TW202037228A - 紫外線照射單元以及紫外線照射裝置 - Google Patents

Abstract

本發明能夠提高散熱性。本發明實施方式的紫外線照射單元包括光源部、冷卻塊、光學構件及光學構件殼體。光源部安裝排列在基板前表面的多個發光元件。冷卻塊配置在基板的背面，內部具有供流體流通的流路。光學構件相對於多個發光元件而設置間隔地配置在基板的前表面側。光學構件殼體具有收容光學構件的收容部與覆蓋光源部周圍的周壁部，且與冷卻塊熱連接。

Description

紫外線照射單元以及紫外線照射裝置

本發明的實施方式涉及一種紫外線照射單元（unit）以及紫外線照射裝置。

以往，已知有在液晶面板的製造、或者油墨（ink）或粘合材的固化等各種工業領域中使用的紫外線照射裝置。在紫外線照射裝置中，設有散熱機構，所述散熱機構用於抑制作為光源的發光元件的過熱。 [現有技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利特開2009-61702號公報

[發明所要解決的問題]

在如上所述的紫外線照射裝置中，期望散熱性的進一步提高。

本發明所要解決的問題在於提供一種能夠提高散熱性的紫外線照射單元以及紫外線照射裝置。 [解決問題的技術手段]

實施方式的紫外線照射單元包括光源部、冷卻塊、光學構件及光學構件殼體。光源部安裝有排列在基板前表面的多個發光元件。冷卻塊配置在基板的背面，內部具有供流體流通的流路。光學構件相對於多個發光元件而設置間隔地配置在基板的前表面側。光學構件殼體具有收容光學構件的收容部與覆蓋光源部周圍的周壁部，且與冷卻塊熱連接。 [發明的效果]

根據本發明，能夠提高散熱性。

以下說明的實施方式的紫外線照射單元1包括光源部13、冷卻塊10、光學構件35及光學構件殼體30。光源部13安裝排列在基板11前表面的多個發光元件12。冷卻塊10配置在基板11的背面，內部具有供流體流通的流路14。光學構件35相對於多個發光元件12而設置間隔地配置於基板11的前表面側。光學構件殼體30具有收容光學構件35的收容部32與覆蓋光源部13周圍的周壁部31，且與冷卻塊10熱連接。

而且，以下說明的實施方式的冷卻塊10具有流入流路及排出流路，所述流入流路及排出流路連通至冷卻塊10的跟前表面10a為相反側的背面10d。

而且，以下說明的實施方式中，當將相鄰的發光元件12彼此的間隔設為A[mm]時，從位於基板11端部的發光元件12的端部直至冷卻塊10的端部10b為止的尺寸B[mm]為A/2≦B≦6。

而且，以下說明的實施方式的紫外線照射單元1包括沿著多個發光元件12的排列方向而配置的多個照射單元1-1～照射單元1-5。多個照射單元1-1～照射單元1-5包含彼此相鄰的第一照射單元及第二照射單元。當將相鄰的發光元件12彼此的間隔設為A[mm]時，第一照射單元的位於第二照射單元側端部的發光元件12的端部與第二照射單元的位於第一照射單元側端部的發光元件12的端部之間的尺寸C[mm]為A≦C≦12。

而且，以下說明的實施方式的光學構件殼體30具有使內外連通的連通口。

而且，以下說明的實施方式的紫外線照射單元1包括換氣機構70，所述換氣機構70經由連通口而使光學構件殼體30的內外換氣。

而且，以下說明的實施方式的紫外線照射裝置100包括多個照射單元1-1A～照射單元1-1C，所述多個照射單元1-1A～照射單元1-1C以多個發光元件12與被照射體60的距離相等的方式而呈放射狀地排列。

以下，基於附圖來說明本發明的實施方式。另外，以下所示的實施方式並不限定本發明所公開的技術。

[第一實施方式]（紫外線照射單元） 圖1、圖2是表示第一實施方式的紫外線照射單元的正面圖及平面圖。圖3是圖2的III-III剖面圖。如圖1～圖3所示，第一實施方式的紫外線照射單元1具有光源部13、冷卻塊10、光學構件殼體30、光學構件35。

另外，為了便於理解說明，圖1～圖3中圖示了包含將照射方向作為正方向的Z軸的三維正交座標系。所述正交座標系在後文的說明中所用的其他附圖中也示出。

光源部13具有基板11與多個發光元件12。基板11例如由陶瓷形成長條狀的基材，例如在基材上設有由銀等形成為所需的圖案狀的未圖示的印刷配線。在基板11的前表面11a，與印刷配線電連接地設有多個發光元件12。多個發光元件12沿著基板11的長邊方向（X軸方向）而排列成一列。

而且，雖未圖示，但在基板11中，對於除了連接發光元件12的連接端子和從電源裝置供給電力的電源端子以外的區域，為了確保絕緣性並防止腐蝕，而由包覆膜予以覆蓋。包覆膜例如是由以玻璃材等為主成分的無機材料所形成。另外，根據需要，基板11也可由具有相對較高的反射率的白色的氧化鋁所形成，以提高對發光元件12發出的光進行反射的反射性。而且，基板11也可由具有相對較高的導熱性的氮化鋁所形成，以確保高導熱性。

對於發光元件12，使用發出紫外線的發光二極體（Light Emitting Diode，LED）或半導體鐳射（Laser Diode，LD）。發光元件12例如發出將波長300nm～400nm左右作為主波長且峰值（peak）波長為365nm的紫外線。

而且，實施方式中所述的“紫外線”是指波長450nm以下的波長的光，具體而言，發光元件12發出的波長365nm的光，但也容許其他波長的光。而且，發光元件12並不限定於放射波長450nm以下的光的LED或LD，例如也可為不僅放射波長450nm以下的光，而且放射較波長450nm為長波長側的光的LED或LD。即，只要是放射波長450nm以下的光的LED或LD，則其發光形式不受限定。

冷卻塊10形成為長方體狀，且配置在基板11的背面11b。對於冷卻塊10，例如使用鋁、鋁合金、不銹鋼等。此處，使用圖4來說明發光元件12的排列。圖4是用於說明發光元件的排列的圖。當將相鄰的發光元件12彼此的間隔設為A[mm]時，從位於基板11端部的發光元件12的端部直至冷卻塊10的端部10b為止的尺寸B[mm]為A/2≦B≦6。通過像這樣使發光元件12排列，例如能夠將在紫外線照射單元1的旁邊排列配置有其他紫外線照射單元1時的各紫外線照射單元1間的照度下降抑制為最低限，能夠將長邊方向的光量均勻度抑制為規定值以下例如15[%]以下。此處，均勻度[%]是在長邊方向上的多個任意的測定部位測定任意波長的照度[mW/cm² ]，並將最高照度值定義為Max[mW/cm² ]、最低照度值定義為min[mW/cm² ]時，以均勻度[%]=（Max-min）/（Max+min）×100[%]來表示的數值。若均勻度的值接近0[%]，則表示在一定範圍中，波長的照度變得均勻，因此在一定範圍中，照射有更均勻的光。而且，間隔A[mm]例如能夠設為5[mm]。另外，對於排列配置有多個紫外線照射單元1的示例，將使用圖9、圖10而後述。

返回圖1～圖3的說明，進一步作說明。冷卻塊10具有流路14～流路16。冷卻塊10通過使流體在流路14～流路16中流通，從而作為所謂的液冷塊發揮功能，能夠使經由基板11而從發光元件12傳遞的熱迅速散發。另外，流體例如為水。而且，作為流體，例如也可使用液氮或防凍液等液體、或者乾燥空氣或氮等氣體。

流路14是沿X軸方向貫穿冷卻塊10的貫穿孔。流路14被配置在基板11的背面11b側，且以在俯視時與發光元件12的排列重合的方式而配置。而且，流路15、流路16是以一端在冷卻塊10的背面10d開口，另一端連通於流路14的方式，沿著Z軸而形成。流路15是偏靠冷卻塊10的X軸負方向而配置，流路16是偏靠冷卻塊10的X軸正方向而配置。

而且，在流路14的兩端，插入有密封構件18、密封構件19，對流體朝向流路14兩端的洩漏進行密封。由此，流路15、流路16中，其中一者作為使流體流入流路14的流入流路，另一者作為將在流路14中流通的流體排出至冷卻塊10外部的排出流路，流路15、流路14、流路16形成依序連通的一連串流路。另外，在冷卻塊10的背面10d開口的流路15、流路16，也可設有連接構件17a、連接構件17b，所述連接構件17a、連接構件17b用於使此處未圖示的配管與流路15、流路16的連接變得容易。而且，設置流路14、流路15、流路16時的形態例如構成為，從冷卻塊10的流路14的兩端通過切削加工而以貫穿冷卻塊10的方式設置流路14後，利用密封構件18、密封構件19予以密封，但並不限定於此。例如，也可通過切削加工來使流路14、流路15、流路16由連續且一體的配管構成的流路塊的半體合體而構成，還可為下述結構，即，儘管流路14、流路15、流路16為連續且一體的配管，但在構成流路14的配管內能夠配置基板11。

光學構件殼體30是配置在冷卻塊10的前表面10a側。光學構件殼體30是使從發光元件12放射的紫外線經由光學構件35而朝規定方向出射的筒狀構件。對於光學構件殼體30，例如使用鋁、鋁合金、不銹鋼等。

光學構件殼體30具有周壁部31與收容部32。周壁部31覆蓋光源部13的周圍，防止從紫外線照射單元1的外部入射的光或者從發光元件12發出的紫外線的洩漏。收容部32具有保持光學構件35的保持部32a，收容一個或多個光學構件35。

光學構件殼體30通過Z軸正方向側的端面30a使用例如螺栓（bolt）等固定化構件來以面接觸的方式跟冷卻塊10的前表面10a固定，從而與冷卻塊10熱連接。另外，所謂“熱連接”，並不限於直接連接的形態，例如也可為經由散熱薄膜（film）等構件而間接連接的形態。

光學構件35是相對於多個發光元件12而設置間隔地配置於基板11的前表面側。對於光學構件35，例如使用丙烯酸樹脂或矽酮樹脂、石英玻璃等透光性材料。光學構件35例如是入射側及出射側均為凸的雙凸柱透鏡（cylindrical lens），使從發光元件12放射的紫外線聚光並出射。另外，光學構件35的數量並不限於圖示者，也可為一個或三個以上。而且，光學構件35的形狀能夠設為與所出射的紫外線的用途相應者，例如也可為平凸透鏡。而且，光學構件35並不限定於柱透鏡，例如也可為與多個發光元件12各自的光軸對應地形成的複眼透鏡（fly eye lens）。

光學構件35對應於入射的紫外線的強度而發熱。來自光學構件35的熱經由保持部32a而傳至光學構件殼體30並得以散發，但僅僅依靠來自光學構件殼體30的散熱，未必可以說是足夠的，可能成為光學構件35劣化的原因。

因此，實施方式的紫外線照射單元1中，光學構件殼體30與冷卻塊10熱連接。即，實施方式的紫外線照射單元1中，不僅發光元件12產生的熱，而且因紫外線的照射而光學構件35所產生的熱也經由光學構件殼體30而快速傳至冷卻塊10並得以散發。因此，能夠提高散熱性。

（紫外線照射裝置） 圖5是表示第一實施方式的紫外線照射裝置的側面圖。圖5所示的紫外線照射裝置100包括多個照射單元1-1A～照射單元1-1C，所述多個照射單元1-1A～照射單元1-1C是以多個發光元件12與被照射體60的距離相等的方式呈放射狀地排列。照射單元1-1A～照射單元1-1C分別為紫外線照射單元1。通過像這樣使用多個照射單元1-1A～照射單元1-1C，能夠提高對被照射體60照射的紫外線的光量。另外，紫外線照射裝置100所具有的紫外線照射單元1的數量並不限於圖示者，也可為兩個或四個以上。

[第一實施方式的變形例] 圖6是表示第一實施方式的變形例的紫外線照射單元的剖面圖。圖6所示的紫外線照射單元1A中，通過沿冷卻塊10側設置光學構件殼體30的周壁部31，從而將冷卻塊10收容於光學構件殼體30中。換言之，冷卻塊10與光學構件殼體30成為一體地設置並熱連接。在此種變形例的紫外線照射單元1A中，光學構件35所產生的熱也經由光學構件殼體30而快速傳至冷卻塊10並得以散發。因此，能夠提高散熱性。而且，變形例的紫外線照射單元1A中，光學構件殼體30收容冷卻塊10並一體地設置，因此與分離地設置冷卻塊10和光學構件殼體30的情況相比，能夠容易地達成光學構件35的光軸等的對位，因此能夠在紫外線照射單元間抑制照度值或照度分佈的偏差。

[第二實施方式] 圖7是表示第二實施方式的紫外線照射單元的正面圖。圖7所示的紫外線照射單元1B還包括作為使光學構件殼體30的內外連通的連通口的第一通氣口33、第二通氣口34，除此以外，具有與第一實施方式的紫外線照射單元1相同的結構。

如上所述，因多個發光元件12產生的熱，在發光元件12及其附近與冷卻塊10之間產生溫度差，由此，發光元件12容易結露。而且，因多個發光元件12出射的紫外線，收容於光學構件殼體30的光學構件35及其附近的溫度、設有多個光學構件35時為多個光學構件35間附近的溫度容易上升。

因此，紫外線照射單元1B在位於發光元件12附近的光學構件殼體30的周壁部31具有第一通氣口33，在位於光學構件35附近的光學構件殼體30的收容部32具有第二通氣口34。由此，第一通氣口33能夠將滯留於發光元件12附近的熱以及滯留於光學構件35附近的熱，第二通氣口34能夠將滯留於光學構件35附近的熱，排出至光學構件殼體30的外部，因此能夠防止發光元件12的結露或者更快速地冷卻光學構件35。另外，第一通氣口33及第二通氣口34的數量及形狀可考慮從發光元件12出射的紫外線的洩漏來配置。

而且，圖7所示的示例中，第二通氣口34表示為沿光學構件殼體30的高度方向排列的兩列第二通氣口34-1、第二通氣口34-2，但並不限於此，也可為一列或三列以上。而且，圖7所示的示例中，是將第二通氣口34-1、第二通氣口34-2設於光學構件35、光學構件35間，但並不限於此，例如也可設在光學構件35的發光元件12側附近。進而，圖7所示的示例中，表示了具有第一通氣口33及第二通氣口34這兩者的結構，但也可不具有第一通氣口33而僅具有第二通氣口34，還可不具有第二通氣口34而僅具有第一通氣口33。

[第三實施方式] 圖8是表示第三實施方式的紫外線照射單元的正面圖。圖8所示的紫外線照射單元1C還包括換氣機構70，除此以外，具有與第二實施方式的紫外線照射單元1B相同的結構。

換氣機構70例如為風扇（fan）或鼓風機（blower）。換氣機構70朝向作為連通口的第一通氣口33及第二通氣口34送風，由此，能夠使光學構件殼體30的內外強制性地換氣，並且能夠對多個發光元件12及光學構件35進行冷卻。由此，能夠進一步提高散熱性，例如能夠期待發光元件12的發光效率的提高或者伴隨經時劣化降低的長壽命化。另外，作為換氣機構70，也可適用抽吸器，所述抽吸器通過從第一通氣口33及第二通氣口34進行抽吸來使光學構件殼體30的內外強制性地換氣。

[第四實施方式] 圖9是表示第四實施方式的紫外線照射單元的正面圖。圖9所示的紫外線照射單元1D包括沿著多個發光元件12的排列方向（X軸方向）而配置的多個照射單元1-1～照射單元1-5。多個照射單元1-1～照射單元1-5分別為第一實施方式的紫外線照射單元1。通過像這樣配置多個照射單元1-1～照射單元1-5，無須變更紫外線照射單元1的尺寸，便能夠以與用途相應的長度來配置多個發光元件12。

而且，用於使用來對照射單元1-1～照射單元1-5進行冷卻的流體流入及排出的開口是配置在冷卻塊10的上部，因此容易將多個照射單元1-1～照射單元1-5予以連結或靠近地配置。

接下來，對用於使流體流通的配管的連接例進行說明。照射單元1-1中，連接構件17a及接頭構件40經由配管20而連結，連接構件17b及接頭構件45經由配管25而連結。而且，照射單元1-2中，連接構件17a及接頭構件41經由配管21而連結，連接構件17b及接頭構件46經由配管26而連結。同樣地，照射單元1-3～照射單元1-5中，連接構件17a及接頭構件42～接頭構件44分別經由配管22～配管24而連結，連接構件17b及接頭構件47～接頭構件49分別經由配管27～配管29而連結。

在使流體並列地流通的情況下，例如只要將接頭構件40～接頭構件44、接頭構件45～接頭構件49分別經由未圖示的單管或歧管而連結即可。而且，在使流體串列地流通的情況下，例如只要將相鄰的接頭構件45及接頭構件41、接頭構件46及接頭構件42、接頭構件47及接頭構件43、接頭構件48及接頭構件44分別經由未圖示的單管而連結即可。進而，在照射單元1-1～照射單元1-5中，也可使流體分別獨立地流通。如圖9所示，通過配置連接構件17a、連接構件17b（流路15、流路16（參照圖1、圖2）），能夠自由變更流體的流通路徑，設計的自由度提高。即，紫外線照射單元1D所具有的照射單元的數量並不限於圖示者。

此處，使用圖10來說明彼此相鄰的第一照射單元及第二照射單元間的發光元件12的排列。圖10是用於說明發光元件的排列的圖。此處，舉下述情況為例來進行說明，即，配置有照射單元1-1來作為第一照射單元，且配置有照射單元1-2來作為第二照射單元。

當將相鄰的發光元件12彼此的間隔設為A[mm]時，照射單元1-1中的位於照射單元1-2側端部的發光元件12的端部、與照射單元1-2中的位於照射單元1-1側端部的發光元件12的端部之間的尺寸C[mm]為A≦C≦12。通過像這樣使發光元件12排列，能夠將相鄰的各照射單元間的照度下降抑制為最低限，能夠將長邊方向的光量均勻度抑制為規定值以下例如15[%]以下。另外，照射單元1-1所具有的冷卻塊10的照射單元1-2側的端部10b、與照射單元1-2所具有的冷卻塊10的照射單元1-1側的端部10c既可彼此接觸，也可隔開。

如上所述，實施方式的紫外線照射單元1包括光源部13、冷卻塊10、光學構件35及光學構件殼體30。光源部13安裝排列在基板11前表面的多個發光元件12。冷卻塊10配置在基板11的背面，內部具有供流體流通的流路14。光學構件35是相對於多個發光元件12而設置間隔地配置於基板11的前表面側。光學構件殼體30具有收容光學構件35的收容部32、及覆蓋光源部13周圍的周壁部31，且與冷卻塊10熱連接。由此，能夠提高散熱性。

而且，實施方式的冷卻塊10具有流入流路及排出流路，所述流入流路及排出流路的一端以在俯視時與多個發光元件12的排列重合的方式而在面向基板11的冷卻塊10的跟前表面10a為相反側的背面10d開口，另一端分別連通於流路14的兩端部。由此，容易將多個紫外線照射單元1予以連結或靠近地配置。而且，能夠自由變更流體的流通路徑，設計的自由度提高。

而且，實施方式中，當將相鄰的發光元件12彼此的間隔設為A[mm]時，從位於基板11端部的發光元件12的端部直至冷卻塊10的端部10b為止的尺寸B[mm]為A/2≦B≦6。由此，能夠將排列配置有多個紫外線照射單元1時的各紫外線照射單元1間的照度下降抑制為最低限。

而且，實施方式的紫外線照射單元1包括沿著多個發光元件12的排列方向而配置的多個照射單元1-1～照射單元1-5。多個照射單元1-1～照射單元1-5包含彼此相鄰的第一照射單元及第二照射單元。當將相鄰的發光元件12彼此的間隔設為A[mm]時，第一照射單元的位於第二照射單元側端部的發光元件12的端部與第二照射單元的位於第一照射單元側端部的發光元件12的端部之間的尺寸C[mm]為A≦C≦12。由此，能夠將相鄰的各照射單元間的照度下降抑制為最低限。

而且，實施方式的光學構件殼體30具有使內外連通的連通口。由此，能夠將滯留在光學構件殼體30內部的熱排出至光學構件殼體30的外部。

而且，實施方式的紫外線照射單元1具備經由連通口來使光學構件殼體30的內外換氣的換氣機構70。由此，能夠進一步提高散熱性。

而且，實施方式的紫外線照射裝置100具備以多個發光元件12與被照射體60的距離相等的方式而呈放射狀地排列的多個照射單元1-1A～照射單元1-1C。由此，能夠提高紫外線的光量。

另外，所述的各實施方式中，對發光元件12沿著基板11的長邊方向排列成一列的情況進行了說明，但並不限於此，例如也可設為所謂的鋸齒排列，即，沿著排列方向，使位置朝與排列方向交叉的方向交替地錯開。

而且，對圖5所示的照射單元1-1A～照射單元1-1C分別為紫外線照射單元1的情況進行了說明，但並不限於此，也可為紫外線照射單元1A～紫外線照射單元1D。

對本發明的若干個實施方式進行了說明，但這些實施方式僅為例示，並不意圖限定發明的範圍。這些實施方式能夠以其他的各種形態來實施，可在不脫離發明主旨的範圍內進行各種省略、替換、變更等。這些實施方式或其變形例包含在發明的範圍或主旨中，同樣包含在權利要求書所記載的發明及其均等的範圍內。

1、1A～1D:紫外線照射單元 1-1～1-5、1-1A～1-1C:照射單元 10:冷卻塊 10a:冷卻塊的前表面 10b、10c:冷卻塊的端部 10d:冷卻塊的背面 11:基板 11a:基板的前表面 11b:基板的背面 12:發光元件 13:光源部 14、15、16:流路 17a、17b:連接構件 18、19:密封構件 20～29:配管 30:光學構件殼體 30a:端面 31:周壁部 32:收容部 32a:保持部 33:第一通氣口 34、34-1、34-2:第二通氣口 35:光學構件 40～49:接頭構件 60:被照射體 70:換氣機構 100:紫外線照射裝置 A:間隔 B、C:尺寸

圖1是表示第一實施方式的紫外線照射單元的正面圖。 圖2是表示第一實施方式的紫外線照射單元的平面圖。 圖3是圖2的III-III剖面圖。 圖4是用於說明發光元件的排列的圖。 圖5是表示第一實施方式的紫外線照射裝置的側面圖。 圖6是表示第一實施方式的變形例的紫外線照射單元的正面圖。 圖7是表示第二實施方式的紫外線照射單元的正面圖。 圖8是表示第三實施方式的紫外線照射單元的正面圖。 圖9是表示第四實施方式的紫外線照射單元的正面圖。 圖10是用於說明發光元件的排列的圖。

1:紫外線照射單元

10:冷卻塊

10a:冷卻塊的前表面

10d:冷卻塊的背面

11:基板

11a:基板的前表面

11b:基板的背面

12:發光元件

13:光源部

14、15、16:流路

17a、17b:連接構件

18、19:密封構件

30:光學構件殼體

30a:端面

31:周壁部

32:收容部

35:光學構件

X、Y、Z:座標

Claims (7)

1. 一種紫外線照射單元，其特徵在於包括： 光源部，安裝有排列在基板前表面的多個發光元件； 冷卻塊，配置在所述基板的背面，內部具有供流體流通的流路； 光學構件，相對於所述多個發光元件而設置間隔地配置在所述基板的前表面側；以及 光學構件殼體，具有收容所述光學構件的收容部與覆蓋所述光源部周圍的周壁部，且與所述冷卻塊熱連接。
2. 如申請專利範圍第1項所述的紫外線照射單元，其特徵在於， 所述冷卻塊具有流入流路及排出流路，所述流入流路及排出流路連通至所述冷卻塊的跟前表面為相反側的背面。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的紫外線照射單元，其特徵在於， 當將相鄰的發光元件彼此的間隔設為A[mm]時，從位於所述基板端部的所述發光元件的端部直至所述冷卻塊的端部為止的尺寸B[mm]為A/2≦B≦6。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的紫外線照射單元，其特徵在於包括： 多個照射單元，沿著所述多個發光元件的排列方向而配置， 所述多個照射單元包含彼此相鄰的第一照射單元及第二照射單元， 當將相鄰的發光元件彼此的間隔設為A[mm]時，所述第一照射單元的位於所述第二照射單元側端部的所述發光元件的端部、與所述第二照射單元的位於所述第一照射單元側端部的所述發光元件的端部之間的尺寸C[mm]為A≦C≦12。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的紫外線照射單元，其特徵在於， 所述光學構件殼體具有使內外連通的連通口。
6. 如申請專利範圍第5項所述的紫外線照射單元，其特徵在於包括： 換氣機構，經由所述連通口來使所述光學構件殼體的內外換氣。
7. 一種紫外線照射裝置，其特徵在於包括： 多個照射單元，以所述多個發光元件與被照射體的距離相等的方式呈放射狀排列， 所述多個照射單元是申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的紫外線照射單元。

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