TW202143370A - 清洗機 - Google Patents

Abstract

一種清洗機，用於對半導體設備中管狀件進行清洗。清洗機包括腔室本體、清洗平臺、第一清洗組件、第二清洗組件和驅動組件；其中，腔室本體具有清洗腔；清洗平臺可活動地設置於清洗腔內並用於夾持管狀件，管狀件的開口端朝向清洗平臺；第一清洗組件設置於清洗腔內，且與腔室本體相連接，第一清洗組件用於對該管狀件外壁進行清洗；驅動組件與清洗平臺連接，驅動組件驅動清洗平臺繞清洗平臺的軸線轉動；第二清洗組件可穿過管狀件的開口端伸至管狀件內，且可沿清洗平臺的軸線移動，且能夠移動至靠近管狀件的封閉端，用於對該管狀件的內壁進行清洗。

Description

清洗機

本發明涉及半導體芯片製造技術領域，尤其涉及一種清洗機。

矽片在進行擴散、氧化等處理製程時常採用石英管等管狀件為載體，管狀件在長期的擴散製程中會附著一些擴散微粒，從而導致管狀件結垢，而擴散製程對管狀件的潔淨度的要求非常嚴格，不允許管狀件的管壁有其他金屬雜質或離子存在。管狀件的潔淨度直接影響矽片的良品率，因此，管狀件的清洗極為重要。

相關技術中，管狀件通過清洗機對其進行清洗。管狀件用清洗機包括腔室本體以及佈置於腔室本體內的清洗噴頭，清洗噴頭將清洗藥液噴淋到管狀件上，從而對管狀件上的雜質進行處理。

然而，由於清洗機的清洗藥液管路多為折彎結構，清洗藥液在管內流動時降低了清洗藥液的流動速率，從而導致清洗噴頭噴出的清洗藥液壓力較小，無法將清洗藥液噴到管狀件內的顶壁上，從而使得管狀件內的顶壁有雜質殘留，進而使得清洗機的清洗效果較差。

本發明公開一種清洗機，以解決清洗機的清洗效果較差的問題。

為了解決上述問題，本發明採用下述技術方案：

一種清洗機，用於對半導體設備中管狀件進行清洗，該清洗機包括腔室本體、清洗平臺、第一清洗組件、第二清洗組件和驅動組件；其中，該腔室本體具有清洗腔；該清洗平臺可活動地設置於該清洗腔內，該清洗平臺用於夾持該管狀件，該管狀件的開口端朝向該清洗平臺；該第一清洗組件設置於該清洗腔內，且與該腔室本體相連接，該第一清洗組件用於對該管狀件外壁進行清洗； 該驅動組件與該清洗平臺連接，該驅動組件驅動該清洗平臺繞該清洗平臺的軸線轉動；該第二清洗組件可穿過該管狀件的開口端伸至該管狀件內，能夠沿該清洗平臺的軸線移動，且能夠移動至靠近該管狀件的封閉端，用於對該管狀件的內壁進行清洗。

本發明採用的技術方案能夠達到以下有益效果：本發明公開的清洗機中，管狀件夾持於清洗平臺上，第二清洗組件可穿過管狀件的開口端伸至管狀件內，驅動組件驅動清洗平臺繞清洗平臺的軸線轉動，且第二清洗組件可沿著清洗平臺的軸線沿靠近管狀件的封閉端的方向移動，此方案中，當第二清洗組件沿著靠近管狀件的封閉端的方向移動時，第二清洗組件與管狀件的封閉端的距離逐漸縮短，使得第二清洗組件的清洗藥液噴淋口的位置距離管狀件的封閉端較近，清洗藥液噴到管狀件的封閉端的所需的壓力較小，使得清洗藥液可以很容易的噴到管狀件的封閉端上，從而使得管狀件的封閉端的內壁上不容易殘留雜質。

另外，驅動組件驅動清洗平臺轉動，管狀件隨著清洗平臺的轉動而自轉，第一清洗組件可以將清洗藥液噴淋到管狀件的外表面，由於管狀件隨著清洗平臺自轉，從而使得石英管等管狀件的外表面均能與清洗藥液相接觸，不容易出現清洗不到的死角位置，進而提高了清洗機的清洗性能。

以下揭露提供用於實施本揭露之不同構件之許多不同實施例或實例。下文描述組件及配置之特定實例以簡化本揭露。當然，此等僅為實例且非意欲限制。舉例而言，在以下描述中之一第一構件形成於一第二構件上方或上可包含其中該第一構件及該第二構件經形成為直接接觸之實施例，且亦可包含其中額外構件可形成在該第一構件與該第二構件之間，使得該第一構件及該第二構件可不直接接觸之實施例。另外，本揭露可在各個實例中重複參考數字及/或字母。此重複出於簡化及清楚之目的且本身不指示所論述之各個實施例及/或組態之間的關係。

此外，為便於描述，諸如「下面」、「下方」、「下」、「上方」、「上」及類似者之空間相對術語可在本文中用於描述一個元件或構件與另一(些)元件或構件之關係，如圖中圖解說明。空間相對術語意欲涵蓋除在圖中描繪之定向以外之使用或操作中之裝置之不同定向。設備可以其他方式定向(旋轉90度或按其他定向)且因此可同樣解釋本文中使用之空間相對描述詞。

儘管陳述本揭露之寬泛範疇之數值範圍及參數係近似值，然儘可能精確地報告特定實例中陳述之數值。然而，任何數值固有地含有必然由於見於各自測試量測中之標準偏差所致之某些誤差。再者，如本文中使用，術語「大約」通常意謂在一給定值或範圍之10%、5%、1%或0.5%內。替代地，術語「大約」意謂在由此項技術之一般技術者考量時處於平均值之一可接受標準誤差內。除在操作/工作實例中以外，或除非以其他方式明確指定，否則諸如針對本文中揭露之材料之數量、時間之持續時間、溫度、操作條件、數量之比率及其類似者之全部數值範圍、數量、值及百分比應被理解為在全部例項中由術語「大約」修飾。相應地，除非相反地指示，否則本揭露及隨附發明申請專利範圍中陳述之數值參數係可根據需要變化之近似值。至少，應至少鑑於所報告有效數位之數目且藉由應用普通捨入技術解釋各數值參數。範圍可在本文中表達為從一個端點至另一端點或在兩個端點之間。本文中揭露之全部範圍包含端點，除非另有指定。

以下結合附圖，詳細說明本發明各個實施例公開的技術方案。

如圖1~圖8所示，本發明實施例公開一種清洗機，其用於對半導體設備中管狀件600進行清洗。該清洗機包括腔室本體100、清洗平臺200、第一清洗組件300、第二清洗組件400和驅動組件。

腔室本體100具有清洗腔110，管狀件600在清洗腔110內進行清洗處理。清洗平臺200可活動地設置於清洗腔110內，清洗平臺200用於夾持管狀件600，從而可以對管狀件600進行固定。管狀件600的開口端朝向清洗平臺200，清洗平臺200夾持在管狀件600的開口端的外側壁上。

第一清洗組件300和第二清洗組件400均設置於清洗腔110內，第一清洗組件300與腔室本體100相連接，第一清洗組件300用於對管狀件600外壁進行清洗。

驅動組件與清洗平臺200連接，驅動組件驅動清洗平臺200繞清洗平臺200的軸線轉動。此時，清洗平臺200轉動帶動管狀件600轉動。

第二清洗組件400可穿過管狀件600的開口端伸至管狀件600內，第二清洗組件400可沿清洗平臺200的軸線移動，且能夠移動至靠近管狀件600的封閉端，以對該管狀件600內壁進行清洗。

具體的操作過程中，驅動組件可以設置有兩個驅動源，其中一個驅動源驅動清洗平臺200轉動，另一個驅動源驅動第二清洗組件400朝向靠近管狀件600的封閉端的方向移動，此時，清洗平臺200和第二清洗組件400單獨驅動。或者，第二清洗組件400的一端與腔室本體100相連接，另一端貫穿清洗平臺200伸入管狀件600內。此時，驅動組件驅動清洗平臺200轉動，同時，驅動清洗平臺200移動，即可以實現第二清洗組件400相對于管狀件600的移動。再或者，第二清洗組件400可以設置於驅動組件，清洗平臺200相對於第二清洗組件400移動。驅動組件可以為驅動電機、氣缸等動力結構，當然驅動組件還可以為其他動力結構，本文對此不作限制。

本發明公開的實施例中，當第二清洗組件400朝向靠近管狀件600的封閉端的方向移動時，第二清洗組件400與管狀件600的封閉端的距離逐漸縮短，使得第二清洗組件400的清洗藥液噴淋口的位置距離管狀件600的封閉端較近，清洗藥液噴淋到管狀件600的封閉端的所需的壓力較小，進而使得清洗藥液可以很容易的噴到管狀件600的封閉端上，從而使得管狀件600的封閉端的內壁上不容易殘留雜質，進而使得管狀件600的清洗效果較好。

另外，驅動組件驅動清洗平臺200轉動，管狀件600隨著清洗平臺200的轉動而自轉，第一清洗組件300可以將清洗藥液噴淋到管狀件600的外表面，由於管狀件600隨著清洗平臺200自轉，從而使得管狀件600的外表面均能與清洗藥液相接觸，不容易出現清洗不到的死角位置，進而提高了石英管用清洗機的清洗性能。

管狀件600可以包括石英管等管狀，並需要對內壁及外周壁進行清洗的清洗件。

管狀件600的尺寸規格有多種，為了使得清洗機能夠兼容多個尺寸的管狀件600，另一種可選的實施例中，清洗平臺200可以包括支撐台210和多個夾持部220，多個夾持部220可以設置於支撐台210，支撐台210用於固定夾持部220。支撐台210具有至少兩個安裝位置，多個夾持部220設置於每個安裝位置時，多個夾持部220形成的用於夾持管狀件600的夾持空間的徑向寬度不同。此方案中，通過調節夾持部在支撐台的安裝位置，可以形成多種徑向寬度的夾持空間，從而能夠夾持不同尺寸規格的管狀件600，進而提高了清洗機的兼容性。例如，在多個夾持部220設置於一個安裝位置時，多個夾持部220形成的夾持空間，可以夾持8寸管狀件；在多個夾持部220設置於另一個安裝位置時，多個夾持部220形成的夾持空間，可以夾持 12寸管狀件。

可選的，支撐台210和夾持部220可以採用卡接、螺紋連接和磁吸等方式，從而可以實現支撐台210和夾持部220可拆卸連接，從而可以使得夾持部220形成多個夾持空間。安裝位置的數量可以根據實際工況進行靈活設置，本文對此不作限制。支撐台210可以採用聚氯乙烯材料製作，夾持部220可以採用聚四氟乙烯等材料製作。

一種可選的實施例中，多個夾持部220可以間隔設置，支撐台210可以開設有滑動凹槽213，夾持部220與滑動凹槽213滑動配合，以使夾持部220可以在任一兩個安裝位置之間移動。

此方案中，滑動凹槽213能夠限制夾持部220的滑動方向，從而使得多個夾持部220形成的夾持空間的定位精准，進而使得管狀件600能夠夾持地更加穩定。同時，夾持部220可以在滑動凹槽213內連續滑動，因此可以形成線性的夾持空間，從而能夠兼容更多尺寸規格的管狀件600。

可選地，滑動凹槽213可以是T型槽，也可以是燕尾槽，夾持部220上可以設置有與滑動凹槽213相配合的T型凸起或者燕尾型凸起，此時，T型凸起能夠卡接在T型槽內，或者燕尾型凸起能夠卡接在燕尾槽內，從而使得夾持部220在滑動凹槽213內滑動時，不容易從滑動凹槽213內滑出。

上述實施例中，夾持部220和支撐台210可以採用卡接的方式固定，但是在長時間高頻次的拆卸過程中，夾持部220或者支撐台210上的卡勾容易斷裂。為此，另一種可選的實施例中，清洗平臺200還可以包括螺紋連接件，夾持部220可以包括主體部221和操作手柄222，主體部221的至少部分位於滑動凹槽213內，操作手柄222與主體部221相連接，主體部221開設有連接孔221a，當夾持部220處於任一安裝位置時，夾持部220和支撐台210可以通過螺紋連接件和連接孔221a連接。此方案中，夾持部220需要移動時，旋擰螺紋連接件，使得夾持部220和支撐台210可相對移動；當夾持部220移動任一安裝位置時，再次旋擰螺紋連接件，將夾持部220固定在支撐台210上，此時，螺紋連接件受力較小，從而不容易斷裂，進而使得清洗平臺200的安全性較高。

另外，夾持部220設置有操作手柄222，從而方便操作人員握持，進而使得夾持部220的移動更加方便。

另一種可選的實施例中，主體部221可以設置有夾持凸起221b和承載凸起221c，夾持凸起221b用於夾持管狀件600，承載凸起221c用於支撐管狀件600。此時，管狀件600的載重均作用於夾持部220上，從而使得夾持部220受力更加均衡，進而使得管狀件600被夾持的更加穩定。同時，承載凸起221c設置於夾持部220，支撐台210無需設置用於承載管狀件600的部件，從而使得支撐台210的結構更加簡單。

上述實施例中，清洗藥液容易聚集在清洗平臺200上，從而容易腐蝕清洗平臺200，為此，一種可選的實施例中，支撐台210可以開設有多個導流孔214，多個導流孔214可以間隔設置。此方案中，清洗藥液流到支撐台210上，再通過支撐台210上開設的導流孔214流到清洗腔110中，從而使得清洗藥液不容易在清洗平臺200上聚集，進而使得清洗平臺200不容易被腐蝕。

上述實施例中，驅動組件可以設置有兩個驅動源，其中一個驅動源可以驅動清洗平臺200轉動，另一個驅動源可以驅動第二清洗組件400沿靠近管狀件600的封閉端的方向移動，此時，清洗平臺200和第二清洗組件400單獨驅動。然而此種方式結構較為複雜。

為此，一種可選的實施例中，驅動組件可以包括驅動源510和驅動軸520，驅動源510可以設置於腔室本體100外，清洗平臺200開設有螺紋孔215，驅動軸520的第一端與驅動源510相連接，驅動軸520的第二端自清洗平臺200的底面通過螺紋孔215貫穿至清洗平臺200的頂面，第二清洗組件400位於驅動軸520的第二端，驅動軸520的部分可伸至管狀件600內，驅動軸520的側壁設置有螺紋結構521，該螺紋結構521和螺紋孔215的螺紋均為傳動螺紋。螺紋結構521與螺紋孔215螺紋連接，驅動源510驅動驅動軸520轉動，清洗平臺200可隨驅動軸520的轉動沿驅動軸520的軸線方向移動。

具體地操作過程中，驅動源510驅動驅動軸520轉動，驅動軸520上的螺紋結構521為清洗平臺200施加徑向力，從而使得清洗平臺200沿著螺紋結構521作螺旋運動。當驅動源510朝向一個方向轉動時，清洗平臺200沿靠近驅動軸520的第二端的方向移動；當驅動源510朝向相反的方向轉動時，清洗平臺200沿遠離驅動軸520的第二端的方向移動。

可選地，驅動軸520的螺紋結構521和螺紋孔215的螺紋可以為梯形螺紋，當然也可以為其他傳動螺紋，本文對此不作限制。

此方案中，驅動源510僅通過驅動驅動軸520轉動，既可以實現清洗平臺200的轉動，又可以實現清洗平臺200的移動，從而使得驅動源510可以僅設置一個，驅動組件的運動形式簡單，進而使驅動組件的結構簡單。

可選地，當清洗平臺200可以包括支撐台210時，螺紋孔215可以開設於支撐台210上，驅動軸520的第二端自支撐台210的底面通過螺紋孔215貫穿至支撐台210的頂面。

上述實施例中，清洗平臺200的厚度較小，因此容易造成螺紋結構521與螺紋孔215之間的旋合長度較短，從而使得驅動軸520與清洗平臺200之間的螺紋傳動的可靠性較低。為此，一種可選的實施例中，清洗平臺200沿螺紋孔215的邊緣可以延伸有凸起部230，凸起部230位於清洗平臺200的頂面，螺紋孔215可以貫穿於凸起部230，凸起部230可以環設於驅動軸520，凸起部230可以與驅動軸520的螺紋結構521螺紋連接。此方案加長了螺紋孔215與螺紋結構521之間的旋合距離，從而使得驅動軸520與清洗平臺200之間的螺紋傳動的可靠性較高。

上述實施例中，當清洗平臺200超出其移動行程時，容易使得清洗平臺200從驅動軸520的第二端脫離，從而使得清洗機的安全性較低。一種可選的實施例中，驅動軸520的側壁可以設置有第一限位凸起522，第一限位凸起522可以位於螺紋結構521靠近驅動軸520的第二端的邊緣，驅動軸520與清洗平臺200通過第一限位凸起522在清洗平臺200的軸線方向限位配合，此時，第一限位凸起522能夠限定清洗平臺200的移動距離，當第一限位凸起522與清洗平臺200相接觸時，第一限位凸起522能夠阻止清洗平臺200移動，從而防止清洗平臺200從驅動軸520的第二端脫離，進而提高了清洗機的安全性。

上述實施例中，當清洗平臺200沿遠離驅動軸520的第二端的方向移動時，驅動軸520的螺紋結構521容易從螺紋孔215中脫離，進而使得螺紋結構521與螺紋孔215的螺紋配合失效。另一種實施例中，驅動軸520的側壁還可以設置有第二限位凸起523，第二限位凸起523可以位於螺紋結構521靠近驅動軸520的第一端的邊緣，驅動軸520與清洗平臺200通過第二限位凸起523在清洗平臺200的軸線方向限位配合。此方案能夠防止螺紋結構521從螺紋孔215中脫離，進而使得螺紋結構521與螺紋孔215螺紋連接的可靠性較高，進而提高了清洗機的可靠性。

另一種可選的實施例中，驅動組件還可以包括安裝基座530，安裝基座530可以設置於腔室本體100的外壁，安裝基座530可以開設有第一安裝孔531，驅動軸520的第一端位於第一安裝孔531內，驅動源510可以設置於腔室本體100外。此時，驅動源510可以設置於腔室本體100之外，從而能夠防止驅動源510被清洗藥液腐蝕。

由於腔室本體100的壁厚較薄，因此安裝基座530安裝於腔室本體100的外壁上可能造成腔室本體100變形，為此，腔室本體100側壁上可以設置有安裝盤，安裝基座530設置於安裝盤上，從而使得腔室本體100與安裝基座530的連接處的壁厚較大，因此不容易造成腔室本體100變形。

驅動源510輸出的轉速較大，從而使得驅動軸520的轉速較大，進而使得清洗平臺200的升降速率較快，從而容易造成清洗藥液與管狀件600接觸不充分。一種可選的實施例中，驅動組件還可以包括第一傳動輪540、第二傳動輪550、傳送帶560和連接軸570，驅動源510與第一傳動輪540傳動相連，第一傳動輪540通過傳送帶560與第二傳動輪550傳動相連，第一傳動輪540的直徑小於第二傳動輪550的直徑。

連接軸570的一端與第二傳動輪550傳動相連，連接軸570的另一端與驅動軸520的第一端傳動相連。此方案中，第一傳動輪540的直徑小於第二傳動輪550的直徑，從而使得第二傳動輪550的轉速小於第一傳動輪540轉速，進而使得傳遞到驅動軸520的轉速較小，進而使得清洗平臺200的升降速率較小，使得清洗藥液與管狀件600接觸較充分，管狀件600的清洗效果較好。

可選地，清洗平臺200的升降速率與驅動軸520的轉速和螺紋結構521的螺距共同決定，驅動軸520的轉速可以為5r/min，螺紋結構521的螺距可以為10mm，清洗平臺200的升降速率可以為50mm/min。驅動軸520和連接軸570可以採用十字滑塊聯軸器連接，連接軸570與第二傳動輪550通過鍵連接的方式連接。

另一種可選的實施例中，驅動組件還可以包括軸承580，安裝基座530還可以開設有第二安裝孔532，軸承580可以位於第二安裝孔532內，軸承580套設於連接軸570。此方案中，軸承580用於支撐連接軸570的旋轉運動，從而使得連接軸570轉動平穩。

可選地，驅動組件還可以包括軸承襯片、軸承座和軸承端蓋，軸承襯片、軸承座和軸承端蓋將軸承580固定于第二安裝孔532內。

上述實施例中，清洗藥液容易從腔室本體100的側壁與安裝基座530的連接處洩露，為了防止清洗藥液洩露到腔室本體100之外。一種可選的實施例中，驅動組件還可以包括第一密封圈，第一密封圈可以環繞驅動軸520設置，腔室本體100可以通過第一密封圈與安裝基座530密封連接。此時，第一密封圈可以封堵腔室本體100和安裝基座530之間的間隙，從而能夠防止清洗藥液洩露到腔室本體100之外。

上述實施例中，第二清洗組件400上可以設置有藥液管路，清洗腔110內需要預留藥液管路的安裝空間，同時，藥液管路的佈局結構複雜，因此造成清洗機的結構設計較為困難。另一種可選的實施例中，驅動軸520可以開設有清洗藥液通道524，清洗藥液通道524可以具有進液口和出液口，進液口和出液口相連通，進液口位於第一安裝孔531內，出液口位於驅動軸520的第二端，出液口與第二清洗組件400相連通。此時，清洗藥液通道524可以進行清洗藥液的輸送，從而無需預留藥液管路的安裝空間，清洗藥液通道524直接開設於驅動軸520上，從而不容易造成清洗藥液通道524與驅動組件的其他部件發生干涉，進而使得清洗機的結構設計簡單。

另一種可選的實施例中，驅動組件還可以包括至少兩個第二密封圈，驅動軸520的外周面可以開設有至少兩個密封槽525，清洗藥液通道524的進液口設置於至少兩個密封槽525之間，至少兩個第二密封圈一一對應的設置於至少兩個密封槽525內，驅動軸520通過至少兩個第二密封圈與第一安裝孔531的側壁密封配合。此時，第二密封圈用於驅動軸520的動密封，第二密封圈能夠防止進液口處的清洗藥液洩露，從而提高了進液口處的密封性能。

為了進一步提高清洗機的清洗效果，一種可選的實施例中，第一清洗組件300的數量可以為至少兩個，至少兩個第一清洗組件300可以間隔設置，清洗平臺200可以設置於至少兩個第一清洗組件300之間。此方案中，第一清洗組件300的數量增加，使得管狀待清洗件600的外壁噴淋到的清洗藥液較多，進而使得管狀件600的清洗效果較好，另外，清洗平臺200可以設置於至少兩個第一清洗組件300之間，提高了清洗藥液的噴淋效率，進而提高了清洗機的清洗效率。

為了進一步改善清洗機的清洗效果，另一種可選的實施例中，第二清洗組件400可以包括第一噴頭410和第二噴頭420，第一噴頭410可以朝向管狀件600的內頂壁，第一噴頭410可以對管狀件600的內底壁進行清洗。第二噴頭420可以朝向管狀件600的內周壁，第二噴頭420可以對管狀件600的內周壁進行清洗。

此方案中，第二清洗組件400設置有兩個不同方位的噴頭，從而使得第二清洗組件400的清洗範圍較大，從而能夠減小管狀件600清洗不到的內壁的死角的面積，進而提高清洗機的清洗範圍。

管狀件600清洗完畢後，清洗腔110內殘留有大量的清洗藥液，進而容易腐腔室本體100，一種可選的實施例中，清洗機還可以包括第三清洗組件700，第三清洗組件700可以設置於腔室本體100的頂部。第三清洗組件700用於對管狀件600的外頂壁進行清洗。此方案中，第三清洗組件700設置於腔室本體100的頂部，第三清洗組件700噴淋的液體可以覆蓋整個反應腔，從而可以對反應腔內殘留的清洗藥液進行清洗，進而防止腔室本體100腐蝕。

基於本發明實施例公開的清洗機，本發明實施例公開一種清洗機的清洗操作方法，所公開的清洗操作方法應用于如上文所述的清洗機中，所公開的清洗操作方法包括：

步驟101、對管狀件600進行預清洗，第一清洗組件300和第二清洗組件400噴淋純水，從而對管狀件600附著在表面的微粒進行清洗。

步驟102、對管狀件600進行化學藥液清洗，第一清洗組件300和第二清洗組件400噴淋化學藥液，從而對管狀件600表面難溶于水的氧化層和微粒進行清洗。

步驟103、對管狀件600再次進行純水清洗，第一清洗組件300和第二清洗組件400再次噴淋純水，從而對殘留的化學藥液進行清洗。

步驟104、對管狀件600進行乾燥處理，第一清洗組件300和第二清洗組件400噴淋氮氣，對管狀件600表面的水珠進行吹掃，從而達到乾燥管狀件600的目的。

前述內容概括數項實施例之特徵，使得熟習此項技術者可更佳地理解本揭露之態樣。熟習此項技術者應瞭解，其等可容易地使用本揭露作為用於設計或修改用於實行本文中介紹之實施例之相同目的及/或達成相同優點之其他製程及結構之一基礎。熟習此項技術者亦應瞭解，此等等效構造不背離本揭露之精神及範疇，且其等可在不背離本揭露之精神及範疇之情況下在本文中作出各種改變、置換及更改。

100:腔室本體 110:清洗腔 200:清洗平臺 210:支撐台 213:滑動凹槽 214:導流孔 215:螺紋孔 220:夾持部 221:主體部 221a:連接孔 221b:夾持凸起 221c:承載凸起 222:操作手柄 230:凸起部 300:第一清洗組件 400:第二清洗組件 410:第一噴頭 420:第二噴頭 510:驅動源 520:驅動軸 521:螺紋結構 522:第一限位凸起 523:第二限位凸起 524:清洗藥液通道 525:密封槽 530:安裝基座 531:第一安裝孔 532:第二安裝孔 540:第一傳動輪 550:第二傳動輪 560:傳送帶 570:連接軸 580:軸承 600-:管狀件 700-:第三清洗組件

當結合附圖閱讀時，從以下詳細描述最佳理解本揭露之態樣。應注意，根據產業中之標準實踐，各種構件未按比例繪製。事實上，為了論述的清楚起見可任意增大或減小各種構件之尺寸。 圖1為本發明實施例公開的清洗機的結構示意圖； 圖2為本發明實施例公開的清洗機的部分結構剖視圖； 圖3為本發明實施例公開的清洗機的清洗平臺的俯視圖； 圖4為本發明實施例公開的清洗機中支撐台的俯視圖； 圖5為本發明實施例公開的清洗機中支撐台的側視圖； 圖6為本發明實施例公開的清洗機中夾持部的剖視圖； 圖7為本發明實施例公開的清洗機中安裝基座的剖視圖； 圖8為本發明實施例公開的清洗機中驅動軸的示意圖。

100:腔室本體

110:清洗腔

200:清洗平臺

210:支撐台

220:夾持部

230:凸起部

300:第一清洗組件

400:第二清洗組件

410:第一噴頭

420:第二噴頭

510:驅動源

520:驅動軸

530:安裝基座

540:第一傳動輪

550:第二傳動輪

560:傳送帶

570:連接軸

580:軸承

600-:管狀件

700-:第三清洗組件

Claims (16)

1. 一種清洗機，用於對一半導體設備中一管狀件進行清洗，其中該清洗機包括一腔室本體、一清洗平臺、一第一清洗組件、一第二清洗組件和一驅動組件；其中， 該腔室本體具有一清洗腔； 該清洗平臺可活動地設置於該清洗腔內，該清洗平臺用於夾持該管狀件，該管狀件的一開口端朝向該清洗平臺； 該第一清洗組件設置於該清洗腔內，且與該腔室本體相連接，該第一清洗組件用於對該管狀件外壁進行清洗； 該驅動組件與該清洗平臺連接，該驅動組件驅動該清洗平臺繞該清洗平臺的軸線轉動； 該第二清洗組件穿過該管狀件的開口端伸至該管狀件內，能夠沿該清洗平臺的軸線移動，且能夠移動至靠近該管狀件的封閉端，用於對該管狀件的內壁進行清洗。
2. 如請求項1所述的清洗機，其中該清洗平臺包括一支撐台和多個夾持部，該多個夾持部設置於該支撐台，該支撐台具有至少兩個安裝位置，該多個夾持部設置於每個該安裝位置時，該多個夾持部形成的用於夾持該管狀件的夾持空間的徑向寬度不同。
3. 如請求項2所述的清洗機，其中該多個夾持部間隔設置，該支撐台開設有一滑動凹槽，該夾持部與該滑動凹槽滑動配合，以使該夾持部可在任一兩個該安裝位置之間移動。
4. 如請求項3所述的清洗機，其中該清洗平臺還包括一螺紋連接件，該夾持部包括一主體部和一操作手柄，該主體部的至少部分位於該滑動凹槽內，該操作手柄與該主體部相連接，該主體部開設有一連接孔，該夾持部處於任一該安裝位置時，該夾持部和該支撐台通過與該連接孔配合的該螺紋連接件連接，該主體部設置有一夾持凸起和一承載凸起，該夾持凸起用於夾持該管狀件該承載凸起用於支撐該管狀件。
5. 如請求項2所述的清洗機，其中該支撐台開設有多個導流孔，多個該導流孔間隔設置。
6. 如請求項1所述的清洗機，其中該驅動組件包括一驅動源和一驅動軸，該驅動源設置於該腔室本體外，該清洗平臺開設有一螺紋孔，該驅動軸的一第一端與該驅動源相連接，該驅動軸的一第二端自該清洗平臺的底面通過該螺紋孔貫穿至該清洗平臺的頂面且伸入該管狀件內，該第二清洗組件位於該驅動軸的該第二端，該驅動軸的側壁設置有一螺紋結構，該螺紋結構與該螺紋孔螺紋連接，該驅動源驅動該驅動軸轉動，該清洗平臺隨該驅動軸的轉動沿該驅動軸的軸線方向移動。
7. 如請求項6所述的清洗機，其中該清洗平臺沿該螺紋孔的邊緣延伸有一凸起部，該凸起部位於該清洗平臺的頂面，該螺紋孔貫穿於該凸起部，該凸起部環設於該驅動軸，該凸起部與該驅動軸的該螺紋結構螺紋連接。
8. 如請求項6所述的清洗機，其中該驅動軸的側壁設置有一第一限位凸起，該第一限位凸起位於該螺紋結構靠近該驅動軸的該第二端的邊緣，該驅動軸與該清洗平臺通過該第一限位凸起在該清洗平臺的軸線方向限位配合；和/或， 該驅動軸的側壁設置有一第二限位凸起，該第二限位凸起位於該螺紋結構靠近該驅動軸的該第一端的邊緣，該驅動軸與該清洗平臺通過該第二限位凸起在該清洗平臺的軸線方向限位配合。
9. 如請求項6所述的清洗機，其中該驅動組件還包括一安裝基座，該安裝基座設置於該腔室本體的外壁，該安裝基座開設有一第一安裝孔，該驅動軸的該第一端位於該第一安裝孔內，該驅動源設置於該腔室本體外。
10. 如請求項9所述的清洗機，其中該驅動組件還包括一第一傳動輪、一第二傳動輪、一傳送帶、一連接軸和一軸承，該驅動源與該第一傳動輪傳動相連，該第一傳動輪通過該傳送帶與該第二傳動輪傳動相連，該第一傳動輪的直徑小於該第二傳動輪的直徑； 該連接軸的一端與該第二傳動輪傳動相連，該連接軸的另一端與該驅動軸的該第一端傳動相連，該安裝基座還開設有一第二安裝孔，該軸承位於該第二安裝孔內，該軸承套設於該連接軸。
11. 如請求項9所述的清洗機，其中該驅動組件還包括一第一密封圈，該第一密封圈環繞該驅動軸設置，該腔室本體通過該第一密封圈與該安裝基座密封連接。
12. 如請求項9所述的清洗機，其中該驅動軸開設有一清洗藥液通道，該清洗藥液通道具有一進液口和一出液口，該進液口和該出液口相連通，該進液口位於該第一安裝孔內，該出液口位於該驅動軸的第二端，該出液口與該第二清洗組件相連通。
13. 如請求項12所述的清洗機，其中該驅動組件還包括至少兩個第二密封圈，該驅動軸的外周面開設有至少兩個密封槽，該進液口設置於該至少兩個密封槽之間，該至少兩個第二密封圈一一對應的設置於該至少兩個密封槽內，該驅動軸通過該至少兩個第二密封圈與該第一安裝孔的側壁密封配合。
14. 如請求項1所述的清洗機，其中該第一清洗組件的數量為至少兩個，所述的至少兩個第一清洗組件隔設置，該清洗平臺設置於所述的至少兩個第一清洗組件之間。
15. 如請求項1所述的清洗機，其中該第二清洗組件包括一第一噴頭和一第二噴頭，該第一噴頭朝向該管狀件的內頂壁，該第二噴頭朝向該管狀件的內周壁。
16. 如請求項1所述的清洗機，其中該清洗機還包括一第三清洗組件，該第三清洗組件設置於該腔室本體的頂部，該第三清洗組件用於對該管狀件的外頂壁進行清洗。

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