TW202118343A - 顯示裝置及基材積層體 - Google Patents

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TW202118343A TW109130646A TW109130646A TW202118343A TW 202118343 A TW202118343 A TW 202118343A TW 109130646 A TW109130646 A TW 109130646A TW 109130646 A TW109130646 A TW 109130646A TW 202118343 A TW202118343 A TW 202118343A
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寶田翔
仲野武史
設樂浩司
椙田由考
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Abstract

本發明課題係針對構成成可彎折之顯示裝置，實現一種可抑制抗撓曲性脆弱之層或構件在面對顯示裝置之彎折時斷裂的顯示裝置。 作為解決手段之顯示裝置，其係可彎折者且具有：光學薄膜構件、第1黏著層、視窗構件、第2黏著層及積層結構體，其中前述視窗構件係透過前述第1黏著層積層於前述光學薄膜構件之一面，而前述積層結構體係透過前述第2黏著層積層於前述光學薄膜構件之另一面且包含面板構件；該顯示裝置之特徵在於：前述積層結構體於前述第2黏著層側之面具有在使彎曲變形時較前述視窗構件及光學薄膜構件更易斷裂之層；令以下應變之差A、A’、B、B’之間成立下述式(1)、(2)及(3)之關係，藉此經彎曲變形後之前述易斷裂之層的延伸率被抑制成較斷裂延伸率更小之值：將前述顯示裝置呈前述視窗構件朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述顯示裝置之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件之前述一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述視窗構件之面向前述第1黏著層之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A；以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將前述光學薄膜構件及視窗構件在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述光學薄膜構件及前述視窗構件各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述視窗構件內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A’；將前述顯示裝置呈前述視窗構件朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述顯示裝置之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件之另一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述積層結構體之面向前述第2黏著層之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B；以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將前述光學薄膜構件及積層結構體在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述光學薄膜構件及前述積層結構體各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述積層結構體外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B’。 0.3＜A/A’＜1.2　　　　・・・・(1) B/B’＜1.7A/A’-0.15　　・・・・(2) 0＜B/B’＜1.25　　　　・・・・(3)

Description

顯示裝置及基材積層體
本發明涉及構成成可彎折之顯示裝置及用於所述顯示裝置之基材積層體。
例如如專利文獻1所示，已知有觸控感測器一體型有機EL顯示裝置。關於專利文獻1之有機EL顯示裝置，如圖1所示，於有機EL顯示面板901之視辨側設有光學積層體920，且於光學積層體920之視辨側設有觸控面板930。光學積層體920包含於兩面接合有保護膜922-1、922-2的偏光件921與相位差薄膜923，並且偏光件921設於相位差薄膜923之視辨側。又，觸控面板930具有透明導電薄膜916-1、916-2隔著分隔件917配置之結構，且該透明導電薄膜916-1、916-2具有積層有基材薄膜915-1、915-2與透明導電層912-1、912-2之結構。
另一方面，近年期待實現可彎折之有機EL顯示裝置，此乃攜帶性更優異之有機EL顯示裝置。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2014-157745號公報
發明欲解決之課題 然而，例如如專利文獻1所示之以往的有機EL顯示裝置並非為考慮到彎折功能所設計而成者。只要將塑膠薄膜用於有機EL顯示面板基材，便可賦予有機EL顯示面板撓曲性。然而，構成以往之有機EL顯示裝置的觸控感測器構件所包含之透明導電層、有機EL顯示面板之薄膜密封層、設於視窗構件表面之硬塗層等抗撓曲性脆弱之層在有機EL顯示裝置彎折時會斷裂。
因此，本發明之目的在於針對構成成可彎折之顯示裝置，實現一種可抑制抗撓曲性脆弱之層或構件在面對顯示裝置之彎折時斷裂的顯示裝置。
用以解決課題之手段 本發明一態樣提供一種顯示裝置，其係可彎折者且具有：光學薄膜構件、第1黏著層、視窗構件、第2黏著層及積層結構體，其中前述視窗構件係透過前述第1黏著層積層於前述光學薄膜構件之一面，而前述積層結構體係透過前述第2黏著層積層於前述光學薄膜構件之另一面且包含面板構件； 該顯示裝置之特徵在於： 前述積層結構體於前述第2黏著層側之面具有在使彎曲變形時較前述視窗構件及光學薄膜構件更易斷裂之層； 令以下應變之差A、A’、B、B’之間成立下述式(1)、(2)及(3)之關係，藉此經彎曲變形後之前述易斷裂之層的延伸率被抑制成較斷裂延伸率更小之值： 將前述顯示裝置呈前述視窗構件朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述顯示裝置之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件之前述一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述視窗構件之面向前述第1黏著層之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A； 以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將前述光學薄膜構件及視窗構件在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述光學薄膜構件及前述視窗構件各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述視窗構件內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A’； 將前述顯示裝置呈前述視窗構件朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述顯示裝置之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件之另一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述積層結構體之面向前述第2黏著層之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B； 以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將前述光學薄膜構件及積層結構體在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述光學薄膜構件及前述積層結構體各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述積層結構體外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B’； 0.3＜A/A’＜1.2　　　　・・・・(1) B/B’＜1.7A/A’-0.15　　・・・・(2) 0＜B/B’＜1.25　　　　・・・・(3)。
可令前述視窗構件為於與前述第1黏著層相反之側的面具有硬塗層者。
可令前述光學薄膜構件為於偏光薄膜積層有相位差薄膜之圓偏光機能薄膜積層體。
可令前述偏光薄膜為積層有偏光件與位於偏光件之至少一面之偏光件保護薄膜的積層體。
可令前述偏光件保護薄膜為包含丙烯酸系樹脂者。
可令前述較視窗構件及光學薄膜構件更易斷裂之層為形成在前述面板構件之前述第2黏著層側之面的薄膜密封層。
可令前述積層結構體為以下所述者：於前述面板構件之前述第2黏著層側之面形成有薄膜密封層，於前述薄膜密封層之與前述面板構件相反之側的面透過第3黏著層積層有觸控感測器構件，並於前述觸控感測器構件之與前述面板構件相反之側的面形成有透明導電層，且將該透明導電層以較前述視窗構件及前述光學薄膜構件更易斷裂之層之形式積層於前述第2黏著層上。
可令於前述應變之差A、A'之間更成立下述式(4)的關係。 0.8＜A/A’　　　　・・・・(4)
可令前述第2黏著層之剪切彈性模數大於前述第1黏著層之剪切彈性模數。
可令於前述面板構件之與前述第2黏著層相反之面更具有第4黏著層，且透過前述第4黏著層積層有保護構件。
可令前述第4黏著層之剪切彈性模數小於前述第2黏著層之剪切彈性模數，且小於前述第3黏著層之剪切彈性模數。
本發明之一態樣提供一種基材積層體，其係用於前述顯示裝置且具有：前述光學薄膜構件；前述視窗構件，係透過前述第1黏著層積層於前述光學薄膜構件之一面；及觸控感測器構件，係透過前述第2黏著層積層於前述光學薄膜構件之另一面且包含前述透明導電層。
發明效果 根據本發明，針對構成成可彎折之顯示裝置，可實現一種可抑制抗撓曲性脆弱之層或構件在面對顯示裝置之彎折時斷裂的顯示裝置。
以下將一邊參照圖式一邊詳細說明本發明顯示裝置的實施形態。
[光學薄膜構件] 本發明顯示裝置所用光學薄膜構件可使用偏光件、偏光薄膜、由透明樹脂材料形成之保護薄膜或相位差薄膜等薄膜等之薄膜等、及該等之部分或全部的組合，尤其可使用於偏光薄膜積層有相位差薄膜的圓偏光機能薄膜積層體。此外，前述光學薄膜構件中不包含後述第1黏著層等之黏著層。
前述光學薄膜構件的厚度宜為92μm以下，60μm以下較佳，10~50μm更佳。若在前述範圍內，則不會阻礙撓曲而為較佳態樣。 ＜偏光件＞ 本發明光學薄膜構件中所含偏光件可使用藉由空中延伸(乾式延伸)或硼酸水中延伸步驟等延伸步驟延伸而成之已使碘定向的聚乙烯醇(PVA)系樹脂。
偏光件之製造方法在代表上有如日本專利特開2004-341515號公報所記載的製法(單層延伸法)，該製法包含將PVA系樹脂之單層體染色之步驟與進行延伸之步驟。又，可舉如日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、日本專利特開2001-343521號公報、國際公開第2010/100917號、日本專利特開2012-073563號公報、日本專利特開2011-2816號公報所記載的製法，該製法包含將PVA系樹脂層與延伸用樹脂基材以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟。只要為該製法，即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可延伸而不因延伸造成斷裂等不良狀況。
前述偏光件的厚度為20μm以下，宜為12μm以下，較佳為9μm以下，1~8μm更佳，3~6μm尤佳。若在前述範圍內，則不會阻礙撓曲而為較佳態樣。
＜偏光薄膜＞ 只要不損及本發明之特性，前述偏光件亦可在至少單側透過接著劑(層)貼合有偏光件保護薄膜(未示於圖式中)。偏光件與偏光件保護薄膜之接著處理可使用接著劑。作為接著劑可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。前述接著劑一般係以由水溶液構成之接著劑作使用，一般係含有0.5~60重量%之固體成分而成。除上述外，偏光件與偏光件保護薄膜之接著劑還可舉紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光薄膜用接著劑對上述各種偏光件保護薄膜展現良好的接著性。又，可使本發明中使用之接著劑含有金屬化合物填料。此外，本發明中，有時會將透過接著劑(層)貼合有偏光件與偏光件保護薄膜者稱為偏光薄膜。
＜相位差薄膜＞ 本發明中所使用之光學薄膜構件可包含相位差薄膜，且前述相位差薄膜可使用使高分子薄膜延伸而得者或經使液晶材料定向、固定化者。本說明書中，相位差薄膜係指於面內及/或厚度方向具有雙折射者。
相位差薄膜可舉如抗反射用相位差薄膜(參照日本專利特開2012-133303號公報[0221]、[0222]、[0228])、視角補償用相位差薄膜(參照日本專利特開2012-133303號公報[0225]、[0226])、視角補償用之傾斜配向相位差薄膜(參照日本專利特開2012-133303號公報[0227])等。
相位差薄膜只要為實質上具有上述機能者，則例如相位差值、配置角度、3維雙折射率、單層或多層等無特別限制，可使用公知之相位差薄膜。
前述相位差薄膜的厚度宜為20μm以下，較佳為10μm以下，1~9μm更佳，3~8μm尤佳。若在前述範圍內，則不會阻礙撓曲而為較佳態樣。
本說明書中，Re[550]係指在23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差值。Re[550]可於令波長550nm下之相位差薄膜的慢軸方向、快軸方向之折射率分別為nx、ny且令d(nm)為相位差薄膜之厚度時，藉由式：Re[550]=(nx-ny)×d求得。此外，慢軸係指面內之折射率成最大之方向。
本發明之nx-ny的面內雙折射Δn為0.002~0.2，宜為0.0025~0.15。
上述相位差薄膜較佳為在23℃下以波長550nm之光測定的面內相位差值(Re[550])大於以波長450nm之光測定之面內相位差值(Re[450])。具有這種波長分散特性之相位差薄膜只要前述比率在該範圍內，便可展現長波長般之相位差，而可在可見區域之各波長下獲得理想的相位差特性。例如在用於有機EL顯示器時，可藉由製作具有這種波長依存性的相位差薄膜作為1/4波長板並與偏光板貼合來製作圓偏光板等，而可實現色相之波長依存性少之中性的偏光板及顯示裝置。另一方面，當前述比率在該範圍外時，反射色相之波長依存性會變大，而在偏光板或顯示裝置產生著色之問題。
上述相位差薄膜的Re[550]與Re[450]之比(Re[450]/Re[550])為0.8以上且小於1.0，且宜為0.8~0.95。
上述相位差薄膜較佳為在23℃下以波長550nm之光測定的面內相位差值(Re[550])小於以波長650nm之光測定之面內相位差值(Re[650])。具有這種波長分散特性之相位差薄膜在紅色區域中相位差值固定，例如在用於液晶顯示裝置時，可改善因觀看角度而發生漏光之現象、或顯示影像帶有紅色之現象(亦稱泛紅現象)。
上述相位差薄膜的Re[650]與Re[550]之比(Re[550]/Re[650])為0.8以上且小於1.0，且宜為0.8~097。藉由將Re[550]/Re[650]設為上述範圍，例如在將上述相位差薄膜用於有機EL顯示器時，可獲得更加優異的顯示特性。
Re[450]、Re[550]、Re[650]可使用Axometrics公司製之製品名「AxoScan」進行測定。
在一實施形態中，本發明相位差薄膜係藉由將高分子薄膜延伸使其定向而製作。
上述延伸高分子薄膜之方法可因應目的採用任意適當之延伸方法。適於本發明之上述延伸方法可舉例如橫向單軸延伸方法、縱橫同步雙軸延伸方法、縱橫逐步雙軸延伸方法等。進行延伸之機構可使用拉幅延伸機、雙軸延伸機等之任意適當的延伸機。較佳為上述延伸機具備溫度控制機構。進行加熱並延伸時，可使延伸機之內部溫度連續變化，亦可使其連續變化。步驟可為1次亦可分割成2次以上。延伸方向宜沿薄膜寬度方向(TD方向)或斜向進行延伸。
在其他實施形態中，本發明相位差薄膜可使用積層有使液晶材料定向、固定化而製作之相位差層者。各相位差層可為液晶化合物之定向固化層。藉由使用液晶化合物，可使所製得相位差層的nx與ny之差比非液晶材料大上甚多，因此可將用以獲得期望面內相位差所需之相位差層之厚度縮小甚多。結果可實現圓偏光板(最終為有機EL顯示裝置)之更薄型化。本說明書中所謂「定向固化層」係指液晶化合物在層內於預定方向定向，且其定向狀態已受固定之層。在本實施形態中，代表上係於棒狀液晶化合物沿相位差層之慢軸方向排列之狀態下定向(沿面定向)。液晶化合物可舉例如液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。這種液晶化合物例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性的表現機構可為溶致亦可為熱致。液晶聚合物及液晶單體各自可單獨使用，也可組合使用。
液晶化合物為液晶單體時，該液晶單體宜為聚合性單體及交聯性單體。其係因藉由使液晶單體聚合或交聯可固定液晶單體的定向狀態之故。在使液晶單體定向之後，例如只要使液晶單體彼此聚合或交聯，便可藉此固定上述定向狀態。在此係藉由聚合來形成聚合物，藉由交聯來形成3維網狀結構，惟該等為非液晶性。因此，所形成之相位差層例如不會於液晶性化合物發生特有的因溫度變化而轉變為液晶相、玻璃相、結晶相之情形。結果層會成為不受溫度變化影響而穩定性極優異的相位差層。
液晶單體展現液晶性之溫度範圍會因其種類而異。具體來說，該溫度範圍宜為40℃~120℃，更宜為50℃~100℃，最宜為60℃~90℃。
上述液晶單體可採用任意適當之液晶單體。例如可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等所記載之聚合性液晶原化合物等。所述聚合性液晶原化合物之具體例可舉例如BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。液晶單體宜為例如向列性液晶單體。
液晶化合物之定向固化層可藉由以下方式來形成：於預定基材之表面施行定向處理，並於該表面塗敷含液晶化合物的塗敷液而使該液晶化合物於對應上述定向處理之方向定向，並固定該定向狀態。在一實施形態中，基材為任意適當之樹脂薄膜，而形成於該基材上的定向固化層可轉印至偏光件之表面。此時配置成偏光件之吸收軸與液晶定向固化層之慢軸形成之角成為15°。又，液晶定向固化層的相位差相對於550nm之波長為λ/2(約270nm)。並且，與前述同樣地於可進行轉印之基材上形成相對於550nm之波長為λ/4(約140nm)之液晶定向固化層，並以偏光件之吸收軸與1/4波長板之慢軸形成之角成為75°之方式積層於偏光件與1/2波長板之積層體的1/2波長板側。
＜偏光件保護薄膜＞ 本發明顯示裝置所用由透明樹脂材料形成之偏光件保護薄膜可使用降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚乙烯、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等。
前述偏光件保護薄膜的厚度宜為5~60μm，較宜為10~40μm，更宜為10~30μm，且可適當設置防眩層及抗反射層等之表面處理層。若在前述範圍內，則不會阻礙撓曲而為較佳態樣。 本發明光學積層體所用偏光件保護薄膜之透濕度為200g/m2 以下，宜為170g/m2 以下，較宜為130g/m2 以下，尤宜為90g/m2 以下。
[視窗構件] 視窗構件為了防止光學薄膜構件、觸控感測器構件及面板構件破損，係配置於顯示裝置之視辨側的最表面。
視窗構件一般具備視窗薄膜或視窗玻璃。視窗薄膜或視窗玻璃上亦可設有硬塗層。視窗玻璃可舉例如薄玻璃基板。對於應用於可彎折之顯示裝置的光學積層體要求高柔軟性、高透明性及高硬度。視窗薄膜之材質只要為滿足該等物性者即無特別限制。
＜視窗薄膜＞ 視窗薄膜可舉例如透明樹脂薄膜。構成透明樹脂薄膜之樹脂可舉例如選自聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、苯乙烯系樹脂、碸系樹脂、環氧系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚醚醚酮系樹脂、硫化物系樹脂、乙烯醇系樹脂、胺甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂及聚碳酸酯系樹脂中之至少一種。惟，構成透明樹脂薄膜之樹脂不限於該等。
＜硬塗層＞ 硬塗層係藉由於成為基底之層(例如視窗薄膜)表面塗佈硬化性塗佈劑並使其硬化來形成。
塗佈劑例如可利用光學薄膜用途者。塗佈劑可舉例如丙烯酸系塗佈劑、三聚氰胺系塗佈劑、胺甲酸酯系塗佈劑、環氧系塗佈劑、聚矽氧系塗佈劑、無機系塗佈劑，惟不限於該等。
塗佈劑亦可包含有添加劑。添加劑可舉例如矽烷耦合劑、著色劑、染料、粉體或粒子(顏料、無機或有機填充劑、無機或有機系材料之粒子等)、界面活性劑、塑化劑、抗靜電劑、表面潤滑劑、調平劑、抗氧化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、防污材等，惟不限於該等。
[第1黏著層] 本發明顯示裝置所用第1黏著層係可透過其而於光學薄膜構件之一面積層視窗構件者。 構成本發明顯示裝置所用第1黏著層之黏著劑組成物可舉丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑、聚醚系黏著劑等。此外，構成第1黏著層之黏著劑可單獨使用或可將2種以上組合來使用。惟，由透明性、加工性、耐久性、密著性、耐撓曲性等之觀點來看，宜單獨使用丙烯酸系黏著劑。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物＞ 在使用丙烯酸系黏著劑作為構成第1黏著層之黏著劑組成物時，宜含有含具有直鏈狀或支鏈狀碳數1~24烷基的(甲基)丙烯酸系單體作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用前述具有直鏈狀或支鏈狀碳數1~24烷基的(甲基)丙烯酸系單體，可獲得撓曲性優異的黏著層。此外，本發明中之(甲基)丙烯酸系聚合物係指丙烯酸系聚合物及/或甲基丙烯酸系聚合物，而(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的具有直鏈狀或支鏈狀碳數1~24烷基的(甲基)丙烯酸系單體之具體例，可舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸正十三酯、(甲基)丙烯酸正十四酯等，其中因一般來說玻璃轉移溫度(Tg)低的單體於撓曲時在較快的速度區域中仍為黏彈性體，故由撓曲性之觀點來看，以具有直鏈狀或支鏈狀碳數4~8烷基的(甲基)丙烯酸系單體為佳。前述(甲基)丙烯酸系單體可使用1種或2種以上。
前述具有直鏈狀或支鏈狀碳數1~24烷基的(甲基)丙烯酸系單體係構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中之主成分者。在此，所謂主成分係指在構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，具有直鏈狀或支鏈狀碳數1~24烷基的(甲基)丙烯酸系單體宜為80~100重量%，較宜為90~100重量%，更宜為92~99.9重量%，尤宜為94~99.9。
在使用丙烯酸系黏著劑作為構成第1黏著層之黏著劑組成物時，宜含有含具有反應性官能基之含羥基單體作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用前述含羥基單體可獲得密著性與撓曲性優異之黏著層。前述含羥基單體係一於其結構中含有羥基且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
前述含羥基單體具體上可舉(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等。由耐久性或密著性之觀點來看，前述含羥基單體中又宜為(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯。此外，前述含羥基單體可使用1種或2種以上。
又，構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體單元可含有具有反應性官能基之含羧基單體、含胺基單體及含醯胺基單體等單體。由濕熱環境下之密著性之觀點來看，藉由使用該等單體為佳。
在使用丙烯酸系黏著劑作為構成第1黏著層之黏著劑組成物時，可含有含具有反應性官能基之含羧基單體作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用前述含羧基單體可獲得濕熱環境下之密著性優異的黏著層。前述含羧基單體係一於其結構中含有羧基且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
前述含羧基單體之具體例可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等。
在使用丙烯酸系黏著劑作為構成第1黏著層之黏著劑組成物時，可含有含具有反應性官能基之含胺基單體作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用前述含胺基單體可獲得濕熱環境下之密著性優異的黏著層。前述含胺基單體係一於其結構中含有胺基且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
前述含胺基單體之具體例可舉N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯酸酯等。
在使用丙烯酸系黏著劑作為構成第1黏著層之黏著劑組成物時，可含有含具有反應性官能基之含醯胺基單體作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用前述含醯胺基單體可獲得密著性優異之黏著層。前述含醯胺基單體係一於其結構中含有醯胺基且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
前述含醯胺基單體之具體例可舉(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯基嗎福林、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶等N-丙烯醯基雜環單體；N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等含N-乙烯基內醯胺系單體等。
作為構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體單元，前述具有反應性官能基之摻混比率(合計量)在構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，宜為20重量%以下，較宜為10重量%以下，更宜為0.01~8重量%，尤宜為0.01~5重量%，最宜為0.05~3重量%。若大於20重量%，則交聯點會變多而使黏著劑(層)失去柔軟性，因而有應力鬆弛性變貧乏之傾向。
構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體單元除了上述具有反應性官能基之單體外，還可在不損及本發明效果之範圍內導入其他共聚單體。該摻混比率並無特別限定，惟在構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體中，宜為30重量%以下，而不含更佳。若大於30重量%，尤其是在使用了(甲基)丙烯酸系單體以外者時，與薄膜之反應點會變少，而有密著力降低之傾向。
本發明中，在使用前述(甲基)丙烯酸系聚合物時，一般係使用重量平均分子量(Mw)為100萬~250萬之範圍者。若考慮耐久性、尤其係考慮耐熱性或撓曲性時，宜為120萬~220萬，140萬~200萬較佳。重量平均分子量若小於100萬，則為了確保耐久性而使聚合物鏈彼此交聯時，相較於重量平均分子量為100萬以上者，其交聯點會變多而使黏著劑(層)失去柔軟性，因而無法緩和撓曲時於各薄膜間產生之彎曲外側(凸側)與彎曲內側(凹側)的尺寸變化，而使各薄膜容易發生斷裂。又，重量平均分子量若大於250萬，則為了調整成塗敷所需之黏度會需要大量的稀釋溶劑而使成本提高，因而不佳，並且，所得(甲基)丙烯酸系聚合物之聚合物鏈彼此的纏結會變複雜，因而柔軟性會劣化，使得撓曲時薄膜容易發生斷裂。另，重量平均分子量(Mw)係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定且以聚苯乙烯換算所算出之值。
所述(甲基)丙烯酸系聚合物的製造，可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。又，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
在前述溶液聚合中，聚合溶劑可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，可於氮等非活性氣體氣流下添加聚合引發劑，一般係於50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
自由基聚合所使用之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等無特別限定可適當選擇並使用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，並可因應其等之種類來適當地調整其使用量。
作為前述聚合引發劑，可舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057，和光純藥工業(股)製)等之偶氮系引發劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-二級丁基過氧化二碳酸酯、過氧化新癸酸三級丁酯、過氧化三甲基乙酸三級己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯、二月桂醯基過氧化物、二-正辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、二苯甲醯基過氧化物、過異丁酸三級丁酯、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系引發劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系引發劑等，但不受限於該等。
前述聚合引發劑可混合1種或2種以上來使用，但整體含量例如相對於100重量份之構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體宜為0.005~1重量份左右，較宜為0.02~0.5重量份左右。
又，當使用鏈轉移劑、乳化聚合時所使用之乳化劑或反應性乳化劑時，該等可適當地使用以往公知者。並且，該等之添加量可在不損及本發明效果的範圍內適當決定。
＜交聯劑＞ 構成第1黏著層之黏著劑組成物中可含有交聯劑。作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可共價鍵結或配位鍵結之原子可舉氧原子等，有機化合物則可舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。其中，異氰酸酯系交聯劑(尤其是三官能之異氰酸酯系交聯劑)由耐久性之觀點來說較為理想，又，過氧化物系交聯劑與異氰酸酯系交聯劑(尤其是二官能之異氰酸酯系交聯劑)由撓曲性之觀點來說較為理想。過氧化物系交聯劑及二官能之異氰酸酯系交聯劑皆會形成柔軟的二維交聯，相對地，三官能之異氰酸酯系交聯劑則會形成較堅固的三維交聯。在撓曲時，屬較柔軟的交聯之二維交聯較為有利。惟，僅有二維交聯的話會缺乏耐久性而容易發生剝落，因此以二維交聯與三維交聯之混合型交聯為佳，故併用三官能之異氰酸酯系交聯劑與過氧化物系交聯劑或二官能之異氰酸酯系交聯劑為較佳態樣。
前述交聯劑之使用量例如相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份宜為0.01~10重量份，0.03~2重量份較佳。若在前述範圍內，則耐撓曲性優異而為較佳態樣。 ＜其他添加劑＞ 並且構成第1黏著層之黏著劑組成物中亦可含有其他公知之添加劑，可因應使用之用途適當添加例如各種矽烷耦合劑、聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、抗靜電劑(屬離子性化合物的鹼金屬鹽或離子液體等)、無機或有機之填充劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。又，亦可在可控制的範圍內採用添加還原劑的氧化還原系。
[其他黏著層] 本發明顯示裝置所用第2黏著層係可透過其而將積層結構體積層於光學薄膜構件之另一面者。
本發明顯示裝置所用第3黏著層係可透過其而於薄膜密封層之與面板構件相反之側的面積層觸控感測器構件者。
此外，第2黏著層、第3黏著層及進一步之其他黏著層可為具有相同組成(相同黏著劑組成物)、相同特性者，亦可為具有相異特性者，無特別限制。
＜形成黏著層＞ 本發明之複數層黏著層宜由前述黏著劑組成物形成。就形成黏著層之方法而言，可舉例如前述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理過之分離件等後，將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著層的方法。又，亦可藉由將前述黏著劑組成物塗佈於偏光薄膜等後，將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光薄膜形成黏著層等的方法等來製作。另，塗佈黏著劑組成物時，亦可適當地另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
經剝離處理過之分離件宜使用聚矽氧剝離襯材。於所述襯材上塗佈本發明黏著劑組成物並使其乾燥而形成黏著層時，使黏著劑乾燥之方法可視目的採用適宜適當的方法。理想的是採用將上述塗佈膜加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度舉例而言在要調製使用有(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑時宜為40~200℃，50~180℃較佳，70~170℃尤佳。藉由將加熱溫度設定在上述範圍內，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可採用適當適切的時間。上述乾燥時間舉例而言在要調製使用有(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑時宜為5秒鐘~20分鐘，5秒鐘~10分鐘較佳，10秒鐘~5分鐘尤佳。
前述黏著劑組成物之塗佈方法可採用各種方法。具體而言，可舉例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈(knife coat)、氣刀塗佈、簾式塗佈、唇塗佈、利用模塗機等的擠壓式塗佈法等方法。
本發明顯示裝置所用黏著層的厚度宜為1~200μm，5~150μm較佳，10~100μm更佳。黏著層可為單一層亦可具有積層結構。若在前述範圍內，則不會阻礙撓曲，且以密著性(耐保持性)之觀點亦為較佳態樣。又，在具有複數層黏著層時，全部黏著層宜在前述範圍內。 本發明撓性影像顯示裝置用積層體所用黏著層的玻璃轉移溫度(Tg)的上限值宜為0℃以下，-20℃以下較佳，-25℃以下更佳。只要黏著層之Tg在所述範圍內，即使是在撓曲時於較快之速度區域中，黏著層仍不易變硬，而應力鬆弛性優異，從而能實現可撓曲或可折疊之撓性影像顯示裝置。
[面板構件] 面板構件亦可具備有影像顯示面板與保持其之基板等的面板基部。亦可於影像顯示面板之視辨側配置有密封構件(薄膜密封層等)。基板只要為可保持影像顯示面板且具有適度的強度及柔軟性者即可。這樣的基板可使用樹脂片等。樹脂片之材質無特別限制，可因應面板之種類適當選擇。
影像顯示面板可使用公知之物。影像顯示面板可舉例如有機電致發光(EL：Electro Luminescence)面板。影像顯示面板不限於有機EL面板，亦可為液晶面板或電泳式顯示面板(電子紙)等。例如可藉由使用樹脂基板等撓性基板作為夾持液晶層之透明基板，來形成可彎折之液晶面板。
＜薄膜密封層＞ 薄膜密封層(TFEE:Thin Film Encapsulation)具有防止前述影像顯示面板暴於水分及/或空氣中的功能。薄膜密封層係以於發光層上交替積層鈍化膜、樹脂膜而成之無機、有機多層膜之形式形成。又，薄膜密封層之構成材料可舉水分透過度低之材料，例如氮化矽、氧氮化矽、氧化碳、氮化碳、氧化鋁等無機材料、樹脂。
[觸控感測器構件] 觸控感測器可使用例如在影像顯示裝置之領域等中所用之物。觸控感測器可舉例如電阻膜式、電容式、光學式或超音波式者，惟不限於該等。
電容式觸控感測器一般具備有透明導電層。這種觸控感測器可舉例如透明導電層與透明基材之積層體。透明基材可舉例如透明薄膜。
＜透明導電層＞ 透明導電層並無特別限定，可使用導電性金屬氧化物、金屬奈米線等。金屬氧化物可舉例如包含氧化錫之氧化銦(ITO：Indium Tin Oxide)、含銻之氧化錫。透明導電層亦可為以金屬氧化物或金屬構成之導電性圖案。導電性圖案之形狀可舉條紋狀、四方狀、格子狀等，惟不限於該等。
＜透明薄膜＞ 透明薄膜可使用例如透明樹脂薄膜。構成透明薄膜之樹脂可舉聚酯系樹脂(亦包含聚芳酯系樹脂)、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、硫化物系樹脂(例如聚伸苯硫系樹脂)、聚醚醚酮系樹脂、纖維素系樹脂、環氧系樹脂、胺甲酸酯系樹脂等。透明薄膜可包含一種該等樹脂，亦可包含二種以上。該等樹脂中又以聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂為佳。惟，構成透明薄膜的樹脂不限於該等樹脂。
[保護構件] 保護構件係透過第4黏著層積層於面板構件之與第2黏著層相反之面側。保護構件係附著在撓性影像顯示面板之背面並發揮用以補強機械強度之補強板之功用，且用來保護撓性影像顯示面板免受損傷或衝擊的樹脂基材，並且形成為薄膜狀。
[積層結構體] 本發明積層結構體具有面板構件。另，積層結構體在顯示裝置中於後述第2黏著層側之面具有在使彎曲變形時較視窗構件及光學薄膜構件更易斷裂之層。
[顯示裝置] 本發明顯示裝置具有：光學薄膜構件、第1黏著層、透過第1黏著層積層於光學薄膜構件之一面的視窗構件、第2黏著層及透過第2黏著層積層於光學薄膜構件之另一面的積層結構體，且本發明顯示裝置構成為可彎折。
圖2係顯示本發明顯示裝置之一實施形態的截面圖。該顯示裝置100包含：光學薄膜構件110、第1黏著層120、透過第1黏著層120積層於光學薄膜構件110之一面的視窗構件130、第2黏著層140及透過第2黏著層140積層於光學薄膜構件110之另一面的積層結構體101。積層結構體101包含面板構件150。顯示裝置100係構成為可彎折。
雖為任意選項，但視窗構件130可於與第1黏著層120相反之面具有硬塗層131。
雖為任意選項，但可令光學薄膜構件110為於偏光薄膜111積層有相位差薄膜113之圓偏光機能薄膜積層體115。圓偏光機能薄膜積層體115係例如用以產生圓偏光或補償視角等者，為了防止從偏光薄膜111之視辨側入射內部的光經內部反射後射出至視辨側。
雖為任意選項，但可令偏光薄膜111為積層有偏光件117與位於偏光件117之至少一面之偏光件保護薄膜119的積層體。
雖為任意選項，但偏光件保護薄膜111可包含丙烯酸系樹脂。
積層結構體101於第2黏著層140側之面具有在使彎曲變形時較視窗構件130及光學薄膜構件110更易斷裂之層。
雖為任意選項，但可令積層結構體101為以下所述者：進一步具有第3黏著層160，於面板構件150之第2黏著層140側之面形成有薄膜密封層151，於薄膜密封層151之與面板構件150相反之側的面透過第3黏著層160積層有觸控感測器構件170，並於觸控感測器構件170之與面板構件150相反之側的面形成有透明導電層171，且將透明導電層171以較視窗構件130及光學薄膜構件110更易斷裂之層之形式積層於第2黏著層140上。
雖為任意選項，但可令於面板構件150之與前述第3黏著層160相反之面更具有第4黏著層180，且透過第4黏著層180積層有保護構件190。
顯示裝置100中，令以下應變之差A、A’、B、B’之間成立下述式(1)、(2)及(3)之關係，藉此經彎曲變形後之前述易斷裂之層的延伸率被抑制成較斷裂延伸率更小之值：將顯示裝置100呈視窗構件130朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下顯示裝置100之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於光學薄膜構件110之一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於視窗構件130之面向第1黏著層120之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A；以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將光學薄膜構件110及視窗構件130在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下光學薄膜構件110及視窗構件130各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於光學薄膜構件110外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於視窗構件130內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A’；將顯示裝置100呈視窗構件130朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下顯示裝置100之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於光學薄膜110之另一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於積層結構體101之面向第2黏著層140之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B；以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將光學薄膜構件110及積層結構體101在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下光學薄膜構件110及積層結構體101各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於光學薄膜構件110內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於積層結構體101外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B’。 0.3＜A/A’＜1.2　　　　・・・・(1) B/B’＜1.7A/A’-0.15　　・・・・(2) 0＜B/B’＜1.25　　　　・・・・(3)
A係在光學薄膜構件110及視窗構件130之間存在第1黏著層120之狀態下彎折使彎曲變形時，於光學薄膜構件110外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於視窗構件130內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差，而A’係使光學薄膜構件110及視窗構件130在各自單層之狀態下彎折使彎曲變形時，於光學薄膜構件110外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於視窗構件130內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差A’，因此第1黏著層120愈硬，A/A’之值愈小，亦即吾等認為A/A’會成為顯示裝置100之構成中有關第1黏著層120之硬度的指標。同樣地，第2黏著層140愈硬，B/B’之值愈小，亦即吾等認為B/B’會成為顯示裝置100之構成中有關第2黏著層140之硬度的指標。
關於這點，複數層之層及/或構件透過複數層黏著層積層而成之積層體中，於隔著各黏著層相對向之各層及/或構件之面產生之彎曲位移會隔著各黏著層相互影響，而影響於各層及/或構件產生之延伸率，本發明人等著眼於此，首次發現了藉由適當選擇複數層黏著層之硬度，在使積層體彎曲變形時，可抑制積層體所含之抗撓曲性脆弱之層及/或構件的延伸率，從而可抑制抗撓曲性脆弱之層及/或構件斷裂。因此，利用A/A'、B/B'並以使滿足用以規定關於A/A'、B/B'之條件的式(1)~(3)之方式來適當選擇第1黏著層120及第2黏著層140各自的硬度，可將使彎曲變形時易斷裂之層的延伸率抑制成較斷裂延伸率更小之值，而可抑制易斷裂之層斷裂。
在此，就決定黏著層硬度的因數而言，黏著層之剪切彈性模數G'為主控因數，而黏著層之厚度亦為因數。黏著層之厚度愈小，黏著層就愈硬。
雖為任意選項，但可令第2黏著層140之剪切彈性模數G’大於第1黏著層110之剪切彈性模數G’。關於這點，本發明人等首次發現了複數層之層及/或構件透過複數層黏著層積層而成之積層體中，當使某黏著層硬化時，在彎折積層體時積層於該黏著層外側之層或構件之應變會位移至拉伸側，而積層於該黏著層內側之層或構件之應變會位移至壓縮側。而且，黏著層之剪切彈性模數G'為黏著層之硬度的主控因數，故藉由做成所述構成，可更縮小產生於積層在第2黏著層140內側且屬脆弱層的透明導電層171或薄膜密封層151之拉伸應變。
雖為任意選項，但可令第4黏著層180之剪切彈性模數G’小於第2黏著層140之剪切彈性模數G’，且小於第3黏著層160之剪切彈性模數G’。當使某黏著層軟化時，積層於黏著層外側之層或構件之應變會位移至壓縮側，而積層於黏著層內側之層或構件之應變會位移至拉伸側。而且，黏著層之剪切彈性模數G'為黏著層之硬度的主控因數，故藉由做成所述構成，可更縮小產生於積層在第4黏著層180外側且屬脆弱層的透明導電層171或薄膜密封層151之拉伸應變。
雖為任意選項，但可令於應變之差A、A'之間更成立0.8＜A/A’的關係。當使某黏著層軟化時，積層於黏著層外側之層或構件之應變會位移至壓縮側，而積層於黏著層內側之層或構件之應變會位移至拉伸側。而且，第1黏著層120愈硬，A/A'之值就愈小，故藉由做成所述構成，可更縮小產生於積層在第1黏著層120外側之層的硬塗層131之拉伸應變。
如上述，複數層之層及/或構件透過複數層黏著層積層而成之積層體中，當使某黏著層硬化時，在彎折積層體時積層於該黏著層外側之層或構件之應變會位移至拉伸側，而積層於該黏著層內側之層或構件之應變會位移至壓縮側。因此，欲抑制對某黏著層內側之撓曲表現脆弱之層斷裂時，將該黏著層之硬度變更成較大者即可，而欲抑制對某黏著層外側之撓曲表現脆弱之層斷裂時，將該黏著層之硬度變更成較小者即可。
例如，在顯示裝置之設計過程中，當在積層結構體中位於第1黏著層或第2黏著層內側的易斷裂之層斷裂了或預測要斷裂時，藉由將第1黏著層或第2黏著層之至少一者的硬度變更成較大者，可抑制易斷裂之層的斷裂。此時，在決定黏著層之硬度的因數中，例如有黏著層的剪切彈性模數G'、黏著層的厚度，因此藉由將第1黏著層或第2黏著層之至少一者的厚度變更成較小者、或藉由將第1黏著層或第2黏著層之至少一者的彈性模數變更成較高者，可抑制易斷裂之層的斷裂。
又，此時，積層結構體之易斷裂之層位於第3黏著層、第4黏著層之外側，故藉由將第3黏著層或第4黏著層之至少一者的硬度變更成較小者、例如將第3黏著層之厚度變更成較大者、及/或將第3黏著層或第4黏著層之至少一者的剪切彈性模數G'變更成較低者，可抑制易斷裂之層的斷裂。
圖3所示顯示裝置基本上與圖2所示者相同，惟於以下這點不同：較視窗構件130及光學薄膜構件110更易斷裂之層在圖3之顯示裝置中為透明導電層171，該透明導電層171係形成在積層於第2黏著層140與面板構件150之間的觸控感測器構件170中之與面板構件150相反之側的面上，相對於此，較視窗構件130及光學薄膜構件110更易斷裂之層在圖4之顯示裝置中為形成於面板構件150之第2黏著層140側之面的薄膜密封層151。
[基材積層體] 本發明基材積層體103係用於顯示裝置者，且該基材積層體103中較視窗構件及光學薄膜構件更易斷裂之層為透明導電層，該透明導電層係形成在積層於第2黏著層與面板構件之間的觸控感測器構件中之與面板構件相反之側的面上；並且，基材積層體103具有：光學薄膜構件；前述視窗構件，係透過前述第1黏著層積層於光學薄膜構件之一面；及觸控感測器構件，係透過前述第2黏著層積層於光學薄膜構件之另一面且包含前述透明導電層。
實施例 以下針對本發明顯示裝置、基材積層體，使用以下實施例來進一步說明。此外，本發明顯示裝置、基材積層體不受該等實施例所限。 [實施例1]
[偏光件] 作為熱塑性樹脂基材係準備具有7莫耳%異酞酸單元的非晶質聚對苯二甲酸乙二酯(以下亦稱「PET」)(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)，並對表面施行電暈處理(58W/m2/min)。另一方面，準備添加了1重量%之乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業(股)製，商品名：GOHSEFIMER Z200(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度：5莫耳%)的PVA(聚合度4200，皂化度99.2%)，並準備PVA系樹脂為5.5重量%的PVA水溶液之塗敷液，以使乾燥後的膜厚成為12μm進行塗敷，並在60℃的氣體環境下藉由熱風乾燥乾燥10分鐘後，製出基材上設有PVA系樹脂之層的積層體。
然後將該積層體首先在空氣中在130℃下進行自由端延伸成1.8倍(空中輔助延伸)，生成延伸積層體。接著藉由將延伸積層體浸漬在液溫30℃的硼酸不溶解水溶液中30秒鐘，對延伸積層體所含PVA分子已定向之PVA層進行不溶解步驟。本步驟的硼酸不溶解水溶液是令硼酸含量相對於水100重量份為3重量份。並藉由將該延伸積層體染色而生成著色積層體。著色積層體係以使構成最後生成的偏光件之PVA層的單體透射率成為40~44%之方式，將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中任意時間，藉此利用碘使延伸積層體所含PVA層染色而成者。於本步驟中，染色液是以水為溶劑，並將碘濃度設為0.1~0.4重量%之範圍內、碘化鉀濃度設為0.7~2.8重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度比為1比7。接著藉由將著色積層體浸漬於30℃之硼酸交聯水溶液中60秒鐘，進行對已吸附碘之PVA層的PVA分子彼此施行交聯處理之步驟。本步驟的硼酸交聯水溶液是令硼酸含量相對於水100重量份為3重量份，且令碘化鉀含量相對於水100重量份水為3重量份。
然後，將所得著色積層體在硼酸水溶液中以延伸溫度70℃，沿與在先前之在空氣中之延伸相同方向延伸成3.05倍(硼酸水中延伸)，而獲得最終延伸倍率為5.50倍的光學薄膜積層體。將光學薄膜積層體從硼酸水溶液中取出，並用令碘化鉀含量相對於水100重量份為4重量份的水溶液洗淨附著在PVA層表面的硼酸。將洗淨後的光學薄膜積層體進行利用60℃的溫風之乾燥步驟來乾燥。所得光學薄膜積層體所含偏光件之厚度為5µm。
[偏光件保護薄膜] 偏光件保護薄膜係使用將具有戊二醯亞胺環單元的甲基丙烯酸樹脂丸粒擠製成形為薄膜狀後延伸而成者。該偏光件保護薄膜之厚度為40µm，且為透濕度160g/m2 之丙烯酸系薄膜。
[偏光薄膜] 接著，使用下述所示接著劑貼合前述偏光件與前述偏光件保護薄膜而製成偏光薄膜。
前述接著劑(活性能量線硬化型接著劑)係依循表1所記載之摻混表將各成分混合，並在50℃下攪拌1小時而調製出接著劑(活性能量線硬化型接著劑A)。 表中之數值係摻混量(添加量)，為表示固體成分或固體成分比(重量基準)者，係表示令組成物總量為100重量%時之重量%。所使用之各成分如下。 HEAA：羥乙基丙烯醯胺 M-220：ARONIX M-220，三丙二醇二丙烯酸酯)，東亞合成公司製 ACMO：丙烯醯基嗎福林 AAEM：2-乙醯乙醯氧基乙基甲基丙烯酸酯，日本合成化學公司製 UP-1190：ARUFON UP-1190，東亞合成公司製 IRG907：IRGACURE907，2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林丙-1-酮，BASF公司製 DETX-S：KAYACURE DETX-S，二乙基9-氧硫𠮿
Figure 109130646-0000-3
，日本化藥公司製
[表1]
Figure 02_image001
另外，在使用了前述接著劑之實施例及比較例中，係透過該接著劑積層前述偏光件保護薄膜與前述偏光件後，照射紫外線使該接著劑硬化，而形成接著劑層。紫外線照射是使用充有鎵之金屬鹵素燈(Fusion UV Systems, Inc公司製，商品名「Light HAMMER10」，閥：V閥，峰值照度：1600mW/cm2 ，累積照射量1000/mJ/cm2 (波長380~440nm)。
[相位差薄膜] 本實施例之相位差薄膜(1/4波長相位差板)係由液晶材料經定向、固定化之1/4波長板用相位差層、1/2波長板用相位差層這2層所構成之相位差薄膜。具體上係依以下程序製造。
(液晶材料) 用以形成1/2波長板用相位差層、1/4波長板用相位差層之材料係使用展現向列型液晶相之聚合性液晶材料(BASF公司製：商品名PaliocolorLC242)。將針對該聚合性液晶材料之光聚合引發劑(BASF公司製：商品名Irgacure 907)溶解於甲苯中。並且為了提升塗敷性將DIC製之MEGAFACE系列因應液晶厚度加入0.1至0.5%左右，而調製出液晶塗敷液。於定向基材上，以棒塗機塗敷該液晶塗敷液後，在90℃下加熱乾燥2分鐘後，在氮氣環境下以紫外線硬化使其定向固定化。 基材係使用例如像PET般可之後再將液晶塗佈層轉印者。並且為了提升塗敷性將DIC製之MEGAFACE系列的氟系聚合物因應液晶層之厚度加入0.1%至0.5%左右，並使用MIBK(甲基異丁基酮)、環己酮或是MIBK與環己酮之混合溶劑，溶解成固體成分濃度25%，而製作出塗敷液。以線棒將該塗敷液塗敷於基材，並經在設定成65℃下進行3分鐘之乾燥步驟後，於氮氣環境下以紫外線硬化使其定向固定來製作。基材係使用例如像PET般可之後再將液晶塗佈層轉印者。
(製造步驟) 參照圖4說明本實施例之製造步驟。該製造步驟20係以輥提供基材14，並從供給捲盤21供給該基材14。製造步驟20係以模頭22於該基材14塗佈紫外線硬化性樹脂10之塗佈液。該製造步驟20中，輥版30係圓筒狀賦型用模具，其周側面形成有關於1/4波長相位差板的1/4波長板用定向膜之凹凸形狀。製造步驟20係以加壓滾筒24將已塗佈紫外線硬化性樹脂之基材14按壓於輥版30之周側面，並以由高壓水銀燈構成之紫外線照射裝置25進行紫外線照射，使紫外線硬化性樹脂硬化。藉此，製造步驟20將形成於輥版30之周側面的凹凸形狀以使其對MD方向呈75°轉印至基材14。之後，以剝離滾筒26將基材14與已硬化之紫外線硬化性樹脂10一體地從輥版30剝離後，以模頭29塗佈液晶材料。再之後，以紫外線照射裝置27進行紫外線照射使液晶材料硬化，藉由該等程序製成關於1/4波長板用相位差層之構成。
接著，該步驟20係以輸送滾筒31將基材14輸送至模頭32，並以模頭32於該基材14的1/4波長板用相位差層上塗佈紫外線硬化性樹脂12之塗佈液。該製造步驟20中，輥版40係圓筒狀賦型用模具，其周側面形成有關於1/4波長相位差板的1/2波長板用定向膜之凹凸形狀。製造步驟20係以加壓滾筒34將已塗佈紫外線硬化性樹脂之基材14按壓於輥版40之周側面，並以由高壓水銀燈構成之紫外線照射裝置35進行紫外線照射，使紫外線硬化性樹脂硬化。藉此，製造步驟20將形成於輥版40之周側面的凹凸形狀以使其對MD方向呈15°轉印至基材14。之後，以剝離滾筒36將基材14與已硬化之紫外線硬化性樹脂12一體地從輥版40剝離後，以模頭39塗佈液晶材料。再之後，以紫外線照射裝置37進行紫外線照射使液晶材料硬化，藉由該等程序製成關於1/2波長板用相位差層之構成，而獲得由1/4波長板用相位差層、1/2波長板用相位差層這2層所構成之厚度7μm的相位差薄膜。
[光學薄膜構件(圓偏光機能薄膜積層體)] 使用上述接著劑將經上述程序所得相位差薄膜與偏光薄膜，利用捲對捲(roll to roll)方式連續貼合，並使慢軸與吸收軸之軸角度成為45°而製作出積層薄膜(圓偏光機能薄膜積層體)。
[第1黏著層] 以下述方法製作本實施例之構成第1黏著層的黏著層。 ＜調製丙烯酸寡聚物＞ ＜寡聚物A＞ 作為單體成分係混合甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)60重量份及甲基丙烯酸甲酯(MMA)40重量份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油3.5重量份及作為聚合溶劑之甲苯100重量份，並在氮氣環境下在70℃下攪拌1小時。接著，投入作為熱聚合引發劑之2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)0.2重量份，在70℃下反應2小時後，升溫至80℃，使其反應2小時。之後，將反應液加熱至130℃，並將甲苯、鏈轉移劑及未反應單體乾燥去除而獲得固態丙烯酸寡聚物(寡聚物A)。寡聚物A之重量平均分子量為5100，玻璃轉移溫度(Tg)為130℃。 ＜寡聚物B＞ 將單體成分變更成甲基丙烯酸二環己酯(CHMA)60重量份及甲基丙烯酸丁酯(BMA)40重量份，除此之外依與調製寡聚物A相同方式而獲得固態丙烯酸寡聚物(寡聚物B)。寡聚物B之重量平均分子量為5000，玻璃轉移溫度(Tg)為44℃。
(聚合預聚物) 作為預聚物形成用單體成分係摻混丙烯酸月桂酯(LA)43重量份、丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)44重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)6重量份及N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)7重量份、以及作為光聚合引發劑之BASF製「IRGACURE 184」0.015重量份，並照射紫外線進行聚合，而獲得預聚物組成物(聚合率；約10%)。
(調製黏著劑組成物) 於上述預聚物組成物100重量份中，添加1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.07重量份、上述寡聚物A：1重量份及矽烷耦合劑(信越化學製「KBM403」)：0.3重量份作為後添加成分後，將該等均勻混合，而調製出黏著劑組成物。以下，將該黏著劑組成物亦稱為黏著劑組成物1。
(製作黏著片) 將表面設有聚矽氧系脫模層之厚度75µm的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(Mitsubishi Chemical Co.製「DIAFOIL MRF75」)作為基材(兼重剝離薄膜)，於基材上以使厚度成為50µm之方式塗佈上述光硬化性黏著劑組成物而形成塗佈層。於該塗佈層上貼合單面經聚矽氧剝離處理過之厚度75µm的PET薄膜(Mitsubishi Chemical Co.製「Diafoil MRE75」)作為覆蓋片(兼輕剝離薄膜)。對該積層體，從覆蓋片側藉由位置調節成在燈正下之照射面的照射強度成為5mW/cm2 之黑光燈照射紫外線進行光硬化，而形成厚度50µm之黏著片。以下，將以相同方法製成之黏著劑組成物1的任意厚度之黏著層亦稱為黏著層1。
[第2黏著層] 除了厚度為15µm以外，以與第1黏著層相同之條件製作本實施例之構成第2黏著層的黏著層。
[第3黏著層] 以下述方法製作本實施例之構成第3黏著層的黏著層。 ＜調製(甲基)丙烯酸系聚合物A1＞ 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中饋入含有丙烯酸丁酯(BA)99重量份、丙烯酸4-羥丁酯(HBA)1重量份之單體混合物。
並相對於前述單體混合物(固體成分)100重量份將作為聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1重量份與乙酸乙酯一同饋入，一邊緩慢地攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫維持在55℃附近進行7小時聚合反應。 之後，於所得反應液中加入乙酸乙酯，而調製出固體成分濃度調整成30%且重量平均分子量160萬之(甲基)丙烯酸系聚合物A1之溶液。
＜調製丙烯酸系黏著劑組成物＞ 相對於所得(甲基)丙烯酸系聚合物A1溶液的固體成分100重量份，摻混異氰酸酯系交聯劑(商品名：TAKENATE D110N，三羥甲丙烷二異氰酸伸茬酯，三井化學(股)製)0.1重量份、過氧化物系交聯劑的苯甲醯基過氧化(商品名：NYPER BMT，日本油脂(股)製)0.3重量份、矽烷耦合劑(商品名：KBM403，信越化學工業(股)製)0.08重量份，而調製出丙烯酸系黏著劑組成物。以下，將該黏著劑組成物亦稱為黏著劑組成物2。
＜製作黏著片＞ 將前述丙烯酸系黏著劑組成物以噴注式塗佈機均勻塗敷於經聚矽氧系剝離劑處理過之厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜、透明基材、分離件)之表面，並以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而於基材之表面形成厚度20μm的黏著層(第3黏著層)。於該塗佈層上貼合單面經聚矽氧剝離處理過之厚度38µm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜、透明基材、分離件)作為覆蓋片(兼輕剝離薄膜)。以下，將以相同方法製成之黏著劑組成物2的任意厚度之黏著層亦稱為黏著層2。
[第4黏著層] 除了厚度為25µm以外，依與第1黏著層相同之條件製作本實施例之構成第4黏著層的黏著層。
[視窗構件] 作為視窗構件，係使用在作為視窗薄膜之透明聚醯亞胺薄膜(KOLON公司製，製品名「C_50」，厚度50µm(以下將該視窗薄膜亦稱為「視窗薄膜1」))之單面設有丙烯酸系硬塗層(厚度10µm)者。
硬塗層係使用硬塗層用塗佈劑形成。更具體而言，首先於透明聚醯亞胺薄膜之單面塗佈塗佈劑形成塗佈層後，將塗佈層與透明聚醯亞胺薄膜一同在90℃下加熱2分鐘。接著，使用高壓水銀燈對塗佈層以累積光量300mJ/cm2 照射紫外線，藉此形成硬塗層。經由以上程序製作出視窗構件。
此外，硬塗層用塗佈劑係混合作為基底樹脂之多官能丙烯酸酯(Aica Kogyo Company, Limited製，製品名「Z-850-16」)100質量份、調平劑(DIC公司製，商品名：GRANDIC PC-4100)5質量份及光聚合引發劑(Ciba Japan公司製，商品名：IRGACURE 907)3質量份，並以甲基異丁基酮稀釋成固體成分濃度成為50質量%而調製。
[觸控感測器構件] 作為透明樹脂基材，係準備環烯烴系樹脂基材(日本ZEON公司製「ZEONOR」厚度25µm，面內之雙折射率0.0001)。
接著，在透明樹脂基材之上面塗佈由黏結劑樹脂構成之硬塗組成物的稀釋液，並於透明樹脂基材之下面塗佈含有黏結劑樹脂與複數個粒子之硬塗組成物的稀釋液，接著將該等乾燥後，對兩面照射紫外線使硬塗組成物硬化。藉此，於透明樹脂基材之上面形成了不含粒子之第1硬化樹脂層(厚度1µm)，並於透明樹脂基材之下面形成了含有粒子之第2硬化樹脂層(厚度1µm)。
此外，作為粒子係使用交聯丙烯酸・苯乙烯系樹脂粒子(積水樹脂公司製「SSX105」，直徑3µm)。黏結劑樹脂係使用胺甲酸酯系多官能聚丙烯酸酯(DIC公司製，「UNIDIC」)。
接著，於第1硬化樹脂層之上面塗佈含有氧化鋯粒子與紫外線硬化性樹脂之光學調整組成物的稀釋液(JSR公司製「OPSTAR Z7412」，折射率1.62)，並在80℃下乾燥3分鐘後，照射紫外線。藉此於第1硬化樹脂層之上面形成光學調整層(厚度0.1µm)。
接著，藉由濺鍍於光學調整層之上面形成屬非晶質透明導電層之ITO層(厚度40nm)。
藉此製作出依序具備第2硬化樹脂層、透明樹脂基材、第1硬化樹脂層、光學調整層及非晶質透明導電層的非晶質透明導電性薄膜。
接著，將所得非晶質透明導電性薄膜在130℃下實施90分鐘的加熱處理，使ITO層結晶化。
[面板構件] 作為面板基部係準備以BPDA(聯苯四甲酸二酐)為原料之聚醯亞胺系樹脂薄膜(宇部興產公司製「UPILEX」，厚度25µm)。
接著，藉由濺鍍於聚醯亞胺系樹脂薄膜之上面形成屬非晶質透明導電層之ITO層(厚度40nm)。
接著，將所得非晶質透明導電性薄膜在130℃下實施90分鐘的加熱處理，使ITO層結晶化。
然後，將所得ITO層、附ITO層之透明導電性薄膜分別作為薄膜密封層、面板構件之代用品使用。以下，將該薄膜密封層之代用品的ITO層亦稱作「替代薄膜密封層之ITO層」或「替代ITO層」。
[保護構件] 本實施例之保護構件係使用以BPDA(聯苯四甲酸二酐)為原料之聚醯亞胺系樹脂基材(宇部興產公司製「UPILEX」，厚度50µm)。
針對所得各構件、層、薄膜以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
[實施例2] 使用黏著劑組成物2作為構成第2黏著層之黏著層的黏著劑組成物，除此之外依與實施例1相同條件製造及製作各構件、層、薄膜、積層體，並以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
[實施例3] 使用下述黏著層作為構成第2黏著層之黏著層，除此之外依與實施例1相同條件製造及製作各構件、層、薄膜、積層體，並以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
以下述方法製作本實施例之構成第2黏著層的黏著層。 ＜調製(甲基)丙烯酸系聚合物A3＞ 將燒瓶內之液溫維持在55℃附近進行7小時聚合反應時，以使乙酸乙酯與甲苯之摻混比率(重量比)成為95/5的方式進行聚合反應，除此之外依與調製(甲基)丙烯酸系聚合物A1相同方式來進行。 ＜調製丙烯酸系黏著劑組成物＞ 相對於所得(甲基)丙烯酸系聚合物A1溶液的固體成分100重量份，摻混三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯，日本Polyurethane工業公司製，商品名：CORONATE L)0.15重量份與矽烷耦合劑(商品名：KBM403，信越化學工業(股)製)0.08重量份，而調製出丙烯酸系黏著劑組成物。以下，將該黏著劑組成物亦稱為黏著劑組成物3。
＜製作黏著片＞ 將前述丙烯酸系黏著劑組成物以噴注式塗佈機均勻塗敷於經聚矽氧系剝離劑處理過之厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜、透明基材、分離件)之表面，並以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而於基材之表面形成厚度15μm的黏著層(第2黏著層)。然後，於該塗佈層上貼合單面經聚矽氧剝離處理過之厚度38µm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜、透明基材、分離件)作為覆蓋片(兼輕剝離薄膜)。以下，將以相同方法製成之黏著劑組成物3的任意厚度之黏著層亦稱為黏著層3。
[實施例4] 使用下述黏著層作為構成第2黏著層之黏著層、及以如下方式製作顯示裝置及基材積層體，除此之外依與實施例1相同條件製造及製作各構件、層、薄膜、積層體，並以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
以下述方法製作本實施例之構成第2黏著層的黏著層。
於分離式燒瓶中投入作為單體成分之丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：63重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)：15重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)：9重量份、丙烯酸2-羥乙酯(HEA)：13重量份、作為聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈：0.2重量份及作為聚合溶劑之乙酸乙酯133重量份，一邊導入氮氣一邊攪拌1小時。依上述方式去除聚合系統內之氧後，升溫至65℃使其反應10小時，然後加入乙酸乙酯，而獲得固體成分濃度30重量%之丙烯酸系聚合物溶液。此外，上述丙烯酸系聚合物溶液中之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為80萬。
接著，於上述丙烯酸系聚合物溶液中以使相對於丙烯酸系聚合物(固體成分)100重量份以固體成分換算計成為1.1重量份之方式添加異氰酸酯系交聯劑(商品名「TAKENATE D110N」，三井化學公司製)，並將其混合而調製出黏著劑組成物。以下，將該黏著劑組成物亦稱為黏著劑組成物4。 ＜製作黏著片＞ 將前述黏著劑組成物4以噴注式塗佈機均勻塗敷於經聚矽氧系剝離劑處理過之厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜、透明基材、分離件)之表面，接著於PET基材上形成塗佈層，並將所得者投入烘箱中以130℃使塗佈層乾燥3分鐘，而形成於PET基材之一面具有厚度15μm的黏著層之黏著片。於該塗佈層上貼合單面經聚矽氧剝離處理過之厚度38µm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜、透明基材、分離件)作為覆蓋片(兼輕剝離薄膜)。 以下，將以相同方法製成之黏著劑組成物4的任意厚度之黏著層亦稱為黏著層4。
以下述方法製作本實施例之顯示裝置、基材積層體。
從剝離薄膜將黏著層轉印至夾持各黏著層之構件之其中一者，並以包夾黏著層之方式積層各構件後用手墨輥壓附。從所得積層體裁切出寬30mm、長100mm之矩形試樣，並透過黏著層積層各構件而獲得評估用試樣。
[實施例5~7、9、10、12、13、19、22、27、28、比較例3] 將構成第1黏著層、第2黏著層、第3黏著層、第4黏著層之黏著層的種類(黏著層1~4)的組合變更成如表2-1~2-3所示，除此之外依與實施例1相同條件製造及製作各構件、層、薄膜、積層體，並以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
[實施例21、23] 將構成第1黏著層、第2黏著層、第3黏著層、第4黏著層之黏著層的種類(黏著層1~4)的組合變更成如表2-1~2-3所示、及將第1黏著層的厚度設為25μm，除此之外依與實施例1相同條件製造及製作各構件、層、薄膜、積層體，並以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
[實施例8、11、14、15~18、20、24~26、比較例1、2、4、5] 將構成第1黏著層、第2黏著層、第3黏著層、第4黏著層之黏著層的種類(黏著層1~4)的組合變更成如表2-1~2-3所示，除此之外依與實施例4相同條件製造及製作各構件、層、薄膜、積層體、顯示裝置、基材積層體，並以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
[實施例29~31、比較例5] 將構成第1黏著層、第2黏著層、第3黏著層、第4黏著層之黏著層的種類(黏著層1~4)的組合變更成如表2-1~2-3所示、及使用DU PONT-TORAY CO.,LTD.製、製品名「KAPTON(註冊商標)H型」作為作為視窗構件之視窗薄膜的透明聚醯亞胺薄膜(以下將該視窗薄膜亦稱為「視窗薄膜2」)，除此之外依與實施例1相同條件製造及製作各構件、層、薄膜、積層體，並以如下方式進行各種評估。於表2-1~2-3顯示所得各黏著層、硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之特性。
[評估] (測定厚度) 偏光件、偏光件保護薄膜、相位差薄膜、各黏著層、透明薄膜、視窗薄膜及保護構件等厚度係使用度盤規(Mitutoyo Corporation製)進行測定。另外，ITO層、替代ITO層之厚度係根據以穿透型電子顯微鏡(TEM)拍攝而得之影像來測定。 (測定黏著層之剪切彈性模數G’) 將分離件從各實施例及比較例之黏著片剝離，並積層複數層黏著片，而製作出厚度約1.5mm之試驗樣本。將該試驗樣本沖裁成直徑7.9mm之圓盤狀，並夾入平行板，再使用Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，在以下條件下進行動態黏彈性測定，並從測定結果讀取出剪切彈性模數G’。
(測定條件) 變形模式：扭轉 測定溫度：-40℃~150℃ 升溫速度：5℃/分鐘 測定頻率：1Hz
(測定應變與應力) 自屬光學薄膜構件之相位差薄膜、偏光件及偏光件保護薄膜之積層體、偏光件及偏光件保護薄膜之積層體、屬觸控感測器構件之附ITO層之透明樹脂基材、觸控感測器構件之透明樹脂基材、相當於面板構件之附替代ITO層之替代透明樹脂基材、面板構件之替代透明樹脂基材、及保護構件之薄膜、以及所得視窗薄膜、偏光件、偏光件保護薄膜、黏著層1、黏著層2、3及黏著層4裁切出寬10mm、長100mm之試樣。將所得各試樣設置在拉伸試驗機(島津製作所製 製品名「Autograph AG-IS」)上，測定以200mm/分鐘拉伸時的應變與應力，而得應變-應力曲線。應力係從厚度、寬度換算成Pa單位所得者。又，各黏著層係積層複數層黏著層而製出厚度100µm之黏著層者。
另，在難以製作厚度100µm之黏著層時，應變-應力曲線亦可利用以下方法來獲得。 1.事先對某試樣依上述方法求出應變-應力曲線，並將該曲線除以由應變在0.05%至0.25%範圍的曲線斜率算出之拉伸彈性模數，藉此作成經規格化之應變-應力曲線。 2.以上述方法進行測定而取得欲測定之試樣的剪切彈性模數G'。 3.測定欲測定之試樣的成分，求出帕松比ν。 4.拉伸彈性模數E'與剪切彈性模數G'成立E’=2G’(1+ν)之關係式，故從在上述2.及3.測得之G'、ν算出E'。 5.藉由於上述1.中作成之經規格化的應變-應力曲線乘以在上述4.求得之拉伸彈性模數E’，可獲得欲測定之試樣的應變-應力曲線。
(模擬與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差) 根據所得各構件、薄膜的應變-應力曲線，藉由模擬求出各實施例及各比較例之使彎曲變形時的各構件、層、薄膜之與彎曲半徑方向正交之方向的應變，算出A/A’、B/B’、1.7A/A’-0.15。將結果顯示於表2-1~2-3。
＜電腦模擬軟體＞ 模擬軟體係使用非線性有限元素解析軟體之MSC Software製Marc。
＜模型＞ 1.層構成 模型之層構成與圖12之實施例之顯示裝置的截面構成相同。 2.模型尺寸 將長度設為100mm、且將厚度設為圖12所示之截面構成之各構件的總厚度，以厚度、長度之2維作成網格。 3.彎曲方法 如圖5所示，於兩端設定長度48mm之曲線，並將網格之端部10mm固定於曲線(剛性模型)，使左側的曲線旋轉180°，並以網格之最表面成為外側之方式彎折。彎曲直徑係設為在使左側的曲線旋轉180°的狀態下網格之平行對向之最表面彼此之間隔，為4mm。 4.輸入各層之物性值 關於視窗薄膜、偏光件保護薄膜、偏光件、觸控感測器構件之透明樹脂基材、面板構件之替代透明樹脂基材、保護構件)，將各構件之拉伸試驗的應變-應力曲線數據之應變、應力分別轉換成真應變(ln(應變+1)、真應力(應力×(應變+1))，並於表(table)中將類型輸入為signed_eq_mechanical_Strain。網格之該部分的材料特性設定係將類型設為亞彈性，並從表中選擇該材料的應力-應變曲線。
針對黏著層，首先用下述Mooney-Rivlin之式擬合拉伸試驗的應變-應力曲線數據，算出係數C10、C01、C11。然後，將網格之該部分的材料特性的類型設為Mooney，輸入算出之係數C10、C01、C11。
Figure 02_image003
此處，γ=ε+1，f係標稱應力，ε係標稱應變。
針對相位差薄膜，將網格之該部分的材料特性的類型設為各向同性彈塑性，取得在拉伸試驗中所得光學薄膜構件之相位差薄膜、偏光件及偏光件保護薄膜之積層體的應變-試驗力曲線數據、與在拉伸試驗中所得偏光件及偏光件保護薄膜之積層體的應變-試驗力曲線數據的差，並將從所得之差獲得之相當於相位差薄膜的應變-試驗力曲線之曲線的值除以相位差薄膜的截面積(寬度×厚度)，算出所得相當於相位差薄膜的應變-應力曲線之曲線中應變在0.05%~0.25%之範圍之曲線的斜率，將其作為相位差薄膜的彈性模數來輸入。
針對ITO層、替代ITO層、硬塗層，亦同樣地將網格之該部分的材料特性的類型設為各向同性彈塑性，並根據在拉伸試驗中所得觸控感測器構件之附ITO層之透明樹脂基材的應變-試驗力曲線與觸控感測器構件之透明樹脂基材的應變-試驗力曲線數據之差值、在拉伸試驗中所得面板構件之附替代ITO層之替代透明樹脂基材的應變-試驗力曲線與面板構件之替代透明樹脂基材的應變-試驗力曲線的差值、在拉伸試驗中所得附硬塗層之視窗薄膜的應變-試驗力曲線與視窗薄膜的應變-試驗力曲線的差值，分別算出彈性模數並輸入。
＜模擬結果＞ 針對各實施例及各比較例之各構件，計算與撓曲部分之彎曲半徑方向正交的方向的應變(Elastic Strain in Preferred Sys)(參照圖6)。將針對比較例1及實施例9~11、實施例28、4、8及11、實施例8及14~16、實施例17~20算出之與撓曲部分之彎曲半徑方向正交之方向的應變之積層方向的分布顯示於圖8~圖11。
又，針對各實施例及各比較例之硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代薄膜密封層之ITO層，於表2-1~2-3列出所算出之與撓曲部分之彎曲半徑方向正交之方向的應變中最外層之值與各層及薄膜之延伸率是否低於斷裂延伸率。
又，針對各實施例及各比較例，於表2-1~2-3中列出從所算出之與撓曲部分之彎曲半徑方向正交之方向的應變求出之A/A’、1.7A/A’-0.15-B/B’、B/B’各值。又，於圖11顯示顯示A/A'與B/B之關係的圖。
(發生破裂之評估) 針對實施例4、8、11、14~18、20、24~26、比較例1、2、4中所得代用品之顯示裝置的試樣，於彎折時確認有無於硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代薄膜密封層之ITO層發生破裂。
具體而言係如圖12所示，將顯示裝置彎折180度並用玻璃板按壓彎折後之顯示裝置的外側，並於玻璃板間插入4mm之板，以使顯示裝置之平行對向之最表面彼此之間隔成為4mm之方式維持撓曲狀態，評估各層、薄膜之破裂。彎曲直徑與模擬之模型同樣地，設為在顯示裝置以180°之角度彎折之狀態下顯示裝置之平行對向之最表面彼此之間隔，為4mm。
針對ITO層與替代薄膜密封層之ITO層，以在撓曲後ITO層之電阻值是否有上升來評估破裂之發生。電阻值係於ITO層表面貼合導電膠帶(短籤狀端子)，並以可從顯示裝置之外側測定電阻之方式配置，以測定器測定電阻值。ITO層係使用薄片電阻為50Ω/□者，且撓曲前之短籤狀端子間的電阻值為165Ω左右，而針對在撓曲狀態下的電阻值成為撓曲前之電阻值的1.1倍以上者評估為有發生破裂。
針對硬塗層與偏光件保護薄膜，在撓曲後以顯微鏡觀察或截面SEM觀察來評估破裂之發生。
將各實施例及各比較例之破裂評估結果列於表2-1~2-3。
(算出斷裂延伸率) 關於偏光件保護薄膜的斷裂延伸率，係依以下方式算出斷裂延伸率。首先，將與上述評估破裂之發生所用撓曲試驗相同之撓曲試驗變更彎曲直徑後來進行，確認發生破裂之彎曲直徑。然後，令該發生破裂之彎曲直徑為彎曲直徑、並以偏光件保護薄膜單層為模型，進行與上述模擬同樣之模擬，算出與撓曲部分之彎曲半徑正交的方向之應變，將其作為斷裂延伸率。
又，關於硬塗層、ITO層、替代ITO層之斷裂延伸率，係將與積層有硬塗層之視窗薄膜、透明樹脂基材、替代透明樹脂基材之斷裂延伸率以與算出偏光件保護薄膜之斷裂延伸率的計算手法相同之計算手法算出，將其作為各自之斷裂延伸率。
將所算出之各實施例及各比較例之硬塗層、偏光件保護薄膜、ITO層、替代ITO層之斷裂延伸率列於表2-1~2-3。
[表2-1]
Figure 02_image005
[表2-2]
Figure 02_image007
[表2-3]
Figure 02_image009
[表3]
Figure 02_image011
[表4]
Figure 02_image013
[表5]
Figure 02_image015
[表6]
Figure 02_image017
(評估) 從表2-1~2-3、圖11可知以下情事。即，在不滿足0.3＜A/A‘＜1.2・・・(1)、B/B’＜1.7A/A‘-0.15・・・(2)、0＜B/B’＜1.25・・・(3)之比較例1~5之顯示裝置中，藉由模擬算出之使彎曲變形時的ITO層之延伸率大於ITO層之斷裂延伸率之1.50%。亦即，顯示ITO層會斷裂。在實際製出之比較例1、2、4的顯示裝置中亦於ITO層發生了破裂。相對於此，滿足上述式(1)~(3)之實施例1~31之顯示裝置中，藉由模擬算出之使彎曲變形時的ITO層之延伸率小於ITO層之斷裂延伸率之1.50%。亦即，顯示ITO層不會斷裂。在實際製出之實施例4、8、11、14~18、20、24~26的顯示裝置中亦未觀察到於ITO層發生破裂。如此一來，實施例及比較例之模擬結果與實際製出之實施例及比較例之有無發生破裂十分一致。因此可知，在各實施例之顯示裝置中，藉由以滿足上述式(1)~(3)之方式構成，可使彎曲變形時的ITO層之延伸率較ITO層之斷裂延伸率更小，亦即可抑制ITO層之斷裂。
又，在實施例1~31之顯示裝置中，藉由模擬算出之偏光件保護薄膜的延伸率亦低於斷裂延伸率(4.00%)，而在實際製出之實施例4、8、11、14~18、20、24~26之顯示裝置中亦未觀察到於偏光件保護薄膜發生破裂。如此一來，實施例及比較例之模擬結果與實際製出之實施例及比較例之有無發生破裂十分一致。因此可知，在各實施例之顯示裝置中，藉由以滿足上述式(1)~(3)之方式構成，可使彎曲變形時的偏光件保護薄膜之延伸率較偏光件保護薄膜之斷裂延伸率更小，亦即可抑制偏光件保護薄膜之斷裂。
又，在實施例1~14、19~24、27、29~31之顯示裝置中，藉由模擬算出之ITO層之延伸率低於斷裂延伸率，並且藉由模擬算出之替代ITO層之延伸率亦低於斷裂延伸率(0.65%)，而在實際製出之實施例4、8、11、14、20、24之顯示裝置中亦未觀察到於替代ITO層發生破裂。如此一來，實施例及比較例之模擬結果與實際製出之實施例及比較例之有無發生破裂十分一致。因此可知，在實施例1~14、19~24、27、29~31之顯示裝置中，亦可使彎曲變形時的替代ITO層之延伸率較替代ITO層之延伸率更小，亦即可抑制替代ITO層之斷裂。
又，在實施例1~17、21、23、25、26、28~31之顯示裝置中，藉由模擬算出之ITO層之延伸率低於斷裂延伸率，並且藉由模擬算出之硬塗層之延伸率亦低於斷裂延伸率(4.00%)，而在實際製出之實施例4、8、11、14~17、25、26之顯示裝置中亦未觀察到於硬塗層發生破裂。如此一來，實施例及比較例之模擬結果與實際製出之實施例及比較例之有無發生破裂十分一致。因此可知，在實施例1~17、21、23、25、26、28~31之顯示裝置中，藉由以滿足0.8＜A/A’＜1.2且0＜B/B’＜0.9之方式構成，亦可使彎曲變形時的硬塗層之延伸率較硬塗層之延伸率更小，亦即可抑制硬塗層之斷裂。
又，在實施例1~14、21、23、29~31之顯示裝置中，關於ITO層、偏光件保護薄膜、替代薄膜密封層之ITO層、硬塗層之全部，藉由模擬算出之使彎曲變形時的延伸率低於斷裂延伸率，而在實際製出之實施例4、8、11、14之顯示裝置中亦未觀察到於ITO層、偏光件保護薄膜、替代薄膜密封層之ITO層、硬塗層之全部發生破裂。如此一來，實施例及比較例之模擬結果與實際製出之實施例及比較例之有無發生破裂十分一致。因此可知，在實施例1~14、21、23、29~31之顯示裝置中，藉由以滿足0.8＜A/A’＜0.975且0.3＜B/B’＜0.9之方式構成，可使彎曲變形時的ITO層、偏光件保護薄膜、替代薄膜密封層之ITO層、硬塗層之全部的延伸率較各層、薄膜更小，亦即可抑制各層、薄膜之斷裂。
表3係為了容易比較而重新排列表2-1~2-3之比較例1及實施例9~11、比較例2及實施例12~14、比較例5及實施例29~31者。從表2-1~2-3、表3、圖7可知以下情事。
實施例1~4之顯示裝置係除第2黏著層外其餘為相同構成之顯示裝置，第2黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層之延伸率係排序中為較小者。
又，實施例5~8之顯示裝置係除第2黏著層外其餘為相同構成並且第3黏著層非為實施例1~4之黏著層1而為黏著層2的顯示裝置，第2黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層之延伸率係排序中為較小者。
又，比較例1、實施例9~11之顯示裝置係除第2黏著層外其餘為相同構成並且第3黏著層非為實施例1~4之黏著層2或實施例5~8之黏著層3而為黏著層4的顯示裝置，第2黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層之延伸率係排序中為較小者。
又，比較例2、實施例12~14之顯示裝置係除第2黏著層外其餘為相同構成並且第3黏著層非為實施例1~4之黏著層1、實施例5~8之黏著層2、比較例1、實施例9~11之黏著層1而為黏著層2的顯示裝置，第2黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層之延伸率係排序中為較小者。
又，比較例5、實施例29~31之顯示裝置係除第2黏著層外其餘為相同構成且第1黏著層、第3黏著層及第4黏著層具有與比較例2及實施例12相同之構成並且視窗構件之視窗薄膜非為實施例1~14、比較例1~2之視窗薄膜1而為視窗薄膜2的顯示裝置，第2黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層之延伸率係排序中為較小者。
由以上可知，藉由增大第2黏著層之剪切彈性模數G'，可縮小使彎曲變形時的ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層的延伸率，亦即可抑制ITO層及替代薄膜密封層之ITO層的斷裂。
表4係為了容易比較而重新排列表2-1~2-3之實施例28、4、8、11者。從表2-1~2-3、表4、圖8可知以下情事。
實施例28、4、8、11之顯示裝置係除第3黏著層外其餘為相同構成之顯示裝置，第3黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而ITO層之延伸率係排序中為較大者。
由以上可知，藉由縮小第3黏著層之剪切彈性模數G'，可縮小使彎曲變形時的ITO層之延伸率，亦即可抑制ITO層的斷裂。
表5係為了容易比較而重新排列表2-1~2-3之實施例8及實施例14~16者。從表2-1~2-3、表5、圖9可知以下情事。
實施例8、14~16之顯示裝置係除第4黏著層外其餘為相同構成之顯示裝置，第4黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層之延伸率係排序中為較大者。
由以上可知，藉由縮小第4黏著層之剪切彈性模數G'，可縮小使彎曲變形時的ITO層之延伸率及替代薄膜密封層之ITO層的延伸率，亦即可抑制ITO層及替代薄膜密封層之ITO層的斷裂。
表6係為了容易理解而重新排列表1之實施例8及實施例21~22、實施例11及實施例23~24者。從表2-1~2-3、表6、圖10可知以下情事。
實施例17~20之顯示裝置係除第1黏著層外其餘為相同構成之顯示裝置，第1黏著層之剪切彈性模數G'係排序中為較大者，而硬塗層之延伸率係排序中為較大者。
又，實施例8、21、22之顯示裝置係如下所述的顯示裝置：除第1黏著層外其餘為相同構成，且第3黏著層非為實施例17~20之黏著層3而為黏著層4，並且第4黏著層非為實施例17~20之黏著層4而為黏著層1。實施例8、21之第1黏著層的剪切彈性模數G'相同，但實施例21之第1黏著層的厚度較實施例8之第1黏著層的厚度更小。因此，相較於實施例8，實施例21的第1黏著層之硬度更大。又，如上述，就決定黏著層之硬度的因數而言，黏著層之剪切彈性模數G'為主控因數，因實施例22之剪切彈性模數G'比實施例21之剪切彈性模數G'大2倍以上，故相較於實施例21，實施例22的第1黏著層之硬度更大。因此，第1黏著層之硬度係排序中為較大者，而硬塗層之延伸率係排序中為較大者。
又，實施例11、23、24之顯示裝置係除第1黏著層外其餘為相同構成並且第4黏著層非為實施例17~20之黏著層3而為黏著層4的顯示裝置，第1黏著層之硬度係排序中為較大者，而硬塗層之延伸率係排序中為較大者。
由以上可知，藉由縮小第1黏著層之硬度，可縮小使彎曲變形時的硬塗層之延伸率，亦即可抑制硬塗層的斷裂。
圖7~圖10之應變分布圖中的箭頭係顯示關於對應之黏著層的硬度增大時所對應之層、薄膜，應變位移至拉伸方向或位移至壓縮方向。且，虛線係表示所對應之各層、薄膜的斷裂延伸率。
從圖7~圖10可知，複數層之層及構件透過複數層黏著層積層之各實施例及各比較例的顯示裝置中，當使某黏著層硬化時，顯示裝置在彎折時積層於該黏著層外側之層或構件之應變會位移至拉伸方向，而積層於該黏著層內側之層或構件之應變會位移至壓縮方向。
例如，關於比較例1及實施例9~11，參照圖7，在排序中第2黏著層之剪切彈性模數G'為較大者，亦即第2黏著層之硬度變大，而隨著第2黏著層之硬度變大，第2黏著層外側之層或構件之應變位移至拉伸方向，第2黏著層內側之層或構件之應變位移至壓縮方向。關於圖8~圖10之實施例及/或比較例之組亦同。
以上，已針對特定實施形態參照圖式來說明本發明，惟本發明除了圖式所說明之構成外還可進行更多變更。因此，本發明不受圖式所說明之構成所限，其範圍應解釋為所附申請專利範圍及其均等範圍所限定者。
10:紫外線硬化性樹脂 12:紫外線硬化性樹脂 14:基材 20:製造步驟 21:捲盤 22:模頭 24:加壓滾筒 25:紫外線照射裝置 26:剝離滾筒 27:紫外線照射裝置 29:模頭 30:輥版 31:輸送滾筒 32:模頭 34:加壓滾筒 35:紫外線照射裝置 36:剝離滾筒 37:紫外線照射裝置 39:模頭 40:輥版 100:顯示裝置 101:積層結構體 103:基材積層體 110:光學薄膜構件 111:偏光薄膜 113:相位差薄膜 115:圓偏光機能薄膜積層體 117:偏光件 119:偏光件保護薄膜 120:第1黏著層 130:視窗構件 131:硬塗層 133:視窗薄膜 140:第2黏著層 150:面板構件 151:薄膜密封層 153:面板基部 160:第3黏著層 170:觸控感測器構件 171:透明導電層 173:透明薄膜 180:第4黏著層 190:保護構件 900:有機EL顯裝置 901:有機EL顯示面板 912-1,912-2:透明導電層 915-1,915-2:基材薄膜 916-1,916-2:透明導電薄膜 917:分隔件 920:光學積層體 921:偏光件(偏光膜) 922-1,922-2:保護膜 923:相位差薄膜(相位差層、相位差膜) 930:觸控面板
圖1係顯示以往之有機EL顯示裝置的截面圖。 圖2係顯示本發明一實施形態之顯示裝置的截面圖。 圖3係顯示本發明另一實施形態之顯示裝置的截面圖。 圖4係顯示一實施例所用相位差薄膜之製造方法的圖。 圖5係顯示本發明實施形態之模擬方法的圖。 圖6係說明與彎曲半徑方向正交之應變的圖。 圖7係顯示變更了第2黏著層之剪切彈性模數G'的實施例及比較例之積層方向的應變分布的圖。 圖8係顯示變更了第3黏著層之剪切彈性模數G'的實施例之積層方向的應變分布的圖。 圖9係顯示變更了第4黏著層之剪切彈性模數G'的實施例之積層方向的應變分布的圖。 圖10係顯示變更了第1黏著層之剪切彈性模數G'的實施例之積層方向的應變分布的圖。 圖11係顯示A/A'與B/B'之關係的圖。 圖12係顯示破裂之評估方法的圖。

Claims (12)

  1. 一種顯示裝置，係可彎折者且具有：光學薄膜構件、第1黏著層、視窗構件、第2黏著層及積層結構體，其中前述視窗構件係透過前述第1黏著層積層於前述光學薄膜構件之一面，而前述積層結構體係透過前述第2黏著層積層於前述光學薄膜構件之另一面且包含面板構件； 該顯示裝置之特徵在於： 前述積層結構體於前述第2黏著層側之面具有在使彎曲變形時較前述視窗構件及光學薄膜構件更易斷裂之層； 令以下應變之差A、A’、B、B’之間成立下述式(1)、(2)及(3)之關係，藉此經彎曲變形後之前述易斷裂之層的延伸率被抑制成較斷裂延伸率更小之值： 將前述顯示裝置呈前述視窗構件朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述顯示裝置之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件之前述一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述視窗構件之面向前述第1黏著層之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A； 以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將前述光學薄膜構件及視窗構件在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述光學薄膜構件及前述視窗構件各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述視窗構件內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為A’； 將前述顯示裝置呈前述視窗構件朝外側地以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述顯示裝置之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件之另一面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述積層結構體之面向前述第2黏著層之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B； 以使經彎曲變形後之外側及內側與於使前述顯示裝置彎曲變形後相同之方式，將前述光學薄膜構件及積層結構體在各自單層之狀態下以180°之角度彎折，且使彎曲變形成在經以180°之角度彎折之狀態下前述光學薄膜構件及前述積層結構體各自之平行對向的最表面彼此之間隔成為4mm時，於前述光學薄膜構件內側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變、和於前述積層結構體外側之面產生之與彎曲半徑方向正交之方向的應變之差設為B’； 0.3＜A/A’＜1.2　　　　・・・・(1) B/B’＜1.7A/A’-0.15　　・・・・(2) 0＜B/B’＜1.25　　　　・・・・(3)。
  2. 如請求項1之顯示裝置，其中前述視窗構件於與前述第1黏著層相反之側的面具有硬塗層。
  3. 如請求項1或2之顯示裝置，其中前述光學薄膜構件係於偏光薄膜積層有相位差薄膜之圓偏光機能薄膜積層體。
  4. 如請求項3之顯示裝置，其中前述偏光薄膜係積層有偏光件與位於偏光件之至少一面之偏光件保護薄膜的積層體。
  5. 如請求項4之顯示裝置，其中前述偏光件保護薄膜包含丙烯酸系樹脂。
  6. 如請求項1至5中任一項之顯示裝置，其中前述較視窗構件及光學薄膜構件更易斷裂之層係形成在前述面板構件之前述第2黏著層側之面的薄膜密封層。
  7. 如請求項1至5中任一項之顯示裝置，其中前述積層結構體係於前述面板構件之前述第2黏著層側之面形成有薄膜密封層，於前述薄膜密封層之與前述面板構件相反之側的面透過第3黏著層積層有觸控感測器構件，並於前述觸控感測器構件之與前述面板構件相反之側的面形成有透明導電層，且將該透明導電層以較前述視窗構件及前述光學薄膜構件更易斷裂之層之形式積層於前述第2黏著層上。
  8. 如請求項2至7中任一項之顯示裝置，其中於前述應變之差A、A'之間更成立下述式(4)的關係： 0.8＜A/A’　　　　・・・・(4)。
  9. 如請求項1至8中任一項之顯示裝置，其中前述第2黏著層之剪切彈性模數大於前述第1黏著層之剪切彈性模數。
  10. 如請求項1至9中任一項之顯示裝置，其中於前述面板構件之與前述第2黏著層相反之面更具有第4黏著層，且透過前述第4黏著層積層有保護構件。
  11. 如請求項10之顯示裝置，其中前述第4黏著層之剪切彈性模數小於前述第2黏著層之剪切彈性模數，且小於前述第3黏著層之剪切彈性模數。
  12. 一種基材積層體，係用於如請求項7至11中任一項之顯示裝置且具有： 前述光學薄膜構件； 前述視窗構件，係透過前述第1黏著層積層於前述光學薄膜構件之一面；及 觸控感測器構件，係透過前述第2黏著層積層於前述光學薄膜構件之另一面且包含前述透明導電層。
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