TW202037945A - 偏光件之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種方法，其可簡便製造能夠實現影像顯示裝置等電子組件之多功能化及高功能化且具有非偏光部的偏光件，而且可高精確度地製造所需要的非偏光部之形狀。 解決手段上，本發明之偏光件之製造方法包含在含二色性物質之樹脂薄膜以至少一部分露出之方式被表面保護薄膜被覆之狀態下，使鹼性溶液接觸該露出部。其一實施形態係要進行該接觸時，露出部業經施行表面改質處理。又一實施形態係露出部與鹼性溶液的接觸角為50度以下。

Description

偏光件之製造方法
發明領域
本發明係有關於一種偏光件之製造方法。更詳而言之，本發明係有關於一種具有非偏光部之偏光件之製造方法。
發明背景
在行動電話、筆記型個人電腦(PC)等的影像顯示裝置，係搭載有照相機等的內部電子零件。以提升此種影像顯示裝置的照相機性能等作為目的，已進行各種的研討(例如，專利文獻1~6)。但是由於智慧型手機、觸控面板式資訊處理裝置的急速地普及，而被要求進一步提升照相機性能等。又，為了因應影像顯示裝置形狀的多樣化及高功能化，而被要求具有部分偏光性能之偏光板。為了在工業上及商業上實現該等要求，而期望以能夠容許的成本製造影像顯示裝置及/或其零件時，為了確認此種技術而殘留有各種研討事項。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2011-81315號公報 專利文獻2：日本專利特開2007-241314號公報 專利文獻3：美國專利申請公開第2004/0212555號說明書 專利文獻4：韓國公開專利第10-2012-0118205號公報 專利文獻5：韓國專利第10-1293210號公報 專利文獻6：日本專利特開2012-137738號公報
發明概要 發明欲解決之課題
本發明係為了解決上述先前的課題而進行，其主要目的，係提供一種能夠實現影像顯示裝置等電子組件的多功能化及高功能化之偏光件之製造方法，而且能夠高精確度且簡便地製造所需要的非偏光部之形狀。 用以解決課題之手段
本發明人等發現，藉由採用包含在含二色性物質之樹脂薄膜(以下，亦稱為樹脂薄膜)以至少一部分露出之方式被表面保護薄膜被覆之狀態下使鹼性溶液接觸該露出部之製造方法，並在要進行接觸時對露出部施行表面改質處理及/或使露出部與該鹼性溶液的接觸角成為50度以下，即可達成上述目的，而完成了本發明。
本發明的偏光件之製造方法，係包含在含二色性物質之樹脂薄膜以至少一部分露出之方式被表面保護薄膜被覆之狀態下使鹼性溶液接觸該露出部。要進行上述接觸時，上述露出部業經施行表面改質處理。 在一實施形態，本發明的偏光件之製造方法係包含對上述被表面保護薄膜被覆的樹脂薄膜施行表面改質處理。 在一實施形態，上述表面改質處理為電暈處理。 在一實施形態，上述表面改質處理為塗佈表面改質劑。 在一實施形態，上述表面改質劑為有機矽烷化合物。 在一實施形態，上述露出部與上述鹼性溶液之接觸角為50度以下。 本發明的偏光件之另一製造方法，係包含在含二色性物質之樹脂薄膜以至少一部分露出之方式被表面保護薄膜被覆之狀態下，使鹼性溶液接觸該露出部，並且，該露出部與該鹼性溶液的接觸角為50度以下。 在一實施形態，上述鹼性溶液進一步含有添加劑。 在一實施形態，上述接觸係在上述樹脂薄膜之與上述表面保護薄膜為相反側的面被另一表面保護薄膜被覆之狀態下，搬運該樹脂薄膜並浸漬於上述鹼性溶液來進行。 依照本發明之另一態樣，可提供一種偏光件。該偏光件係具有呈圓形且直徑為2.9mm以下之非偏光部。 在一實施形態，上述非偏光部的真圓度為0.060mm以下。 發明效果
本發明之製造方法，係包含在含二色性物質之樹脂薄膜以至少一部分露出之方式被表面保護薄膜被覆之狀態下使鹼性溶液接觸該露出部。在一實施形態中，要進行該接觸時露出部業經施行表面改質處理。在另一實施形態，露出部與鹼性溶液的接觸角為50度以下。本發明之製造方法係藉由接觸鹼性溶液來形成非偏光部。依照露出部(就結果而言，為非偏光部)所需要的形狀，有時無法使鹼性溶液充分地接觸露出部。例如，製造具有複雜形狀及/或小尺寸的非偏光部之偏光件時，有時會因鹼性溶液的表面張力而特別在露出部的端部無法使鹼性溶液充分地接觸樹脂薄膜。依照本申請案的發明，藉由採用如上述的構成，在使鹼性溶液接觸露出部時，能夠使鹼性溶液充分地遍及至露出部的端部為止，而且能夠高精確度且簡便地形成所需形狀之非偏光部。進而，藉由採用如上述之構成(特別是表面改質處理)，即便未在鹼性溶液添加添加劑(例如，醇類等有機溶劑)，亦能夠實現如上述之優異效果。其結果，不必設置添加劑(例如，有機溶劑)的排水設備即可製造具有所需形狀的非偏光部之偏光件。因而，從在製造設備之成本削減及環境顧慮的觀點而言，本發明之製造方法亦較佳。
用以實施發明之形態
以下，說明本發明的一實施形態，但是本發明係不被該等實施形態限定。
A.偏光件之製造方法 本發明之製造方法，係包含在含二色性物質之樹脂薄膜以至少一部分露出之方式被表面保護薄膜被覆之狀態下使鹼性溶液接觸該露出部。藉由使鹼性溶液接觸露出部而能夠形成非偏光部。在一實施形態係使用下述偏光薄膜積層體：其具備含二色性物質之樹脂薄膜及配置在該樹脂薄膜的一側之表面保護薄膜，而且在該一側具有露出含二色性物質之樹脂薄膜的露出部。
圖1係在本發明一實施形態所使用的偏光薄膜積層體之概略剖面圖。偏光薄膜積層體100係在含二色性物質之樹脂薄膜10呈可剝離地層積有表面保護薄膜50。表面保護薄膜50係具有貫通孔61。偏光薄膜積層體100係具有樹脂薄膜10從貫通孔61露出的露出部51。表面保護薄膜50係透過任意適當的黏著劑而能夠剝離地被層積在樹脂薄膜10。在一實施形態，表面保護薄膜亦能夠以與黏著劑層的積層體之方式提供。此時為了方便，亦有將在積層體之表面保護薄膜稱為基材薄膜之情形。圖示例中，在樹脂薄膜10之未層積表面保護薄膜50之面層積有保護薄膜20。保護薄膜20可直接使用作為後述偏光板之保護薄膜。在偏光薄膜積層體100之未層積具有貫通孔之表面保護薄膜50之面(在圖示例為保護薄膜20的外側)，亦可呈可剝離地層積有其它表面保護薄膜30。
偏光薄膜積層體以長條狀為代表。藉由使用長條狀偏光薄膜積層體，例如能夠藉由浸漬而連續地進行使其接觸鹼性溶液之步驟、及與其它處理液接觸之步驟(例如使其接觸酸性溶液之步驟)。其結果，能夠進一步提升偏光件的生產性。
(含二色性物質之樹脂薄膜) 上述含二色性物質之樹脂薄膜，係可作為偏光件使用之薄膜。作為上述二色性物質，例如可舉出碘、有機染料等。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。較佳是使用碘。因為如後述，藉由使其接觸鹼性溶液，碘錯合物被還原而減低碘的含量，其結果，能夠形成非偏光部，其在照相機係具有作為對應部分之適當的特性。
作為形成上述樹脂薄膜之樹脂，能夠使用任意適當的樹脂。較佳是能夠使用聚乙烯醇系樹脂(以下，稱為「PVA系樹脂」)。作為PVA系樹脂，例如可舉出聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇能夠藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得到。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化來得到。PVA系樹脂的皂化度，係通常85莫耳%以上且小100莫耳%，較佳為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更佳為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依據JIS K 6726-1994求取。藉由使用此種皂化度的PVA系樹脂，能夠得到具有優異的耐久性之偏光件。皂化度太高時，有凝膠化掉之可能性。
PVA系樹脂的平均聚合度可按照目的適當地選擇。平均聚合度係通常1000~10000，以1200~4500為佳，更佳為1500~4300。又，平均聚合度可依據JIS K 6726-1994求取。
含二色性物質之樹脂薄膜的厚度可設定為任意適當的値。厚度係以30μm以下為佳，較佳為25μm以下，更佳為20μm以下，特佳為小於10μm。另一方面，厚度係較佳為0.5μm以上，更佳為1μm以上。此種厚度時，藉由使其接觸鹼性溶液，能夠良好地形成非偏光部。而且，能夠使接觸鹼性溶液的時間縮短。又，相較於其它部分，使其與鹼性溶液接觸的部分之厚度係變為較薄之情形。藉由使用厚度較薄的樹脂，能夠使接觸鹼性溶液的部分與不接觸的部分之厚度差減小，且能夠良好地進行與保護薄膜等其它構成要素的貼合。
如上述，上述含二色性物質之樹脂薄膜，係可作為偏光件使用之薄膜。具體而言，樹脂薄膜較佳是能夠施行膨潤處理、延伸處理、使用上述二色性物質之染色處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等各種處理，而成為能夠作為偏光件的功能之狀態。在施行各種處理時，樹脂薄膜亦可為形成在基材上之樹脂層。基材與樹脂層之積層體，例如能夠藉由在基材塗佈含有上述樹脂薄膜的形成材料的塗佈液之方法；及在基材層積樹脂薄膜之方法等來得到。
上述染色處理係例如能夠藉由將樹脂薄膜浸漬在染色液來進行。作為染色液，宜使用碘水溶液。碘的調配量，係相對於水100重量份，較佳為0.04重量份~5.0重量份。 為了提高碘對水之溶解度，以在碘水溶液調配碘化物為佳。作為碘化物，能夠適合使用碘化鉀。碘化物的調配量係相對於水100重量份，較佳為0.3重量份~15重量份。
在上述延伸處理，代表性作法係將樹脂薄膜單軸延伸至3倍~7倍。又，延伸方向可對應所得偏光件之吸收軸方向。
(表面保護薄膜) 表面保護薄膜之使用目的，係為了在後述接觸鹼性溶液的步驟暫時性保護上述樹脂薄膜。因而，表面保護薄膜可與偏光件的保護薄膜(例如，圖示例的保護薄膜20)明確地區別。例如，表面保護薄膜係在對應所需要的非偏光部形狀之部分(具體而言，係相當於露出部的部分)，形成貫通孔。在一實施形態，表面保護薄膜係具有由任意適當的樹脂所構成之基材薄膜；及設置在該基材薄膜的一面之黏著劑層之積層體，而且具有將該基材薄膜及該黏著劑層貫通之貫通孔。
作為基材薄膜的形成材料，可使用任意適當的形成材料。例如，可舉出聚對酞酸乙二酯系樹脂等的聚酯系樹脂、降莰烯系樹脂等的環烯烴系樹脂、聚乙烯、聚丙烯等的烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等共聚物樹脂等。在一實施形態，係以聚酯系樹脂(特別是聚對酞酸乙二酯系樹脂)為佳。只要是此種材料，當作為長條狀偏光薄膜積層體使用時，便具有彈性模數夠高且即便在搬運及/或貼合時施加張力貫通孔亦不容易產生變形之優點。
基材薄膜的厚度可設為任意適當的値。例如，因為作為長條狀偏光薄膜積層體使用時，具有即便在搬運及/或貼合時施加張力，貫通孔亦不容易產生變形之優點，所以基材薄膜的厚度亦可為30μm~150μm。在本發明之製造方法，即便使用較厚的基材薄膜時，亦能夠以高精確度形成所需要形狀之非偏光部。
基材薄膜的彈性模數係較佳為2.2kN/mm2 ~4.8kN/mm2 。只要基材薄膜的彈性模數為此種範圍，則在例如作為長條狀偏光薄膜積層體使用時，便具有即便在搬運及/或貼合時施加張力貫通孔亦不容易產生變形之優點。又，彈性模數係依據JIS K 6781而測定。
基材薄膜的拉伸伸長率宜為90%~170%。只要基材薄膜的拉伸伸長率為此種範圍，則例如作為長條狀偏光薄膜積層體使用時，便具有在搬運中不容易斷裂之優點。又，拉伸伸長率係依據JIS K 6781而測定。
作為構成黏著劑層之黏著劑，只要能夠得到本發明的效果，就能夠採用任意適當的黏著劑。作為黏著劑的基質樹脂，例如可舉出丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、矽酮系樹脂。從耐藥品性、用以防止浸漬時處理液的浸入之密著性、被黏著物的自由度等之觀點而言，係以丙烯酸系樹脂為佳。又，黏著劑亦可含有交聯劑，作為能夠在黏著劑含有的交聯劑，例如可舉出異氰酸酯化合物、環氧化合物、吖環丙烷化合物。黏著劑係例如亦可含有矽烷偶合劑。黏著劑的調配處方可按照目的適當地設定。
黏著劑層可使用任意適當的方法來得到。作為具體例，可舉出將黏著劑溶液塗佈在基材薄膜上且乾燥之方法，將黏著劑層形成在隔離膜上且將該黏著劑層轉印至基材薄膜之方法等。作為塗佈法，例如可舉出逆輥塗佈、凹版塗佈等的輥塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴流式塗佈(fountain coating)法、浸漬法、噴霧法。
黏著劑層的厚度，係以5μm~60μm為佳，較佳為5μm~30μm。厚度太薄時，黏著性變為不充分且有氣泡等進入黏著界面之情形。厚度太厚時容易產生黏著劑擠出等的不良。表面保護薄膜係與黏著劑層的積層體時，黏著劑層的厚度可與基材薄膜的厚度一併調整成為適當的範圍。
表面保護薄膜的貫通孔之俯視形狀，可按照目的採用任意適當的形狀。作為具體例，可舉出圓形、橢圓形、正方形、矩形、菱形。如上述，使用本發明之製造方法時，能夠以高精確度形成所需要形狀的非偏光部。因此，表面保護薄膜的貫通孔形狀，亦可為更複雜的形狀(例如星形)。
在一實施形態，表面保護薄膜的貫通孔亦可為較小的尺寸。例如設置圓形的貫通孔時，其直徑亦可為2.9mm以下。
表面保護薄膜的貫通孔，係例如能夠藉由機械的沖切(例如沖壓、彫刻刀刃沖切、繪圖機(plotter)、水刀)或除去表面保護薄膜的預定部分(例如雷射燒蝕(laser ablation)或化學溶解)來形成。
偏光薄膜積層體係如上述，亦可在未配置有上述表面保護薄膜之側進一步層積有其它表面保護薄膜(具體而言，係圖1的表面保護薄膜30)。其它表面保護薄膜可使用任意適當的形成材料來形成。例如亦可使用上述之表面保護薄膜的形成材料，亦可使用聚烯烴(例如，聚乙烯)等其它的樹脂。藉由使用其它表面保護薄膜，在使鹼性溶液接觸之步驟，能夠進一步適當地保護樹脂薄膜，結果能夠更良好地形成非偏光部。其它表面保護薄膜與上述表面保護薄膜同樣可透過任意適當的黏著劑而層積在偏光薄膜積層體(在圖示例為保護薄膜20)，亦可以基材薄膜與黏著劑層的積層體之方式提供。
(鹼性溶液的接觸) 藉由使鹼性溶液接觸樹脂薄膜(具體而言係露出部)，能夠將樹脂薄膜脱色且藉由該脱色而能夠形成非偏光部。如上述，作為含二色性物質之樹脂薄膜，宜使用含有碘之樹脂薄膜。含有碘作為二色性物質時，藉由使鹼性溶液接觸露出部，能夠使碘含量減低，就結果而言，能夠選擇地只有在露出部形成非偏光部。因此，不會帶來複雜的操作，而能夠以非常高的製造效率選擇地在樹脂薄膜之所需要的部分形成非偏光部。又，碘在非偏光部殘留時，即便將碘錯合物破壞而形成非偏光部，亦隨著偏光件的使用而再次形成碘錯合物且有成為不具有非偏光部所需要的特性之可能性。在本實施形態，因為碘本身的含量較低，所以相較於藉由雷射光等將碘錯合物分解而形成非偏光部的情況，能夠較良好地維持非偏光部的透明性。
針對使用鹼性溶液而形成非偏光部，更詳細地進行說明。接觸露出部後，鹼性溶液係滲透至露出部內部。在露出部所含有的碘錯合物，係被鹼性溶液所含有的鹼還原且成為碘離子。藉由碘錯合物被還原成為碘離子，露出部的偏光性能係實質上消失而在露出部形成非偏光部。又，藉由碘錯合物的還原，露出部的透射率提升。成為碘離子之碘，係從露出部往鹼性溶液的溶劑中移動。如此進行而選擇性地在樹脂薄膜的預定部分形成非偏光部，而且，該非偏光部係即便在加濕條件下亦安定。又，藉由調整表面保護薄膜的形成材料、厚度及機械特性、鹼性溶液濃度、以及使鹼性溶液接觸露出部之時間等，能夠防止鹼性溶液滲透至不需要的部分(就結果而言為不所需要的部分形成非偏光部)。
使鹼性溶液接觸露出部之步驟，可藉由任意適當的手段來進行。例如可舉出鹼性溶液的滴下、塗佈、噴霧、浸漬鹼性溶液等。如上述，藉由使用表面保護薄膜，因為二色性物質的含量在露出部以外的部分不減低，所以藉由浸漬在鹼性溶液，能夠只有在所需要的部分形成非偏光部。浸漬在鹼性溶液，較佳是如以下進行：使用在上述樹脂薄膜的一面層積有上述表面保護薄膜且在另一面層積有上述其它表面保護薄膜之長條狀偏光薄膜積層體，搬運該偏光薄膜積層體並浸漬於鹼性溶液。藉此，可在輥搬運下進行連續地處理，所以能夠低成本且高生產性地製造具有非偏光部之偏光件。但是，此時因脱色處理不良引起在非偏光部之透射率局部地變低，致使產生浮島狀缺點之風險提高時，如本發明藉由在要接觸時對露出部施行表面改質處理，及/或使露出部與該鹼性溶液的接觸角成為50度以下(特佳是接觸時對露出部施行表面改質處理)，能夠有效地減低該浮島狀缺點。
作為在上述鹼性溶液所含有的鹼性化合物，能夠使用任意適當的鹼性化合物。作為鹼性化合物，可舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰等鹼金屬的氫氧化物、氫氧化鈣等鹼土類金屬的氫氧化物、碳酸鈉等的無機鹼金屬鹽、乙酸鈉等的有機鹼金屬鹽、氨水等。在鹼性溶液所含有的鹼性化合物，較佳為鹼金屬的氫氧化物，更佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰。藉由使用含有鹼金屬的氫氧化物之鹼性溶液，能夠效率良好地將碘錯合物離子化且能夠更簡便地形成非偏光部。該等鹼性化合物係可以只使用1種、亦可組合2種以上而使用。
作為上述鹼性溶液的溶劑，能夠使用任意適當的溶劑。具體而言，可舉出水、乙醇、甲醇等的醇類、醚、苯、氯仿、及該等混合溶劑。因為二色性物質係良好地移行至溶劑，溶劑係以水、醇為佳。
上述鹼性溶液的濃度係例如0.01N~5N，以0.05N~3N為佳，較佳為0.1N~2.5N。鹼性溶液的濃度為此種範圍時，能夠效率良好地使二色性物質的含量減低且能夠防止在露出部以外的部分之二色性物質的含量減低。
上述鹼性溶液的液溫，係例如20℃~50℃。使鹼性溶液接觸露出部之時間，可按照樹脂薄膜的厚度、鹼性溶液中所含鹼性化合物種類、及鹼性溶液的濃度而設定，例如5秒鐘~30分鐘。
上述鹼性溶液係接觸露出部後(形成非偏光部後)，能夠按照必要使用任意適當的手段除去。作為鹼性溶液的除去方法之具體例，可舉出使用擦拭布(waste)等擦去、吸引除去、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥、洗淨等。藉由乾燥將鹼性溶液除去時之乾燥溫度，係例如20℃~100℃。
要進行上述接觸時，露出部業經施行表面改質處理。藉由被施行表面改質處理，鹼性溶液便容易濕潤擴大且能夠均勻地形成非偏光部。其結果，能夠以高精確度形成所需要形狀的非偏光部。而且，藉由施行表面改質處理，不必在鹼性溶液添加添加劑(例如，醇類等的有機溶劑)，而能夠以高精確度形成所需要形狀的非偏光部。其結果，能夠將添加劑(例如，有機溶劑)的排水設備省略。因而，從在製造設備之成本削減及環境顧慮的觀點而言，本發明之製造方法亦較佳。
對露出部之表面改質處理，可在任意適當的階段進行。樹脂薄膜的表面改質處理，係可對樹脂薄膜全體施行，亦可只有對所需要的部分(例如，相當於露出部之部分)施行。在一實施形態，表面改質處理係對露出部施行。具體而言係對被表面保護薄膜被覆之樹脂薄膜的露出部，施行表面改質處理。又，在另外的實施形態，表面改質處理係對樹脂薄膜全體施行。具體而言，被施行表面改質處理之樹脂薄膜係被表面保護薄膜被覆。就能夠容易地對所需要的部分施行表面改質處理而言，係以對被表面保護薄膜被覆之樹脂薄膜施行表面改質處理為佳。
作為表面改質處理方法，能夠使用任意適當的方法。例如可舉出電暈處理、電漿處理、真空UV照射、塗佈經使用任意適當的溶劑將矽烷偶合劑等的表面改質劑稀釋而成之稀釋液等。作為表面改質處理，係以電暈處理、塗佈表面改質劑的稀釋液為佳。
電暈處理可採用任意適當的條件來進行。例如，電暈放電電子照射量係較佳為10~500W/m2 /min，更佳為30~300W/m2 /min。
作為表面改質劑，能夠使用任意適當的表面改質劑。例如可舉出矽烷偶合劑等。作為矽烷偶合劑，例如可舉出具有選自由環氧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、胺基、異氰酸酯基、氫硫基所組成群組之至少1種官能基之有機矽烷化合物等。表面改質劑係可以只使用1種，亦可組合2種以上而使用。
具體而言，作為具有環氧基之有機矽烷化合物，例如可舉出2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷等。作為具有丙烯醯基之有機矽烷化合物，例如，可舉出3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等。作為具有甲基丙烯醯基之有機矽烷化合物，例如可舉出3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等。作為具有胺基之有機矽烷化合物，例如可舉出N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基-亞丁基)丙胺、N-苯基-3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-(乙烯基苄基)-2-胺乙基-3-胺丙基三甲氧基矽烷等。作為具有異氰酸酯基之有機矽烷化合物，例如可舉出3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基三甲氧基矽烷等。作為具有氫硫基之有機矽烷化合物，例如可舉出3-氫硫基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷偶合劑亦可使用市售品。作為市售品，可舉出信越化學工業公司製的「KBM系列」、「KBE系列」等。
作為溶劑，能夠使用任意適當的溶劑。例如使用矽烷偶合劑時，能夠適合使用水、甲醇、乙醇等。作為塗佈方法，能夠使用任意適當的方法。例如，逆輥塗佈、可舉出凹版塗佈等的輥塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴流式塗佈(fountain coating)法、浸漬法、噴霧法。
稀釋液中表面改質劑的含量，可設為任意適當的値。表面改質劑的含量，係例如相對於溶劑100重量份為0.1重量份~10重量份，較佳為1重量份~5重量份。藉由表面改質劑的含量為上述範圍內，露出部能夠具有適當的濕潤性。表面改質劑的含量太少時，有無法得到充分的表面改質效果之情形。又，表面改質劑的含量太多時，在所得到的偏光件之外觀有產生不良之情形。
在一實施形態，露出部與鹼性溶液的接觸角為50度以下。藉由接觸角為50度以下，能夠使鹼性溶液充分地接觸(遍及)至露出部的端部為止。露出部與鹼性溶液的接觸角，係以40度以下為佳，較佳為35度以下。藉由露出部與鹼性溶液的接觸角為此種範圍，露出部與鹼性溶液的親和性可更為提升且能夠使鹼性溶液更良好地接觸露出部。又，露出部與鹼性溶液的接觸角，可使用接觸角計且在25℃下採用液滴法來測定。
作為使露出部與鹼性溶液的接觸角成為50度以下之方法，可舉出任意適當的方法。例如，可舉出樹脂薄膜(例如，露出部)的表面改質、在鹼性溶液添加任意適當的添加劑等。該等方法係可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
針對樹脂薄膜的表面改質，係如上述設作表面改質處理之說明。
作為在鹼性溶液的添加劑，可使用任意適當的添加劑，例如可舉出界面活性劑等。作為界面活性劑，可舉出烷基硫酸酯鈉、烷基磺酸鈉等的陰離子性界面活性劑、氯化烷基三甲銨、氯化二烷基二甲基銨等的陽離子性界面活性劑、聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基山梨糖醇酐脂肪酸酯等的非離子性界面活性劑、及兩離子性界面活性劑等。較佳為氯化硬脂醯基三甲銨、氯化鯨蠟基三甲銨。藉由使用該等界面活性劑，能夠更良好地使接觸角減小。界面活性劑係可只有使用1種，亦可組合2種以上而使用。
添加劑在鹼性溶液之添加量，可以使接觸角成為50度以下的方式設定為任意適當的値。添加量係相對於鹼性溶液的溶劑100重量份，例如0.1重量份~10重量份，較佳為0.5重量份~3重量份。添加量太少時，有無法使接觸角充分地較小之情形。添加量太多時，在所得到的偏光件之外觀有產生不良的情形。
(其它步驟) 本發明的偏光件之製造方法，係除了使鹼性溶液接觸露出部的步驟以外，亦可進一步包含任意適當的步驟。作為其它步驟，例如可舉出使其接觸酸性溶液之步驟、洗淨步驟等。
本發明之製造方法，亦可進一步包含使其接觸酸性溶液之步驟。藉由進一步包含使其接觸酸性溶液之步驟，即便在加濕條件下，亦能夠穩定地維持所需要的尺寸之非偏光部。使其接觸酸性溶液之步驟，例如能夠在使其接觸鹼性溶液之步驟後進行。
作為在酸性溶液所含有的酸性化合物，能夠使用任意適當的酸性化合物。作為酸性化合物，例如可舉出鹽酸、硫酸、硝酸、氟化氫等的無機酸、甲酸、草酸、檸檬酸、乙酸、苯甲酸等的有機酸等。酸性溶液的濃度係例如0.01N~5N，以0.05N~3N為佳，較佳為0.1N~2.5N。
針對在酸性溶液所使用的溶劑、酸性溶液之液溫、與酸性溶液的接觸時間、及接觸方法，可採用與上述接觸鹼性溶液之步驟中採用的條件同樣的條件。
本發明之製造方法，亦可進一步包含洗淨步驟。洗淨步驟係可只有進行1次，亦可進行複數次。洗淨步驟可在偏光件的製造步驟之任意適當的階段進行。例如，可以在使用任意適當的液體將使其接觸鹼性溶液後的樹脂薄膜洗淨之後，使其接觸酸性溶液；亦可以在進行使其接觸鹼性溶液之步驟及使其接觸酸性溶液之後，使用任意適當的液體進行洗淨步驟。
作為在洗淨所使用的液體，可使用任意適當的液體。例如，可舉出純水、甲醇、乙醇等的醇類、酸性水溶液、及該等混合溶劑等。又，所使用的液體之溫度可設定為任意適當的溫度。
B.具有非偏光部之偏光件 使用本發明的方法所得到的偏光件，能以高精確度形成具有所需形狀及尺寸之非偏光部。因此本發明的偏光件可具有優異的功能性及設計性。
具有非偏光部之偏光件，係例如能夠應用在具備照相機之影像顯示裝置。即便形成有較小尺寸的非偏光部之情況，照相機亦能夠充分地發揮拍攝功能，又，因為所得到的影像顯示裝置，亦能夠具有優異的外觀。
在一實施形態，非偏光部為圓形且其直徑為2.9mm以下。本發明的偏光件，係即便具有、此種較小尺寸的非偏光部之情況，亦能夠以高精確度形成所需要的形狀。
非偏光部為圓形時，非偏光部的真圓度係以0.060mm以下為佳，以0.030mm以下為較佳。真圓度為上述的範圍內時，非偏光部係較接近真圓且能夠以高精確度形。因此，例如即便被要求較小的非偏光部作為照相機部分之情況，亦能夠防止伴隨著脱色不充分引起照相機性能低落。上述真圓度，係指相對於所測定的非偏光部之形狀，以同心外接偏差的平方和成為最小的圓之圓、與內接之圓的半徑之差(採用最小平方中心法之真圓度)。
非偏光部的俯視形狀，係只要不對影像顯示裝置的照相機性能造成不良影響時，就能夠採用、任意適當的形狀。又，非偏光部的透射率(例如在23℃使用波長550nm的光線所測得的透射率)，係以50%以上為佳，較佳為60%以上，更佳為75%以上，特佳為90%以上。此種透射率時，能夠確保作為非偏光部所需要的透明性。其結果，以非偏光部為對應影像顯示裝置的照相機部之方式配置偏光件時，能夠防止對照相機的拍攝性能造成不良影響。
非偏光部係較佳是能夠顯著抑制產生浮島狀缺點，更佳是實質上不含有為浮島狀缺點。所謂浮島狀缺點，係指在非偏光部起因於脱色不良之透射率較低的部分。非偏光部係每1像素(代表性為5μm×5μm)所測得的相對透射率之中，最小相對透射率為例如60.0%以上，較佳為65.0%以上。又，在非偏光部之浮島狀缺點的產生率係例如0.8%以下。在此，所謂相對透射率，係指將脱色部分(非偏光部)的平均亮度設為100%，將非脱色部分(非偏光部以外的部分)的平均亮度設為0%，256階調的灰階(gray scale)表示非偏光部且換算成為透射率。為了抑制浮島狀缺點，表面改質處理係有效的，而且電暈處理能夠特別有效。
C.偏光板 偏光件係實用上能夠提供作為偏光板。偏光板係具有：偏光件；及配置在偏光件的至少一側之保護薄膜。在實用上，偏光板係具有黏著劑層作為最外層。典型上，黏著劑層為影像顯示裝置側的最外層。可於黏著劑層上呈可剝離地暫時黏附隔離膜。
作為保護薄膜的形成材料，例如可舉出二乙酸纖維素、三乙酸纖維素等的纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環烯烴系樹脂、聚丙烯等的烯烴系樹脂、聚對酞酸乙二酯系樹脂等的酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等共聚物樹脂等。保護薄膜的厚度，係較佳為10μm~100μm。保護薄膜係以透過接著層(具體而言，係接著劑層、黏著劑層)層積在偏光件上為代表。接著劑層係以由PVA系接著劑和活性能量線硬化型接著劑形成為代表。黏著劑層則以由丙烯酸系黏著劑形成為代表。
偏光板亦可按照目的而進一步具有任意適當的光學功能層。作為光學功能層的代表例，可舉出相位差膜(光學補償膜)、表面處理層。又，上述保護薄膜亦可具有光學補償功能(具體而言，亦可按照目的而具有適當的折射率橢圓體、面內相位差及厚度方向相位差)。
表面處理層可配置在偏光板的視認側。作為表面處理層之代表例，可舉出硬塗層、抗反射層、抗眩層。
D.影像顯示裝置 本發明的影像顯示裝置係具備上述偏光件。作為影像顯示裝置，例如可舉出液晶顯示裝置、有機EL組件。具體而言，液晶顯示裝置係具備液晶面板，該液晶面板係包含：液晶胞；及配置在該液晶胞的一側或兩側之述偏光件。有機EL組件係在視認側具備配置有上述偏光件之有機EL面板。偏光件可以對應搭載非偏光部之影像顯示裝置的照相機部之方式配置。 實施例
以下，藉由實施例而具體地說明本發明，但是本發明係不被該等實施例不被限定。又，在本實施例所使用之評價方法係如以下。 [真圓度] 使用最小平方中心法測定真圓度。測定係使用超高速撓性影像處理系統(KEYENCE公司製、商品名：XG-7500)。將偏光件的非偏光部使用照相機(測定距離：250mm、測定角：90°)進行攝像。從所攝影像進行邊緣檢測且描繪圓(以下，亦稱為非偏光部近似圓)。其次，使用最小平方法而算出接觸非偏光部近似圓之真圓(內接圓及外接圓)、以及其中心。測定從所算出的各真圓之中心至非偏光部近似圓的周圍為止之距離(具體而言係半徑)，且算出該距離成為最大的部分與成為最小的部分之差(真圓度)。真圓度為0.060mm以下時，能夠適合使用在影像顯示裝置等的用途。 [在非偏光部之最小相對透射率(浮島狀缺點的評價)] 使用在上述真圓度測定所算出之圓的中心･最小半徑而描繪內接圓。其次，將偏光件部分的平均亮度値定義為0%，在內接圓內之平均亮度値定義為100%，每1像素(約5μm×約5μm)求取內接圓內的亮度値且算出相對透射率。將在內接圓內之最低相對透射率定義為最小相對透射率。代表性之最小透射率小於60.0%時，能夠將該部分認定為浮島狀缺點。
[實施例1] 使用蝕刻刀(pinnacle)刀刃在附黏著劑的樹脂薄膜(PET樹脂薄膜、厚度38μm、黏著劑層的厚度：5μm)設置直徑1.9mm的圓形貫通孔，而得到具有貫通孔之表面保護薄膜。將所得到的表面保護薄膜，透過黏著劑層而貼合在總厚30μm之偏光板(偏光件(透射率42.3%、厚度5μm)/保護薄膜(厚度25μm))的偏光件側表面，而得到偏光薄膜積層體。 在所得到的偏光薄膜積層體之露出部，使用桌台式電暈處理裝置(春日電氣製)進行電暈放電處理(電暈放電電子照射量：100W/m2 /min)。電暈放電處理後，藉由液滴法且使用接觸角計(協和界面科學製)測定露出部與水的接觸角。所測得的接觸角之値為28度。 其次，將常溫的鹼性溶液(氫氧化鈉水溶液、0.1mol/L(0.1N))滴下至偏光薄膜積層體的露出部且放置1分鐘。其次，使用擦拭布除去滴下的氫氧化鈉水溶液，而得到具有非偏光部之偏光件。測定所得到的偏光件之非偏光部的真圓度及最小相對透射率。將結果顯示在表1。而且，將顯示非偏光部狀態之影像顯示在圖2。
[實施例2] 將矽烷偶合劑(信越化學公司製、商品名：KBM-303)1重量份與溶劑(乙醇)99重量份混合而得到稀釋液。除了將所得到的稀釋液塗佈在露出部且乾燥來代替電暈處理以外，係與實施例1同樣地進行而得到具有非偏光部之偏光件。塗佈稀釋液且乾燥後，係藉由液滴法且使用接觸角計(協和界面科學製)測定露出部與水的接觸角。所測得的接觸角之値為45度。 測定所得到的偏光件之非偏光部的真圓度及最小相對透射率。將結果顯示在表1。而且，將顯示非偏光部狀態之影像顯示在圖2。
[實施例3] 使用蝕刻刀刃在長條狀之附黏著劑的樹脂薄膜(PET樹脂薄膜、厚度38μm、黏著劑層的厚度：5μm)設置直徑2.8mm的圓形貫通孔，而得到具有貫通孔之表面保護薄膜。又，直接用上述長條狀之附黏著劑的樹脂薄膜，作為其它表面保護薄膜。藉由捲對捲，在總厚30μm之長條狀偏光板(偏光件(透射率42.3%、厚度5μm)/保護薄膜(厚度25μm))之偏光件側表面貼合上述表面保護薄膜，及在偏光板的保護薄膜側表面貼合上述其它表面保護薄膜貼合，而得到長條狀的偏光薄膜積層體。 在搬運所得到的長條狀偏光薄膜積層體的同時，使用電暈處理裝置(春日電氣製)對該偏光薄膜積層體之露出部進行電暈放電處理(電暈放電電子照射量：120W/m2 /min)。電暈放電處理後，藉由液滴法且使用接觸角計(協和界面科學製)測定露出部與水的接觸角。所測得的接觸角之値為32度。 其次，搬運使附黏著劑之樹脂薄膜朝向下側的偏光薄膜積層體，並浸漬於常溫的鹼性溶液(氫氧化鈉水溶液、2mol/L(2N))中15秒鐘。其次，將附著的氫氧化鈉水溶液洗淨･乾燥，而得到具有非偏光部之偏光件。測定所得到的偏光件之非偏光部的真圓度及最小相對透射率。將結果顯示在表1。而且，將顯示非偏光部狀態之影像顯示在圖2。 又，針對53支捲材(長條狀偏光薄膜積層體)在相同條件下連續生產時之不良率併同比較例2的結果一起顯示在圖3。又，將真圓度0.040mm以上或最小相對透射率小於60.0%者判定為不良。
[比較例1] 除了不對露出部進行表面改質處理以外，係與實施例1同樣地進行而得到具有非偏光部之偏光件。未處理的露出部與水的接觸角為62度。 測定所得到的偏光件之非偏光部的真圓度及最小相對透射率。將結果顯示在表1。而且，將顯示非偏光部的狀態之影像顯示在圖2。
[比較例2] 除了不對露出部進行表面改質處理以外，係與實施例3同樣地進行而得到具有非偏光部之偏光件。未處理的露出部與水的接觸角為63度。 測定所得到的偏光件之非偏光部的真圓度及最小相對透射率。將結果顯示在表1。而且，將顯示非偏光部的狀態之影像顯示在圖2。 又，針對14支捲材(長條狀偏光薄膜積層體)在相同條件下連續生產時之不良率併同實施例3的結果一起顯示在圖3。
[表1]
  接觸角(∘) 真圓度(mm) 最小相對透射率(%)
實施例1 28 0.014 72.4
實施例2 45 0.008 65.2
實施例3 32 0.014 74.3
比較例1 62 0.087 73.4
比較例2 63 0.015 5.6
從表1能夠清楚明白，得知使用本發明的實施例之製造方法時，能夠得到具有真圓度及最小相對透射率(浮島狀缺點)的任一者均優異之非偏光部。具體而言，對露出部施行表面改質處理且進行與鹼性溶液的接觸步驟之實施例1及2，係儘管非偏光部為直徑1.9mm之小尺寸，但是能夠以較高的精確度形成所需要的非偏光部。另一方面，不進行表面改質處理而進行與鹼性溶液的接觸步驟之比較例1，係非偏光部的形狀變形而有改善的餘地。而且，將實施例3與比較例2進行比較時能夠清楚明白，得知藉由施行表面改質處理，能夠抑制浮島狀缺點且不良率顯著地減少。 產業上之利用可能性
本發明的偏光件適合使用在智慧型手機等行動電話、筆記型PC、平板PC等附照相機的影像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL組件)。
10:樹脂薄膜 20:保護薄膜 30:表面保護薄膜 50:表面保護薄膜 51:露出部 61:貫通孔 100:偏光薄膜積層體
圖1係在本發明一實施形態所使用的偏光薄膜積層體之概略剖面圖。 圖2係顯示在實施例1~3及比較例1~2所得偏光件之非偏光部狀態的影像。 圖3係將實施例3與比較例2的不良率產生程度進行比較而顯示之圖表。
10:樹脂薄膜
20:保護薄膜
30:表面保護薄膜
50:表面保護薄膜
51:露出部
61:貫通孔
100:偏光薄膜積層體

Claims (5)

  1. 一種偏光件之製造方法，係包含在含二色性物質之樹脂薄膜以至少一部分露出之方式被表面保護薄膜被覆之狀態下，使鹼性溶液接觸該露出部； 並且，該露出部與該鹼性溶液的接觸角為50度以下。
  2. 如請求項1之偏光件之製造方法，其中前述鹼性溶液進一步含有添加劑。
  3. 如請求項1或2之偏光件之製造方法，其中前述接觸係在前述樹脂薄膜之與前述表面保護薄膜為相反側的面被另一表面保護薄膜被覆之狀態下，搬運該樹脂薄膜同時浸漬於前述鹼性溶液來進行。
  4. 一種偏光件，係具有呈圓形且直徑為2.9mm以下之非偏光部。
  5. 如請求項4之偏光件，其中前述非偏光部的真圓度為0.060mm以下。
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