，可以包括：採用具有第二折射率的材料形成覆蓋層；
其中，第一折射率大於第二折射率。
在一些實施例中，在抗反射層以及遮光部表面，形成覆蓋層，可以包括：
在抗反射層以及遮光部表面，塗覆具有第二折射率的材料，形成覆蓋層。
在一些實施例中，形成的至少兩個透鏡可以包括凹透鏡和凸透鏡中的至少一種。
在一些實施例中，形成的至少兩個透鏡包括柱狀透鏡和球面透鏡中的至少一種。
本公開實施例提供的透鏡光柵的製作方法，可以實現以下技術效果：
有效解決雜散光降低3D圖像質量的技術問題。
以上的總體描述和下文中的描述僅是示例性和解釋性的，不用於限制本申請。
為了能夠更加詳盡地瞭解本公開實施例的特點與技術內容，下面結合圖式對本公開實施例的實現進行詳細闡述，所附圖式僅供參考說明之用，並非用來限定本公開實施例。在以下的技術描述中，為方便解釋起見，通過多個細節以提供對所披露實施例的充分理解。然而，在沒有這些細節的情況下，一個或多個實施例仍然可以實施。在其它情況下，為簡化圖式，熟知的結構和裝置可以簡化展示。
在一些實施例中，參考圖1，圖1是本公開實施例提供的透鏡光柵的製作方法的流程示意圖，提供一種透鏡光柵的製作方法，包括：
S101，製作基底層；
S102，在基底層的一面形成至少兩個透鏡；
S103，在至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部；
S104，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層。
具體地，參考圖2，圖2是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時製作的基底層的剖面結構示意圖，執行S101，製作基底層101。
參考圖3，圖3是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的透鏡的剖面結構示意圖，執行S102，在基底層101的一面形成至少兩個透鏡102。
在一些實施例中，透鏡102可以是凸透鏡，如圖3所示。
在一些實施例中，參考圖4，圖4是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡的剖面結構示意圖，透鏡102可以是凹透鏡。
在一些實施例中，參考圖5，圖5是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡和凸透鏡的剖面結構示意圖，透鏡102可以是凹透鏡和凸透鏡的組合。
以下以透鏡102為凸透鏡為例進行說明。
在一些實施例中，至少兩個透鏡102可採用納米壓印技術製作：在基底層101上塗覆用於製作透鏡102的材料，採用納米壓印的方式形成至少兩個透鏡102。
在一些實施例中，至少兩個透鏡102還可採用熱熔法制作：在基底層101上鋪設用於製作透鏡102的材料，對用於製作透鏡102的材料進行光刻，將光刻後剩餘的部分進行加熱，在表面張力的作用下形成透鏡的形狀，冷卻後形成該至少兩個透鏡102。
在一些實施例中，至少兩個透鏡102還可採用刻蝕的方法製作：在基底層101上鋪設用於製作透鏡的材料層，在用於製作透鏡的材料層上沉積光刻膠，進行光刻形成至少兩個透鏡102的形狀，並以光刻膠作掩膜刻蝕透鏡102的材料層，形成至少兩個透鏡，之後去除剩餘的光刻膠。
在一些實施例中，遮光部可以通過刻蝕，壓印、噴墨等方式形成，以下以刻蝕為例，對遮光部的形成做具體說明。
參考圖6至圖8，圖6是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成遮光部的流程示意圖，圖7是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光層的剖面結構示意圖，圖8是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光部的剖面結構示意圖；在一些實施例中，S103中，形成遮光部，可以包括：
S1031，在至少兩個透鏡102表面塗覆遮光材料，形成遮光層103；
S1032，對遮光層103進行刻蝕，保留至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間的部分，形成遮光部104。
其中，遮光材料可以為BM油墨。
在一些實施例中，各個遮光部104的遮光材料可以相同也可以不同。
在一些實施例中，參考圖9，圖9是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的抗反射層的剖面結構示意圖，S104中，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層，可以包括：
在至少兩個透鏡102表面，沉積抗反射材料，形成抗反射層105。
具體地，可採用物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）技術沉積該抗反射材料。
在一些實施例中，形成的遮光部的高度為消除至少兩個透鏡中的相鄰透鏡的交界處的雜散光。
參考圖10，圖10是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成覆蓋層的流程示意圖，在一些實施例中，S104，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層之後，還可以包括：
S105，在抗反射層105表面形成覆蓋層。
在一些實施例中，製作基底層，可以包括：採用具有第一折射率的材料製作基底層；
形成覆蓋層，包括：採用具有第二折射率的材料形成覆蓋層；
第一折射率大於第二折射率。
在一些實施例中，參考圖11，圖11是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的覆蓋層的剖面結構示意圖，S105中，在抗反射層表面形成覆蓋層，可以包括：
在抗反射層105表面，塗覆具有第二折射率的材料，形成覆蓋層106(例如：平坦層)。
參考圖12，圖12是本公開實施例提供的透鏡光柵的製作方法的另一流程示意圖，在一些實施例中，提供一種透鏡光柵的製作方法，包括：
S201，製作基底層；
S202，在基底層的一面形成至少兩個透鏡；
S203，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層；
S204，在抗反射層表面，至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部。
參考圖13，圖13是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時製作的基底層的另一剖面結構示意圖，執行S201，製作基底層201。
參考圖14，圖14是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的透鏡的另一剖面結構示意圖，執行S202，在基底層201的一面形成至少兩個透鏡202。
在一些實施例中，透鏡202可以是凸透鏡，如圖14所示。
在一些實施例中，參考圖15，圖15是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡的另一剖面結構示意圖，透鏡202可以是凹透鏡。
在一些實施例中，參考圖16，圖16是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡和凸透鏡的另一剖面結構示意圖，透鏡202可以是凹透鏡和凸透鏡的組合。
以下以透鏡202為凸透鏡為例進行說明。
在一些實施例中，至少兩個透鏡202可採用納米壓印技術製作：在基底層201上塗覆用於製作透鏡202的材料，採用納米壓印的方式形成至少兩個透鏡202。
在一些實施例中，至少兩個透鏡202還可採用熱熔法制作：在基底層201上鋪設用於製作透鏡202的材料，對用於製作透鏡202的材料進行光刻，將光刻後剩餘的部分進行加熱，在表面張力的作用下形成透鏡的形狀，冷卻後形成該至少兩個透鏡202。
參考圖17，圖17是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的抗反射層的另一剖面結構示意圖，在一些實施例中，S203中，在至少兩個透鏡表面形成抗反射層，可以包括：
在至少兩個透鏡表面，沉積抗反射材料，形成抗反射層203。
具體地，可採用PVD（物理氣相沉積）技術沉積該抗反射材料。
在一些實施例中，遮光部可以通過刻蝕、壓印、噴墨、絲網印刷等方式形成，以下以刻蝕為例，對遮光部的形成做具體說明。
參考圖18至圖20，圖18是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成遮光部的另一流程示意圖，圖19是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光層的另一剖面結構示意圖，圖20是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光部的另一剖面結構示意圖，在一些實施例中，S204中，形成遮光部，包括：
S2041，在抗反射層203表面，塗覆遮光材料，形成遮光層204；
S2042，對遮光層204進行刻蝕，保留至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間的部分，形成遮光部205。
其中，遮光材料可以為BM油墨。
在一些實施例中，各個遮光部205的遮光材料可以相同也可以不同。
在一些實施例中，形成的遮光部的高度為消除至少兩個透鏡中的相鄰透鏡交界處的雜散光。
參考圖21，圖21是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成覆蓋層的流程示意圖，在一些實施例中，S204，在抗反射層表面，至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部之後，還可以包括：
S205，在抗反射層203以及遮光部205表面，形成覆蓋層206（如平坦層）。
在一些實施例中，
製作基底層，可以包括：採用具有第一折射率的材料製作基底層，
形成覆蓋層，可以包括：採用具有第二折射率的材料形成覆蓋層；
其中，第一折射率大於第二折射率。
參考圖22，圖22是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的覆蓋層的剖面結構示意圖，在一些實施例中，S205中，在抗反射層203以及遮光部205表面，形成覆蓋層206，包括：
在抗反射層203以及遮光部205表面，塗覆具有第二折射率的材料，形成覆蓋層206。
在一些實施例中，形成的至少兩個透鏡包括柱狀透鏡和球面透鏡中的至少一種。
在一些實施例中，參考圖23和圖24，圖23是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的柱狀透鏡的排列方式示意圖，圖24是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的柱狀透鏡的另一排列方式示意圖，透鏡202包括柱狀透鏡2021；
在基板201上形成至少兩個透鏡包括：
將柱狀透鏡2021中的部分或全部呈平行分佈在基板上。
在一些實施例中，參考圖25和圖26，圖25是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的球面透鏡的排列方式示意圖，圖26是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的球面透鏡的另一排列方式示意圖；透鏡202包括球面透鏡2022；
在基板201上形成至少兩個透鏡包括：
將球面透鏡2022中的部分或全部呈陣列排佈在基板上。
參考圖27，圖27是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的柱狀透鏡和球面透鏡的排列方式示意圖，在基板401上形成至少兩個透鏡包括柱狀透鏡2021和球面透鏡2022。
在一些實施例中，多個柱狀透鏡2021可以是柱狀凹透鏡，也可以是柱狀凸透鏡，也可以是柱狀凸透鏡和柱狀凹透鏡的組合。多個球面透鏡2022可以是球面凹透鏡，也可以是球面凸透鏡，還可以是球面凹透鏡和球面凸透鏡的組合。此外，多個透鏡還可以是柱狀凸透鏡和球面凸透鏡的組合、柱狀凸透鏡和球面凹透鏡的組合、柱狀凹透鏡和球面凹透鏡的組合，柱狀凹透鏡和球面凸透鏡的組合。透鏡202的數量、類型根據實際需求設置。
在一些實施例中，無論透鏡包括柱狀透鏡、球面透鏡還是具有其他形狀，透鏡的表面的至少一條曲線在宏觀上可以是圓形或非圓形，例如：橢圓形、雙曲線形、拋物線形，等。可選地，透鏡的表面的至少一條曲線在微觀上可以呈多邊形等非圓形的形狀。可選地，可以根據工藝需求等實際情況確定透鏡的形狀，例如：透鏡的表面的形狀。
子像素發出的光線經過基底層到達透鏡，再經透鏡界面出射，相鄰透鏡之間畸變區域産生的雜散光通過遮光部遮擋，抗反射層的設置，能夠有效減少透鏡界面反射引起的雜散光，從而提高3D圖像的質量。
以上描述和圖式充分地示出了本公開的實施例，以使本領域技術人員能夠實踐它們。其他實施例可以包括結構的、邏輯的、電氣的、過程的以及其他的改變。實施例僅代表可能的變化。除非明確要求，否則單獨的部件和功能是可選的，並且操作的順序可以變化。一些實施例的部分和特徵可以被包括在或替換其他實施例的部分和特徵。本公開實施例的範圍包括申請專利範圍的整個範圍，以及申請專利範圍的所有可獲得的等同物。當用於本申請中時，雖然術語“第一”、“第二”等可能會在本申請中使用以描述各元件，但這些元件不應受到這些術語的限制。這些術語僅用於將一個元件與另一個元件區別開。比如，在不改變描述的含義的情況下，第一元件可以叫做第二元件，並且同樣地，第二元件可以叫做第一元件，只要所有出現的“第一元件”一致重命名並且所有出現的“第二元件”一致重命名即可。第一元件和第二元件都是元件，但可以不是相同的元件。而且，本申請中使用的用詞僅用於描述實施例並且不用於限制申請專利範圍。如在實施例以及申請專利範圍的描述中使用的，除非上下文清楚地表明，否則單數形式的“一個”（a）、“一個”（an）和“所述”（the）旨在同樣包括複數形式。類似地，如在本申請中所使用的術語“和/或”是指包含一個或一個以上相關聯的列出的任何以及所有可能的組合。另外，當用於本申請中時，術語“包括”（comprise）及其變型“包括”（comprises）和/或包括（comprising）等指陳述的特徵、整體、步驟、操作、元素，和/或組件的存在，但不排除一個或一個以上其它特徵、整體、步驟、操作、元素、組件和/或這些的分組的存在或添加。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個…”限定的要素，並不排除在包括該要素的過程、方法或者設備中還存在另外的相同要素。本文中，每個實施例重點說明的可以是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分可以互相參見。對於實施例公開的方法、産品等而言，如果其與實施例公開的方法部分相對應，那麽相關之處可以參見方法部分的描述。
本領域技術人員可以意識到，結合本文中所公開的實施例描述的各示例的單元及算法步驟，能夠以電子硬件、或者計算機軟件和電子硬件的結合來實現。這些功能究竟以硬件還是軟件方式來執行，可以取決於技術方案的特定應用和設計約束條件。本領域技術人員可以對每個特定的應用來使用不同方法以實現所描述的功能，但是這種實現不應認為超出本公開實施例的範圍。本領域技術人員可以清楚地瞭解到，為描述的方便和簡潔，上述描述的系統、裝置和單元的工作過程，可以參考前述方法實施例中的對應過程，在此不再贅述。
本文所披露的實施例中，所揭露的方法、産品（包括但不限於裝置、設備等），可以通過其它的方式實現。例如，以上所描述的裝置實施例僅僅是示意性的，例如，單元的劃分，可以僅僅為一種邏輯功能劃分，實際實現時可以有另外的劃分方式，例如多個單元或組件可以結合或者可以集成到另一個系統，或一些特徵可以忽略，或不執行。另外，所顯示或討論的相互之間的耦合或直接耦合或通信連接可以是通過一些接口，裝置或單元的間接耦合或通信連接，可以是電性，機械或其它的形式。作為分離部件說明的單元可以是或者也可以不是物理上分開的，作為單元顯示的部件可以是或者也可以不是物理單元，即可以位於一個地方，或者也可以分佈到多個網絡單元上。可以根據實際的需要選擇其中的部分或者全部單元來實現本實施例。另外，在本公開實施例中的各功能單元可以集成在一個處理單元中，也可以是各個單元單獨物理存在，也可以兩個或兩個以上單元集成在一個單元中。
101:基底層 102:透鏡 103:遮光層 104:遮光部 105:抗反射層 106:覆蓋層 201:基底層 202:透鏡 203:抗反射層 204:遮光層 205:遮光部 206:覆蓋層 2021:柱狀透鏡 2022:球面透鏡
一個或多個實施例通過與之對應的圖式進行示例性說明，這些示例性說明和圖式並不構成對實施例的限定，圖式中具有相同參考數字標號的元件示為類似的元件，圖式不構成比例限制，並且其中：
圖1是本公開實施例提供的透鏡光柵的製作方法的流程示意圖；
圖2是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時製作的基底層的剖面結構示意圖；
圖3是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的透鏡的剖面結構示意圖；
圖4是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡的剖面結構示意圖；
圖5是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡和凸透鏡的剖面結構示意圖；
圖6是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成遮光部的流程示意圖；
圖7是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光層的剖面結構示意圖；
圖8是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光部的剖面結構示意圖；
圖9是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的抗反射層的剖面結構示意圖；
圖10是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成覆蓋層的流程示意圖；
圖11是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的覆蓋層的剖面結構示意圖；
圖12是本公開實施例提供的透鏡光柵的製作方法的另一流程示意圖；
圖13是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時製作的基底層的另一剖面結構示意圖；
圖14是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的透鏡的另一剖面結構示意圖；
圖15是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡的另一剖面結構示意圖；
圖16是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的凹透鏡和凸透鏡的另一剖面結構示意圖；
圖17是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的抗反射層的另一剖面結構示意圖；
圖18是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成遮光部的另一流程示意圖；
圖19是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光層的另一剖面結構示意圖；
圖20是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的遮光部的另一剖面結構示意圖；
圖21是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成覆蓋層的流程示意圖；
圖22是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的覆蓋層的剖面結構示意圖；
圖23是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的柱狀透鏡的排列方式示意圖；
圖24是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的柱狀透鏡的另一排列方式示意圖；
圖25是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的球面透鏡的排列方式示意圖；
圖26是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的球面透鏡的另一排列方式示意圖；
圖27是本公開實施例提供的製作透鏡光柵時形成的柱狀透鏡和球面透鏡的排列方式示意圖。

Claims (16)

  1. 一種透鏡光柵的製作方法，包括： 製作基底層； 在所述基底層的一面形成至少兩個透鏡； 在所述至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部； 在所述至少兩個透鏡表面形成抗反射層。
  2. 如請求項1所述的透鏡光柵的製作方法，其中，在所述至少兩個透鏡表面形成抗反射層，包括： 在所述至少兩個透鏡表面，沉積抗反射材料，形成所述抗反射層。
  3. 如請求項1所述的透鏡光柵的製作方法，其中，形成的所述遮光部的高度為消除所述至少兩個透鏡中的相鄰透鏡的交界處的雜散光。
  4. 如請求項1所述的透鏡光柵的製作方法，其中，在所述至少兩個透鏡表面形成抗反射層之後，還包括： 在所述抗反射層表面形成覆蓋層。
  5. 如請求項4所述的透鏡光柵的製作方法，其中， 製作基底層，包括：採用具有第一折射率的材料製作所述基底層； 形成覆蓋層，包括：採用具有第二折射率的材料形成所述覆蓋層； 所述第一折射率大於所述第二折射率。
  6. 如請求項5所述的透鏡光柵的製作方法，其中，在所述抗反射層表面形成覆蓋層，包括： 在所述抗反射層表面，塗覆具有所述第二折射率的材料，形成所述覆蓋層。
  7. 如請求項1至6中任一項所述的透鏡光柵的製作方法，其中，形成的所述至少兩個透鏡包括凹透鏡和凸透鏡中的至少一種。
  8. 如請求項1至6中任一項所述的透鏡光柵的製作方法，其中，形成的所述至少兩個透鏡包括柱狀透鏡和球面透鏡中的至少一種。
  9. 一種透鏡光柵的製作方法，包括： 製作基底層； 在所述基底層的一面形成至少兩個透鏡； 在所述至少兩個透鏡表面形成抗反射層； 在所述抗反射層表面，至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部。
  10. 如請求項9所述的透鏡光柵的製作方法，其中，在所述至少兩個透鏡表面形成抗反射層，包括： 在所述至少兩個透鏡表面，沉積抗反射材料，形成所述抗反射層。
  11. 如請求項9或10所述的透鏡光柵的製作方法，其中，形成的所述遮光部的高度為消除所述至少兩個透鏡中的相鄰透鏡交界處的雜散光。
  12. 如請求項9所述的透鏡光柵的製作方法，其中，在所述抗反射層表面，至少兩個透鏡中的相鄰透鏡之間，形成遮光部之後，還包括： 在所述抗反射層以及遮光部表面，形成覆蓋層。
  13. 如請求項12所述的透鏡光柵的製作方法，其中， 製作基底層，包括：採用具有第一折射率的材料製作所述基底層； 形成覆蓋層，包括：採用具有第二折射率的材料形成所述覆蓋層； 其中，所述第一折射率大於所述第二折射率。
  14. 如請求項13所述的透鏡光柵的製作方法，其中，在所述抗反射層以及遮光部表面，形成覆蓋層，包括： 在所述抗反射層以及遮光部表面，塗覆具有所述第二折射率的材料，形成所述覆蓋層。
  15. 如請求項9至14中任一項所述的透鏡光柵的製作方法，其中，形成的所述至少兩個透鏡包括凹透鏡和凸透鏡中的至少一種。
  16. 如請求項9至14中任一項所述的透鏡光柵的製作方法，其中，形成的所述至少兩個透鏡包括柱狀透鏡和球面透鏡中的至少一種。
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