TW202116430A - 前開式晶圓傳送盒清潔裝置 - Google Patents

前開式晶圓傳送盒清潔裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202116430A
TW202116430A TW109135890A TW109135890A TW202116430A TW 202116430 A TW202116430 A TW 202116430A TW 109135890 A TW109135890 A TW 109135890A TW 109135890 A TW109135890 A TW 109135890A TW 202116430 A TW202116430 A TW 202116430A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
wafer transfer
main body
transfer box
foup
opening
Prior art date
Application number
TW109135890A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI769557B (zh
Inventor
許東根
朴永秀
崔宇鎮
孫侐主
金永鎬
許成壹
李民榮
Original Assignee
南韓商系統科技公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 南韓商系統科技公司 filed Critical 南韓商系統科技公司
Publication of TW202116430A publication Critical patent/TW202116430A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI769557B publication Critical patent/TWI769557B/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本發明的目的在於提供一種能夠提高FOUP主體及FOUP蓋的清潔及乾燥效率並提高通氣管噴嘴的乾燥效率的FOUP清潔裝置。用於實現此目的的本發明為包括FOUP主體及FOUP蓋的FOUP清潔裝置，其特徵在於，在所述FOUP主體配備有用於吹掃所述FOUP主體的內部的發泡多孔材質的通氣管噴嘴，包括利用清潔流體清潔所述FOUP主體和FOUP蓋的清潔腔室，在所述清潔腔室配備有在所述FOUP主體的清潔完成之後向所述通氣管噴嘴內注入壓縮乾燥空氣的壓縮乾燥空氣供應部，在所述清潔腔室包括：止動器，配備為能夠旋轉驅動軸，所述軸用於支撐所述FOUP主體的一側面而防止所述FOUP主體被從所述壓縮乾燥空氣供應部噴射的所述壓縮乾燥空氣推向一側而移動。

Description

前開式晶圓傳送盒清潔裝置
本發明涉及一種前開式晶圓傳送盒清潔裝置，尤其涉及一種提高了用於基板的保管及搬運的前開式晶圓傳送盒的清潔及乾燥效率的前開式晶圓傳送盒清潔裝置。
半導體製造工藝經過利用多種方法對半導體基板進行加工的一系列工序設備，因此當保管及搬運半導體基板時需要注意避免在外部的衝擊下受到損傷，並且需要進行管理以使基板的表面不被水分、灰塵、各種有機物等雜質污染。
因此，當保管及搬運半導體基板時使用單獨的保管容器（前開式晶圓傳送盒（FOUP，Front opening unified pod），以下稱為「FOUP」）。
由於在以上述的用途使用的FOUP的內部收納有高精度的半導體基板，因此FOUP需要用於保持高清潔度的管理，為此，FOUP在FOUP清潔裝置中按週期進行清潔及乾燥。
作為關於這種FOUP清潔裝置的現有技術，韓國公開專利第10-2013-0095028號、韓國授權專利第10-1173987中公開了將清潔液噴射到FOUP的表面而清潔FOUP的技術。
並且，如韓國公開專利第10-2015-0078657號所述，在FOUP內部配備有用於吹掃（purge）收納於FOUP內部的基板的發泡多孔材質的通氣管噴嘴（Snorkel nozzle），但是具有如下問題：使在FOUP的清潔過程中吸收有清潔液的通氣管噴嘴完全乾燥以恢復到原來的性能需要大量的時間，使通氣管噴嘴完全乾燥所需要的時間內無法再使用FOUP，從而發生工藝損失。因此，需要開發一種在清潔FOUP之後使通氣管噴嘴迅速乾燥，從而能夠縮短恢復到原來的性能所需要的時間的FOUP清潔裝置。
本發明為瞭解決上述的所有問題而提出，其目的在於提供一種能夠提高FOUP主體和FOUP蓋的清潔及乾燥效率並提高通氣管噴嘴的乾燥效率的FOUP清潔裝置。
用於實現同上所述的目的的本發明的FOUP清潔裝置，用於清潔包括FOUP主體及FOUP蓋的FOUP，所述FOUP清潔裝置的特徵在於，在所述FOUP主體配備有用於吹掃所述FOUP主體的內部的發泡多孔材質的通氣管噴嘴，包括利用清潔流體清潔所述FOUP主體和FOUP蓋的清潔腔室，在所述清潔腔室配備有在所述FOUP主體的清潔完成之後向所述通氣管噴嘴內注入壓縮乾燥空氣的壓縮乾燥空氣供應部，在所述清潔腔室包括：止動器，配備為能夠旋轉驅動軸，所述軸用於支撐所述FOUP主體的一側面而防止所述FOUP主體被從所述壓縮乾燥空氣供應部噴射的所述壓縮乾燥空氣推向一側而移動。
所述止動器可以包括：旋轉氣缸，向兩個方向旋轉驅動；以及所述軸，連接於所述旋轉氣缸的氣缸驅動軸。
若所述軸藉由所述旋轉氣缸的一方向旋轉驅動而向一方向旋轉，則所述軸的端部可以與所述FOUP主體的一側面接觸而支撐所述FOUP主體，若所述軸藉由所述旋轉氣缸的反方向旋轉驅動而向反方向旋轉，則所述軸的端部從所述FOUP主體的一側面隔開而使支撐所述FOUP主體的狀態被解除。
所述氣缸驅動軸可以配備為向所述旋轉氣缸的兩側凸出，所述軸由分別與向兩側凸出的所述氣缸驅動軸連接的一對軸構成。
所述FOUP清潔裝置還可以包括：軸支撐部件，連接並支撐所述一對軸。
與所述FOUP主體的一側面接觸的所述軸的端部可以構成為曲面形狀。
與所述FOUP主體的一側面接觸的所述軸的端部外側面可以被進行耐磨損性塗層處理。
所述耐磨損性塗層可以利用聚四氟乙烯材質構成。
所述壓縮乾燥空氣供應部可以配備為可前後移動，以連接於所述通氣管噴嘴的一側端或解除連接。
所述清潔腔室可以配備有：外部清潔流體噴射部，向所述FOUP主體的外側面及所述FOUP蓋噴射清潔流體；以及內部清潔流體噴射部，向所述FOUP主體的內側面噴射清潔流體。
在所述外部清潔流體噴射部可以上下相隔地形成有噴射清潔流體的多個噴嘴，且所述多個噴嘴形成為各自的長度及噴射角不同，以使所述多個噴嘴靠近所述FOUP主體的外側面而佈置。
所述FOUP主體可以可旋轉地配備於所述清潔腔室內，所述多個噴嘴傾斜地形成，以向與所述FOUP主體所旋轉的方向相向的方向噴射清潔流體。
在所述清潔腔室配備可以有：空氣供應部，噴射用於對清潔完畢的所述FOUP主體及FOUP蓋進行乾燥的壓縮乾燥空氣。
所述空氣供應部可以包括：外部空氣供應部，向所述FOUP主體的外側面噴射壓縮乾燥空氣；以及內部空氣供應部，向所述FOUP主體的內側面噴射壓縮乾燥空氣。
在所述外部空氣供應部，可以上下相隔地形成有噴射壓縮乾燥空氣的多個噴嘴，且所述多個噴嘴形成為各自的長度及噴射角不同，以使所述多個噴嘴靠近所述FOUP主體的外側面而佈置。
所述FOUP主體可以可旋轉地配備於所述清潔腔室內，所述多個噴嘴傾斜地形成，以向與所述FOUP主體所旋轉的方向相向的方向噴射壓縮乾燥空氣。
所述空氣供應部可以還包括：上部空氣供應部，在所述清潔腔室內部位於所述FOUP主體與所述FOUP蓋之間，且配備為可前後移動，從而向清潔完畢的所述FOUP主體及所述FOUP蓋噴射壓縮乾燥空氣。
所述清潔腔室可以包括：清潔腔室主體，將所述FOUP主體收容於內部而進行清潔處理；清潔腔室蓋，開閉所述清潔腔室主體的上部，並將所述FOUP蓋支撐而進行清潔處理。
在所述清潔腔室主體內可以包括：安置部，配備於所述清潔腔室主體的下部，以安置所述FOUP主體；以及升降部，在所述清潔腔室主體的上部與下部之間升降，並且將所述FOUP主體轉移至所述安置部上或者從所述安置部接收所述FOUP主體而使所述FOUP主體升降，其中，所述升降部藉由支撐部而與所述清潔腔室蓋連接，所述升降部與所述清潔腔室蓋藉由同一個升降驅動部而一同升降。
在所述清潔腔室可以配備有：紫外線燈，照射用於對清潔完畢的所述FOUP主體及FOUP蓋進行乾燥的紫外線。
所述紫外線燈可以包括：外部紫外線燈，向所述FOUP主體的外側面照射紫外線；以及內部紫外線燈，向所述FOUP主體的內側面照射紫外線。
所述FOUP清潔裝置還可以包括：真空腔室，使在所述清潔腔室完成清潔的FOUP主體及FOUP蓋被搬送，在所述真空腔室連接有：氮氣供應線，向所述真空腔室內部供應氮氣；以及真空線，將所述真空腔室內部的流體吸入之後排出至外部。
在所述真空腔室可以配備有向所述通氣管噴嘴內注入氮氣的氮氣供應部。
所述氮氣供應部可以配備為可前後移動，以連接於所述通氣管噴嘴的一側端或解除連接。
在所述真空腔室可以配備有：第二止動器，用於支撐所述FOUP主體的一側面而使所述FOUP主體不會被從所述氮氣供應部噴射的所述氮氣推向一側而移動。
所述第二止動器可以包括：第二旋轉氣缸，向兩個方向旋轉驅動；以及第二軸，連接於所述第二旋轉氣缸的第二氣缸驅動軸而聯動旋轉，並且支撐所述FOUP主體的一側面。
根據本發明的FOUP清潔裝置，配備有在清潔完FOUP主體之後向通氣管噴嘴內注入壓縮乾燥空氣的壓縮乾燥空氣供應部，從而能夠快速乾燥通氣管噴嘴，因此具有縮短恢復原來的性能所需的時間的效果。
並且，止動器的軸為了支撐FOUP主體的一側面而構成為能夠被旋轉驅動，以防止FOUP主體被用於乾燥通氣管噴嘴的壓縮乾燥空氣或隨著氮氣的供應所產生的壓力被推向一側而移動，從而能夠在穩定地固定支撐FOUP主體的狀態下順利地執行通氣管噴嘴的乾燥作業。
並且，止動器的軸構成為藉由旋轉氣缸向一方向旋轉而支撐FOUP主體的一側面，從而能夠堅固地支撐FOUP主體的一側面，並且對與FOUP主體的一側面接觸的軸的端部外側面進行耐磨損性塗層處理，從而能夠防止當軸磨損時可能導致的支撐性能的下降。
並且，向在清潔腔室完成清潔的FOUP主體內部所配備的通氣管噴嘴注入壓縮乾燥空氣以進行一次乾燥，並在真空腔室向通氣管噴嘴注入氮氣以進行二次乾燥，從而能夠在短時間內將發泡多孔材質的通氣管噴嘴完全乾燥。
並且，使多個噴嘴各自的長度及噴射角不同，以在清潔腔室進行的清潔及乾燥的過程中，使FOUP主體及FOUP蓋旋轉而使清潔流體及壓縮乾燥空氣對FOUP主體及FOUP蓋的整個區域均勻地噴射，同時使噴射清潔流體及壓縮乾燥空氣的多個噴嘴靠近FOUP主體的外側面而佈置，並且多個噴嘴傾斜地形成，從而向與FOUP主體所旋轉的方向相向的方向噴射清潔流體，從而能夠進一步地提高清潔及乾燥效率。
並且，構成為清潔腔室蓋與升降部通過同一升降驅動部的驅動而一同升降，從而能夠簡便並順利地執行將FOUP主體及FOUP蓋搬入並搬出清潔腔室的作業。
以下，參照附圖，對關於本發明的優選實施例的構成及作用進行詳細的說明。
本發明的FOUP清潔裝置1是用於清潔由FOUP主體20和FOUP蓋30構成的FOUP 10的裝置，其特徵在於，在所述FOUP主體20配備有用於吹掃所述FOUP主體20內部的發泡多孔材質的通氣管噴嘴21，並且包括利用清潔流體清潔所述FOUP主體20和FOUP蓋30的清潔腔室600，在所述清潔腔室600配備有在所述FOUP主體20清潔完成之後向所述通氣管噴嘴21內注入壓縮乾燥空氣的壓縮乾燥空氣供應部680，在所述清潔腔室600包括：止動器690，配備為能夠旋轉驅動軸693，所述軸693用於支撐所述FOUP主體20的一側面而防止所述FOUP主體20被從所述壓縮乾燥空氣供應部680噴射的所述壓縮乾燥空氣推向一側而移動。
參照圖1及圖2，本發明的FOUP清潔裝置1是對用於保管及移送半導體基板的FOUP10進行清潔及乾燥的裝置。所述FOUP 10包括：FOUP主體20，收納半導體基板（未圖示）；以及FOUP蓋30，開閉形成於所述FOUP主體20一側的開口部，其中，所述FOUP主體20及FOUP蓋30構成為藉由鎖定器（locker）（未示出）而分離或結合的結構。
所述FOUP清潔裝置1包括：工藝室100，執行所述FOUP 10的搬送、清潔及乾燥處理；裝載及卸載部200，用於將FOUP 10搬入及搬出所述工藝室100；待機部300，朝向所述裝載及卸載部200的一側配備於工藝室100內，並且使所述FOUP主體20與FOUP蓋30相互分離或結合；移送單元400，在所述裝載及卸載部200與待機部300之間移送FOUP 10；機器人500，在所述工藝室100內抓持並搬送FOUP主體20及FOUP蓋30；清潔腔室600，藉由所述機器人500接收位於所述待機部300的FOUP主體20及FOUP蓋30，進而利用清潔流體進行清潔後使其乾燥；真空腔室700，藉由所述機器人500接收在所述清潔腔室600經過清潔並乾燥後的FOUP主體20及FOUP蓋30，進而排放殘留於FOUP主體20及FOUP蓋30的包含水分的異物；以及緩衝部800，用於將在所述真空腔室700完成排放處理的FOUP主體20及FOUP蓋30搬送至所述待機部300之前進行臨時保管。並且，在所述工藝室100內部的一側可以配備有：公用部件（utility）910，配備有用於供應作為為了清潔及乾燥FOUP 10而使用的清潔流體的熱去離子水（Hot deionized water）、壓縮乾燥空氣（CDA：Compressed dry air）、氮氣（N2）等的設備；以及蒸汽單元920，配備有用於供應為了清潔FOUP 10的清潔而使用的蒸汽的設備。
所述裝載及卸載部200是用於為了將清潔對象FOUP 10搬入工藝室100內而進行裝載（Loading）或者為了將在工藝室100完成清潔、乾燥及排放工序的FOUP 10搬出至工藝室100外部而進行卸載（Unloading）的構成。參照圖3，在所述裝載及卸載部200配備有使FOUP主體20向側方躺臥而使FOUP蓋30以位於一側的狀態安置的支撐板210。
所述待機部300是被移送單元400從所述裝載及卸載部200移送的FOUP 10在被搬送至清潔腔室600之前待機的地方，移送至所述待機部300的FOUP 10的姿勢被機器人500轉換為FOUP蓋30朝向下方。並且，在所述待機部300配備有用於將配備於FOUP主體20及FOUP蓋30的鎖定器鎖定或解鎖的鎖定及解鎖單元（未圖示）。所述鎖定及解鎖單元可以構成為使所述鎖定器向一方向或反方向旋轉，從而將鎖定器鎖定或解鎖。
在所述待機部300配備有：待機板310，安置FOUP主體20和FOUP蓋30；以及升降氣缸320，使所述待機板310以沿上下方向移動的方式升降。所述升降氣缸320可以連接於移送單元400，從而藉由移送單元400的驅動而在裝載及卸載部200與待機部300之間往返移動。
所述移送單元400是用於往返移送升降氣缸320的構成，作為一實施例，可以由線性運動導軌構成。
對將FOUP 10從所述裝載及卸載部200向待機部300移送FOUP 10的過程進行說明。若FOUP 10裝載於支撐板210上，則在所述支撐板210的下側待機的升降氣缸320上升移動，從而將位於支撐板210上的FOUP 10提升至支撐板210的上側。這種狀態下，升降氣缸320和FOUP 10藉由移送單元400的驅動而向待機部300側移動。若升降氣缸320和FOUP 10位於待機部300的待機板310上側，則升降氣缸320下降移動，從而將所支撐的FOUP 10放置於待機板310上。接下來，在機器人500的夾持器510抓持FOUP 10之後，旋轉FOUP 10使得FOUP蓋30朝向下方，然後放置於待機板310上，通過配備於待機部300的鎖定及解鎖單元解鎖鎖定器，從而使FOUP主體20與FOUP蓋30處於可分離的狀態。
若同上所述地FOUP主體20與FOUP蓋30處於可分離的狀態，則藉由機器人500將FOUP主體20和FOUP蓋30依次搬送至清潔腔室600。
參照圖4及圖5，所述清潔腔室600包括：清潔腔室主體610，將所述FOUP主體20收容於內部而進行清潔及乾燥處理；清潔腔室蓋620，開閉所述清潔腔室主體610的上部，並將所述FOUP蓋30支撐而進行清潔及乾燥處理。
在所述清潔腔室主體610內包括：安置部611，配備於所述清潔腔室主體610的下部，以安置所述FOUP主體20；以及升降部634，在所述清潔腔室主體610的上部與下部之間升降，並且將所述FOUP主體20轉移至所述安置部611上，或者從所述安置部611接收所述FOUP主體20而使所述FOUP主體20升降。所述升降部634可以藉由支撐部633而與清潔腔室蓋620連接，並且所述升降部634與所述清潔腔室蓋620可以藉由同一個升降驅動部631一同升降。
在FOUP主體20及FOUP蓋30從所述待機部300移動至清潔腔室600的情況下，升降驅動部631上升移動，據此清潔腔室蓋620、支撐部633及升降部634一同上升移動，從而清潔腔室主體610的上部被開放的的同時，安置部611將向清潔腔室主體610的上部移動而待機於能夠接收FOUP主體20的位置。
在所述清潔腔室蓋620配備有：FOUP蓋支撐部621及夾具622，用於支撐並固定被機器人500移送的FOUP蓋30。
若FOUP主體20藉由所述機器人500被轉移到升降部634上，且FOUP蓋30被FOUP蓋支撐部621及夾具622支撐並固定於清潔腔室蓋620，則清潔腔室蓋620和固定於清潔腔室蓋620的FOUP蓋30以及藉由支撐部633連接於清潔腔室蓋620的升降部634藉由升降驅動部631的下降驅動而以支撐FOUP主體20的狀態進行下降移動。在這種情況下，升降驅動部631下降驅動至驅動清潔腔室蓋620封閉清潔腔室主體610的上部的位置，在此過程中，升降部634在將FOUP主體20轉移到安置部611之後，位於安置部611的下側並待機。
參照圖5，在所述升降部634的中央部形成有貫通口634a，在所述貫通口634a的內側佈置有安置部611。因此，當升降部634升降移動時，防止與安置部611的干擾，並且能夠在升降部634與安置部611之間實現FOUP主體20的交接。
另外，在所述清潔腔室主體610配備有：清潔流體噴射部640：640-1、640-2，供應用於清潔FOUP主體20及FOUP蓋30的清潔流體。
所述清潔流體噴射部640可以包括：外部清潔流體噴射部640-1，向FOUP主體20的外側面及FOUP蓋30噴射清潔流體；以及內部清潔流體噴射部640-2，向所述FOUP主體20的內側面噴射清潔流體。
所述外部清潔流體噴射部640-1中，多個噴嘴可以配備於上下相隔的位置，所述多個噴嘴配備於FOUP主體20的外側周圍且在朝向FOUP主體20的外側面噴射清潔流體的同時朝向FOUP蓋30噴射清潔流體。
所述內部清潔流體噴射部640-2以位於FOUP主體20的內側的方式配備於安置部611上，從而朝向FOUP主體20的內側面噴射清潔流體。
另外，安置所述FOUP主體20的安置部611配備為能夠藉由馬達670的驅動而旋轉，支撐所述FOUP蓋30的FOUP蓋支撐部621也配備為能夠藉由馬達623的驅動而旋轉。
參照圖4，在所述外部清潔流體噴射部640-1可以上下相隔地形成有噴射清潔流體的多個噴嘴，所述多個噴嘴以靠近所述FOUP主體20的外側面的方式佈置，並且可以形成為各自的長度及噴射角不同。並且，所述FOUP主體20可旋轉地配備於所述清潔腔室600內，所述多個噴嘴可以傾斜地形成，以向與所述FOUP主體20旋轉的方向相向的方向噴射清潔流體。所述噴嘴所傾斜的角度可以形成為以連接噴嘴與FOUP主體20的中心的線為基準具有30°~ 40°範圍的傾斜。
根據同上所述的構成，當清潔FOUP主體20及FOUP蓋30時，外部清潔流體噴射部640-1在靠近旋轉的FOUP主體20的外側面的位置向與FOUP主體20旋轉的方向相向的方向噴射清潔流體，因此能夠提高FOUP主體20的清潔效率。
作為一實施例，通過所述外部清潔流體噴射部640-1噴射的清潔流體可以是熱去離子水（Hot deionized water），通過所述內部清潔流體噴射部640-2噴射的清潔流體可以是蒸汽（Steam）。並且，在所述熱去離子水及蒸汽中可以混合壓縮乾燥空氣CDA而提供。
通過同上所述地向外部清潔流體噴射部640-1供應熱去離子水與壓縮乾燥空氣的混合流體，從而使高溫的氣泡化及微粒子化的水粒子能夠細密地浸透FOUP主體20的外側面及FOUP蓋30，從而能夠提高清潔力並縮短乾燥時間，並且提高噴射的壓力，從而可以提高清潔效率。
並且，通過向內部清潔流體噴射部640-2供應蒸汽與壓縮乾燥空氣的混合流體，從而利用相比於熱去離子水進一步微粒子化的蒸汽能夠在FOUP主體20內側面整個區域無死角地更細密地浸透，從而能夠進一步提高清潔力。
另外，在所述清潔腔室600配備有：空氣供應部650，噴射用於乾燥完成清潔的所述FOUP主體20及FOUP蓋30的壓縮乾燥空氣。
所述空氣供應部650包括：外部空氣供應部650-1，向FOUP主體20的外側面噴射壓縮乾燥空氣；以及內部空氣供應部650-2，向所述FOUP主體20的內側面噴射壓縮乾燥空氣。
在所述外部空氣供應部650-1，作為與上述外部清潔流體噴射部640-1的構成相似的構成，形成有噴射壓縮乾燥空氣的多個噴嘴上下相隔而形成，所述多個噴嘴靠近所述FOUP主體20的外側面而佈置，且形成為各自的長度及噴射角不同。並且，所述多個噴嘴可以傾斜地形成，以向與所述FOUP主體20所旋轉的方向相向的方向噴射壓縮乾燥空氣。所述噴嘴傾斜的角度可以形成為以連接噴嘴與FOUP主體20的中心的線為基準具有30°~ 40°範圍的傾斜。
根據同上所述的構成，由於當對FOUP主體20進行乾燥時，在靠近旋轉的FOUP主體20的外側面的位置向與FOUP主體20所旋轉的方向相向的方向噴射壓縮乾燥空氣，因此能夠提高FOUP主體20及FOUP蓋30的乾燥效率。
另外，所述空氣供應部650還可以包括：上部空氣供應部650-3，在清潔腔室600內部位於所述FOUP主體20與所述FOUP蓋30之間，且配備為能夠藉由氣缸651的驅動而前後移動，從而向完成清潔的FOUP主體20及FOUP蓋30噴射壓縮乾燥空氣。通過將所述上部空氣供應部650-3構成為可前後移動，從而如圖4所示，能夠有效地對積聚在開口部朝向下方而安置的FOUP主體20的上表面的水分進行乾燥並去除，並且能夠有效地對殘留於FOUP蓋30的整個區域的水分進行乾燥並去除。
另外，參照圖4至圖8，在所述FOUP主體20配備有用於吹掃FOUP主體20內部的發泡多孔材質的通氣管噴嘴21，在清潔腔室600配備有在FOUP主體20清潔完畢之後向所述通氣管噴嘴21內注入壓縮乾燥空氣的壓縮乾燥空氣供應部680。
所述壓縮乾燥空氣供應部680配備為可前後移動，以連接於通氣管噴嘴21的一側端或解除連接。因此，通過借助由上述的空氣供應部650進行的壓縮乾燥空氣噴射執行的乾燥過程而還未得到乾燥並殘留於通氣管噴嘴21的水分，將通過借助所述壓縮乾燥空氣供應部680進行的朝向通氣管噴嘴21內部的壓縮乾燥空氣的注入而再次得到乾燥。
在所述FOUP主體20的一側面，配備為一對的通氣管噴嘴21的端部分別所連接的第一端口20a、20b形成於一側，與所述FOUP主體20的內部連通的第二端口20c、20d形成於另一側。
在基板處理工序中，為了在基板被收納於FOUP 10之前的步驟中在FOUP 10待機的儲料器（Stocker）中乾燥FOUP 10內部，所述第一端口20a、20b與第二端口20c、20d可以作為壓縮乾燥空氣流入及排出的連接端口而發揮功能。
所述壓縮乾燥空氣供應部680包括：第一噴嘴682：682-1、682-2，向所述第一端口20a、20b供應壓縮乾燥空氣；第二噴嘴684：684-1、684-2，向所述第二端口20c、20d供應壓縮乾燥空氣。在所述第一端口20a、20b和第二端口20c、20d的內側可以分別配備有過濾器22a、22b、22c、22d，在FOUP主體20的清潔過程中，吸收有清潔流體的所述過濾器22a、22b、22c、22d可以藉由壓縮乾燥空氣而快速被乾燥。
參照圖8，所述壓縮乾燥空氣供應部680包括：第一供應管681：681-1、681-2，向所述第一噴嘴682：682-1、682-2供應壓縮乾燥空氣並沿橫向配備；第二供應管683：683-1、683-2，連通於所述第一供應管681：681-1、681-2而向所述第二噴嘴684：684-1、684-2供應壓縮乾燥空氣並沿縱向配備；以及前後移動氣缸685，使所述第一供應管681：681-1、681-2和第二供應管683：683-1、683-2前進或後退移動。
所述通氣管噴嘴21可以在FOUP主體20的內部向兩側隔開而配備為多個，所述第一端口20a、20b和第二端口20c、20d在所述FOUP主體20的一側面向兩側隔開而配備為多個，並且配備有所述第一噴嘴682：682-1、682-2的第一供應管681：681-1、681-2和配備有所述第二噴嘴684：684-1、684-2的第二供應管683：683-1、683-2分別向兩側隔開而配備為多個。
所述多個第一供應管681：681-1、681-2可以被第一供應管支撐部件686支撐，所述多個第二供應管683：683-1、683-2被第二供應管支撐部件689-1、689-2支撐。在所述第一供應管支撐部件686結合有移動塊687，所述移動塊687連接於所述前後移動氣缸685而通過前後移動氣缸685的驅動而前後移動。所述前後移動氣缸685可以安置而固定於固定框架688上。
在所述第一噴嘴682：682-1、682-2和第二噴嘴684：684-1、684-2可以結合有墊682a，所述墊682a緊貼於形成有所述第一端口20a、20b和第二端口20c、20d的所述FOUP主體20的外側面而保持氣密。作為一實施例，所述墊682a可以利用矽材質構成。
參照圖9，在所述清潔腔室600配備有：止動器690，用於支撐所述FOUP主體20的一側面，以使FOUP主體20不會被從所述壓縮乾燥空氣供應部680噴射的所述壓縮乾燥空氣推向一側而移動。
所述止動器690可以包括：旋轉氣缸691，向兩個方向旋轉驅動；軸693：693-1、693-2，連接於所述旋轉氣缸691的氣缸驅動軸692-1、692-2。
若所述軸693：693-1、693-2藉由所述旋轉氣缸691的一方向旋轉驅動而向一方向旋轉，則所述軸693：693-1、693-2的端部與所述FOUP主體20的一側面接觸而支撐所述FOUP主體20，若所述軸693：693-1、693-2藉由所述旋轉氣缸691的反方向旋轉驅動而向反方向旋轉，則所述軸693：693-1、693-2的端部從所述FOUP主體20的一側面隔開而使支撐FOUP主體20的狀態解除。
所述氣缸驅動軸692-1、692-2可以配備為向所述旋轉氣缸691的兩側凸出，所述軸693：693-1、693-2由分別與向所述兩側凸出的氣缸驅動軸692-1、692-2連接的一對軸693：693-1、693-2構成。所述一對軸693：693-1、693-2可以被軸支撐部件694支撐。
作為用於最小化當與所述FOUP主體20的一側面接觸時由摩擦造成的磨損的構成，軸693：693-1、693-2的端部可以構成為曲面形狀，並且所述軸693：693-1、693-2的端部的外側面進行耐磨損性塗層處理。作為一實施例，所述耐磨損性塗層可以利用聚四氟乙烯（PTFE：Poly-tetrafluoroethylene）材質構成。
當進行借助清潔流體噴射部640的清潔以及借助空氣供應部650的乾燥時，安置部611以及安置於安置部611上面的FOUP主體20藉由馬達670的驅動而旋轉，所述壓縮乾燥空氣供應部680及止動器690與FOUP主體20的外側面相隔而佈置。並且，當進行借助所述壓縮乾燥空氣供應部680的通氣管噴嘴21的乾燥時，所述馬達670的驅動將停止，且使安置部611以及安置於該安置部611上面的FOUP主體20不旋轉而維持在原位靜止的狀態，使所述壓縮乾燥空氣供應部680及止動器690佈置為緊貼於FOUP主體20的外側面。
另外，在所述清潔腔室600配備有照射用於對完成清潔的FOUP主體20及FOUP蓋30進行乾燥的紫外線的紫外線燈660。所述紫外線燈660包括：外部紫外線燈660-1，向所述FOUP主體20的外側面照射紫外線；以及內部紫外線燈660-2，向所述FOUP主體20的內側面照射紫外線。
參照圖10至圖15，當進行通氣管噴嘴21的乾燥時，首先，如圖12所示，軸693藉由止動器690的旋轉氣缸691的一方向驅動而沿一方向旋轉，從而支撐FOUP主體20的一側面。接下來，如圖13所示，第一噴嘴682和第二噴嘴684藉由壓縮乾燥空氣供應部680的前後移動氣缸685的前進驅動而前進移動，從而分別與第一端口20a、20b和第二端口20c、20d連接，並且如圖14所示，供應壓縮乾燥空氣CDA。
若通氣管噴嘴21的乾燥完成，則如圖15所示，第一噴嘴682和第二噴嘴684藉由壓縮乾燥空氣供應部680的前後移動氣缸685的後退驅動而後退移動，從而分別從第一端口20a、20b和第二端口20c、20d解除連接，並且軸693藉由止動器690的旋轉氣缸691的反方向驅動而沿反方向旋轉，從而解除支撐FOUP主體20的一側面的狀態。
如上所述，可以使壓縮乾燥空氣供應部680前後移動而使第一噴嘴682：682-1、682-2和第二噴嘴684：684-1、684-2同時連接到形成於FOUP主體20的一側面的第一端口20a、20b和第二端口20c、20d，進而供應壓縮乾燥空氣CDA，從而能夠提高通氣管噴嘴21的乾燥及FOUP主體20內部的乾燥效率。
並且，為了支撐FOUP主體20的一側面而防止FOUP主體20被根據用於FOUP主體20的乾燥的壓縮乾燥空氣或氮氣的供應產生的壓力推向一側而移動，止動器690的軸693：693-1、693-2構成為旋轉驅動，從而能夠在FOUP主體20被穩定地固定支撐的狀態下，順利地執行FOUP主體20的乾燥作業。
若在所述清潔腔室600完成清潔及乾燥，則清潔腔室蓋620以及被其支撐的FOUP蓋30藉由升降驅動部631的驅動而上升，與此同時，藉由支撐部633而與清潔腔室蓋620連接的升降部634上升移動，並且接收安置於安置部611上的FOUP主體20，進而向清潔腔室主體610上部移動，從而處於可搬出的狀態。
通過同上所述地構成為清潔腔室蓋620及升降部634藉由同一個升降驅動部631的驅動而一同升降，從而能夠簡便並迅速順利地執行將FOUP主體20及FOUP蓋30搬入及搬出清潔腔室600的作業。
若所述FOUP主體20向清潔腔室主體610上部移動，則FOUP蓋30及FOUP主體20被機器人500搬送至真空腔室700。
參照圖16，所述真空腔室700包括：真空腔室主體710，將FOUP主體20及FOUP蓋30以分離的狀態收容。
所述FOUP主體20安置於在真空腔室主體710內的下部配備的安置部710a上，FOUP蓋30安置於在真空腔室主體710內的上部配備的支撐部711上。
在所述真空腔室700連接有：氮氣供應線713，向真空腔室700內部供應氮氣；以及真空線712，將所述真空腔室700內部的流體藉由真空而吸入排放至外部。殘留於FOUP主體20及FOUP蓋30的包含水分的異物借助通過所述氮氣供應線713供應的氮氣從FOUP主體20及FOUP蓋30分離並通過真空線712被吸入之後排放至外部。
另外，在所述真空腔室700配備有向配備於FOUP主體20內部的通氣管噴嘴21內注入氮氣的氮氣供應部720。因此，藉由上述的清潔腔室600的壓縮乾燥空氣供應部680還未乾燥而殘留於通氣管噴嘴21的水分可以借助通過真空腔室700的氮氣供應部720注入的氮氣被乾燥並去除。
所述氮氣供應部720配備為可前後移動，以連接於通氣管噴嘴21的一側端或解除連接。
所述氮氣供應部720可以構成為與上述的配備於清潔腔室600的壓縮乾燥空氣供應部680相同的構成，並且可以包括第一氮氣供應管721、第一氮氣噴嘴722、第二氮氣供應管723、第二氮氣噴嘴724、第二前後移動氣缸725、第一氮氣供應管支撐部件726、第二移動塊727、第二固定框架728、第二氮氣供應管支撐部件729。
並且，在所述真空腔室700配備有：第二止動器730，用於支撐所述FOUP主體20的一側面而使FOUP主體20不會被從所述氮氣供應部720噴射的氮氣推向一側而移動。
所述第二止動器730可以構成為與上述的配備於清潔腔室600的止動器690相同的構成，並且可以包括第二旋轉氣缸731、第二氣缸驅動軸732、第二軸733，並且構成為在所述第二軸733的端部進行耐磨損性塗層733a處理。
若在所述真空腔室700完成水分及異物的排放以及通氣管噴嘴21的乾燥，則FOUP主體20及FOUP蓋30被機器人500搬送至所述待機部300。在這種情況下，若處於在所述待機部300佈置有其他FOUP的情況，則所述機器人500可以將FOUP主體20及FOUP蓋30搬送至緩衝部800，從而進行臨時保管。
之後，若先處於所述待機部300的FOUP主體20及FOUP蓋30通過裝載及卸載部200而被卸載，則將臨時保管於所述緩衝部800的FOUP蓋30及FOUP主體20依次搬送至待機部300的待機板310上，進而以FOUP主體20可鎖定於FOUP蓋30上的狀態進行安置。
之後，藉由配備於所述待機部300的鎖定及解鎖單元鎖定鎖定器，從而使FOUP主體20與FOUP蓋30結合為一體。
通過所述鎖定器的鎖定，FOUP主體20與FOUP蓋30結合而成的FOUP 10被機器人500轉換方向，從而以使FOUP蓋30朝向一側的方式被平放，之後再次安置在待機板310上。並且，若配備於待機部300的升降氣缸320上升而將FOUP 10提升至待機板310的上側，則升降氣缸320以及被其支撐的FOUP 10藉由移送單元400的驅動被移送至裝載及卸載部200的支撐板210上側，被支撐於升降氣缸320的FOUP 10藉由升降氣缸320的下降移動而被轉移到支撐板210上後被卸載。
同上所述，本發明並不局限於上述實施例，在不脫離權利要求書中請求保護的本發明的技術思想的情況下，本發明所屬的技術領域中具備基本知識的人員可實現顯而易見的變形實施，這些變形實施屬於本發明的範圍內。
1:FOUP清潔裝置 10:FOUP 20:FOUP主體 20a、20b:第一端口 20c、20d:第二端口 22a、22b、22c、22d:過濾器 21:通氣管噴嘴 30:FOUP蓋 100:工藝室 200:裝載及卸載部 210:支撐板 300:待機部 310:待機板 320:升降氣缸 400:移送單元 500:機器人 510:夾持器 600:清潔腔室 610:清潔腔室主體 611:安置部 620:清潔腔室蓋 621:FOUP蓋支撐部 622:夾具 623:馬達 630:升降單元 631:升降驅動部 632:連接部件 633:支撐部 634:升降部 634a:貫通口 640:清潔流體噴射部 640-1:外部清潔流體噴射部 640-2:內部清潔流體噴射部 650:空氣供應部 650-1:外部空氣供應部 650-2:內部空氣供應部 650-3:上部空氣供應部 651:氣缸 660:紫外線燈 660-1:外部紫外線燈 660-2:內部紫外線燈 670:馬達 680:壓縮乾燥空氣供應部 681、681-1、681-2:第一供應管 682、682-1、682-2:第一噴嘴 682a:墊 683、683-1、683-2:第二供應管 684、684-1、684-2:第二噴嘴 685:前後移動氣缸 686:第一供應管支撐部件 687:移動塊 688:固定框架 689、689-1、689-2:第二供應管支撐部件 690:止動器 691:旋轉氣缸 692-1、692-2:氣缸驅動軸 693、693-1、693-2:軸 693a:耐磨損性塗層 694:軸支撐部件 695:固定部件 700:真空腔室 710:真空腔室主體 710a:安置部 711:支撐部 712:真空線 713:氮氣供應線 720:氮氣供應部 721:第一氮氣供應管 722:第一氮氣噴嘴 723:第二氮氣供應管 724:第二氮氣噴嘴 725:第二前後移動氣缸 726:第一氮氣供應管支撐部件 727:第二移動塊 728:第二固定框架 729:第二氮氣供應管支撐部件 730:第二止動器 731:第二旋轉氣缸 732:第二氣缸驅動軸 733:第二軸 733a:第二耐磨損性塗層 800:緩衝部 910:公用部件 920:蒸汽單元 CDA:壓縮乾燥空氣
圖1是示意性地示出本發明的FOUP清潔裝置的構成的側視圖。 圖2是示意性地示出本發明的FOUP清潔裝置的構成的平面圖。 圖3是用於說明在本發明的FOUP清潔裝置中將FOUP從裝載及卸載部移送至待機部的過程的圖。 圖4是示意性地示出配備於本發明的FOUP清潔裝置的清潔腔室的構成的縱剖視圖。 圖5是示出配備於本發明的FOUP清潔裝置的清潔腔室的內部結構的橫剖視圖。 圖6是示出用於乾燥配備於FOUP內部的通氣管噴嘴的壓縮乾燥空氣供應部和止動器配備於FOUP主體的兩側的情形的立體圖。 圖7是示出被供應壓縮乾燥空氣的FOUP主體的右側視圖。 圖8是從另一方向示出圖6所示的壓縮乾燥空氣供應部的立體圖。 圖9是圖6所示的止動器的立體圖。 圖10是圖6的右側視圖。 圖11是根據圖10的A-A線的剖視圖。 圖12至圖15是示出在乾燥通氣管噴嘴的過程中壓縮乾燥空氣供應部和止動器的操作狀態的圖。 圖16是示意性地示出配備於本發明的FOUP清潔裝置的真空腔室的構成的縱剖視圖。
20:FOUP主體
21:通氣管噴嘴
30:FOUP蓋
600:清潔腔室
610:清潔腔室主體
611:安置部
620:清潔腔室蓋
621:FOUP蓋支撐部
622:夾具
623:馬達
630:升降單元
631:升降驅動部
632:連接部件
633:支撐部
634:升降部
640:清潔流體噴射部
640-1:外部清潔流體噴射部
640-2:內部清潔流體噴射部
650:空氣供應部
650-3:上部空氣供應部
651:氣缸
660:紫外線燈
660-1:外部紫外線燈
660-2:內部紫外線燈
670:馬達
680:壓縮乾燥空氣供應部
681:第一供應管
682:第一噴嘴
683:第二供應管
684:第二噴嘴
685:前後移動氣缸
690:止動器
691:旋轉氣缸
693：693-1、693-2:軸

Claims (26)

  1. 一種前開式晶圓傳送盒清潔裝置，用於清潔包括前開式晶圓傳送盒主體及前開式晶圓傳送盒蓋的前開式晶圓傳送盒，該前開式晶圓傳送盒清潔裝置的特徵在於：在該前開式晶圓傳送盒主體配備有用於吹掃該前開式晶圓傳送盒主體的內部的發泡多孔材質的通氣管噴嘴，包括利用清潔流體清潔該前開式晶圓傳送盒主體和前開式晶圓傳送盒蓋的清潔腔室，在該清潔腔室配備有在該前開式晶圓傳送盒主體的清潔完成之後向該通氣管噴嘴內注入壓縮乾燥空氣的壓縮乾燥空氣供應部，在該清潔腔室包括：止動器，配備為旋轉驅動軸，該軸用於支撐所述前開式晶圓傳送盒主體的一側面而防止該前開式晶圓傳送盒主體被從該壓縮乾燥空氣供應部噴射的該壓縮乾燥空氣推向一側而移動。
  2. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該止動器包括： 旋轉氣缸，向兩個方向旋轉驅動；以及 該軸，連接於該旋轉氣缸的氣缸驅動軸。
  3. 根據請求項2所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中若該軸藉由該旋轉氣缸的一方向旋轉驅動而向一方向旋轉，則該軸的端部與該前開式晶圓傳送盒主體的一側面接觸而支撐該前開式晶圓傳送盒主體，若該軸藉由該旋轉氣缸的反方向旋轉驅動而向反方向旋轉，則該軸的端部從該前開式晶圓傳送盒主體的一側面隔開而使支撐該前開式晶圓傳送盒主體的狀態被解除。
  4. 根據請求項2所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該氣缸驅動軸配備為向該旋轉氣缸的兩側凸出，該軸由分別與向兩側凸出的該氣缸驅動軸連接的一對軸構成。
  5. 根據請求項4所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中還包括軸支撐部件，連接並支撐該一對軸。
  6. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中與該前開式晶圓傳送盒主體的一側面接觸的該軸的端部構成為曲面形狀。
  7. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中與該前開式晶圓傳送盒主體的一側面接觸的該軸的端部外側面被進行耐磨損性塗層處理。
  8. 根據請求項7所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該耐磨損性塗層利用聚四氟乙烯材質構成。
  9. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該壓縮乾燥空氣供應部配備為前後移動，以連接於該通氣管噴嘴的一側端或解除連接。
  10. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該清潔腔室配備有： 外部清潔流體噴射部，向該前開式晶圓傳送盒主體的外側面及該前開式晶圓傳送盒蓋噴射清潔流體；以及 內部清潔流體噴射部，向該前開式晶圓傳送盒主體的內側面噴射清潔流體。
  11. 根據請求項10所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中在該外部清潔流體噴射部上下相隔地形成有噴射清潔流體的多個噴嘴，且該多個噴嘴形成為各自的長度及噴射角不同，以使該多個噴嘴靠近該前開式晶圓傳送盒主體的外側面而佈置。
  12. 根據請求項11所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該前開式晶圓傳送盒主體旋轉地配備於該清潔腔室內，該多個噴嘴傾斜地形成，以向與該前開式晶圓傳送盒主體所旋轉的方向相向的方向噴射清潔流體。
  13. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中在該清潔腔室配備有空氣供應部，噴射用於對清潔完畢的該前開式晶圓傳送盒主體及前開式晶圓傳送盒蓋進行乾燥的壓縮乾燥空氣。
  14. 根據請求項13所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該空氣供應部包括： 外部空氣供應部，向該前開式晶圓傳送盒主體的外側面噴射壓縮乾燥空氣；以及 內部空氣供應部，向該前開式晶圓傳送盒主體的內側面噴射壓縮乾燥空氣。
  15. 根據請求項14所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中在該外部空氣供應部，上下相隔地形成有噴射壓縮乾燥空氣的多個噴嘴，且該多個噴嘴形成為各自的長度及噴射角不同，以使該多個噴嘴靠近該前開式晶圓傳送盒主體的外側面而佈置。
  16. 根據請求項15所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該前開式晶圓傳送盒主體旋轉地配備於該清潔腔室內，該多個噴嘴傾斜地形成，以向與該前開式晶圓傳送盒主體所旋轉的方向相向的方向噴射壓縮乾燥空氣。
  17. 根據請求項14所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該空氣供應部還包括上部空氣供應部，在該清潔腔室內部位於該前開式晶圓傳送盒主體與該前開式晶圓傳送盒蓋之間，且配備為可前後移動，從而向清潔完畢的該前開式晶圓傳送盒主體及該前開式晶圓傳送盒蓋噴射壓縮乾燥空氣。
  18. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該清潔腔室包括： 清潔腔室主體，將該前開式晶圓傳送盒主體收容於內部而進行清潔處理；以及 清潔腔室蓋，開閉該清潔腔室主體的上部，並將該前開式晶圓傳送盒蓋支撐而進行清潔處理。
  19. 根據請求項18所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中在該清潔腔室主體內包括： 安置部，配備於該清潔腔室主體的下部，以安置該前開式晶圓傳送盒主體；以及 升降部，在該清潔腔室主體的上部與下部之間升降，並且將該前開式晶圓傳送盒主體轉移至該安置部上或者從該安置部接收該前開式晶圓傳送盒主體而使該前開式晶圓傳送盒主體升降，其中，該升降部藉由支撐部而與該清潔腔室蓋連接，該升降部與該清潔腔室蓋藉由同一個升降驅動部而一同升降。
  20. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中在該清潔腔室配備有紫外線燈，照射用於對清潔完畢的該前開式晶圓傳送盒主體及前開式晶圓傳送盒蓋進行乾燥的紫外線。
  21. 根據請求項20所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該紫外線燈包括： 外部紫外線燈，向該前開式晶圓傳送盒主體的外側面照射紫外線；以及 內部紫外線燈，向該前開式晶圓傳送盒主體的內側面照射紫外線。
  22. 根據請求項1所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中還包括： 真空腔室，使在該清潔腔室完成清潔的前開式晶圓傳送盒主體及前開式晶圓傳送盒蓋被搬送，在該真空腔室連接有： 氮氣供應線，向該真空腔室內部供應氮氣；以及 真空線，將該真空腔室內部的流體吸入之後排出至外部。
  23. 根據請求項22所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中在該真空腔室配備有向該通氣管噴嘴內注入氮氣的氮氣供應部。
  24. 根據請求項23所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該氮氣供應部配備為前後移動，以連接於該通氣管噴嘴的一側端或解除連接。
  25. 根據請求項24所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中在該真空腔室配備有第二止動器，用於支撐該前開式晶圓傳送盒主體的一側面而使該前開式晶圓傳送盒主體不會被從該氮氣供應部噴射的該氮氣推向一側而移動。
  26. 根據請求項25所述的前開式晶圓傳送盒清潔裝置，其中該第二止動器包括： 第二旋轉氣缸，向兩個方向旋轉驅動；以及 第二軸，連接於該第二旋轉氣缸的第二氣缸驅動軸而聯動旋轉，並且支撐該前開式晶圓傳送盒主體的一側面。
TW109135890A 2019-10-17 2020-10-16 前開式晶圓傳送盒清潔裝置 TWI769557B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2019-0129007 2019-10-17
KR1020190129007A KR102272005B1 (ko) 2019-10-17 2019-10-17 풉 세정 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202116430A true TW202116430A (zh) 2021-05-01
TWI769557B TWI769557B (zh) 2022-07-01

Family

ID=75725967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109135890A TWI769557B (zh) 2019-10-17 2020-10-16 前開式晶圓傳送盒清潔裝置

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102272005B1 (zh)
TW (1) TWI769557B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113289995A (zh) * 2021-05-14 2021-08-24 无锡亚电智能装备有限公司 晶圆容纳盒清洗设备及晶圆容纳盒清洗方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114195217B (zh) * 2021-12-16 2024-04-12 山东金治水务集团有限公司 紫外光氧化污水处理装置
KR102593053B1 (ko) * 2022-05-20 2023-10-25 주식회사 피에스티에이치 웨이퍼캐리어 박스 세정 시스템
CN115020302B (zh) * 2022-07-15 2022-10-14 江苏芯梦半导体设备有限公司 一种晶圆存放盒的清洗烘干设备及清洗烘干方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002334863A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Kaijo Corp Ｆｏｕｐ用ドアシェルの洗浄乾燥方法及び装置
US7694688B2 (en) * 2007-01-05 2010-04-13 Applied Materials, Inc. Wet clean system design
US9579697B2 (en) * 2012-12-06 2017-02-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. System and method of cleaning FOUP
DE112015003423T5 (de) * 2014-07-25 2017-05-04 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Substratvorratsbehälter
KR102067752B1 (ko) * 2018-02-09 2020-01-17 (주)에스티아이 풉 세정 장치 및 풉 세정 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113289995A (zh) * 2021-05-14 2021-08-24 无锡亚电智能装备有限公司 晶圆容纳盒清洗设备及晶圆容纳盒清洗方法
CN113289995B (zh) * 2021-05-14 2022-04-22 无锡亚电智能装备有限公司 晶圆容纳盒清洗设备及晶圆容纳盒清洗方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI769557B (zh) 2022-07-01
KR20210045673A (ko) 2021-04-27
KR102272005B1 (ko) 2021-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI750453B (zh) 前開式晶圓傳送盒清潔裝置及前開式晶圓傳送盒清潔方法
TWI769557B (zh) 前開式晶圓傳送盒清潔裝置
KR100304127B1 (ko) 가반식 밀폐 컨테이너를 사용한 전자기판 처리시스템과 그의 장치
US10688622B2 (en) Substrate processing apparatus
KR100852952B1 (ko) 기판 양면 처리장치
KR101265182B1 (ko) 웨이퍼 보관용기 세정장치
KR101244381B1 (ko) 웨이퍼 보관용기 세정장치
JP3627132B2 (ja) 基板乾燥処理装置及び基板乾燥処理方法
US20140083468A1 (en) Substrate processing apparatus
US20090092468A1 (en) Inlet port mechanism for introducing object and treatment system
TWI769556B (zh) 前開式晶圓傳送盒清潔裝置
JP2003297788A (ja) 液処理装置および液処理方法
KR101899435B1 (ko) 웨이퍼 처리 장치
WO2024012069A1 (zh) 一种晶圆存放盒的清洗烘干设备及清洗烘干方法
KR102413131B1 (ko) 건식처리와 습식처리를 위한 하이브리드 기판처리 시스템 및 이를 이용한 기판처리 방법
JP4120285B2 (ja) 被処理体の導入ポート機構及びこれを用いた処理システム
JP3082389B2 (ja) クリーンルーム用保管庫
KR20120056483A (ko) 퍼지시스템의 웨이퍼 이송장치
JP2005079250A (ja) 基板処理装置
JP3643954B2 (ja) 洗浄処理装置
JP4505563B2 (ja) 液処理装置
JP2016066689A (ja) 容器清掃装置及び容器清掃方法
TWI837116B (zh) 清洗半導體矽片的方法和裝置
KR102159865B1 (ko) 풉 건조 장치
JP4506916B2 (ja) 液処理装置および液処理方法