TW202110584A - 噴擊機台及其葉輪設備 - Google Patents

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Abstract

一種噴擊機台包括一顆粒處理設備、至少一葉輪設備、一收集設備、以及一揚昇設備。葉輪設備包括一對轉盤、多個葉片、多個連接桿,及一保護箱體,每一轉盤具有一中心孔、多個葉片槽、及多個限位凹槽。每一葉片槽具有一鄰近中心孔的槽底部、及一鄰近圓周的槽頂部。槽底部的槽內寬度大於所述槽頂部的槽內寬度。每一葉片具有一葉板部、及一對側板部分別連接於葉板部的兩側邊,每一側板部具有一限位突塊。側板部容置於葉片槽內,限位突塊容置於限位凹槽內,每一側板部的根部寬度大於頂部寬度;多個連接桿連接一對轉盤;保護箱體具有一前斜擋板、及一後擋板,所述前斜擋板傾斜於噴擊出口面。

Description

噴擊機台及其葉輪設備
本發明涉及一種噴擊機台及其葉輪設備,特別是涉及一種可提供結合噴砂及珠擊優點的噴擊機台,其葉輪設備可高速噴出噴擊顆粒,使待處理工件的表面形成霧面或侵蝕面,達到除銹、去氧化層、應力處理、摩擦係數調整…等。
現有的工件表面處理的一種方式為噴砂處理。常見的噴砂處理是採用壓縮空氣為動力,以形成高速噴射束將噴料(陶瓷砂、玻璃珠、尼龍砂、石英砂、金剛砂、鐵砂)高速噴射到需要處理的工件表面,使工件表面的外表面的外表或形狀發生變化,由於磨料對工件表面的衝擊和切削作用,使工件的表面獲得一定的清潔度和不同的粗糙度,使工件表面的機械性能得到改善。採用壓縮空氣為動力以加速噴砂的方式,噴砂的噴射速度受到一定的限制。
另一種類似的表面處理方式,為珠擊(Shot Peening),又名噴丸、拋丸,是一個冷處理過程。此種表面特殊處理是將多數個小圓形鋼丸連續捶打工件表面,每顆鋼丸撞擊金屬零件上,如一個微型棒槌敲打表面,捶出小壓痕或凹陷,從而可以增加表面硬化,達到硬度強化的效果。過程中在工件表面形成凹陷,金屬表層產生拉伸。無數重疊的凹陷部分可以消除鑄、鍛、焊件殘留應力,使其晶格產生壓縮,進而提升工件的硬度。
珠擊與噴砂的原理雖然相同,但設備流程差異甚大,一般噴砂僅需考慮回收、集塵、強度即可,但珠擊還需要考慮篩選變形及破碎,分離不合格鋼珠,並進行流量控制,且鋼珠大小須嚴格分離,在功能的差異上更為明顯。噴砂主要功能在於清潔作用,提升表面粗糙度,以利後製程加工,如電鍍、烤漆等。珠擊則是提高工件的抗疲勞強度、抗應力腐蝕,以及工件表面的硬度,達到增強使用壽命的效果。
相較於噴砂處理,珠擊的機台由於處理較大粒徑的珠擊顆粒,機台也容易受損,包括加速珠擊顆粒的設備以及工件處理區域的周圍壁面。
本發明在於提供一種可提供結合噴砂及珠擊優點的噴擊機台,其葉輪設備可高速噴出噴擊顆粒,噴擊顆粒的粒徑可界於噴砂的砂料及珠擊的鋼丸之間,不僅可以提供清潔作用,提升表面粗糙度,進一歲可以提高工件的抗疲勞強度以及工件表面的硬度,達到增強使用壽命。
本發明所要解決的技術問題在於,針對上述現有技術的不足提供一種噴擊機台及其葉輪設備。
為了解決上述的技術問題,本發明所採用的其中一技術方案是,提供一種噴擊機台的葉輪設備,其包括:一對轉盤,每一所述轉盤具有一中心孔、多個葉片槽、及多個限位凹槽,所述多個葉片槽由所述中心孔朝所述轉盤的圓周延伸,每一所述葉片槽具有一鄰近所述中心孔的槽底部、及一鄰近所述圓周的槽頂部,所述槽底部的槽內寬度大於所述槽頂部的槽內寬度,所述限位凹槽由所述葉片槽進一步凹陷;多個葉片,每一所述葉片具有一葉板部、及一對側板部,所述一對側板部連接所述葉板部的兩側邊,每一所述側板部具有一限位突塊,所述側板部容置於所述葉片槽內,所述限位突塊容置於所述限位凹槽內,所述側板部的外形相應於所述葉片槽的外形,每一所述側板部具有一相應於所述槽底部的根部寬度、及一相應於所述槽頂部的頂部寬度,所述根部寬度大於所述頂部寬度;多個連接桿,所述多個連接桿連接所述一對轉盤;及一保護箱體,所述保護箱體罩住所述一對轉盤及所述多個葉片,並定義一噴擊出口面,其中所述保護箱體具有一前斜擋板、及一後擋板,所述後擋板大致正交於所述噴擊出口面,所述前斜擋板傾斜於所述噴擊出口面。
為了解決上述的技術問題,本發明另外提供一種噴擊機台,包括:一顆粒處理設備、至少一葉輪設備、一收集設備、以及一揚昇設備。所述顆粒處理設備用以處理噴擊顆粒,所述顆粒處理設備具有一出料部,所述葉輪設備位於所述出料部的下方,接收所述噴擊顆粒。每一所述葉輪設備包括:一對轉盤,每一所述轉盤具有一中心孔、多個葉片槽、及多個限位凹槽,所述多個葉片槽由所述中心孔朝所述轉盤的圓周延伸,每一所述葉片槽具有一鄰近所述中心孔的槽底部、及一鄰近所述圓周的槽頂部,所述槽底部的槽內寬度大於所述槽頂部的槽內寬度,所述限位凹槽由所述葉片槽進一步凹陷;以及多個葉片,每一所述葉片具有一葉板部、及一對側板部,所述一對側板部連接所述葉板部的兩側邊,每一所述側板部具有一限位突塊,所述側板部容置於所述葉片槽內,所述限位突塊容置於所述限位凹槽內,所述側板部的外形相應於所述葉片槽的外形,每一所述側板部具有一相應於所述槽底部的根部寬度、及一相應於所述槽頂部的頂部寬度,所述根部寬度大於所述頂部寬度;多個連接桿,所述多個連接桿連接所述一對轉盤;及一保護箱體,所述保護箱體罩住所述一對轉盤及所述多個葉片,並定義一噴擊出口面,其中所述保護箱體具有一前斜擋板、及一後擋板,所述後擋板大致正交於所述噴擊出口面,所述前斜擋板傾斜於所述噴擊出口面。所述收集設備位於所述至少一葉輪設備的下方,以回收噴擊顆粒;所述揚昇設備將回收後的所述噴擊顆粒,送回所述顆粒處理設備。
本發明的其中一有益效果在於,本發明利用葉片高速轉動時產生的離心力,使葉片更卡緊於轉盤的葉片槽。此種裝配方式製造及組裝容易,有利於加速表面加工處理的噴擊顆粒,提昇表面加工處理的效果。
為使能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與圖式,然而所提供的圖式僅用於提供參考與說明,並非用來對本發明加以限制。
以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開的實施方式,本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用,在不悖離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外,本發明的附圖僅為簡單示意說明,並非依實際尺寸的描繪,事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容,但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。
參閱圖1至圖3所示,本發明第一實施例提供一種噴擊機台的葉輪設備100,其包括一對轉盤11、多個葉片12、多個連接桿13、及一保護箱體14。本實施例的轉盤11呈圓盤狀,所述一對轉盤11相對地設置。每一轉盤11具有一中心孔110、多個葉片槽111、及多個限位凹槽112。中心孔110貫穿所述轉盤11。所述多個葉片槽111由所述中心孔110朝所述轉盤11的圓周延伸,且呈等角呈輻射狀延伸。每一所述葉片槽111具有一鄰近所述中心孔110的槽底部111b、及一鄰近轉盤11圓周的槽頂部111a,所述槽底部111b的槽內寬度W12大於所述槽頂部111a的槽內寬度W11,所述限位凹槽112由所述葉片槽111進一步凹陷。
本實施例的葉片12由俯視或仰視觀看,大略呈工字形。多個葉片12由轉盤11的中心呈輻射狀等角排列。葉片12的數量較佳為偶數,且各沿著直徑的方向設置(如圖5所示)。每一所述葉片12具有一葉板部121、及一對側板部122。葉板部121大致具有相同的厚度。所述一對側板部122連接所述葉板部121的兩側邊,每一所述側板部122具有一限位突塊124,所述側板部122容置於所述葉片槽111內,所述限位突塊124容置於所述限位凹槽112內,所述側板部122的外形相應於所述葉片槽111的外形,每一所述側板部122具有一相應於所述槽底部111b的根部寬度W22、及一相應於所述槽頂部111a的頂部寬度W21,所述根部寬度W22大於所述頂部寬度W21。本實施例的所述限位凹槽112鄰近所述槽底部111b。
本發明藉由上述轉盤11的葉片槽111設計的特別形狀配合葉片12的結構,可以限制葉片12在高速轉動下的位移。本發明利用葉片12高速轉動時產生的離心力,離心力使葉片12向外更卡緊於轉盤11的葉片槽111。此種裝配方式不需要螺鎖或焊接…等其他較複雜的施工方式。
本實施例的連接桿13呈圓桿狀,多個連接桿13連接所述一對轉盤11,使得該對轉盤11能等距且穩固地連接一起。每一連接桿13位於兩個葉片12中間,連接桿13的兩端固定於轉盤11的固定槽113,例如以螺鎖的方式。
所述保護箱體14罩住所述一對轉盤11及所述多個葉片12,並定義一噴擊出口面140。本實施例的保護箱體14,用以限制噴擊顆粒在保護箱體14內,保護箱體14的壁面具有相當厚度,以避免被擊穿。保護箱體14具有一前斜擋板141、及一後擋板142,所述後擋板142大致正交於所述噴擊出口面140,所述前斜擋板141傾斜於所述噴擊出口面140。如圖6所示,所述葉片12的頂部超出所述轉盤11的圓周。本實施例的噴擊顆粒,例如可以是陶瓷砂、玻璃珠、尼龍砂、石英砂、金剛砂、鐵砂、金屬細球…等。
本實施例的保護箱體14還包括一上弧板143以及一對側保護板144。所述上弧板143的兩端各連接所述前斜擋板141與所述後擋板142的頂緣。所述一對側保護板144相對地位於所述上弧板143、所述前斜擋板141與所述後擋板142的兩側,並且連接於所述上弧板143、所述前斜擋板141與所述後擋板142的側緣。本實施例的保護箱體14,除了側保護板144,沿著噴擊出口面140的上方分成三片,但本發明的數量不以此為限,例如也可以是二片或四片。
本實施例的葉輪設備100還包括一外罩殼體15,所述外罩殼體15罩覆於所述保護箱體14。參圖6,外罩殼體15的形狀及設置的角度大略相應於保護箱體14,覆蓋了頂面、兩側面、前斜端面、及後端面。外罩殼體15可供固定入料管22與料斗21。換句話說,外罩殼體15的前斜端面(相較於噴擊出口面140)的傾斜角度大致等於保護箱體14的前斜擋板141(相較於噴擊出口面140)的傾斜角度。
如圖5所示,本實施例的葉輪設備100還包括一葉頭16及一分配器17,所述葉頭16的內側連接於其中一個所述轉盤11,所述葉頭16的外側連接於一馬達M並由所述馬達M驅動。所述分配器17連接於所述葉頭16的內側並且可動地位於所述轉盤11的所述中心孔110內。分配器17形成多個貫穿槽170。
參圖5,本實施例的葉輪設備100還包括一入料管22以接收噴擊顆粒,入料管22連接於料斗21下方。所述入料管22的出口端固定地連接一控制籠18,所述控制籠18固定地位於所述轉盤11的所述中心孔110內,所述控制籠18位於所述轉盤11的所述中心孔110內,所述分配器17可轉動地位於所述控制籠18內,所述控制籠18具有一出口180,控制籠18可以控制噴擊顆粒拋出的位置及數量。本實施例的控制籠18的出口180朝上。入料管22的出口端面對分配器17,多個貫穿槽170在轉動過程輪流對準於控制籠18的出口180。控制籠18的管狀周圍靠近所述葉片12,但未接觸葉片12。
當噴擊顆粒(圖略)由入料管22進入後,分配器17藉由馬達M轉動,高速旋轉噴擊顆粒,噴擊顆粒從分配器17的貫穿槽170通過所述控制籠18的出口180移動至葉片12之間,然後被葉片12高速向外拋出去。
如圖7(前視圖)及圖8(側視圖)所示,本發明的葉輪設備100可以設置於各式的噴擊機台,圖7及圖8繪示葉輪設備100設置於處理料帶B的噴擊機台9a。噴擊機台9a包括一顆粒處理設備93a、多組葉輪設備100、一收集設備91a及一揚昇設備92a。顆粒處理設備93a以提供噴擊顆粒(或稱研磨砂材顆粒,圖略),顆粒處理設備93a可以接收新的噴擊顆粒或處理已回收後的噴擊顆粒,加以篩選、過濾及分離合格的噴擊顆粒等工作。所述顆粒處理設備93a具有一出料部94a。多組葉輪設備100位於所述出料部94a的下方,接收並加速拋出該些噴擊顆粒。收集設備91a位於所述葉輪設備100的下方,以回收該些噴擊顆粒。揚昇設備92a將回收後的該些噴擊顆粒,送回所述顆粒處理設備93a。葉輪設備100的數量可以是至少一組,視噴擊機台處理的程度,或待處理工件需要噴擊的角度而決定。
由圖8的側視圖,所述噴擊機台9a具有二對相隔設置的所述葉輪設備100,二個相隔設置的葉輪設備100可以設置於不同平面上,或者設置於同一平面上,如圖8所示。兩個噴擊出口面140呈一鈍角,約120度至150度。所述保護箱體(14)的前斜擋板(141,圖略,參圖6)相對設置,本實施例的前斜擋板(141,圖略,參圖6)各靠近處理區域的兩側壁面,但與兩側壁面呈一小銳角,大約10至15度,略微朝內,以避免噴擊到處理區域的兩側壁面。
補充說明,為使圖式容易觀看,本實施例以及下面其他型式的噴擊機台並未繪示出料部94a到多組葉輪設備100之間的設備。由本技術領域可以理解的,兩者之間可藉由漏斗或管體彼此連結。
如圖9所示,本發明的葉輪設備100可以設置於處理吊掛工件的噴擊機台9b。每一站共有四個葉輪設備100,每一側各兩個葉輪設備100,葉輪設備100的噴擊出口面140呈垂直設置,共同面向所述吊掛工件(未標號)。換句話說,噴擊出口面140平行於吊掛工件。吊掛工件沿著一軌道移動,經過表面處理區域。類似於上述機台,噴擊機台9b具有顆粒處理設備93b、多組葉輪設備100、收集設備91b及揚昇設備92b。顆粒處理設備93b藉由出料部94b供應該些噴擊顆粒到多組葉輪設備100。位於同側的一對葉輪設備100的前斜擋板(141,圖略,參圖6)相互面對,噴擊顆粒沿著,斜向交叉以涵蓋到吊掛工件的各部份。後擋板(142,圖略,參圖6)的延伸方向大致垂直於所述吊掛工件。
如圖10所示,本發明的葉輪設備100可以設置於處理環帶式的噴擊機台9c,可適用於小型工件,利用環帶以滾動在一圓筒狀的處理區域90一批小型工件。葉輪設備100設置於處理區域90的上方,小型工件以左側的工件承載台倒入處理區域90後,關閉艙門(未標號)。類似於上述機台,噴擊機台9c具有顆粒處理設備93c、葉輪設備100、收集設備91c及揚昇設備92c。顆粒處理設備93c藉由出料部94c供應該些噴擊顆粒到多組葉輪設備100。收集設備91c位於艙門(未標號)下方。
如圖11所示,本發明的葉輪設備100可以設置於處理直通式的噴擊機台9d,可適用於具有多面形狀的複雜工件,例如工形樑。葉輪設備100可以設置於各個角度,以分別同時處理複雜工件的多個表面。本實施例配合工形樑的八個面,設置八組葉輪設備100。類似於上述機台,噴擊機台9d具有顆粒處理設備93d、葉輪設備100、傳輸帶T、收集設備91d及揚昇設備92d。顆粒處理設備93d藉由出料部94d供應該些噴擊顆粒到多組葉輪設備100。收集設備91d位於八組葉輪設備100中間位置的下方。
本發明的其中一項有益效果在於,本發明利用葉片12高速轉動時產生的離心力,使葉片12更卡緊於轉盤11的葉片槽111。此種裝配方式製造及組裝容易,有利於加速表面加工處理的噴擊顆粒,提昇表面加工處理的效果。不僅可以提供清潔作用,提升表面粗糙度,進一步可以提高工件的抗疲勞強度以及工件表面的硬度,達到增強使用壽命。
以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例,並非因此侷限本發明的申請專利範圍,所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的申請專利範圍內。
100:葉輪設備 11:轉盤 110:中心孔 111:葉片槽 111a:槽頂部 111b:槽底部 W11、W12:槽內寬度 112:限位凹槽 113:固定槽 12:葉片 121:葉板部 122:側板部 124:限位突塊 W21:頂部寬度 W22:根部寬度 13:連接桿 14:保護箱體 141:前斜擋板 142:後擋板 143:上弧板 144:側保護板 140:噴擊出口面 15:外罩殼體 16:葉頭 17:分配器 170:貫穿槽 18:控制籠 180:出口 21:料斗 22:入料管 B:料帶 M:馬達 T:傳輸帶 9a、9b、9c、9d:顆粒處理設備 90:處理區域 91a、91b、91c、91d:收集設備 92a、92b、92c、92d:揚昇設備 93a、93b、93c、93d:顆粒處理設備 94a、94b、94c、94d:出料部
圖1為本發明的噴擊機台的葉輪設備的立體分解圖。
圖2為本發明的噴擊機台的葉輪設備的另一立體分解圖。
圖3為本發明的葉輪設備的轉盤及葉片的前視圖。
圖4為本發明的噴擊機台的葉輪設備的立體組合圖。
圖5為本發明的噴擊機台的葉輪設備的內部側視圖。
圖6為本發明的噴擊機台的葉輪設備的局部剖視圖。
圖7為本發明的料帶式的噴擊機台的前視圖。
圖8為本發明的料帶式的噴擊機台的側視圖。
圖9為本發明的吊掛式的噴擊機台的前視圖。
圖10為本發明的環帶式的噴擊機台的前視圖。
圖11為本發明的直通式的噴擊機台的前視圖。
100:葉輪設備
11:轉盤
110:中心孔
111:葉片槽
112:限位凹槽
113:固定槽
12:葉片
14:保護箱體
141:前斜擋板
142:後擋板
143:上弧板
144:側保護板
15:外罩殼體
21:料斗
22:入料管
M:馬達

Claims (10)

  1. 一種噴擊機台的葉輪設備,包括: 一對轉盤,每一所述轉盤具有一中心孔、多個葉片槽、及多個限位凹槽,所述多個葉片槽由所述中心孔朝所述轉盤的圓周延伸,每一所述葉片槽具有一鄰近所述中心孔的槽底部、及一鄰近所述圓周的槽頂部,所述槽底部的槽內寬度大於所述槽頂部的槽內寬度,所述限位凹槽由所述葉片槽進一步凹陷; 多個葉片,每一所述葉片具有一葉板部、及一對側板部,所述一對側板部連接所述葉板部的兩側邊,每一所述側板部具有一限位突塊,所述側板部容置於所述葉片槽內,所述限位突塊容置於所述限位凹槽內,所述側板部的外形相應於所述葉片槽的外形,每一所述側板部具有一相應於所述槽底部的根部寬度、及一相應於所述槽頂部的頂部寬度,所述根部寬度大於所述頂部寬度; 多個連接桿,所述多個連接桿連接所述一對轉盤;及 一保護箱體,所述保護箱體罩住所述一對轉盤及所述多個葉片,並定義一噴擊出口面,其中所述保護箱體具有一前斜擋板、及一後擋板,所述後擋板大致正交於所述噴擊出口面,所述前斜擋板傾斜於所述噴擊出口面。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的噴擊機台的葉輪設備,其中所述限位凹槽鄰近所述槽底部,所述葉片的頂部超出所述轉盤的圓周。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的噴擊機台的葉輪設備,還包括一葉頭及一分配器,所述葉頭的內側連接於其中一個所述轉盤,所述葉頭的外側連接於一馬達並由所述馬達驅動,所述分配器連接於所述葉頭的所述內側並且可動地位於所述轉盤的所述中心孔內,所述分配器形成多個貫穿槽。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的噴擊機台的葉輪設備,還包括一入料管以接收噴擊顆粒,所述入料管的出口端固定地連接一控制籠,所述控制籠固定地位於所述轉盤的所述中心孔內,所述控制籠位於所述轉盤的所述中心孔內,所述分配器可轉動地位於所述控制籠內,所述控制籠具有一出口。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的噴擊機台的葉輪設備,其中所述保護箱體還包括一上弧板以及一對側保護板,所述上弧板的兩端各連接所述前斜擋板與所述後擋板的頂緣,所述一對側保護板相對地位於所述上弧板、所述前斜擋板與所述後擋板的兩側,並且連接於所述上弧板、所述前斜擋板與所述後擋板的側緣。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的噴擊機台的葉輪設備,還包括一外罩殼體,所述外罩殼體罩覆於所述保護箱體。
  7. 一種噴擊機台,包括: 一顆粒處理設備,所述顆粒處理設備用以處理噴擊顆粒,所述顆粒處理設備具有一出料部; 至少一葉輪設備,位於所述出料部的下方,接收所述噴擊顆粒,每一所述葉輪設備包括: 一對轉盤,每一所述轉盤具有一中心孔、多個葉片槽、及多個限位凹槽,所述多個葉片槽由所述中心孔朝所述轉盤的圓周延伸,每一所述葉片槽具有一鄰近所述中心孔的槽底部、及一鄰近所述圓周的槽頂部,所述槽底部的槽內寬度大於所述槽頂部的槽內寬度,所述限位凹槽由所述葉片槽進一步凹陷;以及 多個葉片,每一所述葉片具有一葉板部、及一對側板部,所述一對側板部連接所述葉板部的兩側邊,每一所述側板部具有一限位突塊,所述側板部容置於所述葉片槽內,所述限位突塊容置於所述限位凹槽內,所述側板部的外形相應於所述葉片槽的外形,每一所述側板部具有一相應於所述槽底部的根部寬度、及一相應於所述槽頂部的頂部寬度,所述根部寬度大於所述頂部寬度; 多個連接桿,所述多個連接桿連接所述一對轉盤;及 一保護箱體,所述保護箱體罩住所述一對轉盤及所述多個葉片,並定義一噴擊出口面,其中所述保護箱體具有一前斜擋板、及一後擋板,所述後擋板大致正交於所述噴擊出口面,所述前斜擋板傾斜於所述噴擊出口面; 一收集設備,所述收集設備位於所述至少一葉輪設備的下方,以回收噴擊顆粒;以及 一揚昇設備,所述揚昇設備將回收後的所述噴擊顆粒,送回所述顆粒處理設備。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的噴擊機台,所述噴擊機台具有二個相隔設置的所述葉輪設備,所述噴擊出口面沿一縱長方向排列,所述保護箱體的所述前斜擋板相對設置。
  9. 如申請專利範圍第7項所述的噴擊機台,還包括一葉頭及一分配器,所述葉頭的內側連接於其中一個所述轉盤,所述葉頭的外側連接於一馬達並由所述馬達驅動,所述分配器連接於所述葉頭的所述內側並且可動地位於所述轉盤的所述中心孔內,所述分配器形成多個貫穿槽。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的噴擊機台,還包括一入料管以接收噴擊顆粒,所述入料管的出口端固定地連接一控制籠,所述控制籠固定地位於所述轉盤的所述中心孔內,所述控制籠位於所述轉盤的所述中心孔內,所述分配器可轉動地位於所述控制籠內,所述控制籠具有一出口。
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