TW202024680A - 階梯式結構光學濾波器 - Google Patents

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Abstract

濾波器可以包括基板。濾波器可以包括佈置在基板上的階梯介質。濾波器可以包括佈置在階梯介質上的第一鏡。第一鏡可以形成階梯鏡面。階梯鏡面的每個階梯可以對應於濾波器的一組通道中的一個通道。光學濾波器可以包括佈置在階梯鏡面上的間隔物。光學濾波器可以包括佈置在間隔物的另一表面上的第二鏡。

Description

階梯式結構光學濾波器
本發明相關於階梯式結構光學濾波器。
光發射器可以發出光，光被引向物件。例如，在手勢識別系統中，光發射器可以朝著用戶發射近紅外光，並且近紅外光可以從用戶反射朝著光接收器。在這種情況下，光接收器可以捕獲關於近紅外光的資訊，並且該資訊可以用於識別由使用者正在執行的手勢。在另一個例子中，可以捕獲關於可見光的資訊，例如關於可見光的不同波長的資訊，以對物體成像。
然而，在具有感興趣波長的光朝著目標傳播期間和/或在光從目標朝著光接收器反射期間，環境光可以連同感興趣波長一起被引入。例如，當光接收器將接收從目標反射的近紅外光時，光接收器也可能接收可見光（例如，來自另一光源，例如燈泡或太陽）。因此，光接收器可以光學地耦合到光學濾波器，例如帶通濾波器，以對環境光濾波並允許一個或更多個波長的光朝著光接收器通過。另外或者可選地，當執行對多個波長的光的感測時，濾波器可以被提供來確保多個波長的光中的每一波長的光被引導到不同的感測器。
可以是光接收器的多光譜感測器裝置可以被用於捕獲關於多個波長的光的資訊。多光譜感測器裝置可以包括捕獲資訊並被耦合到多光譜濾波器的一組感測器元件（例如，光感測器、光譜感測器和/或影像感測器）。例如，感測器元件的陣列可以被用於捕獲與多個頻率相關的資訊，並且多光譜濾波器可將與不同頻率相關聯的光引導到每個感測器元件。在一些情況下，單個二元多光譜濾波器（binary multispectral filter）可以被佈置成覆蓋感測器元件陣列的每個感測器元件，並且可以形成用於感測器元件陣列的一組通道。
根據一些可能的實施方式，濾波器可以包括基板。濾波器可以包括佈置在基板上的階梯介質（stepped medium）。濾波器可以包括佈置在階梯介質上的第一鏡。第一鏡可以形成階梯鏡面（stepped mirror surface）。階梯鏡面的每個階梯可以對應於濾波器的一組通道中的一個通道。濾波器可以包括佈置在階梯鏡面上的間隔物（spacer）。濾波器可以包括佈置在間隔物的另一表面上的第二鏡。
根據一些可能的實施方式，系統可以包括感測器元件陣列，該感測器元件陣列包括與多個通道相關聯的多個感測器元件。該系統可以包括可變間隔物濾波器。可變間隔物濾波器可以包括第一基板。可變間隔物濾波器可以包括佈置在第一基板上的階梯介質。可變間隔物濾波器可以包括佈置在階梯介質上的第一鏡。第一鏡可以形成階梯鏡面。階梯鏡面的每個階梯可以對應於濾波器的一組通道中的一個通道。可變間隔物濾波器可以包括佈置在第二基板上並與第一鏡可對準的第二鏡。腔可以將第一鏡和第二鏡分開。第二鏡可以相對於第一鏡可平移，使得在第一鏡和第二鏡之間的間距是可變的。
根據一些可能的實施方式，多通道濾波器可以包括介質以形成階梯式結構（stepped structure）。多通道濾波器可以包括佈置在階梯式結構上的第一鏡以形成階梯鏡結構。階梯鏡結構的每個階梯可以形成多通道濾波器的波長通道。多通道濾波器可以包括佈置在第一鏡上的間隔物。間隔物的第一表面可以抵靠第一鏡佈置以形成階梯表面，以及間隔物的第二表面與第一鏡相對以形成平坦表面。多通道濾波器可以包括佈置在間隔物的第二表面上的第二鏡以形成多通道濾波器的平面鏡。
以下示例實施方式的詳細描述參考了附圖。不同圖中相同的元件符號可以標識相同或相似的元件。
感測器元件（例如光感測器）可以被合併到光感測器裝置內以獲得關於一組電磁頻率的資訊（例如光譜資料）。例如，光感測器裝置可以包括可以執行光的感測器測量的影像感測器、多光譜感測器等。光感測器裝置可利用一種或更多種感測器技術，諸如互補金屬氧化物半導體（CMOS）技術、電荷耦合器件（CCD）技術等。光感測器裝置可以包括多個感測器元件（例如感測器元件的陣列），每個感測器元件被配置成獲得關於光的不同頻率的資訊。
感測器元件可以與對前往該感測器元件的光進行濾波的濾波器相關聯。例如，感測器元件可以與線性可變濾波器（LVF）、圓形可變濾波器（CVF）、法布立-培若濾波器等對準，以使朝著感測器元件引導的光的一部分被濾波。對於二元濾波器結構，例如法布立-培若濾波器，間隔物可以被定位於二元濾波器結構的反射器（例如鏡）之間。反射器的層、間隔物的層等的折射率、厚度等的配置可以使二元濾波器結構的配置能夠形成一組通道。通道可以是濾波器的將特定波長範圍的光引導到感測器元件陣列的感測器元件的一部分。以這種方式，感測器元件陣列可以獲得關於多個不同波長的光的資訊。
然而，至少部分地基於選定折射率、間隔物厚度和/或諸如此類而配置的固定的一組通道可以將感測器元件陣列限制為執行對固定的一組波長的測量。因此，為了確保也可以被稱為多通道濾波器的二元多光譜濾波器被配置成捕獲感興趣的任何波長的光，二元多光譜濾波器可以被設計成具有大於閾值數量的通道，並且感測器元件陣列可以相應地包括大於閾值數量的感測器元件。這可能導致過大的尺寸和/或過高的成本以確保在使用二元多光譜濾波器時的靈活性。
此外，一些二元多光譜濾波器使用不同的間隔物厚度來形成在不同波長範圍處的不同通道。對於這些二元多光譜濾波器，可以通過在直接沉積在基板上的第一平面鏡的頂部上沉積多層間隔物材料來形成不同的間隔物厚度。在這種情況下，多層間隔物材料被沉積以形成階梯式結構間隔物，並且第二鏡被沉積在間隔物的階梯式結構上。然而，沉積多層間隔材料可能導致缺陷，其可能降低二元多光譜濾波器的光學性能。例如，當氫化矽用於間隔物材料時，氫化矽的每一層的表面可能在層沉積物之間部分地氧化成二氧化矽，這可能導致減小的透射率、增加的角度偏移和/或諸如此類。
本文所述的一些實施方式提供了具有改進的間隔物的多光譜濾波器陣列。例如，二元多光譜濾波器可以包括：佈置在基板和第一鏡之間的階梯介質，使第一鏡具有階梯表面；佈置在鏡的階梯表面上的整體式間隔物；以及佈置在整體式間隔物的平坦表面上的第二鏡。在這種情況下，基於在單個程序中形成間隔物而不是沉積多個間隔物層來構建階梯式結構，諸如表面氧化的缺陷可以被避免，從而提高光學性能。例如，整體式間隔物可以實現提高的透射率、減小的角度偏移和/或諸如此類。
此外，本文所述的一些實施方式可以使第二鏡能夠相對於第一鏡可移動，而不是直接佈置在間隔物上並佈置在固定位置上。例如，第二鏡可以是相對於第一鏡可平移的（即，第一鏡或第二鏡可以移動或者第一鏡和第二鏡都可以移動），從而使由間隔物形成的、在第一鏡和第二鏡之間的間隙能夠在第二鏡平移時在厚度上改變。以這種方式，一組通道的波長範圍可以是動態地可重新配置的，從而增加可以由與該組通道對準的感測器元件捕獲的光譜帶的數量。此外，以這種方式，在多光譜濾波器中的覆蓋特定光譜範圍的通道的數量可以相對於在鏡之間有固定間隙的多光譜濾波器減少，從而實現減小的尺寸、降低的成本和/或諸如此類。
圖1是本文描述的多光譜濾波器100的示例實施方式的圖。如圖1所示，多光譜濾波器100（例如，二元結構光學濾波器陣列）可以包括基板110、介質120、第一鏡130-1、第二鏡130-2和間隔物140。
在一些實施方式中，基板110可以與光感測器裝置相關聯。例如，基板110可以包括感測器元件的陣列以捕獲資訊（例如，光譜資料）。此外或可選地，基板110可以不包括感測器元件，並且多光譜濾波器100可以與佈置在另一基板上的感測器元件對準。此外或可選地，多光譜濾波器100可以被設計成沒有基板110。例如，多光譜濾波器100可以位於自由空間中，可以佈置到不是多光譜濾波器100的一部分的光感測器裝置的基板上，和/或諸如此類。
在一些實施方式中，多光譜濾波器100可以與特定光譜範圍相關聯。例如，多光譜濾波器100可以與在可見光譜範圍、近紅外（NIR）光譜範圍、中紅外（MIR）光譜範圍和/或諸如此類中的多個通道相關聯。在這種情況下，多光譜濾波器100可以與在約300奈米（nm）和2500 nm之間、360奈米（nm）和2500 nm之間、在約600 nm和約2000 nm之間、在約350 nm和約750 nm之間、380 nm和約780 nm之間、在約750 nm和約1500 nm、750 nm和約1100 nm、900 nm和約2500 nm之間、在約900 nm和約1700 nm之間、在約900 nm和約1500 nm之間和/或諸如此類的光譜範圍相關聯。在一些實施方式中，多光譜濾波器100可以包括閾值數量的通道，例如大於或等於8個通道、16個通道、32個通道、64個通道、128個通道、256個通道和/或諸如此類。
如在圖1中進一步所示的，介質120可以與階梯式結構相關聯，階梯式結構可以形成多光譜濾波器100的一組通道。例如，如在本文更詳細描述的，可以使用光微影程序以形成階梯式結構來形成介質120。在一些實施方式中，如所示的，介質120可以沿著單個軸成階梯狀（即，在一維上成階梯狀）。例如，介質120可以成階梯狀以形成沿著單個軸延伸的一組8個不同的通道。在一些實施方式中，介質120可以沿著多個軸成階梯狀（即，在二維上成階梯狀）。例如，介質120可以垂直於單個軸成階梯狀以形成總共64個不同的通道。在一些實施方式中，介質120可以包括一個或更多個重複的通道。例如，如所示，由介質120形成的通道7可以佈置在多光譜濾波器100的邊緣處，這可以為多光譜濾波器100提供結構穩定性。在一些實施方式中，介質120可以使一個或更多個通道是不活動的。例如，第一鏡130-1和第二鏡130-2的與形成通道7的介質120的柱對準的部分可以不將間隔物140的一部分夾在中間。這可能導致通道7是不活動的（但仍用於結構支撐）。此外或可選地，間隔物140的一部分可以被第一鏡130-1和第二鏡130-2夾在中間以使通道7成為活動通道。
在一些實施方式中，可以使用特定材料來形成介質120。例如，介質120可以由對一波長範圍（對於該波長範圍，多光譜濾波器100將捕獲光譜資料）透射的材料形成。在這種情況下，材料可以包括基於鉭的介質材料、基於鈮的介質材料、基於二氧化矽的介質材料、基於氧化物的介質材料、基於III-V半導體的介質材料、基於磷化鎵的介質材料、基於鍺的介質材料、基於鍺矽的介質材料、基於電介質的介質材料、基於聚合物的介質材料、基於氮化物的介質材料、基於磷化物的介質材料、基於碳化物的介質材料、其組合和/或諸如此類。
如在圖1中進一步所示的，第一鏡130-1和第二鏡130-2可以將間隔物140夾在中間。換句話說，間隔物140可以將第一鏡130-1和第二鏡130-2分開一組距離，和/或間隔物140的面可以被第一鏡130-1和第二鏡130-2包圍。在這種情況下，這組距離可以形成不同的通道。例如，與通道0對準的第一鏡130-1的第一部分和第二鏡130-2可以分開第一距離，並且可以形成使第一波長帶的光通過的第一通道。類似地，與通道1對準的第一鏡130-1的第二部分和第二鏡130-2可以分開第二距離，這是由於介質120具有階梯式結構並導致對於間隔物140的階梯式結構，如在本文更詳細描述的，並且可以形成使第二波長帶的光通過的第二通道。在這種情況下，第一通道可以與第一感測器元件對準並且可以形成用於獲得關於第一光譜範圍的光譜資料的第一分量濾波器，以及第二通道可以與第二感測器元件對準並且可以形成用於獲得關於第二光譜範圍的光譜資料的第二分量濾波器。
在一些實施方式中，鏡130可以與特定材料相關聯。例如，鏡130可以包括一組金屬鏡層（例如銀）、一組電介質鏡層（例如交替的氫化矽層和二氧化矽層）等，以將從光源引導的光的一部分引導到與多光譜濾波器100相關聯的感測器元件。在一些實施方式中，鏡130可以與和多光譜濾波器100的每個通道相關聯的、感測器元件陣列的每個感測器元件對準。
在一些實施方式中，間隔物140可以是整體地形成的間隔物，如在本文更詳細描述的。例如，可以通過將材料沉積到第一鏡130-1的階梯表面上來形成間隔物140，使得間隔物140的在與第一鏡130-1的介面處的第一表面是階梯表面，並且間隔物140的在與第二鏡130-2的介面處的第二表面是平坦表面。在一些實施方式中，間隔物140可以由特定材料形成以使多光譜濾波器100具有特定的波長範圍、透射率（例如，大於50%、大於70%、大於90%、大於95%、大於99%、大於99.9%、大於99.99%等）和/或諸如此類。例如，間隔物140可以是基於氫化矽的間隔物、基於氧化物的間隔物、基於鍺的間隔物、基於矽鍺的間隔物、聚合物間隔物、其組合和/或諸如此類。在一些實施方式中，間隔物140可以具有大於1.5、大於1.7、大於2.5、大於3.0、大於3.5和/或諸如此類的折射率。
在一些實施方式中，間隔物140可以包括非固體間隔物材料。例如，間隔物140可以由氣體材料（例如，空氣或另一種氣體材料）或液體材料形成，以使間隔物140的尺寸（即，在第一鏡130-1和第二鏡130-2之間的間隔）能夠膨脹或收縮，如在本文更詳細描述的。在一些實施方式中，間隔物140可以包括多種間隔物材料。例如，間隔物140可以包括形成間隔物140的第一部分並覆蓋第一鏡130-1的固體間隔物和形成間隔物140的第二部分並使第二鏡130-2能夠相對於第一鏡130-1平移的液體間隔物。類似地，間隔物140可以包括覆蓋第一鏡130-1的第一固體間隔物、覆蓋第二鏡130-2的第二固體間隔物以及佈置在第一固體間隔物和第二固體間隔物之間以使第二鏡130-2能夠相對於第一鏡130-1平移的第三液體間隔物。以這種方式，基於具有階梯式結構，間隔物140使多光譜濾波器100的不同部分能夠使不同波長帶的光通過以形成不同的通道。此外，基於在沒有多層材料或者有小於閾值數量的材料層的情況下被形成，間隔物140可以與小於閾值水準的缺陷（例如在間隔物140內的小於閾值量的表面氧化）相關聯，從而提高多光譜濾波器100的光學性能。
在一些實施方式中，形成例如介質120、第一鏡130-1、第二鏡130-2、間隔物140和/或諸如此類的層可以包括一組高折射率材料層（H層），例如矽層、氫化矽層、矽鍺（SiGe）層、氫化鍺層、氫化矽鍺層和/或諸如此類。在一些實施方式中，形成例如介質120、第一鏡130-1、第二鏡130-2、間隔物140和/或諸如此類的層可以包括一組低折射率材料（L層），例如二氧化矽層、氮化矽層、五氧化二鉭（Ta2 O5 ）層、五氧化二鈮（Nb2 O5 ）層、二氧化鈦（TiO2 ）層、氧化鋁（Al2 O3 ）層、氧化鋯（ZrO2 ）層、氧化釔（Y2 O3 ）層、氮化矽（Si3 N4 ）層、其組合和/或諸如此類。儘管一些層可以被描述為特定材料，例如矽鍺，但一些層可以包括（少量）磷光體、硼、氮化物和/或諸如此類。
在一些實施方式中，形成例如介質120、第一鏡130-1、第二鏡130-2、間隔物140和/或諸如此類的層可以與特定數量的層（例如在2層至200層的範圍內的交替的高折射率層和低折射率層）相關聯。在一些實施方式中，可以使用濺射程序、光微影程序、蝕刻程序、剝離程序、刮削程序、退火程序、模製程序、鑄造程序、機械加工程序、衝壓程序和/或諸如此類來製造一個或更多個層。
在一些實施方式中，形成例如介質120、第一鏡130-1、第二鏡130-2、間隔物140和/或諸如此類的層中的每一層可以與特定厚度相關聯。例如，每層可以與在約1 nm和約1500 nm之間、在約10 nm和約500 nm之間和/或諸如此類的厚度相關聯。此外或可選地，多光譜濾波器100可以與在約0.1 µm和約100 µm之間、約0.25 µm和約100 µm之間和/或諸如此類之間的厚度相關聯。
以這種方式，多光譜濾波器100在間隔物140中形成的缺陷的量減少的情況下形成用於捕獲關於多個波長範圍的光譜資料的多個通道，從而提高多光譜濾波器100的光學性能。
如上面所指示的，圖1僅作為例子被提供。其他例子是可能的，並且可以不同於關於圖1所描述的內容。
圖2是本文描述的多光譜濾波器200的示例實施方式的圖。如圖2所示，多光譜濾波器200可以包括第一基板110-1、第二基板110-2、介質120、第一鏡130-1、第二鏡130-2和間隔物140。
在一些實施方式中，第二基板110-2可以沉積到第二鏡130-2上。例如，第二鏡130-2可以沉積到間隔物140上，以及第二基板110-2可以沉積到第二鏡130-2上。此外或可選地，第二鏡130-2可以沉積到第二基板110-2上。例如，介質120可以沉積在第一基板110-1上，第一鏡130-1可以沉積在介質120上，間隔物140可以沉積到第一鏡130-1上，第二鏡130-2可以沉積在第二基板110-2上，並且第二鏡130-2和第二基板110-2可以與第一鏡130-1和第一基板110-1對準。
如上面所指示的，圖2僅作為例子被提供。其他例子是可能的，並且可以不同於關於圖2所描述的內容。
圖3A-3D是本文描述的多光譜濾波器300的示例實施方式的圖。如圖3A所示，多光譜濾波器300可以包括第一基板110-1、第二基板110-2、介質120、第一鏡130-1、第二鏡130-2和間隔物140。如圖3A進一步所示的，多光譜濾波器300附接到一個或更多個平移裝置310。
如圖3A進一步所示的，多光譜濾波器300的第二鏡130-2可以相對於第一鏡130-1可移動以使間隔物140具有可變厚度，這可以改變通過多光譜濾波器200的通道的光的光譜範圍。儘管在本文描述的一些實施方式從相對於固定的第一鏡130-1平移、傾斜或以其他方式移動第二鏡130-2方面進行描述，但第一鏡130-1可以相對於第二鏡130-2移動，第一鏡130-1和第二鏡130-2都可以通過平移裝置310來移動，和/或諸如此類。
如圖3B所示，第二鏡130-2通過平移裝置310來相對於第一鏡130-1平移。例如，第二基板110-2和第二鏡130-2可以相對於圖3A所示的位置移動得更遠離第一基板110-1和第一鏡130-1。在一些實施方式中，平移裝置310可以是聚焦元件、音圈電機、壓電換能器、矽微機電系統（MEMS）裝置、熱機械裝置、雙穩態光束開關和/或諸如此類。
如圖3C所示，第二鏡130-2可以由平移裝置310平移，使得第二鏡130-2相對於第一鏡130-1傾斜。例如，第二基板110-2可以附接到傾斜裝置、多個平移裝置和/或諸如此類。以這種方式，可以通過對於通道的第一部分減小在第二鏡130-2和第一鏡130-1之間的間隔、對於通道的第二部分增加在第二鏡130-2和第一鏡130-1之間的間隔、對於第三部分保持在第二鏡130-2和第一鏡130-1之間的間隔和/或諸如此類來進一步配置多光譜濾波器300的通道的波長範圍。
在一些實施方式中，移動裝置可以基於特定的定時配置相對於第一鏡130-1來移動第二鏡130-2。例如，在與多光譜濾波器300的通道對準的感測器元件的讀出期間，可以觸發移動裝置來移動第二鏡130-2，以使一些通道與不同的波長範圍相關聯而其他通道保持默認的波長範圍。作為例子，當多光譜濾波器包括具有公共波長範圍的多個通道時，如圖1和圖2中關於多個通道7所示的，移動裝置可以被觸發以使與公共波長範圍相關聯的第一通道的第一感測器元件在第二鏡130-2的第一位置處讀出，以及與公共波長範圍相關聯的第二通道的第二感測器元件在第二鏡130-2的第二位置處讀出。以這種方式，多光譜濾波器200可以使用公共通道來實現多個光譜範圍。此外，移動裝置可以使第一感測器元件在第一位置處和第二位置處讀出，導致使用單個通道來捕獲多個光譜範圍。
在一些實施方式中，間隔物140可以被限定來能夠基於相對於第一鏡130-1平移第二鏡130-2來實現可變間隔物寬度。例如，間隔物140可以是可以被多光譜濾波器300封裝的氣體間隔物或液體間隔物，以當第二鏡130-2相對於第一鏡130-1平移時使氣體間隔物或液體間隔物能夠膨脹和/或收縮。此外或可選地，間隔物140可以被限定成使得額外的氣體間隔物材料或液體間隔物材料可以被提供到在第二鏡130-2和第一鏡130-1之間的間隙中和/或從間隙被移除以使間隔物能夠提供可變的厚度。
如圖3D所示，多個間隔物140（例如第一間隔物140-1和第二間隔物140-2）可以佈置在第一鏡130-1和第二鏡130-2之間。例如，第一間隔物140-1可以是覆蓋第一鏡130-1的固體間隔物，以及第二間隔物140-2可以是實現在第一鏡130-1和第二鏡130-2之間的可變間隔的氣體（或液體）間隔物。
如上面所指示的，圖3A至3D僅作為例子被提供。其他例子是可能的，並且可以不同於關於圖3A至3D所描述的內容。
圖4是用於製造本文所述的多光譜濾波器的示例程序400的流程圖。在一些實施方式中，圖4的一個或更多個程序方塊可以在製造程序期間由沉積裝置（例如，由蝕刻裝置、濺射裝置、光微影裝置和/或諸如此類）執行。
如圖4所示，程序400可以包括在基板上佈置介質以形成階梯式結構（方塊410）。例如，沉積裝置可以將介質沉積在基板上以形成階梯式結構。在一些實施方式中，沉積裝置可以沉積多層介質以形成階梯式結構。例如，可以沉積多層光微影材料，並且可以沉積多層介質以形成階梯式結構。在這種情況下，多層光微影材料可以與光遮罩結合來暴露於光，以選擇性地去除光微影材料並使多層介質形成階梯式結構。關於圖5A至5K詳細地描述對於介質的階梯式結構的光微影形成。此外或可選地，介質可以佈置在基板上以使用蝕刻程序來形成階梯式結構。例如，介質可以沉積到基板上，且然後被蝕刻以形成階梯式結構。儘管本文描述的一些實施方式從光微影程序或蝕刻程序方面被描述，但用於形成階梯介質結構的其他程序是可能的。
如圖4所示，程序400可以包括在介質上佈置多通道濾波器的第一鏡以形成階梯鏡結構（方塊420）。例如，沉積裝置可以將第一鏡沉積在介質上。在這種情況下，第一鏡可以基於具有階梯式結構的介質來形成階梯式結構，第一鏡沉積在介質上。
如圖4所示，程序400可以包括在第一鏡上佈置多通道濾波器的間隔物（方塊430）。例如，沉積裝置可以在第一鏡上沉積間隔物。在這種情況下，間隔物可以是使用單個沉積步驟沉積的固體間隔物，單個沉積步驟相對於使用多個沉積和蝕刻步驟沉積間隔物可以減少對光學性能的基於表面層氧化的影響。此外或可選地，間隔物可以是可以插入到由第一鏡和第二鏡形成的腔中的液體間隔物或氣體間隔物，這可以實現具有可平移鏡的可變間隔物二元多光譜濾波器。在一些實施方式中，間隔物可以形成平坦表面。例如，間隔物可以沉積到第一鏡上，使得與第一鏡的階梯鏡面通過介面連接的第一表面是階梯狀的，並且使得在間隔物的相對側上的第二表面是平坦的。在這種情況下，可以蝕刻間隔物以去除間隔物的一部分從而形成平坦表面。在一些實施方式中，第一鏡或介質可以形成用於蝕刻間隔物以形成平坦表面的蝕刻停止層。
如圖4所示，程序400可以包括在間隔物的第二表面上佈置第二鏡以形成多通道濾波器的平面鏡（方塊440）。例如，沉積裝置可以將第二鏡沉積在間隔物的第二表面上，使得鏡是平面鏡。在一些實施方式中，第二鏡可以與第一鏡對準。例如，第二鏡可以沉積到另一個基板上，並且第二鏡和另一個基板可以與第一鏡對準，使得第二鏡和另一個基板相對於第一鏡可平移以形成可變厚度間隔物。以這種方式，多光譜濾波器可以被形成有多個通道。
儘管圖4示出了程序400的示例方塊，但在一些實施方式中與在圖4中描繪的那些方塊相比程序400可以包括附加方塊、更少的方塊、不同的方塊或不同地排列的方塊。此外或可選地，程序400的兩個或更多個方塊可以並行地被執行。
圖5A至5E是與程序400有關的示例實施方式的圖。圖5A至5K示出了用於製造本文描述的多光譜濾波器的示例程序。
如在圖5A中並且由示意圖500所示的，光阻劑552可以沉積到基板110上。如由示意圖502所示的，光遮罩554和556可以位於光阻劑552之上。
如在圖5B中並且由示意圖504所示的，光遮罩554和556以及光阻劑552的未被光遮罩554和556覆蓋的一部分可以暴露於光。如由示意圖506所示的，基於對光的暴露，光阻劑552的未被光遮罩554和556覆蓋的部分可以保持佈置在基板110上。
如在圖5C中並且由示意圖508所示的，一層介質120可以沉積到基板110和光阻劑552的剩餘部分上。如由示意圖510所示的，光阻劑552的剩餘部分可以被去除。在這種情況下，該層介質120的沉積到基板110上的部分可以保留，形成第一階梯，其中光阻劑552的剩餘部分被去除。如由示意圖512所示的，另一層光阻劑552可以沉積到介質120和基板110上。
如在圖5D中並且由示意圖514所示的，基於使用另一個光遮罩（未示出）和基於對光的暴露，只有另一層光阻劑552的一部分可以保留。如由示意圖516所示的，可以沉積另一層介質120。
如在圖5E中並且由示意圖518所示的，可以去除另一層光阻劑552，導致介質120形成兩個階梯。如由示意圖520所示的，另一層光阻劑552可以沉積到介質120和基板110上。
如在圖5F中並且由示意圖522所示的，基於使用另一光遮罩（未示出）和基於對光的暴露，只有另一層光阻劑552的一部分可以保留。如由示意圖524所示的，可以沉積另一層介質120。
如在圖5G中並且由示意圖526所示的，可以去除另一層光阻劑552，導致介質120形成三個階梯。如由示意圖528所示的，另一層光阻劑552可以沉積到介質120和基板110上。
如在圖5H中並且由示意圖530所示的，基於使用另一光遮罩554和556（未示出）並且基於對光的暴露，只有另一層光阻劑552的一部分可以保留。如由示意圖532所示的，可以沉積另一層介質120。
如在圖5I中並且由示意圖534所示的，可以去除另一層光阻劑552，導致介質120形成4個階梯。如由示意圖536所示的，在另外的光微影步驟之後，一組6個階梯可以由介質120形成，其中在多光譜濾波器的每個邊緣處的通道是公共通道。
如在圖5J中並且由示意圖538所示的，第一鏡558可以沉積到由介質120形成的一組6個階梯上。如由示意圖540所示的，間隔物560可以沉積到第一鏡558上。在這種情況下，基於具有階梯表面的第一鏡558，間隔物560的在與第一鏡558的介面處的第一表面是階梯狀的。此外，間隔物560的第二表面是非平坦表面。
如在圖5K中並且由示意圖542所示的，蝕刻程序可以去除間隔物560的第二表面的一部分以使間隔物560的第二表面為平坦表面。如由示意圖544所示的，第二鏡562沉積在間隔物560的平坦的第二表面上。在這種情況下，基於第一表面是階梯狀的而第二表面是平坦的，間隔物560形成多光譜濾波器的多個通道而無需對於間隔物560的多層沉積。
如上面所指示的，圖5A至5K僅作為例子被提供。其他例子是可能的，並且可以不同於關於圖5A至5K所描述的內容。
圖6是本文描述的示例實施方式600的圖。如圖6所示，示例實施方式600包括感測器系統610。感測器系統610可以是光學系統的一部分，並且可以提供與感測器確定相對應的電輸出。例如，感測器系統610可以是生物測定系統、安全系統、健康監控系統、物件識別系統、光譜識別系統、成像系統和/或諸如此類的一部分。感測器系統610包括光學濾波器結構620，光學濾波器結構620包括光學濾波器630和一組光感測器640（例如，感測器元件陣列）。例如，光學濾波器結構620可以包括執行帶通阻擋功能和/或諸如此類的光學濾波器630。在一些實施方式中，光學濾波器630可以是多光譜濾波器，例如具有階梯介質和整體式間隔物的多光譜濾波器、具有可變厚度間隔物的多光譜濾波器和/或諸如此類。感測器系統610包括朝著目標660（例如，人、物體等）發射光信號的光發射器650。
儘管本文描述的實施方式可以從感測器系統中的光學濾波器方面進行描述，但是本文描述的實施方式可以在另一種類型的系統中被使用，可以在感測器系統的外部被使用等。
在一些實施方式中，可以利用光學濾波器630和光感測器640的另一種佈置。例如，不是使光信號的第二部分與輸入光信號共線地通過，光學濾波器630可以在朝著不同地定位的光感測器640的另一方向上引導光信號的第二部分。在一些實施方式中，光感測器640可以是雪崩光電二極體、砷化銦鎵（InGaAs）檢測器、紅外檢測器等。
如在圖6中且由元件符號670進一步所示的輸入光信號被導向光學濾波器結構620。輸入光信號可以包括由光發射器650發射的可見光、近紅外光、中紅外光和/或諸如此類以及來自感測器系統610正在被利用的環境的環境光。例如，當光學濾波器630是具有多個通道的帶通多光譜濾波器時，光發射器650可以朝著進行光譜測量的物件引導多個波長範圍的近紅外光，並且近紅外光可以從目標660（例如物件）朝著光感測器640反射以允許光感測器640執行對多個波長範圍的近紅外光的測量。在這種情況下，環境光可以從一個或更多個環境光源（例如燈泡或太陽）被導向光感測器640。
在另一個示例中，多個光束可以被導向目標660，並且多個光束的子集可以被反射到光學濾波器結構620，如所示，光學濾波器結構620可以被佈置成相對於光感測器640成傾斜角度。在一些實施方式中，可以使用另一傾斜角度。在一些實施方式中，光學濾波器結構620可以直接被佈置和/或直接被形成到光感測器640上、被佈置在距光感測器640一段距離處（例如，通過自由空間光學器件）等。例如，可以使用例如光微影法、濺射沉積技術（例如，使用氬氣和氦氣作為用於濺射沉積的惰性氣體混合物）等來將光學濾波器結構620塗覆並圖案化到光感測器640上。
在另一示例中，光發射器650可以將近紅外光引向另一類型的目標660，例如用於在手勢識別系統中檢測手勢、檢測在車輛附近的物件、檢測在盲人附近的物件、檢測到物件的接近度（例如，使用LIDAR技術）等，並且因此，近紅外光和環境光可以被引向光感測器640。
在一些實施方式中，光信號的一部分通過光學濾波器630和光學濾波器結構620。例如，光學濾波器630的不同通道的不同間隔物厚度可以使光的第一部分被反射且使光的第二部分通過。在這種情況下，光學濾波器630可以包括由間隔物與階梯介質相結合地形成的多個通道，並且每個通道可以使不同波長的光通過。另外或者可選地，兩個或更多個通道可以使公共波長的光通過。
如在圖6中，基於光信號的被傳遞到光感測器640的部分，光感測器640可以為感測器系統610提供並由元件符號680進一步所示的輸出電信號，例如用於執行光譜測量、識別使用者的手勢、檢測物件的存在等。
如上所述，圖6僅作為例子被提供。其他例子是可能的，並且可以不同於關於圖6所描述的內容。
前述公開提供了說明和描述，但並不旨在窮舉或將實施方式限制到所公開的精確形式。修改和變化根據上述公開是可能的，或者可以從實施方式的實踐中獲得。
本文結合閾值描述了一些實施方式。如本文所使用的，滿足閾值可以指值大於閾值、多於閾值、高於閾值、大於或等於閾值、小於閾值、少於閾值、低於閾值、小於或等於閾值、等於閾值等。
儘管在申請專利範圍中陳述和/或在說明書中公開了特徵的特定組合，但是這些組合並不旨在限制可能的實施方式的公開內容。事實上，這些特徵中的許多可以以申請專利範圍中未具體陳述和/或說明書中未公開的方式組合。儘管所列出的每個從屬請求項可以直接從屬於僅僅一個請求項，但是可能的實施方式的公開內容包括與請求項集合中的每個其他請求項相結合的每個從屬請求項。
本文使用的任何元件、行動或指令不應被解釋為關鍵或必要的，除非明確地被如此描述。此外，如在本文所使用的，冠詞「一（a）」和「一（an）」意欲包括一個或更多個項目，並且可以與「一個或更多個」可互換地使用。此外，如在本文所使用的，術語「集合（set）」意欲包括一個或更多個項目（例如，相關項目、不相關項目、相關項目和不相關項目的組合等），並且可以與“一個或更多個”可互換地使用。在僅旨在說明一個項目的情況下，使用術語「一個（one）」或類似的語言。另外，如本文中所使用的，術語「具有（has）」、「具有（have）」、「具有（having）」、和/或類似詞語旨在是開放式的術語。此外，短語「基於」意欲意指「至少部分地基於」，除非另有明確規定。
0:通道 1:通道 2:通道 3:通道 4:通道 5:通道 6:通道 7:通道 100:多光譜濾波器 110:基板 110-1:第一基板 110-2:第二基板 120:介質 130-1:第一鏡 130-2:第二鏡 140:間隔物 140-1:第一間隔物 140-2:第二間隔物 200:多光譜濾波器 300:多光譜濾波器 310:平移裝置 400:程序 410:方塊 420:方塊 430:方塊 440:方塊 500:示意圖 502:示意圖 504:示意圖 506:示意圖 508:示意圖 510:示意圖 512:示意圖 514:示意圖 516:示意圖 518:示意圖 520:示意圖 522:示意圖 524:示意圖 526:示意圖 528:示意圖 530:示意圖 532:示意圖 534:示意圖 536:示意圖 538:示意圖 540:示意圖 542:示意圖 544:示意圖 552:另一層光阻劑 554:另一光遮罩 556:另一光遮罩 558:第一鏡 560:間隔物 562:第二鏡 600:示例實施方式 610:感測器系統 620:光學濾波器結構 630:光學濾波器 640:光感測器 650:光發射器 660:目標 670:輸入光信號 680:輸出電信號
圖1是本文描述的多光譜濾波器的示例實施方式的圖。
圖2是本文描述的多光譜濾波器的濾波器通道的回應均衡的示例實施方式的圖。
圖3A至3D是本文描述的多光譜濾波器的示例實施方式的圖。
圖4是用於製造本文描述的多光譜濾波器的示例程序的圖。
圖5A至5K是與圖4的示例程序有關的多光譜濾波器的示例實施方式的圖。
圖6是包括本文描述的多光譜濾波器的感測器系統的示例實施方式的圖。
0:通道
1:通道
2:通道
3:通道
4:通道
5:通道
6:通道
7:通道
100:多光譜濾波器
110:基板
120:介質
130-1:第一鏡
130-2:第二鏡
140:間隔物

Claims (20)

  1. 一種濾波器，包括： 基板； 階梯介質，其佈置在所述基板上； 第一鏡，其佈置在所述階梯介質上； 其中，所述第一鏡形成階梯鏡面， 其中，所述階梯鏡面的每個階梯對應於所述濾波器的一組通道中的一個通道； 間隔物，其佈置在所述階梯鏡面上；以及 第二鏡，其佈置在所述間隔物的另一表面上。
  2. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述階梯介質在一維上成階梯狀。
  3. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述階梯介質在二維上成階梯狀。
  4. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述濾波器的所述一組通道的波長範圍在大約380奈米（nm）和780 nm之間。
  5. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述濾波器的所述一組通道的波長範圍在大約750奈米（nm）和1100 nm之間。
  6. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述階梯介質在所述濾波器的波長範圍處與大於70%的透射率相關，並且是下列項之一： 基於氧化物的介質， 基於半導體的介質， 基於電介質的介質， 基於聚合物的介質， 基於氮化物的介質， 基於磷化物的介質，或 基於碳化物的介質。
  7. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述間隔物與大於1.7的折射率相關聯，並且是下列項之一： 基於氫化矽的間隔物， 基於氧化物的間隔物， 基於鍺的間隔物，或 基於矽鍺的間隔物。
  8. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述間隔物是下列項中的至少一項： 氣體間隔物， 聚合物間隔物，或 液體間隔物。
  9. 根據請求項1所述的濾波器，其中，所述階梯介質形成一組柱，以及其中所述一組柱中的至少一個柱形成不活動通道。
  10. 一種系統，包括： 感測器元件陣列，其包括與多個通道相關聯的多個感測器元件；以及 可變間隔物濾波器，其包括： 第一基板； 階梯介質，其佈置在所述第一基板上； 第一鏡，其佈置在所述階梯介質上； 其中，所述第一鏡形成階梯鏡面， 其中，所述階梯鏡面的每個階梯對應於所述濾波器的一組通道中的一個通道；以及 第二鏡，其佈置在第二基板上並與所述第一鏡可對準， 其中，腔將所述第一鏡和所述第二鏡分開，以及 其中，所述第二鏡相對於所述第一鏡可平移，使得在所述第一鏡和所述第二鏡之間的間距可變。
  11. 根據請求項10所述的系統，其中，所述腔被填充有間隔物， 其中，所述間隔物是氣體間隔物材料或液體間隔物材料，以及 其中，所述間隔物被限定成使得當所述第二鏡相對於所述第一鏡平移時，所述間隔物填充所述腔。
  12. 根據請求項10所述的系統，其中，所述一組通道中的一個或更多個通道基於相對於所述第一鏡平移的所述第二鏡是可調整的。
  13. 根據請求項10所述的系統，其中，所述腔至少部分地由第一間隔物材料填充，並且至少部分地由第二間隔物材料填充，以及 其中，所述第一間隔物材料和所述第二間隔材料是下列項之一： 兩個固體間隔物材料， 固體間隔物材料和液體間隔物材料， 固體間隔物材料和氣體間隔物材料，或 液體間隔物材料和氣體間隔物材料。
  14. 根據請求項10所述的系統，還包括： 平移裝置，其相對於所述第一鏡平移所述第二鏡。
  15. 根據請求項10所述的系統，還包括： 多個平移裝置，其使所述第二鏡相對於所述第一鏡成角度。
  16. 一種多通道濾波器，包括： 介質，其形成階梯式結構； 第一鏡，其佈置在所述階梯式結構上以形成階梯鏡結構， 其中，所述階梯鏡結構的每個階梯形成所述多通道濾波器的波長通道； 間隔物，其佈置在所述第一鏡上， 其中，所述間隔物的第一表面抵靠所述第一鏡佈置以形成階梯表面，以及所述間隔物的第二表面與所述第一鏡相對以形成平坦表面；以及 第二鏡，其佈置在所述間隔物的所述第二表面上以形成對於所述多通道濾波器的平面鏡。
  17. 根據請求項16所述的多通道濾波器，其中，所述介質使用光微影程序來形成。
  18. 根據請求項16所述的多通道濾波器，其中，所述間隔物在單個沉積步驟中被沉積。
  19. 根據請求項16所述的多通道濾波器，其中，所述第一鏡或所述介質是用於移除所述間隔物的一部分的蝕刻停止層。
  20. 根據請求項16所述的多通道濾波器，其中，所述介質的所述階梯式結構通過下列項中的至少一項而形成： 剝離程序， 蝕刻程序， 模製程序， 鑄造程序， 機械加工程序， 衝壓程序，或 刮削程序。
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