TW202138845A - 前面板、光學積層體及影像顯示裝置 - Google Patents

前面板、光學積層體及影像顯示裝置 Download PDF

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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

以波長550nm之光測定的前面板之面內方向相位差Re(550)為10nm以下。

Description

前面板、光學積層體及影像顯示裝置
本發明涉及前面板、光學積層體及影像顯示裝置。
作為前面板，已提出例如具備玻璃基材、及由聚矽氧樹脂構成之樹脂層的光學薄膜(參照例如下述專利文獻1)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：WO2019/066078號
發明欲解決之課題 近年來，要求更高品質的前面板。
本發明提供一種高品質的前面板、光學積層體及影像顯示裝置。
用以解決課題之手段 本發明(1)包含前面板，其以波長550nm之光測定的面內方向相位差Re(550)為10nm以下。
因前面板之面內方向相位差Re(550)低至10nm以下，故前面板不會產生因相位差所致之視辨性問題而為高品質。
本發明(2)包含(1)之前面板，其於厚度方向上依序具備保護樹脂層與硬塗層。
因該前面板於厚度方向上依序具備保護樹脂層與硬塗層，故耐擦傷優異。
本發明(3)包含(2)之前面板，在以前述硬塗層為內側且直徑4mm之狀態下，將前述前面板以撓曲成180度之狀態固定，投入85℃85%RH之環境下100小時後，展開前述前面板，撓曲部之面內方向相位差Re(550)與前述撓曲試驗前之前述撓曲部的面內方向相位差Re(550)之差Δ為10nm以下。
然而，前面板有時會依用途及目的而撓曲。前面板在所述情況下以撓曲部為中心撓曲時，應力會集中於所述撓曲部，故面內方向相位差Re(550)容易變動。
惟，在該前面板中，因撓曲試驗前後之撓曲部的面內方向相位差Re(550)之差低至10nm以下，故即便應力集中於撓曲部，仍可抑制上述面內方向相位差Re(550)的變動，而維持高品質。
本發明(4)包含(2)或(3)之前面板，其更具備基板與黏著層，而前述基板、前述黏著層、前述保護樹脂層與前述硬塗層依序配置於厚度方向上，且前述基板包含薄玻璃板。
由於該前面板更具備基板與黏著層而基板、黏著層、保護樹脂層與硬塗層依序配置於厚度方向上，且基板包含薄玻璃板，因此可抑制撓曲後產生痕跡殘留(皺褶殘留等)，而維持高品質。因薄玻璃板為各向同性，故相位差非常小，而前面板在保持透明的狀態下亦可確保硬度。
本發明(5)包含(2)~(4)中任一項之前面板，其中前述保護樹脂層的厚度為30µm以上。
然而，因薄玻璃板較為脆弱，故基板之耐衝擊性容易降低。
惟，該前面板可在不產生因相位差所致之視辨性問題下增厚保護樹脂層的厚度，且保護樹脂層的厚度厚達30µm以上，因此可抑制耐衝擊性的降低。
本發明(6)包含(1)~(5)中任一項之前面板，其在23℃下之光彈性係數的絕對值為100.0×10-13 cm2 /dyn以下。
因該前面板在23℃下之光彈性係數的絕對值低至100.0×10-13 cm2 /dyn以下，故彎折性優異。
本發明(6)包含一種光學積層體，其朝視辨側依序具備：偏光薄膜，及如(1)~(5)中任一項之前面板。
因該光學積層體具備上述前面板，故為高品質。
本發明(7)包含一種影像顯示裝置，其朝視辨側依序具備：影像顯示構件，及(6)之光學積層體。
因該影像顯示裝置具備上述光學積層體，故為高品質。
發明效果 本發明之前面板、光學積層體及影像顯示裝置不產生因相位差所致之視辨性問題而為高品質。
用以實施發明之形態 [有機EL顯示裝置] 參照圖1說明本發明影像顯示裝置之一實施形態的有機電致發光顯示裝置。以下，將有機電致發光顯示裝置簡稱為有機EL顯示裝置。
有機EL顯示裝置1具有例如平板形狀，宜構成為以撓曲部25為中心而可彎折(bendable)，較宜構成為可折疊(foldable)，該撓曲部25位於在面方向(正交於表背方向之方向)上隔著間隔相對向的2個邊27之間。以下說明中之各構件皆宜構成為可彎折(bendable)，較宜構成為可折疊(foldable)。
如圖1所示，有機EL顯示裝置1朝視辨側依序具備影像顯示構件3與光學積層體2。亦即，在該有機EL顯示裝置1中，光學積層體2與影像顯示構件3係朝視辨側(即使用者視辨之側)的相反側依序配置。另，在有機EL顯示裝置1中，視辨側相當於表側，視辨側的相反側相當於背側。
[光學積層體] 光學積層體2朝背側依序具備前面板4與偏光薄膜5。
[前面板] 前面板4有時亦稱為覆蓋窗或視窗薄膜。前面板4朝背側依序具備保護構件6與基板7。
[黏著層及層結構] 又，該有機EL顯示裝置1具備位於表背方向上相鄰構件間之黏著層8。黏著層8朝背側依序包含作為黏著層之一例的第1黏著層9、第2黏著層10、及第3黏著層11。從而，在該有機EL顯示裝置1中，保護構件6、第1黏著層9、基板7、第2黏著層10、偏光薄膜5、第3黏著層11與影像顯示構件3朝背側依序配置。
[保護構件] 保護構件6係從表側保護基板7。保護構件6具有沿面方向延伸之平板形狀。保護構件6朝表側依序包含保護樹脂層12與硬塗層13。
[保護樹脂層] 保護樹脂層12形成保護構件6之背面。保護樹脂層12沿面方向延伸。只要保護樹脂層12之材料為可滿足後述面內方向相位差Re(550)之樹脂，則無特別限定。具體而言，保護樹脂層12之材料可舉例如丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂等樹脂。由降低面內方向相位差Re(550)的觀點來看，保護樹脂層12之材料宜舉丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂；由抑制撓曲部25之撓曲前後面內方向相位差Re(550)變動的觀點來看，較宜舉丙烯酸樹脂。
丙烯酸樹脂具有例如戊二醯亞胺單元及不飽和羧酸烷基酯單元。丙烯酸樹脂具體而言具有下述式(1)所示戊二醯亞胺單元及下述式(2)所示不飽和羧酸烷基酯單元之結構單元。
[化學式1]
Figure 02_image001
(式(1)中，R1 及R2 各自獨立表示氫原子或碳數1以上且8以下之烷基。R3 表示碳數1以上且18以下之烷基、碳數3以上且12以下之環烷基、或碳數6以上且10以下之芳基。)
[化學式2]
Figure 02_image003
(式(2)中，R4 及R5 表示氫原子或碳數1以上且6以下之烷基。) 式(1)中，R1 及R2 所示碳數1以上且8以下之烷基可舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基等。
R1 宜舉甲基。
R2 宜舉氫原子。
R3 所示碳數1以上且18以下之烷基除了先前就碳數1以上且8以下之烷基所例示之物外，還可舉壬基、癸基、十二基、十一基、十三基、十四基、十五基、十六基、十七基、十八基等。碳數3以上且12以下之環烷基可舉例如環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環癸基等。碳數6以上且10以下之芳基可舉例如苯基、萘基等。R3 宜舉烷基，較宜舉甲基。
式(2)中，R4 及R5 所示碳數1以上且6以下之烷基可舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基等，且烷基宜舉甲基。
R4 宜舉氫原子。
R5 宜舉甲基。
丙烯酸樹脂中之戊二醯亞胺單元的含有比率例如為5莫耳%以上，宜為15莫耳%以上，又例如為50莫耳%以下，且宜為40莫耳%以下。只要戊二醯亞胺單元的含有比率為上述下限以上且在上述上限以下，便可降低相位差。
又，丙烯酸樹脂之醯亞胺化率係全羰基中醯亞胺羰基所佔比率，例如為2.5%以上，又例如為7.5%以下，且宜為5.0%以下。只要丙烯酸樹脂之醯亞胺化率為上述下限以上，便能抑制耐熱性的降低，且可抑制透明性的降低。只要丙烯酸樹脂之醯亞胺化率為上述上限以下，則成形性優異，且透明性優異。另，丙烯酸樹脂中之醯亞胺化率可藉由丙烯酸樹脂之NMR譜、IR光譜等來測定。
丙烯酸樹脂中之不飽和羧酸烷基酯單元的含有比率係戊二醯亞胺單元之含有比率的剩餘部分，例如為50莫耳%以上，宜為60莫耳%以上，又例如為95莫耳%以下，且宜為85莫耳%以下。丙烯酸樹脂中之丙烯酸酯單元(具體而言為戊二醯亞胺單元、甲基丙烯酸單元及丙烯酸酯單元之總量中的丙烯酸酯單元)係例如小於1質量%，宜小於0.5質量%。只要丙烯酸酯單元為上述上限以下，則丙烯酸樹脂之熱穩定性優異，且可在樹脂製造時或成形加工時抑制丙烯酸樹脂物性的降低。丙烯酸樹脂之酸值例如為0.10mmol/g以上，且例如為0.50mmol/g以下。只要酸值在上述範圍內，便可獲得耐熱性、機械物性、成形加工性之平衡優異的丙烯酸樹脂。
丙烯酸樹脂之酸值係丙烯酸樹脂中之羧酸單元、及羧酸酐單元的含量。酸價可藉由例如WO2005-054311中記載之滴定法、或日本專利特開2005-23272號公報中記載之滴定法等來算出。
丙烯酸樹脂可含有上述以外之可共聚的其他乙烯基系單體單元。其他乙烯基系單體可舉例如苯乙烯、α-甲苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯苯等烯基芳香族單體。
丙烯酸樹脂之重量平均分子量例如為1,000以上，宜為5,000以上，較宜為10,000以上，且例如為2,000,000以下，宜為1,000,000以下，較宜為500,000以下。丙烯酸樹脂之重量平均分子量係使用凝膠滲透層析法(GPC系統)，以聚苯乙烯換算來求得。
保護樹脂層12的厚度例如為10µm以上，宜為20µm以上，較宜為30µm以上，又例如為100µm以下，且宜為80µm以下。只要保護樹脂層12的厚度為上述下限以上，便可抑制基板7為薄玻璃板時耐衝擊性降低的情形。只要保護樹脂層12的厚度為上述上限以下，便可提升折疊性。
保護樹脂層12之全光線透射率例如為85%以上，宜為88%以上，較宜為90%以上，又例如為100%以下。保護樹脂層12之全光線透射率係依循JIS K 7361-1求得。其他構件之全光線透射率亦可依與上述相同方式求得。
保護樹脂層12之面內方向相位差Re(550)例如為10nm以下，宜為5nm以下，尤宜為0nm，亦即不具有面內方向相位差Re(550)。
只要保護樹脂層12之面內方向相位差Re(550)為上述上限以下，便可將包含保護樹脂層12之前面板4的面內方向相位差Re(550)(後述)設為所期望之範圍。
另外，「面內方向相位差Re(550)」意指以波長550nm之光測定的面內方向相位差Re。即使括弧內的數字550變動，相位差的定義仍與上述相同。
保護樹脂層12之厚度方向相位差Rth(550)例如為30nm以下，宜為10nm以下，尤宜為0nm，亦即不具有厚度方向相位差Rth(550)。
只要保護樹脂層12之厚度方向相位差Rth(550)為上述上限以下，便可將包含保護樹脂層12之前面板4的厚度方向相位差Rth(550)(後述)設為所期望之範圍。
「厚度方向相位差Rth(550)」意指以波長550nm之光測定的厚度方向相位差Rth。即使厚度方向相位差Rth(550)括弧內的數字550變動，相位差的定義仍與上述相同。
面內方向相位差Re(550)及厚度方向相位差Rth(550)係以相位差測定裝置來測定。之後的各相位差亦以相位差測定裝置來測定。
又，可適當調整保護樹脂層12之折射率，以使與後述硬塗層13之折射率差Δ落在所期望範圍。具體而言，只要保護樹脂層12為各向同性，則其折射率n例如為1.40以上，宜為1.48以上，又例如為1.60以下，且宜為1.53以下。
保護樹脂層12在23℃下之光彈性係數的絕對值例如為150.0×10-13 cm2 /dyn以下，宜為100.0×10-13 cm2 /dyn以下，較宜為50.0×10-13 cm2 /dyn以下，更宜為30.0×10-13 cm2 /dyn以下，尤宜為10.0×10-13 cm2 /dyn以下。理想上，只要保護樹脂層12之面內方向相位差Re(550)為5nm以下，且在23℃下之光彈性係數的絕對值為30.0×10-13 cm2 /dyn以下，便可顯著抑制撓曲試驗前後之撓曲部25的面內方向相位差Re(550)之差Δ，因此彎折性優異，並且折疊性優異。
並且，只要保護樹脂層12之面內方向相位差Re(550)為5nm以下，厚度方向相位差Rth(550)為10nm以下，且在23℃下之光彈性係數的絕對值為30.0×10-13 cm2 /dyn以下，便可顯著抑制撓曲試驗前後之撓曲部25的面內方向相位差Re(550)之差Δ及厚度方向相位差Rth(550)之差Δ，因此彎折性更為優異，並且折疊性更加優異。
保護樹脂層12之組成、物性、製造方法等已詳述於例如日本專利特開2016-151696號公報中。
[硬塗層] 硬塗層13係抑制有機EL顯示裝置1的表面上因滑動摩擦損傷所致之損傷的保護構件。例如在以捲對捲製造光學積層體2的情況下，當光學積層體2沿捲材之徑方向積層時，會抑制因積層時之壓製或滑動摩擦所致之損傷。
硬塗層13形成保護構件6之表面。又，硬塗層13係配置於保護樹脂層12之厚度方向一側。具體而言，硬塗層13係與保護樹脂層12之表面(厚度方向一面)接觸。硬塗層13沿面方向延伸。
硬塗層13例如係由硬化性組成物之硬化物、熱塑性組成物之成形體所構成。亦即，硬塗層13之材料可舉硬化性組成物、熱塑性組成物。硬塗層13之材料宜舉硬化性組成物，較宜舉活性能量線硬化型組成物，更宜舉紫外線硬化型組成物。
具體而言，硬塗層13宜由硬化性組成物之硬化物(硬化樹脂)構成，較宜由硬化性丙烯酸組成物之硬化物(硬化丙烯酸樹脂)構成。
硬化性組成物包含紫外線硬化型之硬化性化合物。硬化性化合物可為單體、寡聚物及預聚物中之任一者。
具體而言，硬化性化合物可舉例如具有多個紫外線聚合性官能基之丙烯酸系化合物(單體及/或寡聚物)，且宜舉具有多個(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物。硬化性化合物中之官能基((甲基)丙烯醯基)的數量例如為3以上，宜為5以上，又例如為30以下，且宜為20以下。
此外，硬化性化合物更宜於分子內包含羥基。
單體之硬化性化合物可舉例如三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二羥甲丙烷四丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化甘油三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊四醇四丙烯酸酯及其等之寡聚物或預聚物等。其等可單獨使用或併用多種。
單體或寡聚物之硬化性化合物可舉例如胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及/或胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物。胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及/或胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物所具有(甲基)丙烯醯基之數量例如為3以上，宜為4以上，較宜為6以上，又例如為25以下，且宜為20以下。
胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及/或胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物的重量平均分子量(或理論分子量)例如為3000以下，宜為2500以下，較宜為2000以下，又例如為500以上，且宜為800以上。另，胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及/或胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物為市售物時，係採用市售品附件之型錄中記載的理論分子量。
在形成硬塗層13方面，當硬塗層13為硬化物時，係塗佈包含硬化性組成物之清漆，然後使硬化性組成物硬化。或者，從熱塑性組成物直接成形由熱塑性樹脂構成之硬塗層13。
在25℃下之硬塗層13的拉伸儲存彈性模數E'例如為3GPa以下，宜為2.5GPa以下，又例如為1.5GPa以上，且宜為2GPa以上。在25℃下之硬塗層13的拉伸儲存彈性模數E'可以頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘之條件的溫度分散模式下測定動態黏彈性來獲得。只要硬塗層13之拉伸儲存彈性模數E'為上述上限以下，則彎折性(折疊性)優異。只要硬塗層13之拉伸儲存彈性模數E'為上述下限以上，便可有效抑制保護樹脂層12上之滑動摩擦的損傷。
又，硬塗層13之鉛筆硬度例如為3H以上，較宜為4H以上，更宜為5H以上。鉛筆硬度係依循JIS K 5400-5-4來測定。只要硬塗層13之鉛筆硬度為上述下限以上，便可有效抑制保護樹脂層12上之滑動摩擦的損傷。
硬塗層13之面內方向相位差Re(550)例如為10nm以下，宜為5nm以下。硬塗層13之厚度方向相位差Rth(550)例如為30nm以下，宜為10nm以下。
又，可適當調整硬塗層13之折射率，以使與接下來說明之保護樹脂層12的折射率差Δ落在所期望之範圍。具體而言，只要保護樹脂層12為各向同性，則其折射率n例如為1.40以上，宜為1.48以上，又例如為1.60以下，且宜為1.53以下。
硬塗層13的厚度例如為5µm以上，宜為7µm以上，又例如為30µm以下。
硬塗層13之全光線透射率例如為85%以上，宜為90%以上，較宜為95%以上，又例如為100%以下。
硬塗層13之組成、物性、製造方法等詳述於例如日本專利特開2016-151696號公報中。
[保護構件之物性] 保護構件6的厚度例如為15µm以上，宜為35µm以上，又例如為130µm以下，且宜為90µm以下。
保護構件6之全光線透射率例如為85%以上，宜為90%以上，較宜為95%以上，又例如為100%以下。
保護構件6之面內方向相位差Re(550)例如為10nm以下，宜為5nm以下。保護構件6之厚度方向相位差Rth(550)例如為30nm以下，宜為10nm以下。
以硬塗層13為內側且直徑4mm之狀態下，將保護構件6以撓曲成180度之狀態固定，投入85℃85%RH之環境下100小時後，展開保護構件6，撓曲部25之面內方向相位差Re(550)與撓曲試驗前之撓曲部25的面內方向相位差Re(550)之差Δ例如為10nm以下。又，上述撓曲試驗後之撓曲部25的厚度方向相位差Rth(550)與撓曲試驗前之撓曲部25的厚度方向相位差Rth(550)之差Δ例如為30nm以下。另，撓曲試驗的詳細內容將於之後的[一實施形態的顯著特徵]中詳述。
[基板] 基板7形成前面板4之背面。基板7係透過後述第1黏著層9而與保護樹脂層12黏著。又，基板7例如具有可撓性。
基板7可舉例如聚醯亞胺薄膜等樹脂薄膜，例如薄玻璃板。由可獲得優異的彎折性、以及優異的折疊性、硬度、透明性的觀點來看，基材7宜舉薄玻璃板。在本實施形態中，基板7宜由薄玻璃板構成。
基板7會確保前面板4的機械強度及韌性。基板7係從背側來支撐保護構件6。基板7具有沿面方向延伸之平板形狀。
基板7的厚度例如為10µm以上，又例如為100µm以下，且宜為80µm以下。
基板7之全光線透射率例如為80%以上，宜為85%以上，又例如為95%以下。
薄玻璃板宜為各向同性。薄玻璃板之折射率n例如為1.45以上，又例如為1.55以下。另，只要薄玻璃板為各向同性，便不具有面內方向相位差Re(550)。
[偏光薄膜] 偏光薄膜5係配置於前面板4之背側。藉此，偏光薄膜5受前面板4所保護。偏光薄膜5係透過後述之第2黏著層10而與基板7黏著。偏光薄膜5具有沿面方向延伸之平板形狀。
偏光薄膜5的厚度例如為15µm以上，宜為25µm以上，又例如為300µm以下，且宜為250µm以下。偏光薄膜5之全光線透射率例如為85%以上，宜為90%以上，又例如為100%以下。
偏光薄膜5朝背側依序具備偏光件保護薄膜17、偏光件18與光學補償層19。
[偏光件保護薄膜] 偏光件保護薄膜17形成偏光薄膜5之表面。偏光件保護薄膜17沿面方向延伸。偏光件保護薄膜17係從表側保護接下來說明之偏光件18。
偏光件保護薄膜17之材料並無特別限定，可舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、聚萘二甲酸乙二酯樹脂、乙酸酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚二氯亞乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚芳酯樹脂、聚伸苯硫醚樹脂等。該等可單獨使用或可併用。由使光學積層體2為高品質的觀點來看，偏光件保護薄膜17的材料可舉丙烯酸樹脂，較宜舉例如具有不飽和羧酸烷基酯單元及戊二醯亞胺單元之丙烯酸樹脂，具體而言可舉先前就保護樹脂層12所例示之丙烯酸樹脂。
偏光件保護薄膜17的厚度例如為10µm以上，又例如為100µm以下，且宜為80µm以下。偏光件保護薄膜17之面內方向相位差Re(550)及厚度方向相位差Rth(550)各自例如為10nm以下，宜為5nm以下。只要偏光件保護薄膜17為各向同性，則其折射率n例如為1.40以上，宜為1.48以上，又例如為1.60以下，且宜為1.53以下。
偏光件保護薄膜17之組成、物性、製造方法等詳述於例如日本專利特開2016-151696號公報中。
[偏光件] 偏光件18係與偏光件保護薄膜17之背面接觸。偏光件18具有沿面方向延伸之平板形狀。偏光件18可舉例如PVA薄膜等親水性薄膜經染色處理及延伸處理後之薄膜、或已將PVA薄膜進行脫水處理之薄膜、已將聚氯乙烯薄膜進行脫鹽酸處理之薄膜等。偏光件18為單層或多層。偏光件18的厚度例如為1µm以上，且宜為3µm以上，又例如為15µm以下，且宜為10µm以下。偏光件18之材料、組成、物性(雙折射性、相位差、折射率等)、製造方法等詳述於例如日本專利特開2016-151696號公報中。
[光學補償層] 光學補償層19係與偏光件18之背面接觸。光學補償層19具有沿面方向延伸之平板形狀。光學補償層19為相位差薄膜，具體而言係作為λ/4板發揮功能。藉此，包含偏光件18及光學補償層19之偏光薄膜5具有優異的圓偏光性。光學補償層19之材料可舉具有下列光學特性的材料，且可舉例如聚碳酸酯樹脂、聚乙烯縮醛樹脂、環烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、纖維素酯樹脂等。宜為聚碳酸酯樹脂。聚碳酸酯樹脂包含例如以下結構單元：源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元；及源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。
光學補償層19之面內方向相位差Re(550)例如為100nm以上，宜為135nm以上，又例如為180nm以下，且宜為155nm以下。又，光學補償層19之面內方向相位差Re(550)較面內方向相位差Re(450)大，且較面內方向相位差Re(650)小。具體而言，Re(450)/Re(550)例如小於1，宜為0.95以下，又例如為0.8以上。Re(550)/Re(650)例如小於1，宜為0.97以下，又例如為0.8以上。
光學補償層19之組成、物性、製造方法等詳述於例如日本專利特開2017-102443號公報中。
另，具有偏光件保護薄膜17、偏光件18及光學補償層19之基板7偏光薄膜5詳述於日本專利特開2017-102443號公報中。
[黏著層] 黏著層8係將上述各構件沿表背方向黏著(壓敏接著)之黏著層。黏著層8係如上述，包含第1黏著層9、第2黏著層10及第3黏著層11。 第1黏著層9、第2黏著層10與第3黏著層11各自沿面方向延伸。第1黏著層9、第2黏著層10與第3黏著層11各自的厚度例如為1µm以上，宜為5µm以上，較宜為10µm以上；又例如為200µm以下，宜為150µm以下，較宜為100µm以下。
第1黏著層9、第2黏著層10與第3黏著層11各自的全光線透射率例如為85%以上，宜為88%以上，較宜為90%以上，又例如為100%以下。
尤其，第1黏著層9之面內方向相位差Re(550)例如為10nm以下，厚度方向相位差Rth(550)例如為30nm以下。
另，包含第1黏著層9之黏著層8之組成、物性、製造方法等詳述於例如日本專利特開2018-28573號公報中。
[第1黏著層] 第1黏著層9係將保護構件6與基板7沿表背方向黏著。具體而言，第1黏著層9係與保護樹脂層12之背面、與基板7之表面接觸(黏著)。
[第2黏著層] 第2黏著層10係將前面板4與偏光薄膜5沿表背方向黏著。具體而言，第2黏著層10係與基板7之背面及偏光件保護薄膜17之表面接觸(黏著)。
[第3黏著層] 第3黏著層11係將光學積層體2與影像顯示構件3沿表背方向黏著。具體而言，第3黏著層11係與光學補償層19之背面、光學積層體2之表面接觸。
[黏著層之材料] 第1黏著層9、第2黏著層10與第3黏著層11之各個材料可舉例如丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑、聚醚系黏著劑等。
尤其，由降低前面板4之面內方向相位差Re(550)的觀點來看，第1黏著層9之材料宜舉丙烯酸系黏著劑。又，只要第1黏著層9之材料為丙烯酸系黏著劑，便亦可降低前面板4之厚度方向相位差Rth(550)。
丙烯酸系黏著劑可舉例如將以下成分以交聯劑交聯之交聯型黏著劑：含有碳數3以上且8以下之烷基部分的(甲基)丙烯酸烷基酯、及含有碳數3以上且8以下之羥烷基部分的(甲基)丙烯酸羥烷基酯之共聚物。
含有碳數3以上且8以下之烷基部分的(甲基)丙烯酸烷基酯可舉例如：(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯等。(甲基)丙烯酸烷基酯宜舉(甲基)丙烯酸正丁酯。
含有碳數3以上且8以下之羥烷基部分的(甲基)丙烯酸羥烷基酯可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸5-羥戊酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸7-羥庚酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯等。(甲基)丙烯酸羥烷基酯宜舉(甲基)丙烯酸4-羥丁酯。相對於(甲基)丙烯酸烷基酯100質量份，(甲基)丙烯酸羥烷基酯之質量份數例如為0.5質量份以上，又例如為5質量份以下。
交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。該等可單獨使用或可併用。宜併用異氰酸酯系交聯劑與過氧化物系交聯劑。異氰酸酯系交聯劑可舉2官能型、3官能型，且宜舉3官能型，具體而言可舉二異氰酸伸茬酯之三羥甲丙烷加成物等。過氧化物系交聯劑可舉例如醯基過氧化物等，且宜舉過氧化苯甲醯。相對於共聚物100質量份，交聯劑之比率例如為0.01質量份以上，又例如為1質量份以下。又，併用異氰酸酯系交聯劑與過氧化物系交聯劑時，相對於共聚物100質量份，異氰酸酯系交聯劑之質量份數例如為0.05質量份以上且小於0.2質量份，氧化物系交聯劑之質量份數例如為0.2質量份以上且0.5質量份以下。
[影像顯示部] 影像顯示構件3形成有機EL顯示裝置1之背面。影像顯示構件3係透過第3黏著層11配置於光學積層體2之背側。影像顯示構件3具有沿面方向延伸之大致平板形狀，具體而言可舉有機EL元件。雖未圖示，但影像顯示構件3例如包含顯示基板、2個電極、包夾於2個電極間的有機EL層、及密封層。影像顯示構件3的厚度例如為1µm以上，且例如為100µm以下。另，影像顯示構件3之結構、物性、製造方法等詳述於例如日本專利特開2018-28573號公報中。
[觸控面板型輸入顯示裝置] 參照圖1之假想線，有機EL顯示裝置1可更具備導電層15與遮蔽層16。藉此，有機EL顯示裝置1可作為觸控面板型輸入顯示裝置發揮功能。
[導電層] 導電層15係設置於光學積層體2，具體而言係配置於第3黏著層11之背側。導電層15係埋設於例如第3黏著層11之表背方向上之中間部(厚度方向上之中間部)。
導電層15之材料可舉例如金屬氧化物、導電性纖維(纖維)、金屬等。
金屬氧化物可舉例如銦鋅複合氧化物(IZO)、銦鎵鋅複合氧化物(IGZO)、銦鎵複合氧化物(IGO)、銦錫複合氧化物(ITO)、銻錫複合氧化物(ATO)等複合氧化物等。由金屬氧化物構成之導電層15的全光線透射率例如為85%以上，宜為88%以上，較宜為90%以上，又例如為100%以下。
導電性纖維可舉例如金屬奈米線、奈米碳管等。
金屬可舉金、鉑、銀、銅等。另，在導電層15之材料為金屬時，導電層15為俯視網目形狀等之金屬網。構成網目之線的寬度例如為100µm以下，宜為30µm以下，較宜為10µm以下，又例如為1µm以上。
導電層15之詳細內容記載於例如日本專利特開2017-102443號公報、日本專利特開2014-113705號公報、日本專利特開2014-219667號公報等中。另，導電層15一體地具有：位於面方向中央部之感測器電極部20、及位於感測器電極部20周邊之引出配線部(未圖示)。
[遮蔽層] 遮蔽層16係設置於前面板4，具體上係配置(具體而言為印刷)於保護樹脂層12之背面的周緣部。遮蔽層16在俯視下具有包含導電層15之引出配線部(或繞線配線)的圖案。遮蔽層16之材料可舉例如包含黑色成分及樹脂之組成物等。遮蔽層16之全光線透射率例如為10%以下，宜為5%以下。遮蔽層16係在有機EL顯示裝置1中用以避免使用者從視辨側視辨出引出配線部(圖未示)之層。光學積層體2往厚度方向投影時包含：與遮蔽層16重複之非顯示區域21、及不與遮蔽層16重複而與導電層15的感測器電極部20重複之顯示區域22。遮蔽層16設置於前面板4時，前面板4之面內方向相位差Re(550)及厚度方向相位差Rth(550)係在前面板4之顯示區域22上所測得之面內方向相位差Re(550)及厚度方向相位差Rth(550)。
[一實施形態之顯著特徵] 接著，說明在此一實施形態之特徵中顯著之處。
前面板4之面內方向相位差Re(550)為10nm以下。
只要前面板4之面內方向相位差Re(550)超過10nm，便無法做成高品質的前面板4。
前面板4之面內方向相位差Re(550)宜為5nm以下，較宜為1nm以下。
又，前面板4之厚度方向相位差Rth(550)例如為30nm以下，宜為15nm以下，較宜為10nm以下。只要前面板4之厚度方向相位差Rth(550)在上述下限以上，便可以做成高品質的前面板4。
又，在以硬塗層13為內側且直徑4mm之狀態下，將前面板4以撓曲成180度之狀態固定，投入85℃85%RH之環境下100小時後，展開前面板4，撓曲部25之面內方向相位差Re(550)與撓曲試驗前之撓曲部25的面內方向相位差Re(550)之差Δ例如為10nm以下，宜為5nm以下，較宜為3nm以下，更宜為2nm以下，尤宜為1nm以下。又，上述撓曲試驗後之撓曲部25的厚度方向相位差Rth(550)與撓曲試驗前之撓曲部25的厚度方向相位差Rth(550)之差Δ例如為30nm以下，宜為25nm以下，較宜為20nm以下，更宜為15nm以下，尤宜為10nm以下。
如圖4所示，在撓曲試驗中，一邊以2片玻璃板35從背側支持前面板4一邊使前面板4撓曲，形成前面板4之硬塗層(圖4中未圖示)在內側之狀態。此時，於厚度方向上相對向之前面板4的表面間距離L為4mm，亦即若撓曲部25為半圓弧形狀，其直徑(內徑)即為4mm。
前面板4在23℃下之光彈性係數的絕對值例如為150.0×10-13 cm2 /dyn以下，宜為100.0×10-13 cm2 /dyn以下，較宜為50.0×10-13 cm2 /dyn以下，更宜為30.0×10-13 cm2 /dyn以下，尤宜為10.0×10-13 cm2 /dyn以下。只要前面板4之光彈性係數的絕對值為上述上限以下，便可將撓曲試驗前後Re(550)之差Δ設定在上述上限以下。因此，前面板4具有優異的彎折性，並且折疊性優異。
理想上，只要前面板4之面內方向相位差Re(550)為5nm以下，且在23℃下之光彈性係數的絕對值為30.0×10-13 cm2 /dyn以下，便可顯著抑制撓曲試驗前後之撓曲部25的面內方向相位差Re(550)之差Δ，因此彎折性優異，並且折疊性優異。
又，理想上，只要前面板4之厚度方向相位差Rth(550)為10nm以下，且在23℃下之光彈性係數的絕對值為30.0×10-13 cm2 /dyn以下，便可顯著抑制撓曲試驗前後之撓曲部25的面內方向相位差Re(550)之差Δ及厚度方向相位差Rth(550)之差Δ，因此彎折性優異，並且折疊性優異。
[一實施形態之其他特徵] 保護樹脂層12的折射率n與硬塗層13的折射率n之差Δ例如為0.04以下，宜為0.03以下，較宜為0.02以下，更宜為0.01以下。
＜1＞詳細而言，只要保護樹脂層12及硬塗層13之任一者為各向同性，則保護樹脂層12的折射率n與硬塗層13的折射率n之差Δ為0.04以下，宜為0.03以下，較宜為0.02以下，更宜為0.01以下。
＜2＞只要保護樹脂層12及硬塗層13之任一者為雙折射性，則其等之慢軸方向的折射率nx之差Δ為0.04以下，宜為0.03以下，較宜為0.02以下，更宜為0.01以下，且快軸方向之折射率差Δ為0.04以下，宜為0.03以下，較宜為0.02以下，更宜為0.01以下。
＜3＞保護樹脂層12及硬塗層13中，只要一者為各向同性，且另一者為雙折射性，則其中一折射率n與另一慢軸方向的折射率nx之差Δ為0.04以下，宜為0.03以下，較宜為0.02以下，更宜為0.01以下。
只要上述折射率差Δ大於上述上限，便會有無法做成高品質的前面板4、高品質的光學積層體2、及高品質的有機EL顯示裝置1之情況。
[一實施形態的作用效果] 並且，在該有機EL顯示裝置1之前面板4中，面內方向相位差Re(550)為10nm以下，因此前面板4不會產生因相位差所致之視辨性問題而為高品質(高解析度)。
又，保護構件6係於厚度方向上依序具備保護樹脂層12與硬塗層13。藉此，可確實地抑制因滑動摩擦所致之保護樹脂層12的損傷。
此外，在前面板4之撓曲部的撓曲試驗前後，面內方向相位差Re(550)之差為10nm以下，因此可抑制撓曲部25之撓曲(彎折以及折疊)後產生痕跡殘留(皺褶殘留等)，而可維持彎曲部25的高品質。亦即，耐彎折性(耐折疊性)優異。
並且，在前面板4中，包含薄玻璃板之基板7、第1黏著層9、保護樹脂層12與硬塗層13依序配置於厚度方向上，因此耐彎折性(耐折疊性)及硬度優異。
然而，因薄玻璃板較為脆弱，故基板7若包含薄玻璃板，則基板7之耐衝擊性容易降低。
惟，在該前面板4中，當保護樹脂層12的厚度厚達30µm以上時，可抑制耐衝擊性降低。在該前面板4中，保護樹脂層12之面內方向相位差Re(550)小，故可在不產生因相位差所致之視辨性問題下增厚保護樹脂層12之厚度。
又，只要在23℃下前面板4之光彈性係數的絕對值為100.0×10-13 cm2 /dyn以下，則彎折性優異，並且折疊性優異。
因光學積層體2及有機EL顯示裝置1具備高品質的前面板4，故為高品質。
[變形例] 以下各變形例中，針對與上述一實施形態相同之構件及步驟賦予相同的參照符號，並省略其詳細說明。又，除了特別註記以外，各變形例還可發揮與一實施形態相同之作用效果。並且，可以適當組合一實施形態及其變形例。
雖未圖示，但導電層15之背面亦可與影像顯示構件3之正面直接接觸。
在一實施形態中，雖然例示了有機EL顯示裝置1作為本發明影像顯示裝置之一例，但例如不限於此，亦可舉例如液晶顯示裝置(LCD)等。
保護構件6可更具備第2硬塗層14。第2硬塗層14係配置於硬塗層13之表面。亦即，保護構件6朝表側依序具備保護樹脂層12、硬塗層13及第2硬塗層14。除了以下之處不同以外，第2硬塗層14與硬塗層13之物性及厚度等相同。在25℃下之第2硬塗層14的拉伸儲存彈性模數E'例如低於第2硬塗層14之拉伸儲存彈性模數E'。在25℃下之第2硬塗層14的拉伸儲存彈性模數E'例如小於2GPa，宜小於1.5GPa，又例如為0.5GPa以上，且宜為1GPa以上。在25℃下之第2硬塗層14的拉伸儲存彈性模數E'係可藉由以頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘之條件的溫度分散模式測定動態黏彈性來獲得。
如圖2所示，該變形例之光學積層體2亦可不設置於影像顯示構件3，而不構成有機EL顯示裝置1。詳細而言，光學積層體2係用以製作有機EL顯示裝置1之一零件，且尚未黏著於光學積層體2。此時，於第3黏著層11之背面積層有假想線所示剝離片26。光學積層體2係以單一零件的形式流通，且為產業上可利用之器件。
又，雖未圖示，但前面板4亦可不設置於偏光薄膜5，而不構成光學積層體2。詳細而言，前面板4係用以製作光學積層體2之一零件，且尚未黏著於偏光薄膜5。另，第2黏著層10亦可設置於前面板4。前面板4係以單一零件的形式流通，且為產業上可利用之器件。
如圖3所示，變形例之前面板4可不包含基板7，而僅具備保護構件6。具體而言，圖3之變形例所示前面板4不具備第1黏著層9及基板7，而僅由保護構件6構成。在此變形例中，前面板4之面內方向相位差Re(550)、厚度方向相位差Rth(550)、撓曲試驗前後之撓曲部25的面方向相位差Re(550)、撓曲試驗前後之撓曲部25的厚度方向相位差Rth(550)、光彈性係數的絕對值係各自與保護構件6之該等數值相同或近似。
較佳為前面板4更具備第1黏著層9及基板7，且基板7更包含薄玻璃板。根據此結構，可抑制彎折(以及折疊)後產生痕跡殘留(皺褶殘留等)，而維持高品質。
雖未圖示，但前面板4可不含硬塗層13及基板7，而僅具備保護樹脂層12。亦即，保護構件6僅具備保護樹脂層12。
較佳為保護構件6於厚度方向上依序具備保護樹脂層12與硬塗層13。藉此，可確實地抑制因滑動摩擦所致之保護樹脂層12的損傷。
實施例 以下顯示實施例及比較例來更具體說明本發明。另，本發明並不限定於任何實施例及比較例。又，以下記載中所用摻混比率(含有比率)、物性值、參數等具體數值，可替代成上述「用以實施發明之形態」中記載之與其等對應之摻混比率(含有比率)、物性值、參數等該記載之上限(「以下」、「小於」所定義之數值)或下限(「以上」、「大於」所定義之數值)。
[實施例1] 混合多官能丙烯酸酯(Aica Kogyo Company, Limited製，製品名「Z-850-16」)100質量份、調平劑(DIC公司製，商品名：GRANDIC PC-4100)5質量份及光聚合引發劑(Ciba Japan公司製，商品名：IRGACURE 907)3質量份，並以甲基異丁基酮稀釋來調製出塗佈劑，以使固體成分濃度達50質量%。
另外準備由日東電工公司製丙烯酸薄膜(製品名「HX-40N」，厚度40µm)構成之保護樹脂層12。
於準備好的保護樹脂層12之單面塗佈塗佈劑形成塗佈層後，將塗佈層與保護樹脂層一同在90℃下加熱2分鐘。接著，使用高壓水銀燈對塗佈層以累積光量300mJ/cm2 照射紫外線，藉此形成硬塗層13。硬塗層13的厚度為10µm。藉此，如圖3所示，製作出具備保護樹脂層12與硬塗層13之保護構件6。亦即，製作出包含保護構件6之前面板4。
[實施例2] 依與實施例1相同的方法製作出圖3所示前面板4。惟，保護樹脂層12係變更為依以下方法製作出之聚碳酸酯薄膜。
將異山梨醇81.98質量份、三環癸烷二甲醇47.19質量份、碳酸二苯酯175.1質量份及作為觸媒之碳酸銫0.2質量%水溶液0.979質量份投入反應容器中，在氮氣環境下，作為反應第1階段之步驟係將加熱槽溫度加熱至150℃，並視需求一邊攪拌一邊使原料溶解(約15分鐘)。接著將壓力從常壓設為13.3kPa，一邊以1小時的時間使加熱槽溫度升溫至190℃，一邊將產生的酚排出反應容器外。將反應容器整體在190℃下保持15分鐘後，作為第2階段之步驟係將反應容器內之壓力設為6.67kPa，以15分鐘的時間使加熱槽溫度升溫至230℃，並將產生的酚排出至反應容器外。因攪拌機之攪拌轉矩會逐漸升高，故為了以8分鐘的時間升溫至250℃並進一步排除產生之酚，係使反應容器內之壓力達至0.200kPa以下。到達預定之攪拌轉矩後，結束反應，將所生成反應物擠出至水中，而獲得聚碳酸酯樹脂的丸粒。將所得聚碳酸酯樹脂在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬300mm，設定溫度：250℃)、冷卻滾筒(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出由厚度135µm之聚碳酸酯薄膜所構成之保護樹脂層12。聚碳酸酯薄膜之折射率為1.51。
[比較例1] 依與實施例1相同的方法製作出圖3所示前面板4。惟，將保護樹脂層12變更為Mitsubishi Chemical Co.製聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(製品名；T912E50-N)。
[比較例2] 依與實施例1相同的方法製作出圖3所示前面板4。惟，將保護樹脂層12變更為KOLON公司製透明聚醯亞胺薄膜(製品名；A50)。
[實施例3] 於實施例1所製作出之保護構件6之保護樹脂層12的背面，透過由丙烯酸系黏著劑構成之第1黏著層9，貼合由薄玻璃板之日本電氣硝子公司製玻璃薄膜(商品名；G-Leaf(註冊商標)」(厚度50µm)構成之基板7。藉此製作出在厚度方向上依序具備基板7、第1黏著層9、保護樹脂層12與硬塗層13之前面板4。
[實施例4] 於實施例2所製作出之保護構件6之保護樹脂層12的背面，透過由丙烯酸系黏著劑構成之第1黏著層9，貼合由薄玻璃板即日本電氣硝子公司製玻璃薄膜(商品名；G-Leaf(註冊商標)」(厚度50µm)構成之基板7。藉此製作出在厚度方向上依序具備基板7、第1黏著層9、保護樹脂層12與硬塗層13之前面板4。
[比較例3] 於比較例1所製作出之保護構件6之保護樹脂層12的背面，透過由丙烯酸系黏著劑構成之第1黏著層9，貼合由薄玻璃板之日本電氣硝子公司製玻璃薄膜(商品名；G-Leaf(註冊商標)」(厚度50µm)構成之基板7。藉此製作出在厚度方向上依序具備基板7、第1黏著層9、保護樹脂層12與硬塗層13之前面板4。
[比較例4] 於比較例2所製作出之保護構件6之保護樹脂層12的背面，透過由丙烯酸系黏著劑構成之第1黏著層9，貼合由薄玻璃板之日本電氣硝子公司製玻璃薄膜(商品名；G-Leaf(註冊商標)」(厚度50µm)構成之基板7。藉此製作出在厚度方向上依序具備基板7、第1黏著層9、保護樹脂層12與硬塗層13之前面板4。
[評估] 針對實施例1~4及比較例1~4之前面板4測定以下項目。又，亦針對硬塗層13與保護樹脂層12測定以下項目。將該等結果列示於表1。
[測定面內方向相位差Re(550)及厚度方向相位差Rth(550)] 使用Axometrics公司製之Axoscan測定前面板4之面內方向相位差Re(550)。測定波長為550nm，測定溫度為23℃。 將前面板4裁切成50mm×50mm的大小，並將其作為測定試樣。 保護樹脂層12之面內方向相位差Re(550)亦依與上述相同方式測定。 硬塗層13之面內方向相位差Re(550)係依以下程序求得。首先，測定具備硬塗層13與保護樹脂層12之保護構件6的面內方向相位差Re(550)。另外僅測定保護樹脂層12之面內方向相位差Re(550)。 取得該等之差作為硬塗層13之面內方向相位差Re(550)。
[測定光彈性係數] 使用UNIOPT公司製之自動雙折射測定裝置ABR-10A-10AT，測定前面板4、硬塗層13與保護樹脂層12各自的光彈性係數。測定波長為632nm，測定荷重範圍為0~2N，計算荷重範圍為0.5~2N，荷重速度為0.1mm/min，測定溫度為23℃。
[表1]
Figure 02_image005
另，上述發明雖提供作為本發明例示之實施形態，但僅為例示，不得作限定解釋。該技術領域之熟知此技藝者明瞭可知本發明變形例包含於後述申請專利範圍中。
產業上之可利用性 前面板係設置於光學積層體。光學積層體係設置於影像顯示裝置。
1:有機EL顯示裝置 2:光學積層體 3:影像顯示構件 4:前面板 5:偏光薄膜 6:保護構件 7:基板 8:黏著層 9:第1黏著層 10:第2黏著層 11:第3黏著層 12:保護樹脂層 13:硬塗層 14:第2硬塗層 15:導電層 16:遮蔽層 17:偏光件保護薄膜 18:偏光件 19:光學補償層 20:感測器電極部 21:顯示區域 22:顯示區域 25:撓曲部 26:剝離片 27:邊 35:玻璃板 L:距離 Re(550):以波長550nm之光測定的面內方向相位差 Δ:撓曲試驗前後之面內方向相位差之差
圖1係本發明影像顯示裝置之一實施形態之有機EL顯示裝置的截面圖。 圖2係本發明光學積層體之一實施形態的截面圖。 圖3係本發明前面板之一實施形態的截面圖。 圖4係說明撓曲試驗中前面板撓曲狀態的截面圖。
1:有機EL顯示裝置
2:光學積層體
3:影像顯示構件
4:前面板
5:偏光薄膜
6:保護構件
7:基板
8:黏著層
9:第1黏著層
10:第2黏著層
11:第3黏著層
12:保護樹脂層
13:硬塗層
14:第2硬塗層
15:導電層
16:遮蔽層
17:偏光件保護薄膜
18:偏光件
19:光學補償層
20:感測器電極部
21:顯示區域
22:顯示區域
25:撓曲部
27:邊

Claims (12)

  1. 一種前面板，特徵在於：其以波長550nm之光測定的面內方向相位差Re(550)為10nm以下。
  2. 如請求項1之前面板，其於厚度方向上依序具備保護樹脂層與硬塗層。
  3. 如請求項2之前面板，在以前述硬塗層為內側且直徑4mm之狀態下，將前述前面板以撓曲成180度之狀態固定，投入85℃85%RH之環境下100小時後，展開前述前面板，撓曲部之面內方向相位差Re(550)與前述撓曲試驗前之前述撓曲部的面內方向相位差Re(550)之差Δ為10nm以下。
  4. 如請求項2或3之前面板，其更具備基板與黏著層， 前述基板、前述黏著層、前述保護樹脂層與前述硬塗層依序配置於厚度方向上， 且前述基板包含薄玻璃板。
  5. 如請求項2或3之前面板，其中前述保護樹脂層的厚度為30µm以上。
  6. 如請求項4之前面板，其中前述保護樹脂層的厚度為30µm以上。
  7. 如請求項1至3中任一項之前面板，其在23℃下之光彈性係數的絕對值為100.0×10-13 cm2 /dyn以下。
  8. 如請求項4之前面板，其在23℃下之光彈性係數的絕對值為100.0×10-13 cm2 /dyn以下。
  9. 如請求項5之前面板，其在23℃下之光彈性係數的絕對值為100.0×10-13 cm2 /dyn以下。
  10. 如請求項6之前面板，其在23℃下之光彈性係數的絕對值為100.0×10-13 cm2 /dyn以下。
  11. 一種光學積層體，特徵在於其朝視辨側依序具備： 偏光薄膜，及 如請求項1至10中任一項之前面板。
  12. 一種影像顯示裝置，特徵在於其朝視辨側依序具備： 影像顯示構件，及 如請求項11之光學積層體。
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