TW202044611A - 發光二極體 - Google Patents

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Abstract

本揭露關於一種發光二極體，包括：一基板；一發光二極體晶片，設置於基板上；以及一量子點薄膜，設置於發光二極體晶片上，其中量子點薄膜包括複數量子點及一基質材料，且複數粒子係分散於基質材料中，其中該些粒子為導電粒子、半導體粒子、或其組合。

Description

發光二極體
本揭露提供一種發光二極體，尤指一種使用量子點的發光二極體。
當光照射到量子點(特別是，光致發光量子點)上時，量子點會吸收光子，而其價帶上的電子被激發躍遷至導帶，此時在價帶上將會產生與被激發電子對應的空穴(稱“激子”)。導帶上的電子則可以通過輻射的形式再次躍遷回價帶，與之前的空穴發生復合而發射光子。前述即量子點的發光過程。
不過，當強光照射量子點時，造成被激發躍遷至導帶的電子數量過多，且因能量釋放躍遷至低能量狀態之價帶的電子數量達飽和狀態，這時導帶上多餘的電子可能會被量子點的表面缺陷態捕獲，而以非輻射的形式被淬滅，或與量子點外部物質產生一連串電化學反應，而導致量子點發生結構性的破壞。雖然量子點會採用配體(Ligand)的修飾來減少量子點表面缺陷態，以得到更好的螢光，然而，當導帶電子數量過多時，容易造成配體脫落，使得量子點結構的不穩定。
有鑑於此，目前亟需發展一種新穎的量子點發光二極體，其可解決前述問題，以提升量子點發光二極體的使用壽命。
本揭露提供一種發光二極體，藉由改善量子點薄膜的組成以提升量子點發光二極體的使用壽命。
本揭露的發光二極體包括：一基板；一發光二極體晶片，設置於基板上；以及一量子點薄膜，設置於發光二極體晶片上，其中量子點薄膜包括複數量子點及一基質材料，且複數粒子係分散於基質材料中，其中該些粒子為導電粒子、半導體粒子、或其組合。
於量子點的發光過程中，主要是激發量子點，使量子點價帶的電子躍遷至導帶；而當導帶的電子再次回到價帶時，則可產生光。然而，當回到價帶的電子數量達到飽和，此時導帶上的電子可能會被量子點的表面缺陷態所捕獲，而導致量子點發生結構性的破壞。因此，於本揭露的發光二極體中，藉由將導電粒子或/與半導體粒子分散於量子點的基質材料中，使得導帶上多餘的電子得以透過導電粒子或/與半導體粒子而有效的導出，降低導帶上多餘的電子被量子點的表面缺陷態所捕獲，進而提升量子點薄膜的使用壽命。
於本揭露的發光二極體中，量子點可為光致發光量子點。當光照射到光致發光量子點時，光致發光量子點會吸收光子，而其價帶上的電子因光激發而躍遷至導帶。其中，光致發光量子點的具體例子包括，但不限於全無機的CsPbX3 (X＝Cl，Br，I)或有機-無機雜化的CH3 NH3 PbX3 (X＝Cl，Br，I)等鈣鈦礦量子點；核殼量子點，如CdSe/ZnS；無鎘量子點，如InP/ZnS、CuInS、奈米碳量子點、或奈米矽量子點等。
於本揭露的發光二極體中，量子點可為經配體修飾的量子點。藉由於量子點上修飾配體，可使量子點展現較好的導電性或分散性。其中，配體可為有機配體、鹵素配體、金屬硫族化絡合物(metal chalcogenide complex, MCC)配體或其組合。其中，配體可根據量子點的種類進行選擇。此外，有機配體的具體例子包括，但不限於油胺、油酸、1,3-苯二硫醇（1,3-BDT）、1,2-乙二硫醇（EDT）、或巰基丙酸（MPA）；鹵素配體的具體例子包括，但不限於CH3 NH3 I；而MCC配體的具體例子包括，但不限於­Sn2 S6 4- 。然而，本揭露並不僅限於此。
於本揭露的發光二極體中，導電粒子的材料並無特殊限制，只要具有一定的導電度即可。例如，導電粒子的材料可分別為金屬(例如，鐵、銅、鋁、鉬、鎢、金、銀、鉻、鎳、鉑或鈦)、金屬合金(例如，鐵合金、銅合金、鋁合金、鉬合金、鎢合金、金合金、銀合金、鉻合金、鎳合金、鉑合金或鈦合金)、透明金屬氧化物(例如，IGZO、AIZO、HIZO、ITZO、IGZTO或IGTO)、導電高分子(例如，聚(3,4-乙烯二氧噻吩) (poly(3,4-ethylenedioxythiophene), PEDOT)或其組合；但本揭露並不僅限於此。此外，前述導電粒子的材料可單獨使用或合併使用。
於本揭露的發光二極體中，導電粒子的結構並無特殊限制，可依據需求進行設計。於本揭露的一實施例中，導電粒子可分別為奈米粒子或奈米線。於本揭露的另一實施例中，導電粒子可具有單層結構或多層結構(例如，核殼結構)。然而，本揭露並不僅限於此。
於本揭露的發光二極體中，半導體粒子的材料並無特殊限制。例如，半導體粒子的材料可為元素半導體材料、化合物半導體材料或其組合。舉例來說，元素半導體材料可為硼、金剛石、鍺、矽、灰錫、銻、硒、或碲等。化合物半導體材料可為由兩種或兩種以上無機物化合成的半導體材料，如GaAs、ZnS、CdTe、HgTe、SiC或Ge-Si合金等，或化合物半導體材料可為金屬與氧形成的氧化物半導體材料，如ZnO 、CdO、TiO2 、Al2 O3 、SnO、Cu2 O、NiO、CoO、FeO、Cr2 O3 、BaO、ZrO2 、Cu2 O、WO3 、In2 O3 、或Fe3 O4 ；但本揭露並不僅限於此。此外，前述半導體粒子的材料可單獨使用或合併使用。
於本揭露的發光二極體中，半導體粒子的結構並無特殊限制，可依據需求進行設計。於本揭露的一實施例中，半導體粒子可分別為奈米粒子或奈米線。於本揭露的另一實施例中，半導體粒子可具有單層結構或多層結構(例如，核殼結構)。然而，本揭露並不僅限於此。
於本揭露的發光二極體中，基質材料的種類並無特殊限制，只要能有效保護量子點或是能使導電粒子及/或半導體粒子可有效分散於其中即可。在此，基質材料可為一無機材料、一矽膠、一高分子材料或其組合。其中，無機材料的具體例子包括，但不限於SiO2 、Al2 O3 、ZnO、ZrO、Y2 O3 、TiO2 、CoO、MnO2 、NiO、CuO、PbO、Si3 N4 或其混合物；而高分子材料的具體例子包括，但不限於環氧樹脂 (Epoxy)、聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)、聚碳酸酯 (PC)或其組合。然而，本揭露並不僅限於此。
於本揭露的發光二極體中，基板的功效主要是用於將導電粒子或/與半導體粒子所導出的電子進一步的導出。因此，基板可選用具有一定導電度的基板，例如，金屬基板或半導體基板。其中，金屬基板的例子包括，但不限於鐵基板、銅基板、鋁基板、鉬基板、鎢基板、金基板、鉻基板、鎳基板、鉑基板、鈦基板或其合金基板；而半導體基板的例子包括，但不限於矽基板、氮化鋁基板、或氧化鋁基板。前述金屬基板與半導體基板可單獨使用、或以一複合式基板的形式合併使用。倘若基板選用不具有導電度的基板，更具體而言，選用絕緣基板，則此基板上需設有線路層，以透過線路層將導電粒子所導出的電子進一步的導出。在此，不具有導電度的基板的例子包括，但不限於石英基板、玻璃基板、矽晶圓基板、藍寶石基板、聚碳酸酯(polycarbonate, PC)基板、聚醯亞胺(polyimide, PI)基板、聚丙烯(polypropylene, PP)基板、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate, PET)基板、或其他塑膠或高分子材料所製成的基板。然而，本揭露並不僅限於此。
以下係藉由具體實施例說明本揭露之實施方式，熟習此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地了解本揭露之其他優點與功效。本揭露亦可藉由其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節亦可針對不同觀點與應用，在不悖離本創作之精神下進行各種修飾與變更。
此外，本說明書和權利要求所提及的位置，例如”之上”、”上”、”上方”、”之下”、”下”或”下方”，可指所述兩元件直接接觸，或可指所述兩元件非直接接觸。
此外，可以混合本揭露不同實施例的特徵以形成另一實施例。
實施例1
圖1為本實施例的發光二極體的剖面示意圖。
如圖1所示，首先，提供一基板11。而後，設置一發光二極體晶片12於基板11。接著，形成一量子點薄膜13於發光二極體晶片12上，其中，量子點薄膜13可形成於發光二極體晶片12之除了朝向基板11的表面以外的其他五個表面上。然而，本揭露並不僅限於此。於本揭露的另一實施例中，量子點薄膜13也可僅形成於發光二極體晶片12的主要發光面上，例如發光二極體晶片12之與朝向基板11的表面相對的表面上。於本實施例中，量子點薄膜13包括複數量子點131及一基質材料132，且複數粒子133係分散於基質材料132中，其中粒子133可為導電粒子、半導體粒子、或其組合。
經由前述步驟，則可得到本實施例的發光二極體，其包括：一基板11；一發光二極體晶片12，設置於基板11上；以及一量子點薄膜13，設置於發光二極體晶片12上，其中量子點薄膜13包括複數量子點131及一基質材料132，且粒子133係分散於基質材料132中，其中粒子133可為導電粒子、半導體粒子、或其組合。
在此，基板11為一金屬基板、一半導體基板或一設有線路層的基板。於本實施例中，是使用金屬鋁基板作為基板11。發光二極體晶片12可為一形成有磊晶層之藍光磊晶片、一正裝LED晶片(face-up chip)、一垂直LED晶片(vertical chip)、或一覆晶LED晶片。於本實施例中，發光二極體晶片12為一覆晶LED晶片。量子點131為光致發光量子點，其可為全無機的CsPbX3 (X＝Cl，Br，I)或有機-無機雜化的CH3 NH3 PbX3 (X＝Cl，Br，I)等鈣鈦礦量子點；核殼量子點，如CdSe/ZnS；無鎘量子點，如InP/ZnS、CuInS、奈米碳量子點、或奈米矽量子點等；且量子點131為經配體修飾的光致發光量子點，而配體可為有機配體、鹵素配體、金屬硫族化絡合物(metal chalcogenide complex, MCC)配體或其組合。於本實施例中，所使用的量子點131為經油胺修飾的CsPbBr3 鈣鈦礦量子點。此外，粒子133可為導電粒子，其材料可分別為金屬、金屬合金、透明金屬氧化物、導電高分子或其組合；或粒子133可為半導體粒子，其為元素半導體材料、化合物半導體材料或其組合。此外，無論是導電粒子或半導體粒子，粒子133可分別為奈米粒子或奈米線。於本實施例中，粒子133為奈米銀線。再者，基質材料132可為一無機材料、一矽膠、一高分子材料或其組合。於本實施例中，所使用的基質材料132為矽膠。
實施例2
圖2為本實施例的發光二極體的剖面示意圖。本實施例的發光二極體材料、結構及製備方法與實施例1相似，除了下列不同點。
就製備方法而言，如圖2所示，首先，提供一基板11。而後，設置一發光二極體晶片12於基板11。接著，形成複數量子點131於發光二極體晶片12的表面。於本實施例中，量子點131可形成於發光二極體晶片12之除了朝向基板11的表面以外的其他五個表面上。而後，將分散有粒子133的基質材料132形成於量子點131上。經由前述步驟，則可得到本實施例的發光二極體。
就結構而言，本實施例所製得的量子點薄膜13，其包括複數量子點131及一基質材料132，且粒子133係分散於基質材料132中；特別是，量子點薄膜13包括一由複數量子點131所形成的量子點層、及包括粒子133分散於其中的基質材料132。
測試例
圖3為本測試例所使用的試片的剖面示意圖。
於本測試例中，係使用上方形成有量子點薄膜13的基板11進行測試，其中，量子點薄膜13包括複數量子點131及一基質材料132，且粒子133係分散於基質材料132中。於本測試例中，於實驗例及比較例所使用的量子點薄膜13中，量子點131為經油胺修飾的CsPbBr3 鈣鈦礦量子點；基質材料132為矽膠；而粒子133為奈米銀線。此外，於實驗例中，基板11使用鐵基板；而於比較例中，基板11使用塑膠基板。
本測試例所使用之測試方法，是將測試物置入強藍光環境下照射八小時。結果發現，基板11使用鐵基板之量子點薄膜13之量子效率，僅衰減5%，而基板11使用塑膠基板之量子點薄膜13之量子效率，大幅衰減70%。
如前述測試所示，當量子點薄膜包括量子點及基質材料，且粒子(在此，使用奈米銀線之導電粒子)係分散於基質材料中時，導帶上多餘的電子可有效的被導電粒子所導出，並透過具有一定導電度的基板，將導電粒子所導出的電子進一步的導出於發光二極體外。藉此，可有效提升量子點薄膜的使用壽命，進而提升量子點發光二極體的使用壽命。
11:基板 12:發光二極體晶片 13:量子點薄膜 131:量子點 132:基質材料 133:粒子
圖1為本揭露實施例1的發光二極體的剖面示意圖。
圖2為本揭露實施例2的發光二極體的剖面示意圖。
圖3為本揭露測試例所使用的試片的剖面示意圖。
無。
11:基板
12:發光二極體晶片
13:量子點薄膜
131:量子點
132:基質材料
133:粒子

Claims (9)

  1. 一種發光二極體，包括： 一基板； 一發光二極體晶片，設置於該基板上；以及 一量子點薄膜，設置於該發光二極體晶片上，其中該量子點薄膜包括複數量子點及一基質材料，且複數粒子係分散於該基質材料中，其中該些粒子為導電粒子、半導體粒子、或其組合。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的發光二極體，其中該些量子點為光致發光量子點。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的發光二極體，其中該些量子點為經配體修飾的量子點。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的發光二極體，其中該些導電粒子的材料分別為金屬、金屬合金、透明金屬氧化物、導電高分子或其組合。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的發光二極體，其中該些半導體粒子的材料分別為元素半導體材料、化合物半導體材料或其組合。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的發光二極體，其中該化合物半導體材料為由兩種或兩種以上無機物化合成的半導體材料、金屬與氧形成的氧化物半導體材料、或其組合。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的發光二極體，其中該些粒子分別為奈米粒子或奈米線。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的發光二極體，其中該基質材料為一無機材料、一矽膠、一高分子材料或其組合。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的發光二極體，其中該基板為一金屬基板、一半導體基板或一設有線路層的基板。
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