CN116727399A - 清洗腔室 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种清洗腔室，包括腔室本体、排风箱体、调节机构和排液装置；排风箱体位于腔室本体之外，且排风箱体与腔室本体相连通，排风箱体开设有与外界空间相连通的通孔；调节机构包括调节板，调节板可活动地位于排风箱体内，调节板用于调节排风箱体的排风量；其中，调节板设置于腔室本体和排风箱体的连通口与排风箱体与厂务排风端的连通口之间，且调节板朝向腔室本体与排风箱体的连通口的一侧倾斜向下设置；排液装置通过通孔与外界空间相连通，排液装置用于收集排风箱体内冷凝的液体，并将收集的液体通过通孔排至外界空间。上述方案能够解决清洗腔室的清洗效果较差的问题。
Description
本申请为2021年11月19日提交中国专利局、申请号为202111401304.5、申请名称为“清洗腔室”的中国专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及半导体清洗技术领域，尤其涉及一种清洗腔室。
背景技术
硅片在进行扩散、氧化等处理工艺时常采用石英管或石英舟等管状件为载体，管状件在长期的扩散工艺中会附着一些扩散微粒，从而导致管状件结垢，而扩散工艺对管状件的洁净度的要求非常严格，不允许管状件的管壁有其他金属杂质或离子存在。管状件的洁净度直接影响硅片的良品率，因此，管状件的清洗极为重要。
相关技术中，清洗腔室包括腔室本体和排风箱体，腔室本体和排风箱体相连通，排风箱体与厂务废气收集端相连通。管状件在腔室本体内进行清洗，清洗的过程中会产生酸雾。腔室本体和排风箱体相连通，能够使得腔室本体内处于负压状态，从而将酸雾抽出，以防止酸雾从腔室本体溢出。
然而，酸雾容易在排风箱体内冷凝，冷凝后的液体又返回到腔室本体内，容易造成腔室本体的二次污染，进而致使清洗腔室的清洗效果较差。
发明内容
本发明公开一种清洗腔室，以解决清洗腔室的清洗效果较差的问题。
为了解决上述问题，本发明采用下述技术方案：
一种清洗腔室，包括：
腔室本体；
排风箱体，所述排风箱体位于所述腔室本体之外，且所述排风箱体与所述腔室本体相连通，所述排风箱体开设有与外界空间相连通的通孔；
调节机构，所述调节机构包括调节板，所述调节板可活动地位于所述排风箱体内，所述调节板用于调节所述排风箱体的排风量；其中，所述调节板设置于所述腔室本体和所述排风箱体的连通口与所述排风箱体与厂务排风端的连通口之间，且所述调节板朝向所述腔室本体与所述排风箱体的连通口的一侧倾斜向下设置；
排液装置，所述排液装置通过所述通孔与所述外界空间相连通，所述排液装置用于收集所述排风箱体内冷凝的液体，并将收集的液体通过所述通孔排至所述外界空间。
本发明采用的技术方案能够达到以下有益效果：
本发明公开的清洗腔室中，排液装置通过通孔与外界空间相连通，排液装置用于收集排风箱体内的冷凝的液体，并将收集的液体通过通孔排至外界空间。此方案中，排风箱体内的液体通过排液装置排出到外界空间，而不是返回腔室本体内，因此不容易造成腔室本体的二次污染，进而提高了清洗腔室的清洗效果。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1为本发明实施例公开的清洗腔室的结构示意图；
图2为本发明实施例公开的清洗腔室的局部结构示意图；
图3为本发明实施例公开的清洗腔室的局部剖视图；
图4至图11为本发明实施例公开的清洗腔室的部分部件的结构示意图；
图12为本发明实施例公开的另一种清洗腔室的部分结构示意图；
图13为本发明实施例公开的另一种清洗腔室的调节机构的示意图。
附图标记说明：
100-腔室本体、110-第一开口、120-遮挡件、
200-排风箱体、202-第二开口、203-导向槽、210-倾斜侧板、220-顶板、221-排气口、230-底板、231-通孔、240-集液板、241-集液孔、250-排液管、260-防回流管、261-直管段、262-弧形管段、
300-调节机构、310-调节板、320-导轨组件、330-转动轴。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明具体实施例及相应的附图对本发明技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
以下结合附图，详细说明本发明各个实施例公开的技术方案。
如图1～图13所示，本发明实施例公开一种清洗腔室，该清洗腔室用于对石英管、石英舟等管状件进行清洗。所公开的清洗腔室包括腔室本体100、排风箱体200、调节机构300和排液装置。
腔室本体100提供清洗空间，石英管、石英舟等部件在腔室本体100内进行清洗操作。排风箱体200位于腔室本体100之外，且排风箱体200与腔室本体100相连通，排风箱体200开设有与外界空间相连通的通孔231。具体地，排风箱体200还与厂务排风端相连通，厂务排风端能够为腔室本体100和排风箱体200提供负压，从而使得腔室本体100内的酸雾能够吸入到排风箱体200内，并通过排风箱体200抽至厂务排风端进行收集和处理。
一种具体的方案中，腔室本体100开设有第一开口110。排风箱体200罩设第一开口110，排风箱体200与腔室本体100的部分外侧壁围成排风箱体200的内腔。腔室本体100通过第一开口110与排风箱体200相连通。
或者，在另一种方案中，腔室本体100和排风箱体200均具有独立的内腔，腔室本体100开设有开口，排风箱体200也开设有开口，腔室本体100的开口与排风箱体200的开口相连通，以使腔室本体100的内腔和排风箱体200内腔相连通。
调节机构300包括调节板310，调节板310可活动地位于排风箱体200内，调节板310用于调节排风箱体200的排风量。具体地，调节板310可以设置于腔室本体100和排风箱体200的连通口与排风箱体200与厂务排风端的连通口之间，通过调节调节板310覆盖排风箱体200的截面面积，从而对排风箱体200的排风量进行调节。或者，调节板310还可以设置于腔室本体100和排风箱体200的连通口处，通过调节调节板310覆盖腔室本体100和排风箱体200的连通口的面积。腔室本体100和排风箱体200的连通口就是上述的第一开口110。
再或者，调节板310可以设置于排风箱体200与厂务排风端的连通口处，通过调节调节板310覆盖排风箱体200与厂务排风端的连通口的面积。
排液装置通过通孔231与外界空间相连通，排液装置用于收集排风箱体200内冷凝的液体，并将收集的液体通过通孔231排至外界空间。此处的外界空间具体可以设置于腔室本体100和排风箱体200外部的废液收集装置。
本申请公开的实施例中，排风箱体200内的液体通过排液装置排出，而不是返回腔室本体100内，因此不容易造成腔室本体100的二次污染，进而提高了清洗腔室的清洗效果。
另外，通过调节调节板310在腔室本体100内的位置，以对排风箱体200的排风量进行调节，能够控制酸雾排出速率，以提高清洗腔室的清洗效率。
本申请实施例公开一种排液装置的具体结构，当然还可以采用其他结构，本文不作限制。具体地，排液装置可以包括集液板240和排液管250，集液板240和排液管250均可以位于排风箱体200内，集液板240可以用于收集排风箱体200内冷凝的液体，排液管250与集液板240连接，用于将集液板240收集的液体通过通孔231排至所述外界空间。
此方案中，集液板240能够收集冷凝后的液体，从而能够减少排风箱体200的内壁上附着的液体，进而能够避免冷凝后的液体从排风箱体200的侧壁流下，通过腔室本体100与排风箱体200的连通口进入腔室本体100内，因此进一步防止了腔室本体100的二次污染。
另外，收集后的冷凝的液体通过排液管250排出，液体在排液管250内流动，因此不容易造成液体的溅射，从而能够避免液体溅射入腔室本体100，因此进一步防止了腔室本体100的二次污染，提高了清洗腔室的清洗效果。
上述方案中，集液板240可以开设有集液孔241，排液管250的一端可以与排液孔相连通，排液管250的另一端可以与通孔231相连通。
进一步地，集液板240可以位于调节板310的下方，此时，调节板310上附着的液体掉落至集液板240上，从而能够对调节板310上冷凝的液体进行收集，另外，集液板240可以位于调节板310的下方，集液板240也不会占用调节板310上方的空间，从而不容易对调节板310的排风量造成影响，也不容易与调节板310发生干涉。
可选地，集液板240可以位于腔室本体100与排风箱体200的连通口的下方，或与腔室本体100与排风箱体200的连通口的下侧边缘相平齐的位置上。
上述实施例中，通孔231可以设置于排风箱体200的侧壁上，此时，通孔231位于排风箱体200的底板230的上方，因此排风箱体200的底板230上液体难以排出。
基于此，在另一种可选的实施例中，排液管250可以设置于集液板240和排风箱体200的底板230之间，通孔231可以开设于底板230上。此方案中，通孔231开设于底板230上，便于底板230上的液体排出，从而能够避免液体聚集后再次汽化倒流回腔室本体100内。
上述实施例中，集液板240下方的液体容易再次被汽化，从而通过排液管250倒流回集液板240的上方，使得酸雾再次进入到腔室本体100内，造成腔室本体100的二次污染。
在另一种可选的实施例中，排液装置还包括防回流管260，防回流管260与排液管250相连通，防回流管260可以用于防止集液板240下方的气体通过排液管250倒流回集液板240的上方。此方案中，防回流管260与排液管250相连通，此时倒流的气体进入排液管250时分成两股，一股沿排液管250流动，另一股进入防回流管260内，并沿防回流管260流动。沿防回流管260流动的这部分气体又从防回流管260的另一端返回到排液管250，此时两股气体相遇，沿防回流管260流动的这一路气体阻碍沿排液管250流动的气体继续向上流动，因此起到了防止酸雾倒流的作用，从而避免酸雾再次进入到腔室本体100内，造成腔室本体100的二次污染。
在另一种可选的实施例中，防回流管260可以包括直管段261和弧形管段262，直管段261可以与排液管250相交，且相连通。弧形管段262的一端与排液管250相连通，另一端可以与直管段261相连通，直管段261背离弧形管段262的一端可以与通孔231相连通。此方案中，防回流管260内的气体通入弧形管段262返至排液管250内，从而使得气体在弧形管段262的流动更加顺畅，因此防回流效果更好。
具体地，排液管250的第一端与上述的集液孔241相连通，排液管250的第二端与直管段261的侧壁相连，且与直管段261相连通。直管段261的一端与通孔231相连通，另一端与弧形管段262的一端相连通，弧形管段262的另一端连接至排液管250的侧壁上，且弧形管段262与排液管250相连通。此时，弧形管段262与排液管250的连接处位于排液管250的第一端与第二端之间。
在另一种可选的实施例中，集液板240可以开设有多个集液孔241，多个集液孔241可以间隔设置，排液管250和防回流管260的数量可以均为多个，集液孔241与排液管250可以一一对应设置，防回流管260与排液管250可以一一对应设置。
此方案能够提高排风箱体200内的液体排出的效率，能够进一步避免液体在排风箱体200内的聚集。
为了提高底板230的集液效果，在另一种可选的实施例中，集液板240可以为弧形板，弧形板相对于平板来说集液效果更好，更便于液体排出。
在另一种可选的实施例中，底板230也可以为弧形板，此方案能够提高底板230的排液效果。
上述实施例中，调节板310可以在排风箱体200内转动。具体地，如图12和图13所示，调节机构300可以包括转动轴330，转动轴330可以与排风箱体200相连接，且可以相对于排风箱体200转动。调节板310的一侧设置于转动轴330上，转动轴330转动，从而带动调节板310转动。
或者，在另一种可选的实施例中，调节板310可以相对于排风箱体200移动，调节板310的边缘可以与排风箱体200的内侧壁密封连接。
调节板310移动的方式相对于调节板310转动的方式来说，调节板310转动时，为了防止调节板310在转动的过程中，与腔室本体100或者排风箱体200的侧壁不发生干涉，调节板310在关闭的情况下，调节板310与腔室本体100或者排风箱体200的侧壁之间预留一定装配间隙，因此调节板310关闭的情况下，装配间隙处容易漏气，调节板310难以完全隔断厂务排风端和腔室本体100之间的连通。
而如图6、图7所示采用调节板310移动的方式，在调节板310关闭的情况下，调节板310能够移动至腔室本体100的侧壁或排风箱体200的侧壁相接触的位置，此时调节板310与腔室本体100相接触，调节板310与腔室本体100的侧壁或排风箱体200的侧壁之间的间隙小，不容易漏气，从而可以完全隔断厂务排风端和腔室本体100之间的连通。
另外，调节板310的边缘与排风箱体200的内侧壁可以密封连接，此方案使得调节板310的边缘与排风箱体200的内侧壁之间具有较好的密封性能，从而不容易漏气。
在另一种可选的实施例中，排风箱体200的内侧壁可以设置有导向槽203，调节板310可以与导向槽203滑动配合。此方案中，导向槽203能够进一步对调节板310进行辅助导向，从而提高调节板310的移动精度。
上述实施例中，调节板310可以在排风箱体200内移动，此时排风箱体200内需要预留出较大的空间，以供调节板310移动，此时排风箱体200的体积较大。
基于此，一种具体的方案中，排风箱体200上可以开设有第二开口202，调节板310的至少部分可沿第二开口202伸入或伸出排风箱体200。具体的操作过程中，当调节板310伸出排风箱体200时，调节板310遮挡排风箱体200的面积减小，从而增大了排风箱体200的排风量；当调节板310伸入排风箱体200时，调节板310遮挡排风箱体200的面积增大，从而减小了排风箱体200的排风量。
此方案中，调节板310能够进出排风箱体200，从而使得排风箱体200内无需预留较大的空间，因此排风箱体200的体积可以设置的较小。
进一步地，第二开口202可以设置有密封件，第二开口202通过密封件与调节板310密封连接。此方案中，密封件能够提高第二开口202与调节板310的密封性能，从而防止第二开口202与调节板310之间漏气。另外，密封件还能够刮除附着在调节板310上的液体，从而防止液体泄漏到排风箱体200的外部。
在另一种可选的实施例中，调节板310朝向腔室本体100与排风箱体200的连通口的一侧倾斜向下设置。此方案中，调节板310倾斜向下设置，调节板310在关闭状态下，由于调节板310倾斜设置，调节板310的重力使得调节板310压紧腔室本体100的侧壁或排风箱体200的侧壁，从而使得腔室本体100或排风箱体200和调节板310之间的密封性更好，进而进一步提高了腔室本体100与厂务排风端隔断的可靠性。
另外，调节板310倾斜向下设置，也便于调节板310上冷凝的液体滑落，从而使得冷凝的液体不容易附着在调节板310上。
为了提高调节板310的移动精度，在另一种可选的实施例中，调节机构300还可以包括导轨组件320，导轨组件320可以设置于排风箱体200的侧壁，调节板310可以与导轨组件320滑动连接。此方案中，导轨组件320可以对调节板310的移动方向进行导向，从而提高调节板310的移动精度。
可选地，导轨组件320可以包括第一导轨、第二导轨、第一滑块和第二滑块，第一导轨和第二导轨均可以安装在排风箱体的外侧壁上。第一导轨与第一滑块滑动配合，第二导轨与第二滑轨滑动配合，调节板310的两侧分别与第一滑块和第二滑块固定连接，第一滑块和第二滑块带动调节板310移动。
在另一种可选地实施例中，排风箱体200可以包括相连接的倾斜侧板210和顶板220，顶板220可以开设有排气口221，排气口221可以用于排出排风箱体200内的气体。这里的排气口221就是上述的排风箱体200与厂务排气端的连通口。倾斜侧板210可以与腔室本体100相对设置，倾斜侧板210可以朝向腔室本体100的一侧倾斜向下设置，以使冷凝后的液体能够从倾斜侧板210滑落。
此方案中，倾斜侧板210朝向腔室本体100的一侧倾斜设置，此时排风箱体200内的气体冷凝后能够沿着倾斜侧面滑落至排风箱体100的底部，因此方便排风箱体200内冷凝后的液体排出。
进一步地，调节板310可以与倾斜侧板210滑动连接，倾斜侧板210所在的平面与调节板310所在的平面相平行。此方案中，调节板310所移动的平面与倾斜侧板210所在的平面相平行，因此调节板310与倾斜侧板210相对叠置，且相对能够滑动，从而使得排风箱体200内的结构更加的紧凑，调节板310占用的安装空间较小。
另外，由于调节板310倾斜设置，调节板310的重力使得调节板310压紧腔室本体100或排风箱体200的侧壁，进而进一步提高了腔室本体100与厂务排风端隔断的可靠性。
在另一种可选的实施例中，本申请公开的清洗腔室还包括驱动件，驱动件可以与调节板310相连接，驱动件可以驱动调节板310移动。此方案中，通过驱动件驱动调节板310移动，从而无需操作人员手动调节，降低操作人员的操作难度，同时也能够提高调节板310的移动精度，进而使得排风箱体200内工作压力差的精度更高，排风性能更好。
具体的操作过程，当操作人员通过清洗腔室的压力表检查件排风箱体200内的压力差时，当压力差不符合工作要求时，操作人员通过上位机对驱动件输出指令，驱动件驱动调节板310移动，从而到达满足排风箱体200的工作压力差。
可选地，驱动件可以为伺服电机、液压缸、气压缸等动力结构，当然，驱动件还可以为其他动力结构，本文不作限制。
在另一种可选的实施例中，腔室本体100内可以设置有遮挡件120，遮挡件120罩设在腔室本体100与排风箱体200的连通口上，遮挡件120与腔室本体100的内侧壁具有装配间隙，装配间隙用于连通腔室本体100和上述的连通口。此时，遮挡件120能够使得排风箱体200内的气体难以进入到腔室本体100内，从而进一步提高了腔室本体100的清洁度。
本发明上文实施例中重点描述的是各个实施例之间的不同，各个实施例之间不同的优化特征只要不矛盾，均可以组合形成更优的实施例，考虑到行文简洁，在此则不再赘述。
以上所述仅为本发明的实施例而已，并不用于限制本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的权利要求范围之内。
Claims (10)
1.一种清洗腔室，其特征在于，包括：
腔室本体(100)；
排风箱体(200)，所述排风箱体(200)位于所述腔室本体(100)之外，且所述排风箱体(200)与所述腔室本体(100)相连通，所述排风箱体(200)开设有与外界空间相连通的通孔(231)；
调节机构(300)，所述调节机构(300)包括调节板(310)，所述调节板(310)可活动地位于所述排风箱体(200)内，所述调节板(310)用于调节所述排风箱体(200)的排风量；其中，所述调节板(310)设置于所述腔室本体(100)和所述排风箱体(200)的连通口与所述排风箱体(200)与厂务排风端的连通口之间，且所述调节板(310)朝向所述腔室本体(100)与所述排风箱体(200)的连通口的一侧倾斜向下设置；
排液装置，所述排液装置通过所述通孔(231)与所述外界空间相连通，所述排液装置用于收集所述排风箱体(200)内冷凝的液体，并将收集的液体通过所述通孔(231)排至所述外界空间。
2.根据权利要求1所述的清洗腔室，其特征在于，所述排液装置包括集液板(240)和排液管(250)，所述集液板(240)和所述排液管(250)均位于所述排风箱体(200)内，所述集液板(240)用于收集所述排风箱体(200)内冷凝的液体，所述排液管(250)与所述集液板(240)连接，用于将所述集液板(240)收集的液体通过所述通孔(231)排至所述外界空间。
3.根据权利要求2所述的清洗腔室，其特征在于，所述排液装置还包括防回流管(260)，所述防回流管(260)与所述排液管(250)相连通，所述防回流管(260)用于防止所述集液板(240)下方的气体通过排液管(250)倒流回所述集液板的上方。
4.根据权利要求3所述的清洗腔室，其特征在于，所述防回流管(260)包括直管段(261)和弧形管段(262)，所述直管段(261)与所述排液管(250)相交，且相连通，所述弧形管段(262)的一端与所述排液管(250)相连通，另一端与所述直管段(261)相连通，所述直管段(261)背离所述弧形管段(262)的一端与所述通孔(231)相连通。
5.根据权利要求3所述的清洗腔室，其特征在于，所述集液板(240)位于所述调节板(310)的下方；所述排液管(250)设置于所述集液板(240)和所述排风箱体(200)的底板(230)之间，所述通孔(231)开设于所述底板(230)上。
6.根据权利要求3所述的清洗腔室，其特征在于，所述集液板(240)开设有多个集液孔(241)，所述多个集液孔(241)间隔设置，所述排液管(250)和所述防回流管(260)的数量均为多个，所述集液孔(241)与所述排液管(250)一一对应设置，所述防回流管(260)与所述排液管(250)一一对应设置。
7.根据权利要求1所述的清洗腔室，其特征在于，所述调节板(310)可相对于所述排风箱体(200)移动，所述调节板(310)的边缘与所述排风箱体(200)的内侧壁密封连接。
8.根据权利要求7所述的清洗腔室，其特征在于，所述调节机构(300)还包括导轨组件(320)，所述导轨组件(320)设置于所述排风箱体(200)的侧壁，所述调节板(310)与所述导轨组件(320)滑动连接。
9.根据权利要求1所述的清洗腔室，其特征在于，所述排风箱体(200)包括相连接的倾斜侧板(210)和顶板(220)，所述顶板(220)开设有排气口(221)，所述排气口(221)用于排出所述排风箱体(200)内的气体，所述倾斜侧板(210)与所述腔室本体(100)相对设置，所述倾斜侧板(210)朝向所述腔室本体(100)的一侧倾斜向下设置，以使冷凝后的液体能够从所述倾斜侧板(210)滑落。
10.根据权利要求9所述的清洗腔室，其特征在于，所述调节板(310)与所述倾斜侧板(210)滑动连接，所述倾斜侧板(210)所在的平面与所述调节板(310)所在的平面相平行。
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| KR101239181B1 (ko) * | 2012-08-17 | 2013-03-05 | 신상신 | 흡입펌프를 장착한 옥외용 휘발성 유기화합물 회수장치 |
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| CN206139614U (zh) * | 2016-08-30 | 2017-05-03 | 汉森实验室系统设备（苏州）有限公司 | 一种设有风量调节插板阀的通风柜 |
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| CN209452464U (zh) * | 2018-12-29 | 2019-10-01 | 苏州晶洲装备科技有限公司 | 一种用于抽风盒的门式装配结构 |
| US11920826B2 (en) * | 2020-05-08 | 2024-03-05 | Green Logic, LLC | Exhaust hood system with fluid wall air filter |
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