TW202026592A - 干涉波形偵測系統 - Google Patents

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Abstract

本發明揭示一種干涉儀偵測系統，其包含一光束分離器，該光束分離器接收一準直光信號且將該信號分離成一第一光信號及一第二光信號。該系統包含沿一第一路徑接收並反射該第一光信號的一第一鏡。該系統包含經由一透明材料沿一第二路徑接收並反射該第二光信號的一第二鏡。該系統包含一2D光感測器陣列，該2D光感測器陣列經組態以從該光束分離器接收與雙重穿過該透明材料之該經反射第二光信號合併之該經反射第一光信號且經組態以產生一干涉條紋圖案。一非正弦干涉條紋圖案指示沿該第一路徑之該經反射第一光信號之一波前與沿該第二路徑雙重穿過該透明材料之該經反射第二光信號之一波前之間的幾何變動。

Description

干涉波形偵測系統
本發明大體上係關於測試及偵測平坦透明光學元件及顯示器之波形(表面/折射率不規則性)，且更明確言之本發明係關於用於顯示器及經組裝顯示模組之蓋玻璃。
一平板顯示器之波形係用於提供對層壓程序控制之洞察且用於提供最終產品品質之一指示的一重要參數。顯示模組具有絕對平坦度品質變得愈來愈重要。任何不規則圖案(波形)可被一對應使用者看見，尤其若以一特定角度看見。一不規則圖案因此將劣化使用者體驗。
本文中提供之先前技術描述係出於大體上呈現本發明之背景內容之目的。當前指定發明者之工作在其於此先前技術章節以及在申請時可能不以其他方式取得先前技術資格之描述之態樣中進行描述之程度上既不明確亦不暗含地被承認為針對本發明之先前技術。
在此背景內容中出現實施例。
本發明實施例係關於解決見於相關技術中之一或多個問題，且更明確言之包含用於測試並偵測平坦透明光學元件及顯示器之波形(表面/折射率不規則性)的系統及方法。
揭示一種干涉波形偵測系統且該系統包含一光束分離器，該光束分離器經組態以接收一準直光信號且將該準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號。偵測系統包含經組態以沿第一路徑接收並反射第一光信號的一第一鏡。偵測系統包含一第二鏡，該第二鏡經組態以經由沿第二路徑定位在光束分離器與該第二鏡之間之一透明材料沿該第二路徑接收並反射第二光信號。偵測系統包含一2D光感測器陣列，該2D光感測器陣列經組態以從光束分離器接收與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號合併之沿第一路徑之經反射第一光信號且產生一干涉條紋圖案。一非正弦干涉條紋圖案指示沿第一路徑之經反射第一光信號之一第一波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之一第二波前之間的幾何相位變動。
揭示一種用於量測一透明光學材料之平坦度之波形(例如，非均勻變動)的方法。該方法包含在一光束分離器處接收一準直光信號。該方法包含使用光束分離器將準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號。該方法包含使用一第一鏡沿第一路徑接收第一光信號並反射該第一光信號。該方法包含在一第二鏡處透過沿第二路徑定位在光束分離器與該第二鏡之間之一透明材料接收第二光信號。該方法包含使用第二鏡沿第二路徑反射從透明材料接收之第二光信號。該方法包含使用光束分離器將沿第一路徑行進之經反射第一光信號及沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號合併。該方法包含從與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號產生一干涉條紋圖案。一非正弦干涉條紋圖案指示沿第一路徑行進之經反射第一光信號之一第一波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之一第二波前之間的幾何相位變動。
揭示一種干涉波形偵測系統且該系統包含一光束分離器，該光束分離器經組態以接收具有一第一線性偏振之一準直光信號且將該準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號。偵測系統包含一第一四分之一波板。偵測系統包含一鏡，該鏡經組態以經由沿第一路徑定位在光束分離器與該鏡之間之第一四分之一波板沿該第一路徑接收並反射第一光信號。偵測系統包含經組態以沿第二路徑接收並反射第二光信號之一受測試裝置(DUT)之一顯示模組。偵測系統包含一2D光感測器陣列，該2D光感測器陣列經組態以從光束分離器接收與沿第二路徑之經反射第二光信號合併之沿第一路徑雙重穿過第一四分之一波板之經反射第一光信號且產生一干涉條紋圖案。一非正弦干涉條紋圖案指示由光束分離器接收之沿第一路徑之經反射第一光信號之一第一波前與沿第二路徑之經反射第二光信號之一第二波前之間的幾何相位變動。
揭示一種用於量測一透明光學材料之平坦度之波形(例如，非均勻變動)的方法。該方法包含在一光束分離器處接收具有一第一線性偏振之一準直光信號。該方法包含使用光束分離器將準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號。該方法包含在一鏡處透過沿第一路徑定位在光束分離器與該鏡之間之一第一四分之一波板接收第一光信號。該方法包含使用鏡沿第一路徑反射從第一四分之一波板接收之第一光信號。該方法包含使用一受測試裝置(DUT)之一顯示模組沿第二路徑接收第二光信號並反射該第二光信號。該方法包含使用光束分離器將沿第一路徑雙重穿過第一四分之一波板之經反射第一光信號及沿第二路徑行進之經反射第二光信號合併。該方法包含從與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號產生一干涉條紋圖案。一非正弦干涉條紋圖案指示由光束分離器接收之沿第一路徑之經反射第一光信號之一第一波前與沿第二路徑之經反射第二光信號之一第二波前之間的一幾何相位變動。
熟習此項技術者在閱讀整個說明書及發明申請專利範圍後將瞭解此等及其他優勢。
優先權之主張 本申請案主張共同擁有之2018年8月7日申請之標題為「Interferometric Waviness Detection System」之美國臨時專利申請案序號62/715,783之優先權及權利，該案之全部內容以引用之方式併入本文中。
儘管以下詳細描述含有許多特定細節用於圖解說明之目的，然此項技術之一般技術者將瞭解，以下細節之許多變動及更改在本發明之範疇內。因此，在無此描述之後之發明申請專利範圍之一般性之任何損失且未對發明申請專利範圍施加限制之情況下陳述下文描述之本發明之態樣。
一般而言，本發明之各項實施例描述可偵測一透明光學材料(例如，蓋玻璃)及具有圓偏振器之一顯示模組之平坦度程度的干涉儀系統，其中該等干涉儀系統基於一邁克爾遜干涉儀設定。特定言之，本發明之實施例之干涉波形偵測系統區別地判定一光學透明材料或反射材料(諸如一顯示模組之層之一者)之實體平坦度之品質及/或程度。本發明之實施例使用光波干涉來偵測由平坦度變動、厚度變動或折射率變動導致之出自透明光學材料之相位變動。本發明之實施例使用一經修改邁克爾遜干涉儀設定來偵測一透明光學物件區域及/或一顯示模組之一反射材料上方之厚度及/或折射率均勻性。
運用各項實施例之上文一般理解，現將參考各個圖式描述實施例之例示性細節。一或多個圖中之類似編號元件及/或組件意欲大體上具有相同組態及/或功能性。此外，圖可能未按比例繪製但意欲圖解說明並強調新穎概念。將明白，可在無一些或全部此等特定細節之情況下實踐本發明實施例。在其他例項中，尚未詳細描述眾所周知的程序操作以免不必要地混淆本發明實施例。
圖1圖解說明一標準邁克爾遜干涉儀。一同調雷射110經準直並對準，使得在一光束分離器120將光束111分離成多個光束之後，從兩個單獨鏡101及102反射該多個光束。經反射光束隨後藉由光束分離器120組合至感測器130之一平面上。固有干涉圖135給出關於同調準直雷射源110之波前品質之一指示。
特定言之，同調雷射光束111可藉由一伸縮式擴束器進行準直。接著，雷射光束111穿過經組態以均等地(50:50)分離光束111之光束分離器120。雷射光束111之一個臂將被反射九十度(90°)且從鏡101彈回。此光束111A將直接穿過光束分離器120以由螢幕或感測器130接收。
雷射光束111之第二臂將首先穿過光束分離器120 (例如，無反射)且接著從鏡102彈回。接著，此彈回光束111B將藉由光束分離器120反射九十度(90°)。
一旦鏡101、鏡102及雷射110正確地對準，自鏡101離開之光束111A及自鏡102離開之光束111B便將相互干擾，且產生一干涉圖(干涉條紋圖案) 135。在一理想設定中，形成一均勻干涉條紋圖案，此係因為沿任一路徑不存在干擾。
本發明之實施例提供干涉波形偵測系統及用於實施干涉波形偵測系統之方法，其等各自修改邁克爾遜干涉儀設定以適應不同光學模組波形偵測及檢測，及用於實施其等之方法。
圖2A圖解說明一行動電話200之各個例示性組件層，包含具有一顯示層270及一透明光學材料250 (例如，蓋玻璃/觸控面板250a)之一顯示模組240，使用本發明之實施例來量測各自之平坦度。行動電話僅提供為一顯示模組240及/或透明光學材料250之使用之一圖解說明，可透過本發明之實施例量測各自之平坦度。未圖解說明行動電話之全部組件。支援顯示模組240及/或透明光學材料250之其他使用，可透過本發明之實施例量測其之平坦度。舉例而言，顯示模組240及/或透明光學材料250可見於具有顯示螢幕之行動裝置、電視螢幕、電腦監視器、平板裝置、整合顯示螢幕(例如，整合至車輛儀表板、桌面、面板等中)、攜帶型通信裝置等中。
如展示，行動電話200包含一背蓋210。一底殼220與一面殼230介接以保護經組態以提供功能性至行動電話200之電路板225。底殼220經組態以支撐一電池215，且進一步經組態以與背蓋210介接。面殼230經組態以與一顯示模組240介接且支撐顯示模組240。在完全組裝時，顯示模組240包含一顯示層270及蓋玻璃/觸控面板250a。蓋玻璃/觸控面板250a經組態為一透明材料或透明光學材料250。在將全部各個組件介接在一起時，行動電話200經組態於適合由人手處置之一便利封裝中。
圖2B係具有各個層之顯示模組240之一橫截面，使用本發明之實施例來量測各層之平坦度。在完全組裝時，顯示模組240包含一顯示層270 (諸如一液晶顯示器(LCD))、一圓偏振器260、及光學透明蓋玻璃/觸控面板250a。在一些組態中，圓偏振器260可整合於顯示層270內，如藉由圍繞顯示層270及圓偏振器260兩者之虛線輪廓展示。顯示層270經組態以諸如藉由顯示可由一對應使用者觀看之影像而提供與該使用者之一視覺介面。顯示層270可包含一或多個額外層，但本文中未全部描述。使用各種技術來建置通常組態為提供可由一使用者觀看之彩色光之像素的顯示層270。此等技術包含液晶顯示器(LCD)、發光二極體(LED)、有機發光二極體(OLED)等。蓋玻璃/觸控面板250a定位成鄰近顯示層270或與顯示層270相關聯之圓偏振器260。蓋玻璃/觸控面板250a經組態為一使用者介面，其中使用者可透過使用一觸控筆或一或多個手指觸碰玻璃或面板250a來與行動電話200互動及/或提供輸入控制。
當包含顯示層270及/或蓋玻璃/觸控面板250a之顯示模組240之一或多個層有缺陷時，與使用者之視覺介接受到影響。舉例而言，可將由顯示層270及/或蓋玻璃/觸控面板250a中之缺陷導致之失真影像呈現給使用者。輕微失真可能劣化使用者之觀看體驗。極端失真可能引入使用者之動暈症。因而，顯示模組240之層(諸如顯示層270及/或蓋玻璃/觸控面板250a)應為均勻或平坦的，以便為使用者提供最佳觀看體驗。
特定言之，蓋玻璃/觸控面板250a之頂部表面251及顯示層270之頂部表面271之均勻平坦度對於使用者之最佳觀看體驗為所要的。本發明之實施例經組態以偵測及/或量測蓋玻璃250a或其他透明材料之頂部表面251及顯示層270或其他反射材料之頂部表面271之平坦度。此等實施例亦能夠偵測及/或量測蓋玻璃/觸控面板250a或其他透明材料250之厚度之變動及/或跨蓋玻璃/觸控面板250a或其他透明材料250之折射率(或折射性)之變動。舉例而言，本發明之實施例經組態以偵測及/或量測蓋玻璃250a或其他透明材料之頂部表面251與底部表面252之間之厚度之變動。再者，本發明之實施例經組態以偵測及/或量測蓋玻璃250a或其他透明材料之頂部表面251與底部表面252之間之折射性(例如，折射率)之變動。
圖3A係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一透明光學材料(例如，蓋玻璃/觸控面板、顯示蓋玻璃、薄膜、光學薄膜材料等)之平坦度之變動、厚度之變動、及/或折射性之變動之一干涉儀波形偵測系統300A的一方塊圖。干涉儀波形偵測系統300A使用光波干涉來偵測一參考信號與出自一透明光學材料之一信號之間之相位變動。由透明光學材料之平坦度之一變動、厚度之一變動、及/或折射率之一變動導致相位變動。因而，透明材料中之任何波形(例如，平坦度、厚度及/或折射性之非均勻性或變動)能夠運用干涉儀波形偵測系統300A進行偵測並分析。
干涉儀波形偵測系統300A包含經組態以輸出一光信號的一雷射310。在一項實施例中，雷射310輸出一同調光信號，其發射相同波長之連續光波。同調光信號可在自雷射310輸出時被準直，或可使用一準直器裝置進行準直。一光束分離器320經組態以接收準直光信號311，且進一步經組態以將準直光信號311分離成沿一第一路徑(例如，沿一第一臂)行進之一第一光信號311a及沿一第二路徑(例如，沿一第二臂)行進之一第二光信號311b。在一項實施例中，光束分離器320經組態為一50/50光束分離器，其有效地均勻分離準直光信號311以用於產生干涉條紋圖案及其等分析之目的。在一項實施例中，第一光信號與第二光信號相同(例如，相同頻率及相位)，作為來自光束分離器320之輸出。
干涉儀波形偵測系統300A包含鏡1，該鏡1經組態以沿第一路徑接收並反射第一光信號。沿第一路徑行進之第一光信號可提供一參考信號。作為一圖解說明，第一路徑可分成片段，如下所述。特定言之，第一光信號311a沿第一路徑之第一片段311a-1自光束分離器320反射。第一光信號311a自鏡1反射且沿第一路徑之第二片段311a-2行進。自鏡1反射之第一光信號311a透過光束分離器320傳輸或傳遞且沿第一路徑之第三片段311a-3行進。一2D光感測器陣列330經組態以接收自鏡1反射且透過光束分離器320傳遞之第一光信號311a。2D光感測器陣列330經組態以使用一或多個感測技術來感測或偵測光信號。
干涉儀波形偵測系統300A包含鏡2，該鏡2經組態以經由一透明材料250沿第二路徑接收並反射第二光信號311b。特定言之，透明材料250沿第二路徑定位在光束分離器320與鏡2之間。作為一圖解說明，第二路徑可分成片段，如下所述。第二光信號311b透過光束分離器320傳輸或傳遞且沿第二路徑之第一片段311b-1行進。第二光信號311b透過透明材料250 (例如，透明光學材料、蓋玻璃、觸控螢幕等)傳輸或傳遞且接著沿第二路徑之第二片段311b-2行進。如展示，透明材料250沿第二路徑定位在光束分離器320與鏡2之間。第二光信號311b自鏡2反射且沿第二路徑之第三片段311b-3行進。第二光信號311b透過透明材料250傳輸或傳遞且接著沿第二路徑之第四片段311b-4行進。第二光信號311b接著自光束分離器320反射且接著沿第二路徑之第五片段311b-5行進。2D光感測器陣列330經組態以接收第二光信號311b，其中第二光信號311b自鏡1反射，雙重穿過透明材料250，且自光束分離器320反射。
因而，2D光感測器陣列330 (例如，感測器平面)經組態以從光束分離器接收與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號合併之沿第一路徑之經反射第一光信號且產生一干涉條紋圖案。經反射第二光信號311b在與經反射第一光信號311a相比時可具有一相移(但具有相同頻率)，其中可由透明材料250中之平坦度、厚度或折射性(折射率)之一幾何變動(例如，非均勻性)導致該相移。舉例而言，在到達光束分離器320時，第二光信號311b之波前(即，第二波前)可能不同於第一光信號311a之一波前(即，第一波前)。
干涉條紋圖案或干涉圖335提供關於如藉由2D光感測器陣列330接收之第一光信號311a (例如，自鏡1反射)與第二光信號311b (雙重穿過透明材料250，自鏡2反射，且自光束分離器320反射)之波前之間是否存在一相位變化的一指示。即，如藉由2D光感測器陣列330接收之第一光信號311a之波前與第二光信號311b之波前之間之一相位變動在所得干涉圖335中引發一擾動。特定言之，一非正弦干涉圖案指示沿第一路徑之經反射第一光信號之一波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之一波前之間的幾何相位變動。即，一非均勻干涉條紋圖案指示一相位變化，其與透明材料250之平坦度之一變動、或厚度之變動、或折射性之變動相關。另外，一正弦干涉圖案指示沿第一路徑之經反射第一光信號之波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之波前之間無異常相位變化。即，一均勻干涉條紋圖案指示無歸因於材料非均勻性之相位變化，其與無透明材料250之平坦度或厚度或折射性之異常變動相關。自干涉圖335提取之資訊給出關於透明材料250之平坦度(例如，平坦度程度)或厚度(厚度程度)或折射性之變動量的一指示。舉例而言，正弦干涉圖案表示兩個路徑之間存在相位變化，且若圖案為均勻的，則沿第一路徑之經反射第一光信號之波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之波前之間存在一正常相位變化。另一方面，若圖案非均勻，則此指示歸因於裝置之材料或幾何非均勻性的異常相位變化。
圖3B係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一透明光學材料之平坦度或厚度或折射性之變動之圖3A之干涉儀波形偵測系統300A的一自上而下視圖。如圖3A至圖3B中展示之干涉儀波形偵測系統300A提供用於偵測透明材料250之平坦度(例如，平坦度程度)或厚度(厚度程度)或折射性之變動的一個組態。支援其他組態。舉例而言，透明材料可定位在光束分離器320與鏡1之間(例如，沿第一路徑)而非沿第二路徑定位。干涉儀波形偵測系統300A之任何組態之間之一致性係光束分離器320與鏡1或鏡2之間之實體距離相同(例如，距離D1)。
如圖3B中展示，干涉儀波形偵測系統300A之組件定位於支撐結構390內。舉例而言，支撐結構390可為一實體外殼或一表面。鏡1可定位於一軌道系統340上，使得可調整(例如，微調)鏡1相對於光束分離器320之位置。軌道系統340亦可提供調整鏡1相對於光束分離器之定向。特定言之，鏡1定位於距光束分離器之一距離D1處，其中從其中源自雷射310之準直光信號311被反射(沿第一路徑)或傳輸(沿第二路徑)之光束分離器之點(諸如光束分離器320之一中心點)量測距離D1。
另外，鏡2定位於距光束分離器之相同距離D1處。儘管鏡2被展示為固定於輪廓390內，然鏡2可能處於其自己的提供鏡2相對於光束分離器320之移動及/或定向對準之軌道系統上。如先前介紹，從其中源自雷射310之準直光信號311被反射(沿第一路徑)或傳輸(沿第二路徑)之光束分離器之點(諸如光束分離器320之一中心點)量測沿第二路徑之距離D1。在對準時，鏡1及鏡2兩者各自與光束分離器320分離達距離D1。即，沿第一路徑(例如，如由第一光信號行進)之第一鏡與光束分離器之間之一第一距離近似等於沿第二路徑(例如，如由第二光信號行進)之第二鏡與光束分離器之間之一第二距離。舉例而言，距離D1可為近似1呎，或可能大於1呎，或小於1呎。由於鏡1及鏡2與光束分離器之間之距離D1幾乎相同，故在無透明材料或相位擾動諸如沿第二路徑(或第一路徑)放置於干涉儀波形偵測系統300A內時如藉由2D光感測器陣列330接收之第一光信號311a與第二光信號之間將未偵測到相位變化。
支撐架350沿第二路徑定位，且更特定言之定位在光束分離器320與鏡2之間。支撐架350經組態用於固持、支撐及/或扣緊於透明材料250上，使得透明材料250固定於相對於光束分離器320及鏡2之空間中。如展示，支撐架350定位於距鏡2之一距離x處。支撐架350可沿在光束分離器320與鏡2之間延伸之一線(例如，沿第二路徑)定位於任何位置。即，透明材料可沿第二路徑定位在光束分離器320與鏡2之間之任何位置。不管透明材料250在光束分離器320與鏡2之間之位置，透明材料250之平坦度之變動、或厚度之變動、或折射性之變動之偵測將為類似的。
支撐架350可附接至支撐結構390。儘管支撐架350被展示為固定於支撐結構390內，然支撐架350亦可定位在提供透明材料250之移動及/或定向對準之一軌道系統上。
2D光感測器陣列330經組態以從光束分離器320接收與沿第二路徑再次穿過透明材料之經反射第二光信號311b合併之沿第一路徑之經反射第一光信號311a，且產生一干涉條紋圖案或干涉圖335。一運算裝置380可耦合至2D光感測器陣列330以便顯示、儲存及/或分析干涉條紋圖案335。舉例而言，運算裝置380可經由一有線連接381或一無線連接耦合。
圖3C圖解說明根據本發明之一項實施例之沿圖3B中之點A-A之間繪製之一線獲取之圖3A至圖3B之干涉儀波形偵測系統300A的一剖視圖。如圖3C中展示，干涉儀波形偵測系統300A可經圍封及/或支撐在支撐結構390中，如先前介紹。特定言之，將源自光源310 (例如，雷射)之一準直光信號提供至光束分離器320，該光束分離器320將該準直光信號分離成一第一光信號及一第二光信號。第一光信號沿一第一路徑行進以在返回至光束分離器320之前自鏡1反射。第二光信號沿一第二路徑行進以穿過透明材料250，自鏡2反射，且接著在返回至光束分離器320之前再次穿過透明材料250。一2D光感測器陣列經組態以從光束分離器320接收與雙重穿過透明材料之經反射第二光信號合併之經反射第一光信號且產生一干涉圖案。運算裝置380可耦合至2D光感測器陣列330 (例如，有線或無線連接等)以便顯示、儲存及/或分析干涉條紋圖案。
圖3D圖解說明根據本發明之一項實施例之圖3A至圖3C之干涉儀波形偵測系統300A中之一透明光學材料之放置，及仍提供透明材料250中之平坦度或厚度或折射性之一變動之精確偵測之偵測系統內之透明光學材料之不同定向。
干涉儀波形偵測系統300A之一優勢係透明材料250可定位在光束分離器320與鏡2之間之任何位置。如圖3D中展示，距離「x」之範圍可在0與D1之間，包含0及D1 (例如，0≤x≤D1)。即，透明材料250可定位在光束分離器320與鏡2之間之軸305上之任何位置。
干涉儀波形偵測系統300A之另一優勢係透明材料250之定向無需與鏡2完全對準以便偵測透明材料250之平坦度或厚度或折射性之一變動。即，透明材料250無需與鏡2完全平行。舉例而言，透明材料250之平面303可能非平行於干涉儀波形偵測系統300A內之鏡2之平面304。舉例而言，透明材料250可在軸302及軸301之一或多者上旋轉。純粹作為一實例，透明材料250可自一完全對準定向繞軸302及軸301之各者旋轉達至多5度，使得干涉儀波形偵測系統300A仍能夠偵測透明材料250之平坦度或厚度或折射性之一變動。純粹作為另一實例，透明材料250可自一完全對準定向繞軸302及軸301之各者旋轉達至多10度，使得干涉儀波形偵測系統300A仍能夠偵測透明材料250之平坦度或厚度或折射性之一變動。純粹作為另一實例，透明材料250可自一完全對準定向繞軸302及軸301之各者旋轉達至多15度，使得干涉儀波形偵測系統300A仍能夠偵測透明材料250之平坦度或厚度或折射性之一變動。純粹作為另一實例，透明材料250可自一完全對準定向繞軸302及軸301之各者旋轉達至多30度，使得干涉儀波形偵測系統300A仍能夠偵測透明材料250之平坦度或厚度或折射性之一變動。當然，在其他實施例中，透明材料250之平面303可平行於干涉儀波形偵測系統300A內之鏡2之平面304。
圖4係圖解說明根據本發明之一項實施例之用於量測一透明材料之平坦度之變動、或厚度之變動、或折射性之變動之一方法的一流程圖400。可在實施例中藉由圖3A至圖3D之干涉儀波形偵測系統300A實施流程圖400以偵測一透明材料(例如，透明光學材料、蓋玻璃/觸控面板(pane或panel)、顯示蓋玻璃、薄膜、光學薄膜材料等)之任何波形(例如，平坦度、厚度及/或折射性之非均勻性及/或變動)。
在410，方法包含在一光束分離器處接收一準直光信號。準直光信號可能源自一光源，諸如一雷射，其提供一同調光束，該同調光束接著被準直。藉由光束分離器接收準直光信號，該光束分離器接著在420將準直光信號分離成一第一光信號及一第二光信號。舉例而言，在一項實施例中，第一光信號及第二光信號相同。第一光信號沿一第一路徑行進，且第二光信號沿一第二路徑行進。
在430，方法包含使用一第一鏡沿第一路徑接收第一光信號並反射該第一光信號。第一光信號可經組態為一參考信號。
在440，方法包含在一第二鏡處沿第二路徑接收第二光信號。第二光信號在穿過沿第二路徑定位在光束分離器與第二鏡之間之一透明材料之後接收於第二鏡處。在450，方法包含使用第二鏡沿第二路徑反射第二光信號，其中該第二光信號在穿過透明材料之後被接收。在反射之後，第二光信號再次穿過(例如，雙重穿過)透明材料。
在460，方法包含使用光束分離器將沿第一路徑行進之經反射第一光信號及沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號合併。即，組合經反射第一光信號及經反射第二光信號。在470，方法包含從與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號產生一干涉圖案(例如，干涉條紋圖案)。舉例而言，一2D光感測器陣列經組態以接收與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號且感測及/或偵測經合併光信號，使得可產生干涉圖案。干涉圖案可為一干涉條紋圖案或干涉圖。
特定言之，干涉圖案可展示沿第一路徑行進之經反射第一光信號與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之間之任何相位變化。經反射第一光信號與雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之間之任何相位變動在干涉圖案中引發一擾動。特定言之，一非正弦或非均勻干涉圖案指示光束分離器處接收之經反射第一光信號之一波前與經反射第二光信號之一波前之間之幾何相位變動。由透明材料之平坦度之一變動、厚度之變動及折射性之一變動之一或多者導致相位變化。再者，一正弦或均勻干涉圖案指示光束分離器處接收之經反射第一光信號與經反射第二光信號之間無異常相位變動。即，無異常相位變動指示存在透明材料之均勻平坦度或均勻厚度或均勻折射性。
圖5A係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測充當一反射鏡之一顯示模組之平坦度之一干涉儀波形偵測系統500A的一方塊圖。干涉儀波形偵測系統500A修改一邁克爾遜干涉儀設定以偵測及/或量測一顯示模組之平坦度之變動。特定言之，執行波形偵測之經修改邁克爾遜干涉儀設定包含一經組裝顯示模組作為反射元件之一者。即，一反射光學物件(諸如具有由一四分之一波板260-A及一偏振器260-B組成之圓偏振器260之一經組裝顯示模組)充當干涉儀波形偵測系統500A中之一光反射鏡。干涉儀波形偵測系統500A使用光波干涉來偵測一參考信號與自經組裝顯示模組反射之一信號之間之相位變動。由經組裝顯示模組之平坦度之一變動導致相位變動。因而，經組裝顯示模組中之任何波形(例如，非均勻平坦度)能夠運用干涉儀波形偵測系統500A進行偵測並分析。特定言之，一所得干涉圖535給出關於反射光學物件(諸如顯示模組240)之品質之一指示。
干涉儀波形偵測系統500A包含經組態為輸出一光信號之一光源的雷射310。在一項實施例中，雷射310輸出一同調光信號，其發射相同波長之連續光波。同調光信號可在自雷射310輸出時被準直，或可使用一準直器裝置進行準直。在一項實施例中，準直光信號511經組態為一線性偏振電磁波。例如，準直光信號511可透過一線性偏振器傳輸，或可輸出為自光源線性偏振，諸如在一垂直或水平方向、或垂直於準直光信號511之傳播方向之任何其他方向上振盪之電場。舉例而言，在一個實施方案中，準直光信號511可以如藉由光束分離器320接收之線性P偏振進行線性偏振。在另一實施方案中，準直光信號511可以如藉由光束分離器320接收之線性S偏振進行線性偏振。
光束分離器320經組態以將所接收準直光信號511分離成沿一第一路徑(例如，沿一第一臂)行進之一第一光信號511a及沿一第二路徑(例如，沿一第二臂)行進之一第二光信號511b。在一項實施例中，光束分離器320經組態為一50/50光束分離器，其有效地均勻分離準直光信號511以用於產生干涉條紋圖案及其等分析之目的。在另一實施例中，第一光信號511a與第二光信號511b相同(例如，相同頻率及相位)，作為來自光束分離器320之輸出。在一項實施例中，光束分離器320包括一非偏振光束分離器。
干涉儀波形偵測系統500A包含一鏡，諸如鏡1，該鏡經組態以經由一四分之一波板520接收第一光信號511a，且沿第一路徑反射第一光信號。沿第一路徑行進之第一光信號511a可提供一參考信號。作為一圖解說明，第一路徑可分成片段，如下所述。特定言之，第一光信號511a沿第一路徑之第一片段511a-1自光束分離器320反射。在第一路徑之第一片段511a-1中，第一光信號511a以線性P偏振(例如，一第一線性偏振)進行線性偏振，如圖5A中展示。第一光信號511a自光束分離器320行進且在沿第二片段511a-2到達鏡1之前穿過四分之一波板520。四分之一波板520沿第一路徑定位在光束分離器320與鏡1之間。四分之一波板520經組態以將線性偏振光轉換為圓偏振光，且反之亦然。在一個實施方案中，且如圖5A中展示，在第一路徑之第二片段511a-2中，第一光信號511a現沿一順時針方向圓偏振。在另一實施方案中，第一光信號511a可沿一逆時針方向圓偏振。鏡1經組態以在第三片段511a-3中接收(在穿過四分之一波板520之後)並反射第一光信號511a。鏡1反轉第一光信號511a之圓偏振。因而，在第一路徑之第三片段511a-3中，第一光信號511a現沿一逆時針方向圓偏振。在第一路徑之第四片段511a-4中，第一光信號511a再次穿過四分之一波板520，該四分之一波板520經組態以將光轉換回至一線性偏振，但現自第一片段511a-1之線性偏振旋轉達九十度。即，在第一路徑之第四片段511a-4中，第一光信號511a現以線性S偏振(例如，一第二線性偏振)進行線性偏振。因而，第一光信號511a雙重穿過四分之一波板520且經歷達九十度(例如，至一第二線性偏振)之一旋轉。在第一路徑之第五片段511a-5中，第一光信號511a穿過光束分離器320且由2D光感測器陣列330 (例如，感測器平面)接收，其中第一光信號511a以線性S偏振進行線性偏振。2D光感測器陣列330經組態以使用一或多個感測技術來感測或偵測光信號。
干涉波形偵測系統500A包含一反射光學物件，該反射光學物件在一經修改邁克爾遜干涉儀設定中充當一鏡。特定言之，干涉波形偵測系統500A包含經組態以顯示影像的經組裝顯示模組240，該經組裝顯示模組240包含一顯示層270 (其經組態以顯示像素影像) (例如，LCD顯示器、LED顯示器、OLED顯示器等)、圓偏振器260 (其由一四分之一波板260-A及一偏振器260-B組成)、及蓋玻璃/觸控面板250a，如先前介紹。經組裝顯示模組240可為一受測試裝置(DUT)。圓偏振器260之偏振器260-B充當一鏡或反射器，且經組態以沿第二路徑接收並反射第二光信號511b。作為一圖解說明，第二路徑可分成片段，如下所述。第二光信號511b透過光束分離器320傳輸或傳遞，且沿第二路徑之第一片段511b-1行進。在第二路徑之第一片段511b-1中，第二光信號511b仍以線性P偏振進行線性偏振，如圖5A中展示。第二光信號511b穿過蓋玻璃/觸控面板250a。假定蓋玻璃/觸控面板250a先前已經測試(例如，使用圖3A之干涉儀波形偵測系統300A)且已經測試為不具有波形特性(例如，不具有平坦度或厚度或折射性之變動) (根據規格)，且因而在光信號穿過蓋玻璃/觸控面板250a時不存在異常相位變化。第二光信號511b接著穿過圓偏振器260，該圓偏振器260包含一四分之一波板260-A，該四分之一波板260-A經組態以將線性偏振光轉換為圓偏振光(例如，與第一臂中之四分之一波板520之操作一致之順時針或逆時針方向)，且反之亦然。圓偏振器260包含一偏振器260-B，該偏振器260-B經組態以沿第二路徑接收並反射第二光信號511b之一大部分(例如，大部分(若非全部))。在反射後，偏振器260-B反轉第二光信號511b之圓偏振。第二光信號511b現再次穿過(例如，雙重穿過)四分之一波板260-A，該四分之一波板260-A經組態以將光轉換回至一線性偏振，但現自第一片段511b-1中存在之線性偏振旋轉達九十度。因而，在第二路徑之第二片段511b-2中，第二光信號511b現以線性S偏振(例如，一第二線性偏振)進行線性偏振。
在第二光信號之第三片段511b-3中，2D光感測器陣列330 (例如，感測器平面)經組態以從光束分離器320接收與沿第二路徑之經反射第二光信號511b合併之沿第一路徑雙重穿過四分之一波板520之經反射第一光信號511a。如展示，經反射第一光信號511a及經反射第二光信號511b具有相同偏振(例如，在準直光信號具有一線性P偏振之情況下的線性S偏振，或在準直光信號511以一線性S偏振開始之情況下的線性P偏振)。此係因為在第一路徑中，第一光信號511a運用來自鏡1之一反射雙重穿過四分之一波板520，且在第二路徑中，第二光信號511b運用自偏振器260-B之一反射雙重穿過顯示模組240之圓偏振器260中之四分之一波板260-A。在任一路徑中，偏振切換(例如，從線性P偏振至線性S偏振)允許自鏡反射之第一光信號511a及自顯示模組240反射之第二光信號511b之波前在感測器平面處組合為具有相同偏振狀態，因此產生給出顯示模組240之平坦度資訊之干涉圖或干涉條紋圖案。
特定言之，2D光感測器陣列330經組態以產生一干涉條紋圖案535。經反射第二光信號511b在與經反射第一光信號511a相比時可具有一相移，其中可由顯示模組240且更特定言之如平移至圓偏振器260之偏振器260-B之顯示層270中之平坦度之一變動(例如，非均勻性)導致該相移。干涉條紋圖案或干涉圖535提供關於如藉由2D光感測器陣列330接收之第一光信號511a (例如，自鏡1反射且雙重穿過四分之一波板520)與第二光信號511b (自顯示模組240反射且自光束分離器320反射)之間是否存在一相位變化的一指示。即，如藉由2D光感測器陣列330接收之第一光信號511a與第二光信號511b之間之一相位變動在所得干涉圖535中引發一擾動。特定言之，一非正弦干涉圖案指示由光束分離器接收之沿第一路徑之經反射第一光信號之一波前(例如，第一波前)與沿第二路徑之經反射第二光信號之一波前(例如，第二波前)之間的一異常相位變化(例如，幾何相位變動)。即，一非均勻干涉條紋圖案指示一相位變化，其與顯示模組240且特定言之顯示層270 (如平移至圓偏振器260之偏振器260-B)之平坦度之至少一變動相關。另外，一正弦干涉條紋圖案指示由光束分離器接收之沿第一路徑之經反射第一光信號與沿第二路徑之經反射第二光信號之間無異常相位變動。即，一均勻干涉條紋圖案指示無異常相位變動，其與顯示模組240之平坦度無變動且特定言之顯示層270 (如平移至圓偏振器260之偏振器260-B)之平坦度無變動相關。因而，自干涉圖535提取之資訊給出關於顯示模組240且更特定言之顯示模組240之顯示層270之平坦度(例如，平坦度程度)之變動量的一指示。舉例而言，正弦干涉圖案表示兩個路徑之間存在相位變化，且若圖案為均勻的，則沿第一路徑之經反射第一光信號之波前與沿第二路徑之經反射第二光信號之波前之間存在一正常相位變化。另一方面，若圖案非均勻，則此指示歸因於裝置之材料或幾何非均勻性的異常相位變化。
圖5B-1係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一顯示模組(例如，模組中之顯示層)之平坦度之變動之圖5A之干涉儀波形偵測系統500A的一自上而下視圖。如圖5A及圖5B-1中展示之干涉儀波形偵測系統500A提供用於偵測顯示模組240 (例如，顯示層270)之平坦度(例如，平坦度程度)之變動的一個組態。支援其他組態。舉例而言，顯示模組可沿第一路徑定位，且鏡定位於第二路徑上。干涉儀波形偵測系統500A之任何組態之間之一致性係光束分離器320與鏡1之間及光束分離器320與DUT之顯示模組(例如，圓偏振器260之偏振器260-B)之間之實體距離相同(例如，距離D2)。
如圖5B-1中展示，干涉儀波形偵測系統500A之組件定位於支撐結構590內。舉例而言，支撐結構390可為一實體外殼或一表面。鏡1可定位於一軌道系統340上，使得可調整(例如，微調)鏡1相對於光束分離器320之位置。軌道系統340亦可提供調整鏡1相對於光束分離器之定向。特定言之，鏡1定位於距光束分離器之一距離D2處，其中從其中源自雷射310之準直光信號511被反射(沿第一路徑)或傳輸(沿第二路徑)之光束分離器之點(諸如光束分離器320之一中心點)量測距離D2。
在對準時，由支撐架550固持之鏡1及顯示模組240 (例如，圓偏振器260之偏振器260-B)兩者各自與光束分離器320分離達距離D2。即，沿第一路徑(例如，如由第一光信號行進)之鏡與光束分離器之間之一第一距離等於沿第二路徑(例如，如由第二光信號行進)之顯示模組(例如，圓偏振器260之偏振器260-B)與光束分離器之間之一第二距離。距離D2可為任何值。舉例而言，距離D2可為近似1呎，或可能大於1呎，或小於1呎。由於鏡1及顯示模組240 (例如，圓偏振器260之偏振器260-B)與光束分離器320之間之距離D2相同，故當顯示模組240之平坦度不存在變動或更明確言之顯示模組240中之顯示層270 (平移至圓偏振器260之偏振器260-B)之平坦度不存在變動時在如藉由2D光感測器陣列330接收之第一光信號511a與第二光信號511b之波前之間將未偵測到相位變化。
另外，四分之一波板520沿第一路徑定位在光束分離器320與鏡1之間。如展示，四分之一波板520可相對於支撐結構590固定。在其他實施方案中，四分之一波板520之位置可經調整(例如，定位於一軌道系統上)。四分之一波板之位置並非關鍵的，且可處於光束分離器320與鏡1之間之任何位置。如展示，四分之一波板520定位於距鏡1之一距離「y」處。
2D光感測器陣列330經組態以從光束分離器320接收與沿第二路徑雙重穿過四分之一波板260-A且自偏振器260-B (例如，偏振器層)反射(該兩者包含於圓偏振器260中)之經反射第二光信號511b合併之沿第一路徑雙重穿過四分之一波板520之經反射第一光信號511a，且產生一干涉條紋圖案或干涉圖535。一運算裝置380可耦合至2D光感測器陣列330以便顯示、儲存及/或分析干涉條紋圖案535。舉例而言，運算裝置380可經由一有線連接381或一無線連接耦合。
圖5B-2係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一顯示模組及/或一蓋玻璃之平坦度之干涉儀波形偵測系統500B的一自上而下視圖。圖5B-2類似於圖5B-1，惟在外殼590'中添加鏡2除外。特定言之，干涉儀波形偵測系統300A及500A可經組態於相同支撐結構590'內。舉例而言，圖5B-2之干涉儀波形偵測系統500B可經組態為干涉儀波形偵測系統300A或干涉儀波形偵測系統500A。作為一圖解說明，軌道系統340允許鏡1在組態為一干涉儀波形偵測系統300A時處於距光束分離器320之一距離D1處，或在組態為一干涉儀波形偵測系統500A時處於距光束分離器320之一距離D2處，其中D1大於D2。特定言之，在如在外殼590'中實施之干涉儀波形偵測系統300A組態中，鏡1及鏡2各自定位在距光束分離器320之距離D1處。在此組態中，支撐架550經組態以固持、支撐及/或扣緊透明材料250。再者，在如在外殼590'中實施之干涉儀波形偵測系統500A組態中，鏡1及具有顯示模組240 (例如，圓偏振器260之偏振器260-B)之DUT各自定位在距光束分離器320之距離D2處，其中固持DUT之支撐架550經組態以將DUT之顯示模組240 (例如，顯示模組240內之圓偏振器260之偏振器260-B)定位在距光束分離器320之距離D2處。支撐架550可與軌道系統565相互作用或介接以定位DUT。支撐架550經組態用於固持、支撐及/或扣緊DUT。因而，支撐架550定位於第二路徑上，且更特定言之，可移動地定位在光束分離器320與鏡2之間。
圖5C-1圖解說明根據本發明之一項實施例之沿圖5B-1之點B-B之間繪製之一線獲取之圖5A及圖5B-1之干涉儀波形偵測系統500A的一剖視圖。如圖5C-1中展示，干涉儀波形偵測系統500A可經圍封及/或支撐在支撐結構590中，如先前介紹。特定言之，將源自光源310 (例如，雷射)之一準直光信號提供至光束分離器320，該光束分離器320將該準直光信號分離成一第一光信號及一第二光信號。第一光信號經由一四分之一波板520沿一第一路徑行進以在返回至光束分離器320之前(在再次穿過四分之一波板520之後)自鏡1反射。第二光信號沿一第二路徑行進以穿過圓偏振器260之四分之一波板260-A，自圓偏振器260之偏振器260-B反射，且接著在返回至光束分離器320之前再次雙重穿過四分之一波板260-A。如展示，藉由支撐架550固持、支撐及/或扣緊顯示模組240。再者，支撐架550可經定位於一軌道系統565上，使得顯示模組240可移動地定位於干涉儀波形偵測系統500A內。一2D光感測器陣列經組態以從光束分離器320接收與雙重穿過圓偏振器260之四分之一波板260-A (且自偏振器260-B反射)之經反射第二光信號合併之雙重穿過四分之一波板520 (且自鏡1反射)之經反射第一光信號且產生一干涉圖案(例如，干涉條紋圖案或干涉圖)。運算裝置380可耦合至2D光感測器陣列330 (例如，有線或無線連接等)以便顯示、儲存及/或分析干涉條紋圖案。
圖5C-2圖解說明根據本發明之一項實施例之沿圖5B-2之點C-C之間繪製之一線獲取之圖5B-2之干涉儀波形偵測系統500B的一剖視圖。圖5C-2類似於圖5C-1，惟在外殼590'中添加鏡2除外。特定言之，干涉儀波形偵測系統300A及500A可經組態於圖5C-2中展示且如先前關於圖5B-2描述之相同支撐結構590'內。
圖6係圖解說明根據本發明之一項實施例之用於量測一顯示模組之平坦度之變動之一方法的一流程圖。可在實施例中藉由圖5A及圖5B-1之干涉儀波形偵測系統500A及/或圖5B-2之干涉儀波形偵測系統500B實施流程圖600以偵測一顯示模組且更特定言之該顯示模組之一顯示層之任何波形(例如，平坦度之非均勻性及/或變動)。
在610，方法包含在一光束分離器處接收一準直光信號。準直光信號可能源自一光源，諸如一雷射，其提供一同調光束，該同調光束接著被準直。準直光信號具有一第一線性偏振(例如，線性P偏振、線性S偏振等)。藉由光束分離器接收具有一第一線性偏振之準直光信號，該光束分離器接著在620將準直光信號分離成一第一光信號及一第二光信號。舉例而言，在一項實施例中，第一光信號及第二光信號實質上相同。第一光信號沿一第一路徑行進，且第二光信號沿一第二路徑行進。
在630，方法包含在穿過一四分之一波板之後在一鏡處接收第一光信號。四分之一波板可沿第一路徑定位在光束分離器與鏡之間。第一光信號可經組態為一參考信號。在640，穿過四分之一波板之第一光信號沿第一路徑自鏡反射。
在650，方法包含在一DUT之一經組裝顯示模組處接收第二光信號。在一個實施方案中，經組裝顯示模組包含一蓋玻璃/觸控面板、一圓偏振器(其由一四分之一波板及一偏振器組成)、及一顯示層。圓偏振器之偏振器充當一反射器或鏡。因而，穿過圓偏振器之四分之一波板之後之第二光信號沿第二路徑自DUT之圓偏振器之偏振器(例如，偏振器層)反射。
在660，方法包含使用光束分離器將沿第一路徑行進之雙重穿過四分之一波板(在自鏡1反射之後)之經反射第一光信號及沿第二路徑雙重穿過圓偏振器之四分之一波板(在自圓偏振器之偏振器反射之後)之經反射第二光信號合併。光束分離器處接收之經反射第一光信號具有自準直光信號511之第一線性偏振(例如，線性P偏振)旋轉達九十度的一第二線性偏振(例如，線性S偏振)。在一項實施例中，經反射第二光信號雙重穿過一顯示模組之一圓偏振器之一四分之一波板(在自圓偏振器之偏振器反射之後)。特定言之，第二光信號在雙重穿過圓偏振器之四分之一波板且在到達光束分離器之前自圓偏振器之偏振器反射之後從光束分離器接收於顯示模組處。光束分離器處接收之經反射第二光信號亦具有第二線性偏振(例如，線性S偏振)。即，經反射第一光信號及經反射第二光信號在由光束分離器接收且遞送至2D光感測器陣列之感測器平面時具有相同偏振狀態。
在670，方法包含從與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號產生一干涉圖案(例如，干涉條紋圖案)。舉例而言，一2D光感測器陣列經組態以接收與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號且感測及/或偵測經合併光信號，使得可產生干涉圖案。干涉圖案可為一干涉條紋圖案或干涉圖。
特定言之，干涉圖案可展示沿第一路徑雙重穿過四分之一波板之經反射第一光信號與沿第二路徑雙重穿過顯示模組之圓偏振器之四分之一波板之經反射第二光信號之間之任何相位變化。經反射第一光信號與經反射第二光信號之間之任何相位變動在干涉圖案中引發一擾動。特定言之，一非正弦或非均勻干涉圖案指示光束分離器處接收之經反射第一光信號與經反射第二光信號之波前之間之一幾何相位變動(例如，相位變化)。可由顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之平坦度之一變動導致相位變化。再者，一正弦或均勻干涉圖案指示光束分離器處接收之經反射第一光信號與經反射第二光信號之間無異常相位變動。即，無異常相位變動指示存在顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之均勻平坦度。
圖7A至圖7C圖解說明根據本發明之實施例之偵測一透明光學材料及/或一顯示模組之平坦度之干涉條紋圖案的各種覆蓋區域。
舉例而言，圖7A圖解說明經組態以偵測及/或量測一透明材料250之平坦度之一變動、或厚度之變動、或折射性之變動的一干涉條紋圖案735a，其中干涉條紋圖案735a覆蓋透明材料250之大部分表面積。再者，圖7A圖解說明經組態以偵測及/或量測一顯示模組(例如，該顯示模組之顯示層270)中之平坦度之一變動的一干涉條紋圖案735a，其中干涉條紋圖案735a覆蓋顯示模組240之大部分表面積(例如，顯示模組240之大部分顯示層270)。
圖7B圖解說明經組態以偵測及/或量測一透明材料250之平坦度之一變動、或厚度之變動、或折射性之變動的一干涉條紋圖案735b，其中干涉條紋圖案735b覆蓋透明材料250之整體表面積之一小部分。再者，圖7B圖解說明經組態以偵測及/或量測一顯示模組(例如，該顯示模組之顯示層270)中之平坦度之一變動的一干涉條紋圖案735b，其中干涉條紋圖案735b覆蓋顯示模組(例如，顯示模組之顯示層270)之整體表面積之一小部分。
圖7C圖解說明經組態以偵測及/或量測一透明材料250之平坦度之一變動、或厚度之變動、或折射性之變動的一干涉條紋圖案735c，其中干涉條紋圖案735c覆蓋透明材料250之全部整體表面積。再者，圖7C圖解說明經組態以偵測及/或量測一顯示模組(例如，該顯示模組之顯示層270)中之平坦度之一變動的一干涉條紋圖案735c，其中干涉條紋圖案735c覆蓋顯示模組(例如，顯示模組之顯示層270)之全部整體表面積。
圖8A至圖8F圖解說明實施例中之提供偵測及/或量測一透明光學材料(例如，蓋玻璃/觸控面板)或顯示模組之平坦度之變動、或厚度之變動、或折射性之變動之模擬干涉條紋圖案的多個干涉圖。在一個實施方案中，圖8a至圖8F中展示之干涉條紋圖案之各者與測試材料(例如，透明材料250，或DUT之經組裝顯示模組240，或DUT之經組裝顯示模組240之顯示層270)之一表面之一對應輪廓相關。在一對應干涉條紋圖案中，可判定當干涉圖案中存在一個以上峰值或谷值時，干涉儀波形偵測系統300A或干涉儀波形偵測系統500A中之沿第一路徑之經反射第一光信號與經反射第二光信號之間存在一相位變化。
特定言之，圖8A圖解說明展現均勻相位變動之一干涉條紋圖案，其中來自光信號之相位均勻地變化，藉此產生一個美好的峰值810A。即，圖8A之干涉條紋圖案係均勻的(例如，展現條紋之間之均勻相位變動)，其中各條紋表示一個波長相位變動。再者，干涉條紋圖案具有一個峰值810A (或谷值)，其展現沿任何方向離開峰值之條紋圖案之均勻性。此指示對應透明材料或顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之良好結果。
圖8B圖解說明展現一相位變動之一干涉條紋圖案。儘管圖8B之干涉條紋圖案係均勻的(例如，展現條紋之間之均勻相位變動)，其中各條紋表示一個波長相位變動，然峰值810B自干涉條紋圖案之中心偏移。此指示對應透明材料或顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之差結果。
圖8C圖解說明展現一相位變動之一干涉條紋圖案。圖8C之干涉條紋圖案展示一X形谷值810C而非均勻峰值。此指示對應透明材料或顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之差結果。
圖8D圖解說明展現一相位變動之一干涉條紋圖案。圖8D之干涉條紋圖案展示多個峰值及/或谷值。特定言之，干涉條紋圖案展示一X形谷值810D，及至少兩個X形谷值820A及820B。此指示對應透明材料或顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之差結果。
圖8E圖解說明展現一相位變動之一干涉條紋圖案。圖8E之干涉條紋圖案展示一非均勻條紋圖案，其中各條紋表示一個波長相位變動。特定言之，條紋之間存在非均勻相位變動。再者，圖8E之干涉條紋圖案展示一峰值810E及一谷值820E兩者。此指示對應透明材料或顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之差結果。
圖8F圖解說明展現一相位變動之一干涉條紋圖案。圖8F之干涉條紋圖案展示一非均勻條紋圖案，其中各條紋表示一個波長相位變動。特定言之，條紋之間存在非均勻相位變動。再者，圖8F之干涉條紋圖案未展示一相異峰值或谷值。此指示對應透明材料或顯示模組(例如，顯示模組之顯示層)之差結果。
圖9展示用於控制上文描述之系統之一控制模組910。控制模組910可經組態於用於執行本發明之各項實施例之態樣之一例示性裝置內。舉例而言，圖9圖解說明根據一項實施例之適於實施一裝置之一例示性硬體系統900。硬體系統900可為適於實踐本發明之實施例之一電腦系統，且可包含處理器、記憶體、及一或多個介面。特定言之，硬體系統900包含用於運行軟體應用程式之一中央處理單元或處理器901及視情況一作業系統。處理器901可為具有一或多個處理核心之一或多個通用微處理器。此外，系統900可包含用於儲存應用程式及資料以供由處理器901使用的記憶體950。儲存器952提供用於應用程式及資料之非揮發性儲存器及其他電腦可讀媒體，且可包含固定磁碟機、可移除磁碟機、快閃記憶體裝置、及CD-ROM、DVD-ROM、藍光光碟、HD-DVD、或其他光學裝置，以及信號傳輸及儲存媒體。系統900之組件經由一或多個資料匯流排914連接。
可採用控制模組900來部分基於感測值控制系統中之裝置。僅舉例而言，控制模組900可基於感測值及其他控制參數來控制同調雷射310、2D光感測器陣列330、光束分離器320、鏡1、鏡2、支撐架350、支撐架550、四分之一波板520、圓偏振器(未展示)、軌道系統340、軌道系統560、及其他感測器912之一或多者。控制模組900通常將包含一或多個記憶體裝置及一或多個處理器。在一些實施例中可採用儲存於與控制模組900相關聯之記憶體裝置上之其他電腦程式。
通常將存在與控制模組900相關聯之一使用者介面。使用者介面可包含經組態用於提供指令至測試系統之一顯示螢幕及/或圖形軟體顯示器的一顯示介面918、及使用者輸入裝置920 (諸如指標裝置、鍵盤、觸控螢幕、麥克風等，其等用於將使用者輸入傳遞至系統900)。
在一些實施方案中，一控制器係一系統之部分，其可為上述實例之部分。此等系統可包括測試系統。全部此等系統可與用於在測試之前、期間及之後控制其等操作之電子器件整合。電子器件可被稱為「控制器」，其可控制該系統或該等系統之各種組件或子部分。取決於系統之處理要求及/或類型，控制器可經程式化以控制本文中揭示之程序之任一者。
一般而言，控制器可被定義為具有各種積體電路、邏輯、記憶體及/或軟體之電子器件，其接收指令，發佈指令，控制操作，實現清潔操作，實現端點量測及類似者。積體電路可包含呈儲存程式指令之韌體之形式之晶片、數位信號處理器(DSP)、被定義為特定應用積體電路(ASIC)之晶片、及/或一或多個微處理器、或執行程式指令(例如，軟體)之微控制器。程式指令可為以各種個別設定(或程式檔)之形式傳遞至控制器之指令。
在一些實施方案中，控制器可為一電腦之一部分或耦合至一電腦，該電腦與系統整合、耦合至系統、以其他方式聯網至系統、或其等之一組合。舉例而言，控制器可處於一晶圓廠主機電腦系統之全部或一部分之「雲端」中，其可允許遠端存取以進行測試。在一些實例中，一遠端電腦(例如，一伺服器)可經由可包含一本端網路或網際網路之一網路提供測試程序至一系統。
遠端電腦可包含實現參數及/或設定之鍵入或程式化的一使用者介面，該等參數及/或設定接著自遠端電腦傳遞至系統。在一些實例中，控制器接收呈資料之形式之指令，其等指定待在一或多個操作期間執行之處理步驟之各者之參數。應瞭解，參數可能特定於待執行程序之類型及控制器經組態以與其介接或控制之工具之類型。因此，如上文描述，控制器可諸如藉由包括聯網在一起之一或多個離散控制器且朝向一共同目的(諸如本文中描述之程序及控制)工作而分佈。用於此等目的之一分佈式控制器之一實例將為與遠端(諸如按平台級或作為一遠端電腦之部分)定位之一或多個積體電路通信之一腔室上之一或多個積體電路，其等組合以控制腔室上之一程序。
如上所述，取決於待由工具執行之程序步驟或若干程序步驟，控制器可能與其他工具電路或模組、其他工具組件、群集工具、其他工具介面、相鄰工具、鄰近工具、遍及一工廠定位之工具、一主電腦、另一控制器等之一或多者通信。
下文展示可與圖1至圖9之現有揭示實施例及/或發明申請專利範圍中揭示之實施例組合或整合的幾項額外實施例，或提供可涵蓋藉由將以下揭示內容與圖1至圖9之現有揭示實施例及/或發明申請專利範圍中揭示之實施例組合而產生之其他實施例之修改。
Al.一種根據本發明之一項實施例之用於量測平坦度之方法。該方法包含在一光束分離器處接收一準直光信號。該方法包含使用光束分離器將準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號。該方法包含使用一第一鏡沿第一路徑接收第一光信號並反射該第一光信號。該方法包含在一第二鏡處接收穿過沿第二路徑定位在光束分離器與該第二鏡之間之一透明材料之第二光信號。該方法包含使用第二鏡沿第二路徑反射從透明材料接收之第二光信號。該方法包含使用光束分離器將沿第一路徑行進之經反射第一光信號及沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號合併。該方法包含從與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號產生一干涉條紋圖案。在該方法中，一非正弦干涉條紋圖案指示沿第一路徑行進之經反射第一光信號之一第一波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之一第二波前之間的幾何相位變動。
A2.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含將沿第一路徑之第一鏡與光束分離器之間之一第一距離設定為等於沿第二路徑之第二鏡與光束分離器之間之一第二距離。
A3.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含判定由透明材料之厚度之一變動或跨透明材料之折射性之一變動導致沿第一路徑之經反射第一光信號之第一波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之第二波前之間的一相位變化。
A4.此外，根據本發明之一項實施例，在該方法中，透明材料包括用於一顯示模組之一蓋玻璃。
A5.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含在第二鏡處接收來自光束分離器且穿過透明材料之第二光信號。該方法包含自第二鏡反射所接收第二光信號。該方法包含在光束分離器處接收雙重穿過透明材料之經反射第二光信號。
A6.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含判定在干涉條紋圖案中存在一個以上峰值或谷值時，沿第一路徑之經反射第一光信號之第一波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之第二波前之間存在一相位變化。
A7.根據本發明之一項實施例，在該方法中，透明材料之一平面非平行於鏡之一平面。
A8.根據本發明之一項實施例，在該方法中，透明材料之一平面平行於鏡之一平面。
A9.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含沿第二路徑將透明材料放置於光束分離器與第二鏡之間之任何點處。
A10.根據本發明之一項實施例，在該方法中，一正弦干涉條紋圖案指示沿第一路徑之經反射第一光信號之第一波前與沿第二路徑雙重穿過透明材料之經反射第二光信號之第二波前之間無異常相位變動。
Al1.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含產生一光信號。該方法包含對光信號進行準直以產生準直光信號。
B1.一種根據本發明之一項實施例之用於量測平坦度之方法。該方法包含在一光束分離器處接收具有一第一線性偏振之一準直光信號。該方法包含使用光束分離器將準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號。該方法包含在一鏡處透過沿第一路徑定位在光束分離器與該鏡之間之一第一四分之一波板接收第一光信號。該方法包含使用鏡沿第一路徑反射從第一四分之一波板接收之第一光信號。該方法包含使用一受測試裝置(DUT)之一顯示模組沿第二路徑接收第二光信號並反射該第二光信號。該方法包含使用光束分離器將沿第一路徑雙重穿過四分之一波板之經反射第一光信號及沿第二路徑行進之經反射第二光信號合併。該方法包含從與經反射第二光信號合併之經反射第一光信號產生一干涉條紋圖案。在該方法中，一非正弦干涉條紋圖案指示由光束分離器接收之沿第一路徑之經反射第一光信號與沿第二路徑之經反射第二光信號之間之一幾何相位變動。
B2.在該方法中，顯示模組包含包含一第二四分之一波板及一偏振器之一圓偏振器、及經組態用於顯示像素影像之一顯示層。
B3.在該方法中，顯示層包含一液晶顯示器(LCD)、或發光二極體(LED)顯示器、或一有機發光二極體(OLED)顯示器。
B4.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含在鏡處經由第一四分之一波板接收第一光信號。該方法包含自鏡反射所接收第一光信號。該方法包含在光束分離器處接收雙重穿過第一四分之一波板之經反射第一光信號，其中該光束分離器處接收之該經反射第一光信號具有自第一線性偏振旋轉達九十度之一第二線性偏振。該方法包含在偏振器處從光束分離器接收穿過圓偏振器之第二四分之一波板之第二光信號。該方法包含自偏振器反射所接收第二光信號。該方法包含在光束分離器處接收雙重穿過第二四分之一波板圓偏振器且具有第二線性偏振之經反射第二光信號。
B5.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含將沿第一路徑之鏡與光束分離器之間之一第一距離設定為等於沿第二路徑之圓偏振器之偏振器與光束分離器之間之一第二距離。
B6.在該方法中，由顯示模組之平坦度之一變動導致沿第一路徑行進之第一光信號與沿第二路徑行進之第二光信號之間之一相位變化。
B7.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含在干涉條紋圖案中存在一個以上峰值或谷值時，判定經反射第一光信號與經反射第二光信號之間之一相位變化。
B8.在該方法中，光束分離器包括一非偏振光束分離器。
B9.在該方法中，一正弦干涉條紋圖案指示由光束分離器接收之沿第一路徑之經反射第一光信號與沿第二路徑之經反射第二光信號之間無異常相位變動。
B10.根據本發明之另一實施例，該方法進一步包含產生一光信號。該方法包含對光信號進行準直以產生準直光信號。
已出於圖解說明及描述之目的提供實施例之前述描述。其並不意欲係詳盡的或限制本發明。一特定實施例之個別元件或特徵通常不限於該特定實施例，而在適用之情況下，可交換且可用於一選定實施例中，即使未具體展示或描述。一特定實施例之個別元件或特徵亦可以許多方式變動。此等變動不應被視為背離本發明，且全部此等修改意欲包含於本發明之範疇內。
儘管已出於清楚理解之目的描述前述實施例之一些細節，然將明白，可在隨附發明申請專利範圍之範疇內實踐特定改變及修改。因此，本發明實施例應被認為係闡釋性的而非限制性的，且實施例不應限於本文中給出之細節但可在其等範疇及發明申請專利範圍之等效物內進行修改。
101:鏡 102:鏡 110:同調雷射 111:同調雷射光束 111A:光束 111B:光束 120:光束分離器 130:感測器 135:干涉圖(干涉條紋圖案) 200:行動電話 210:背蓋 215:電池 220:底殼 225:電路板 230:面殼 240:顯示模組 250:透明光學材料 250a:蓋玻璃/觸控面板 251:頂部表面 252:底部表面 260:圓偏振器 260-A:四分之一波板 260-B:偏振器 270:顯示層 271:頂部表面 300A:干涉儀波形偵測系統 301:軸 302:軸 303:平面 304:平面 305:軸 310:雷射 311:準直光信號 311a:第一光信號 311a-1:第一片段 311a-2:第二片段 311a-3:第三片段 311b:第二光信號 311b-1:第一片段 311b-2:第二片段 311b-3:第三片段 311b-4:第四片段 311b-5:第五片段 320:光束分離器 330:2D光感測器陣列 335:干涉條紋圖案或干涉圖 340:軌道系統 350:支撐架 380:運算裝置 381:有線連接 390:支撐結構 400:流程圖 410:步驟 420:步驟 430:步驟 440:步驟 450:步驟 460:步驟 470:步驟 500A:干涉儀波形偵測系統 500B:干涉儀波形偵測系統 511:準直光信號 511a:第一光信號 511a-1:第一片段 511a-2:第二片段 511a-3:第三片段 511a-4:第四片段 511a-5:第五片段 511b:第二光信號 511b-1:第一片段 511b-2:第二片段 511b-3:第三片段 520:四分之一波板 535:干涉條紋圖案或干涉圖 550:支撐架 560:軌道系統 565:軌道系統 590:支撐結構 590':外殼/支撐結構 600:流程圖 610:步驟 620:步驟 630:步驟 640:步驟 650:步驟 660:步驟 670:步驟 735a:干涉條紋圖案 735b:干涉條紋圖案 735c:干涉條紋圖案 810A:峰值 810B:峰值 810C:X形谷值 810D:X形谷值 810E:峰值 820A:X形谷值 820B:X形谷值 820E:谷值 900:硬體系統 901:中央處理單元或處理器 910:控制模組 912:其他感測器 914:資料匯流排 918:顯示介面 920:使用者輸入裝置 950:記憶體 952:儲存器 D1:距離 D2:距離
可藉由參考結合隨附圖式獲取之以下描述最佳理解實施例。圖式未按比例繪製。
圖1圖解說明一邁克爾遜干涉儀。
圖2A圖解說明一行動電話之各個組件層，包含具有一透明蓋玻璃及顯示層之一顯示模組，使用本發明之實施例來量測各者之平坦度。
圖2B係具有各個層之一顯示模組之一橫截面，可使用本發明之實施例來量測其之平坦度。
圖3A係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一透明光學材料之平坦度之一干涉儀波形偵測系統的一方塊圖。
圖3B係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一透明光學材料之平坦度之圖3A之干涉儀波形偵測系統的一自上而下視圖。
圖3C圖解說明根據本發明之一項實施例之沿圖3B中之點A-A之間繪製之一線獲取之圖3A至圖3B之干涉儀波形偵測系統的一剖視圖。
圖3D圖解說明根據本發明之一項實施例之圖3A至圖3C之干涉儀波形偵測系統中之一透明光學材料的放置，及仍提供平坦度之精確偵測之偵測系統內之透明光學材料的不同定向。
圖4係圖解說明根據本發明之一項實施例之用於量測一透明材料之平坦度之變動、或厚度之變動、或折射性之變動之一方法的一流程圖。
圖5A係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測充當一反射鏡之一顯示模組之平坦度之一干涉儀波形偵測系統的一方塊圖。
圖5B-1係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一顯示模組之平坦度之圖5A之干涉儀波形偵測系統的一自上而下視圖。
圖5B-2係根據本發明之一項實施例之經組態以偵測一顯示模組之平坦度之圖5A之干涉儀波形偵測系統的一自上而下視圖。
圖5C-1圖解說明根據本發明之一項實施例之沿圖5B之點B-B之間繪製之一線獲取之圖5A至圖5B之干涉儀波形偵測系統的一剖視圖。
圖5C-2圖解說明根據本發明之一項實施例之沿圖5B之點B-B之間繪製之一線獲取之圖5A至圖5B之干涉儀波形偵測系統的一剖視圖。
圖6係圖解說明根據本發明之一項實施例之用於量測一顯示模組之平坦度之變動、或厚度之變動、或折射性之變動之一方法的一流程圖。
圖7A至圖7C圖解說明根據本發明之實施例之偵測一透明光學材料及/或一顯示模組之平坦度之干涉條紋圖案的各種覆蓋區域。
圖8A至圖8F圖解說明實施例中之量測一透明光學材料(例如，蓋玻璃)或顯示模組之平坦度之多個干涉圖干涉條紋圖案。
圖9展示根據本發明之實施例之用於控制上文描述之系統的一控制模組。
250:透明光學材料
300A:干涉儀波形偵測系統
310:雷射
311:準直光信號
311a:第一光信號
311a-1:第一片段
311a-2:第二片段
311a-3:第三片段
311b:第二光信號
311b-1:第一片段
311b-2:第二片段
311b-3:第三片段
311b-4:第四片段
311b-5:第五片段
320:光束分離器
330:2D光感測器陣列
335:干涉條紋圖案或干涉圖

Claims (22)

  1. 一種干涉儀偵測系統，其包括： 一光束分離器，其經組態以接收一準直光信號且將該準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號； 一第一鏡，其經組態以沿該第一路徑接收並反射該第一光信號； 一第二鏡，其經組態以經由沿該第二路徑定位在該光束分離器與該第二鏡之間之一透明材料沿該第二路徑接收並反射該第二光信號；及 一2D光感測器陣列，其經組態以從該光束分離器接收與沿該第二路徑雙重穿過該透明材料之該經反射第二光信號合併之沿該第一路徑之該經反射第一光信號且產生一干涉條紋圖案， 其中一非正弦干涉條紋圖案指示沿該第一路徑之該經反射第一光信號之一第一波前與沿該第二路徑雙重穿過該透明材料之該經反射第二光信號之一第二波前之間的幾何變動。
  2. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中沿該第一路徑之該第一鏡與該光束分離器之間之一第一距離等於沿該第二路徑之該第二鏡與該光束分離器之間之一第二距離。
  3. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中由該透明材料之厚度之一變動或跨該透明材料之折射性之一變動導致沿該第一路徑之該經反射第一光信號之該第一波前與沿該第二路徑雙重穿過該透明材料之該經反射第二光信號之該第二波前之間的一相位變化。
  4. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中該透明材料包括用於一顯示模組之一蓋玻璃。
  5. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中該第二光信號在自該第二鏡反射之前從該光束分離器行進並穿過該透明材料且在到達該光束分離器之前雙重穿過該透明材料。
  6. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中藉由該干涉條紋圖案中之一個以上峰值或谷值指示沿該第一路徑之該經反射第一光信號之該第一波前與沿該第二路徑雙重穿過該透明材料之該經反射第二光信號之該第二波前之間的一相位變化。
  7. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中該透明材料之一平面非平行於該鏡之一平面。
  8. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中該透明材料之一平面平行於該鏡之一平面。
  9. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中將該透明材料沿該第二路徑被放置在該光束分離器與該第二鏡之間之任何點處。
  10. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其中一正弦干涉條紋圖案指示沿該第一路徑之該經反射第一光信號之該第一波前與沿該第二路徑雙重穿過該透明材料之該經反射第二光信號之該第二波前之間無異常相位變動。
  11. 如請求項1之干涉儀偵測系統，其進一步包括： 一光源，其產生經準直以產生該準直光信號的一光信號。
  12. 一種干涉儀偵測系統，其包括： 一光束分離器，其經組態以接收具有一第一線性偏振之一準直光信號且將該準直光信號分離成沿一第一路徑行進之一第一光信號及沿一第二路徑行進之一第二光信號； 一第一四分之一波板； 一鏡，其經組態以經由沿該第一路徑定位在該光束分離器與該鏡之間之該第一四分之一波板沿該第一路徑接收並反射該第一光信號； 一受測試裝置(DUT)之一顯示模組，其經組態以沿該第二路徑接收並反射該第二光信號；及 一2D光感測器陣列，其經組態以從該光束分離器接收與沿該第二路徑之該經反射第二光信號合併之沿該第一路徑雙重穿過該四分之一波板之該經反射第一光信號且產生一干涉條紋圖案， 其中一非正弦干涉條紋圖案指示由該光束分離器接收之沿該第一路徑之該經反射第一光信號之一第一波前與沿該第二路徑之該經反射第二光信號之一第二波前之間的一幾何變動。
  13. 如請求項12之干涉儀偵測系統，其中該顯示模組包括： 一圓偏振器，其包含一第二四分之一波板及一偏振器；及 一顯示層，其經組態用於顯示像素影像。
  14. 如請求項13之干涉儀偵測系統，其中該顯示層包括： 一液晶顯示器(LCD)、或發光二極體(LED)顯示器、或一有機發光二極體(OLED)顯示器。
  15. 如請求項13之干涉儀偵測系統， 其中該光束分離器經組態以從該第一四分之一波板接收具有自該第一線性偏振旋轉達九十度之一第二線性偏振之該經反射第一光信號，且經組態以從該顯示模組接收具有該第二線性偏振之該經反射第二光信號。
  16. 如請求項15之干涉儀偵測系統， 其中該第一光信號在自該鏡反射之前從該光束分離器行進並穿過該第一四分之一波板且在到達該光束分離器之前雙重穿過該第一四分之一波板， 其中該第二光信號在自該偏振器反射之前從該光束分離器行進並穿過該圓偏振器之該第二四分之一波板且在到達該光束分離器之前雙重穿過該圓偏振器。
  17. 如請求項13之干涉儀偵測系統，其中沿該第一路徑之該鏡與該光束分離器之間之一第一距離等於沿該第二路徑之該顯示模組之該圓偏振器之該偏振器與該光束分離器之間之一第二距離。
  18. 如請求項12之干涉儀偵測系統，其中由該顯示模組之平坦度之一變動導致沿該第一路徑行進之該第一光信號與沿該第二路徑行進之該第二光信號之間之一相位變化。
  19. 如請求項12之干涉儀偵測系統，其中藉由該干涉條紋圖案中之一個以上峰值或谷值指示該經反射第一光信號與該經反射第二光信號之間之一相位變化。
  20. 如請求項12之干涉儀偵測系統，其中該光束分離器包括一非偏振光束分離器。
  21. 如請求項12之干涉儀偵測系統，其中一正弦干涉條紋圖案指示由該光束分離器接收之沿該第一路徑之該經反射第一光信號之一第一波前與沿該第二路徑之該經反射第二光信號之一第二波前之間的幾何相位變動。
  22. 如請求項12之干涉儀偵測系統，其進一步包括： 一光源，其產生經準直以產生該準直光信號的一光信號。
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