TW202133131A

TW202133131A - 顯示裝置

Info

Publication number: TW202133131A
Application number: TW109139106A
Authority: TW
Inventors: 石建中; 謝朝樺; 林芳瑩; 鄭凱
Original assignee: 群創光電股份有限公司
Priority date: 2020-02-19
Filing date: 2020-11-10
Publication date: 2021-09-01
Also published as: CN113284428A; TWI775209B

Abstract

本揭露的實施例提供一種顯示裝置，包括子像素區、間隔件、發光元件以及驅動電路。間隔件將子像素區隔離出第一區以及第二區。發光元件位於第一區及第二區的至少一者中。驅動電路電性連接至第一區及第二區以驅動發光元件。

Description

顯示裝置

本揭露的實施例是有關於一種顯示裝置。

發光單元(例如發光二極體（light emitting diode，LED）)的轉移是用於製造具顯示功能的電子裝置的方法中的關鍵步驟。目前已經提出了數種在不同基板之間轉移LED的方法。但是，由於LED轉移技術的資訊有限，因此LED巨量轉移（mass transfer）、選擇性轉移（selective transfer）或修補轉移（repair transfer）的知識仍有不足，而面臨不同的問題。因此，電子裝置的研發須持續更新與調整。

本揭露是針對一種顯示裝置，其可減少成本或具有良好的顯示品質，但本揭露不限於此。

根據本揭露的實施例，顯示裝置包括子像素區、間隔件、發光元件以及驅動電路。間隔件將子像素區隔離出第一區以及第二區。發光元件位於第一區及第二區的至少一者中。驅動電路電性連接至第一區及第二區以驅動發光元件。

基於上述，由於本揭露實施例的顯示裝置具有間隔件以隔離出第一區及第二區，因此在轉移發光元件時，可以將發光元件設置於被間隔件圍繞的第一區或第二區中以達成精準定位。此外，由於相鄰的發光元件可被間隔件隔離開，因此可減少影響相鄰的發光元件彼此的設置，另外，由於相鄰的發光元件可被間隔件隔離開，因此可以減少相鄰的發光元件於發光時產生混光的問題，或可以提升影像出光的品質。基於上述，顯示裝置能具有良好的顯示品質。此外，本揭露實施例的顯示裝置可選擇性的對子像素區進行修補，以減少所需轉移的發光元件的數量。因此，顯示裝置可降低成本的需求。本揭露的實施例可具備上述部分或全部的優點，但也可以具備其他優點，並不限於此。

通過參考以下的詳細描述並同時結合附圖可以理解本揭露，須注意的是，為了使讀者能容易瞭解及為了圖式的簡潔，本揭露中的多張圖式只繪出電子裝置的一部分，且圖式中的特定元件並非依照實際比例繪圖。此外，圖中各元件的數量及尺寸僅作為示意，並非用來限制本揭露的範圍。

揭露通篇說明書與後附的權利要求中會使用某些詞彙來指稱特定元件。本領域技術人員應理解，電子設備製造商可能會以不同的名稱來指稱相同的元件。本文並不意在區分那些功能相同但名稱不同的元件。在下文說明書與權利要求書中，“包括”、“含有”、“具有”等詞為開放式詞語，因此其應被解釋為“含有但不限定為…”之意。因此，當本揭露的描述中使用術語“包括”、“含有”及/或“具有”時，其指定了相應的特徵、區域、步驟、操作及/或構件的存在，但不排除一個或多個相應的特徵、區域、步驟、操作及/或構件的存在。

本文中所提到的方向用語，例如：“上”、“下”、“前”、“後”、“左”、“右”等，僅是參考附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明，而並非用來限制本揭露。在附圖中，各圖式繪示的是特定實施例中所使用的方法、結構及/或材料的通常性特徵。然而，這些圖式不應被解釋為界定或限制由這些實施例所涵蓋的範圍或性質。舉例來說，為了清楚起見，各膜層、區域及/或結構的相對尺寸、厚度及位置可能縮小或放大。

應當理解到，當組件或膜層被稱為“連接至”另一個組件或膜層時，它可以直接連接到此另一組件或膜層，或者兩者之間存在有插入的組件或膜層。當組件被稱為“直接連接至”另一個組件或膜層時，兩者之間不存在有插入的組件或膜層。另外，當構件被稱為“耦接於另一個構件（或其變體）”時，它可以直接地連接到此另一構件，通過一或多個構件間接地連接（例如電性接）到此另一構件。

在本揭露中，長度與寬度的量測方式可以是採用光學顯微鏡、或電子顯微鏡量測而得，厚度則可以由電子顯微鏡中的剖面影像量測而得，但不以此為限。另外，任兩個用來比較的數值或方向，可存在著一定的誤差。

術語“大約”、“等於”、“相等”或“相同”、“實質上”或“大致上”一般解釋為在所給定的值或範圍的20%以內，或解釋為在所給定的值或範圍的10%、5%、3%、2%、1%或0.5%以內。

本揭露中所敘述之一結構（或層別、組件、基材）位於另一結構（或層別、元件、基材）之上，可以指二結構相鄰且直接連接，或是可以指二結構相鄰而非直接連接，非直接連接是指二結構之間具有至少一仲介結構（或仲介層別、仲介組件、仲介基材、仲介間隔），一結構的下側表面相鄰或直接連接于仲介結構的上側表面，另一結構的上側表面相鄰或直接連接于仲介結構的下側表面，而仲介結構可以是單層或多層的實體結構或非實體結構所組成，並無限制。在本揭露中，當某結構配置在其它結構“上”時，有可能是指某結構“直接”在其它結構上，或指某結構“間接”在其它結構上，即某結構和其它結構間還夾設有至少一結構。

本揭露說明書內的“第一”、“第二”...等在本文中可以用於描述各種元件、部件、區域、層及/或部分，但是這些元件、部件、區域、及/或部分不應受這些術語的限制。這些術語僅用於將一個元件、部件、區域、層或部分與另一個元件、部件、區域、層或部分區分開。因此，下面討論的“第一元件”、“部件”、“區域”、“層”、或“部分”是用於與“第二元件”、“部件”、“區域”、“層”、或“部分”區隔，而非用於限定順序或特定元件、部件、區域、層及/或部分。

在本揭露中，以下所述的各種實施例系可在不背離本揭露的精神與範圍內做混合搭配使用，例如一實施例的部分特徵可與另一實施例的部分特徵組合而成為另一實施例。

須知悉的是，以下所舉實施例可以在不脫離本揭露的精神下，可將數個不同實施例中的特徵進行替換、重組、混合以完成其他實施例。各實施例間特徵只要不違背發明精神或相衝突，均可任意混合搭配使用。

現將詳細地參考本發明的示範性實施例，示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能，相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。

本揭露的電子裝置可包括顯示裝置、天線裝置、感測裝置、拼接裝置、透明顯示裝置、或上述之組合，但不以此為限。電子裝置可為可捲曲、可拉伸、可彎折或可撓式電子裝置。電子裝置可例如包括液晶(liquid crystal) 、發光二極體(light emitting diode，LED)、量子點(quantum dot，QD)、螢光(fluorescence)、磷光(phosphor) 、其他適合之材料，或前述之組合。發光二極體可例如包括有機發光二極體(organic light emitting diode，OLED)、無機發光二極體(inorganic light emitting diode)、毫米/次毫米發光二極體(mini LED)、微發光二極體(micro LED)或量子點發光二極體(quantum dot，QD，可例如為QLED、QDLED )，但不以此為限。天線裝置可例如是液晶天線，但不以此為限。拼接裝置可例如是顯示器拼接裝置或天線拼接裝置，但不以此為限。需注意的是，電子裝置可為前述之任意排列組合，但不以此為限。此外，電子裝置的外型可為矩形、圓形、多邊形、具有彎曲邊緣的形狀或其他適合的形狀。電子裝置可以具有驅動系統、控制系統、光源系統、層架系統…等周邊系統以支援顯示裝置、天線裝置或拼接裝置。

圖1A至圖1C為本揭露一實施例的顯示裝置的製作流程的上視示意圖。圖2A至圖2B為本揭露一實施例的顯示裝置進行巨量轉移的剖視示意圖。圖2C至圖2D為本揭露一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。為了附圖清楚及方便說明，圖1A至圖1C、圖2A至圖2B及圖2C至圖2D省略繪示了若干元件。請先參考圖1A、圖1B及圖1C，顯示裝置10包括基板100、多個子像素區120、多個發光元件220以及驅動電路180。在本實施中，多個發光元件220可分別設置於子像素區120中，且驅動電路180可電性連接至多個發光元件220與驅動這些發光元件220。發光元件220可在驅動後進行發光，藉此多個發光元件220的光可以組合以產生影像。如此一來，顯示裝置10可具有良好的顯示品質。以下將簡單說明顯示裝置10的製程。

請參考圖1A，在顯示裝置10的製程流程中，首先提供基板100。依據不同的需求，基板100可以為硬質基板或可撓性基板，基板100的材料例如包括玻璃、石英、陶瓷、藍寶石或塑膠等，但本揭露並不以此為限。在另一實施例中，基板100的材料可包括合適的不透明材料。在一些實施例中，當基板100為可撓基板時可包括合適的可撓材料，例如聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚醯亞胺(polyimide，PI)、聚丙烯(polypropylene，PP)或聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、其他合適的材料或前述材料的組合，但並不以此為限。在一實施例中，基板100可為單層或多層結構，但不限於此。此外，基板100的透光率不加以限制，也就是說，基板100可為透光基板、半透光基板或不透光基板。

在一些實施例中，多層絕緣層及/或介電層（圖未示）可以層疊於基板100上。絕緣層及/或介電層可以為單層或多層結構，且可例如包含有機材料(例如氮化矽等)、無機材料或前述之組合，但不以此為限。

在本實施例中，驅動電路180可設置於基板100上。驅動電路180可包括主動元件、被動元件或導線，或其他合適的元件，但不以此為限。如此一來，基板100又可稱為驅動基板（driving substrate）。在本實施例中，驅動電路180可以電性連接至子像素區120以驅動後續設置於子像素區120中的發光元件220，將於後續說明書中再做說明。須注意的是，圖式中的驅動電路180僅為例示性繪示，實際的驅動電路180並不限於只位於基板100的周邊區域。舉例來說，驅動電路可包含多個電晶體(圖未示)，電晶體可設置於子像素區120中以驅動發光元件220，但不限於此。

如圖1A所示，多個子像素區120可以定義於基板100上。在本實施例中，子像素區120可定義為發光元件220後續設置於基板100上的區域，但不限於此。這些子像素區120可以大致沿著X軸方向排列成多個橫行（rows），且大致沿著Y軸方向排列成多個直列（columns）。也就是說，多個子像素區120可以使後續設置的發光元件220定義為實質上排成陣列的圖案，但本實施例不以此為限。在本實施例中，X軸實質上垂直於Y軸或Z軸，且Y軸實質上垂直於X軸或Z軸。

在本實施例中，每一個子像素區120的間距P（pitch）可定義為：在X軸上，一個子像素區120’的一側邊122’至與子像素區120’相鄰的另一個子像素區120’’的對應另一側邊122’’之間的距離，例如為最短距離。子像素區120的間距P可大於等於1微米，且小於等於1200微米（1μm≦P≦1200μm），例如10微米、100微米、500微米、或1000微米，但本實施例不以此為限。

接著，提供多個發光元件220。發光元件220可設置或形成於晶圓200（例如：藍寶石的生長基板）或載板300上，但不限於此。如圖1A及圖2A所示，多個發光元件220可形成於晶圓200上。所述發光元件220於晶圓200上的位置可大致對應子像素區120的位置。在一些實施例中，所述發光元件220於晶圓200上的位置也可不對應子像素區120的位置。舉例來說，每個發光元件220可例如為發光二極體（LED）、有機發光二極體、或微型發光二極體（micro LED），但不以此為限。此外，發光元件220還可例如是有機發光元件或無機發光元件。微型發光元件220之結構可為P-N二極體、P-I-N二極體、或其它合適的結構，但不限於此。發光元件220可為有機材料(例如：有機高分子發光材料、有機小分子發光材料、有機配合物發光材料、或其它合適的材料、或前述材料之組合)、無機材料(例如：鈣鈦礦材料、稀土離子發光材料、稀土螢光材料、半導體發光材料、或其它合適的材料、或前述材料之組合)、或其它合適的材料、或前述材料之組合。

在本實施例中，可透過載板300將多個發光元件220轉移到基板100上。請參考圖1B、圖2A及圖2B，載板300上可設置黏著層320。載板300可靠近晶圓200，使黏著層320接觸發光元件220，以選擇性地將多個發光元件220吸附或結合至載板300的黏著層320上。

接著，進行選擇性轉移製程（selective transfer process），包括將載板300移動至基板100的上方，再將所選擇性結合的多個發光元件220對應地設置於基板100上的子像素區120。在本實施例中，基板100上設置有黏著層140，以將多個發光元件220吸附或結合至黏著層140上。在一些實施例中，可透過其他金屬接合的方式將多個發光元件220接合至基板100。如此一來，完成將多個發光元件220從晶圓200轉置到基板100的選擇性轉移製程步驟。上述的選擇性轉移製程又可稱為巨量選擇性轉移製程（mass selective transfer process），且載板300又可稱為巨量轉移載板（mass transfer carrier），但不限於此。

在另一些實施例中，也可以不透過載板300進行選擇性轉移製程，而是直接將晶圓200上的多個發光元件220轉移到基板100上，但不以此為限。

在本實施例中，將發光元件220自載板300轉移到基板100上的方法包括以黏著層140的黏著力將發光元件220結合或固定至基板100上，但不以此為限。在一些實施例中，載板300也可以透過靜電力（electrostatic force）或磁力（magnetic force）的方式將發光元件220結合到載板300上。接著，再將發光元件220放置到基板100上。在本實施例中，上述轉移製程所使用的方法又可稱為取放技術(pick and place)，但本揭露不限於使用上述的方法進行轉移製程，例如可以使用金屬接合的方式。

請參考圖1B，子像素區120可定義出第一區121以及第二區122。第一區121及第二區122可定義為子像素區120在X軸上分隔出的兩個相鄰區域。在一些實施例中，於俯視上（或稱Z軸上）第一區121與第二區122的加總面積會小於或等於子像素區120的面積。第一區121的面積與第二區122的面積可以大致相同或不同，本實施例不以此為限。也就是說，第一區121的面積可以大於、等於或小於第二區122的面積。

在進行上述轉移製程後，發光元件220可以轉移至第一區121中。也就是說，第一區121可容置至少一個發光元件220。在上述的設置下，第一區121又可稱為子畫素預定區，而第二區122可做為備用區(redundant region)，但不限於此。如圖1B所示，發光元件220可以對應子像素區120的第一區121，並以陣列方式設置於基板100上。

在一些實施中，第一區121或第二區122中可分別設置有多個接墊(圖未示)。發光元件220的電極可接合至上述的接墊。驅動電路180可透過導線182電性連接至第一區121及第二區122，導線182可電性連接至上述的接墊，但不限於此。在上述的設置下，驅動電路180可透過上述的多個接墊電性連接至發光元件220，以驅動發光元件220。藉此，發光元件220可以發光，且具有多個發光元件220的顯示面板10可以顯示出影像圖案。

如圖1B所示，每一個第一區121容置的發光元件220的數量可以為一個，但不以此為限。在一些實施例中，第一區121容置的發光元件220的數量可以大於或等於1，例如為兩個、三個或四個或更多個，以使用者的需求而定。

接著，在完成轉移製程的步驟後，進行瑕疵檢測(defect inspection)的步驟，以在第一區121中檢查出NG（no good）的發光元件240。在本實施例中，NG的定義為不符合檢驗規格。舉例來說，NG的發光元件240可能發光超出預設的平均亮度（即過亮）、發光低於預設的平均亮度（即過暗）或不發光（即不亮），因此被認定為不符合檢驗規格，但不限於此。或者是，NG的發光元件240可能受有破損而導致外觀有缺陷，因而被認定為不符合檢驗規格。此外，NG的發光元件240的尺寸大於預設的平均尺寸或小於預設的平均尺寸也可被認定為不符合檢驗規格，但本實施例不以上述舉例為限。在一些實施例中，在第一區121中未設置有發光元件也可被認定為不符合檢驗規格，但不限於此。

瑕疵檢查的方法包括將電源提供到基板100以使發光元件220發光，並且透過檢測設備(未繪示)觀察並定位出NG的發光元件240。舉例來說，檢測設備可包括光學單元以及資料處理單元。光學單元例如為電荷耦合器件（charge-coupled device，CCD）的相機，但不以此為限。資料處理單元例如為計算機(computer)，但不以此為限。在進行瑕疵檢測的步驟時，光學元件可感測發光元件220所發出的光以產生感測信號，接著光學元件再將感測信號傳送至資料處理單元進行分析。藉此，上述被定義為NG的發光元件240可被檢測出來並進行定位。在一些實施例中，光學單元還可以觀察發光元件220的外觀的方式來確認發光元件220是否有缺陷或其尺寸是否大於或小於預設的平均尺寸，以判定發光元件220是否為NG的發光元件240。在另一些實施例中，光學單元可以觀察第一區121中是否設置有發光元件。若在第一區121中沒有設置發光元件，則檢測設備可判斷有瑕疵，但不以此為限。

在一些實施例中，瑕疵檢查的方法還包括將電源提供到基板100以使發光元件220發光，再透過檢測設備(未繪示)來測試發光元件220是否有電性異常的情形。若發光元件220被判定為電性異常，則可被視為NG的發光元件240。藉此，NG的發光元件240可被檢測出來並進行定位。

在另一些實施例中，瑕疵檢查的方法還包括將電源提供到基板100以使發光元件220發光，使用者可再透過檢測設備(未繪示)或目視來觀察發光元件220的發光與否來判定發光元件220是否符合檢驗規格（亦即是否為NG的發光元件240）。須注意的是，上述的瑕疵檢查的方法僅為舉例說明，並非用以限制本揭露的實施例。實際上，其他合適用於檢測發光元件是否符合檢驗規格的方法也適用於本實施例的顯示裝置10。

請參考圖1B、圖1C及圖2C。接著，於瑕疵檢查的步驟後，對顯示裝置10進行選擇性修補轉移製程（selective repair transfer process），包括使載板300靠近晶圓200，使黏著層320接觸發光元件220’，以選擇性地將發光元件220’轉移(例如吸附或結合)至載板300的黏著層320上。圖1C示出了將發光元件220’轉移到載板300後的晶圓200，且被選擇性轉移的發光元件220’以虛線表示於圖1C中。

請參考圖2D。接著，可將載板300移動至基板100的上方，再將所選擇性結合的發光元件220’對應地設置於基板100上的子像素區120的第二區122。發光元件220’可電性連接第二區122中的接墊。如此一來，完成將發光元件220’自晶圓200轉置到基板100的選擇性修補轉移製程步驟。上述的選擇性修補轉移製程又可稱為巨量選擇性修補轉移製程（mass selective repair transfer process），但不限於此。

在另一些實施例中，也可以不透過載板300進行選擇性修補轉移製程，而是直接將晶圓200上的發光元件220’轉移到基板100上，但不以此為限。

在本實施例中，將發光元件220’自載板300轉移到基板100上的方法包括以黏著層140的黏著力將發光元件220’結合或固定至基板100上，但不以此為限。在一些實施例中，載板300也可以透過靜電力、磁力、或金屬接合的方式將發光元件220’結合到載板300上。接著，再將發光元件220’放置到基板100上。在本實施例中，選擇性轉移製程步驟及選擇性修補轉移製程步驟中所使用的轉移製程方法可相同或不同，但本揭露不限於使用上述的方法進行轉移製程。

在進行上述修補轉移製程後，發光元件220’可以轉移至第二區122中。也就是說，發光元件220’可以鄰近第一區121中的NG的發光元件240設置於第二區122。在本實施例中，第二區122在進行修補轉移製程時可做為備用區，以容置至少一個發光元件220’。如圖1C所示，發光元件220’可以對應子像素區120的第二區122並以陣列方式設置於基板100上，但不限於此。

如圖1C所示，每一個第二區122容置的發光元件220’的數量可以為一個，但不以此為限。在一些實施例中，第二區122容置的發光元件220’的數量可以大於或等於0，例如為零個、一個、兩個、三個或四個或更多個，以使用者的需求而定。舉例來說，當一個子像素區120的第一區121中的發光元件220為符合檢驗規格的發光元件220時，可不在同一個子像素區120的第二區122中設置發光元件220’，因此第二區122容置的發光元件220’的數量可為0。

在一些實施例中，在修補轉移製程步驟後，可對驅動電路180的導線182進行切斷的製程，以把電性連接至第一區121的導線182切斷，但不以此為限。在上述的設置下，驅動電路180不電性連接至發光元件220中為NG的發光元件240。如此一來，顯示裝置10可具有良好的電性品質。

在本實施例中，第一區121與第二區122可以並聯的方式與導線182連接並電性連接至一個驅動電路180，但不以此為限。在其他實施例中，第一區121與第二區122可分別連接至不同的驅動電路180。

在一些實施例中，在修補轉移製程步驟後，可再次進行瑕疵檢測的步驟以在第二區122中檢查出NG的發光元件240。NG的定義可包括上述不符合檢驗規格的舉例，故於此不再贅述。當在第二區122中檢查出NG的發光元件240時，可再次進行修補轉移製程步驟以將發光元件220’轉移至第二區122中並與驅動電路180電性連接。如此一來，可完成具有良好顯示品質的顯示裝置10。

值得一提的是，本揭露一實施例的顯示裝置10的子像素區120能容置的發光元件220的總數量上限為n，而第一區121中容置的發光元件220的數量為m，且第二區122容置的發光元件220的數量為y。子像素區120能容置的發光元件220的總數量上限n大於或等於第一區121的發光元件220的數量m與第二區122的發光元件220’的數量y的和（例如n≥m+y）。舉例來說，當第一區121中容置有一個NG的發光元件240時（即m=1），可在第二區122中至少設置一個符合檢驗規格的發光元件220’（即y=1）。因此，子像素區120能容置的發光元件220的總數量可為大於或等於2（即n≥2）。以另一個例子來說，當第一區121中容置有一個NG的發光元件240時（即m=1），可在第二區122中設置二個符合檢驗規格的發光元件200（即y=2）。因此，子像素區120能容置的發光元件220的總數量可為大於或等於3（即n≥3）。上述舉例僅為舉例說明，並非用以限制本揭露的實施例。

在上述的設置下，本實施例的顯示裝置10可進行巨量選擇性轉移製程以在第一區121中設置發光元件220。接著，進行瑕疵檢測製程來檢查出NG的發光元件240。然後進行巨量選擇性修補轉移製程以在第二區122中設置發光元件220’。如此一來，可選擇性的對具有NG的發光元件240的子像素區120進行修補，以減少所需轉移的發光元件220、220’的數量。因此，顯示裝置10可降低成本的需求。此外，顯示裝置10的製作製程可以簡單化。另外，顯示裝置10可具有良好的顯示品質。

以下將列舉其他實施例以作為說明。在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖3A至圖3B為本揭露另一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。為了附圖清楚及方便說明，圖3A及圖3B省略繪示了若干元件。本實施例的顯示裝置10A大致相似於圖2C及圖2D的顯示裝置10，因此兩實施例中相同與相似的構件於此不再重述。本實施例不同於顯示裝置10之處主要在於，在進行選擇性修補轉移製程的步驟中，可直接將晶圓200上的發光元件220’選擇性地轉移至基板100上。舉例來說，將晶圓200移動至基板100的上方，接著進行雷射剝離製程(laser lift-off process)。雷射剝離製程包括以能量束LB照射晶圓200上的發光元件220’對應的位置。能量束LB可以為雷射束（laser beam），但不以此為限。在一些實施例中，能量束LB的波長範圍可以是200 奈米(nm)至1064 奈米（200 nm ≤波長≤ 1064 nm）的範圍之間，但不以此為限。在另一些實施例中，雷射束LB的波長可以是266 nm、308 nm、355 nm、532 nm或1064 nm，但不以此為限。

舉例來說，在上述的設置下，在晶圓200（例如為發光元件220的生長基板）或設置於晶圓200上的膜層受到能量束LB照射時，於照射處可產生化學反應，使得氮氣(nitrogen gas)可在發光元件220與晶圓200的介面產生，但不限於此。因此，發光元件220可以從晶圓200上分離出來。

在另一些實施例中，也可以先將晶圓200上的發光元件220’轉移至載板300的黏著層320上，再以載板300進行修補轉移製程。舉例來說，將載板300移動至基板100的上方，以進行雷射剝離製程。舉例來說，在載板300受到能量束LB照射時，受到照射的黏著層320可產生化學反應，使得黏著層320的黏著力降低或使得黏著層320被蒸發（或被燒蝕（ablation））。因此，發光元件220’可以從載板300上分離出來。分離出來的發光元件220’可結合並固定至基板100的黏著層140。

在另一些實施例中，載板300受到雷射的能量束LB照射時，載板300上的發光元件200’可受到雷射的光衝擊力，而脫離黏著層320。藉此，發光元件220’可以從載板300上分離出來。

在本實施例中，能量束LB可沿著Z軸照射在晶圓200遠離基板100的一面，以減少能量束LB對基板100的黏著層140的影響，但不以此為限。

在上述的設置下，發光元件220’可鄰近第一區121中的NG的發光元件240設置於第二區122。由於本實施例的顯示裝置10A可選擇性地修補具有NG的發光元件240的子像素區120，因此顯示裝置10A可降低成本的需求。此外，顯示裝置10A的製作製程可以簡單化。另外，顯示裝置10A可具有良好的顯示品質。

圖4A至圖4B為本揭露另一實施例的顯示裝置進行巨量轉移的剖視示意圖。圖4C至圖4D為本揭露另一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。為了附圖清楚及方便說明，圖4A至圖4D省略繪示了若干元件。本實施例的顯示裝置10B大致相似於圖2A至圖2D的顯示裝置10，因此兩實施例中相同與相似的構件於此不再重述。本實施例不同於顯示裝置10之處主要在於，進行選擇性轉移製程的步驟中，可直接將晶圓200上的發光元件220選擇性地轉移至基板100上。舉例來說，於圖4A及圖4B中，將晶圓200移動至基板100的上方，接著進行雷射剝離製程。在上述的雷射剝離製程的步驟中，晶圓200（例如為發光元件220的生長基板）受到能量束LB照射，使發光元件220可以從晶圓200上分離出來。分離出來的發光元件220可結合並固定至基板100的黏著層140，且發光元件220可對應第一區121設置。在本實施例中，雷射剝離製程的步驟中所使用的能量束LB的波長範圍可與前述實施例所示得波長範圍相同或不同，故於此不再贅述，且本實施例不加以限制。

接著，進行瑕疵檢測的步驟後，可檢測出並定位位於第一區121中的NG的發光元件240。然後，進行選擇性修補轉移製程的步驟。在本實施例中，可直接將晶圓200上的發光元件220’選擇性地轉移至基板100上。舉例來說，於圖4C及圖4D中，將晶圓200移動至基板100的上方，接著進行雷射剝離製程。在上述的雷射剝離製程的步驟中，晶圓200（例如為發光元件220’的生長基板）受到能量束LB照射，使發光元件220’可以從晶圓200上分離出來。分離出來的發光元件220’可結合並固定至基板100的黏著層140，且發光元件220’對應鄰近NG的發光元件240的第二區122設置。

在另一些實施例中，也可以先將晶圓200上的發光元件220’轉移至載板300的黏著層320上，再以載板300進行修補轉移製程。舉例來說，將載板300移動至基板100的上方，以進行雷射剝離製程。在載板300受到能量束LB照射時，可使黏著層320的黏著力降低或使得黏著層320被蒸發（或被燒蝕）。因此，發光元件220’可以從載板300上分離出來。分離出來的發光元件220’可結合並固定至基板100的黏著層140，且對應鄰近NG的發光元件240的第二區122設置。

在上述的設置下，發光元件220’可鄰近第一區121中的NG的發光元件240設置於第二區122。由於本實施例的顯示裝置10B可選擇性地修補具有NG的發光元件240的子像素區120，因此顯示裝置10B可降低成本的需求。此外，顯示裝置10B的製作製程可以簡單化。另外，顯示裝置10B可具有良好的顯示品質。

圖5A至圖5C為本揭露再一實施例的顯示裝置的製作流程的上視示意圖。圖6A至圖6B為本揭露再一實施例的顯示裝置進行巨量轉移的剖視示意圖。圖6C至圖6D為本揭露再一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。為了附圖清楚及方便說明，圖5A至圖5C、圖6A至圖6B及圖6C至圖6D省略繪示了若干元件。本實施例的顯示裝置10C大致相似於圖1A至圖1C及圖2A至圖2D的顯示裝置10，因此兩實施例中相同與相似的構件於此不再重述。本實施例不同於顯示裝置10之處主要在於，顯示裝置10C還包括間隔件160。舉例來說，間隔件160設置於基板100的黏著層140上。間隔件160的材料包括可圖案化的有機材料或光阻（photoresist）材料。舉例來說，有機材料包括丙烯酸系樹脂（acrylic resin）、矽樹脂（silicone）或光敏樹脂（photo resin）。間隔件160可透過圖案化製程分隔子像素區120的第一區121及第二區122，但不限於此。圖案化製程包括旋塗製程(spin coating process)、狹縫塗佈製程（slit coating process）、印刷製程（printing process）或光微影製程（photolithography process），但不以此為限。

請參考圖5A及圖6A，在本實施例中，間隔件160在圖案化製程後可具有多個開口對應重疊子像素區120的第一區121以及第二區122。從另一角度來說，間隔件160可以環繞子像素區120的第一區121及第二區122，以隔離出第一區121以及第二區122，但不限於此。詳細來說，間隔件160可包括主體部162以及擋牆部164。主體部162及擋牆部164可環繞出重疊第一區121以及第二區122的開口，且擋牆部164可位於第一區121與第二區122之間。也就是說，圖案化後的間隔件160可透過間隔件160的擋牆部164在子像素區120中隔離出第一區121與第二區122。在本實施例中，第一區121與第二區122可定義為由主體部162及擋牆部164所環繞的開口所投影的區域，但不限於此。

在本實施例中，間隔件160例如是連續的。舉例來說，間隔件160的主體部162與擋牆部164可以連接成一體的結構，且以開口重疊第一區121與第二區122，但本實施例不以此為限。在一些實施例中，間隔件160也可以為不連續的。舉例來說，間隔件160可以包括多個彼此分離的擋牆部164位於第一區121與第二區122之間以分隔出第一區121與第二區122。如此一來，第一區121與第二區122的定義可以是在子像素區120中，在擋牆部164相對兩側的兩個鄰接區域。

請參考圖5A、圖5B、圖6A及圖6B，本實施例在進行選擇性轉移製程的步驟中，可直接將晶圓200上的發光元件220選擇性地轉移至基板100上。舉例來說，於圖6A及圖6B中，將晶圓200移動至基板100的上方，接著進行雷射剝離製程。在上述的雷射剝離製程的步驟中，晶圓200（例如為發光元件220的生長基板）受到能量束LB照射，使發光元件220可以從晶圓200上分離出來。分離出來的發光元件220可結合並固定至基板100的黏著層140，且發光元件220對應第一區121設置。舉例來說，發光元件220可設置於間隔件160所環繞出的開口中，而在第一區121中被主體部162以及擋牆部164所圍繞。

接著，進行瑕疵檢測的步驟後，可檢測出並定位位於第一區121中的NG的發光元件240。然後，進行選擇性修補轉移製程的步驟。在本實施例中，可直接將晶圓200上的發光元件220’選擇性地轉移至基板100上。舉例來說，於圖6C及圖6D中，將晶圓200移動至基板100的上方，接著進行雷射剝離製程。在上述的雷射剝離製程的步驟中，晶圓200（例如為發光元件220’的生長基板）可受到能量束LB照射，使發光元件220’可以從晶圓200上分離出來。分離出來的發光元件220’可結合並固定至基板100的黏著層140，且發光元件220’對應鄰近NG的發光元件240的第二區122設置。舉例來說，發光元件220’可設置於間隔件160所環繞出的開口中，而在第二區122中被主體部162以及擋牆部164所圍繞。

在其他實施例中，於進行選擇性轉移製程的步驟或選擇性修補轉移製程的步驟時，也可以透過載板300將多個發光元件220或發光元件220’轉移到基板100上。載板300可以透過黏著層320的黏著力、靜電力或磁力的方式將發光元件220結合到載板300上，再將發光元件220’放置到基板100上，但不以此為限。

在另一些實施例中，選擇性轉移製程的步驟或選擇性修補轉移製程的步驟也可以分別任意地搭配透過黏著力、靜電力或磁力的方式以及雷射剝離製程的方式來轉移發光元件220，本揭露不以此為限。

在本實施例中，以圖5C及圖6D所示顯示裝置10C舉例說明，子像素區120會在第一區121及第二區122的兩者中分別容置發光元件220。舉例來說，第一區121具有NG的發光元件240，而第二區122具有經由選擇性修補轉移的發光元件220’，但不以此為限。在一些實施例中，容置於第一區121的發光元件220及容置於第二區122的發光元件220中的一者為NG的發光元件240。在另一些實施例中，容置於第一區121的發光元件220及容置於第二區122的發光元件220中的至少一者也可以是符合檢驗規格的發光元件220、220’。

本實施例是以在第一區121中設置一個被檢測出發現為NG的發光元件240，而在相鄰的第二區122中設置一個符合檢驗規格的發光元件220、220’，但不以此為限。在前述的說明中可知，第一區121可容置的發光元件220的數量可以大於或等於1。第二區122容置的發光元件220’的數量可以大於或等於0。換句話說，當第一區121容置的發光元件220符合檢驗規格時，第二區122中可設置也可不設置發光元件220’。在一些實施例中，依使用者的需求，第一區121也可容置兩個或兩個以上的發光元件220，且第二區122也容置兩個或兩個以上的發光元件220’，但不以此為限。

在本實施例中，在修補轉移製程步驟後，可對驅動電路180的導線182進行切斷的製程，以把電性連接至第一區121的導線182切斷，但不以此為限。在上述的設置下，驅動電路180不電性連接至NG的發光元件240。如此一來，顯示裝置10C具有良好的電性品質。在本實施例中，容置於第一區121的發光元件220與容置於第二區122的發光元件220’可以並聯的方式電性連接至一個驅動電路180，但不以此為限。在其他實施例中，容置於第一區121的發光元件220與容置於第二區122的發光元件220’可以分別電性連接至不同的驅動電路180（例如兩個不同的驅動電路180）。

值得注意的是，本實施例的顯示裝置10C由於具有間隔件160，且間隔件可將子像素區120隔離出第一區121及第二區122，因此在轉移發光元件220時，可以將發光元件200設置於被間隔件160圍繞的第一區121或第二區122中以達成精準定位。此外，由於相鄰的發光元件220可被間隔件160隔離開，因此相鄰的發光元件220不會影響彼此的設置，另外，由於相鄰的發光元件220可被間隔件160隔離開，因此可以減少相鄰的發光元件220於發光時產生混光的問題，或可以提升影像出光的品質。藉此，顯示裝置10C具有良好的顯示品質。

綜上所述，由於本揭露實施例的顯示裝置可將子像素區隔離出第一區以及第二區，且可進行巨量選擇性轉移製程以在第一區中設置發光元件。接著，進行瑕疵檢測製程來檢查出NG的發光元件。然後進行巨量選擇性修補轉移製程以在第二區中設置發光元件。如此一來，可選擇性的對具有NG的發光元件的子像素區進行修補，以減少所需轉移的發光元件的數量。因此，顯示裝置可降低成本的需求。此外，顯示裝置的製作製程可以簡單或具有良好的顯示品質。另外，由於本揭露實施例的顯示裝置具有間隔件以隔離出第一區及第二區，因此在轉移發光元件時，可以將發光元件設置於被間隔件圍繞的第一區或第二區中以達成精準定位。此外，由於相鄰的發光元件可被間隔件隔離開，因此相鄰的發光元件不會影響彼此的設置，另外，由於相鄰的發光元件可被間隔件隔離開，因此可以減少相鄰的發光元件於發光時產生混光的問題，或可以提升影像出光的品質。基於上述，顯示裝置能具有良好的顯示品質。

10,10A,10B,10C:顯示裝置 100:基板 120,120’,120’’:子像素區 121:第一區 122:第二區 122’,122’’:側邊 140:黏著層 160:間隔件 162:主體部 164:擋牆部 180:驅動電路 182:導線 200:晶圓 220,220’:發光元件 240:NG的發光元件 300:載板 320:黏著層 LB:能量束 P:間距 X,Y,Z:軸

圖1A至圖1C為本揭露一實施例的顯示裝置的製作流程的上視示意圖。圖2A至圖2B為本揭露一實施例的顯示裝置進行巨量轉移的剖視示意圖。圖2C至圖2D為本揭露一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。圖3A至圖3B為本揭露另一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。圖4A至圖4B為本揭露另一實施例的顯示裝置進行巨量轉移的剖視示意圖。圖4C至圖4D為本揭露另一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。圖5A至圖5C為本揭露再一實施例的顯示裝置的製作流程的上視示意圖。圖6A至圖6B為本揭露再一實施例的顯示裝置進行巨量轉移的剖視示意圖。圖6C至圖6D為本揭露再一實施例的顯示裝置進行修補轉移的剖視示意圖。

10C:顯示裝置

100:基板

120:子像素區

121:第一區

122:第二區

160:間隔件

162:主體部

164:擋牆部

180:驅動電路

182:導線

200:晶圓

220,220’:發光元件

240:NG的發光元件

X,Y,Z:軸

Claims

一種顯示裝置，包括：子像素區；間隔件，所述間隔件將所述子像素區隔離出第一區以及第二區；發光元件位於所述第一區及所述第二區的至少一者中；以及驅動電路，電性連接至所述第一區及所述第二區以驅動所述發光元件。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述發光元件為發光二極體。
如請求項1所述的顯示裝置，其中在所述第一區及所述第二區的兩者中分別容置所述發光元件。
如請求項3所述的顯示裝置，其中容置於所述第一區的所述發光元件及容置於所述第二區的所述發光元件中的一者為NG。
如請求項4所述的顯示裝置，其中所述驅動電路未電性連接至所述發光元件中為NG的一者。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述間隔件環繞所述第一區及所述第二區。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述間隔件為不連續的。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述間隔件包括擋牆部，所述擋牆部位於所述第一區與所述第二區之間。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述子像素區所能容置的所述發光元件的總數量大於或等於所述第一區容置的所述發光元件的數量與所述第二區容置的所述發光元件的數量的和。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述第一區容置的所述發光元件的數量為大於或等於1，且所述第二區容置的所述發光元件的數量為大於或等於0。