TW202116720A - 量子點、包括其的可固化組成物、使用所述組成物的固化層以及包括所述固化層的彩色濾光片 - Google Patents

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Abstract

提供一種由用由化學式1表示的化合物進行表面改質的量子點、一種包括所述量子點的可固化組成物、一種固化層以及一種彩色濾光片。

Description

量子點、包括其的可固化組成物、使用所述組成物的固化層以及包括所述固化層的彩色濾光片
[ 相關申請案的交叉參考 ] 本申請案主張於2019年10月14日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2019-0127123號的優先權及權利，所述韓國專利申請案的全部內容併入本案供參考。
本揭露是有關於是有關於一種量子點、一種包括其的可固化組成物、一種使用所述組成物的固化層以及一種包括所述固化層的彩色濾光片。
在一般量子點的情況下，由於具有疏水性的表面特性，其中分散量子點的溶劑是有限的。因此，難以將其引入極性體系，例如黏合劑或可固化單體。
例如，即使在積極研究量子點油墨組成物的情況下，極性在初始步驟中相對低，且其可分散在用於具有高疏水性的可固化組成物的溶劑中。因此，由於以組成物的總量計，難以包含20重量%或大於20重量%的量子點，因此無法將油墨的光效率提高至超過某一水準。儘管另外添加及分散量子點來提高光效率，但黏度會超過能夠噴墨的範圍（12厘泊），且因此可能無法滿足可處理性。
為獲得能夠噴墨的黏度範圍，一種藉由溶解以組成物的總量計50重量%或大於50重量%的溶劑來降低油墨固體含量的方法，其在黏度方面亦提供稍微令人滿意的結果。然而，就黏度而言，其可被認為是令人滿意的結果，但由於溶劑揮發而導致的噴嘴乾燥、噴嘴堵塞及噴射後隨著時間流逝單層減少可能變得更差，且難以控制固化後的厚度偏差。因此，難以將其應用於實際製程。
因此，不包含溶劑的無溶劑量子點油墨是應用於實際製程的最期望形式。將量子點本身應用於溶劑型組成物的當前技術現在受到一定程度的限制。
如迄今所報導的，在待應用於實際製程的最期望的溶劑型組成物的情況下，以溶劑型組成物的總量計，未被表面改質（例如配位體取代）的量子點具有20重量%至25重量%的含量。因此，由於黏度限制，難以提高光效率及吸收率。同時，已經嘗試在其他改進途徑中降低量子點含量且增加光擴散劑（散射體）的含量，但此亦未能解決沈澱問題及低光效率問題。
一實施例是提供一種量子點，所述量子點用具有優異鈍化效果的化合物進行表面改質，且因此具有提高的光效率。
另一實施例是提供一種含量子點的可固化組成物。
另一實施例是提供一種使用所述可固化組成物生產的固化層。
另一實施例是提供一種包括所述固化層的彩色濾光片。
一實施例提供一種用由化學式1表示的化合物進行表面改質的量子點。
[化學式1]
Figure 02_image002
在化學式1中， R1 是羧基、*-P(=O)(OH)2 或硫醇基，且 R2 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」，或「由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image003
其中，在化學式1A中， R3 是「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C2至C20烯基」，且 L1 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「由化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中的一者表示」， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image004
[化學式1B-1-2]
Figure 02_image005
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image006
[化學式1B-2-2]
Figure 02_image007
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image008
[化學式1B-3-2] 6
Figure 02_image009
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image010
[化學式1B-4-2]
Figure 02_image011
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image012
[化學式1B-5-2]
Figure 02_image013
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image014
[化學式1B-6-2]
Figure 02_image015
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image016
[化學式1B-7-2]
Figure 02_image017
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中， Ra 及Rb 獨立地是氫原子或羧基， Rc 是O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 是單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
Figure 02_image018
[化學式1C-2]
Figure 02_image019
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， m是1至20的整數，且 n是1或2的整數。
所述由化學式1表示的化合物可由化學式2表示。
[化學式2]
Figure 02_image020
在化學式2中， R2 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」，或「可由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image021
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C2至C20烯基」，且 L1 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「可由化學式1B-1-1、化學式1B-2-1、化學式1B-3-1、化學式1B-4-1、化學式1B-5-1、化學式1B-6-1及化學式1B-7-1中的一者表示」， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image022
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image023
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image024
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image025
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image026
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image027
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image028
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-1中， Ra 及Rb 可獨立地為氫原子或羧基， Rc 可為O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 可為單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 可由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
Figure 02_image029
[化學式1C-2]
Figure 02_image030
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m可為1至20的整數。
在化學式2中，R2 可為「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」， L1 可為「未經取代的C1至C20伸烷基」或「未經取代的C3至C20伸環烷基」， L2 可為單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 可由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
Figure 02_image031
[化學式1C-2]
Figure 02_image032
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m可為1至20的整數。
所述由化學式1表示的化合物可由化學式2-1至化學式2-8中的一者表示。
[化學式2-1]
Figure 02_image033
[化學式2-2]
Figure 02_image034
[化學式2-3]
Figure 02_image035
[化學式2-4]
Figure 02_image036
[化學式2-5]
Figure 02_image037
[化學式2-6]
Figure 02_image038
[化學式2-7]
Figure 02_image039
[化學式2-8]
Figure 02_image040
在化學式1中，R1 可為羧基或硫醇基，且 R2 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或可「由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image041
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」，且 L1 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或可「由化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中的一者表示」 ， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image042
[化學式1B-1-2]
Figure 02_image043
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image044
[化學式1B-2-2]
Figure 02_image045
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image046
[化學式1B-3-2]
Figure 02_image047
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image048
[化學式1B-4-2]
Figure 02_image049
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image050
[化學式1B-5-2]
Figure 02_image051
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image052
[化學式1B-6-2]
Figure 02_image053
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image054
[化學式1B-7-2]
Figure 02_image055
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中， Ra 及Rb 可獨立地為氫原子或羧基， Rc 可為O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 可為單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 可由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
Figure 02_image056
[化學式1C-2]
Figure 02_image057
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， m可為1至20的整數，且 n可為1或2的整數。
所述由化學式1表示的化合物可由化學式3表示。
[化學式3]
Figure 02_image058
在化學式3中， R4 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或「可由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image059
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」， R5 可為羧基或硫醇基， L6 及L7 可獨立地為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L8 可為單鍵、*-S-*、*-C(=O)-*或*-OC(=O)-*， L9 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m可為1至20的整數。
所述由化學式1表示的化合物可由化學式4表示。
[化學式4]
Figure 02_image060
在化學式4中， R4 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或可「由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image061
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」， L6 及L7 可獨立地為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L8 可為單鍵、*-S-*、*-C(=O)-*或*-OC(=O)-*， L9 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 L10 可為由化學式1B-1-1、化學式1B-2-1、化學式1B-3-1、化學式1B-4-1、化學式1B-5-1、化學式1B-6-1及化學式1B-7-1中的一者表示， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image062
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image063
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image064
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image065
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image066
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image067
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image068
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-1中， Ra 及Rb 可獨立地為氫原子或羧基， Rc 可為O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基，且 m可為1至20的整數。
所述由化學式1表示的化合物可由化學式3-1至化學式3-6中的一者表示。
[化學式3-1]
Figure 02_image069
[化學式3-2]
Figure 02_image070
[化學式3-3]
Figure 02_image071
[化學式3-4]
Figure 02_image072
[化學式3-5]
Figure 02_image073
[化學式3-6]
Figure 02_image074
所述由化學式1表示的化合物可由化學式4-1表示。
[化學式4-1]
Figure 02_image075
所述量子點在500奈米至680奈米下可具有最大螢光發射波長。
另一實施例提供一種包含量子點及在末端處具有碳-碳雙鍵的可聚合單體的無溶劑可固化組成物。
所述無溶劑可固化組成物中的所述可聚合單體可具有220克/莫耳至1,000克/莫耳的分子量。
所述無溶劑可固化組成物中的所述可聚合單體可由化學式5表示。
[化學式5]
Figure 02_image076
在化學式5中， R101 及R102 可獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， L101 及L103 可獨立地為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，且 L102 可為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基或醚基（*-O-*）。
所述無溶劑可固化組成物可包含1重量%至60重量%的量子點及40重量%至99重量%的可聚合單體。
所述無溶劑可固化組成物可更包含聚合起始劑、光擴散劑或其組合。
另一實施例提供一種包含量子點、黏合劑樹脂及溶劑的溶劑型可固化組成物。
所述溶劑型可固化組成物可包含1重量%至40重量%的量子點；1重量%至30重量%的黏合劑樹脂；以及餘量的溶劑。
所述溶劑型可固化組成物可更包含可聚合單體、聚合起始劑、光擴散劑或其組合。
另一實施例提供一種使用所述可固化組成物生產的固化層。
另一實施例提供一種包括固化層的彩色濾光片。
以下詳細說明中包含本發明的其他實施例。
一實施例提供一種用特定配位體進行表面改質的量子點，且所述特定配位體對量子點具有非常好的鈍化效果，並且相較於傳統量子點而言，經表面改質的量子點可容易地應用於溶劑型可固化組成物及無溶劑可固化組成物二者來改善可處理性，且可極大地提高使用所述組成物生產的固化層的光效率。此外，根據實施例的包含量子點的可固化組成物具有改善的儲存穩定性及耐熱性。
在下文中詳細闡述本發明的實施例。然而，該些實施例為示範性的，本發明不限於此，且本發明由申請專利範圍的範圍界定。
如本文所使用，當不另外提供定義時，「烷基」是指C1至C20烷基，「烯基」是指C2至C20烯基，「環烯基」是指C3至C20環烯基，「雜環烯基」是指C3至C20雜環烯基，「芳基」是指C6至C20芳基，「芳基烷基」是指C6至C20芳基烷基，「伸烷基」是指C1至C20伸烷基，「伸芳基」是指C6至C20伸芳基，「烷基伸芳基」是指C6至C20烷基伸芳基，「伸雜芳基」是指C3至C20伸雜芳基，且「伸烷氧基」是指C1至C20伸烷氧基。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，「經取代」是指至少一個氫原子經選自以下的取代基代替：鹵素原子（F、Cl、Br或I）、羥基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亞胺基、疊氮基、脒基、肼基、腙基、羰基、胺甲醯基、硫醇基、酯基、醚基、羧基或其鹽、磺酸基或其鹽、磷酸或其鹽、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C20芳基、C3至C20環烷基、C3至C20環烯基、C3至C20環炔基、C2至C20雜環烷基、C2至C20雜環烯基、C2至C20雜環炔基、C3至C20雜芳基或其組合。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，「雜」是指在化學式中包含N、O、S及P中的至少一個雜原子。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，「(甲基)丙烯酸酯」是指「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」兩者，且「(甲基)丙烯酸」是指「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，用語「組合」是指混合或共聚合。
如本文所使用，當不另外提供定義時，當在化學式中化學鍵並未繪製在應給出處時，氫原子鍵結在所述位置處。
如本文所使用，卡多系樹脂是指在樹脂的骨架中包含選自化學式6-1至化學式6-11中的至少一個官能基的樹脂。
此外，在本說明書中，當不另外提供定義時，「*」是指與相同或不同原子或化學式連接的點。
由於疏水表面特性，一般量子點有限地分散在少數溶劑中，因此在將量子點引入例如黏合劑樹脂、可固化單體等極性體系中時存在許多困難。
例如，甚至已經積極研究的含量子點的可固化組成物在初始步驟中仍具有相對低的極性，且藉由將量子點僅分散在具有高疏水性的可固化組成物中來製備。因此以總組成物計，難以包含20重量%或大於20重量%的高含量的量子點，且因此，可固化組成物的光效率無法提高預定水準或更高，且為提高光效率，即使量子點被過度添加及分散，組成物的黏度（12厘泊）亦會超過能夠噴墨的黏度範圍，且因此可能不滿足可處理性。
此外，為達成能夠進行噴墨的黏度範圍，已使用一種方法，所述方法相對於總可固化組成物以大於或等於50重量%的含量包含溶劑以減少可固化組成物的固體含量，此可帶來優異的黏度，但具有由於溶劑的揮發而導致的噴嘴乾燥、噴嘴堵塞、噴墨後隨著時間的推移單一膜減少以及固化後嚴重的厚度變化的缺點，且因此難以應用於實際製程。
因此，慮及不包含溶劑的無溶劑組成物是適用於實際製程的發展方向，含量子點的可固化組成物在應用當前量子點本身方面具有限制。
迄今為止所報導的，由於以可固化組成物計以20重量%至25重量%的少量包含未被表面改質（例如配位體取代）的量子點，因此由於黏度的限制，難以提高光效率及吸收率。此外，另一改進途徑是減少量子點的含量並增加例如TiO2 等光擴散劑的含量的方法，所述方法亦不能改善沈澱問題或低光效率。
包含量子點的傳統溶劑型可固化組成物可能由於如上所述的噴墨過程中噴嘴中的溶劑乾燥而導致噴嘴堵塞，由於噴墨畫素中的油墨蒸發而不能保持目標畫素厚度，且因此不能確保噴墨可處理性。
此外，為在畫素中形成薄膜之後藉由後烘烤（或另外熱固化）形成具有預定厚度的層，應藉由在遠高於畫素高度的位置噴墨大量油墨來形成釘紮點（氣泡不塌陷的最大高度），此實際上是不可能的，且此外，可處理溶劑應具有接近40達因/公分的表面張力，此很少可能發生。
大多數用於對量子點進行表面改質的配位體通常具有硫醇基，但是如上所述，用含硫醇基的配位體進行表面改質的量子點具有低的可分散性及較差的噴墨製程，且最重要的是，慮及市場中對光學特性的需求，已經達到極限。
因此，本發明人已長期研究並發明出使用不包括硫醇基或包括碳-碳雙鍵或環氧基的官能基對量子點進行表面改質，即使其具有硫醇基，由此仍會防止量子點的光學特性劣化，且同時極大地提高含量子點的可固化組成物的儲存穩定性及耐熱性。
舉例而言，所述配位體可由化學式1表示。
[化學式1]
Figure 02_image077
在化學式1中， R1 是羧基、*-P(=O)(OH)2 或硫醇基，且 R2 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」，或「由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image078
其中，在化學式1A中， R3 是「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C2至C20烯基」，且 L1 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「可由化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中的一者表示」， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image079
[化學式1B-1-2]
Figure 02_image080
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image081
[化學式1B-2-2]
Figure 02_image082
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image083
[化學式1B-3-2]
Figure 02_image084
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image085
[化學式1B-4-2]
Figure 02_image086
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image087
[化學式1B-5-2]
Figure 02_image088
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image089
[化學式1B-6-2]
Figure 02_image090
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image091
[化學式1B-7-2]
Figure 02_image092
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中， Ra 及Rb 獨立地是氫原子或羧基， Rc 是O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 是單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
Figure 02_image093
[化學式1C-2]
Figure 02_image094
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， m是1至20的整數，且 n是1或2的整數。
在L2 中，*-C(=O)O-*可具有與*-O(C=O)-*不同的連接順序，且*-C(=O)O-*的羰基可連接至L1 連接基，並且醚基可連接至L3 連接基。
例如，所述由化學式1表示的化合物可由化學式2表示。
[化學式2]
Figure 02_image095
在化學式2中， R2 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」，或「可由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image096
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C2至C20烯基」，且 L1 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「可由化學式1B-1-1、化學式1B-2-1、化學式1B-3-1、化學式1B-4-1、化學式1B-5-1、化學式1B-6-1及化學式1B-7-1中的一者表示」， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image097
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image098
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image099
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image100
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image101
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image102
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image103
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-1中， Ra 及Rb 可獨立地為氫原子或羧基， Rc 可為O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 可為單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 可由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
Figure 02_image104
[化學式1C-2]
Figure 02_image105
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m可為1至20的整數。
由化學式1表示的化合物，具體而言由化學式2表示的化合物是具有與通常用作量子點的傳統表面改質材料的硫醇系化合物完全不同的結構的配位體，且當用此種配位體對量子點進行表面改質時，經表面改質的量子點可極大提高使用含量子點的組成物生產的固化層的光效率，並且進一步提高組成物的儲存穩定性及耐熱性。
在化學式2中，R2 可為「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」，L1 可為「未經取代的C1至C20伸烷基」或「未經取代的C3至C20伸環烷基」，L2 可為單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且L3 可由化學式1C-1或化學式1C-2表示，
[化學式1C-1]
Figure 02_image106
[化學式1C-2]
Figure 02_image107
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，L5 可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且m可為1至20的整數。
另一方面，所述由化學式1表示的化合物可為不由化學式2表示的化合物，其中（在化學式1中）R1 可為羧基或硫醇基，R2 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或「可由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image108
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」，且 L1 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「可由化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中的一者表示」 ， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image109
[化學式1B-1-2]
Figure 02_image110
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image111
[化學式1B-2-2]
Figure 02_image112
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image113
[化學式1B-3-2]
Figure 02_image114
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image115
[化學式1B-4-2]
Figure 02_image116
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image117
[化學式1B-5-2]
Figure 02_image118
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image119
[化學式1B-6-2]
Figure 02_image120
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image121
[化學式1B-7-2]
Figure 02_image122
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中， Ra 及Rb 可獨立地為氫原子或羧基， Rc 可為O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 可為單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 可由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
Figure 02_image123
[化學式1C-2]
Figure 02_image124
其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， m可為1至20的整數，且 n可為1或2的整數。
例如，所述由化學式1表示的化合物可由化學式3或化學式4表示。
[化學式3]
Figure 02_image125
[化學式4]
Figure 02_image126
在化學式3中， R4 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或「可由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image127
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」， R5 可為羧基或硫醇基， L6 及L7 可獨立地為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L8 可為單鍵、*-S-*、*-C(=O)-*或*-OC(=O)-*， L9 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m可為1至20的整數，以及 [化學式4]
Figure 02_image128
其中，在化學式4中， R4 可為「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或「可由化學式1A表示」， [化學式1A]
Figure 02_image129
其中，在化學式1A中， R3 可為「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」， L6 及L7 可獨立地為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L8 可為單鍵、*-S-*、*-C(=O)-*或*-OC(=O)-*， L9 可為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 L10 可為由化學式1B-1-1、化學式1B-2-1、化學式1B-3-1、化學式1B-4-1、化學式1B-5-1、化學式1B-6-1及化學式1B-7-1中的一者表示， [化學式1B-1-1]
Figure 02_image130
[化學式1B-2-1]
Figure 02_image131
[化學式1B-3-1]
Figure 02_image132
[化學式1B-4-1]
Figure 02_image133
[化學式1B-5-1]
Figure 02_image134
[化學式1B-6-1]
Figure 02_image135
[化學式1B-7-1]
Figure 02_image136
其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-1中， Ra 及Rb 可獨立地為氫原子或羧基， Rc 可為O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基，且 m可為1至20的整數。
由化學式1表示的化合物可具有小於或等於1000克/莫耳、例如200克/莫耳至1000克/莫耳的重量平均分子量。當由化學式1表示的化合物的重量平均分子量在上述範圍內時，包含用所述化合物進行表面改質的量子點的可固化組成物的黏度可保持低，此對於噴墨可能是有利的。
例如，化學式1可由化學式2-1至化學式2-8、化學式3-1至化學式3-6及化學式4-1中的一者表示，但不必受限於此。
[化學式2-1]
Figure 02_image137
[化學式2-2]
Figure 02_image138
[化學式2-3]
Figure 02_image139
[化學式2-4]
Figure 02_image140
[化學式2-5]
Figure 02_image141
[化學式2-6]
Figure 02_image142
[化學式2-7]
Figure 02_image143
[化學式2-8]
Figure 02_image144
[化學式3-1]
Figure 02_image069
[化學式3-2]
Figure 02_image145
[化學式3-3]
Figure 02_image146
[化學式3-4]
Figure 02_image147
[化學式3-5]
Figure 02_image148
[化學式3-6]
Figure 02_image149
[化學式4-1]
Figure 02_image075
例如，量子點在500奈米至680奈米下可具有最大螢光發射波長。
根據另一實施例的可固化組成物包含用由化學式1表示的化合物進行表面改質的量子點。
至此，包含量子點的可固化組成物（油墨）已經朝向與量子點具有良好相容性的專門化單體發展，且此外，已經商業化。
另一方面，由於一般及廣泛使用的可聚合單體、-烯系單體（包括乙烯系單體、丙烯酸酯系單體、甲基丙烯酸酯系單體等，其包括單官能單體或多官能單體）與量子點具有低的相容性，並且在量子點的分散性方面受到限制，因此有效地將其應用於含量子點的可固化組成物的各種開發實質上是困難的。最重要的是，-烯系單體沒有顯示出高濃度量子點可分散性，且因此難以應用於含量子點的可固化組成物。
由於該些缺點，含量子點的可固化組成物已經被開發成具有包含相當量（大於或等於50重量%）的溶劑的組成物，但當溶劑含量增加時，噴墨可處理性可能劣化。因此，為滿足噴墨可處理性，對無溶劑可固化組成物的需求不斷增加。
本發明提供一種需求不斷增加的無溶劑可固化組成物，且藉由使用包括在末端處具有碳-碳雙鍵的化合物的可聚合單體以及用由化學式1表示的化合物進行表面改質的量子點，即使在無溶劑體系中亦可提高量子點對可固化組成物的親和力，以達成量子點的高濃度可分散性及甚至鈍化效果，同時不損害量子點的自然光學特性。
以下，詳細闡述構成無溶劑可固化組成物的每一組分。 量子點
包含在無溶劑可固化組成物中的量子點包括用由化學式1表示的化合物進行表面改質的量子點。
例如，量子點在360奈米至780奈米、例如400奈米至780奈米的波長區中吸收光，且在500奈米至700奈米、例如500奈米至580奈米的波長區中發射螢光或在600奈米至680奈米的波長區中發射螢光。亦即，量子點在500奈米至680奈米下可具有最大螢光發射波長（λem ）。
量子點可獨立地具有20奈米至100奈米、例如20奈米至50奈米的半高寬（full width at half maximum，FWHM）。當量子點具有所述範圍的半高寬（FWHM）時，當用作彩色濾光片中的顏色材料時，由於高顏色純度而使顏色再現性增加。
量子點可獨立地為有機材料、或無機材料或者有機材料與無機材料的混成（混合物）。
量子點可獨立地由核及圍繞核的殼構成，且核及殼可獨立地具有由II-IV族、III-V族等構成的核、核/殼、核/第一殼/第二殼、合金、合金/殼等的結構，但不限於此。
舉例而言，所述核可至少包含選自CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InP、InAs及其合金的至少一種材料，但不必受限於此。環繞所述核的所述殼可至少包含選自CdSe、ZnSe、ZnS、ZnTe、CdTe、PbS、TiO、SrSe、HgSe及其合金中的至少一種材料，但不必受僅限於此。
在實施例中，由於近來全世界對環境的關注已大大增加，且有毒材料的管制已加強，因此使用量子效率（量子產率）稍低但對環境友好的非鎘系發光材料（InP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS等）來替代具有鎘系核的發光材料，但不必受限於此。
在核/殼結構的量子點的情況下，包括殼的整體大小（平均粒徑）可為1奈米至15奈米、例如5奈米至15奈米。
舉例而言，量子點可獨立地包括紅色量子點、綠色量子點或其組合。紅色量子點可獨立地具有10奈米至15奈米的平均粒徑。綠色量子點可獨立地具有5奈米至8奈米的平均粒徑。
另一方面，為達成量子點的分散穩定性，根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含分散劑。分散劑有助於例如量子點等光轉換材料在無溶劑可固化組成物中的均勻分散性，且可包含非離子分散劑、陰離子分散劑或陽離子分散劑。具體而言，分散劑可為聚烷二醇或其酯、聚氧化烯烴、多元醇酯環氧烷加成產物、醇環氧烷加成產物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺環氧烷加成產物、烷基胺等，且其可單獨使用或者以二或更多者的混合物形式使用。以光轉換材料（例如量子點）的固體含量計，可使用0.1重量%至100重量%、例如10重量%至20重量%的量的分散劑。
以無溶劑可固化組成物的總量計，可包含1重量%至60重量%、例如3重量%至50重量%的量的用化學式1或化學式2進行表面改質的量子點。當包含處於所述範圍內的表面改質的量子點時，可提高光轉換率，且圖案特性及顯影特性不受干擾，使得其可具有優異的可處理性。 在末端處具有碳-碳雙鍵的可聚合單體
以無溶劑可固化組成物的總量計，應包含40重量%至99重量%、例如50重量%至97重量%的量的在末端處具有碳-碳雙鍵的單體。當包含處於所述範圍內的在末端處具有碳-碳雙鍵的單體時，可製備具有能夠噴墨的黏度的無溶劑可固化組成物，且製備的無溶劑可固化組成物中的量子點可具有改善的分散性，由此改善光學特性。
例如，在末端處具有碳-碳雙鍵的單體可具有220克/莫耳至1,000克/莫耳的分子量。當在末端處具有碳-碳雙鍵的單體具有處於所述範圍內的分子量時，可有利地進行噴墨，此乃因其不會增加組成物的黏度且不妨礙量子點的光學特性。
例如，在末端處具有碳-碳雙鍵的單體可由化學式5表示，但不必受限於此。
[化學式5]
Figure 02_image150
在化學式5中， R101 及R102 可獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， L101 及L103 可獨立地為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，且 L102 可為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基或醚基（*-O-*）。
例如，在末端處具有碳-碳雙鍵的單體可由化學式5-1或5-2表示，但不必受限於此。
[化學式5-1]
Figure 02_image151
[化學式5-2]
Figure 02_image152
例如，除了上述化學式5-1或化學式5-2的化合物之外，在末端處具有碳-碳雙鍵的單體可更包括乙二醇二丙烯酸酯、三乙乙二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、季戊四醇六丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、酚醛環氧丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯或其組合。
此外，與在末端處具有碳-碳雙鍵的單體一起，可更包含傳統熱固性或光可固化組成物的常用單體。例如，單體更包括氧雜環丁烷系化合物，例如雙[1-乙基(3-氧雜環丁基)]甲醚等。 聚合起始劑
根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含聚合起始劑，例如光聚合起始劑、熱聚合起始劑或其組合。
光聚合起始劑是常用於感光性樹脂組成物的起始劑，例如苯乙酮系化合物、二苯甲酮系化合物、噻噸酮系化合物、安息香系化合物、三嗪系化合物、肟系化合物、胺基酮系化合物等，但不必受限於此。
苯乙酮系化合物的實例可為2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對第三丁基三氯苯乙酮、對第三丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等。
二苯甲酮系化合物的實例可為二苯甲酮、苯甲酸苯甲醯基酯、苯甲酸苯甲醯基甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4'-二甲基胺基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮等。
噻噸酮系化合物的實例可為噻噸酮、2-甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮等。
安息香系化合物的實例可為安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯甲基二甲基縮酮等。
三嗪系化合物的實例可為2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘酚1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酚1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-s-三嗪、2-4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-s-三嗪等。
肟系化合物的實例可為O-醯基肟系化合物、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧基羰基-α-氧基胺基-1-苯基丙-1-酮等。O-醯基肟系化合物的具體實例可為1,2-辛二酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯硫基苯基)-丁烷-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-辛烷-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-辛-1-酮肟-O-乙酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-丁-1-酮肟- O-乙酸酯等。
胺基酮系化合物的實例可為2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1等。
光聚合起始劑除所述化合物之外可更包含咔唑系化合物、二酮系化合物、硼酸鋶系化合物、重氮系化合物、咪唑系化合物、聯咪唑系化合物等。
光聚合起始劑可與能夠藉由吸收光引起化學反應且變得激發並隨後傳輸其能量的光增感劑一起使用。
光增感劑的實例可為四乙二醇雙-3-巰基丙酸酯、季戊四醇四-3-巰基丙酸酯、二季戊四醇四-3-巰基丙酸酯等。
熱聚合起始劑的實例可為過氧化物，具體而言過氧化苯甲醯、過氧化二苯甲醯、過氧化月桂基、過氧化二月桂基、過氧化二-第二丁基、過氧化環己烷、過氧化甲乙酮、氫過氧化物（例如第三丁基氫過氧化物、枯烯氫過氧化物）、過氧化二碳酸二環己基酯、2,2-偶氮-雙(異丁腈)、過苯甲酸第三丁酯等，例如2,2'-偶氮雙-2-甲基丙腈，但不必受限於此，且可使用此項技術中眾所習知的任何一種。
以無溶劑可固化組成物的總量計，可包含0.1重量%至5重量%、例如1重量%至4重量%的量的聚合起始劑。當包含處於所述範圍內的聚合起始劑時，由於曝光或熱固化期間的充分固化，可獲得優異的可靠性，且防止由於非反應起始劑導致的透射率劣化，由此防止量子點的光學特性劣化。 光擴散劑（或光擴散劑分散體）
根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含光擴散劑。
舉例而言，光擴散劑可包括硫酸鋇（BaSO4 ）、碳酸鈣（CaCO3 ）、二氧化鈦（TiO2 ）、氧化鋯（ZrO2 ）或其組合。
光擴散劑可反射前述量子點中未被吸收的光，且容許量子點再次吸收反射光。亦即，光擴散劑可增加被量子點吸收的光量，且提高可固化組成物的光轉換效率。
光擴散劑可具有150奈米至250奈米、且具體而言180奈米至230奈米的平均粒徑（D50 ）。當光擴散劑的平均粒徑處於所述範圍內時，其可具有更佳的光擴散效果並提高光轉換效率。
以無溶劑可固化組成物的總量計，可包含1重量%至20重量%、例如5重量%至10重量%的量的光擴散劑。當以無溶劑可固化組成物的總量計，包含小於1重量%的量的光擴散劑時，由於光擴散劑的使用，難以期望光轉換效率提高效果，而當包含大於20重量%的光擴散劑時，存在量子點可能沈澱的可能性。 其他添加劑
為達成量子點的穩定性及分散改善，根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含聚合抑制劑。
聚合抑制劑可包括氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合，但不必受限於此。當根據實施例的無溶劑可固化組成物更包含氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合時，可防止在塗佈無溶劑可固化組成物後曝光期間的室溫交聯。
例如，氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合可為氫醌、甲基氫醌、甲氧基氫醌、第三丁基氫醌、2,5-二-第三丁基氫醌、2,5-雙( 1,1-二甲基丁基)氫醌、2,5-雙(1,1,3,3-四甲基丁基)氫醌、兒茶酚、第三丁基兒茶酚、4-甲氧基兒茶酚、五倍子酚、2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2-萘酚、三(N-羥基-N-亞硝基苯基胺基-O,O')鋁或其組合，但不必受限於此。
氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合可以分散體的形式使用。以無溶劑可固化組成物的總量計，可包含0.001重量%至3重量%、例如0.1重量%至2重量%的量的分散體形式的聚合抑制劑。當包含處於所述範圍內的聚合抑制劑時，可解決在室溫下的時間流逝，且同時可防止靈敏度劣化及表面分層現象。
此外，根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含丙二酸；3-胺基-1,2-丙二醇；矽烷系偶合劑；調平劑；氟系界面活性劑；或其組合，以改善耐熱性及可靠性。
舉例而言，根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含具有例如乙烯基、羧基、甲基丙烯醯氧基、異氰酸酯基、環氧基等反應性取代基的矽烷系偶合劑以改善與基板的緊密接觸特性。
矽烷系偶合劑的實例可為三甲氧基矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酸基氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、β-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等，且該些偶合劑可單獨使用或者以二或更多者的混合物形式使用。
以100重量份的無溶劑可固化組成物計，可使用0.01重量份至10重量份的量的矽烷系偶合劑。當包含處於所述範圍內的矽烷系偶合劑時，緊密接觸性質、儲存能力等得以改善。
此外，無溶劑可固化組成物可視需要更包含界面活性劑（例如氟系界面活性劑）以改善塗佈性質並抑制斑點的產生，即改善調平效能。
氟系界面活性劑可具有4,000克/莫耳至10,000克/莫耳、且具體而言6,000克/莫耳至10,000克/莫耳的低重量平均分子量。此外，氟系界面活性劑可具有18毫牛/米至23毫牛/米的表面張力（在0.1%的聚乙二醇單甲醚乙酸酯（polyethylene glycol monomethylether acetate，PGMEA）溶液中測得）。當氟系界面活性劑具有處於所述範圍內的重量平均分子量及表面張力時，調平效能可進一步改善，且當施加狹縫塗佈作為高速塗佈時，可提供優異的特性，此乃因可藉由在高速塗佈期間防止斑點產生並抑制蒸氣產生而較少地產生膜缺陷。
氟系界面活性劑的實例可為BM-1000® 及BM-1100® （BM化學公司（BM Chemie Inc.））；美佳法（MEGAFACE）F 142D® 、F 172® 、F 173® 及F 183® （大日本油墨化工有限公司（Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co., Ltd.））；弗洛拉德（FULORAD）FC-135® 、弗洛拉德FC-170C® 、弗洛拉德FC-430® 及弗洛拉德FC-431® （住友3M有限公司（Sumitomo 3M Co., Ltd.））；沙福隆（SURFLON）S-112® 、沙福隆S-113® 、沙福隆S-131® 、沙福隆S-141® 及沙福隆S-145® （旭硝子玻璃有限公司（ASAHI Glass Co., Ltd.））；以及SH-28PA® 、SH-190®、SH-193® 、SZ-6032® 及SF-8428® 等（東麗矽酮有限公司（Toray Silicone Co., Ltd.））；大日本油墨化工有限公司（DIC Co., Ltd.）的F-482、F-484、F-478、F-554等。
此外，除了氟系界面活性劑之外，根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含矽酮系界面活性劑。矽酮系界面活性劑的具體實例可為東芝矽酮有限公司（Toshiba silicone Co., Ltd.）的TSF400、TSF401、TSF410、TSF4440等，但不限於此。
以100重量份的無溶劑可固化組成物計，可包含0.01重量份至5重量份、例如0.1重量份至2重量份的量的界面活性劑。當包含處於所述範圍內的界面活性劑時，在噴射的組成物中較少地生成異物。
另外，除非性質劣化，否則根據實施例的無溶劑可固化組成物可更包含預定量的其他添加劑，例如抗氧化劑、穩定劑等。
例如，除上述無溶劑可固化組成物之外，可固化組成物可提供包含被化學式1或化學式2表面改質的量子點、黏合劑樹脂及溶劑的溶劑型可固化組成物。本文中，以溶劑型可固化組成物的總量計，可包含1重量%至40重量%的經表面改質的量子點。當以溶劑型可固化組成物的總量計包含所述含量範圍內的經表面改質的量子點時，在可處理性方面可能是有利的。
以下，詳細闡述構成溶劑型可固化組成物的每種組分。 黏合劑樹脂
黏合劑樹脂可包括丙烯酸系樹脂、卡多系樹脂、環氧樹脂或其組合。
丙烯酸系樹脂可為第一烯系不飽和單體及可與其共聚合的第二烯系不飽和單體的共聚物，且可為包含至少一個丙烯酸系重複單元的樹脂。
第一烯系不飽和單體可為包含至少一個羧基的烯系不飽和單體，且所述單體的實例可包括丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、衣康酸、反丁烯二酸或其組合。
以丙烯酸系黏合劑樹脂的總量計，可以5重量%至50重量%（例如10重量%至40重量%）的量包含第一烯系不飽和單體。
第二烯系不飽和單體可為芳族乙烯基化合物，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苯甲基甲醚等；不飽和羧酸酯化合物，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸環己基酯、(甲基)丙烯酸苯基酯等；不飽和胺基烷基羧酸酯化合物，例如(甲基)丙烯酸2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二甲基胺基乙酯等；羧酸乙烯酯化合物，例如乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等；不飽和羧酸縮水甘油基酯化合物，例如(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯等；氰化乙烯化合物，例如(甲基)丙烯腈等；不飽和醯胺化合物，例如(甲基)丙烯醯胺等；等等，且所述第二烯系不飽和單體可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。
丙烯酸系黏合劑樹脂的具體實例可為聚甲基丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物等，但不限於此，且該些可單獨使用或者以二或更多者的混合物形式使用。
丙烯酸系黏合劑樹脂的重量平均分子量可為5,000克/莫耳至15,000克/莫耳。當丙烯酸系黏合劑樹脂的重量平均分子量在所述範圍內時，與基板的緊密接觸性質以及物理及化學性質得以改善，且黏度為適當的。
卡多系樹脂可包含由化學式6表示的重複單元。
[化學式6]
Figure 02_image153
在化學式6中， R31 及R32 可獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的(甲基)丙烯醯氧基烷基， R33 及R34 可獨立地為氫原子、鹵素原子或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，且 Z1 可為單鍵、O、CO、SO2 、CR35 R36 、SiR37 R38 （其中，R35 至R38 可獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C20烷基）或由化學式6-1至化學式6-11表示的連接基中的一者， [化學式6-1]
Figure 02_image155
[化學式6-2]
Figure 02_image156
[化學式6-3]
Figure 02_image157
[化學式6-4]
Figure 02_image158
[化學式6-5]
Figure 02_image159
在化學式6-5中， Ra 可為氫原子、乙基、C2 H4 Cl、C2 H4 OH、CH2 CH=CH2 或苯基。
[化學式6-6]
Figure 02_image160
[化學式6-7]
Figure 02_image161
[化學式6-8]
Figure 02_image162
[化學式6-9]
Figure 02_image163
[化學式6-10]
Figure 02_image164
[化學式6-11]
Figure 02_image165
Z2 可為酸酐部分，且 t1及t2可獨立地為0至4的整數。
卡多系黏合劑樹脂的重量平均分子量可為500克/莫耳至50,000克/莫耳、例如1,000克/莫耳至30,000克/莫耳。當卡多系黏合劑樹脂的重量平均分子量處於所述範圍內時，可形成令人滿意的圖案，而在固化層的生產期間無殘基且在溶劑型可固化組成物的顯影期間不會損失膜厚度。
卡多系黏合劑樹脂可在兩個末端中的至少一個末端處包含由化學式7表示的官能基。
[化學式7]
Figure 02_image166
在化學式7中， Z3 可由化學式7-1至化學式7-7表示。
[化學式7-1]
Figure 02_image167
在化學式7-1中，Rf 及Rg 可獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、酯基或醚基。
[化學式7-2]
Figure 02_image168
[化學式7-3]
Figure 02_image169
[化學式7-4]
Figure 02_image170
[化學式7-5]
Figure 02_image171
在化學式7-5中，Rh 可為O、S、NH、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯基胺基。
[化學式7-6]
Figure 02_image172
[化學式7-7]
Figure 02_image173
卡多系樹脂可例如藉由將以下化合物中的至少兩者進行混合來製備：含芴化合物，例如9,9-雙(4-氧雜環丙基甲氧苯基)芴；酸酐化合物，例如苯四甲酸二酐、萘四甲酸二酐、聯苯基四甲酸二酐、二苯甲酮四甲酸二酐、均苯四甲酸二酐、環丁烷四甲酸二酐、苝四甲酸二酐、四氫呋喃四甲酸二酐及四氫鄰苯二甲酸酐；二醇化合物，例如乙二醇、丙二醇及聚乙二醇；醇化合物，例如甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、環己醇及苯甲醇；溶劑系化合物，例如丙二醇甲基乙酸乙酯及N-甲基吡咯啶酮；磷化合物，例如三苯基膦等；以及胺或銨鹽化合物，例如四甲基氯化銨、四乙基溴化銨、苯甲基二乙胺、三乙胺、三丁胺或苯甲基三乙基氯化銨。
當黏合劑樹脂為卡多系樹脂時，包含所述卡多系樹脂的溶劑型可固化組成物、特別是感光性樹脂組成物在光固化期間具有優異的可顯影性及敏感度且因此具有精細圖案的形成能力。
丙烯酸系樹脂的酸值可為80毫克KOH/克至130毫克KOH/克。當丙烯酸系樹脂的酸值處於所述範圍內時，可獲得優異的畫素解析度。
環氧樹脂可為可熱聚合單體或寡聚物，且可包括具有碳-碳不飽和鍵及碳-碳環鍵的化合物。
環氧樹脂可更包括雙酚A環氧樹脂、雙酚F環氧樹脂、苯酚酚醛環氧樹脂、環狀脂族環氧樹脂及脂族多縮水甘油醚，但不必受限於此。
作為所述化合物的市售產品，可為雙苯基環氧樹脂，例如尤嘉殼牌環氧有限公司（Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.）的YX4000、YX4000H、YL6121H、YL6640或YL6677；甲酚酚醛環氧樹脂，例如日本化藥有限公司（Nippon Kayaku Co. Ltd.）的EOCN-102、EOCN-103S、EOCN-104S、EOCN-1020、EOCN-1025及EOCN-1027以及尤嘉殼牌環氧有限公司的埃皮考特（EPIKOTE）180S75等；雙酚A環氧樹脂，例如尤嘉殼牌環氧有限公司的埃皮考特1001、1002、1003、1004、1007、1009、1010及828；雙酚F環氧樹脂，例如尤嘉殼牌環氧有限公司的埃皮考特807及834；苯酚酚醛環氧樹脂，例如尤嘉殼牌環氧公司的埃皮考特152、154或157H65以及日本化藥有限公司的EPPN 201、202；環狀脂族環氧樹脂，例如汽巴-嘉基A.G公司（CIBA-GEIGY A.G Corp.）的CY175、CY177及CY179、U.C.C.公司的ERL-4234、ERL-4299、ERL-4221及ERL-4206，昭和電工公司（Showa Denko K.K.）的秀迪因（Showdyne）509，汽巴-嘉基A.G公司的愛牢達（Araldite）CY-182、CY-192及CY-184，大日本油墨化工有限公司（Dainippon Ink & Chemicals Inc.）的艾比克隆（EPICLON）200及400，尤嘉殼牌環氧有限公司的埃皮考特（EPIKOTE）871及872以及EP1032H60、塞拉尼斯塗料公司（Celanese Coating Corporation）的ED-5661及ED-5662；脂族多縮水甘油醚，例如尤嘉殼牌環氧有限公司的埃皮考特190P及191P，共榮社油脂化學工業有限公司（Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.）的艾普利特（EPOLITE）100MF，日本油脂公司（Nihon Yushi K. K.）的EPIOL TMP等。
以溶劑型可固化組成物的總量計，可以1重量%至30重量%的量包含黏合劑樹脂。 溶劑
溶劑可例如包括醇，例如甲醇、乙醇等；二醇醚，例如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、丙二醇甲醚等；溶纖劑乙酸酯，例如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯等；卡必醇，例如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；酮，例如甲乙酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基-正丙基酮、甲基-正丁基酮、甲基-正戊基酮、2-庚酮等；飽和脂族單羧酸烷基酯，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯等；乳酸酯，例如乳酸甲酯、乳酸乙酯等；羥基乙酸烷基酯，例如羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯等；乙酸烷氧基烷基酯，例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等；3-羥基丙酸烷基酯，例如3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯等；3-烷氧基丙酸烷基酯，例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等；2-羥基丙酸烷基酯，例如2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基丙酸丙酯等；2-烷氧基丙酸烷基酯，例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等；2-羥基-2-甲基丙酸烷基酯，例如2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯等；2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯，例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等；酯，例如丙酸2-羥基乙酯、丙酸2-羥基-2-甲基乙酯、乙酸羥基乙酯、丁酸2-羥基-3-甲基甲酯等；或酮酸酯，例如丙酮酸乙酯等，且此外，可為N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲亞碸、苯甲基乙基醚、二己基醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苯甲酯、苯甲酸乙酯、乙二酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯（phenyl cellosolve acetate）等，但不限於此。
例如，溶劑可期望為二醇醚，例如乙二醇單乙醚、乙二醇甲乙醚等；乙二醇烷基醚乙酸酯，例如乙基溶纖劑乙酸酯等；酯，例如丙酸2-羥基乙酯等；卡必醇，例如二乙二醇單甲醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；醇，例如乙醇等或其組合。
例如，溶劑可為極性溶劑，包括丙二醇單甲醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、乙醇、乙二醇二甲醚、乙二醇甲乙醚、二乙二醇二甲醚、2-丁氧基乙醇、N-甲基吡咯啶、N-乙基吡咯啶、碳酸伸丙酯、γ-丁內酯或其組合。
以溶劑型可固化組成物的總量計，可包含餘量、例如30重量%至80重量%、例如35重量%至70重量%的溶劑。當溶劑處於所述範圍內時，溶劑型可固化組成物具有適當黏度，且因此可在藉由旋塗及狹縫塗佈而被塗佈於大區域中時具有優異的塗佈性質。
例如，除上述組分之外，溶劑型可固化組成物可更包含前述在末端處具有碳-碳雙鍵的可聚合單體、聚合起始劑、光擴散劑及其他添加劑中的一或多者，且其具體組成或量與上述相同。
例如，溶劑型可固化組成物可為感光性樹脂組成物。在此種情況下，溶劑型可固化組成物可包含光聚合起始劑作為聚合起始劑。
另一實施例提供一種使用上述無溶劑可固化組成物及溶劑型可固化組成物製造的固化層、一種包括所述固化層的彩色濾光片及一種包括所述彩色濾光片的顯示裝置。
生產固化層的一種方法可包括：使用噴墨噴射方法將上述無溶劑可固化組成物及溶劑型可固化組成物塗佈在基板上以形成圖案（S1）；及對圖案進行固化（S2）。 （S1）形成圖案
可期望以噴墨噴射方法將無溶劑可固化組成物在基板上塗佈成0.5微米至20微米。噴墨噴射方法可藉由每一噴嘴噴射單一顏色且因此重複噴射與所需數目的顏色相等的次數來形成圖案，但圖案可藉由每一噴墨噴嘴同時噴射所需數目的顏色來形成，以減少製程。 （S2）固化
對所獲得的圖案進行固化以獲得畫素。本文中，固化方法可為熱固化或光固化製程。熱固化製程可在大於或等於100℃下、期望地在100℃至300℃範圍內、且更期望地在160℃至250℃範圍內執行。光固化製程可包括照射光化射線，例如190奈米至450奈米、例如200奈米至500奈米的紫外線。藉由使用例如具有低壓、高壓或超高壓的汞燈、金屬鹵素燈、氬氣雷射等光源來執行照射。根據需要亦可使用X射線、電子束等。
生產固化層的其他方法可包括使用前述無溶劑可固化組成物及溶劑型可固化組成物藉由如下微影方法來生產固化層。 （1）塗佈及膜形成
利用旋塗或狹縫塗佈方法、輥塗方法、網版印刷方法、塗料器方法等在經受預定預處理的基板上將前述可固化組成物塗佈成具有所期望的厚度，例如介於2微米至10微米範圍內的厚度。然後，將經塗佈基板在70℃至90℃的溫度下加熱1分鐘至10分鐘，以移除溶劑並形成膜。 （2）曝光
在安放具有預定形狀的遮罩之後，藉由190奈米至450奈米、例如200奈米至500奈米的例如UV射線等光化射線來照射所得膜以形成期望的圖案。使用例如具有低壓、高壓或超高壓的汞燈、金屬鹵素燈、氬氣雷射等光源來執行照射。根據需要亦可使用X射線、電子束等。
當使用高壓汞燈時，曝光製程使用例如500毫焦/平方公分或小於500毫焦/平方公分的光劑量（利用365奈米感測器）。然而，所述光劑量可依據可固化組成物的每一組分的種類、其組合比率及乾膜厚度而變化。 （3）顯影
在曝光製程之後，使用鹼性水溶液藉由溶解並移除除了被曝光部分外的多餘部分而將被曝光膜顯影，以形成影像圖案。換言之，當使用鹼性顯影溶液來顯影時，溶解未曝光區，且形成影像彩色濾光片圖案。 （4）後處理
可再次加熱或藉由光化射線等照射所顯影影像圖案來進行固化，以達成耐熱性、耐光性、緊密接觸性質、抗裂性、耐化學性、高強度、儲存穩定性等方面的優異品質。
在下文中，參考實例更詳細地說明本發明。然而，該些實例不應在任何意義上被解釋為限制本發明的範圍。（配位體合成） 合成例 1
將400克聚氧乙烯單甲醚（MPEG-400，漢農化學公司（Hannong Chemicals Inc.））及100克琥珀酸酐放在一起，且然後加熱至100℃並反應了12小時。當反應完成時，將所得物冷卻至室溫（23℃）以獲得500克由化學式2-1表示的最終產物。
[化學式2-1]
Figure 02_image174
合成例 2
除了使用270克聚氧乙烯苯基醚（PH-4，漢農化學公司）代替400克聚氧乙烯單甲醚（MPEG-400，漢農化學公司）之外，根據與合成例1相同的方法獲得了370克由化學式2-2表示的最終產物。
[化學式2-2]
Figure 02_image175
合成例 3
除了使用114克戊二酸酐代替100克琥珀酸酐之外，根據與合成例2相同的方法獲得了384克由化學式2-3表示的最終產物。
[化學式2-3]
Figure 02_image176
合成例 4
將270克聚氧乙烯苯基醚（PH-4，漢農化學公司）及152克四氫鄰苯二甲酸酐放在一起，且然後加熱至100℃並反應了12小時。當反應完成時，將所得物冷卻至室溫（23℃）以獲得422克由化學式2-4表示的最終產物。
[化學式2-4]
Figure 02_image177
合成例 5
將934克聚氧乙烯苯乙烯化苯基醚（TSP-150，漢農化學公司）、100克琥珀酸酐及500克甲苯放在一起，且然後加熱至100℃並反應了24小時。當反應完成時，移除了甲苯以獲得1000克由化學式2-5表示的最終產物。
[化學式2-5]
Figure 02_image178
合成例 6
除了使用520克聚氧乙烯枯基苯基醚（DCP-3016，漢農化學公司）代替934克聚氧乙烯苯乙烯化苯基醚之外，根據與合成例5相同的方法獲得了620克由化學式2-6表示的最終產物。
[化學式2-6]
Figure 02_image179
合成例 7
在0℃下，將191克對甲苯磺醯氯及150毫升四氫呋喃（tetrahydrofuran，THF）緩慢注入400克聚氧乙烯單甲醚（MPEG-400，漢農化學公司）、44克NaOH、500毫升四氫呋喃（THF）及100毫升蒸餾水的混合溶液中。注射30分鐘後，將所得混合物在室溫（23℃）下攪拌了12小時。當反應完成時，藉由萃取、中和及濃縮製程對所得物進行了純化，且然後在真空烘箱中進行了充分乾燥。將所得產物放入燒瓶中，並在氮氣氣氛下溶解在乙醇中。隨後，向其中添加了4當量的硫脲，且然後在100℃下攪拌了12小時。向其中另外添加了NaOH稀釋溶液，並進一步攪拌了5小時。當反應完成時，將所得物用蒸餾水及稀鹽酸溶液洗滌了幾次、萃取並中和，且然後在真空烘箱中進行了充分乾燥，以最終獲得由化學式A表示的化合物。
[化學式A]
Figure 02_image180
將444克由化學式A表示的化合物、72克丙烯酸、10克三乙胺及300克THF放在一起，且然後在50℃下反應了12小時，並用過量的二氯甲烷進行了稀釋。隨後，用5% HCl水溶液中和稀釋的所得物以單獨獲得有機層，且在減壓下對有機層進行了濃縮以獲得500克由化學式2-7表示的最終產物。
[化學式2-7]
Figure 02_image181
合成例 8
除了使用270克聚氧乙烯苯基醚（PH-4，漢農化學公司）代替400克聚氧乙烯單甲醚之外，根據與合成例7相同的方法獲得了340克由化學式2-8表示的最終產物。
[化學式2-8]
Figure 02_image182
合成例 9
將270克聚氧乙烯苯基醚（PH-4，漢農化學公司）及140克烯丙基琥珀酸酐放在一起，且然後加熱至100℃並反應了12小時。當反應完成時，將所得物冷卻至室溫以獲得410克由化學式3-1表示的最終產物。
[化學式3-1]
Figure 02_image069
合成例 10
將130克甲基丙烯酸2-羥乙酯、100克琥珀酸酐及0.1克MEHQ放在一起，且然後加熱至70℃並反應了12小時。當反應完成時，將所得物冷卻至室溫以獲得230克由化學式3-2表示的最終產物。
[化學式3-2]
Figure 02_image183
合成例 11
在0℃下，將191克對甲苯磺醯氯及150毫升THF緩慢注入600克聚氧乙烯單烯丙基醚（APEG-1000，漢農化學公司）、44克NaOH、500毫升THF及100毫升蒸餾水的混合溶液中。注射30分鐘後，將所得混合物冷卻至室溫（23℃）並攪拌了12小時。當反應完成時，藉由萃取、中和及濃縮製程對所得物進行了純化，且然後在真空烘箱中進行了充分乾燥。將所得產物放入燒瓶中，並在氮氣氣氛下溶解在乙醇中。然後，向其中添加了4當量的硫脲，且然後在100℃下攪拌了12小時。向其中另外添加了NaOH稀釋溶液，且然後攪拌了5小時。當反應完成時，將所得物用蒸餾水及稀鹽酸溶液洗滌及萃取，且在真空烘箱中進行了充分乾燥，以獲得580克由化學式3-3表示的最終產物。
[化學式3-3]
Figure 02_image184
合成例 12
將600克聚氧乙烯單烯丙基醚（APEG-1000，漢農化學公司）及100克琥珀酸酐放在一起，且然後加熱至100℃並反應了12小時。當反應完成時，將所得物冷卻至室溫以獲得700克由化學式3-4表示的最終產物。
[化學式3-4]
Figure 02_image185
合成例 13
將500克根據合成例11的由化學式3-3表示的化合物、72克丙烯酸、10克三乙胺及300克THF放在一起，且然後在50℃下反應了12小時，並用過量的二氯甲烷進行了稀釋。隨後，使用5% HCl水溶液進行中和以單獨獲得有機層，且在減壓下對有機層進行了濃縮以獲得500克由化學式3-5表示的最終產物。
[化學式3-5]
Figure 02_image186
合成例 14
將600克聚氧乙烯單烯丙基醚（APEG-1000，漢農化學公司）、124克雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、500克甲苯及60克三乙胺放在一起，且然後加熱至100℃並反應了24小時。當反應完成時，用5% HCl溶液對所得物進行了中和以移除甲苯，且然後獲得700克由化學式4-1表示的最終產物。
[化學式4-1]
Figure 02_image075
比較合成例 1
分別將10克2-巰基-1-乙醇、13.3克2-2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基乙酸及2.1克對甲苯磺酸一水合物放入2頸圓底燒瓶中，且然後溶解在300毫升環己烷中。在將迪安斯塔克緊固至注射孔後，向其連接冷凝器。使溶液回流8小時後，反應完成。（檢查迪安斯塔克中收集的最終水量）。將反應物輸送至分液漏斗中，進行萃取、中和以移除溶劑，且在真空烘箱中進行了乾燥以獲得由化學式C-1表示的最終產物。
[化學式C-1]
Figure 02_image187
（製備用配位體進行表面改質的量子點的分散體） 製備例 1
將磁棒放入3頸圓底圓燒瓶中，且對量子點-CHA（乙酸環己酯（cyclohexyl acetate））溶液（固體含量：26重量%至27重量%）進行了秤重並添加至其中。向其中添加了由化學式2-1表示的配位體。
將混合物充分混合了1分鐘，且然後在氮氣氣氛下在80℃下進行了攪拌。當反應完成時，將所得物冷卻至室溫，且將量子點反應溶液添加至環己烷中以獲得沈澱物。藉由離心分離將沈澱的量子點粉末與環己烷分離。倒出澄清的溶液並丟棄，且然後將沈澱物在真空烘箱中充分乾燥了一天以獲得經表面改質的量子點。
將經表面改質的量子點與由化學式5-2表示的單體（1,6-己二醇二丙烯酸酯；美源商業有限公司（Miwon Commercial Co., Ltd.））一起攪拌了12小時，以獲得經表面改質的量子點分散體。
[化學式5-2]
Figure 02_image188
製備例 2
除了使用由化學式2-2表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 3
除了使用由化學式2-3表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 4
除了使用由化學式2-4表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 5
除了使用由化學式2-5表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 6
除了使用由化學式2-6表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 7
除了使用由化學式2-7表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 8
除了使用由化學式2-8表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 9
除了使用由化學式3-1表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 10
除了使用由化學式3-2表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 11
除了使用由化學式3-3表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 12
除了使用由化學式3-4表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 13
除了使用由化學式3-5表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。製備例 14
除了使用由化學式4-1表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。比較製備例 1
除了使用由化學式C-1表示的配位體代替由化學式2-1表示的配位體之外，根據與製備例1相同的方法獲得了經表面改質的量子點分散體。評價 1 ：可分散性
藉由使用微粒大小分析儀將根據製備例1至14及比較製備例1的每一量子點分散體的顆粒大小量測了三次，以獲得平均顆粒大小，且結果顯示在表1及2中。
（表1）
顆粒大小（nm） 製備例1 製備例2 製備例3 製備例4 製備例5 製備例6 製備例7 製備例8
D50 11.4 11.5 11.4 11.3 11.0 10.8 10.9 11.0
（表2）
顆粒大小（nm） 製備例9 製備例10 製備例11 製備例12 製備例13 製備例14 比較製備例1
D50 11.0 11.1 10.7 10.8 11.0 11.8 15.0
參考表1及2，根據製備例1至14的量子點分散體中的每一者表現出窄的顆粒分佈，此表明量子點很好地分散在高沸點及高表面張力溶劑中，但根據比較製備例1的量子點分散體表現出寬的顆粒分佈，此表明量子點沒有很好地分散在高沸點及高表面張力溶劑中。（製備無溶劑可固化組成物） 實例 1
對製備例1中獲得的分散體進行了秤重，且然後與由化學式5-2表示的單體混合並稀釋，且向其中添加了聚合抑制劑（甲基氫醌，東京化學工業有限公司（Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.）），且然後攪拌了5分鐘。隨後，向其中注入了光起始劑（TPO-L，玻利尼通公司（polynetron）），且向其中添加了光擴散劑（TiO2 （固體含量：50重量%；迪圖技術公司（Ditto Technology））。將總體分散體攪拌了1小時以製備無溶劑可固化組成物。以無溶劑可固化組成物的總量計，包含40重量%的量子點、48重量%的由化學式3-2表示的單體、1重量%的聚合抑制劑、3重量%的光起始劑及8重量%的光擴散劑。實例 2
除了使用在製備例2中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 3
除了使用在製備例3中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 4
除了使用在製備例4中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 5
除了使用在製備例5中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 6
除了使用在製備例6中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 7
除了使用在製備例7中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 8
除了使用在製備例8中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 9
除了使用在製備例9中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 10
除了使用在製備例10中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 11
除了使用在製備例11中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 12
除了使用在製備例12中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 13
除了使用在製備例13中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。實例 14
除了使用在製備例14中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。比較例 1
除了使用在比較製備例1中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例1相同的方法製備了無溶劑可固化組成物。評價 2 ：評價光學特性
使用旋轉塗佈機（800轉/分鐘，5秒，奧普提科特（Opticoat）MS-A150，三笠有限公司（Mikasa Co., Ltd.））將根據實例1至14及比較例1的每一無溶劑可固化組成物在黃色光致抗蝕劑（YPR）上塗佈至15微米厚，且在氮氣氣氛下用395奈米紫外（ultraviolet，UV）曝光機以5000毫焦進行了曝光（83℃，10秒）。隨後，將每一2公分×2公分的單一膜樣品裝載在積分球設備（QE-2100，大塚電子有限公司（Otsuka Electronics, Co., Ltd.））中，並量測光轉換率。此後，將裝載的單一膜樣品在180℃下在氮氣氛乾燥爐中乾燥了30分鐘，且然後量測了曝光後乾燥前的光保持率，且量測結果示於表3中。
（表3）
  光轉換率（%） 光保持率（%） 最大發射波長（nm）
實例1 26.0 88 544
實例2 29.9 99 545
實例3 29.5 99 545
實例4 30.0 95 543
實例5 28.5 89 543
實例6 32.2 97 543
實例7 31.6 93 535
實例8 31.9 92 535
實例9 31.1 96 542
實例10 27.5 95 544
實例11 32.0 90 541
實例12 31.0 90 542
實例13 26.9 94 543
實例14 28.2 94 542
比較例1 22.8 91 543
自表3中，可以看出根據實施例的無溶劑可固化組成物表現出改善的光學特性。（製備溶劑型可固化組成物） 實例 15
使用對應量的以下組分製備了每一溶劑型可固化組成物（感光性樹脂組成物）。
具體而言，在溶劑中溶解了光聚合起始劑，且在室溫下將所述溶液充分攪拌了2小時。隨後，一起添加了黏合劑樹脂與製備例1的量子點分散體、分散劑（迪高（TEGO）D685，由贏創公司（Evonik Corp.）製成），且將所得混合物在室溫下再次攪拌了2小時。然後，向其中添加了光擴散劑及氟系界面活性劑，且然後在室溫下攪拌了1小時，且將其中的產物過濾了三次以移除雜質並製備感光性樹脂組成物。 1）量子點分散體：製備例1 2）黏合劑樹脂：25重量%的卡多系黏合劑樹脂（TSR-TA01，塔科瑪公司（TAKOMA）） 3）可聚合單體：5.4重量%的季戊四醇六甲基丙烯酸酯（DPHA，日本化藥有限公司） 4）光聚合起始劑：0.7重量%的二苯基(2,4,6-三甲基苯甲醯基)氧化膦（TPO，西格瑪-奧德里奇公司（Sigma-Aldrich Corporation）） 5）溶劑：39重量%的己二酸二甲酯 6）光擴散劑：39重量%的二氧化鈦分散體（TiO2 固體含量：20重量%，平均粒徑：200奈米，迪圖技術公司） 7）其他添加劑：0.9重量%的氟系界面活性劑（F-554，大日本油墨化學有限公司）實例 16
除了使用在製備例2中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 17
除了使用在製備例3中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 18
除了使用在製備例4中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 19
除了使用在製備例5中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 20
除了使用在製備例6中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 21
除了使用在製備例7中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 22
除了使用在製備例8中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 23
除了使用在製備例9中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 24
除了使用在製備例10中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 25
除了使用在製備例11中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 26
除了使用在製備例12中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 27
除了使用在製備例13中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。實例 28
除了使用在製備例14中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。比較例 2
除了使用在比較製備例1中獲得的分散體代替在製備例1中獲得的分散體之外，根據與實例15相同的方法製備了溶劑型可固化組成物。評價 3 ：量子點的光轉換率及光保持率
用旋轉塗佈機（150轉/分，奧普提科特MS-A150，三笠有限公司）將根據實例15至28及比較例2的可固化組成物分別在玻璃基板的單一表面上塗佈至6微米厚，且然後在80℃的熱板上乾燥了1分鐘以獲得膜。然後，在用功率為100毫焦/平方公分的紫外線照射後，藉由將後烘烤（post-baking，POB）在180℃的對流清潔烘箱（瓊格（Jongro））中執行30分鐘，用曝光機（ghi寬頻，優志旺有限公司（Ushio Inc.））量測了光轉換率，且結果示於表4及5中。
（表4） （單位：%）
  實例15 實例16 實例17 實例18 實例19 實例20 實例21 實例22
初始光轉換率 23.5 27.0 26.7 27.0 25.9 29.3 28.4 28.9
執行POB一次後的光轉換率 23.0 26.5 26.2 26.5 25.4 28.9 27.8 28.3
（表5） （單位：%）
  實例23 實例24 實例25 實例26 實例27 實例28 比較例2
初始光轉換率 28.0 24.6 29.0 28.2 23.9 25.3 22.0
執行POB一次後的光轉換率 27.4 24.1 28.4 27.6 23.6 24.8 20.0
如表4及5所示，藉由使用根據實施例的經表面改質的量子點製備的溶劑型可固化組成物由於濾色製程而表現出光轉換率的小的劣化，且因此表現出高的光保持率。
儘管本發明已結合目前視為實用的示例性實施例加以闡述，然而應理解本發明不限於所揭露的實施例，而是相反地旨在涵蓋包含在隨附申請專利範圍的精神及範圍內的各種修改及等效佈置。因此，應理解上述實施例為示範性的，而不以任何方式限制本發明。
無
無
Figure 109132893-A0101-11-0002-4

Claims (20)

  1. 一種量子點，用由化學式1表示的化合物進行表面改質： [化學式1]
    Figure 03_image189
    其中，在化學式1中， R1 是羧基、*-P(=O)(OH)2 或硫醇基，且 R2 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」，或「由化學式1A表示」， [化學式1A]
    Figure 03_image190
    其中，在化學式1A中， R3 是「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C2至C20烯基」，且 L1 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「由化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中的一者表示」， [化學式1B-1-1]
    Figure 03_image191
    [化學式1B-1-2]
    Figure 03_image192
    [化學式1B-2-1]
    Figure 03_image193
    [化學式1B-2-2]
    Figure 03_image194
    [化學式1B-3-1]
    Figure 03_image195
    [化學式1B-3-2]
    Figure 03_image196
    [化學式1B-4-1]
    Figure 03_image197
    [化學式1B-4-2]
    Figure 03_image198
    [化學式1B-5-1]
    Figure 03_image199
    [化學式1B-5-2]
    Figure 03_image200
    [化學式1B-6-1]
    Figure 03_image201
    [化學式1B-6-2]
    Figure 03_image202
    [化學式1B-7-1]
    Figure 03_image203
    [化學式1B-7-2]
    Figure 03_image204
    其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中， Ra 及Rb 獨立地是氫原子或羧基， Rc 是O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 是單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
    Figure 03_image205
    [化學式1C-2]
    Figure 03_image206
    其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， m是1至20的整數，且 n是1或2的整數。
  2. 如請求項1所述的量子點，其中所述由化學式1表示的化合物是由化學式2表示： [化學式2]
    Figure 03_image207
    其中，在化學式2中， R2 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」，或「由化學式1A表示」， [化學式1A]
    Figure 03_image208
    其中，在化學式1A中， R3 是「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基、(甲基)丙烯酸酯基、C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C2至C20烯基」，且 L1 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「由化學式1B-1-1、化學式1B-2-1、化學式1B-3-1、化學式1B-4-1、化學式1B-5-1、化學式1B-6-1及化學式1B-7-1中的一者表示」， [化學式1B-1-1]
    Figure 03_image209
    [化學式1B-2-1]
    Figure 03_image210
    [化學式1B-3-1]
    Figure 03_image211
    [化學式1B-4-1]
    Figure 03_image212
    [化學式1B-5-1]
    Figure 03_image213
    [化學式1B-6-1]
    Figure 03_image214
    [化學式1B-7-1]
    Figure 03_image215
    其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-1中， Ra 及Rb 獨立地是氫原子或羧基， Rc 是O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 是單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
    Figure 03_image216
    [化學式1C-2]
    Figure 03_image217
    其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m是1至20的整數。
  3. 如請求項2所述的量子點，其中 其中，在化學式2中， R2 是「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被C1至C10烷基或C6至C12芳基取代的C6至C20芳氧基」， L1 是「未經取代的C1至C20伸烷基」或「未經取代的C3至C20伸環烷基」， L2 是單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
    Figure 03_image218
    [化學式1C-2]
    Figure 03_image219
    其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m是1至20的整數。
  4. 如請求項1所述的量子點，其中所述由化學式1表示的化合物是由化學式2-1至化學式2-8中的一者表示： [化學式2-1]
    Figure 03_image220
    [化學式2-2]
    Figure 03_image221
    [化學式2-3]
    Figure 03_image222
    [化學式2-4]
    Figure 03_image223
    [化學式2-5]
    Figure 03_image224
    [化學式2-6]
    Figure 03_image225
    [化學式2-7]
    Figure 03_image226
    [化學式2-8]
    Figure 03_image227
    。
  5. 如請求項1所述的量子點，其中 在化學式1中， R1 是羧基或硫醇基，且 R2 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或「由化學式1A表示」， [化學式1A]
    Figure 03_image228
    其中，在化學式1A中， R3 是「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」，且 L1 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20伸烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C3至C20伸環烷基」或「由化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中的一者表示」， [化學式1B-1-1]
    Figure 03_image229
    [化學式1B-1-2]
    Figure 03_image230
    [化學式1B-2-1]
    Figure 03_image231
    [化學式1B-2-2]
    Figure 03_image232
    [化學式1B-3-1]
    Figure 03_image233
    [化學式1B-3-2]
    Figure 03_image234
    [化學式1B-4-1]
    Figure 03_image235
    [化學式1B-4-2]
    Figure 03_image236
    [化學式1B-5-1]
    Figure 03_image237
    [化學式1B-5-2]
    Figure 03_image238
    [化學式1B-6-1]
    Figure 03_image239
    [化學式1B-6-2]
    Figure 03_image240
    [化學式1B-7-1]
    Figure 03_image241
    [化學式1B-7-2]
    Figure 03_image242
    其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-2中， Ra 及Rb 獨立地是氫原子或羧基， Rc 是O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基， L2 是單鍵、*-C(=O)O-*或*-S-*，且 L3 由化學式1C-1或化學式1C-2表示， [化學式1C-1]
    Figure 03_image243
    [化學式1C-2]
    Figure 03_image244
    其中，在化學式1C-1及化學式1C-2中， L4 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L5 是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， m是1至20的整數，且 n是1或2的整數。
  6. 如請求項1所述的量子點，其中所述由化學式1表示的化合物是由化學式3表示： [化學式3]
    Figure 03_image245
    其中，在化學式3中， R4 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或「由化學式1A表示」， [化學式1A]
    Figure 03_image246
    其中，在化學式1A中， R3 是「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」， R5 是羧基或硫醇基， L6 及L7 獨立地是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L8 是單鍵、*-S-*、*-C(=O)-*或*-OC(=O)-*， L9 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 m是1至20的整數。
  7. 如請求項1所述的量子點，其中所述由化學式1表示的化合物是由化學式4表示： [化學式4]
    Figure 03_image247
    其中，在化學式4中， R4 是「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷氧基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C6至C20芳氧基」，或「由化學式1A表示」， [化學式1A]
    Figure 03_image248
    其中，在化學式1A中， R3 是「經取代或未經取代的乙烯基」、「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C1至C20烷基」或者「未被取代或被乙烯基、烯丙基、環氧基或(甲基)丙烯酸酯基取代的C2至C20烯基」， L6 及L7 獨立地是經取代或未經取代的C1至C20伸烷基， L8 是單鍵、*-S-*、*-C(=O)-*或*-OC(=O)-*， L9 是單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基，且 L10 是由化學式1B-1-1、化學式1B-2-1、化學式1B-3-1、化學式1B-4-1、化學式1B-5-1、化學式1B-6-1及化學式1B-7-1中的一者表示， [化學式1B-1-1]
    Figure 03_image249
    [化學式1B-2-1]
    Figure 03_image250
    [化學式1B-3-1]
    Figure 03_image251
    [化學式1B-4-1]
    Figure 03_image252
    [化學式1B-5-1]
    Figure 03_image253
    [化學式1B-6-1]
    Figure 03_image254
    [化學式1B-7-1]
    Figure 03_image255
    其中，在化學式1B-1-1至化學式1B-7-1中， Ra 及Rb 獨立地是氫原子或羧基， Rc 是O、S、NH、C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基，且 m是1至20的整數。
  8. 如請求項1所述的量子點，其中所述由化學式1表示的化合物是由化學式3-1至化學式3-6中的一者表示： [化學式3-1]
    Figure 03_image069
    [化學式3-2]
    Figure 03_image256
    [化學式3-3]
    Figure 03_image257
    [化學式3-4]
    Figure 03_image258
    [化學式3-5]
    Figure 03_image259
    [化學式3-6]
    Figure 03_image260
    。
  9. 如請求項1所述的量子點，其中所述由化學式1表示的化合物是由化學式4-1表示： [化學式4-1]
    Figure 03_image075
    。
  10. 如請求項1所述的量子點，其中所述量子點在500奈米至680奈米下具有最大螢光發射波長。
  11. 一種無溶劑可固化組成物，包含 如請求項1所述的量子點；以及 可聚合單體，在末端處具有碳-碳雙鍵。
  12. 如請求項11所述的無溶劑可固化組成物，其中所述可聚合單體具有220克/莫耳至1,000克/莫耳的分子量。
  13. 如請求項11所述的無溶劑可固化組成物，其中所述可聚合單體由化學式5表示： [化學式5]
    Figure 03_image261
    其中，在化學式5中， R101 及R102 獨立地是氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， L101 及L103 獨立地是經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，且 L102 是經取代或未經取代的C1至C10伸烷基或醚基（*-O-*）。
  14. 如請求項11所述的無溶劑可固化組成物，包含： 1重量%至60重量%的所述量子點，及 40重量%至99重量%的所述可聚合單體。
  15. 如請求項11所述的無溶劑可固化組成物，更包含聚合起始劑、光擴散劑或其組合。
  16. 一種溶劑型可固化組成物，包含： 如請求項1所述的量子點； 黏合劑樹脂；及 溶劑。
  17. 如請求項16所述的溶劑型可固化組成物，包含 1重量%至40重量%的所述量子點； 1重量%至30重量%的所述黏合劑樹脂；以及 餘量的所述溶劑。
  18. 如請求項16所述的溶劑型可固化組成物，更包含可聚合單體、聚合起始劑、光擴散劑或其組合。
  19. 一種固化層，使用如請求項11所述的無溶劑可固化組成物或如請求項16所述的溶劑型可固化組成物來生產。
  20. 一種彩色濾光片，包括如請求項19所述的固化層。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2970764B1 (en) * 2013-03-14 2018-03-07 Nanosys, Inc. Method for solventless quantum dot exchange
JP6299546B2 (ja) * 2014-09-25 2018-03-28 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜、波長変換フィルム、発光素子および発光層の形成方法
KR102545673B1 (ko) * 2016-11-25 2023-06-21 삼성전자주식회사 양자점, 이를 포함한 조성물 또는 복합체, 그리고 이를 포함한 전자 소자
JP6957876B2 (ja) * 2016-12-28 2021-11-02 大日本印刷株式会社 光波長変換部材、バックライト装置、および画像表示装置
KR102226069B1 (ko) * 2017-07-04 2021-03-09 삼성에스디아이 주식회사 조성물, 양자점 광학시트, 이를 포함하는 발광유닛 및 디스플레이 장치
US10768485B2 (en) * 2017-07-05 2020-09-08 Nanoco Technologies Ltd. Quantum dot architectures for color filter applications
KR102270495B1 (ko) * 2018-02-27 2021-06-29 삼성에스디아이 주식회사 양자점 함유 경화성 조성물, 상기 양자점 제조방법 및 컬러필터
CN110297391B (zh) * 2018-03-21 2022-12-20 东友精细化工有限公司 光转换树脂组合物、光转换层叠基材及图像显示装置

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